以下、本発明の実施形態につき、具体的� ��説明する。

 先ず、本発明において製造する2,4,6-トリス( ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリアジン化合物� ��ついて説明する。
 本発明において、上記一般式(1)におけるR ¹ 、R ² 及びR ³ は、各々独立に水素原子、ヒドロキシル基又 は炭素原子数1~4のアルキル基を表すものであ る。かかるR ¹ 、R ² 及びR ³ における炭素原子数1~4のアルキル基としては 、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ ロピル基、ブチル基、イソブチル基、第二ブ チル基、第三ブチル基等が挙げられ、特にメ チル基が好ましい。

 また、本発明において、上記一般式(1)にお� ��るT ¹ 、T ² 及びT ³ は、各々独立に水素原子、炭素原子数1~4のア ルキル基又は炭素原子数2~4のアルケニル基を 表すものである。T ¹ 、T ² 及びT ³ で表される炭素原子数1~4のアルキル基として は、上記R ¹ 、R ² 及びR ³ における炭素原子数1~4のアルキル基と同じも のが例示される。

 さらに、上記一般式(1)におけるT ¹ 、T ² 及びT ³ で表される炭素原子数2~4のアルケニル基とし ては、ビニル基、プロペニル基及びブテニル 基等が挙げられる。

 本発明において、上記一般式(1)におけるY ¹ 、Y ² 及びY ³ は、各々独立に水素原子又は炭素原子数1~4の アルキル基を表すものである。Y ¹ 、Y ² 及びY ³ で表される炭素原子数1~4のアルキル基として は、上記R ¹ 、R ² 及びR ³ における炭素原子数1~4のアルキル基と同じも のが例示される。

 本発明において、上記一般式(1)で表され� ��2,4,6-トリス(ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリ� ��ジン化合物(以下、「トリアジン化合物」と も称す)としては、より具体的には以下の化� �物No.1~6が挙げられる。ただし、以下の化合� �により本発明はなんら制限を受けるもので� �ない。

化合物No.1

化合物No.2

化合物No.3

 化合物No.4

 化合物No.5

 化合物No.6

 次に、本発明のトリアジン化合物の製造方� ��に使用する出発物質化合物である上記一般� ��(2)および(3)で表される化合物について説明� ��る。
 本発明において、上記一般式(2)におけるX ¹ は、ハロゲン原子を表し、X ² 及びX ³ は、各々独立にハロゲン原子又は上記一般式 (3)で表される化合物のフェニル環の水素原子 と置換した置換基を示すものである。X ¹ 、X ² 及びX ³ で表されるハロゲン原子としては、フッ素、 塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、特に塩素 が反応性及び入手容易性の面で好ましい。

 また、本発明において、上記一般式(3)にお� ��るR ⁴ は、水素原子、ヒドロキシル基又は炭素原子 数1~4のアルキル基を表し、T ⁴ は、水素原子、炭素原子数1~4のアルキル基又 は炭素原子数2~4のアルケニル基を表し、Y ⁴ は、水素原子又は炭素原子数1~4のアルキル基 を表すものである。R ⁴ ,T ⁴ 及びY ⁴ で表される炭素原子数1~4のアルキル基として は、上記R ¹ ~R ³ 、T ¹ ~T ³ 又はY ¹ ~Y ³ における炭素原子数1~4のアルキル基と同じも のが例示される。

 さらに、本発明において、上記一般式(3)に� ��けるT ⁴ で表される炭素原子数2~4のアルケニル基とし ては、上記Y ¹ ~Y ³ における炭素原子数2~4のアルケニル基と同じ ものが例示される。

 本発明において、上記一般式(2)で表され� ��ハロゲン化シアヌル化合物としては、より� ��体的には以下の化合物No.7が挙げられる。

 化合物No.7

 また、本発明において、上記一般式(3)で� ��されるヒドロキシフェニル化合物としては� ��より具体的には以下の化合物No.8~13が挙げら れる。

 化合物No.8

 化合物No.9

 化合物No.10

 化合物No.11

 化合物No.12

 化合物No.13

 本発明において、例えば、ハロゲン化シ� ��ヌル化合物として上記化合物No.7を使用し、 ヒドロキシフェニル化合物として上記化合物 No.8~13のいずれかの化合物を使用し、上記化� �物No.7のハロゲン原子1当量に対してルイス酸 が0.3~0.7当量の存在下で、反応溶媒としてス� �ホランを主成分とする溶媒を用いて、上記� �合物No.7と上記化合物No.8~13のいずれかの化合 物とを反応させることで、上記化合物No.1~6の 2,4,6-トリス(ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリア ジン化合物を製造することができる。

 または、反応溶媒として不活性溶媒と上� ��一般式(4)で表されるシクロアルキルアルキ� ��エーテルとの混合溶媒を用いて、上記化合� ��No.7と上記化合物No.8~13のいずれかの化合物� �を反応させることで、上記化合物No.1~6の2,4,6 -トリス(ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリアジ� �化合物を製造することができる。

 本発明に用いられるスルホランを主成分� ��する反応溶媒としては、スルホランを主成� ��として用いていれば他の溶媒を反応の選択� ��が損なわれない程度であれば併用してもよ� ��。他の溶媒としては、ベンゼン、トルエン� ��キシレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼ� ��、ジクロロベンゼン等の芳香族系溶媒、ヘ� ��サン、ヘプタン等の脂肪族系溶媒、アセト� ��、メチルエチルケトン、メチルイソブチル� ��トン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒� ��酢酸エチル等のエステル系溶媒、クロロホ� ��ム、ジクロロメタン、トリクロロエタン、� ��トラクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ジ� ��キサン、ジエチルエーテル、ジメチルスル� ��キシド、ジメチルホルムアミド、テトラヒ� ��ロフラン、グライム、ジグライム等が挙げ� ��れる。

 本発明に用いられる不活性溶媒としては� ��ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベ� ��ゼン、アニソールなどの芳香族系溶媒、ヘ� ��サン、ヘプタンなどの脂肪族系溶媒、クロ� ��ホルム、ジクロロメタン、トリクロロエタ� ��、テトラクロロエタンなどの脂肪族ハロゲ� ��系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ� ��、トリクロロベンゼン、ブロモベンゼン、� ��ブロモベンゼン、トリブロモベンゼン等の� ��香族ハロゲン系溶媒、ジオキサン、ジエチ� ��エーテル、ジメチルスルホキシド、ジメチ� ��ホルムアミド、テトラヒドロフラン、グラ� ��ム、ジグライム、スルホランなどが挙げら� ��、中でもクロロベンゼン、ジクロロベンゼ� ��、トリクロロベンゼン、ブロモベンゼン、� ��ブロモベンゼン及びトリブロモベンゼン等� ��芳香族ハロゲン系溶媒よりなる群から選ば� ��る少なくとも一種以上の溶媒であることが� ��ましく、クロロベンゼンが特に好ましい。

 本発明に用いられる上記一般式(4)で表され� ��シクロアルキルアルキルエーテルにおいて� ��Z ¹ は置換基を有してもよいシクロペンチル基又 はシクロヘキシル基を表し、置換基としては 、炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4 のアルコキシ基、炭素原子数1~4のアルキルチ オ基及びハロゲン原子等が挙げられ、中でも 炭素原子数1~4のアルキル基が好ましく、メチ ル基又はエチル基がより好ましい。

 上記Z ¹ の置換基を有してもよいシクロペンチル基又 はシクロヘキシル基は、具体的には、シクロ ペンチル基又はシクロヘキシル基、2-メチル- シクロペンチル基、3-第二ブチル-シクロペン チル基、3-エチル-シクロヘキシル基及び2-第� ��ブチル-シクロヘキシル基等のアルキルシク ロペンチル基又はアルキルシクロヘキシル基 、3-メトキシ-シクロペンチル基、2-第二ブト� ��シ-シクロペンチル基、3-エトキシ-シクロヘ キシル基及び3-第三ブトキシ-シクロヘキシル 基等のアルコキシシクロペンチル基又はアル コキシシクロヘキシル基、3-メチルチオ-シク ロペンチル基、2-第二ブチルチオ-シクロペン チル基、3-エチルチオ-シクロヘキシル基及び 3-第三ブチルチオ-シクロヘキシル基等のアル キルチオシクロペンチル基又はアルキルチオ シクロヘキシル基、2-クロロ-シクロペンチル 基、3-クロロ-シクロペンチル基、2-ブロモ-シ クロヘキシル基及び3-ブロモ-シクロヘキシル 基等のハロゲン化シクロペンチル基又はハロ ゲン化シクロヘキシル基等が挙げられ、中で も、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、 2-メチル-シクロペンチル基、3-エチル-シクロ ヘキシル基が好ましく、特にシクロペンチル 基が好ましい。

 本発明に用いられる一般式(4)で表されるシ� ��ロアルキルアルキルエーテルにおいて、Z ² は置換基を有していてもよい炭素原子数1~10� �アルキル基又は炭素原子数3~8のシクロアル� �ル基を表し、置換基としては、炭素原子数1~ 4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ� �、炭素原子数1~4のアルキルチオ基及びハロ� �ン原子等が挙げられ、これらの中でも、炭� �原子数1~4のアルキル基が好ましく、メチル� �又はエチル基がより好ましい。

 上記Z ² の置換基を有してもよい炭素原子数1~10のア� �キル基又は炭素原子数3~8のシクロアルキル� �は、具体的には、メチル基、エチル基、n-プ ロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、第� ��ブチル基、第三ブチル基、n-ペンチル基、� �オペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基� ��n-オクチル基、n-ノニル基及びn-デシル基等� ��炭素原子数1~10のアルキル基、シクロプロピ ル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、 シクロヘキシル基、シクロヘプチル基及びシ クロオクチル基等の炭素原子数3~8のシクロア ルキル基、メトキシメチル基、1-メトキシエ� ��ル基、2-エトキシ-第三ブチル基及び2-エト� �シ-n-ヘキシル基等のアルコキシアルキル基� �2-メトキシ-シクロプロピル基、3-エトキシ-� �クロヘキシル基等のアルコキシシクロアル� �ル基、メチルチオメチル基、1-メチルチオエ チル基、2-メチルチオ-第三ブチル基及び4-メ� ��ルチオ-n-ヘキシル基等のアルキルチオアル� ��ル基、2-メチルチオ-シクロプロピル基及び3 -エチルチオ-シクロヘキシル基等のアルキル� ��オシクロアルキル基、クロロメチル基、ブ� ��モメチル基、1-クロロエチル基、2-ブロモ-� �三ブチル基及び2-クロロ-n-ヘキシル基等のハ ロゲン化アルキル基、2-クロロ-シクロプロピ ル基及び3-ブロモ-シクロヘキシル基等のハロ ゲン化シクロアルキル基等が挙げられる。

 また、本発明に用いられる不活性溶媒と� ��クロアルキルアルキルエーテルの質量比率� ��、50:50~99:1(前者:後者)であることが好ましく 、より好ましくは80:20~99:1、特に好ましくは90 :10~99:1である。シクロアルキルアルキルエー� ��ルの質量比率が1wt%より低いと本発明の効果 がなく、急激な発熱反応を起こし反応制御不 能となり、かつ、粘稠物が生成し攪拌が困難 となるおそれがあり、一方、50wt%を超えると� ��生成物の生成が増加し、収率が低下するお� ��れがあるため好ましくない。

 本発明に用いられる、スルホランを主成� ��とする反応溶媒は、理論収量の200質量部以� ��用いることが好ましく、より好ましくは200~ 500質量部、経済性の点から特に好ましくは200 質量部である。200質量部未満では三塩化アル ミニウム等のルイス酸の溶解が十分に行われ ずに反応時間が長くなったり、反応液が高粘 稠化し、流動性を失って攪拌器を破損したり 、処理液への投入ができない等の問題が生じ るおそれがあるため好ましくない。

 本発明に用いられる不活性溶媒とシクロ� ��ルキルアルキルエーテル溶媒の合計使用量� ��、理論収量100質量部に対して100~2000質量部� �いることが好ましく、より好ましくは300~1500 質量部、特に好ましくは500~1000質量部である� ��100質量部未満では原料が十分に溶解できず� ��均一反応になって反応時間が長くなったり� ��均一に溶解するために反応温度が高くなっ� ��副生成物が大量に生成するなどの問題が生� ��るおそれがあるため好ましくない。一方、2 000質量部より多く使用しても所期の性能のさ らなる向上効果は発現しにくく、コストが大 きくなるため好ましくない。

 また、スルホランを主成分とする溶媒を� ��いる場合、本発明の製造方法における一般� ��(3)で表されるヒドロキシフェニル化合物の� ��加方法は、一般式(2)のハロゲン化シアヌル� ��合物との一括仕込みによる反応では反応速� ��(及び温度)の制御が困難となる傾向がある� �め、上記ヒドロキシフェニル化合物を予め� �応溶媒と同様の溶媒に溶解させた後、この� �ドロキシフェニル化合物溶液を反応液中へ� �下する方法が好ましい。溶媒使用量に特に� �限はないが、理論収量の150質量部以上用い� �ことが好ましく、より好ましくは150~300質量� ��、経済性の点から特に好ましくは150質量部� ��ある。150質量部未満ではヒドロキシフェニ� ��系原料の溶解が困難になったり、反応液が� ��粘稠化し、流動性を失って攪拌器を破損し� ��り、処理液への投入ができない等の問題が� ��じるおそれがあるため好ましくない。

 スルホランを主成分とする溶媒を用いる� ��合、反応温度は、60~100℃が好ましく、70~80� �がより好ましい。60℃より低温では初期反応 が遅いため反応中期の急激な発熱反応により 生成物が固化し製造を困難にする傾向があり 、100℃より高温では着色したり選択性が低下 して副生物が増えたりするおそれがあるため 好ましくない。

 不活性溶媒と上記一般式(4)で表されるシ� ��ロアルキルアルキルエーテルとの混合溶媒� ��用いる場合、反応温度は、20~120℃が好まし� ��、40~80℃がより好ましい。20℃より低温では 初期反応が遅いため反応中期の急激な発熱反 応により生成物が固化し製造を困難にする傾 向があり、120℃より高温では着色したり選択 性が低下して副生物が増えたりするおそれが あるため好ましくない。

 反応時の圧力は、反応溶媒が揮散しない� ��圧又は加圧が好ましい。簡易な装置で実施� ��きるので常圧が特に好ましい。

 本発明には反応触媒として、ルイス酸触媒� ��用いるのが好ましい。ルイス酸の例として� ��、ハロゲン化アルミニウム、ハロゲン化ホ� ��素、ハロゲン化錫、ハロゲン化亜鉛、ハロ� ��ン化鉛、ハロゲン化マンガン、ハロゲン化� ��グネシウム、ハロゲン化銅、ハロゲン化チ� ��ン、ハロゲン化アルミニウムアルキル、ハ� ��ゲン化ガリウム、ハロゲン化鉄、ハロゲン� ��砒素、ハロゲン化アンチモン、ハロゲン化� ��リウム、ハロゲン化ジルコニウム、ハロゲ� ��化タングステン、ハロゲン化モリブデン、� ��ロゲン化ニオブ又はそれらの混合物が挙げ� ��れ、具体的には三塩化アルミニウム(AlCl ₃ )、三臭化アルミニウム、トリメチルアルミ� �ウム、三弗化ホウ素、三塩化ホウ素、二塩� �亜鉛、四塩化チタン、二塩化錫、四塩化錫� �塩化第二鉄又はそれらの混合物が挙げられ� �中でも三塩化アルミニウムを用いることが� �媒活性、コスト及びハンドリングの面で好� �しい。

 ルイス酸は、通常のフリーデル・クラフ� ��反応においては、ハロゲン化シアヌル化合� ��のハロゲン原子1当量に対し1当量以上を用� �ることが一般的であるが、本発明において� �ルホランを主成分とする溶媒を用いる場合� �、ハロゲン化シアヌル化合物のハロゲン原� �1当量に対しルイス酸は0.3~0.7当量であり、こ れにより高純度の目的物が得られるものであ る。また、触媒であるルイス酸の吸湿を考慮 すると0.4~0.5当量を用いることが好ましい。0. 3当量未満では反応活性が少なすぎるため好� �しくなく、一方、0.7当量を超えるルイス酸� �使用は不必要に廃棄物を増やすことになり� �工業的に好ましくない。

 不活性溶媒と上記一般式(4)で表されるシ� ��ロアルキルアルキルエーテルとの混合溶媒� ��用いる場合、ルイス酸は、上記一般式(2)で� ��されるハロゲン化シアヌル化合物に対し0.1~ 10当量、好ましくは1~6当量が用いられる。0.1� ��量未満では反応活性が少なすぎるおそれが� ��るため好ましくなく、一方、10当量を超え� �ルイス酸の使用は不必要に廃棄物を増やす� �とになり好ましくない。

 不活性溶媒と上記一般式(4)で表されるシ� ��ロアルキルアルキルエーテルとの混合溶媒� ��用いる場合、本発明において、2,4,6-トリス( ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリアジン化合物� ��製造手順は、特に制限はされないが、a)ハ� �ゲン化シアヌル化合物/溶媒中にヒドロキシ� ��ェニル化合物/溶媒を滴下する方法、b)ヒド� ��キシフェニル化合物/溶媒中にハロゲン化シ アヌル化合物/溶媒を滴下する方法、c)溶媒中 にハロゲン化シアヌル化合物とヒドロキシフ ェニル化合物を一括で仕込み反応させる方法 等が挙げられ、中でもc)の一括で仕込む方法� ��、目的物の収率が高くなる傾向があるため� ��ましい。

 本発明で得られるトリアジン化合物は、� ��外線吸収剤として種々の有機物又は合成樹� ��の安定化、あるいはその紫外線吸収剤の中� ��体として好適に用いられ、特に、ヒドロキ� ��トリアジン化合物誘導体を合成する中間体� ��して好適に用いられる。

 上記合成樹脂としては、ポリプロピレン� ��高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン� ��直鎖低密度ポリエチレン、ポリブテン-1、� �リ-4-メチルペンテン等のα-オレフィン重合� �又はエチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレ� ��-プロピレン共重合体等のポリオレフィン及 びこれらの共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ 塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素 化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、 塩化ゴム、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体� �塩化ビニル-エチレン共重合体、塩化ビニル- 塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル-塩化� �ニリデン-酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビ� ��ル-アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニ ル-マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニ� �-シクロヘキシルマレイミド共重合体等の含� ��ロゲン樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポ� ��スチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル、ス� ��レン及び/又はα-メチルスチレンと他の単量 体(例えば、無水マレイン酸、フェニルマレ� �ミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、� �クリロニトリル等)との共重合体(例えば、AS� ��脂、ABS樹脂、MBS樹脂、耐熱ABS樹脂等)、ポリ メチルアクリレートやポリメチルメタクリレ ート等のアクリル酸エステル系樹脂、ポリビ ニルアルコール、ポリビニルホルマールやポ リビニルブチラール等のビニル系樹脂、ポリ エチレンテレフタレート、ポリテトラメチレ ンテレフタレートやポリエチレンナフタレー ト等のポリエステル系樹脂、セルローストリ アセテートやセルロースアセテートブチレー ト等のセルロースエステル系樹脂、ポリフェ ニレンオキサイド、ポリカプロラクタム及び ポリヘキサメチレンアジパミド等のポリアミ ド樹脂、ポリカーボネート、分岐ポリカーボ ネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサ ルファイド、シクロオレフィン、ノルボルネ ンやポリウレタン等の熱可塑性樹脂、及びこ れらの混合物、又は、フェノール樹脂、ユリ ア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽 和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂を挙げ ることができる。更に、イソプレンゴム、ブ タジエンゴム、アクリロニトリル-ブタジエ� �共重合ゴム、スチレン-ブタジエン共重合ゴ� ��等のエラストマーであってもよい。特に、� ��リカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレ� ��タレート系樹脂、ポリエチレンナフタレー� ��系樹脂、セルロースエステル系樹脂、アク� ��ル酸エステル系樹脂、シクロオレフィン系� ��脂、ポリスチレン系樹脂、ノルボルネン系� ��脂等の透明性に優れた樹脂に用いることで� ��合した樹脂そのものの安定化以外にも他の� ��材の紫外線による劣化防止に好適に用いら� ��る。

 本発明で得られるトリアジン化合物の合� ��樹脂への配合方法は特に制限されず、押出� ��機等で溶融混練する方法やキャスト法等の� ��媒を用いて液状化して混合する方法、乳化� ��合、懸濁重合や溶液重合等の重合時、重合� ��後への添加、他の添加剤成分と予め混合し� ��粒状としたり、高濃度で樹脂に溶融混練し� ��マスターバッチ化してから樹脂へ配合する� ��の樹脂の重合方法や溶融粘度、他の配合材� ��有無や種類等から最適の配合方法を適宜選� ��する。

 上記他の添加剤成分としては、フェノー� ��系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、チオエ� ��テル系酸化防止剤、他の紫外線吸収剤、ヒ� ��ダードアミン系光安定剤、可塑剤、造核剤� ��難燃剤、難燃助剤、重金属不活性化剤、帯� ��防止剤、滑剤、金属石鹸、ハイドロタルサ� ��ト、顔料、染料、抗菌剤、防カビ剤、防鼠� ��、界面活性剤、充填剤等が挙げられる。

 上記フェノール系酸化防止剤としては、� ��えば、2,6-ジ第三ブチル-p-クレゾール、2,6-� �フェニル-4-オクタデシロキシフェノール、� �ステアリル(3,5-ジ第三ブチル-4-ヒドロキシベ ンジル)ホスホネート、1,6-ヘキサメチレンビ� ��〔(3,5-ジ第三ブチル-4-ヒドロキシフェニル)� ��ロピオン酸アミド〕、4,4’-チオビス(6-第三 ブチル-m-クレゾール)、2,2’-メチレンビス(4-� ��チル-6-第三ブチルフェノール)、2,2’-メチ� �ンビス(4-エチル-6-第三ブチルフェノール)、4 ,4’-ブチリデンビス(6-第三ブチル-m-クレゾー ル)、2,2’-エチリデンビス(4,6-ジ第三ブチル� �ェノール)、2,2’-エチリデンビス(4-第二ブチ ル-6-第三ブチルフェノール)、1,1,3-トリス(2-� �チル-4-ヒドロキシ-5-第三ブチルフェニル)ブ� ��ン、1,3,5-トリス(2,6-ジメチル-3-ヒドロキシ-4 -第三ブチルベンジル)イソシアヌレート、1,3, 5-トリス(3,5-ジ第三ブチル-4-ヒドロキシベン� �ル)イソシアヌレート、1,3,5-トリス(3,5-ジ第� �ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-2,4,6-トリメチ ルベンゼン、2-第三ブチル-4-メチル-6-(2-アク� ��ロイルオキシ-3-第三ブチル-5-メチルベンジ� ��)フェノール、ステアリル(3,5-ジ第三ブチル- 4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、チオ ジエチレングリコールビス〔(3,5-ジ第三ブチ� ��-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、 1,6-ヘキサメチレンビス〔(3,5-ジ第三ブチル-4- ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、ビ� �〔3,3-ビス(4-ヒドロキシ-3-第三ブチルフェニ� ��)ブチリックアシッド〕グリコールエステル 、ビス〔2-第三ブチル-4-メチル-6-(2-ヒドロキ� ��-3-第三ブチル-5-メチルベンジル)フェニル〕 テレフタレート、1,3,5-トリス〔(3,5-ジ第三ブ� ��ル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキ シエチル〕イソシアヌレート、3,9-ビス〔1,1-� ��メチル-2-{(3-第三ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチ ルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル〕-2,4 ,8,10-テトラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、 トリエチレングリコールビス〔(3-第三ブチル -4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオネ� �ト〕、トコフェノール等が挙げられ、樹脂10 0質量部に対して、好ましくは0.001~10質量部、 より好ましくは、0.05~5質量部用いられる。

 上記リン系酸化防止剤としては、例えば� ��トリスノニルフェニルホスファイト、トリ� ��〔2-第三ブチル-4-(3-第三ブチル-4-ヒドロキ� �-5-メチルフェニルチオ)-5-メチルフェニル〕� ��スファイト、トリデシルホスファイト、オ� ��チルジフェニルホスファイト、ジ(デシル)� �ノフェニルホスファイト、ジ(トリデシル)ペ ンタエリスリトールジホスファイト、ジ(ノ� �ルフェニル)ペンタエリスリトールジホスフ� ��イト、ビス(2,4-ジ第三ブチルフェニル)ペン� ��エリスリトールジホスファイト、ビス(2,6-� �第三ブチル-4-メチルフェニル)ペンタエリス� ��トールジホスファイト、ビス(2,4,6-トリ第三 ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホ� �ファイト、ビス(2,4-ジクミルフェニル)ペン� �エリスリトールジホスファイト、テトラ(ト� ��デシル)イソプロピリデンジフェノールジホ スファイト、テトラ(トリデシル)-4,4’-n-ブチ リデンビス(2-第三ブチル-5-メチルフェノール )ジホスファイト、ヘキサ(トリデシル)-1,1,3-� �リス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-第三ブチルフ� �ニル)ブタントリホスファイト、テトラキス( 2,4-ジ第三ブチルフェニル)ビフェニレンジホ� ��ホナイト、9,10-ジハイドロ-9-オキサ-10-ホス� ��ァフェナンスレン-10-オキサイド、2,2’-メ� �レンビス(4,6-第三ブチルフェニル)-2-エチル� �キシルホスファイト、2,2’-メチレンビス(4,6 -第三ブチルフェニル)-オクタデシルホスファ イト、2,2’-エチリデンビス(4,6-ジ第三ブチル フェニル)フルオロホスファイト、トリス(2-� �(2,4,8,10-テトラキス第三ブチルジベンゾ〔d,f� ��〔1,3,2〕ジオキサホスフェピン-6-イル)オキ� ��〕エチル)アミン、2-エチル-2-ブチルプロピ� ��ングリコールと2,4,6-トリ第三ブチルフェノ� ��ルのホスファイト等が挙げられ、樹脂100質� ��部に対して、0.001~10質量部、より好ましく� �、0.01~5質量部が用いられる。

 上記チオエーテル系酸化防止剤としては� ��チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプ� ��ピオン酸ジミリスチル、チオジプロピオン� ��ジステアリル等のジアルキルチオジプロピ� ��ネート類及びペンタエリスリトールテトラ( β-ドデシルメルカプトプロピオネート)等の� �リオールのβ-アルキルメルカプトプロピオ� �酸エステル類が挙げられ、樹脂100質量部に� �して、0.001~10質量部、より好ましくは、0.01~5 質量部が用いられる。

 上記他の紫外線吸収剤としては、ベンゾ� ��リアゾール系紫外線吸収剤、他のトリアジ� ��系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線� ��収剤等が挙げられ、これら他の紫外線吸収� ��の使用量は、樹脂100質量部に対して、好ま� ��くは0.01~10質量部、より好ましくは、0.05~5質 量部である。

 上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤� ��しては、2-(2’-ヒドロキシ-5’-メチルフェ� �ル)ベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3 ’,5’-ジ第三ブチルフェニル)-5-クロロベン� �トリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’-第三ブ チル-5’-メチルフェニル)-5-クロロベンゾト� �アゾール、2-(2’-ヒドロキシ-5’-第三オクチ ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒド ロキシ-3’,5’-ジクミルフェニル)ベンゾトリ アゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’-第三ブチル- 5’-カルボキシフェニル)ベンゾトリアゾール 、2,2’-メチレンビス(4-第三オクチル-6-ベン� �トリアゾリル)フェノール等の2-(2’-ヒドロ� �シフェニル)ベンゾトリアゾール類が挙げら� ��る。

 上記他のトリアジン系紫外線吸収剤とし� ��は、2-(2-ヒドロキシ-4-オクトキシフェニル)- 4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-s-トリアジン� �2-(2-ヒドロキシ-4-ヘキシルオキシフェニル)-4 ,6-ジフェニル-s-トリアジン、2-(2-ヒドロキシ- 4-プロポキシ-5-メチルフェニル)-4,6-ビス(2,4-� �メチルフェニル)-s-トリアジン、2-[2-ヒドロ� �シ-4-(3-ドデシルオキシ-2-ヒドロキシプロピ� �オキシ)フェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェ� �ル)-s-トリアジン、2-[2-ヒドロキシ-4-(3-トリ� �シルオキシ-2-ヒドロキシプロピルオキシ)フ� ��ニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-s-トリ� ��ジン、2-[2-ヒドロキシ-4-[3-(2-エチルヘキシ� �オキシ)-2-ヒドロキシプロピルオキシ]フェニ ル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-s-トリアジ ン、2-(2-ヒドロキシ-4-ヘキシルオキシフェニ� ��)-4,6-ジビフェニル-s-トリアジン、2-[2-ヒド� �キシ-4-[1-(i-オクチルオキシカルボニル)エチ� ��オキシ]フェニル]-4,6-ジビフェニル-s-トリア ジン、2,4-ビス(2-ヒドロキシ-4-オクトキシフ� �ニル)-6-(2,4-ジメチルフェニル)-s-トリアジン� ��2,4-ビス(4-ブトキシ-2-ヒドロキシフェニル)-6 -(2,4-ジブトキシフェニル)-s-トリアジン、2,4,6 -トリス(2-ヒドロキシ-4-オクトキシフェニル)- s-トリアジン等のトリアリールトリアジン類� ��が挙げられる。

 上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤とし� ��は、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒ� ��ロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒド� �キシ-4-オクトキシベンゾフェノン、5,5’-メ� ��レンビス(2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフ� ��ノン)等の2-ヒドロキシベンゾフェノン類が� ��げられる。

 上記ヒンダードアミン系光安定剤として� ��、例えば、2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジ� �ステアレート、1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペ� ��ジルステアレート、2,2,6,6-テトラメチル-4-� �ペリジルベンゾエート、ビス(2,2,6,6-テトラ� �チル-4-ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6 -ペンタメチル-4-ピペリジル)セバケート、テ� ��ラキス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルブ� ��ンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2 ,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルブタンテト� �カルボキシレート、ビス(2,2,6,6-テトラメチ� �-4-ピペリジル)・ジ(トリデシル)-1,2,3,4-ブタ� �テトラカルボキシレート、ビス(1,2,2,6,6-ペン タメチル-4-ピペリジル)・ジ(トリデシル)-1,2,3 ,4-ブタンテトラカルボキシレート、ビス(1,2,2 ,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)-2-ブチル-2-(3, 5-ジ第三ブチル-4-ヒドロキシベンジル)マロネ ート、1-(2-ヒドロキシエチル)-2,2,6,6-テトラメ チル-4-ピペリジノール/コハク酸ジエチル重� �合物、1,6-ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリ� ��ルアミノ)ヘキサン/ジブロモエタン重縮合� �、1,6-ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル� ��ミノ)ヘキサン/2,4-ジクロロ-6-モルホリノ-s-� ��リアジン重縮合物、1,6-ビス(2,2,6,6-テトラメ チル-4-ピペリジルアミノ)ヘキサン/2,4-ジクロ ロ-6-第三オクチルアミノ-s-トリアジン重縮合 物、1,5,8,12-テトラキス〔2,4-ビス(N-ブチル-N-(2 ,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)アミノ)-s-ト リアジン-6-イル〕-1,5,8,12-テトラアザドデカ� �、1,5,8,12-テトラキス〔2,4-ビス(N-ブチル-N-(1,2 ,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)アミノ)-s-ト リアジン-6-イル〕-1,5,8,12-テトラアザドデカ� �、1,6,11-トリス〔2,4-ビス(N-ブチル-N-(2,2,6,6-テ トラメチル-4-ピペリジル)アミノ)-s-トリアジ� ��-6-イルアミノウンデカン、1,6,11-トリス〔2,4 -ビス(N-ブチル-N-(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペ リジル)アミノ)-s-トリアジン-6-イルアミノウ� ��デカン等のヒンダードアミン化合物が挙げ� ��れ、樹脂100質量部に対して、0.001~10質量部� �より好ましくは、0.01~5質量部が用いられる� �

 上記可塑剤としては、適用される樹脂に� ��じて公知の種々の可塑剤を用いることがで� ��る。例えば、エステル系可塑剤としては、� ��タル酸、ナフタレンジカルボン酸、コハク� ��、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸等� ��二塩基酸とオクタノール、イソノニルアル� ��ール、ラウリルアルコール、ステアリルア� ��コール等のアルキルアルコールやジエチレ� ��グリコールモノブチルエーテル等のエーテ� ��アルコール等のジエステル化合物が挙げら� ��る。ポリエステル系可塑剤としては、上記� ��塩基酸とエチレングリコール、プロピレン� ��リコール、ブタンジオール、ネオペンチル� ��リコール、ヘキサンジオール等のグリコー� ��からなるポリエステル及びその末端を上記� ��ノアルコールやプロピオン酸、オクチル酸� ��安息香酸等のモノカルボン酸化合物で封止� ��たポリエステルが挙げられ、ポリエーテル� ��塑剤としては、ポリエチレングリコールや� ��リプロピレングリコール等のポリエーテル� ��、ポリエーテルエステル系可塑剤としては� ��リエチレングリコールやポリプロピレング� ��コール等のポリエーテルと上記二塩基酸の� ��リエステルが挙げられる。

 上記造核剤としては、安息香酸ナトリウ� ��、p-tert-ブチル安息香酸アルミニウム等の芳 香族酸金属塩;ナトリウム-2,2’-ビス(4,6-ジ-ter t-ブチルフェニル)ホスフェイト、リチウム-2, 2’-ビス(4,6-ジ-tert-ブチルフェニル)ホスフェ� ��ト、アルミニウム-ヒドロキシ-ビス(2,2’-ビ ス(4,6-ジ-tert-ブチルフェニル)ホスフェイト)� �のリン酸エステル金属塩;ジベンジリデンソ� ��ビトール、ビス(4-メチルベンジリデン)ソル ビトール、ビス(3,4-ジメチルベンジリデン)ソ ルビトール等のソルビトール類;グリセリン� �鉛等の金属アルコラート類;グルタミン酸亜� ��等のアミノ酸金属塩;ビシクロヘプタンジカ ルボン酸又はその塩等のビシクロ構造を有す る脂肪族二塩基酸及びその金属塩;鎖状又は� �状ヒドラジド化合物や鎖状又は環状アミド� �合物等が挙げられ、樹脂100質量部に対して� �0.001~10質量部、より好ましくは、0.01~5質量部 が用いられる。

 上記難燃剤としては、デカブロモジフェ� ��ルエーテル、ハロゲン系難燃剤、赤燐、リ� ��酸アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム� ��リン酸メラミン、ピロリン酸メラミン、ポ� ��リン酸メラミン、リン酸ピペラジン、ピロ� ��ン酸ピペラジン、ポリリン酸ピペラジン、� ��ン酸トリフェニル、レゾルシノール・フェ� ��ール・リン酸縮合物、レゾルシノール・2,6- ジメチルフェノール・リン酸縮合物、ビスフ ェノールA・フェノール・リン酸縮合物、ビ� �ェノール・フェノール・リン酸縮合物、ナ� �タレンジオール・フェノール・リン酸縮合� �、ペンタエリスリトール・フェノール・リ� �酸縮合物、1,3-ジアミノメチルベンゼン・フ� ��ノール・リン酸縮合物、ホスファゼン化合� ��等のリン系難燃剤、水酸化マグネシウム、� ��酸化アルミニウム等の金属水酸化物が挙げ� ��れ、樹脂100質量部に対して、0.1~200質量部、 より好ましくは、1~100質量部が用いられる。

 上記難燃助剤としては、水酸化マグネシ� ��ム、三酸化アンチモン、タルク等の無機化� ��物及びその表面処理品、メラミンシアヌレ� ��ト、ペンタエリスリトール、シリコーン化� ��物、ポリテトラフルオロエチレン等が挙げ� ��れる。

 上記重金属不活性化剤としては、サリチ� ��アミド-1,2,4-トリアゾール-3-イル、ビスサリ チル酸ヒドラジド、ドデカンジオイルビス(2- (2-ヒドロキシベンゾイル)ヒドラジド)、ビス( 3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロ� ��オン酸)ヒドラジド等が挙げられ、樹脂100質 量部に対して、0.001~10質量部、より好ましく� ��、0.05~5質量部が用いられる。

 上記帯電防止剤としては、例えば、脂肪� ��第四級アンモニウムイオン塩、ポリアミン� ��級塩等のカチオン系帯電防止剤;高級アルコ ールリン酸エステル塩、高級アルコールEO付� ��物、ポリエチレングリコール脂肪酸エステ� ��、アニオン型のアルキルスルホン酸塩、高� ��アルコール硫酸エステル塩、高級アルコー� ��エチレンオキシド付加物硫酸エステル塩、� ��級アルコールエチレンオキシド付加物リン� ��エステル塩等のアニオン系帯電防止剤;多価 アルコール脂肪酸エステル、ポリグリコール リン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキ ルアリルエーテル等のノニオン系帯電防止剤 ;アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン等の� �性型アルキルベタイン、イミダゾリン型両� �活性剤等の両性帯電防止剤が挙げられる。� �かる帯電防止剤は単独で用いてもよく、ま� �、2種類以上の帯電防止剤を組み合わせて用� ��てもよい。樹脂100質量部に対して、0.001~10� �量部、より好ましくは、0.01~5質量部が用い� �れる。

 上記滑剤としては、ラウリルアミド、ミ� ��スチルアミド、ステアリルアミド、ベヘニ� ��アミド等の脂肪酸アミド、エチレンビスス� ��アリルアミド、ポリエチレンワックス、カ� ��シウムステアレート、マグネシウムステア� ��ート等の金属石鹸、ジステアリルリン酸エ� ��テルマグネシウム、ステアリルリン酸エス� ��ルマグネシウム等のリン酸エステル金属塩� ��が挙げられ、樹脂100質量部に対して、0.001~2 0質量部、より好ましくは、0.01~10質量部が用� ��られる。

 上記金属石鹸としては、マグネシウム、� ��ルシウム、アルミニウム、亜鉛等の金属と� ��ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸� ��ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸等の� ��和もしくは不飽和脂肪酸の塩が用いられる� ��含水率、融点、粒径、脂肪酸の組成、製造� ��法がアルカリ金属の脂肪酸塩と金属(水)酸� �物の反応による複分解法であるか脂肪酸と� �属(水)酸化物の溶媒存在下もしくは不存在下 に中和反応する直接法であるかによらず、ま た、脂肪酸か金属のいずれかが過剰であって もよく、樹脂100質量部に対して、0.001~10質量� ��、より好ましくは、0.01~5質量部が用いられ� ��。

 上記ハイドロタルサイトとしては、天然物� ��も合成品でもよく、リチウム等のアルカリ� ��属で変性されたものや炭酸アニオンの一部� ��過塩素酸で置換したものでもよい。特に、� ��記一般式(4)、
Zn _X Mg _y Al ₂ (OH) ₂ (x+y+2)CO ₃ ・nH ₂ O    (4)
(式中、xは0~3を示し、yは1~6を示し、また、x+y は4~6を示し、nは0~10を示す)で示される組成の ものが好ましく、結晶水の有無や表面処理の 有無によらず用いることができる。また、粒 径は特に限定されるものではないが、ハイド ロタルサイトとしての特性を失わない範囲で 小さいことが望ましい。粒径が大きいと分散 性が低下して安定化効果が小さくなり、さら に、得られる樹脂組成物の機械的強度や透明 性等の物性を低下させることになる。樹脂100 質量部に対して、0.001~10質量部、より好まし� ��は、0.005~5質量部が用いられる。

 上記充填剤としてはガラス繊維、炭素繊� ��、ケブラー繊維、タルク、シリカ、炭酸カ� ��シウム等やこれらの混合物が用いられる。� ��た、これらの強化用繊維は長繊維でも短繊� ��でもよく、特に、長繊維のガラス繊維を用� ��る場合に、本発明の樹脂組成物はガラス繊� ��を破壊しないので好ましい。さらに、充填� ��は樹脂との親和性を改善するために表面処� ��されたものが好ましい。充填剤は樹脂100質� ��部に対して5~200質量部、好ましくは10~100質� �部である。