Title:
METHOD FOR PRODUCING WAVELENGTH PLATE
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2011/162331
Kind Code:
A1
Abstract:
Disclosed is a method for producing a wavelength plate, by which a wavelength plate that has excellent durability and stability, while maintaining high moisture resistance can be produced. Specifically, a dielectric material is obliquely vapor deposited on a substrate so as to form a birefringent layer (14) that has columnar portions (12), in each of which fine particles of the dielectric material are laminated in a columnar shape, and gap portions (13) that are respectively formed between two columnar portions (12). The thus-formed birefringent layer (14) is subjected to an annealing treatment at a temperature within the range of 100-300˚C (inclusive). Following that, a protective film (15) with low water vapor permeability is formed on the annealed birefringent layer (14) by forming an inorganic compound on the birefringent layer (14) at high density.
Inventors:
KOIKE, Nobuyuki (Gate City Osaki East Tower 8F, 1-11-2, Osaki, Shinagawa-k, Tokyo 32, 〒1410032, JP)
小池 伸幸 (〒32 東京都品川区大崎１丁目１１番２号 ゲートシティ大崎イーストタワー８階 ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社内 Tokyo, 〒1410032, JP)
YAMADA, Takatoshi (Gate City Osaki East Tower 8F, 1-11-2, Osaki, Shinagawa-k, Tokyo 32, 〒1410032, JP)
山田 隆俊 (〒32 東京都品川区大崎１丁目１１番２号 ゲートシティ大崎イーストタワー８階 ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社内 Tokyo, 〒1410032, JP)
小池 伸幸 (〒32 東京都品川区大崎１丁目１１番２号 ゲートシティ大崎イーストタワー８階 ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社内 Tokyo, 〒1410032, JP)
YAMADA, Takatoshi (Gate City Osaki East Tower 8F, 1-11-2, Osaki, Shinagawa-k, Tokyo 32, 〒1410032, JP)
山田 隆俊 (〒32 東京都品川区大崎１丁目１１番２号 ゲートシティ大崎イーストタワー８階 ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社内 Tokyo, 〒1410032, JP)
Application Number:
JP2011/064394
Publication Date:
December 29, 2011
Filing Date:
June 23, 2011
Export Citation:
Assignee:
SONY CHEMICAL & INFORMATION DEVICE CORPORATION (Gate City Osaki, East Tower 8F 1-11-2, Osaki, Shinagawa-k, Tokyo 32, 〒1410032, JP)
ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社 (〒32 東京都品川区大崎１丁目１１番２号 ゲートシティ大崎イーストタワー８階 Tokyo, 〒1410032, JP)
KOIKE, Nobuyuki (Gate City Osaki East Tower 8F, 1-11-2, Osaki, Shinagawa-k, Tokyo 32, 〒1410032, JP)
小池 伸幸 (〒32 東京都品川区大崎１丁目１１番２号 ゲートシティ大崎イーストタワー８階 ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社内 Tokyo, 〒1410032, JP)
YAMADA, Takatoshi (Gate City Osaki East Tower 8F, 1-11-2, Osaki, Shinagawa-k, Tokyo 32, 〒1410032, JP)
ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社 (〒32 東京都品川区大崎１丁目１１番２号 ゲートシティ大崎イーストタワー８階 Tokyo, 〒1410032, JP)
KOIKE, Nobuyuki (Gate City Osaki East Tower 8F, 1-11-2, Osaki, Shinagawa-k, Tokyo 32, 〒1410032, JP)
小池 伸幸 (〒32 東京都品川区大崎１丁目１１番２号 ゲートシティ大崎イーストタワー８階 ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社内 Tokyo, 〒1410032, JP)
YAMADA, Takatoshi (Gate City Osaki East Tower 8F, 1-11-2, Osaki, Shinagawa-k, Tokyo 32, 〒1410032, JP)
International Classes:
G02B5/30; B32B9/00; G02F1/13363
Attorney, Agent or Firm:
KOIKE, Akira et al. (32F St. Luke's Tower, 8-1 Akashi-cho, Chuo-k, Tokyo 44, 〒1040044, JP)
Claims: