| 1. | Verfahren zum Erzeugen einer Struktur in einem Substrat (1), welches folgende Schritte aufweist : a) Bereitstellen eines eine erste Schicht (3) aufweisenden Substrats (1) ; b) Erstellen einer Struktur, vorzugsweise eine Maske (5), welche die erste Schicht (3) teilweise abdeckt ; c) Aufbringen einer zweiten Schicht (7) auf das Substrat (1) ; d) Ablösen der Struktur (5) ; e) Kontaktieren des Substrats mit einem Lösungsmittel ; f) Ablösen der zweiten Schicht (7). |
| 2. | Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß im Schritt a) eine Fliese als Substrat (1) mit einer Glasur als erste Schicht (3) bereitgestellt wird. |
| 3. | Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß im Schritt a) ein Substrat (1) mit einer polierten Oberfläche als erste Schicht (3) bereitgestellt wird. |
| 4. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß im Schritt b) als Maske (5) ein Klebeband oder ein Kautschukmaterial verwendet wird bzw. die Maske aufgeklebt wird. |
| 5. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß im Schritt c) als zweite Schicht (7) eine säurebeständige Schicht auf das Substrat (1) aufgetragen wird. |
| 6. | Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß als säurebeständige Schicht Asphaltlack vorzugsweise mit beigemischtem Methylethylketon verwendet wird. |
| 7. | Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß als säurebeständige Schicht eine eisenoxidhaltige Mischung in den Farben Braun, Kobaltblau, Orange oder Gelb oder ein Nickeltitan in der Farbe Gelb oder auch Mennige (Pb304) verwendet wird. |
| 8. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß im Schritt e) als Lösungsmittel Kieselsäure (Si (CH) 4), vorzugsweise unverdünnt und/oder mit 10 Stunden Einwirkzeit, verwendet wird. |
| 9. | Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß mit einem weiteren Schritt el) das Lösungsmittel neutralisiert wird. |
| 10. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß im Schritt e) das Kontaktieren des Substrats mit einem Lösungsmittel durch Aufbringen des Lösungsmittel erfolgt, um die erste Schicht (3) abzutragen. |
| 11. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß im Schritt e) das Ablösen der säurebeständigen Schicht durch heißes Wasser, vorzugsweise 50° Celsius und mehr, erfolgt. |
| 12. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß im Schritt f) das Ablösen der säurebeständigen Schicht durch Heißluft, vorzugsweise bei 300° Celsius und/oder mehr, erfolgt. |
| 13. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß mit einem weiteren Schritt g) eine dritte Schicht zur Erzeugung eines Glanzes auf das mit Struktur versehene Substrat aufgebracht wird. |
| 14. | Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Schicht aus mit vorzugsweise 50%igen Terpentinersatz verdünntem Leinöl bzw. Standöl, welches vorzugsweise 0,5% Sekatif aufweist, besteht. |
| 15. | Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Schicht aus kaltem Leinöl besteht. |
| 16. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß im Schritt e) das Kontaktieren des Substrats mit einem Lösungsmittel durch Einlegen des Substrats in das Lösungsmittel erfolgt. |
| 17. | Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß als Lösungsmittel Wasser mit beigemischtem Anlauger verwendet wird. |
| 18. | Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß der Anlauger unter 5% Natriumsilikat, Natriumperborat und über 30% Natriumphosphat enthält. |
| 19. | Verfahren nach einem der Ansprüche 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich Salmiak zu dem Lösungsmittel, vorzugsweise 25% Salmiakgeist, hinzugemischt wird. |
| 20. | Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 19, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat abgewaschen und getrocknet wird. |
| 21. | Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der ersten und zweiten Schicht eine weitere Schicht vorgesehen ist. |
| 22. | Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die weitere Schicht paraffinhaltig ist. |
| 23. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Schritte b) c) und d) durch ein Siebdruckverfahren ersetzt werden. |
| 24. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß als Substrat eine Feinsteinfliese oder Marmor verwendet wird. |
| 25. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß als Substrat Glas verwendet wird. |
| 26. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß als Substrat ein beschichtetes Holz verwendet wird. |
| 27. | Verfahren nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, daß als Lösungsmittel eine Mischung aus Wasser und Hirschhornmehl verwendet wird, vorzugsweise zusätzlich mit Bimsmehl. |
| 28. | Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht mit Talkum poliert wird. |
| 29. | Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 28, dadurch gekennzeichnet, daß die einzelnen Verfahrensschritte mehrfach durchgeführt werden. |
| 30. | Fliese bestehend aus einem Substrat (1) und einer auf dem Substrat aufgebrachten, ersten Schicht (3), welche nach dem Verfahren gemäß der Ansprüche 1 bis 23 hergestellt wurde, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (3) die Glasur der Fliese ist und eine Struktur aufweist. |
Aufgrund der Vielfalt gestalterischer Möglichkeiten zum Erzeugen von Strukturen auf Substraten steigt beispielsweise im Rahmen einer zunehmenden Computerisie- rung das Bedürfnis dahingehend, auch in Steingut, Glas oder Porzellan als Substrat Schriftzüge bzw. Muster auf einfache Weise einzubringen. Bislang wurde diese Mustergestaltung entweder durch mechanisches Bearbeiten des Steingutes bewerkstelligt oder vor Aufbringen der Glasur des Substrats drucktechnisch oder direkt durch den Künstler auf das Steingut aufgebracht.
Das mechanische Bearbeiten des Steinguts eventuell auch der Glasur des Steinguts wiederum muß als ein unmittelbares bzw. direktes Bearbeiten des Steinguts ange- sehen werden. Dies hat zur Folge, dal3 wenn bei der Bearbeitung des Steinguts ein Fehler auftreten sollte, durch diesen Fehler das gesamte Substrat unbrauchbar wurde. Auch sind die künstlerischen Gestaltungsmöglichkeiten bei einzelnen Erstbearbeitungen des Künstlers somit eingeschränkt, da der Gesamteindruck erst nach Fertigstellung des Gesamtbildes auf dem Steingut beurteilt werden kann und gegebenenfalls Änderungen nachträglich nicht mehr möglich sind bzw. lediglich schwer durchzuführen sind.
Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Erzeugen einer Struktur in einem Substrat bereitzustellen, mit dem auf einfache Weise un- terschiedliche Muster bzw. Gestaltungsformen in das Substrat eingebracht werden können.
Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
Erfindungsgemäß wird ein Substrat bereitgestellt, welches eine erste Schicht auf- weist. Danach wird eine Art Maske erstellt, die die Form der zu erstellenden bzw. einzubringenden Struktur aufweist und die die erste Schicht teilweise entsprechend der Form der einzubringenden Struktur abdeckt. Nach Abdecken der ersten Schicht wird eine zweite Schicht so auf das Substrat aufgebracht, daß die Freiflächen der Maske und somit ebenfalls die erste Schicht durch die zweite Schicht abgedeckt wird. Nach Aufbringung der zweiten Schicht wird dann die Maske samt darauf befindlicher zweiter Schicht abgelöst, so daß die Negativform der Struktur in der zweiten Schicht zu erkennen ist. Nach Ablösen der Maske wird diese mit einem Lösungsmittel kontaktiert, welches beispielsweise geeignet ist, die erste Schicht abzutragen. Nachdem in diesem Fall die erste Schicht abgetragen wird, wird die zweite Schicht abgelöst. Auf diese Weise wird eine entsprechend der Maske aus- gebildete Struktur in dem Substrat erzeugt.
Mit diesem Verfahren ist somit ein umständliches mechanisches Bearbeiten des Substrates nicht mehr notwendig. Insbesondere kann die Maske entsprechend dem Erstellen eines Bildes durch einen Künstler erzeugt werden, so daß der Gestal- tungsvielfalt von unterschiedlichen Motiven keine Grenzen gesetzt sind. Die Maske kann somit als Bild von dem Künstler direkt auf das Subtrat gezeichnet werden und bei Vorliegen eines Fehlers bzw. bei Nichtgefallen von dem Künstler unproblematisch ausgebessert bzw. abgeändert werden.
Weitere vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der Un- teransprüche.
Wird gemäß Anspruch 2 im Schritt a) eine Fliese als Substrat mit einer Glasur als erste Schicht bereitgestellt, so wird eine Möglichkeit geschaffen, handelsübliche Fliesen mit einem Muster zu versehen, welches sich der Kunde in Absprache mit dem Künstler erstellen lassen kann. Auch bei Nichtgefallen des als Maske aufge- tragenen Bildes kann der Künstler in Abstimmung mit dem Kunden Änderungen vornehmen, ohne dabei die Fliese als solche beschädigt zu haben. Auf diese Weise wird die Ausschußrate bei Erstellen eines auf Fliesen abgebildeten Musters ver- ringert. Insbesondere wird gemäß Anspruch 2 ein spezieller Effekt herbeigeführt, der darin entsteht, daß das Muster matt gegenüber der mit Glasur versehenen Fliese erscheinen kann.
Wird gemäß Anspruch 3 lediglich ein Substrat mit einer polierten Oberfläche als erste Schicht bereitgestellt, so können auf einfache Weise unterschiedliche Effekte durch den Grad der Politur und dem entsprechend matt erscheinenden Muster er- zielt werden.
Wird gemäß Anspruch 4 als Maske ein Klebeband verwendet, so kann dieses Kle- beband beim vorsichtigen Ablösen mehrfach verwendet werden und insbesondere kann ein in dem Klebeband enthaltenes Muster mehrfach auf unterschiedliche Substrate aufgeklebt werden und somit das gleiche Muster aber mit unterschiedli- chster Ausrichtungen erzeugt werden. Wird femer gemäß Anspruch 4 als Maske ein Kautschukmaterial verwendet, so können unterschiedlichen Lösungsmitteln zum Abtragen der ersten Schicht Rechnung getragen werden.
Generell hat es sich herausgestellt, daß gemäß Anspruch 5 als zweite Schicht eine säurebeständige Schicht herangezogen wird, da es sich in der Regel gezeigt hat, daß das Abtragen der ersten Schicht auf einfache Weise mit Säuren herbeigeführt werden kann.
Wird gemäß Anspruch 6 als säurebeständige Schicht Asphaltlack mit vorzugs- weise beigemischten Methyl-Keton verwendet, so wird ein Material herangezogen, welches einen hohen Grad an Säurebeständigkeit aufweist und einfach mit einem Pinsel oder ähnliches 30 bis 40 pm dick gleichmäßig aufgetragen werden kann. Ferner hat der Asphaltlack die Eigenschaft, daß dieser innerhalb von 10 Minuten austrocknen kann und die weiteren Verfahrensschritte ohne merkliche Fehlzeiten nacheinander abgearbeitet werden können. Es hat sich auch als vorteilhaft für eine bessere Bearbeitung und Verarbeitung erwiesen, den Asphaltlack mit Balsamter- pentinöl zu verdünnen.
Durch die Beimischung von Methylethylketon in Asphaltlack gemäß Anspruch 6 wird der Vorteil erzielt, dal3 der Härtegrad des Asphaltlacks auf einfache Weise eingestellt werden kann.
Je nach Anwendungsbedarf hat es sich gemäß Anspruch 7 als besonders vorteilhaft erwiesen, wenn als säurebeständige Schicht eine eisenoxidhaltige Mischung
beispielsweise in den Farben braun, kobaltblau, orange oder gelb oder ein Nickel- titan in der Farbe gelb oder auch Mennige (Pb304) verwendet wurde, die ebenfalls die zur Durchführung des Verfahrens notwendige Säurebeständigkeit aufwiesen.
Als effektives Lösungsmittel hat sich gemäß Anspruch 8 Kieselsäure (Si (CH) 4) gezeigt, welches vorzugsweise unverdünnt und/oder mit einer Einwirkzeit von 10 Stunden bzw. 60 Minuten verwendet wurde.
Um keine Rückstände bei Verwendung von Kieselsäure bzw. Fluatsäure entstehen zu lassen, hat es sich gemäß Anspruch 9 als vorteilhaft erwiesen, das Lösungs- mittel nach Ablösen der ersten Schicht zu neutralisieren, um beispielsweise Fluatsalze, die sich auf dem Substrat aufgrund der Kieselsäure bilden können, zu entfernen.
Erfolgt gemäß Anspruch 10 das Kontaktieren des Substrats mit einem Lösungs- mittel durch Aufbringen des Lösungsmittels, so wird gewährleistet, daß der Rest des Substrats unbehandelt bleibt und somit von dem Lösungsmittel nicht angegrif- fen wird. Auch wird durch das Aufbringen des Lösungsmittels erreicht, daß bei der Herstellung kein Tauchbad vorgenommen werden muß, sondern lediglich eine bestimmte Menge an Lösungsmittel verwendet werden muß.
Es hat sich gemäß Anspruch 11 als vorteilhaft erwiesen, wenn das Ablösen der Maske beispielsweise durch heißes Wasser erfolgt, da auf diese Weise das offene Substrat nicht verschmutzt wird, was beispielsweise dann erfolgt, wenn als Ablö- semittel ein Balsamterpentinöl mit der Eigenschaft verwendet wird, das in das of- fene Substrat eindringt. Bei Verwendung von heißem Wasser ist allerdings zu be- achten, dal3 dieses Wasser nicht trocknen sollte, da das Wasser kalkhaltig ist und Ränder auf dem Substrat bzw. Naturstein erzeugt werden. Hierzu ist es von Vor- teil, das Wasser mit holzfreiem Papier bzw. Umweltpapier, insbesondere Zellstoff, aufzunehmen bzw. abzutragen.
Um die Nachteile bei Verwendung von Wasser zu kompensieren, ist es beispiels- weise ebenfalls vorteilhaft, wenn gemäß Anspruch 12 das Ablösen der säurebe- ständigen Schicht durch Heißluft, vorzugsweise bei 300°C oder mehr, erfolgt.
Wird gemäß Anspruch 13 eine dritte Schicht zur Erzeugung eines Glanzes aufge- tragen, so wird mit dieser Maßnahme erreicht, daß die im Substrat erzeugte Struk- tur gleichzeitig versiegelt wird.
Es hat sich ebenfalls als vorteilhaft erwiesen, wenn gemäß Anspruch 14 die dritte Schicht aus mit 50%-igen Terpentinersatz verdünntem Leinöl, welches insbeson- dere gekocht, gebleicht oder kalt geschlagen ist, oder Standöl besteht, welches vorzugsweise 0,5% Sekatif, insbesondere Kobalt-Sekatif, als Trockenmittel auf- weist.
Wird gemäß Anspruch 16 das Kontaktieren des Substrats mit einem Lösungsmittel durch Einlegen des Substrats in das Lösungsmittel vorgenommen, so wird erreicht, daß ständig genügend Lösungsmittel das Substrat umgibt, um beispielsweise direkt in die zweite Schicht einzudringen. Durch das Eindringen des Lösungsmittels in die zweite Schicht wird erreicht, daß die zweite Schicht ausblutet und die zweite Schicht somit durch das Ausbluten als Katalysator fungiert, wobei die zweite Schicht in die erste Schicht des Substrats eindringt. Auf diese Weise wird erreicht, daß eine vorab vorgegebene Struktur als Freifläche unbelassen bzw. unbehandelt bleibt, die allerdings mit der zweiten Schicht versehene Fläche einen Unterschied zu der Strukturfläche aufweist. Über diese indirekte Methode wird ebenfalls eine Struktur an und in einem Substrat erzeugt.
Es hat sich als vorteilhaft herausgestellt, wenn gemäß Anspruch 17 als Lösungs- mittel Wasser mit beigemischtem Anlauger verwendet wird.
Wird gemäß Anspruch 19 zusätzlich Salmiak, vorzugsweise 25% Salmiakgeist zu dem Lösungsmittel hinzugemischt, so ist das Ausbluten besser einstellbar.
Gewisse durch das Behandlungsverfahren entstehende Spurenelemente können dann gemäß Anspruch 20 beispielsweise mit Balsamterpentin oder Testbenzin bzw. Wundbenzin abgewaschen werden. Danach sollte das Substrat getrocknet werden. Zur Glanzerhöhung ist es beispielsweise vorteilhaft das Substrat mit zel- lulosem Papier, welches mit Testbenzin getränkt ist, zu behandeln.
Wird gemäß Anspruch 21 zwischen der ersten und zweiten Schicht eine weitere Schicht vorgesehen, so kann über diese weitere Schicht sowohl das Ausbluten bzw. das Eindringen der zweiten Schicht in die erste Schicht gesteuert werden und insbesondere können dadurch unterschiedliche Schattierungseffekte in der ersten Schicht herbeigeführt werden.
Als besonders vorteilhaft hat sich herausgestellt, wenn die weitere Schicht parafin- haltig ist.
Wird beispielsweise gemäß Anspruch 25 als Substrat Glas verwendet, welches beispielsweise auch ein Glas eines Spiegels sein kann, so können je nach Erzeugen einer Struktur in dem Glas spezielle Effekte bzw. Facetteneffekte herbeigeführt werden, welche beispielsweise im Nahbereich unsichtbar sind, allerdings im Fernbereich, d. h. beispielsweise > 1 m, als Struktur erkennbar werden. Hierbei hat es sich als besonders vorteilhaft herausgestellt, wenn als Lösungsmittel Kiesel- säure (Si (CH) 4) verwendet wird und das Glas oder der Spiegel in eine Mischung eingelegt wird, welche beispielsweise Borsäure (H3BO3), Hirschhornsalz (CH5NO3), Ammoniumcarbonat ((NH4) 2CO3), Oxalsäure (C2H204x2H2O), Wein- säure bzw. Gries (C4H606), Natriumsulfat (Na2SO4), Nitrilotriessigsäure (C6H9NO6) sowie Titriplex III (Cl0Hl4N2Na208x2H2O) enthält. Auf diese Weise wird entweder ein Mamoriereffekt oder der oben beschriebene Effekt erhalten, welcher aus dem Fembereich betrachtet sichtbar wird.
Demgegenüber hat sich gemäß Anspruch 26 es als vorteilhaft herausgestellt, wenn beispielsweise als Substrat beschichtetes Holz, wie z. B. im Küchenbereich ver- wendet, herangezogen wird, dieses mit einem Lösungsmittel mit einer Mischung aus Wasser und Hirschhommehl behandelt wird, welches zusätzlich vorzugsweise mit Bimsmehl vermischt ist. Auf diese Weise wird ein besonderer Effekt, d. h. Schattierungseffekt, der in der Beschichtung des Holzes vorhandenen Struktur herbeigeführt.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der übrigen Unteransprüche.
Unter Bezugnahme auf die Figur 1 soll eine Ausgestaltung der Erfindung näher erläutert werden, die in den Figuren la bis lf jeweils eine perspektivische und eine Schnittansicht eines zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens geeig- neten Substrat als Fliese mit Glasur zeigt.
In Fig. la ist perspektivisch eine Fliese als Substrat (1) mit einer ersten Schicht (3) gezeigt. Auf dieses Substrat (1) wird eine Maske auf die erste Schicht (3) aufge- legt, wobei die Maske (5) ein bestimmtes Motive, hier eine Raute, zeigen kann (s.
Fig. lb). Die Maske selbst kann jedoch jede andere beliebig ausgestaltete Form aufweisen, bis hin zu Ornamenten bzw. Porträts.
Gemäß Fig. 1c wird auf das so vorbereitete Substrat mit Maske eine weitere zweite Schicht 7 aufgetragen. Nach Aufbringung dieser zweiten Schicht wird gemäß Fig. ld die Maske abgelöst, so daß ein Teil der ersten Schicht (3) freigelegt wird (siehe Pfeil I). Nach Ablösen der Maske (5) wird ein Lösungsmittel aufgebracht, um die erste Schicht, d. h. die freigelegte Fläche I abzutragen. Gemäß Fig. le wird nach Ablösen der ersten Schicht ein Teil des Substrates freigelegt (siehe Pfeil II). Nachdem die erste Schicht teilweise abgetragen wird, wird die zweite Schicht (7) abgelöst, so daß entsprechend der Maske ein in der ersten Schicht enthaltenes Muster vorhanden ist, d. h. das Substrat entsprechend der Maske (5) freigelegt ist.
Generell ist es somit möglich, eine Struktur in der Fliese direkt einzubringen, ohne dabei eine mechanische Bearbeitung mittels Bohren, Fräsen, Klopfen oder Meißeln durchführen zu müssen.
Es hat sich auch als vorteilhaft erwiesen, daß beispielsweise eine Schellackschicht bzw. selbstklebende Folie auf die fertige Fliese aufgebracht wird, um einen be- sonderen Schutz der so hergestellten Fliese herbeizuführen. Mit dieser Maßnahme wird beispielsweise ein doppelter Schutz des Substrats bzw. der Fliese herbeige- führt.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren wird somit eine vereinfachte Handhabung hinsichtlich von Steinmetzarbeiten insbesondere bei dem Erstellen von Inschriften auf Grabsteinen ermöglicht.
Generell ist es auch möglich, daß das erfindungsgemäße Verfahren mehrfach auf ein Substrat angewandt wird. Es ist hierbei allerdings zu beachten, daß die einzel- nen Schichten des Subtrats und die jeweils zum Abtragen eingesetzten Lösungs- mittel so aufeinander abgestimmt sind, daß die jeweils von den einzelnen Masken erstellten Strukturen nicht durch ein nachfolgend angewandtes Lösungsmittel an- gegriffen werden kann.
Es ist ebenso denkbar, daß als Substrat neben Fliesen auch sonstige im Sanitärbe- reich anzutreffende Gegenstände herangezogen werden können, wie z. B. Wasch- becken, Bidet, Toilettenfuß und dergleichen.