Title:
METHOD FOR FABRICATING A LASER-INDUCED SURFACE NANOARRAY STRUCTURE, AND DEVICE STRUCTURE FABRICATED USING SAID METHOD
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2010/137297
Kind Code:
A1
Abstract:
Provided is a method for manufacturing a two-dimensional pattern by simultaneously forming a plurality of quantum dots on the surface of a solid using laser irradiation and making the structure of the quantum dots periodic. Also provided are a device structure and device fabricated using the aforementioned method. The method for manufacturing a surface having quantum dots formed thereon includes laser irradiation wherein the surface of a solid material is irradiated by at least one batch of lasers, thereby simultaneously forming a plurality of quantum dots on said surface. Said method is characterized by the formation of a periodic array of the aforementioned plurality of quantum dots.
Inventors:
KATO, Takahiko (HITACHI LTD., 1-1, Omika-cho 7-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 92, 〒3191292, JP)
加藤隆彦 (〒92 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株式会社日立製作所 日立研究所内 Ibaraki, 〒3191292, JP)
WATANABE, Seiichi (())
渡辺精一 (())
YATSU, Shigeo (())
谷津茂男 (())
KAYASHIMA, Satoshi (())
加藤隆彦 (〒92 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株式会社日立製作所 日立研究所内 Ibaraki, 〒3191292, JP)
WATANABE, Seiichi (())
渡辺精一 (())
YATSU, Shigeo (())
谷津茂男 (())
KAYASHIMA, Satoshi (())
Application Number:
JP2010/003491
Publication Date:
December 02, 2010
Filing Date:
May 25, 2010
Export Citation:
Assignee:
HITACHI, LTD. (6-6 Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo, 80, 〒1008280, JP)
株式会社日立製作所 (〒80 東京都千代田区丸の内一丁目６番６号 Tokyo, 〒1008280, JP)
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION HOKKAIDO UNIVERSITY (Kita 8-jyo Nishi 5-chome, Kita-ku Sapporo-sh, Hokkaido 08, 〒0600808, JP)
国立大学法人北海道大学 (〒08 北海道札幌市北区北８条西５丁目 Hokkaido, 〒0600808, JP)
KATO, Takahiko (HITACHI LTD., 1-1, Omika-cho 7-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 92, 〒3191292, JP)
加藤隆彦 (〒92 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株式会社日立製作所 日立研究所内 Ibaraki, 〒3191292, JP)
WATANABE, Seiichi (())
渡辺精一 (())
YATSU, Shigeo (())
株式会社日立製作所 (〒80 東京都千代田区丸の内一丁目６番６号 Tokyo, 〒1008280, JP)
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION HOKKAIDO UNIVERSITY (Kita 8-jyo Nishi 5-chome, Kita-ku Sapporo-sh, Hokkaido 08, 〒0600808, JP)
国立大学法人北海道大学 (〒08 北海道札幌市北区北８条西５丁目 Hokkaido, 〒0600808, JP)
KATO, Takahiko (HITACHI LTD., 1-1, Omika-cho 7-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 92, 〒3191292, JP)
加藤隆彦 (〒92 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株式会社日立製作所 日立研究所内 Ibaraki, 〒3191292, JP)
WATANABE, Seiichi (())
渡辺精一 (())
YATSU, Shigeo (())
International Classes:
B82B3/00; B23K26/00; B82B1/00; H01L29/06; H01L31/04; H01S5/34; H01S5/50; B23K101/36
Attorney, Agent or Firm:
Polaire I.P.C. (7-1Hatchobori 2-chome, Chuo-ku Tokyo, 32, 〒1040032, JP)
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