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Title:
METHOD FOR PRODUCING AN ELECTRODE FOR A HIGH-PRESSURE DISCHARGE LAMP AND HIGH-PRESSURE DISCHARGE LAMP COMPRISING AT LEAST ONE ELECTRODE THUS PRODUCED
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2012/059435
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention relates to a method for producing an electrode (16) for a high-pressure discharge lamp (10), comprising the following steps: a) passing over at least a portion of the electrode surface for generating an oxide layer (step 120), preferably using a laser beam; b) at least partially sublimating the oxide layer created in step a) (step 120); and c) reducing the remaining oxide layer (140). The invention further relates to a high-pressure discharge lamp (10) comprising at least one electrode thus produced.

Inventors:
SEITZ, Wolfgang (Wolfsdrossel 1, Eichstätt, 85072, DE)
Application Number:
EP2011/069030
Publication Date:
May 10, 2012
Filing Date:
October 28, 2011
Export Citation:
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Assignee:
OSRAM AG (Hellabrunner Str. 1, München, 81543, DE)
SEITZ, Wolfgang (Wolfsdrossel 1, Eichstätt, 85072, DE)
International Classes:
H01J61/073; H01J1/20; H01J9/04
Domestic Patent References:
WO2008090030A12008-07-31
Foreign References:
DE721503C1942-06-08
US20030048078A12003-03-13
US20060220559A12006-10-05
US20100079048A12010-04-01
JPH0765712A1995-03-10
US6626725B12003-09-30
EP1251548A12002-10-23
Attorney, Agent or Firm:
OSRAM AG (Postfach 22 13 17, München, 80503, DE)
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Claims:
Ansprüche

Verfahren zum Herstellen einer Elektrode (16) für eine Hochdruckentladungslampe (10), folgende Schritte um¬ fassend:

a) Überstreichen zumindest eines Teils der Elektro¬ denoberfläche zur Erzeugung einer Oxidschicht (Schritt 120) ;

b) Zumindest teilweises Sublimieren der in Schritt a) entstehenden Oxidschicht (Schritt 120) ; und

c) Reduzieren der restlichen Oxidschicht (140) . 2. Verfahren nach Anspruch 1,

dadurch gekennzeichnet,

dass in Schritt a) das Überstreichen zumindest auf einem Teil der Elektrode erfolgt, der nach der Montage der Elektrode im Glaskolben der Hochdruckentladungs- lampe nicht im Glas des Glaskolbens eingebettet ist

(Schritt 120) .

3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2,

dadurch gekennzeichnet,

dass Schritt a) an Atmosphäre, insbesondere sauer- stoffangereicherter Atmosphäre, durchgeführt wird

(Schritt 120) .

Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,

dass Schritt b) zeitgleich mit Schritt a) ausgefüh wird (Schritt 120) .

5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,

dass Schritt c) in einer wasserstoffhaltigen Atmosphäre, insbesondere in einem Argon-Wasserstoff-Gemisch, ausgeführt wird (Schritt 140) .

Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,

dass die Elektrode (16) Wolfram umfasst, wobei Schritt c) Wolframoxid zu reinem Wolfram reduz wird (Schritt 140) .

Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,

dass das Überstreichen in Schritt a) mittels einer Laserstrahl-, Elektronenstrahl- oder Ionenstrahlvor- richtung erfolgt (Schritt 120) . 8. Verfahren nach Anspruch 7,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Laserstrahl-, Elektronenstrahl- bzw. Ionen- strahlvorrichtung ausgelegt ist, eine Energiedichte freizusetzen, die ein Schmelzen, Oxidieren sowie Sub- limieren zumindest eines Teils der Elektrodenoberflä¬ che ermöglicht.

9. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 oder 8,

dadurch gekennzeichnet,

dass in Schritt a) die Laserstrahlvorrichtung mit ei- ner Frequenz zwischen 1 kHz und 100 kHz, insbesondere

10 kHz, getaktet wird (Schritt 120) . Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9,

dadurch gekennzeichnet,

dass in Schritt a) auf der Elektrodenoberfläche Zeilen mit einem Zeilenabstand zwischen zwei benachbarten Zeilen zwischen 0,01 und 0,2 mm, insbesondere 0,1 mm, erzeugt werden (Schritt 120) .

11. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 10,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Laserstrahlvorrichtung mit einem Laserstrahl- fokus zwischen 0,01 und 0,1 mm, insbesondere 0,02 mm, betrieben wird.

12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

dadurch gekennzeichnet,

dass Schritt c) bei einer Temperatur zwischen 700°C und 2500°C, insbesondere 2200°C, durchgeführt wird

(Schritt 140) .

13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

dadurch gekennzeichnet,

dass Schritt a) bei Umgebungstemperatur, insbesondere einer Temperatur zwischen 15°C und 30°C, und Umgebungsdruck durchgeführt wird (Schritt 120) .

Hochdruckentladungslampe (10) mit mindestens einer E- lektrode (16), die durch folgende Schritte hergestellt wurde :

a) Überstreichen zumindest eines Teils der Elek¬ trodenoberfläche zur Erzeugung einer Oxidschicht (Schritt 120) ; b) Zumindest teilweises Sublimieren der in Schritt a) entstehenden Oxidschicht (Schritt 120) ; und

c) Reduzieren der restlichen Oxidschicht (Schritt 140) .

Description:
Beschreibung

Verfahren zum Herstellen einer Elektrode für eine Hochdruckentladungslampe und Hochdruckentladungslampe mit mindestens einer derart hergestellten Elektrode

Technisches Gebiet

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Her- stellen einer Elektrode für eine Hochdruckentladungslampe. Sie betrifft überdies eine Hochdruckentladungslampe mit mindestens einer derart hergestellten Elektrode.

Stand der Technik

Der Emissionsgrad von Elektroden von Entladungslampen hat auf die Performance und die geometrische Auslegung derar- tiger Entladungslampen einen entscheidenden Einfluss.

Stand der Technik ist das Bepasten mit Metallpulvern oder Stoffgemengen mittels eines organischen Binders und das darauf folgende Einsintern beziehungsweise Anbacken an den Elektrodenkörper. Allerdings ist die bepastete und eingesinterte Schicht mechanisch wenig beständig, was zu einem teilweisen Abbröckeln bei Berührung führen kann.

Aus der WO 2008/090030 AI ist ein Verfahren zum Bearbeiten einer Elektrode einer Entladungslampe bekannt. Dabei wird die Elektrode in dem Bereich oxidiert, in dem sie im Hals eines aus Glas gebildeten Entladungsraums gasdicht eingequetscht ist. Die Oxidation erfolgt auf chemischen Wege bei normaler Luftatmosphäre und Umgebungsluftdruck bei einer Temperatur zwischen 700 und 1300 K. Die Oxidschicht wird anschließend in einer Vakuumumgebung subli- miert, wobei die Temperatur während des Sublimierens zwi- sehen 1450 K und 1900 K beträgt. Durch diese Vorgehens ¬ weise erhält die Elektrode in dem genannten Bereich eine Oberfläche mit feiner Rauigkeit, wodurch die Haftung der Oberfläche dieses Elektrodenabschnitts am Entladungsge- fäßmaterial reduziert wird. Dadurch reduziert sich die Gefahr der Rissbildung im abgedichteten Bereich des Entladungsgefäßes. Während des Sublimationsschritts werden mit der Oxidschicht auch etwaige Verunreinigungen von der Oberfläche des Elektrodenabschnitts entfernt, wodurch die Haftung ebenfalls reduziert wird.

Aus der US 6,626,725 Bl ist eine Entladungslampe bekannt, bei der eine stabförmige Elektrode aus Wolfram bereichs ¬ weise in einen Hals eines Entladungsgefäßes durch eine gasdichte Quetschung eingebracht ist und sich bereichs- weise in einen Entladungsraum des Entladungsgefäßes erstreckt. Um eine Rissbildung des Entladungsgefäßes im Quetschungsbereich im Betrieb der Entladungslampe verhindern zu können, wird die Oberfläche der Elektrode bear ¬ beitet. Zur Erzeugung einer elementaren Wolframschicht an der Oberfläche der Elektrode in dem Längenbereich, in dem die Elektrode im Quetschbereich angeordnet ist, wird zu ¬ nächst eine Oxidschicht auf der Oberfläche erzeugt. Dabei kann beispielsweise eine Wolframtrioxidschicht erzeugt werden. Um die elementare Wolframschicht zu erzeugen, wird dann die oxidierte Elektrode bei etwa 1200°C in ei ¬ nem Wasserstoffofen, in dem Wasserstoff in Wasser aufsprudelt, erhitzt.

Die EP 1 251 548 AI lehrt ein Verfahren, um die thermischen Strahlungseigenschaften von Elektroden in einer Hochdruckentladungslampe vom Kurzbogentyp zu verbessern. Zu diesem Zweck werden Rinnen in die Oberfläche der E- lektroden eingebracht. Die Rinnen weisen eine Tiefe auf, die kleiner gleich 12 % des Elektrodendurchmessers ist, wobei das Verhältnis aus Tiefe und Abstand der Rinnen größer gleich zwei ist. Zum Einbringen der Rinnen kann eine Laservorrichtung Verwendung finden. Die Rinnen können eckig oder gebogen ausgebildet sein, wobei zur Erzeugung von gebogenen Rinnen die Oberfläche geschliffen wird und anschließend elektrolytisch poliert wird in einer 10- %igen Natriumhydroxidlösung. Gebogene Rinnen können je- doch auch durch Erhitzen auf eine hohe Temperatur in einem Vakuum erzeugt werden, beispielsweise indem die Oberfläche über 120 min bei 2000°C erhitzt wird.

Darstellung der Erfindung

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen einer Elektrode für eine Hochdruckentladungslampe bereitzustellen, mit dem sich ein möglichst hoher Emissionsgrad für die Elektroden er ¬ zielen lässt. Dabei soll die Oberfläche der Elektrode me ¬ chanisch möglichst beständig sein. Die Aufgabe besteht weiterhin darin, eine Hochdruckentladungslampe mit min- destens einer derart hergestellten Elektrode bereitzu ¬ stellen.

Diese Aufgaben werden gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen von Patentanspruch 1 sowie durch eine Hochdruckentladungslampe mit den Merkmalen von Patentan- spruch 14.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, dass ein hoher Emissionsgrad grundsätzlich dann realisierbar ist, wenn die Elektrode ein verbessertes thermi- sches Abstrahlverhalten aufweist. Das thermische Ab ¬ strahlverhalten lässt sich durch Vergrößerung der Oberfläche der Elektrode verbessern. Dabei muss jedoch si ¬ chergestellt werden, dass trotz vergrößerter Oberfläche der Elektrode die Leitfähigkeit der Elektrode nicht be ¬ einträchtigt wird.

Erfindungsgemäß wird deshalb zunächst zumindest ein Teil der Elektrodenoberfläche zur Erzeugung einer Oxidschicht mit einem hierfür geeigneten, energiereichen Strahl, bei- spielsweise einem elektromagnetischen Strahl, insbesondere einem Laserstrahl, oder einem Elektronen- oder Ionenstrahl, überstrichen. Durch entsprechende Wahl der Energiedichte wird dabei zumindest ein Teil der entstehenden Oxidschicht bereits sublimiert. Als Zwischenergebnis er- hält man eine Elektrodenoberfläche, die zwar bereits ex ¬ trem rau ist, jedoch oxidisch ist, das heißt eine redu ¬ zierte Leitfähigkeit aufweist. Aus diesem Grund wird in einem Folgeschritt die nicht sublimierte Oxidschicht zum Metall reduziert. Im Ergebnis entsteht eine extrem raue Oberfläche mit einem hohen Emissionsgrad, wobei der Emis ¬ sionsgrad abhängig von der Strukturierung und Oxidation einstellbar ist. Die entstehende Oberfläche ist mecha ¬ nisch sehr fest und sehr beständig. Überdies wird im Ge ¬ gensatz zur aus dem Stand der Technik bekannten Be- pastungsvariante keine zusätzliche Verunreinigung einge ¬ bracht .

Im Gegensatz zur Erzeugung einer Oxidschicht auf chemischem Wege können bei dem erfindungsgemäßen Verfahren auch nur Teilbereiche oxidiert werden. Dies ist insbeson- dere vorteilhaft zum Definieren unterschiedlicher Funktionsbereiche an der Elektrode. Im Vergleich zur definierten Einbringung von Rillen gemäß der Lehre der oben erwähnten EP 1 251 548 AI lässt sich durch das erfindungsgemäße Verfahren eine sehr viel grö ¬ ßere Oberfläche erzeugen und damit ein deutlich höherer Emissionsgrad realisieren.

Bevorzugt erfolgt in Schritt a) das Überstreichen zumin ¬ dest auf einem Teil der Elektrode, der nach der Montage der Elektrode im Glaskolben der Hochdruckentladungslampe nicht im Glas des Glaskolbens eingebettet ist. Dadurch, dass die Bearbeitung auf den Teil der Elektrode be ¬ schränkt werden kann, der für die Emission von Bedeutung ist, ergibt sich eine Zeitersparnis und damit eine Reduk ¬ tion der Herstellungskosten. Bevorzugt wird Schritt a) an Atmosphäre, insbesondere Sauerstoffangereicherter Atmo- sphäre, durchgeführt. Da die Elektrode üblicherweise überwiegend aus Wolfram besteht, d.h. insbesondere aus dotiertem Wolfram, und Wolfram sehr reaktionsfreudig gegenüber Sauerstoff ist, lässt sich so auf einfache Weise Wolframoxid erzeugen. Weiterhin bevorzugt wird Schritt b) zeitgleich mit Schritt a) ausgeführt. Beim Überstreichen geht daher ein Teil des Wolframoxids durch Sublimation bereits in den gasförmigen Zustand über, während ein anderer Teil des Wolframoxids auf der Oberfläche der Elektrode verbleibt. Schritt c) wird bevorzugt in einer wasserstoffhaltigen Atmosphäre, insbesondere in einem Argon-Wasserstoff- Gemisch, ausgeführt. Ein bevorzugtes Argon-Wasserstoff- Gemisch ist unter der Bezeichnung VARIGON® bekannt. Dadurch wird besonders einfach die Möglichkeit bereitge- stellt, dass sich der Sauerstoff aus dem Wolframoxid mit dem Wasserstoff aus der Atmosphäre, in der Schritt c) durchgeführt wird, zu Wasser verbindet. Auf der Elektro ¬ denoberfläche bleibt das reine Metall übrig.

Wie bereits ausgeführt, umfasst die Elektrode bevorzugt Wolfram, wobei in Schritt c) Wolframoxid zu reinem Wolf ¬ ram reduziert wird.

Bevorzugt erfolgt das Überstreichen in Schritt a) mittels einer Laserstrahlvorrichtung. Dadurch kann besonders präzise genau der Teil der Elektrodenoberfläche bearbeitet werden, der für den Emissionsgrad von Bedeutung ist. Im Gegensatz zu einer chemischen Bearbeitung können unterschiedliche Bereiche der Elektrodenoberfläche unter ¬ schiedlich überstrichen werden. Durch Variation der auf der Elektrodenoberfläche mittels der Laserstrahlvorrich- tung verursachten Modifikationen kann eine weitere Optimierung im Hinblick auf einen hohen Emissionsgrad vorgenommen werden. Ein Überstreichen mittels Laserstrahlvorrichtung erlaubt im Hinblick auf die einstellbaren Parameter wie Energiedichte, Zeilenabstand, Focus, und der- gleichen, eine präzise Einstellung eines gewünschten Emissionsgrads .

Die Laserstrahlvorrichtung ist in diesem Zusammenhang insbesondere ausgelegt, eine Energiedichte freizusetzen, die ein Schmelzen, Oxidieren sowie Sublimieren zumindest eines Teils der Elektrodenoberfläche ermöglicht.

Dabei kann in Schritt a) die Laserstrahlvorrichtung mit einer Frequenz zwischen 1 kHz und 100 kHz, insbesondere 10 kHz, getaktet werden. In Schritt a) werden bevorzugt auf der Elektrodenoberfläche bevorzugt Zeilen mit einem Zeilenabstand zwischen zwei benachbarten Zeilen zwischen 0,01 und 0,2 mm, insbesondere 0,1 mm, erzeugt. Bevorzugt wird die Laserstrahlvorrichtung mit einem Laserstrahlfokus zwischen 0,01 und 0,1 mm, insbesondere 0,02 mm, betrieben. Auf diese Weise lässt sich die Elektrodenober- fläche maximieren, wodurch gleichzeitig der Emissionsgrad der Elektrode maximal wird.

Alternativ kann das Überstreichen auch mit anderen geeignete Strahlvorrichtungen erfolgen, wie z.B. Elektronenoder Ionenstrahlvorrichtungen Gemäß einer bevorzugten Aus führungs form des erfindungsgemäßen Verfahrens wird Schritt c) bei einer Temperatur zwischen 700°C und 2500°C, insbesondere 2200°C, durchge ¬ führt. Schritt a) hingegen wird bevorzugt bei Umgebungs ¬ temperatur, insbesondere einer Temperatur zwischen 15°C und 30 °C, und Umgebungsdruck durchgeführt.

Weitere bevorzugte Aus führungs formen ergeben sich aus den Unteransprüchen .

Die mit Bezug auf das erfindungsgemäße Verfahren vorge ¬ stellten bevorzugten Aus führungs formen und deren Vorteile gelten entsprechend, soweit anwendbar, für die erfindungsgemäße Hochdruckentladungslampe mit mindestens einer derart hergestellten Elektrode.

Kurze Beschreibung der Zeichnungen

Im Nachfolgenden werden Ausführungsbeispiele der vorlie- genden Erfindung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen näher beschrieben. Es zeigen: Fig. 1 in schematischer Darstellung eine erfindungsgemäße Hochdruckentladungslampe ;

Fig. 2 einen Signalflussgraphen für ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Verfahrens; Fig. 3 einen Ausschnitt der Anode der in Fig. 1 dargestellten Hochdruckentladungslampe ;

Fig. 4 eine erste vergrößerte Darstellung eines ersten

Ausschnitts der in Fig. 3 dargestellten Elektrodenoberfläche ; Fig. 5 eine erste vergrößerte Darstellung eines zweiten

Ausschnitts der in Fig. 3 dargestellten Elektrodenoberfläche ;

Fig. 6 eine vergrößerte Darstellung des in Fig. 5 darge ¬ stellten Ausschnitts; und Fig. 7 eine vergrößerte Darstellung des in Fig. 6 dargestellten Ausschnitts.

Bevorzugte Ausführung der Erfindung

In Fig. 1 ist schematisch ein Ausschnitt einer Hochdruckentladungslampe 10 dargestellt. Die Hochdruckentladungs ¬ lampe 10 umfasst ein Entladungsgefäß 12 mit einem Entla- dungsraum 14. In den Entladungsraums 14 erstrecken sich eine erste Elektrode 16 (Anode) und eine zweite Elektrode 18 (Kathode) . An den im Querschnitt oval ausgebildeten Mittelteil des Entladungsgefäßes 12 schließen zwei dia ¬ metral gegenüberliegende Hälse 20, 22 an. Die Elektrode 16 ist im Hals 22 eingeschmolzen, die Elektrode 18 im Hals 20. Die Elektroden 16, 18 sind auf Stäben 24, 26 angeordnet, die bevorzugt aus Wolfram oder einer Wolframlegierung ge ¬ bildet sind. Die Elektroden 16, 18 selbst bestehen aus dotiertem Wolfram. Das erfindungsgemäße Verfahren wird am Beispiel der E- lektrode 16, das heißt der Anode, näher dargestellt. Selbstverständlich sind Aus führungs formen denkbar, in denen überdies die Kathode entsprechend dem erfindungsgemä ¬ ßen Verfahren bearbeitet wird. Das Verfahren beginnt im Schritt 100. Im Schritt 120 wird zumindest ein Teil der Oberfläche der Elektrode 16 mit ¬ tels einer Laserstrahlvorrichtung überstrichen. Die Energiedichte ist dabei so hoch, dass ein Teil der Elektro ¬ denoberfläche schmilzt, oxidiert sowie sublimiert. Das bedeutet, dass eine Teil des entstehenden Wolframoxids in den gasförmigen Zustand übergeht, ein anderer Teil des Wolframoxids auf der Elektrodenoberfläche verbleibt. Schritt 120 wird bevorzugt in einer Sauerstoffangerei ¬ cherten Atmosphäre durchgeführt. Die Laserstrahlvorrich- tung kann mit einer Frequenz zwischen 1 kHz und 100 kHz, insbesondere 10 kHz getaktet werden. Bevorzugt werden auf der Elektrodenoberfläche Zeilen mit einem Zeilenabstand zwischen zwei benachbarten Zeilen zwischen 0,01 und 0,2 mm, insbesondere 0,1 mm erzeugt. Bei einer bevorzug- ten Aus führungs form wird die Laserstrahlvorrichtung mit einem Laserstrahlfokus zwischen 0,01 und 0,1 mm, insbe ¬ sondere 0,02 mm, betrieben. Die Laserstrahlvorrichtung kann beispielsweise eine Leistung zwischen 50 W und 200 W, bevorzugt ca. 120 W, abgeben. Das Überstreichen kann beispielsweise mit einer Geschwindigkeit zwischen 10 mm/s und 100 mm/s, insbesondere 30 mm/s, erfolgen. Die Tempe- ratur kann Umgebungstemperatur sein; der Druck ist bevorzugt Umgebungsdruck.

Eine bevorzugte Laserstrahlvorrichtung ist unter der Bezeichnung rofin rsmarker bekannt und wird mit Galvokopf betrieben. Die Leistung beträgt bei diesem Ausführungs ¬ beispiel ca. 120 W, wodurch ein Strom von ca. 38 A fließt. Die Überstreichgeschwindigkeit beträgt ca. 30 mm/s.

Bevorzugt ist die Elektrode 16 drehbar gelagert, so dass durch die Laserstrahlvorrichtung der gesamte Umfang strukturiert werden kann.

Durch den Schritt 120 entsteht eine sehr raue oxidische Oberfläche. Diese ist geometrisch nicht definiert, wie weiter unten mit Bezug auf die weiteren Figuren noch nä- her erläutert werden wird.

In Schritt 140 wird die Elektrode 16 in einer VARIGON- Atmosphäre bevorzugt induktiv erhitzt. Dadurch werden die oxidierten Teile der Oberfläche durch den vorhandenen Wasserstoff zu metallischem Wolfram und Wasser reduziert. Im Ergebnis erhält man eine metallische, sehr raue Elekt ¬ rodenoberfläche mit über den Behandlungsgrad einstellba ¬ rem Emissionsgrad. Die Oberfläche ist verunreinigungs ¬ frei, da im Gegensatz zum Stand der Technik kein Binder in einem Bepastungsprozess verwendet werden muss. Die E- lektrode weist ein sehr gutes Einkoppelverhalten beim induktiven Erwärmen auf und ist mechanisch stabil, das heißt die Elektrodenoberfläche zeigt keine Tendenz abzu ¬ bröckeln. Schritt 140 wird bevorzugt bei einer Temperatur zwischen 700°C und 2500°C, insbesondere 2200°C, durchge- führt. Das erfindungsgemäße Verfahren endet im Schritt 160.

Durch das erfindungsgemäße Verfahren lassen sich Elektro ¬ den mit einem Emissionsgrad der erzeugten Oberfläche von bis 0,6 erzeugen. Damit wird der Bereich, der im Stand der Technik mit Bepastung erreicht werden konnte, sogar geringfügig übertroffen.

Fig. 3 zeigt eine vergrößerte Aufnahme des Bereichs der Oberfläche der Elektrode 16 von Fig. 1, bei dem die Form von zylindrisch in kegelförmig übergeht. Die Vergrößerung beträgt 10 : 1. Man erkennt deutlich die Spuren der Laserbearbeitung, insbesondere auch die Überlappungsberei ¬ che der Laserstruktur, die dadurch entstanden sind, dass der Strahl beim Aufbringen der parallelen Linien in dem kegeligen Bereich der Elektrode 16 ausgelaufen ist. Fig. 4 zeigt eine vergrößerte Darstellung eines Aus ¬ schnitts von Fig. 3 im Übergangsbereich zylindrischkegelförmig. Die Vergrößerung beträgt 1 : 30. Bei derselben Vergrößerung zeigt Fig. 5 einen Ausschnitt von Fig. 3 im zylindrischen Bereich. Bei weiterer Vergrößerung auf den Faktor 1 : 200 zeigt Fig. 6 einen vergrößerten Ausschnitt der Darstellung in Fig. 5. Es sind deutlich Rippen zu erkennen, wobei die Unregelmäßigkeit der Oberfläche ins Auge fällt. Durch die Unregelmäßigkeit ergibt sich eine deutlich Vergrößerung der Elektrodenoberfläche, wodurch sich hohe Emissionsgra ¬ de erzielen lassen.

Fig. 7 schließlich zeigt das Detail einer Rippe der Darstellung von Fig. 6. Die Vergrößerung beträgt 1 : 1000. Diese Darstellung unterstreicht die hohe Rauigkeit der Wolframoberflache der Elektrode.