以下、本発明の実施の形態について詳細に� ��明する。尚、本明細書において、「(メタ)� �クリル」とは、アクリル及びメタクリルを� �味する。また、「(メタ)アクリレート」とは 、アクリレート及びメタクリレートを意味す る。
 <パターン形成方法>
 本発明のパターン形成方法は、感放射線性� ��脂組成物の樹脂成分として含有されており� ��感放射線性酸発生基を含み且つ酸の作用に� ��り水酸基又はカルボキシル基を発生する基� ��含まない感放射線性酸発生基含有樹脂から� ��活性光線又は放射線(例えば、EB、X線、EUV等 )の照射によって酸(例えば、スルホン酸等)を 発生させ、該感放射線性酸発生基含有樹脂の 現像液に対する溶解性を増大させることによ り、レジストパターンを形成することを特徴 とする。即ち、従来のような、(1)酸解離性官 能基で部分的に保護された樹脂と、酸発生剤 と、を有するような化学増幅型感放射線性樹 脂組成物、(2)PMMA等のメタクリル系主鎖切断� �の組成物を用いたものではなく、樹脂側鎖� �極性変化によって現像液への溶解性が増大� �る感放射線性樹脂組成物を用いることを特� �とするパターン形成方法である。

 <感放射線性酸発生基含有樹脂>
 本発明における感放射線性酸発生基含有樹� ��(以下、「酸発生基含有樹脂」ともいう。)� �、上記パターン形成方法における感放射線� �樹脂組成物の樹脂成分として使用され、感� �射線性酸発生基を含み且つ酸の作用により� �酸基又はカルボキシル基を発生する基を含� �ない感放射線性酸発生基含有樹脂であり、� �ニウムカチオンによる溶解禁止効果によっ� �現像液不溶性又は現像液難溶性となってお� �、活性光線又は放射線の照射によってオニ� �ムカチオンが分解し、スルホン酸を発生す� �ことにより、現像液に対する溶解性が増大� �る樹脂である。

 上記酸発生基含有樹脂は、下記一般式(1)� ��表される繰り返し単位(以下、「繰り返し単 位(1)」という)及び下記一般式(2)で表される� �り返し単位(以下、「繰り返し単位(2)」とい� ��)のうちの少なくとも一方の繰り返し単位を 含むものである。

 〔一般式(1)において、R ¹ は水素原子又はメチル基を表し、R ² は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン基、 ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、ア ルコキシ基を表し、nは0~3の整数であり、nが2 又は3の場合、R ² は相互に同一でも異なっていてもよい。Aは� �結合又は-OR ³ -基を示し、R ³ はメチレン基又はアルキレン基を示す。M ⁺ は一価のオニウムカチオンを表す。〕
 〔一般式(2)において、R ⁴ は水素原子又はメチル基を表し、Dは-O-基、� �は-NR ⁵ -基を表し、R ⁵ は水素原子又はアルキル基を示す。Eはメチ� �ン基、アルキレン基又はアリーレン基を表� �、M ⁺ は一価のオニウムカチオンを表す。〕

 上記一般式(1)におけるR ² のアルキル基としては、例えば、メチル基、 トリフルオロメチル基、エチル基、プロピル 基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、� ��キシル基、オクチル基のような炭素数1~8個� ��直鎖状、分岐状アルキル基、又はシクロプ� ��ピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ� ��基のような炭素数3~8個の環状アルキル基等� ��挙げられる。
 また、上記R ² のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ 基、エトキシ基、プトポキシ基、n-ブトキシ� ��、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、ヘキシ ルオキシ基、オクチルオキシ基のような炭素 数1~8個の直鎖状、分岐状アルコキシ基等が挙 げられる。

 また、一般式(1)におけるR ³ のアルキレン基としては、例えば、エチレン 基、1,3-プロピレン基、テトラメチレン基、� �ンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプ� �メチレン基、オクタメチレン基、ノナメチ� �ン基、デカメチレン基等の炭素数2~10個のア� ��キレン基、更には、水素原子が部分的に又� ��全てフッ素原子で置換された炭素数2~10個の アルキレン基等が挙げられる。
 また、一般式(1)におけるR ³ がメチレン基である場合においても、水素原 子が部分的に又は全てフッ素原子で置換され ていてもよい。

 上記一般式(2)におけるR ⁵ のアルキル基としては、例えば、メチル基、 エチル基、プロピル基、n-ブチル基、sec-ブチ ル基、t-ブチル基のような炭素数1~4のアルキ� ��基等が挙げられる。

 また、一般式(2)におけるEのアルキレン基 としては、例えば、エチレン基、1,3-プロピ� �ン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン� �、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、� �クタメチレン基、ノナメチレン基、デカメ� �レン基、2-メチル-1,3-プロピレン基、2-メチ� �-1,2-プロピレン基、2-メチル-1,4-ブチレン基� �の炭素数2~10個の直鎖状、分岐状アルキレン� ��、1,3-シクロペンチレン基などのシクロペン チレン基、1,4-シクロヘキシレン基などのシ� �ロヘキシレン基、1,5-シクロオクチレン基な� ��のシクロオクチレン基等の炭素数4~10の単環 式アルキレン基、1,4-ノルボルニレン基若し� �は2,5-ノルボルニレン基などのノルボルニレ� ��基、1,3-アダマンチレン基、2,6-アダマンチ� �ン基などのアダマンチレン基等の2~4環式の� �素数4~30の架橋環式炭化水素環基等が挙げら� ��る。尚、このアルキレン基は置換基を有し� ��いてもよく、好ましい置換基としては、例� ��ば、炭素数1~4個のアルコキシ基、ハロゲン� ��、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基� ��アルコキシカルボニル基、ニトロ基が挙げ� ��れる。

 また、上記Eのアリーレン基としては、例 えば、フェニレン基、ベンジレン基、ナフチ レン基等のような炭素数6~14個のものが挙げ� �れる。尚、このアリーレン基は置換基を有� �ていてもよく、好ましい置換基としては、� �えば、炭素数1~4個のアルキル基、炭素数1~4� �のアルコキシ基、ハロゲン基、シアノ基、� �ドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシカ� �ボニル基、ニトロ基が挙げられる。

 また、一般式(1)及び(2)におけるM ⁺ の一価のオニウムカチオンとしては、スルホ ニウムカチオン、ヨードニウムカチオン、ホ スホニウムカチオン、ジアゾニウムカチオン 、アンモニウムカチオン、ピリジニウムカチ オン等が挙げられる。
 これらのなかでも、下記一般式(1a)で表され るスルホニウムカチオン、下記一般式(1b)で� �されるヨードニウムカチオンが好ましい。

 〔一般式(1a)において、R ¹² 、R ¹³ 及びR ¹⁴ は、相互に独立に置換若しくは非置換の炭素 数1~10のアルキル基、又は置換若しくは非置� �の炭素数6~18のアリール基を表すか、或いはR ¹² 、R ¹³ 及びR ¹⁴ のうちのいずれか2つ以上が相互に結合して� �中の硫黄原子と共に環を形成している。〕
 〔一般式(1b)において、R ¹⁵ 及びR ¹⁶ は、相互に独立に置換若しくは非置換の炭素 数1~10のアルキル基、又は置換若しくは非置� �の炭素数6~18のアリール基を表すか、或いはR ¹⁵ 及びR ¹⁶ が相互に結合して式中のヨウ素原子と共に環 を形成している。〕

 一般式(1a)及び(1b)において、非置換の炭素� �1~10のアルキル基としては、直鎖状若しくは� ��岐状のアルキル基が挙げられ、例えば、メ� ��ル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル 基、n-ブチル基、1-メチルプロピル基、2-メチ ルプロピル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、i- ペンチル基、1,1-ジメチルプロピル基、1-メチ ルブチル基、n-ヘキシル基、i-ヘキシル基、1, 1-ジメチルブチル基、n-ヘプチル基、n-オクチ ル基、i-オクチル基、2-エチルヘキシル基、n- ノニル基、n-デシル基等を挙げることができ� ��。
 また、アルキル基の置換基としては、例え� ��、炭素数6~30のアリール基、炭素数2~30の直� �状、分岐状若しくは環状のアルケニル基や� �ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄� �子、リン原子、ケイ素原子等のヘテロ原子� �含む原子数1~30の基等を挙げることができる� ��

 また、一般式(1a)及び(1b)において、置換� �炭素数1~10の直鎖状若しくは分岐状のアルキ� ��基としては、例えば、ベンジル基、メトキ� ��メチル基、メチルチオメチル基、エトキシ� ��チル基、エチルチオメチル基、フェノキシ� ��チル基、メトキシカルボニルメチル基、エ� ��キシカルボニルメチル基、アセチルメチル� ��、フルオロメチル基、トリフルオロメチル� ��、クロロメチル基、トリクロロメチル基、2 -フルオロプロピル基、(トリフルオロアセチ� ��)メチル基、(トリクロロアセチル)メチル基� ��(ペンタフルオロベンゾイル)メチル基、ア� �ノメチル基、(シクロヘキシルアミノ)メチル 基、(トリメチルシリル)メチル基、2-フェニ� �エチル基、2-アミノエチル基、3-フェニルプ� ��ピル基等を挙げることができる。

 また、一般式(1a)及び(1b)において、非置� �の炭素数6~18のアリール基としては、例えば� ��フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、 1-アントリル基、1-フェナントリル基等を挙� �ることができる。これらアリール基の置換� �としては、例えば、炭素数1~30の直鎖状、分� ��状若しくは環状のアルキル基や、ハロゲン� ��子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン� ��子、ケイ素原子等のヘテロ原子を含む原子� ��1~30の基等を挙げることができる。また、置 換の炭素数6~18のアリール基としては、例え� �、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、4-ヒ ドロキシフェニル基、4-メトキシフェニル基� ��メシチル基、o-クメニル基、2,3-キシリル基� ��2,4-キシリル基、2,5-キシリル基、2,6-キシリ� ��基、3,4-キシリル基、3,5-キシリル基、4-フル オロフェニル基、4-トリフルオロメチルフェ� ��ル基、4-クロロフェニル基、4-ブロモフェニ ル基、4-ヨードフェニル基、4-(シクロヘキシ� ��スルホニル)フェニル基、4-(2-(ビシクロ[2.2.1 ]ヘプト-2-イル)スルホニル)フェニル基等を挙 げることができる。

 また、一般式(1a)において、いずれか2つ以� �のR ¹² 、R ¹³ 及びR ¹⁴ が相互に結合して形成される環としては、例 えば、5~7員の環構造等を挙げることができる 。
 更に、一般式(1b)において、R ¹⁵ 及びR ¹⁶ が相互に結合して形成される環としては、例 えば、5~7員の環構造等を挙げることができる 。

 一般式(1a)で表される好ましいスルホニウ ムカチオンの具体例(1a-1)~(1a-65)、及び、一般� ��(1b)で表される好ましいヨードニウムカチオ ンの具体例(1b-1)~(1b-39)を以下に示す。

 ここで、上記繰り返し単位(1)の好ましい� ��としては、以下に示す(1-1)~(1-24)等の単位が� ��げられる。尚、これらの繰り返し単位(1)は� ��独で又は2種類以上を混合して使用すること ができる。

 また、上記繰り返し単位(2)の好ましい例� ��しては、以下に示す(2-1)~(2-31)等の単位が挙� ��られる。尚、これらの繰り返し単位(2)は単� ��で又は2種類以上を混合して使用することが できる。

 ここで、本発明における酸発生基含有樹脂� ��、上記繰り返し単位(1)及び(2)のうちの少な� ��とも一方のみから構成されていてもよいし� ��下記一般式(3)で表される繰り返し単位(以下 、「繰り返し単位(3)」という)、下記一般式(4 )で表される繰り返し単位(以下、「繰り返し� ��位(4)」という)及び(5)で表される繰り返し単 位(以下、「繰り返し単位(5)」という)のうち� ��少なくとも一種の繰り返し単位を酸発生基� ��有樹脂の構成単位として、更に含んでいて� ��よい。
 尚、これらの繰り返し単位(3)、(4)及び(5)は� ��酸発生基含有樹脂から発生する酸の作用に� ��って、繰り返し単位中の側鎖等が切断され� ��りするなどの構造変化が生じない単位、或� ��は殆ど生じない単位である。即ち、酸の作� ��により水酸基又はカルボキシル基を発生す� ��基を含まない単位である。

 〔一般式(3)において、R ⁶ は水素原子又はメチル基を表し、Gは単結合� �メチレン基又はアルキレン基を表し、R ⁷ はアルキル基、水素原子、ヒドロキシル基、 アルコキシル基、-COOH、パーフルオロアルキ� ��基又は芳香族基を表す。ここでR ⁷ が-COOH又は芳香族基である場合、Gはメチレン 基又はアルキレン基を示す。〕
 〔一般式(4)において、R ⁸ は水素原子又はメチル基を表し、Jは単結合� �メチレン基又はアルキレン基を表し、R ⁹ は水素原子、アルキル基、ヒドロキシル基、 アルコキシル基、-COOH、パーフルオロアルキ� ��基、芳香族基又はアミノ基を表す。ここでR ⁹ がアミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシル 基、-COOH、パーフルオロアルキル基又は芳香� ��基である場合、Jはメチレン基又はアルキレ ン基を示す。〕
 〔一般式(5)において、R ¹⁰ は水素原子又はメチル基を表し、Lはメチレ� �基又はアルキレン基を表し、R ¹¹ は水素原子、ヒドロキシル基、アルコキシル 基、-COOH、パーフルオロアルキル基、芳香族� ��又はアミノ基を表す。〕

 また、上記一般式(3)におけるGのアルキレ ン基としては、例えば、エチレン基、1,3-プ� �ピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチ� �ン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン� �、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デ� �メチレン基、2-メチル-1,3-プロピレン基、2-� �チル-1,2-プロピレン基、2-メチル-1,4-ブチレ� �基等の炭素数2~10直鎖状、分岐状アルキレン� ��、1,3-シクロブチレン基などのシクロブチレ ン基、1,3-シクロペンチレン基などのシクロ� �ンチレン基、1,4-シクロヘキシレン基などの� ��クロヘキシレン基、1,5-シクロオクチレン基 などのシクロオクチレン基等の炭素数3~10の� �クロアルキレン基などの単環式炭化水素環� �、1,4-ノルボルニレン基若しくは2,5-ノルボル ニレン基などのノルボルニレン基、1,3-アダ� �ンチレン基、2,6-アダマンチレン基などのア� ��マンチレン基等の2~4環式の炭素数4~30の炭化 水素環基などの架橋環式炭化水素環基等が挙 げられる。

 上記一般式(3)におけるR ⁷ のアルコキシル基としては、例えば、メトキ シ基、エトキシ基、プトポキシ基、n-ブトキ� ��基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、ヘキ シルオキシ基、オクチルオキシ基のような炭 素数1~8個のものなどが挙げられる。
 また、上記R ⁷ の芳香族基としては、例えば、フェニル基、 ナフチル基等の炭素数6~10個のものなどが挙� �られる。尚、この芳香族基は置換基を有し� �もよく、好ましい置換基としては、炭素数1~ 4個のアルキル基、炭素数1~4個のアルコキシ� �、ハロゲン基、シアノ基、ヒドロキシ基、� �ルボキシ基、アルコキシカルボニル基、ニ� �ロ基が挙げられる。
 尚、上記R ⁷ が、-COOH又は芳香族基である場合、上記Gはメ チレン基又はアルキレン基である。

 上記一般式(4)におけるJのアルキレン基とし ては、上記一般式(3)におけるGと同様のアル� �レン基を挙げることができる。
 また、一般式(4)におけるR ⁹ のアルコキシル基としては、上記一般式(3)に おけるR ⁷ と同様のアルコキシル基を挙げることができ る。
 尚、上記R ⁹ が、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ ル基、-COOH、パーフルオロアルキル基又は芳� ��族基である場合、上記Jはメチレン基又はア ルキレン基である。

 上記一般式(5)におけるLのアルキレン基とし ては、上記一般式(3)におけるGと同様のアル� �レン基を挙げることができる。
 また、一般式(5)におけるR ¹¹ のアルコキシル基としては、上記一般式(3)に おけるR ⁷ と同様のアルコキシル基を挙げることができ る。

 ここで、上記繰り返し単位(3)の好ましい� ��としては、スチレン、α-メチルスチレン、4 -ヒドロキシスチレン、4-ヒドロキシ-α-メチ� �スチレン、4-メチルスチレン、4-メチル-α-ス チレン、4-メトキシスチレン、4-メトキシ-α-� ��チレン、4-カルボキシスチレン、4-カルボキ シ-α-メチルスチレン等の重合性不飽和結合� �開裂した単位を挙げることができる。尚、� �れらの繰り返し単位(3)は単独で又は2種類以� ��を混合して使用することができる。

 また、上記繰り返し単位(4)の好ましい例と� ��ては、(メタ)アクリル酸ノルボルニル、(メ� ��)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル� ��トリシクロデカニル、(メタ)アクリル酸テ� �ラシクロデカニル、(メタ)アクリル酸ジシク ロペンテニル、(メタ)アクリル酸アダマンチ� ��、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアダマンチ� �等、の有橋式炭化水素骨格を有する(メタ)ア クリル酸エステル類;
(メタ)アクリル酸カルボキシノルボルニル、( メタ)アクリル酸カルボキシトリシクロデカ� �ル、(メタ)アクリル酸カルボキシテトラシク ロデカニル等の不飽和カルボン酸の有橋式炭 化水素骨格を有するカルボキシル基含有エス テル類;

 (メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル 酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メ� ��)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸2-メ チルプロピル、(メタ)アクリル酸1-メチルプ� �ピル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル� ��(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(� �タ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ) アクリル酸シクロプロピル、(メタ)アクリル� ��シクロペンチル、(メタ)アクリル酸シクロ� �キシル、(メタ)アクリル酸4-メトキシシクロ� ��キシル、(メタ)アクリル酸2-シクロペンチル オキシカルボニルエチル、(メタ)アクリル酸2 -シクロヘキシルオキシカルボニルエチル、(� ��タ)アクリル酸2-(4-メトキシシクロヘキシル) オキシカルボニルエチル、(メタ)アクリル酸2 ,2,2-トリフルオロエチル、(メタ)アクリル酸4- ヒドロキシフェニル等の有橋式炭化水素骨格 をもたない(メタ)アクリル酸エステル類;

 (メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイ� �酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン� �、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シ� �ラコン酸、メサコン酸等の不飽和カルボン� �(無水物)類;(メタ)アクリル酸2-カルボキシエ� ��ル、(メタ)アクリル酸2-カルボキシプロピル 、(メタ)アクリル酸3-カルボキシプロピル、(� ��タ)アクリル酸4-カルボキシブチル、(メタ)� �クリル酸4-カルボキシシクロヘキシル等の不 飽和カルボン酸の有橋式炭化水素骨格をもた ないカルボキシル基含有エステル類; 

 1,2-アダマンタンジオールジ(メタ)アクリ� ��ート、1,3-アダマンタンジオールジ(メタ)ア� ��リレート、1,4-アダマンタンジオールジ(メ� �)アクリレート、トリシクロデカニルジメチ� ��ールジ(メタ)アクリレート等の有橋式炭化� �素骨格を有する多官能性化合物;有橋式炭化� ��素骨格をもたない多官能性化合物等の重合� ��不飽和結合が開裂した単位を挙げることが� ��きる。尚、これらの繰り返し単位(4)は単独� ��又は2種類以上を混合して使用することがで きる。

 また、上記繰り返し単位(5)の好ましい例� ��しては、N,N-ジメチルアミノプロピルアクリ ルアミド、N-イソプロピルアクリルアミド、N -(4-ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N-(4 -ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド等の� ��合性不飽和結合が開裂した単位を挙げるこ� ��ができる。尚、これらの繰り返し単位(5)は� ��独で又は2種類以上を混合して使用すること ができる。

 本発明の酸発生基含有樹脂において、上� ��繰り返し単位(1)及び(2)の含有率の合計は、� ��発生基含有樹脂を構成する全繰り返し単位� ��合計を100モル%とした場合に、10~100モル%で� �ることが好ましく、より好ましくは20~100モ� �%である。この繰り返し単位(1)及び(2)の含有� ��の合計が10~100モル%の場合には、パターン形 成方法において、感度、エッチング耐性、解 像度に優れ、微細パターンを高精度にかつよ り安定して形成することができる。

 また、本発明における酸発生基含有樹脂の� ��ルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)� �より測定されるポリスチレン換算重量分子� �(以下、「Mw」という)は、好ましくは1,000~150, 000、より好ましくは3,000~100,000、更に好まし� �は5,000~30,000である。
 また、酸発生基含有樹脂のMwと、GPCで測定� �たポリスチレン換算数分子量(以下、「Mn」� �いう。)との比(Mw/Mn)は、通常、1~10であり、� �ましくは1~5である。

 <感放射線性樹脂組成物>
 本発明の感放射線性樹脂組成物は、樹脂成� ��として、酸発生基含有樹脂のみを含有する� ��とを特徴とする。
 上記酸発生基含有樹脂については、前述の� ��明をそのまま適用することができる。尚、� ��の酸発生基含有樹脂は、単独で又は2種以上 を混合して使用することができる。

 また、本発明における感放射線性樹脂組成� ��には、他の成分として、界面活性剤、増感� ��、溶剤等の添加剤が配合されていてもよい� ��
 尚、本発明における感放射線性樹脂組成物� ��、前述のように樹脂側鎖の極性変化によっ� ��現像液への溶解性が増大するものであり、� ��発生剤が発生する酸の拡散を利用した従来� ��化学増幅型感放射線性樹脂組成物とは異な� ��ているため、添加剤としての酸発生剤や酸� ��散制御剤は必要とせず、これらを含有しな� ��ものとすることができる。

 〔界面活性剤〕
 本発明の感放射線性樹脂組成物に界面活性� ��を配合した場合、感放射線性樹脂組成物の� ��布性やストリエーション、レジストとして� ��現像性等を向上させることができる。
 このような界面活性剤としては、例えば、� ��リオキシエチレンラウリルエーテル、ポリ� ��キシエチレンステアリルエーテル、ポリオ� ��シエチレンオレイルエーテル、ポリオキシ� ��チレンn-オクチルフェノールエーテル、ポ� �オキシエチレンn-ノニルフェノールエーテル 、ポリエチレングリコールジラウレート、ポ リエチレングリコールジステアレート等を挙 げることができる。また、市販品としては、 例えば、エフトップEF301、同EF303、同EF352(ト� �ケムプロダクツ社製)、メガファックスF171、 同F173(以上、大日本インキ化学工業(株)製)、� ��ロラードFC430、同FC431(以上、住友スリーエ� �(株)製)、アサヒガードAG710、サーフロンS-382� ��同SC101、同SC102、同SC103、同SC104、同SC105、同 SC106(以上、旭硝子(株)製)、KP341(信越化学工業 (株)製)、ポリフローNo.75、同No.95(以上、共栄� ��化学(株)製)等が挙げられる。尚、これらの� ��面活性剤は、単独で又は2種以上を混合して 使用することができる。

 また、上記界面活性剤の配合量は、感放� ��線性樹脂組成物における酸発生基含有樹脂1 00質量部に対して、2質量部以下であることが 好ましい。

 〔増感剤〕
 上記増感剤の好ましい例としては、例えば� ��カルバゾール類、ベンゾフェノン類、ロー� ��ベンガル類、アントラセン類等が挙げられ� ��。尚、これらの増感剤は、単独で又は2種以 上を混合して使用することができる。
 また、上記増感剤の配合量は、感放射線性� ��脂組成物における酸発生基含有樹脂100質量� ��に対して、50質量部以下であることが好ま� �い。

 〔溶剤〕
 本発明における感放射線性樹脂組成物は、� ��の使用に際して、全固形分の濃度が、通常� ��0.1~50質量%、好ましくは1~30質量%になるよう� ��、溶剤に均一に溶解したのち、例えば孔径0 .2μm程度のフィルターでろ過することにより� ��組成物溶液として調製される。
 上記組成物溶液の調製に使用される溶剤と� ��ては、例えば、エチレングリコールモノメ� ��ルエーテルアセテート、エチレングリコー� ��モノエチルエーテルアセテート、エチレン� ��リコールモノ-n-プロピルエーテルアセテー� ��、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテ� ��アセテート等のエチレングリコールモノア� ��キルエーテルアセテート類;プロピレングリ コールモノメチルエーテル、プロピレングリ コールモノエチルエーテル、プロピレングリ コールモノ-n-プロピルエーテル、プロピレン グリコールモノ-n-ブチルエーテル等のプロピ レングリコールモノアルキルエーテル類;プ� �ピレングリコールジメチルエーテル、プロ� �レングリコールジエチルエーテル、プロピ� �ングリコールジ-n-プロピルエーテル、プロ� �レングリコールジ-n-ブチルエーテル等のプ� �ピレングリコールジアルキルエーテル類;プ� ��ピレングリコールモノメチルエーテルアセ� ��ート、プロピレングリコールモノエチルエ� ��テルアセテート、プロピレングリコールモ� ��-n-プロピルエーテルアセテート、プロピレ� ��グリコールモノ-n-ブチルエーテルアセテー� ��等のプロピレングリコールモノアルキルエ� ��テルアセテート類;乳酸メチル、乳酸エチル 、乳酸n-プロピル、乳酸i-プロピル等の乳酸� �ステル類;ぎ酸n-アミル、ぎ酸i-アミル、酢酸 エチル、酢酸n-プロピル、酢酸i-プロピル、� �酸n-ブチル、酢酸i-ブチル、酢酸n-アミル、� �酸i-アミル、プロピオン酸i-プロピル、プロ� ��オン酸n-ブチル、プロピオン酸i-ブチル等の 脂肪族カルボン酸エステル類;ヒドロキシ酢� �エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸 エチル、2-ヒドロキシ-3-メチル酪酸メチル、� ��トキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3 -メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプ ロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸� ��チル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メ トキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキ� ��ブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブ� �ルプロピオネート、3-メチル-3-メトキシブチ ルブチレート、アセト酢酸メチル、アセト酢 酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エ チル等の他のエステル類;トルエン、キシレ� �等の芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン� ��メチルプロピルケトン、メチルブチルケト� ��、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、4-ヘプタノ� ��、シクロヘキサノン等のケトン類;N-メチル� ��ルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-� ��チルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミ ド、N-メチルピロリドン等のアミド類;γ-ブチ ロラクン等のラクトン類等が挙げられる。
 これらの溶剤は、単独で又は2種以上を混合 して使用することができる。

<レジストパターンの形成>
 感放射線性樹脂組成物からレジストパター� ��を形成する際には、前述したようにして調� ��された組成物溶液を、回転塗布、流延塗布� ��ロール塗布等の適宜の塗布手段によって、� ��えば、シリコンウエハ、アルミニウムで被� ��されたウエハ等の基板上に塗布し、場合に� ��り予め70℃~160℃程度の温度で加熱処理(以下 、「PB」という。)を行なって、レジスト被膜 を形成したのち、EB、X線、EUV等の放射線、好 ましくはEBを照射することにより描画する。� ��の描画条件は、感放射線性樹脂組成物の配� ��組成、各添加剤の種類等に応じて、適宜選� ��される。

 その後、アルカリ現像液、又は水により、� ��常、10~50℃で10~200秒、好ましくは15~30℃で15~ 100秒の条件で現像することにより、所定のレ ジストパターンを形成する。
 上記アルカリ現像液としては、例えば、ア� ��カリ金属水酸化物、アンモニア水、モノ-、 ジ-或いはトリ-アルキルアミン類、モノ-、ジ -或いはトリ-アルカノールアミン類、複素環� ��アミン類、テトラアルキルアンモニウムヒ� ��ロキシド類、コリン、1,8-ジアザビシクロ-[5 .4.0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ-[4.3.0]- 5-ノネン等のアルカリ性化合物を、通常、1~10 質量%、好ましくは1~5質量%、特に好ましくは1 ~3質量%の濃度となるよう溶解したアルカリ性 水溶液が使用される。
 また、上記アルカリ性水溶液からなる現像� ��には、例えば、メタノール、エタノール等� ��水溶性有機溶剤や界面活性剤を適宜添加す� ��こともできる。
 更に、レジストパターンの形成に際しては� ��環境雰囲気中に含まれる塩基性不純物等の� ��響や被膜中の帯電を防止するため、レジス� ��被膜上に保護膜や帯電防止膜を設けること� ��できる。