Beschreibung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Reinigen einer

Lötdüse einer Lötanlage zum selektiven Wellenlöten, , wobei die Lötanlage einen Löttiegel mit einem Lotreservoir, eine Lötdüse und eine Lotpumpe aufweist, wobei die Lotpumpe zum Fördern von flüssigem Lot aus dem Lotreservoir durch die

Lötdüse zur Erzeugung einer stehenden Welle aus flüssigem Lot ausgebildet ist.

Lötanlagen zum selektiven Wellenlöten sind hinlänglich

bekannt. Bei Lötanlagen zum selektiven Wellenlöten werden mittels einer stehenden Welle aus flüssigem Lot eine

Unterseite einer Leiterplatte bzw. Kontaktpins von durch die Leiterplatte von der Oberseite hindurchgesteckte elektronische Bauteile verlötet.

Aus der DE 20 2009 002 666 Ul ist eine Vorrichtung zur

Reinigung und/oder Aktivierung von Lötdüsen bekannt, bei der Reinigungsmittel zu einer Lötdüse hin transportiert und auf die Lötdüse aufgebracht wird. Aus der DE 103 53 936 B3 ist ein Verfahren zum Entfernen von Oxidationsrückständen eines Lots bekannt. Aus der DE 102 43 769 AI ist eine Vorrichtung zum Messen der Höhe einer Lötwelle bekannt. Zur Erzeugung der stehenden Welle wird flüssiges Lot aus einem Lotreservoir eines Löttiegels mittels einer Lotpumpe durch die Lötdüse gefördert, so dass sich die stehende Welle ausbildet. Der Löttiegel kann dann numerisch gesteuert entlang einer vorgegebenen Bahn eines Lötprogramms verfahren werden, wobei die stehende Welle die Leiterplatte von ihrer Unterseite kontaktiert .

Bei Lötdüsen von Lötanlagen zum selektiven Wellenlöten tritt das Problem auf, dass die Lötdüsen mit der Zeit ihre

ursprünglichen Eigenschaften verändern und verschmutzen, sie unterliegen einem sogenannten "Deaktivierungsprozess " . Ein solcher "Deaktivierungsprozess" kann beispielsweise durch hohe Temperaturen, durch Verschmutzungen, welche durch

Ablegierungen an einer Lötstelle verursacht werden, durch Abtragungen aus Lötstoplack und Leiterplattenmaterial, sowie durch eine veränderliche Stickstoffatmosphäre und

aufschwimmende Oxide ausgelöst werden.

Durch einen derartigen "Deaktivierungsprozess" der Lötdüse kann die Lötqualität einer Lötanlage zum selektiven

Wellenlöten schwanken, wobei Ausfälle an gelöteten Werkstücken aufgrund schlechter Lötstellen auftreten können.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine

Möglichkeit bereitzustellen, mit welcher eine dauerhaft hohe Lötqualität gewährleistet werden kann, wobei die Lötdüsen einer Lötanlage zum selektiven Wellenlöten eine gleichbleibend homogene Benetzung behalten sollen.

Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren zum Betreiben einer Lötanlage zum selektiven Wellenlöten mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.

. Die Lotpumpe weist dabei eine variable Pumpenleistung auf.

Durch Abfließen des Reinigungsmittels über die Düsenoberkante des Düsenauslasses können Verunreinigungen auf der Außenseite der Lötdüse entfernt werden, so dass mit einem derartigen "Aktivierungsprozess " wieder eine homogene Benetzung der

Lötdüse erreicht werden kann.

Vorteilhafterweise ist das Reinigungsmittel pulverförmig .

Als besonders vorteilhaft hat es sich dabei erwiesen, wenn das Reinigungsmittel nach dem Einbringen in den Düsenauslass verflüssigt und aufgekocht wird. Das Verflüssigen und

Aufkochen des Reinigungsmittels kann vorteilhafterweise dadurch erfolgen, dass das Reinigungsmittel mit dem flüssigen Lot in Kontakt gebracht wird.

Weiterhin ist es vorteilhaft, wenn das Reinigungsmittel vor dem Erhöhen der Pumpenleistung verflüssigt wird. Eine besonders vorteilhafte Weiterbildung des Verfahrens sieht vor, dass das Reinigungsmittel Adipinsäure ist.

Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des

Verfahrens ist vorgesehen, dass das Erhöhen der Pumpenleistung von der ersten Pumpenleistung auf die zweite Pumpenleistung schrittweise oder linear erfolgt.

Dabei ist es denkbar, dass das Erhöhen der Pumpenleistung nach Ablauf eines vorbestimmten Zeitintervalls nach dem Einbringen des Reinigungsmittels erfolgt. Vorzugsweise erfolgt das

Erhöhen der Pumpenleistung nach einem vorbestimmten

Zeitintervall von etwa 1 bis etwa 20 Sekunden, weiter

vorzugsweise von etwa 1 bis etwa 10 Sekunden.

Vorteilhafterweise kann während dieses Zeitintervalls die pulverförmige Adipinsäure verflüssigt werden. Es ist ferner möglich, dass das Erhöhen der Pumpenleistung von der ersten Pumpenleistung auf die zweite Pumpenleistung in einem

vorbestimmten Zeitraum erfolgt. Vorzugsweise erfolgt das Erhöhen der Pumpenleistung von der ersten Pumpenleistung auf die zweite Pumpenleistung in einem vorbestimmten Zeitraum von etwa 1 bis etwa 20 Sekunden, weiter vorzugsweise von etwa 1 bis etwa 10 Sekunden.

Um eine besonders gründliche Reinigung der Lötdüse und somit auch eine gleichbleibend homogene Benetzung der Lötdüse erreichen zu können, hat es sich als vorteilhaft erwiesen, wenn das Reinigungsmittel nach dem Erhöhen der Pumpenleistung über die gesamte Außenseite der Lötdüse fließt.

Vorteilhafterweise bricht das Reinigungsmittel insbesondere beim Abfließen über die Außenseite der Lötdüse, Ablagerungen, insbesondere Oxidablagerungen, auf der Außenseite der Lötdüse auf .

Um eine gleichbleibend und dauerhaft hohe Lötqualität in einer Lötanlage zum selektiven Wellenlöten gewährleisten zu können, hat es sich als vorteilhaft erwiesen, wenn das Verfahren in einem vorgegebenen Reinigungsintervall, nach Bearbeitung einer vorgegebenen Anzahl an Leiterplatten und/oder nach einer optischen Beurteilung der Lötdüse automatisiert erfolgt.

Dabei ist es denkbar, dass der Löttiegel zur Durchführung des Verfahrens in eine Reinigungsposition verfahren wird. In der Reinigungsposition kann dann das Reinigungsmittel

automatisiert oder manuell in den Düsenauslass eingebracht werden .

Weitere Einzelheiten und vorteilhafte Weiterbildungen sind der nachfolgenden Beschreibung zu entnehmen, anhand derer eine Aus führungs form der Erfindung näher beschrieben und erläutert ist .

Es zeigen: Figur 1 einen Ausschnitt eines Schnitts durch einen Löttiegel einer Lötanlage zum selektiven Wellenlöten im Betrieb des Löttiegels;

Figur 2 den Ausschnitt gemäß Figur 1 bei Durchführung eines ersten Schritts eines erfindungsgemäßen Verfahrens;

Figur 3 den Ausschnitt gemäß Figur 1 bei Durchführung eines auf den Schritt von Figur 2 folgenden

Verfahrensschritts ;

Figur 4 den Ausschnitt gemäß Figur 1 bei Durchführung des

Verfahrensschritts von Figur 3 in zeitlichem Abstand zum in Figur 3 gezeigten Zustand.

In den Figuren 1 bis 4 ist jeweils ein Ausschnitt eines

Schnitts durch einen Löttiegel 10 einer in den Figuren nicht in ihrer Gesamtheit gezeigten Lötanlage zum selektiven

Wellenlöten gezeigt. Sich in den Figuren 1 bis 4 entsprechende Elemente sind mit den sich entsprechenden Bezugszeichen gekennzeichnet .

Der Löttiegel 10 weist ein in den Figuren nicht gezeigtes Lotreservoir, eine Lötdüse 12 sowie eine in den Figuren ebenfalls nicht gezeigte Lotpumpe auf.

Figur 1 zeigt den Löttiegel 10 im Betrieb, wobei die Lotpumpe, welche zum Fördern von flüssigem Lot 14 aus dem Lotreservoir durch die Lötdüse 12 ausgebildet ist, das flüssige Lot 14 derart durch die Lötdüse 12 fördert, dass eine erste stehende Welle 16 aus flüssigem Lot 14 erzeugt wird.

Mit einer derartigen ersten stehenden Welle 16 können bei Lötanlagen zum selektiven Wellenlöten eine Unterseite einer Leiterplatte bzw. Kontaktpins von durch die Leiterplatte von der Oberseite hindurchgesteckten elektronischen Bauteilen verlötet werden.

Der Löttiegel 10 kann hierzu numerisch gesteuert entlang einer vorgegebenen Bahn eines Lötprogramms verfahren werden.

Bei den in den Figuren 1 bis 4 gezeigten Lötdüsen 12 der

Löttiegel 10 kann das Problem auftreten, dass die Lötdüsen 12 mit der Zeit ihre ursprünglichen Eigenschaften verändern und verschmutzen. Dieser Vorgang wird in Fachkreisen auch als "Deaktivierungsprozess " bezeichnet. Ein solcher

"Deaktivierungsprozess " kann beispielsweise durch hohe

Temperaturen, durch Verschmutzungen, welche durch

Ablegierungen an einer Lötstelle verursacht werden, durch Abtragungen aus Lötstoplack und Leiterplattenmaterial, sowie durch eine veränderliche Stickstoffatmosphäre und

aufschwimmende Oxide ausgelöst werden.

Durch einen derartigen "Deaktivierungsprozess" der Lötdüse kann die Lötqualität einer Lötanlage zum selektiven

Wellenlöten schwanken, wobei Ausfälle an gelöteten Werkstücken aufgrund schlechter Lotstellen auftreten können. Wie in den Figuren 1 bis 4 deutlich zu erkennen ist, weist der Löttiegel 10 einen Grundteil 18 und einen Düsensockel 20 auf, an welchem die Lötdüse 12 angeordnet ist. Der Grundteil 18 weist einen Kanal 22 auf, wobei der Düsensockel 20 ebenfalls einen Kanal 24 aufweist, der axial fluchtend zum Kanal 22 entlang einer Mittelachse 26 der Lötdüse 12 angeordnet ist. Der Kanal 20 des Düsensockels 20 ist wiederum axial fluchtend entlang der Mittelachse 26 der Lötdüse 12 zu einem Kanal 28 der Lötdüse 12 angeordnet, welcher an einer Düsenoberkante 30 der Lötdüse in einem Düsenauslass 32 mit kreisförmigem

Querschnitt mündet. Die Lötdüse 12 wird Umfangsbereich einer Außenseite 34 der Lötdüse 12 von einer Abdeckung 36 umgeben, die als kegeliger Ring ausgebildet ist.

Um eine dauerhaft hohe Lötqualität gewährleistet zu können, soll die Lötdüse 12 der Lötanlage zum selektiven Wellenlöten eine gleichbleibend homogene Benetzung behalten.

In den Figuren 2 bis 4 sind daher verschiedene

Verfahrensschritte eines erfindungsgemäßen Verfahrens zum Betreiben einer Lötanlage zum selektiven Wellenlöten,

insbesondere eines Verfahrens zum Reinigen einer Lötdüse 12 gezeigt .

Beim in Figur 2 gezeigten Verfahrensschritt wird Lot aus dem Lotreservoir mit einer ersten Pumpenleistung gefördert, die derart eingestellt ist, dass eine zweite stehende Welle 16' aus flüssigem Lot 14 mit einem Lotspiegel 38 erzeugt wird, der in einem Abstand 40 unterhalb der Düsenoberkante 30 des

Düsenauslasses 32 der Lötdüse 12 angeordnet ist.

In einem daran anschließenden Verfahrensschritt wird ein

Reinigungsmittel in Form von pulverförmiger Adipinsäure 42 in Richtung des in Figur 2 gezeigten Pfeils 44 in den

Düsenauslass 32 auf die zweite stehende Welle 16' in der

Lötdüse 12 eingebracht.

Nach dem Einbringen der pulverförmigen Adipinsäure 42 in den Düsenauslass 32 wird die Adipinsäure 42 durch den Kontakt mit dem heißen Lot 14 verflüssigt und aufgekocht.

Anschließend wird die Pumpenleistung der Lotpumpe schrittweise oder linear nach Ablauf eines vorbestimmten Zeitintervalls nach dem Einbringen der Adipinsäure 42 erhöht. Diese Erhöhung findet insbesondere in einem vorbestimmten Zeitraum statt.

Die Pumpenleistung wird dabei so auf die zweite Pumpenleistung erhöht, dass die verflüssigte und aufgekochte Adipinsäure 42 über die Düsenoberkante 30 des Düsenauslasses 32 derart abfließt, dass die Adipinsäure 42 zur Außenseite 34 der

Lötdüse 12 in Richtung der in Figur 3 gezeigten Pfeile 46 geleitet wird.

Wie in Figur 4 gezeigt ist, fließt die verflüssigte und aufgekochte Adipinsäure 42 über die gesamte Außenseite 34 der Lötdüse 12 in Richtung der Pfeile 48 ab, wobei

Verunreinigungen auf der Außenseite 34 der Lötdüse 12 entfernt werden. Die Adipinsäure 42 bricht beim Abfließen über die Außenseite 34 der Lötdüse 12 Ablagerungen, insbesondere

Oxidablagerungen, auf der Außenseite 34 der Lötdüse 12 auf.

Mit einem derartigen "Aktivierungsprozess " kann wieder eine homogene Benetzung der Lötdüse 12 erreicht werden. Um eine gleichbleibend und dauerhaft hohe Lötqualität in einer

Lötanlage zum selektiven Wellenlöten gewährleisten zu können, kann das Verfahren in einem vorgegebenen Reinigungsintervall, nach Bearbeitung einer vorgegebenen Anzahl an Leiterplatten und/oder nach einer optischen Beurteilung der Lötdüse 12 automatisiert erfolgen.

Dabei ist es denkbar, dass der Löttiegel 10 zur Durchführung des Verfahrens in eine Reinigungsposition innerhalb der

Lötanlage verfahren wird, wobei die Adipinsäure 42 in der Reinigungsposition automatisiert mittels einer in den Figuren nicht gezeigten Dosiereinrichtung oder manuell durch einen Bediener in den Düsenauslass 32 eingebracht werden kann.