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Title:
METHOD FOR POLISHING A WORKPIECE IN THE PRODUCTION OF AN OPTICAL ELEMENT
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2019/162051
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention relates to a method for polishing a workpiece in the production of an optical element, in particular for microlithography, wherein: relative motion between a polishing tool (300) and a workpiece surface (110, 120, 210) to be processed occurs; - a polishing tool surface (215, 315) of the polishing tool (300) is formed by a viscoelastic polishing medium (303); said polishing tool surface (215, 315) has an average diameter that is less than 50% of the average diameter of the workpiece surface (110, 120, 210) to be processed; the polishing tool surface (215, 315) is guided beyond at least one edge (110a, 110b, 120a, 120b, 210a, 210b) delimiting the workpiece surface (110, 120, 210) to be processed by an overrun distance during the polishing; and the average diameter of the polishing tool surface (215, 315) is at least twice the overrun distance.

Inventors:
WOLPERT, Andreas (Ermenrichstraße 9, Ellwangen, 73479, DE)
STICKEL, Franz-Josef (Nachtigallweg 21, Aalen-Unterrombach, 73434, DE)
Application Number:
EP2019/052178
Publication Date:
August 29, 2019
Filing Date:
January 30, 2019
Export Citation:
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Assignee:
CARL ZEISS SMT GMBH (Rudolf-Eber-Strasse 2, Oberkochen, 73447, DE)
WOLPERT, Andreas (Ermenrichstraße 9, Ellwangen, 73479, DE)
STICKEL, Franz-Josef (Nachtigallweg 21, Aalen-Unterrombach, 73434, DE)
International Classes:
B24B13/00; B24B9/14; B24B29/00
Domestic Patent References:
WO2017093020A12017-06-08
WO2007014732A22007-02-08
Foreign References:
DE102011084118A12013-04-11
DE102016217737A12016-11-10
DE102016006741A12017-12-07
DE102007050470A12008-09-04
DE102017202649A12017-04-13
DE102014114172A12016-03-31
DE102018202570A2018-02-20
DE102015208820A12016-11-17
DE102011084118A12013-04-11
DE102016217737A12016-11-10
Attorney, Agent or Firm:
FRANK, Hartmut (BONSMANN · BONSMANN · FRANK Patentanwälte, Reichspräsidentenstraße 21-25, Mülheim a.d. Ruhr, 45470, DE)
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Claims:
Patentansprüche

1. Verfahren zum Polieren eines Werkstücks bei der Herstellung eines opti- schen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie,

• wobei eine Relativbewegung zwischen einem Polierwerkzeug (300) und einer zu bearbeitenden Werkstückoberfläche (110, 120, 210) er- folgt,

• wobei eine Polierwerkzeugoberfläche (215, 315) des Polierwerkzeugs (300) durch ein viskoelastisches Poliermedium (303) gebildet wird;

• wobei diese Polierwerkzeugoberfläche (215, 315) einen mittleren Durchmesser aufweist, welcher weniger als 50% des mittleren Durch- messers der zu bearbeitenden Werkstückoberfläche (110, 120, 210) beträgt;

• wobei die Polierwerkzeugoberfläche (215, 315) beim Polieren über wenigstens einen die zu bearbeitende Werkstückoberfläche (110, 120, 210) begrenzenden Rand (110a, 110b, 120a, 120b, 210a, 210b) um eine Überlaufstrecke hinausgeführt wird; und

• wobei der mittlere Durchmesser der Polierwerkzeugoberfläche (215, 315) wenigstens das Zweifache der Überlaufstrecke beträgt.

2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass der mittlere Durchmesser der Polierwerkzeugoberfläche (215, 315) wenigstens das Dreifache der Überlaufstrecke, insbesondere wenigstens das Vierfache der Überlaufstrecke, beträgt.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Werkstück wenigstens einen zur Ermöglichung des Lichtdurchtritts durch das optische Element vorgesehenen Durchbruch (111 , 211 ) aufweist.

4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass der mittlere Durchmesser der Polierwerkzeugoberfläche (110, 120, 210) wenigstens das Zweifache des mittleren Durchmessers dieses Durchbruchs (111 , 121 , 211 ) beträgt.

5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass der wenigstens eine die zu bearbeitende Werkstückober- fläche (110, 120, 210) begrenzende Rand (110a, 120a, 210a) ein radial innerer Rand des Werkstücks ist.

6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass der wenigstens eine die zu bearbeitende Werkstückober- fläche (110, 120, 210) begrenzende Rand (110b, 120b, 210b) ein radial äußerer Rand des Werkstücks ist.

7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass das viskoelastische Poliermedium (303) Pech aufweist.

8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass das optische Element ein Spiegel ist.

9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Spiegel ein asphärischer Spiegel ist.

10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass das optische Element für eine Arbeitswellenlänge von weniger als 30nm, insbesondere von weniger als 15nm, ausgelegt ist.

11. Verwendung eines Polierwerkzeugs (300) zur zonalen Politur bei der Her- stellung eines asphärischen Spiegels, insbesondere in einem Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Polierwerkzeug ein viskoelastisches Poliermedium (303) aufweist, wobei dieses viskoelastische Poliermedium (303) Pech aufweist.

12. Optisches Element, insbesondere für die Mikrolithographie, dadurch ge- kennzeichnet, dass dieses unter Anwendung eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 10 hergestellt ist. 13. Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungs- anlage, dadurch gekennzeichnet, dass das optische System ein optisches Element nach Anspruch 12 aufweist.

14. Optisches System nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass ein Abstand zwischen dem die Werkstückoberfläche (110, 120, 210) begren- zenden Rand (110a, 110b, 120a, 120b, 210a, 210b) und dem optischen Nutzbereich der Werkstückoberfläche weniger als 3mm, insbesondere weniger als 1 mm, beträgt. 15. Optisches System nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, dass dieses ein Maskeninspektionssystem oder ein Waferinspektions- system ist.

16. Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit einer Beleuchtungs- einrichtung und einem Projektionsobjektiv, dadurch gekennzeichnet, dass die Projektionsbelichtungsanlage ein optisches Element nach Anspruch 12 aufweist.

Description:
Verfahren zum Polieren eines Werkstücks bei der Herstellung eines optischen Elements

Die vorliegende Anmeldung beansprucht die Priorität der Deutschen Patent- anmeldung DE 10 2018 202 570.3, angemeldet am 20. Februar 2018. Der Inhalt dieser DE-Anmeldung wird durch Bezugnahme („incorporation by reference“) mit in den vorliegenden Anmeldungstext aufgenommen.

HINTERGRUND DER ERFINDUNG

Gebiet der Erfindung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Polieren eines Werkstücks bei der Herstellung eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie.

Stand der Technik

Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise oder LCD’s, angewendet. Der Mikro- lithographieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv aufweist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) wird hierbei mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z.B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. Weitere, in der Mikrolithographie eingesetzte optische Systeme umfassen auch Inspektionssysteme z.B. in Form eines Maskeninspektionssystems zur Inspek- tion von Retikeln bzw. Masken zur Verwendung in einer Projektionsbelich- tungsanlage oder eines Waferinspektionssystems zur Beobachtung und Prüfung von Waferoberflächen.

In für den EUV-Bereich ausgelegten optischen Systemen, d.h. bei Wellen- längen von z.B. etwa 13 nm oder etwa 7 nm, werden mangels Verfügbarkeit geeigneter lichtdurchlässiger refraktiver Materialien Spiegel als optische Kom- ponenten für den Abbildungsprozess verwendet.

Im Hinblick auf die aufgrund der begrenzten Reflektivitäten der einzelnen Spiegelflächen in solchen Systemen auftretenden Transmissionsverluste ist grundsätzlich eine Minimierung der Anzahl der im jeweiligen optischen System eingesetzten Spiegel wünschenswert. Des Weiteren geht die Erhöhung des Auflösungsvermögens u.a. durch Steigerung der numerischen Apertur mit einer fortwährenden Vergrößerung der Spiegelflächen einher. Dies führt in der Praxis zu anspruchsvollen Herausforderungen u.a. hinsichtlich der Anordnung der Spiegel im jeweils zur Verfügung stehenden Bauraum des optischen Systems.

Um die Spiegel in der jeweils gewünschten Endspezifikation herzustellen, ist die Durchführung einer Mehrzahl von Bearbeitungsprozessen, insbesondere von Polierprozessen, erforderlich. Dabei muss in der Regel das Polierwerkzeug aus fertigungstechnischen Gründen zeitweise über einen die zu bearbeitete Werkstückoberfläche begrenzenden Rand hinaus geführt werden. Dies führt in der Praxis zu anspruchsvollen Herausforderungen in Szenarien, bei denen (in sogenannten„randscharfen Designs“) der jeweilige optische Nutzbereich bis auf Abstände von wenigen Millimetern oder sogar unterhalb eines Millimeters an den Rand des jeweiligen optischen Elements geführt werden muss. Zwar beinhaltet ein denkbarer Ansatz das temporäre Anfügen von Überlaufab- schnitten zu dem Zweck, dass das jeweilige Polierwerkzeug beim Polieren über den die optische Fläche begrenzenden Rand hinausfahren kann. Die Verwendung solcher Überlaufabschnitte bzw. Ansatzstücke führt jedoch zu dem Problem, dass ein hierbei zwischen Überlaufabschnitt bzw. Ansatzstück einerseits und optischer Fläche andererseits vorhandener Spalt letztlich nach durchgeführter Politur Passefehler (d.h. Abweichungen von einer vorgegebe- nen Sollform der optischen Wirkfläche des betreffenden optischen Elements) zur Folge hat. Die räumliche Erstreckung dieser Passefehler über typischer- weise größenordnungsmäßig (5-10) mm ist jedoch in den vorstehend genann- ten, randscharfe Designs erfordernden Szenarien nicht mehr tolerierbar mit der Folge, dass die Generierung der besagten Spalte ausscheidet.

Das vorstehend beschriebene Problem erweist sich insbesondere in optischen Systemen (u.a. den eingangs genannten Maskeninspektionssystemen) als gravierend, welche zur Realisierung einer besonders kompakten Bauweise sogenannte Schwarzschild-Designs beinhalten, wobei u.a. obskurierte Spiegel mit wenigstens einem den Lichtdurchtritt ermöglichenden Durchbruch und ver- gleichsweise geringen Spiegeldurchmessern zum Einsatz kommen.

Zum Stand der Technik wird lediglich beispielhaft auf DE 10 2015 208 820 A1 und DE 10 2011 084 118 A1 verwiesen.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Vor dem obigen Flintergrund ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Polieren eines Werkstücks bei der Herstellung eines opti- schen Elements bereitzustellen, welches auch in Szenarien, in denen der opti- sche Nutzbereich sehr nahe an den Rand der Werkstückfläche geführt werden muss, die Minimierung von Passefehlern unter Vermeidung der vorstehend be- schriebenen Probleme ermöglicht. Diese Aufgabe wird durch das Verfahren gemäß den Merkmalen des unab- hängigen Patentanspruchs 1 gelöst.

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Polieren eines Werkstücks bei der Herstellung eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie,

- wobei eine Relativbewegung zwischen einem Polierwerkzeug und einer zu bearbeitenden Werkstückoberfläche erfolgt,

- wobei eine Polierwerkzeugoberfläche des Polierwerkzeugs durch ein viskoelastisches Poliermedium gebildet wird;

- wobei diese Polierwerkzeugoberfläche einen mittleren Durchmesser auf- weist, welcher weniger als 50% des mittleren Durchmessers der zu bear- beitenden Werkstückoberfläche beträgt;

- wobei die Polierwerkzeugoberfläche beim Polieren über wenigstens einen die zu bearbeitende Werkstückoberfläche begrenzenden Rand um eine Überlaufstrecke hinausgeführt wird; und

- wobei der mittlere Durchmesser der Polierwerkzeugoberfläche wenigstens das Zweifache der Überlaufstrecke beträgt.

Im Sinne der vorliegenden Anmeldung ist dabei unter der„Überlaufstrecke“ der maximale Überstand des Randes des Polierwerkzeugs beim Poliervorgang über den Werkstückrand hinaus zu verstehen (wobei dieser Werkstückrand am Werkstück nach außen oder nach innen bzw. zu einem zentralen Durchbruch hin vorhanden sein kann).

Der Erfindung liegt insbesondere das Konzept zugrunde, unter Verzicht auf den temporären Einsatz der eingangs beschriebenen Ansatzstücke bzw. Über- laufabschnitte und somit Vermeidung der Einbringung eines Spaltes die Ent- stehung von Passefehlern beim Hinausführen des Polierwerkzeugs über einen die zu bearbeitende Werkstückoberfläche begrenzenden Rand dadurch zu reduzieren bzw. minimieren, dass ein Polierwerkzeug mit ausreichender Steifigkeit und Größe eingesetzt wird. Die im Vergleich zu gebräuchlichen Poliertüchern hohe Steifigkeit bzw. Härte des erfindungsgemäßen viskoelastischen Poliermediums hat hierbei den vor- teilhaften Effekt, dass eine mechanische Reaktion des Polierwerkzeugs auf das Überschreiten des betreffenden Randbereichs der zu bearbeitenden Werkstückoberfläche und hiermit einhergehende Polierfehler, wie sie etwa beim temporären und sich erst nach endlicher Zeitspanne zurückbildenden Verformen eines Poliertuchs an einem Randbereich der Werkstückoberfläche auftreten, vermieden bzw. minimiert werden.

Die relativ zu der jeweiligen Überlaufstrecke ausreichend große Ausgestaltung der Polierwerkzeugoberfläche hat zur Folge, dass der mit dem Hinausführen der Polierwerkzeugoberfläche über den die zu bearbeitende Werkstückober- fläche begrenzenden Rand verbundene Effekt einer Flächendruckvariation, welcher wiederum mit einer Variation des bei dem Polieren erzeugten Materi- alabtrags einhergeht, vergleichsweise klein gehalten wird, so dass ein Entste- hen von Polier- bzw. Passefehlern auch insoweit minimiert wird.

Durch das Merkmal, wonach der mittlere Durchmesser der Polierwerk- zeugoberfläche (d.h. der beim Polieren grundsätzlich wirksamen Oberfläche des Polierwerkzeugs) weniger als 50% des mittleren Durchmessers der zu be- arbeitenden Werkstückoberfläche beträgt, soll zum Ausdruck gebracht werden, dass erfindungsgemäß eine sogenannte „zonale Politur“ (im Gegensatz zu einer vollflächigen Politur) erfolgt. Hierbei kann es sich - ohne das Erfindung hierauf beschränkt wäre - insbesondere um eine (Nach-) Politur des Umgebungsbereichs eines Durchbruchs handeln, welcher im Werkstück zur Ermöglichung des Lichtdurchtritts durch das optische Element vorgesehen bzw. zuvor durch materialabtragende Bearbeitung erzeugt worden ist. In weite- ren Anwendungen kann die besagte zonale Politur alternativ oder zusätzlich auch im radial äußeren Randbereich des Werkstücks erfolgen.

Gemäß einer Ausführungsform beträgt der mittlere Durchmesser der Polier- werkzeugoberfläche wenigstens das Dreifache der Überlaufstrecke, insbesondere wenigstens das Vierfache der Überlaufstrecke. In der vorstehend erwähnten Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens auf ein mit einem (typischerweise für einen obskurierten Spiegel vorgesehe- nen) Durchbruch versehenes Werkstück weist die Polieroberfläche vorzugs- weise einen mittleren Durchmesser auf, welcher wenigstens das Zweifache des mittleren Durchmessers des Durchbruchs beträgt. Die insofern vergleichs- weise große Ausgestaltung der Polierwerkzeugoberfläche führt dabei zu dem schon vorstehend beschriebenen Effekt, dass beim Überfahren des Durch- bruchs die mit der Verringerung der Kontaktfläche zwischen zu bearbeitender Werkstückoberfläche und Polierwerkzeugoberfläche einhergehende Zunahme des Flächendrucks relativ zur Gesamtgröße der Polierwerkzeugoberfläche gering ist und damit einhergehende Variationen des Materialabtrags sowie resultierende langwellige Polier- bzw. Passefehler klein gehalten werden können. Verbleibende Polier- bzw. Passefehler sind durch nachfolgende Bear- beitungen leicht korrigierbar.

Als viskoelastisches Poliermedium kommt vorzugsweise Pech zum Einsatz. Dabei sollen von dem Oberbegriff „Pech“ sowohl natürliche (insbesondere durch thermische Zersetzung organischer Produkte und bei der Herstellung von Teer entstehende) Peche als auch synthetische Peche sowie vergleich- bare bituminöse Materialien umfasst sein. Der Einsatz solcher Pechmedien hat hierbei u.a. den Vorteil, dass zusätzlich zu einer nach Erwärmung gegebenen guten Formbarkeit im Polierwerkzeug selbst auch beim Einsatz des Polier- werkzeugs im jeweiligen Betriebstemperaturbereich noch eine gewisse Restanpassungsfähigkeit gegeben ist und eine kurzreichweitige (über Distanzen von weniger als 10 mm bis 20 mm bestehende) Härte mit einer lang- reichweitigen (über Distanzen von mehr als 20 mm bestehenden) Anpassungs- fähigkeit kombiniert wird.

In Ausführungsformen der Erfindung ist das optische Element ein Spiegel, ins- besondere ein asphärischer Spiegel. In solchen, in der Regel eine zonale Poli- tur unter Verwendung von Subaperturwerkzeugen erfordernden Anwendungen kommt die erfindungsgemäße Vermeidung von Passefehlern besonders vor- teilhaft zur Geltung. Die Erfindung betrifft weiter die Verwendung eines Polierwerkzeugs zur zona- len Politur bei der Herstellung eines asphärischen Spiegels, insbesondere in einem Verfahren mit den vorstehend beschriebenen Merkmalen, wobei das Polierwerkzeug ein viskoelastisches Poliermedium aufweist, wobei dieses viskoelastische Poliermedium Pech aufweist.

Die Erfindung betrifft weiter ein optisches Element, insbesondere für die Mikro- lithographie, welches unter Anwendung eines Verfahrens mit den vorstehend beschriebenen Merkmalen hergestellt ist, ein optisches System einer mikro- lithographischen Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere eine Beleuch- tungseinrichtung oder ein Projektionsobjektiv, sowie eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage.

Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Unteransprüchen zu entnehmen.

Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Es zeigen:

Figur 1 eine schematische Darstellung eines beispielhaften, unter Anwen- dung des erfindungsgemäßen Verfahrens gefertigten Spiegels;

Figur 2-3 schematische Darstellungen zur Erläuterung eines erfindungsge- mäßen Polierprozesses bzw. des möglichen Aufbaus eines hierbei verwendeten Polierwerkzeugs; Figur 4 ein Diagramm zur Veranschaulichung einer mit dem erfindungsge- mäßen Verfahren erzielbaren Reduzierung von Passeschäden; und

Figur 5 eine schematische Darstellung zur Erläuterung des möglichen Auf- baus einer für den Betrieb im EUV ausgelegten mikrolithographi- schen Projektionsbelichtungsanlage.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG BEVORZUGTER AUSFÜHRUNGSFORMEN

Bei der Herstellung eines optischen Elements in Form eines Spiegels oder einer Linse wird typischerweise eine Schicht oder ein Schichtsystem (welches etwa im Falle eines Spiegels z.B. ein Reflexionsschichtsystem aus Molybdän- und Siliziumschichten aufweisen kann) auf ein Substrat aufgebracht. Zur Her- stellung des optischen Elements ist die Durchführung einer Mehrzahl von Be- arbeitungsprozessen, insbesondere von Polierprozessen, erforderlich. Nicht nur das Substrat, sondern auch die Schicht selbst kann so bearbeitet werden. Das Substrat kann z.B. aus Silizium (Si) oder Titandioxid (Ti0 2 )-dotiertem Quarzglas hergestellt sein, wobei beispielhaft die unter den Markenbezeich- nungen ULE ® (der Firma Corning Inc.) oder Zerodur ® (der Firma Schott AG) vertriebenen Materialien verwendbar sind. In weiteren Ausführungsformen kann das Substrat auch aus Aluminium (AI), Siliziumkarbid (SiC) oder einem anderen keramischen Material hergestellt sein.

Fig. 1 zeigt in lediglich schematischer Darstellung einen unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens gefertigten Spiegel 100. Bei dem Spiegel 100 handelt es sich - ohne dass die Erfindung auf solche Anwendungen beschränkt wäre - um einen Doppelspiegel mit einer ersten (im Ausführungs- beispiel konkaven) optisch wirksamen Fläche bzw. Werkstückoberfläche 110 und einer zweiten (im Ausführungsbeispiel konvexen) optisch wirksamen Flä- che bzw. Werkstückoberfläche 120. Des Weiteren weist der Spiegel 100 - ebenfalls ohne dass die Erfindung hierauf beschränkt wäre - einen zur Ermög- lichung des Lichtdurchtritts vorhandenen Durchbruch 111 auf. Mit„110a“ bzw. „110b“ sind die jeweiligen Ränder bezeichnet, welche die erste Werkstückobe r- fläche 110 radial nach innen bzw. radial nach außen begrenzen.

Der Herstellungsprozess des Spiegels 100 verläuft vorzugsweise derart, dass der Durchbruch 111 zunächst noch nicht durch die gesamte Dicke des Spiegels 100 erzeugt wird, sondern dass zunächst durch Belassen einer in Fig. 1 angedeuteten Membran 122 Passeschäden infolge des erforderlichen Mate- rialabtrags auf Seiten der zweiten Werkstückoberfläche 120 soweit wie möglich vermieden werden. Das Entfernen der Membran 122 unter Erzeugung des vollständigen Durchbruchs erfolgt vorzugsweise erst gegen Ende des Ferti- gungsprozesses bzw. nachdem auf Seiten der ersten Werkstückoberfläche 110 der erforderliche Materialabtrag einschließlich notwendiger Polier- bzw. Nachbearbeitungen abgeschlossen ist.

Die Verwendung des vorstehend anhand von Fig. 1 beschriebenen Doppel- spiegels hat z.B. in den eingangs erwähnten Schwarzschild-Designs den Vor- teil, dass der mit einer (alternativ ebenfalls denkbaren) Ausgestaltung mit zwei separaten Einzelspiegeln verbundene erhebliche Justageaufwand vermieden werden kann.

Die Erfindung ist jedoch auch bei der Herstellung von Spiegeln mit nur einer einzigen optischen Wirkfläche vorteilhaft realisierbar. Des Weiteren ist die Er- findung sowohl bei Spiegeln mit wenigstens einem den Lichtdurchtritt ermög- lichenden Durchbruch als auch bei Spiegeln ohne Durchbruch vorteilhaft real i- sierbar. Im zuletzt genannten Fall kommt die erfindungsgemäße Begrenzung des durch den Polierprozess verursachten Passeschadens bei der zonalen Politur des radial äußeren Randbereichs vorteilhaft zur Geltung mit der Folge, dass der optische Nutzbereich bis auf geringe Abstände von weniger als 1 mm an den äußeren Rand herangeführt werden kann und entsprechend rand- scharfe Designs bzw. kompakte optische Systeme realisiert werden können.

Im Weiteren wird der erfindungsgemäße Polierprozess bzw. ein hierbei ver- wendetes Polierwerkzeug unter Bezugnahme auf die schematischen Abbildun- gen in Fig. 2 und Fig. 3 erläutert.

Gemäß Fig. 3 weist ein bei dem erfindungsgemäßen Verfahren eingesetztes Polierwerkzeug 300 ein viskoelastisches Poliermedium 303 auf, welches Pech aufweist und auf einem einen flexiblen Unterbau bildenden Grundkörper 302 aus elastisch verformbarem Material (beispielsweise einem Schaumstoff auf Polymerbasis) aufgebracht ist. Mit„301“ ist eine schalenartige Trägerstruktur bezeichnet.

Fig. 2 dient als lediglich schematische Darstellung zur Erläuterung geeigneter Größenverhältnisse der in dem erfindungsgemäßen Verfahren relevanten Komponenten. Dabei ist in Fig. 2 die zu bearbeitende Werkstückoberfläche mit „210“ bezeichnet, und ein im Werkstück zur Ermöglichung des Lichtdurchtritts durch das zu fertigende optische Element vorgesehener Durchbruch ist mit „211“ bezeichnet.„210a“ bezeichnet den die Werkstückoberfläche 210 radial nach innen (d.h. zum Durchbruch 211 hin) begrenzenden Rand, und„210b“ bezeichnet den die zu bearbeitende Werkstückoberfläche 210 radial nach außen begrenzenden Rand. Die Polierwerkzeugoberfläche (d.h. die grundsätz- lich zum Polieren nutzbare Oberfläche des Polierwerkzeugs) ist in Fig. 2 mit „215“ und in Fig. 3 mit„315“ bezeichnet.

Wie in Fig. 2 angedeutet ist diese Polierwerkzeugoberfläche 215 zum einen zur Ermöglichung einer zonalen Politur wesentlich kleiner als die zu bearbeitende Werkstückoberfläche 210, wobei der mittlere Durchmesser der Polier- werkzeugoberfläche 215 weniger als 50% des mittleren Durchmessers der zu bearbeitenden Werkstückoberfläche 210 beträgt.

Des Weiteren ist die Polierwerkzeugoberfläche 215 jedoch wie eingangs erläu- tert zur Minimierung von Flächendruckvariationen und damit einhergehenden Variationen des Materialabtrags sowie hieraus letztlich resultierenden Polier- oder Passefehlern hinreichend groß, wobei der mittlere Durchmesser der Polierwerkzeugoberfläche wenigstens das Zweifache der Überlaufstrecke be- trägt, um welche die Polierwerkzeugoberfläche 215 über den betreffenden, die zu bearbeitende Werkstückoberfläche 210 begrenzenden Rand hinaus geführt wird. Insbesondere kann der mittlere Durchmesser der Polierwerkzeugoberflä- che 215 wenigstens das Zweifache des mittleren Durchmessers des Durch- bruchs 211 betragen.

Fig. 4 zeigt ein Diagramm zur Veranschaulichung der mit dem erfindungs- gemäßen Verfahren erzielbaren Reduzierung von Passeschäden bei der Politur. Dabei entspricht in Fig. 4 die Kurve„A“ dem Einsatz eines zonalen Polierwerkzeugs mit einem Polierabtrag von 300 nm, während Kurve„B“ dem Einsatz eines erfindungsgemäßen Polierwerkzeugs mit einem Abtrag von 500 nm entspricht. Auf der horizontalen Achse entspricht der Wert Null der Position des an einen Durchbruch im Werkstück bzw. Spiegel angrenzenden Randes. Wie aus Fig. 4 ersichtlich ermöglicht das erfindungsgemäße Verfahren insbe- sondere in besagtem Randbereich eine signifikante Reduzierung von Passe- schäden infolge des Polierprozesses.

Fig. 5 zeigt eine schematische Darstellung einer beispielhaften für den Betrieb im EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage.

Gemäß Fig. 5 weist eine Beleuchtungseinrichtung in einer für EUV ausgeleg- ten Projektionsbelichtungsanlage 500 einen Feldfacettenspiegel 503 und einen Pupillenfacettenspiegel 504 auf. Auf den Feldfacettenspiegel 503 wird das Licht einer Lichtquelleneinheit, welche eine Plasmalichtquelle 501 und einen Kollektorspiegel 502 umfasst, gelenkt. Im Lichtweg nach dem Pupillenfacetten- spiegel 504 sind ein erster Teleskopspiegel 505 und ein zweiter Teleskopspie- gel 506 angeordnet. Im Lichtweg nachfolgend ist ein Umlenkspiegel 507 ange- ordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf ein Objektfeld in der Objektebe- ne eines sechs Spiegel 551-556 umfassenden Projektionsobjektivs lenkt. Am Ort des Objektfeldes ist eine reflektive strukturtragende Maske 521 auf einem Maskentisch 520 angeordnet, die mit Hilfe des Projektionsobjektivs in eine Bildebene abgebildet wird, in welcher sich ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes Substrat 561 auf einem Wafertisch 560 be- findet. Die Erfindung ist bei der Herstellung eines beliebigen optischen Elements der Projektionsbelichtungsanlage einsetzbar. Insbesondere ist die Erfindung vorteilhaft einsetzbar, wenn wenigstens eines der optischen Elemen- te bzw. Spiegel z.B. im Projektionsobjektiv zur Ermöglichung des Lichtdurch- tritts einen Durchbruch bzw. ein Loch aufweist.

Des Weiteren ist die Erfindung auch bei der Realisierung weiterer (insbesonde- re besonders kompakter) optischer Systeme wie z.B. Maskeninspektions- systeme oder Waferinspektionssysteme vorteilhaft realisierbar. Hinsichtlich konkreter Designbeispiele, in denen wenigstens ein Spiegel zur Ermöglichung des Lichtdurchtritts einen Durchbruch bzw. ein Loch aufweist, wird lediglich beispielhaft auf DE 10 2016 217 737 A1 verwiesen.

Die Erfindung ist nicht auf die Realisierung bei der Herstellung optischer Ele- mente für den Betrieb im EUV beschränkt, sondern auch bei der Herstellung optischer Elemente für andere Arbeitswellenlängen (z.B. im VUV-Bereich bzw. bei Wellenlängen kleiner als 250nm) realisierbar.

Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alter- native Ausführungsformen, z.B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungs- formen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind, und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äqui- valente beschränkt ist.