HINTERGRUND DER ERFINDUNG Der Schablonen-bzw. Siebdruck, insbesondere für das Bedrucken von Textilien, ist ein gewerblicher Zweig, der in den letzten Jahren unter einem immer grösser werdenden Kostendruck arbeitet. Für die Durchführung von Siebdruckverfahren werden überwiegend Schablonen (Flach- druck-bzw, Rotationsdruckschablonen) aus Nickel verwendet, welche ausgesprochen teuer sind. Diese sind wiederum mit einem geeigneten Photolack beschichtet, welcher im Hinblick auf den gewünschten Druck ein entsprechendes Muster auf- weist. Der Photolacküberzug auf der siebartigen Schablone definiert damit gewissermassen die Druckform. Nach variab- len aber endlichen Durchlaufzeiten, müssen die Schablonen aber ausgetauscht werden, weil sie verschleissbedingt nicht mehr in der gewünschten Qualität (z. B. hohem Auflösungsver- mögen) zu arbeiten vermögen. Infolge der ausgesprochen hohen Anschaffungskosten für eine Druckschablone ist man nun in den vergangenen Jahren dazu übergegangen die ver- brauchte aber teure Schablone nicht einfach zu verwerfen (d. h. zu entsorgen), sondern für ihre Wiederverwendung zu rezyklieren. Dies geschieht gemäss dem Stand der Technik im Rahmen eines aufwendigen Verfahrens, in dessen Verlauf der Photolack mit Hilfe eines geeigneten Lösungsmittels sowie allfälligen weiteren mechanischen Mittel entfernt wird. Da- bei ist zu beachten, dass die zu rezyklierende, empfindli- che Druckschablone ohne die geringste Beschädigung zurück- erhalten wird.

Gemäss dem Stand der Technik wird damit die Photolackschicht mit Lösungsmittel chemisch aufgelöst und die Schablone solange mit weiterem organischen Lösungsmit- tel besprüht und gespült, bis die Schablone tatsächlich in ihrem nativen Zustand, d. h. vollständig vom Photolack be- freit vorliegt.

Obwohl diese Verfahren durchaus dazu geeignet ist die verbrauchten, mit Photolack beschichteten Druck- schablonen wieder in ihren ursprünglichen Zustand zu brin- gen, sind sie in bezug auf ihre ökologische Bilanz völlig unbefriedigend. Nicht nur fallen vergleichsweise grosse Mengen an verbrauchtem Lösungsmittel-enthaltend den auf- gelösten Photolack-an, welche wiederum teuer entsorgt wer- den muss, auch verfahrenstechnisch ist das Verfahren inso- fern umständlich, als es mit einem permanenten Zufluss von neuem Lösungsmittel arbeiten muss, welche in ihrem unver- brauchten Zustand die Photolackschicht chemisch auflöst.

Dadurch ist kaum ein geschlossener Kreislauf möglich, son- dern in der Regel nur ein Durchflussverfahren. Letztlich ist ein Verfahren, welches keinen geschlossenen Kreislauf umfasst auch finanziell unbefriedigend, da permanent neues Lösungsmittel angeschafft und entsorgt werden muss.

DARSTELLUNG DER ERFINDUNG Es war daher Aufgabe der vorliegenden Erfind- ung, ein Entschichtungsverfahren bereitzustellen, welches die oben genannten Nachteile und Probleme zumindest teil- weise vermeidet.

Ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung bestand in der Bereitstellung einer Vorrichtung zur Durch- führung eines ökologischen Entschichtungsverfahrens.

Diese Aufgaben werden gemäss dem'Oberbegriff der unabhängigen Ansprüche 1 und 14 gelöst. Weitere bevor- zugte Ausführungsformen sind Gegenstand der abhängigen An- sprüche.

Anstatt, wie im Stand der Technik, die Photo- lackschicht auf der zu rezyklierenden Druckschablone mit einem Lösungsmittel vollständig aufzulösen, wird beim er- findungsgemässen Verfahren die besagte Photolackschicht lediglich"aufgeweicht". Unter dem Begriff aufgeweicht" wird verstanden, dass die zu entfernende Photolackschicht mittels eines geeigneten Lösungsmittels nicht chemisch auf- gelöst wird und so in Lösung geht, sondern erfindungsgemäss nur soweit und solange geschwächt wird, dass eine teilweise bzw. im wesentlichen weitgehende Lockerung zwischen dem be- sagten Photolack und dem Schablonensubstrat, d. h. der Schablonenoberfläche stattfindet.

Die eher in schleimig-aufgeweichter Form noch leicht anhaftende Photolackschicht wird anschliessend von der Schablonenunterlage mittels eines Hochdruck-Wasser- strahls, quasi mechanisch entfernt. Um die Entfernung der Photolackschicht noch leichter zu gestalten und um den ab- gelösten Photolack in einer leicht entsorgbaren Form zu er- halten wird vorgängig die aufgeweichte Photolackschicht mittels Wasser gespült. Damit wird einerseits die Photo- lackschicht wieder verhärtet bzw. ausgehärtet und lässt sich durch den Hochdruck-Wasserstrahl entfernen und bequem abfiltrieren. Andererseits ist die Verhärtung bzw. die Wiederaushärtung nicht mit einer Wiederanbindung des Photo- lacks an das Schablonensubstrat verbunden.

Der Vorteil des erfindungsgemässen Verfahrens liegt insbesondere darin, dass es einerseits in einem Tank angefüllt mit einem Aufweichungsmittel durchgeführt werden kann, wobei dieses nicht ständig ausgetauscht werden muss.

Vielmehr wird das Verfahren in einem im wesentlichen ge- schlossenen Kreislauf durchgeführt, so dass kein umfassen- der und permanenter Entsorgungsaufwand bezüglich des Lös- ungsmittels betrieben werden muss, wie gemäss dem Stand der Technik. Stattdessen kann das Aufweichungsmittel immer wieder verwendet werden. Andererseits kann der in fester Form mit dem Hochdruck-Wasserstrahl zum Abplatzen gebrachte Photolackfilm mittels Filter im Ablösemitteltank abgetrennt und vergleichsweise bequem entsorgt werden.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN Weitere Vorteile und Anwendungen der Erfindung ergeben sich aus der nun folgenden Beschreibung anhand der Figuren.

Figur 1 zeigt eine Seitenansicht einer Auf- weichungsanlage. Diese umfasst ein Doppelwandsystem (obere Innenwanne (6) und isolierte Unterwanne (5)) sowie eine Heizung (4) im unteren Anlagenteil (5), eine Pumpvorrich- tung (2) im mittleren Anlagenteil, eine Niveauüberwachung (3), ein Auflagerohr (9) auf welchem die zu entschichtende Schablone aufgelegt wird sowie eine Absaugvorrichtung (1) für die beheizbare Aufweichungsflüssigkeit im oberen Anla- genteil.

Figur 2 zeigt die Vorderansicht einer Aufweich- ungsanlage, mit einem Antriebsmotor (7), einem Überlauf (8), einem Filterkorb (10), einer verstellbaren Zylinder- auflage (11) und einer aufgelegten Schablone (12), welche zu entschichten ist.

Figur 3 zeigt die Seitenansicht auf eine Hoch- druckanlage, umfassend ein Anlagengehäuse (1'), ein Wasser- tank (2'), ein Filtergehäuse (3'), eine Schlittenführung (4') und eine rotierbare Auflage (5') oberhalb einer Wanne zur Bestückung mit einer zylindrischen Druckschablone.

Figur 4 zeigt wiederum die Vorderansicht auf eine Hochdruckanlage, umfassend einen Antriebsmotor (7W), eine verstellbare Wasserstrahldüse (8'), eine Hochdruck- Pumpvorrichtung (6'), eine rotierbare Auflage (5') oberhalb einer Wanne zur Bestückung mit einer zylindrischen Druck- schablone (12).

Figur 5 zeigt eine schematische Seitenansicht einer Hochdruckanlage, fokussiert in Bezug auf die Düsen- einstellung des Hochdruckwasserstrahls (10') zur auflieg- enden Rotations-Druckschablone (12). Die Schablone (12) liegt auf einem Trägerrohr (5') auf und die Düse (8') ist derart ajustiert, dass der Wasserstrahl unterhalb der Rohr- mittelpunktsachse auf die Druckschablone (12) auftrifft.

Figur 6 zeigt eine schematische Draufsicht auf eine Hochdruckanlage in Bezug auf die Düseneinstellung des Hochdruckwasserstrahls (10') zur aufliegenden Druckschab- lone (12). Durch eine geeignete Einstellung der Düse (8') zur Schablonenoberfläche wird eine Vorwärtsbewegung der Schablone (12) axial verhindert.

WEGE ZUR AUSFÜHRUNG DER ERFINDUNG Das erfindungsgemässe Verfahren zum Entschich- ten von Druckschablonen, umfasst bzw. besteht aus a) einem Aufweichungsschritt, wobei der auf der Druckschablone haftende Photolack in einem Aufweichungsbad geschwächt d. h. seine Bindungskraft zur Druckschablone ge- lockert wird, und b) einem Aushärtungsschritt, wobei die Druck- schablone mit dem darauf befindlichen aufgeweichten bzw. teilweise abgelösten Photolack mit Wasser gespült wird, so dass der aufgeweichte Photolack zwar wieder ausgehärtet aber nicht wieder an die Schablone befestigt wird, und schliesslich c) einem Entfernungsschritt, wobei der ausge- härtete aber im wesentlichen gelockerte Photolack von der Schablone durch einen Hochdruckwasserstrahl entfernt wird, ohne dass die Schablonenoberfläche beschädigt wird.

Grundsätzlich kann erfindungsgemäss jedes che- misches Lösungsmittel bzw. Lösungsmittelgemisch als Auf- weichungsmittel verwendet werden, welches die Photolack- schicht nicht chemisch auflöst, sondern lediglich auf- weicht. Bevorzugt wird dabei ein wässriges Milieu verwen- det, insbesondere weil dies den strengen Brandschutzvor- schriften einfacher Genüge leistet. Ganz besonders bevor- zugt wird ein saures Aufweichungsbad zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens verwendet, wobei der pH vor- zugsweise zwischen 1 und 4, ganz besonders bevorzugt bei etwa 3 liegt und sowohl durch organische wie auch anorgani- sche Säuren bewirkt werden kann. Bevorzugt wird aber eine HCl-Lösung verwendet und bevorzugt umfassen die Kohlenwas- serstoffe eine Mischung aus Glycolen in Wasser. Ganz beson- ders bevorzugt enthält das Aufweichungsbad eine Mischung von etwa 50-75 Gew.-% Butylglycol, Methylglycol und Ethyl- englycolmonoethylether (Ethylglycol), etwa 2 bis-20, vor- zugsweise von etwa 5 Gew.-% HC1, sowie 10-25 Gew.-% Wasser Ein optimales Aufweichungsmittel zur Durch- führung des erfindungsgemässen Verfahrens ist ein Gemisch mit der Markenbezeichnung"Easy Stripp LP 237"der Firma Prelit in CH-5608 Stetten.

In einer bevorzugten Ausführungsform weist das Aufweichungsbad enthaltend ein geeignetes Aufweichungsmit- tel eine Temperatur von zwischen 40-100°C, vorzugsweise von 60-80°C, und ganz besonders bevorzugt von etwa 70°C auf.

Der Schritt a), d. h. der Aufweichungsvorgang wird vorzugs- weise während etwa 5 bis 40 Minuten, bevorzugt zwischen 10- 20 Minuten durchgeführt.

Die Druckschablone kann während dem Aufweich- ungsschritt statisch bleiben, oder aber sie kann in Beweg- ung gehalten werden, bei Rotationsschablonen beispielsweise in einer Rotationsbewegung, so dass die Aufweichung gleich- massig erfolgt.

Bei der Durchführung des Aushärtungsschritts c) wird Wasser vorzugsweise einer Temperatur von 20 bis 40°C verwendet. Nach einer einmaligen Spülung ist die Photolack- schicht soweit ausgehärtet, dass sie von einem Wasserstrahl hohen Drucks entfernt werden kann und die festen Lackteile durch einen geeigneten Filter abgetrennt werden können.

Durch den Aufweichungsvorgang a) ist allerdings die ur- sprünglich feste Bindung zwischen der besagten Photolack- schicht und dem darunter liegenden Schablonensubstrat ir- reversibel geschwächt und wird folglich durch den Aushärt- ungsschritt b) nicht wieder in den ursprünglichen Zustand von vor Schritt a) gebracht.

Im anschliessenden Entfernungsschritt c) wird letztendlich mit einem mechanischen und gleichzeitig öko- logischen Mittel, d. h. mit einem Wasserstrahl die unerwün- schte Photolackschicht entfernt. Der Wasserstrahldruck be- trägt dabei vorzugsweise zwischen 100-220 bar, vorzugsweise etwa 190 bar. Das für den Entfernungsschritt c) verwendete Wasser kann für die Durchführung des Schritts c) immer wie- der neu verwendet werden womit ein geschlossener Kreislauf vorliegt. Der Kreislauf sollte einen pH-Wert von zwischen etwa 8 bis 12 aufweisen. Bevorzugt wird ein pH-Wert von etwa 10 eingestellt, um so eine entfettende Wirkung zu er- zielen, bzw. um die Oberflächenspannung auf ein Minimum zu reduzieren. Zweck des alkalischen Milieus ist die optimale Entfettung der Druckschablone um so optimale Voraussetzung- en für die Re-Applikation eines neuen Photolacks auf die erfindungsgemäss behandelte Schablone zu erzielen. Der be- vorzugte pH-Wert von etwa 9-10 wird beispielsweise dadurch erreicht, dass in die Tankfüllung enthaltend 150 Liter Wasser Natriumhydroxid (NaOH) beimischt.

Gegebenenfalls kann anschliessend die erhaltene native Druckschablone noch einmal mit Wasser gespült und aber einem Warmluftgebläse getrocknet werden.

Das erfindungsgemässe Verfahren kann grundsätz- lich für alle Arten von Druckschablonen durchgeführt wer- den. Dazu gehören insbesondere die Flachschablonen sowie die Rotationsschablonen, welche eine zylindrische Form auf- weisen. In einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform wird das erfindungsgemässe Verfahren für die Entschichtung von zylindrischen Schablonen, d. h. von Rotationschablonen durchgeführt.

Bei der Entschichtung von Rotationschablonen liegt die zylindrische Schablone (12) vorzugsweise auf einem konzentrischen, rotierbaren Rohr (5'), beispielsweise aus rauhem PVC, auf. Um zu verhindern, dass der Hochdruck- Wasserstrahl nicht die Schablone verbiegt oder anderweitig beschädigt muss der Aufprallpunkt (siehe Figur 5) des Hoch- druck-Wasserstrahls (10') (aus der Hochdruckdüse (8')) auf die Schablonenoberfläche (12) unterhalb (vorzugsweise um etwa 10 mm) der Rohrmittelachse, auf welchem die Schablone aufliegt eingestellt werden. So wird sichergestellt dass der Hochdruck-Wasserstrahl nicht von der Schablonenober- fläche abprallt und auch keinen Wasserfilm auf der Rohr- oberfläche bildet, sondern die Photolackschicht unter- wandert und definitiv ablöst.

Ausserdem wird eine gleichmässige Entfernung der Photolackschicht angestrebt, so dass in einer bevorzug- ten Ausführungsform einerseits das Rohr auf welchem die Ro- tationsschablone aufliegt rotiert, vorzugsweise mit einer Geschwindigkeit von etwa 10 bis 50, noch bevorzugter von zwischen 20 und 30 Umdrehungen pro Minute rotiert, anderer- seits wird die Wasserstrahlachse (3) (zur Normalen) etwa um 3 % seitwärts geneigt (siehe Figur 6), um so eine Vorwärts- bewegung der zu reinigenden Schablone zu verhindern.

Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Er- findung ist eine Anordnung zur Entschichtung von zylindri- schen Druckschablonen (Rotationsdruckschablonen), welche a) eine Anlage zum Aufweichen der Photolack- schicht, umfassend ein isoliertes Doppelwandsystem (obere Innenwanne (6) und isolierte Unterwanne (5)) bestückt mit einer Heizung (4) im unteren Anlagenteil, sowie eine Innen- wanne im oberen Anlagenteil (6), eine Pumpvorrichtung (2) und eine Absaugvorrichtung (1) für die beheizte Löseflüs- sigkeit, wobei die behandelnde Schablone (12) auf einem Rohr (9) aufliegt, sowie b) eine Hochdruckanlage umfassend ein frei- liegendes, rotierbares Rohr (5'), vorzugsweise einem PVC- Trägerrohr mit rauher Oberfläche, oberhalb einer Wanne, zur Bestückung mit einer zylindrischen Druckschablone (12), eine verstellbare Wasserstrahldüse (8'), eine Hochdruck- Pumpvorrichtung (3') mit einem Filtersieb und einer Filter- matte, einen Schlitten (4') und gegebenenfalls ein Zähl- werk, aufweist.

Im folgenden soll die vorliegende Erfindung anhand eines Beispiels verdeutlicht werden, wobei dieses nicht als den Schutzbereich der Anmeldung beschränkend ausgelegt werden darf.

Beispiel Verfahren zum Entschichten einer Rotationsdruckschablone a) In einer Aufweichungsanlage gemäss der Fig- uren 1 und 2, wird eine gängige Rotationsschablone (12) mit einem abgenutzten aber noch fest gebundenen Photolack ein- gebracht. Im unteren Teil dieser Aufweichungsanlage befin- det sich ein Tank (5), der mit etwa 200 1 eines Aufweich- ungsmittels angefüllt ist. Das besagte Aufweichungsbad weist eine Temperatur von etwa 70°C auf und enthält eine Mischung aus etwa 35 Gew.-% Butylglycol, 20 Gew.-% Methyl- glycol, 15 Gew.-% Ethylenglycolmonoethylether, sowie 5 Gew.-% HC1 und 25 Gew.-% Wasser.

Die Rotationsschablone (12) wird auf einem Kunststoffrohr (9) aufgestülpt, taucht halbseitig in das Bad (6) ein und wird während etwa 20 Minuten durch langsame aber permanente Rotation im Bad aufgeweicht. b) Anschliessend wird die Schablone mit der aufgeweichten Photolackschicht aus der Aufweichungsanlage herausgenommen und durch einmaliges Spülen mit Wasser (25°C) gereinigt, so dass die weiche Photolackschicht wieder aushärtet. c) Im dritten Schritt wird die vorbehandelte Rotationsschablone in eine Hochdruckanlage gemäss den Fig- uren 3 und 4, wiederum auf ein rotierendes Kunststoffrohr (5') gestülpt und, je nach der Länge der Schablone, während etwa 20 Minuten mit einem Hochdruckwasserstrahl (von unge- fähr 25°C) gesprüht. Das Hochdruckspülwasser weist einen pH von 10 auf. Die Photolackschicht auf der Schablone platzt auf diese Weise ab und wird so im Rahmen dieses Verfahrens- schritts c) entfernt. Um zu verhindern, dass der Hochdruck- Wasserstrahl (10') nicht die Schablone (12) verbiegt oder anderweitig beschädigt, wird der Aufprallpunkt (siehe Figur 5) des Hochdruck-Wasserstrahls (10') (aus der Düse (8')) auf die Schablonenoberfläche (12) vorzugsweise etwa 10 mm unterhalb der Rohrmittelachse, auf welchem die Schablone aufliegt eingestellt. So wird sichergestellt dass der Hoch- druck-Wasserstrahl nicht von der Schablonenoberfläche ab- prallt und auch keinen Wasserfilm auf der Rohroberfläche bildet, sondern die Photolackschicht unterwandert und defi- nitiv ablöst. Die Photolackschicht wird in Form von Lack- bruchstücken in die Abguss-Wanne der Hochdruckanlage ge- spült, wo es im unteren Teil herausfiltriert wird. Nach etwa 20 Minuten ist der Hochdruck-Entfernngsschritt beendet und die völlig saubere Schablone kann aus dem Kunststoff- rohr entfernt werden.

Die so erhaltene Schablone wird auf diese Weise in ihrem nativen Zustand, d. h. völlig unversehrt und von der Photolackschicht befreit erhalten. Sie kann nunmehr wiederverwendet werden, indem ein neuer Photolack für eine neuen Durchlauf in einem Druckverfahren appliziert wird.

Während in der vorliegenden Anmeldung bevor- zugte Ausführungen der Erfindung beschrieben sind, ist klar darauf hinzuweisen, dass die Erfindung nicht auf diese be- schränkt ist und in auch anderer Weise innerhalb des Um- fangs der folgenden Ansprüche ausgeführt werden kann.