DESCRIPTION

Procédé de fabrication d'un filtre coloré

La présente demande est basée sur, et revendique la priorité de, la demande de brevet français 2114473 déposée le 24 décembre 2021 et ayant pour titre "Procédé de fabrication d'un filtre coloré", qui est considérée comme faisant partie intégrante de la présente description dans les limites prévues par la loi.

Domaine technique

[0001] La présente description concerne de façon générale les dispositifs d'acquisition d'images. La présente description concerne plus particulièrement les dispositifs d'acquisition d'empreintes digitales, également appelés capteurs d'empreintes digitales.

Technique antérieure

[0002] On connaît des capteurs d'empreintes digitales permettant, par exemple, de sécuriser un accès à des données stockées dans une mémoire d'un téléphone mobile, d'autoriser une personne à pénétrer à l'intérieur d'un bâtiment ou d'un local, de procéder à des contrôles d'identité, etc. De tels capteurs peuvent faire l'objet de tentatives de fraude, par exemple en utilisant une reproduction bidimensionnelle (par exemple une photocopie) ou tridimensionnelle (par exemple une reconstitution artificielle réalisée en silicone ou en latex) d'un doigt d'un utilisateur, visant à tromper le capteur d'empreintes digitales.

Résumé de l'invention

[0003] Il existe un besoin de renforcer la sécurité des dispositifs d'acquisition d'empreintes digitales actuels et d'améliorer les procédés de fabrication de tels dispositifs. [0004] Un mode de réalisation pallie tout ou partie des inconvénients des dispositifs d'acquisition d'empreintes digitales connus et de leurs procédés de fabrication.

[0005] Un mode de réalisation prévoit un procédé de fabrication d'un filtre coloré, comprenant les étapes successives suivantes : a) réaliser des ouvertures dans une première couche revêtant une première face d'un substrat, la première couche étant adaptée à transmettre de la lumière dans une première gamme de longueurs d'ondes ; b) revêtir la première couche d'une deuxième couche adaptée à transmettre de la lumière dans une deuxième gamme de longueurs d'ondes, différente de la première gamme de longueurs d'ondes ; c) insoler la deuxième couche depuis une deuxième face du substrat opposée à la première face, en utilisant la première couche comme masque ; et d) éliminer des parties de la deuxième couche masquées par la première couche lors de l'étape c) .

[0006] Selon un mode de réalisation, à l'étape c) , la deuxième couche est en outre insolée à travers un premier masque situé du côté de la deuxième face du substrat et couvrant certaines des ouvertures de la première couche.

[0007] Selon un mode de réalisation, le procédé comprend en outre, après l'étape d) , les étapes successives suivantes : e) déposer, du côté de la première face du substrat, une troisième couche adaptée à transmettre de la lumière dans une troisième gamme de longueurs d'ondes, différente des première et deuxième gammes de longueurs d'ondes ; f) insoler la troisième couche depuis la deuxième face du substrat, en utilisant les première et deuxième couches comme masque ; et g) éliminer des parties de la troisième couche masquées par les première et deuxième couches lors de l'étape f) .

[0008] Selon un mode de réalisation, à l'étape f ) , la troisième couche est en outre insolée à travers un deuxième masque situé du côté de la deuxième face du substrat et couvrant certaines des ouvertures masquées par le premier masque .

[0009] Selon un mode de réalisation, le procédé comprend en outre, après l'étape g) , les étapes suivantes : h) déposer, du côté de la première face du substrat, une quatrième couche adaptée à transmettre un rayonnement dans une quatrième gamme de longueurs d'ondes, différente des première, deuxième et troisième gammes de longueurs d'ondes ; i) insoler la quatrième couche depuis la deuxième face du substrat, en utilisant les première, deuxième et troisième couches comme masque ; et j ) éliminer des parties de la quatrième couche masquées par les première, deuxième et troisième couches lors de l'étape 1) •

[0010] Selon un mode de réalisation, les première, deuxième et troisième gammes de longueurs d'ondes sont situées dans le visible et la quatrième gamme de longueurs d'ondes est située dans l'infrarouge.

[0011] Selon un mode de réalisation, le premier masque comporte des ouvertures présentant des dimensions latérales supérieures à celles des ouvertures de la première couche.

[0012] Selon un mode de réalisation, à l'étape a) , les ouvertures sont réalisées par insolation de la première couche à travers un troisième masque situé du côté de la première face du substrat puis élimination de parties non insolées de la première couche. [0013] Selon un mode de réalisation, le troisième masque est préalablement formé par insolation, à travers un quatrième masque, d'une cinquième couche revêtant une face d'un autre substrat puis élimination de parties non insolées de la cinquième couche.

[0014] Selon un mode de réalisation, les première et cinquième couches sont en un même matériau.

[0015] Selon un mode de réalisation, le troisième masque comprend un substrat revêtu de plots métalliques disjoints.

[0016] Un mode de réalisation prévoit un procédé de réalisation d'un capteur d'empreintes digitales, comprenant une étape de report, sur une matrice de photodétecteurs organiques, du filtre coloré obtenu par le procédé tel que décrit précédemment.

Brève description des dessins

[0017] Ces caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres, seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles :

[0018] les figures IA, IB, IC, 1D et 1E sont des vues en perspective, schématiques et partielles, illustrant des étapes successives d'un exemple d'un procédé de fabrication d'un filtre coloré selon un mode de réalisation ;

[0019] les figures 2A, 2B, 2C et 2D sont des vues en perspective, schématiques et partielles, illustrant des étapes successives d'un exemple d'un procédé de fabrication d'un filtre coloré selon un autre mode de réalisation ;

[0020] la figure 3 est une vue en perspective, schématique et partielle, illustrant une structure obtenue à l'issue d'un exemple d'un procédé de fabrication d'un filtre coloré selon encore un autre mode de réalisation ; [0021] les figures 4A, 4B et 4C sont des vues en perspective, schématiques et partielles, illustrant des étapes successives d'un exemple d'un procédé de fabrication d'un masque pour la réalisation de filtres colorés ; et

[0022] la figure 5 est une vue en perspective, schématique et partielle, illustrant un exemple de capteur d'empreintes digitales comportant un filtre coloré.

Description des modes de réalisation

[0023] De mêmes éléments ont été désignés par de mêmes références dans les différentes figures. En particulier, les éléments structurels et/ou fonctionnels communs aux différents modes de réalisation peuvent présenter les mêmes références et peuvent disposer de propriétés structurelles, dimensionnelles et matérielles identiques.

[0024] Par souci de clarté, seuls les étapes et éléments utiles à la compréhension des modes de réalisation décrits ont été représentés et sont détaillés. En particulier, les capteurs d'images pouvant être associés au filtre couleur n'ont pas été détaillés, les modes de réalisation décrits étant compatibles avec tous ou la plupart des capteurs d'images connus.

[0025] Sauf précision contraire, lorsque l'on fait référence à deux éléments connectés entre eux, cela signifie directement connectés sans éléments intermédiaires autres que des conducteurs, et lorsque l'on fait référence à deux éléments reliés (en anglais "coupled") entre eux, cela signifie que ces deux éléments peuvent être connectés ou être reliés par l'intermédiaire d'un ou plusieurs autres éléments.

[0026] On désigne par l'expression "transmittance d'une couche" le rapport entre l'intensité du rayonnement sortant de la couche et l'intensité du rayonnement entrant dans la couche. Dans la suite de la description, une couche ou un film est dit opaque à un rayonnement lorsque la transmittance du rayonnement au travers de la couche ou du film est inférieure à 10 %. Dans la suite de la description, une couche ou un film est dit transparent à un rayonnement lorsque la transmittance du rayonnement au travers de la couche ou du film est supérieure à 10 %.

[0027] Dans la suite de la description, on appelle lumière visible un rayonnement électromagnétique dont la longueur d'onde est comprise entre 400 nm et 700 nm, on appelle rayonnement infrarouge (IR) un rayonnement électromagnétique dont la longueur d'onde est comprise entre 700 nm et 1 mm et on appelle rayonnement ultraviolet (UV) un rayonnement électromagnétique dont la longueur d'onde est comprise entre 100 et 400 nm. Dans le rayonnement infrarouge, on distingue notamment le rayonnement infrarouge proche, dont la longueur d'onde est comprise entre 700 nm et 1,7 pm. Dans le rayonnement ultraviolet, on distingue notamment le rayonnement UV-A, dont la longueur d'onde est comprise entre 315 et 400 nm, le rayonnement UV-B, dont la longueur d'onde est comprise entre 280 et 315 nm, et le rayonnement UV-C, dont la longueur d'onde est comprise entre 100 et 280 nm.

[0028] Dans la description qui suit, lorsque l'on fait référence à des qualificatifs de position absolue, tels que les termes "avant", "arrière", "haut", "bas", "gauche", "droite", etc., ou relative, tels que les termes "dessus", "dessous", "supérieur", "inférieur", etc., ou à des qualificatifs d'orientation, tels que les termes "horizontal", "vertical", etc., il est fait référence sauf précision contraire à l'orientation des figures.

[0029] Sauf précision contraire, les expressions "environ", "approximativement", "sensiblement", et "de l'ordre de" signifient à 10 % près, de préférence à 5 % près. [0030] Selon un aspect d'un mode de réalisation, un dispositif d'acquisition d'empreintes digitales, ou capteur d'empreintes digitales, comprend un capteur d'images et un filtre coloré superposés, le filtre coloré du capteur d'empreintes digitales comportant au moins deux ensembles de premières et deuxièmes régions adaptées à transmettre de la lumière dans des gammes de longueurs d'ondes distinctes. À titre d'exemple, lorsqu'un doigt à analyser est placé sur le capteur d'empreintes digitales, au moins une source de lumière éclaire directement ou indirectement le doigt pour permettre une acquisition, par le capteur d'images et à travers les ensembles de premières et deuxièmes régions du filtre coloré, de premières et deuxièmes données représentatives d'une réponse du doigt à la lumière, par exemple par réflectivité. Les premières et deuxièmes données ainsi obtenues sont alors par exemple comparées respectivement à des premières et deuxièmes données de référence, par exemple des premières et deuxièmes données représentatives d'un vrai doigt, c'est-à- dire un doigt non artificiel, préalablement acquises par le capteur d'empreintes digitales à travers les ensembles de premières et deuxièmes régions du filtre coloré dans des conditions similaires.

[0031] Plus précisément, on éclaire par exemple le doigt à analyser et on détermine des réponses caractéristiques du doigt à partir des premières et deuxièmes données issues d'une image en réflectivité du doigt acquise par le capteur à travers les ensembles de premières et deuxièmes régions . À titre d'exemple, chacune des réponses caractéristiques d'un doigt correspond à une moyenne, éventuellement pondérée, de valeurs de pixels d'au moins une image du doigt acquise par le capteur d'images du capteur d'empreintes digitales obtenues pour l'un ou l'autre des ensembles de premières et deuxièmes régions. Chaque réponse du doigt à analyser est par exemple ensuite comparée à au moins une réponse de référence obtenue, pour un vrai doigt, dans des conditions d'illumination sensiblement identiques. Si la réponse du doigt à analyser diffère, selon un critère de comparaison, de la réponse de référence, par exemple si la réponse mesurée et la réponse de référence présentent, en valeur absolue, une différence supérieure à un seuil, le doigt à analyser est alors considéré comme étant un faux doigt.

[0032] Dans le cas où le doigt à analyser est un faux doigt, par exemple un doigt artificiel tridimensionnel en silicone, en latex, etc. ou une reproduction d'un doigt en deux dimensions, l'utilisation d'un tel filtre coloré permet d'accentuer l'écart entre la réponse mesurée et la réponse de référence obtenue avec un vrai doigt, notamment par rapport à un cas où le capteur d'empreintes serait dépourvu de filtre coloré. Il en résulte une protection accrue contre des tentatives de fraude.

[0033] Les réponses de référence d'un vrai doigt peuvent en outre être mémorisées pour différentes longueurs d'ondes d'illumination. La détection d'un faux doigt est alors par exemple effectuée en comparant la réponse du doigt à analyser avec la réponse de référence pour aux moins deux longueurs d'ondes différentes. À titre d'exemple, si la réponse du doigt à analyser diffère, selon un critère de comparaison, de la réponse de référence pour au moins une longueur d'onde, le doigt à analyser est alors considéré comme faux.

[0034] Les figures IA à 1E sont des vues en perspective, schématiques et partielles, illustrant des étapes successives d'un exemple d'un procédé de fabrication d'un filtre coloré 100, par exemple un filtre coloré du type décrit ci-dessus, selon un mode de réalisation.

[0035] La figure IA est une vue en perspective illustrant une structure obtenue à l'issue d'une étape de dépôt, sur une face 101T d'un substrat 101 (la face supérieure, dans l'orientation de la figure 1A) , d'une première couche 103 (G) .

[0036] Dans cet exemple, le substrat 101 est en un matériau transparent. À titre d'exemple, le substrat 101 est en verre ou en un polymère transparent tel que le poly ( téréphtalate d'éthylène) PET, le poly (métacrylate de méthyle) PMMA, le polyimide (PI) , le polycarbonate (PC) ou un polymère de la famille des polymères d'oléfine cyclique (COP) . Le substrat 101 présente par exemple une épaisseur comprise entre 1 et 100 pm, par exemple comprise entre 10 et 100 pm, dans le cas où le substrat 101 est en un matériau polymère, et comprise entre 0,1 mm et 1 mm dans le cas où le substrat 101 est en verre .

[0037] Dans l'exemple représenté, la première couche 103 revêt intégralement la face supérieure 101T du substrat 101. Le dépôt de la couche 103 peut par exemple être effectué par voie liquide, par pulvérisation cathodique ou par évaporation À titre d'exemple, selon le matériau utilisé, la couche 103 peut plus précisément être formée par dépôt à la tournette ("spin coating", en anglais) , par revêtement par pulvérisation, par héliographie, par revêtement par filière ("slot-die coating", en anglais) , par revêtement à la lame (blade-coating) , par flexographie ou par sérigraphie.

[0038] Dans cet exemple, la première couche 103 est adaptée à transmettre de la lumière dans une première gamme de longueurs d'ondes, par exemple dans une partie seulement du spectre visible. La couche 103 est par exemple plus précisément en un matériau adapté à transmettre majoritairement de la lumière verte, par exemple dans une gamme de longueurs d'ondes comprises entre 510 et 570 nm. La couche 103 est par exemple en une résine photosensible.

[0039] La figure IB est une vue en perspective illustrant une étape ultérieure d'insolation, du côté de la face supérieure 101T du substrat 101 et à travers un masque 105, de la première couche 103.

[0040] Dans l'exemple représenté, le masque 105 comprend un substrat 107 transparent à une lumière émise par au moins une source, non représentée, utilisée pour insoler la couche 103. Le substrat 107 du masque 105 est par exemple en un matériau choisi parmi la liste des matériaux mentionnés ci-dessus pour le substrat 101, par exemple en le même matériau que le substrat 101. À titre d'exemple, la source utilisée pour insoler la couche 103 est une source de rayonnement ultraviolet, par exemple une source émettant un rayonnement UV-A, par exemple une source présentant plus précisément une longueur d'onde d'émission égale à environ 365 nm.

[0041] Dans cet exemple, une face 107T du substrat 107 (la face supérieure, dans l'orientation de la figure IB) comporte des plots 109 disjoints. Les plots 109 sont en un matériau opaque au rayonnement émis par la source utilisée pour insoler la couche 103 à travers le masque 105, par exemple un métal ou un alliage métallique. Dans l'exemple illustré en figure IB, les plots 109 forment saillie sur la face supérieure 107T du substrat 107 et présentent chacun, en vue de dessus, une forme sensiblement carrée étant entendu que, en pratique, les plots 109 peuvent présenter une forme quelconque, par exemple rectangulaire. Les plots 109 présentent par exemple tous des formes et des dimensions identiques, aux dispersions de fabrication près. Dans l'exemple représenté où les plots 109 sont de forme carrée, chaque plot 109 présente par exemple un côté égal à environ 100 pm. Les plots 109 sont par exemple espacés de façon régulière et agencés en matrice selon des lignes et des colonnes, les lignes étant par exemple sensiblement perpendiculaires aux colonnes.

[0042] La figure IC est une vue en perspective illustrant une structure obtenue à l'issue d'une étape ultérieure d'élimination de parties non insolées de la première couche 103. Dans cet exemple, le matériau de la première couche 103 se comporte comme une résine photosensible négative, c'est- à-dire que seules des parties préalablement insolées, avec une dose suffisante, de la couche 103 subsistent à l'issue de cette étape.

[0043] Dans l'exemple représenté, on forme plus précisément des ouvertures 111 dans la première couche 103. Les ouvertures 111 sont situées sensiblement à l'aplomb des plots 109 du masque 105, et présentent en outre des formes et des dimensions sensiblement égales à celles des plots 109 en vis- à-vis. Les ouvertures 111 forment ainsi, dans cet exemple, un réseau similaire à celui des plots 109 du substrat 105. Les ouvertures 111 sont, dans l'exemple illustré en figure IC, des ouvertures traversantes, de sorte que la face supérieure 101T du substrat 101 est exposée au fond des ouvertures 111. À titre d'exemple, les parties non insolées de la couche 103 sont éliminées par gravure, par exemple par trempage du substrat 101 et de la couche 103 dans une solution de révélateur .

[0044] La figure 1D illustre une structure obtenue à l'issue d'une étape ultérieure de dépôt, du côté de la face supérieure 101T du substrat 101, d'une deuxième couche 113 (B) .

[0045] Dans l'exemple représenté, la deuxième couche 113 revêt les parties de la couche 103 subsistant à l'issue de l'étape décrite ci-dessus en relation avec la figure IC ainsi que les parois latérales et le fond des ouvertures 111. Plus précisément, dans l'exemple illustré en figure 1D, la couche 113 comble intégralement les ouvertures 111. Le dépôt de la couche 113 peut par exemple être effectué par une technique choisie parmi la liste des techniques mentionnées ci-dessus pour le dépôt de la couche 103. [0046] Dans cet exemple, la deuxième couche 113 est adaptée à transmettre de la lumière dans une deuxième gamme de longueurs d'ondes différente de la première gamme de longueurs d'ondes, par exemple dans une autre partie seulement du spectre visible. La couche 113 est par exemple plus précisément en un matériau adapté à transmettre majoritairement de la lumière bleue, par exemple dans une gamme de longueurs d'ondes comprises entre 430 et 490 nm. La couche 113 est par exemple en une résine photosensible.

[0047] La figure 1D illustre en outre une étape ultérieure d'insolation de la couche 113, depuis une autre face 101B du substrat 101 (la face inférieure, dans l'orientation de la figure 1D) opposée à la face supérieure 101T.

[0048] Dans l'exemple représenté, le substrat 101 est transparent à un rayonnement émis par au moins une source, non représentée, utilisée pour insoler la couche 113. À titre d'exemple, la couche 113 est insolée par une source de rayonnement ultraviolet semblable ou identique à la source utilisée pour insoler la couche 103, par exemple une source émettant un rayonnement UV-A présentant une longueur d'onde égale à environ 365 nm.

[0049] Selon un mode de réalisation, au cours de cette étape, la première couche 103 est utilisée comme masque d'insolation. Dans cet exemple, la première couche 103 est plus précisément en un matériau opaque ou absorbant pour le rayonnement émis par la source utilisée pour insoler la couche 113. À titre d'exemple, la couche 103 absorbe au moins 20 %, de préférence au moins 50 %, de préférence au moins 80 % du rayonnement émis par la source d'insolation. On insole ainsi uniquement, ou ma oritairement, des parties de la couche 113 situées à l'intérieur et à l'aplomb des ouvertures 111 préalablement formées dans la première couche 103. [0050] La figure IE est une vue en perspective illustrant une structure obtenue à l'issue d'une étape ultérieure d'élimination de parties non insolées, ou des parties les plus faiblement insolées (c'est-à-dire des parties masquées par la couche 103) , de la deuxième couche 113.

[0051] Dans l'exemple représenté, on forme plus précisément des plots 115 (B) correspondant à des premières parties de la couche 113 situées à l'intérieur et à l'aplomb des ouvertures 111 et on élimine des deuxièmes parties de la couche 113 masquées par la couche 103, c'est-à-dire des parties non situées à l'aplomb des ouvertures 111, les premières parties de la couche 113 ayant été plus fortement insolées que les deuxièmes parties de la couche 113 à l'étape de la figure 1D. Dans cet exemple, les plots 115 présentent des dimensions latérales sensiblement égales à celles des ouvertures 111.

[0052] On a illustré en figure 1E un exemple dans lequel les plots 115 forment saillie sur la face supérieure de la couche 113. Cet exemple n'est toutefois pas limitatif, les plots 115 pouvant en pratique présenter une hauteur quelconque.

[0053] Dans cet exemple, le filtre coloré 100 présente, entre les plots 115 adaptés à transmettre de la lumière dans la deuxième gamme de longueurs d'ondes, les parties de la couche 103 adaptées à transmettre de la lumière dans la première gamme de longueurs d'ondes.

[0054] Un avantage du procédé de fabrication du filtre coloré 100 décrit ci-dessus en relation avec les figures IA à 1E tient au fait qu'il permet de s'affranchir d'opérations d'alignement pour former les plots 115 à l'intérieur des ouvertures 111. Cela permet de simplifier la réalisation du filtre coloré 100.

[0055] Les figures 2A à 2D sont des vues en perspective, schématiques et partielles, illustrant des étapes successives d'un exemple d'un procédé de fabrication d'un filtre coloré 200 selon un autre mode de réalisation. Les premières étapes du procédé de fabrication du filtre coloré 200 sont par exemple identiques aux premières étapes de fabrication du filtre coloré 100 décrites ci-dessus en relation avec les figures IA à IC.

[0056] La figure 2A est une vue en perspective illustrant, partant par exemple de la structure précédemment décrite en relation avec la figure IC et après le dépôt de la couche 113 du côté de la face supérieure 101T du substrat 101, une étape ultérieure d'insolation, du côté de la face inférieure 101B du substrat 101 et à travers un masque 201, de la couche 113.

[0057] Dans l'exemple représenté, le masque 201 présente des ouvertures 203 situées en regard de certaines seulement des ouvertures 111 préalablement formées dans la première couche 103. Les ouvertures 203 du masque 201 présentent par exemple une forme semblable aux ouvertures 111. Les ouvertures 203 peuvent présenter des dimensions latérales sensiblement égales à celles des ouvertures 111 ou, comme dans l'exemple illustré en figure 2A, supérieures à celles des ouvertures 111. Les ouvertures 203 du masque 201 présentent par exemple des dimensions latérales environ deux fois plus grandes que celles des ouvertures 111 de la couche 103. À titre d'exemple, les ouvertures 203 sont de forme carrée et présentent un côté environ deux fois plus grand que le côté des ouvertures 111, par exemple un côté égal à environ 200 pm.

[0058] En outre, dans l'exemple représenté, le masque 201 couvre certaines des ouvertures 111 préalablement formées dans la première couche 103. À titre d'exemple, le masque 201 couvre environ la moitié des ouvertures 111 de la matrice d'ouvertures 111, par exemple une ouverture 111 sur deux en alternance dans le sens des lignes et une ouverture sur deux en alternance dans le sens des colonnes comme dans l'exemple illustré .

[0059] Au cours de cette étape, la première couche 103 est également utilisée comme masque d'insolation. On insole ainsi principalement des parties de la couche 113 situées à l'intérieur et à l'aplomb des ouvertures 111 non couvertes par le masque 201.

[0060] La figure 2B est une vue en perspective illustrant une structure obtenue à l'issue d'une étape ultérieure d'élimination de parties non insolées, ou des parties les plus faiblement insolées, de la deuxième couche 113. L'étape de la figure 2B est par exemple analogue à l'étape précédemment décrite en relation avec la figure 1E.

[0061] Dans l'exemple représenté, on forme plus précisément des plots 205 (B) correspondant à des parties de la couche 113 situées à l'intérieur et à l'aplomb des ouvertures 111 non couvertes par le masque 201. Dans cet exemple, les plots 205 présentent des dimensions latérales sensiblement égales à celles des ouvertures 111.

[0062] La figure 2C illustre une structure obtenue à l'issue d'une étape ultérieure de dépôt, du côté de la face supérieure 101T du substrat 101, d'une troisième couche 207 (R) .

[0063] Dans l'exemple représenté, la troisième couche 207 revêt les parties de la couche 103 subsistant à l'issue de l'étape décrite ci-dessus en relation avec la figure IC, recouvre les plots 205 et comble intégralement les ouvertures 111. Le dépôt de la couche 207 peut par exemple être effectué par une technique choisie parmi la liste des techniques mentionnées ci-dessus pour le dépôt de la couche 103.

[0064] Dans cet exemple, la troisième couche 207 est adaptée à transmettre de la lumière dans une troisième gamme de longueurs d'ondes différente des première et deuxième gammes de longueurs d'ondes, par exemple dans encore une autre partie seulement du spectre visible. La couche 207 est par exemple plus précisément en un matériau adapté à transmettre majoritairement de la lumière rouge, par exemple dans une gamme de longueurs d'ondes comprises entre 600 et 720 nm. La couche 207 est par exemple en une résine photosensible.

[0065] La figure 2C illustre en outre une étape ultérieure d'insolation de la couche 207, depuis la face inférieure 101B du substrat 101.

[0066] À titre d'exemple, la couche 207 est insolée par une source de rayonnement ultraviolet semblable ou identique à la source utilisée pour insoler la couche 103, par exemple une source émettant un rayonnement UV-A à une longueur d'onde égale à environ 365 nm.

[0067] Au cours de cette étape, la première couche 103 et la deuxième couche 113 sont utilisées comme masque d'insolation. Dans cet exemple, la deuxième couche 113 est plus précisément en un matériau opaque ou absorbant pour le rayonnement émis par la source utilisée pour insoler la couche 207. À titre d'exemple, la couche 113 absorbe au moins 20 %, de préférence au moins 50 %, de préférence au moins 80 % du rayonnement émis par la source d'insolation. On insole ainsi principalement des parties de la couche 207 situées à l'intérieur et à l'aplomb des ouvertures 111 préalablement formées dans la première couche 103 et non comblées par les plots 205.

[0068] La figure 2D est une vue en perspective illustrant une structure obtenue à l'issue d'une étape ultérieure d'élimination de parties non insolées, ou des parties les plus faiblement insolées (c'est-à-dire des parties masquées par la couche 113) , de la troisième couche 207. [0069] Dans l'exemple représenté, on forme plus précisément des plots 209 (R) correspondant à des premières parties de la couche 207 situées à l'intérieur et à l'aplomb des ouvertures 111 préalablement couvertes par le masque 201, c'est-à-dire les ouvertures 111 non comblées par les plots 205, et on élimine des deuxièmes parties de la couche 207 masquées par la couche 103 et par les plots 205, les premières parties de la couche 207 ayant été plus fortement insolées que les deuxièmes parties de la couche 207 à l'étape de la figure 2C. Dans cet exemple, les plots 209 présentent des dimensions latérales sensiblement égales à celles des ouvertures 111.

[0070] Dans l'exemple illustré en figure 2D, le filtre coloré 200 comporte une alternance (ou damier) de plots 205 et 209, adaptés respectivement à transmettre de la lumière dans les deuxième et troisième gammes de longueurs d'ondes, et des parties de la couche 103, adaptées à transmettre de la lumière dans la première gamme de longueurs d'ondes, s'étendant latéralement entre les plots 205, 209.

[0071] Un avantage du procédé de réalisation du filtre coloré 200 décrit ci-dessus en relation avec les figures 2A à 2D tient au fait qu'il permet de simplifier les opérations d'alignement, par exemple l'alignement des ouvertures 203 du masque 201 par rapport aux ouvertures 111 de la couche 103 pour la réalisation des plots 205, voire de s'affranchir d'opérations d'alignement, par exemple pour la réalisation des plots 209.

[0072] La figure 3 est une vue en perspective, schématique et partielle, illustrant une structure obtenue à l'issue d'un exemple d'un procédé de fabrication d'un filtre coloré 300 selon encore un autre mode de réalisation.

[0073] Dans l'exemple représenté, le filtre coloré 300 comporte une alternance (ou damier) de plots 205 et 209, adaptés respectivement à transmettre de la lumière dans les deuxième et troisième gammes de longueurs d'ondes, et de plots 301 (K) , adaptés à transmettre un rayonnement dans une quatrième gamme de longueurs d'ondes. Entre les plots 205, 209, 301 s'étendent les parties de la couche 103 adaptées à transmettre de la lumière dans la première gamme de longueurs d'ondes. À titre d'exemple, les plots 301 sont opaques à la lumière visible et transmettent des rayonnements infrarouges, par exemple dans le spectre infrarouge proche.

[0074] La réalisation du filtre coloré 300 est à la portée de la personne du métier à partir des indications de la présente description. À titre d'exemple, le filtre coloré 300 est obtenu à l'issue d'un procédé analogue à celui précédemment décrit en relation avec les figures 2A à 2C en insolant, à l'étape de la figure 2C, la troisième couche 207 à travers un masque couvrant certaines ouvertures 111 non comblées par les plots 205, c'est-à-dire certaines ouvertures 111 couvertes par le masque 201 à l'étape de la figure 2A, puis en réalisant des étapes ultérieures de dépôt d'une cinquième couche 303 du côté de la face supérieure 101T du substrat 101, d'insolation de la cinquième couche 303 depuis la face inférieure 101B du substrat 101, en utilisant les couches 103, 113 et 207 comme masque, et d'élimination des parties de la cinquième couche 303 non insolées, ou les plus faiblement insolées, pour former les plots 301. Dans cet exemple, la troisième couche 207 est plus précisément en un matériau opaque ou absorbant pour le rayonnement émis par la source utilisée pour insoler la couche 303. À titre d'exemple, la couche 207 absorbe au moins 20 %, de préférence au moins 50 %, de préférence au moins 80 % du rayonnement émis par la source d'insolation. On insole ainsi principalement des parties de la couche 303 situées à l'intérieur et à l'aplomb des ouvertures 111 préalablement formées dans la première couche 103 et non comblées par les plots 205 et 209. [0075] À titre d'exemple, le masque 201 couvre dans ce cas environ un tiers des ouvertures 111 de la couche 103 et le masque utilisé pour insoler la troisième couche 207 couvre environ un autre tiers des ouvertures 111 de la couche 103. Dans cet exemple, le filtre coloré 300 comporte des nombres sensiblement égaux de plots 205, 209, 301. Les plots 205, 209, 301 forment par exemple un motif se répétant de façon régulière le long de lignes et de colonnes à la surface 101T du substrat 101.

[0076] Les figures 4A à 4C sont des vues en perspective, schématiques et partielles, illustrant des étapes successives d'un exemple d'un procédé de fabrication d'un masque pour la réalisation de filtres colorés, par exemple le masque 105 (figure IB) utilisé pour réaliser les filtres colorés 100, 200, 300.

[0077] La figure 4A est une vue en perspective illustrant une structure obtenue à l'issue d'une étape de dépôt, sur la face supérieure 107T du substrat 107, d'une couche 401.

[0078] Dans l'exemple représenté, la couche 401 revêt toute la face supérieure 107T du substrat 107. Le dépôt de la couche 401 peut par exemple être effectué par une technique choisie parmi la liste des techniques mentionnées ci-dessus pour le dépôt de la couche 103.

[0079] Dans cet exemple, la couche 401 est en un matériau opaque au rayonnement émis par la source utilisée pour insoler la couche 103 à travers le masque 105, par exemple un matériau opaque dans l'ultraviolet. La couche 401 est par exemple en une résine photosensible. À titre d'exemple, la couche 401 est en le même matériau que la couche 103.

[0080] La figure 4B est une vue en perspective illustrant une étape ultérieure d'insolation de la couche 401 à travers un masque 403 disposé du côté de la face supérieure 107T du substrat 107. Dans l'exemple représenté, le masque 403 comporte des ouvertures 405 de forme sensiblement carrée.

[0081] La figure 4C est une vue en perspective illustrant une structure obtenue à l'issue d'une étape ultérieure d'élimination de parties non insolées de la couche 401.

[0082] Dans l'exemple représenté, on forme plus précisément les plots 109 correspondant à des parties de la couche 401 non couvertes par le masque 403. Dans cet exemple, les plots 109 présentent des dimensions latérales sensiblement égales à celles des ouvertures 405 du masque 403.

[0083] La figure 5 est une vue en perspective, schématique et partielle, illustrant un exemple de capteur d'empreintes digitales 500 comportant un filtre coloré du type décrit ci- dessus, par exemple le filtre coloré 200 de la figure 2D.

[0084] Dans l'exemple représenté, le filtre coloré 200 est reporté sur un capteur d'images 501 comprenant une matrice de photodétecteurs, par exemple organiques, non détaillés en figure 5. À titre d'exemple, le filtre coloré 200 comporte des groupes élémentaires de plots 205, 209. Chaque groupe élémentaire de plots 205, 209 définit, en vue de dessus, un motif élémentaire de mosaïque correspondant au plus petit ensemble de plots 205, 209 à partir duquel il est possible de reconstituer, par des translations horizontales et verticales du motif, l'agencement de tous les plots 205, 209 de la matrice du filtre coloré 200.

[0085] Chaque groupe élémentaire de plots 205, 209 présente par exemple, vu de dessus, une surface égale à environ quatre fois la surface d'un photodétecteur du capteur d'images 501. Cela permet avantageusement de s'affranchir d'opérations d'alignement du filtre couleur 200 par rapport aux photodétecteurs du capteur d'images 501, chaque groupe élémentaire de plots 205, 209 présentant une surface permettant de recouvrir entièrement au moins un photodétecteur du capteur d'images 501.

[0086] Le substrat 101 du filtre couleur 200 peut par exemple être utilisé comme couche d'encapsulation des photodétecteurs organiques du capteur d'images 501. À titre de variante, une couche d'encapsulation distincte du substrat 101 peut être prévue, par exemple sous la face inférieure 101T du substrat 101.

[0087] Bien que cela n'ait pas été illustré en figure 5, le capteur 500 peut comprendre d'autres éléments, par exemple au moins une source de lumière destinée à éclairer un doigt 503 à analyser et/ou au moins un filtre angulaire adapté à diriger la lumière émise par la ou les sources vers le doigt 503.

[0088] Divers modes de réalisation et variantes ont été décrits. La personne du métier comprendra que certaines caractéristiques de ces divers modes de réalisation et variantes pourraient être combinées, et d'autres variantes apparaîtront à la personne du métier. En particulier, la personne du métier est capable d'intervertir l'ordre de dépôt des couches 103 et 113, dans le procédé de fabrication du filtre coloré 100, des couches 103, 113 et 207, dans le procédé de fabrication du filtre coloré 200 et des couches 103, 113, 207 et 303, dans le procédé de fabrication du filtre coloré 300, en fonction des caractéristiques optiques souhaitées pour l'application visée.

[0089] En outre, les modes de réalisation décrits ne se limitent pas aux exemples de gammes de longueurs d'ondes indiquées, en transmission, pour les couches 103, 113, 207 et 303. En particulier, on pourra remplacer les couches 103, 113 et 207 transmettant de la lumière dans des gammes de longueurs d'ondes correspondant respectivement au vert, au bleu et au rouge par des couches transmettant un rayonnement dans d'autres gammes de longueurs d'ondes, visibles ou non, correspondant par exemple au cyan, au jaune et au magenta.

[0090] La personne du métier est en outre capable d'adapter les modes de réalisation de la présente description à un nombre de plots transmettant un rayonnement dans des gammes de longueurs d'ondes différentes supérieur à ceux décrits, par exemple supérieur à quatre.

[0091] Enfin, la mise en œuvre pratique des modes de réalisation et variantes décrits est à la portée de la personne du métier à partir des indications fonctionnelles données ci-dessus. En particulier, les modes de réalisation décrits ne se limitent pas aux exemples de matériaux et/ou de dimensions mentionnés dans la présente description.