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Patent Searching and Data


Title:
METHOD FOR THE PRODUCTION OF A MULTILAYER ELEMENT, AND MULTILAYER ELEMENT
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2011/006634
Kind Code:
A2
Abstract:
The invention relates to a method for producing a multilayer element (100) as well as to a multilayer element (100) produced using said method. A decorative layer (3) is formed on and/or within a support layer (1). Said decorative layer (3) has a first area (8) and a second area (9). When viewed perpendicular to the plane of the support layer (1), the decorative layer (3) has a first transmittance in the first area (8) and a second transmittance that is greater than the first transmittance in the second area (9). A layer (5) that is to be structured and a photoactivatable resist layer are disposed on the first side (11) of the support layer (1). The decorative layer (3) is used as an exposure mask when the resist layer is exposed through the decorative layer (3). The at least one layer (5) that is to be structured and the resist layer are structured in register using synchronized structuring processes.

Inventors:
BREHM, Ludwig (Vogtlandstr. 16, Adelsdorf, 91325, DE)
STAUB, René (Hofmatt 24, Hagendorn, CH-6332, CH)
Application Number:
EP2010/004251
Publication Date:
January 20, 2011
Filing Date:
July 13, 2010
Export Citation:
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Assignee:
LEONHARD KURZ STIFTUNG & CO. KG (Schwabacher Strasse 482, Fürth, 90763, DE)
BREHM, Ludwig (Vogtlandstr. 16, Adelsdorf, 91325, DE)
STAUB, René (Hofmatt 24, Hagendorn, CH-6332, CH)
Attorney, Agent or Firm:
ZINSINGER, Norbert et al. (Louis - Pöhlau - Lohrentz, Postfach 30 55, Nürnberg, 90014, DE)
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Claims:
Patentansprüche

1. Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers (100), wobei

a) auf und/oder in einer Trägerlage (1) mit einer ersten Seite (11) und einer zweiten Seite (12) eine ein- oder mehrschichtige Dekorlage (3) mit einem ersten Bereich (8) und einem zweiten Bereich (9) ausgebildet wird, wobei die Dekorlage (3) senkrecht zur Ebene der Trägerlage (1) gesehen in dem ersten Bereich (8) einen ersten Transmissionsgrad und in dem zweiten Bereich (9) einen im Vergleich zu dem ersten Transmissionsgrad größeren zweiten Transmissionsgrad aufweist, wobei sich die besagten

Transmissionsgrade auf eine elektromagnetische Strahlung (7) mit einer für eine Photoaktivierung geeigneten Wellenlänge beziehen,

b) mindestens eine zu strukturierende Schicht (5) auf der ersten Seite (11) der Trägerlage (1) angeordnet wird,

c) eine mittels der besagten elektromagnetischen Strahlung (7) photoaktivierbare Resistschicht (6) auf der ersten Seite (11) der Trägerlage (1) so angeordnet wird, dass die Resistschicht (6) auf der von der

Trägerlage (1) abgekehrten Seite der mindestens einen zu strukturierenden Schicht (5) und die Dekorlage (3) auf der anderen Seite der mindestens einen zu strukturierenden Schicht (5) angeordnet ist,

d) die Resistschicht (6) von der zweiten Seite (12) der Trägerlage (1) her mittels der besagten elektromagnetischen Strahlung (7) belichtet wird, wobei die Dekorlage (3) durch die Ausbildung des ersten Bereichs (8) und des zweiten Bereichs (9) als eine Belichtungsmaske dient, und e) die mindestens eine zu strukturierende Schicht (5) und die

Resistschicht (6) mittels zueinander synchronisierter strukturgebender Prozesse zueinander passergenau strukturiert werden. 2. Verfahren nach Anspruch 1 ,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dekorlage (3) eine erste Lackschicht (31) umfasst, die in dem ersten Bereich (8) mit einer ersten Schichtdicke und in dem zweiten Bereich (9) entweder nicht oder mit einer im Vergleich zu der ersten Schichtdicke kleineren zweiten Schichtdicke auf der Trägerlage (1) angeordnet wird, so dass die Dekorlage (3) in dem ersten Bereich (8) den besagten ersten Transmissionsgrad und in dem zweiten Bereich (9) den besagten zweiten Transmissionsgrad aufweist. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dekorlage (3) eine erste Einfärbung (33, 34) der Trägerlage (1) umfasst, die in dem ersten Bereich (8) mit einer ersten Schichtdicke und in dem zweiten Bereich (9) entweder nicht oder mit einer im Vergleich zu der ersten Schichtdicke kleineren zweiten Schichtdicke ausgebildet wird, so dass die Dekorlage (3) in dem ersten Bereich (8) den besagten ersten Transmissionsgrad und in dem zweiten Bereich (9) den besagten zweiten Transmissionsgrad aufweist. 4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Schichtdicke und das Material der Dekorlage (3) so gewählt wird, dass der erste Transmissionsgrad größer als Null ist. 5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dicke und das Material der Dekorlage (3) so gewählt wird, dass das Verhältnis zwischen dem zweiten Transmissionsgrad und dem ersten Transmissionsgrad größer als zwei ist.

6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

dadurch gekennzeichnet,

dass zwischen der Trägerlage (1) und der mindestens einen zu

strukturierenden Schicht (5), vorzugsweise unmittelbar auf der ersten Seite der Trägerlage (1), mindestens eine funktionelle Schicht (2), insbesondere eine Ablöseschicht und/oder eine Schutzlackschicht, angeordnet wird.

7. Verfahren nach Anspruch 6,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dicke und das Material der Dekorlage (3) so gewählt wird, dass die elektromagnetische Strahlung (7), gemessen nach einem Durchgang durch ein Schichtpaket bestehend aus der Trägerlage (1), der mindestens einen funktionellen Schicht (2) und der Dekorlage (3), in dem ersten Bereich (8) einen Transmissionsgrad von ca.0,3 und in dem zweiten Bereich (9) einen Transmissionsgrad von ca.0,7 aufweist. 8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

dadurch gekennzeichnet,

dass auf der ersten Seite (11) der Trägerlage (1) mindestens eine

Reliefstruktur (42) ausgebildet wird, und

dass die mindestens eine zu strukturierende Schicht (5) auf der Oberfläche (40) der mindestens einen Reliefstruktur (42) angeordnet wird.

9. Verfahren nach Anspruch 8,

dadurch gekennzeichnet,

dass auf der ersten Seite (11) der Trägerlage (1) eine Replizierschicht (4) angeordnet wird, und

dass die mindestens eine Reliefstruktur (42) in eine von der Trägerlage (1) abgewandte Oberfläche (40) der Replizierschicht (4) eingeprägt wird.

10. Verfahren nach Anspruch 8,

dadurch gekennzeichnet,

dass die mindestens eine Reliefstruktur (42) in die Trägerlage (1) eingeprägt wird.

11. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10,

dadurch gekennzeichnet,

dass die mindestens eine Relief Struktur (42) zumindest teilweise in dem ersten Bereich (8) und/oder in dem zweiten Bereich (9) angeordnet wird.

12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

dadurch gekennzeichnet,

dass nach dem Schritt e) eine Ausgleichsschicht (10) auf der ersten Seite (11) der Trägerlage (1) aufgebracht wird.

13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

dadurch gekennzeichnet,

dass mindestens eine Schicht der Dekorlage (3) auf der zweiten Seite (12) der Trägerlage (1 ) aufgebracht wird.

14. Verfahren nach Anspruch 13,

dadurch gekennzeichnet,

dass die auf der zweiten Seite (12) der Trägerlage (1) aufgebrachte mindestens eine Schicht der Dekorlage (3) nach dem Belichtungsschritt d) von der Trägerlage (1) entfernt wird.

15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

dadurch gekennzeichnet,

dass zur Ausbildung der photoaktivierbaren Schicht (6) ein positiver

Photoresist, dessen Löslichkeit bei einer Aktivierung durch Belichten zunimmt, oder ein negativer Photoresist, dessen Löslichkeit bei einer Aktivierung durch Belichten abnimmt, verwendet wird, und dass die Resistschicht (6) bei Verwendung eines positiven Photoresists in dem zweiten Bereich (9) oder bei Verwendung eines negativen Photoresists in dem ersten Bereich (8) entfernt wird, vorzugsweise durch ein Lösemittel.

16. Verfahren nach Anspruch 15,

dadurch gekennzeichnet,

dass die zu strukturierende Schicht (5) in dem ersten oder zweiten Bereich (8, 9), in dem die Resistschicht (6) entfernt worden ist, entfernt wird, vorzugsweise durch ein Ätzmittel.

17. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

dadurch gekennzeichnet,

dass für den Belichtungsschritt d) UV-Strahlung (7) verwendet wird, vorzugsweise mit einem Strahlungsmaximum im Bereich von 365 nm.

18. Mehrschichtkörper (100) mit einer Trägerlage (1 ), die eine erste Seite (11 ) und eine zweite Seite (12) aufweist, und einer auf und/oder in der Trägerlage (1) ausgebildeten ein- oder mehrschichtigen Dekorlage (3), die einen ersten Bereich (8) und einen zweiten Bereich (9) aufweist, wobei die Dekorlage (3) senkrecht zur Ebene der Trägerlage (1) gesehen in dem ersten Bereich (8) einen ersten Transmissionsgrad und in dem zweiten Bereich (9) einen im Vergleich zu dem ersten Transmissionsgrad größeren zweiten

Transmissionsgrad aufweist, wobei sich die besagten Transmissionsgrade auf eine elektromagnetische Strahlung (7) mit einer für eine Photoaktivierung geeigneten Wellenlänge beziehen, wobei der Mehrschichtkörper (100) außerdem mindestens eine im Register zu dem ersten Bereich (8) und dem zweiten Bereich (9) strukturierte Schicht (5) aufweist. 19. Mehrschichtkörper (100) nach Anspruch 18,

dadurch gekennzeichnet,

dass Mehrschichtkörper (100) in dem ersten Bereich (8) oder dem zweiten Bereich (9) eine mittels der besagten elektromagnetischen Strahlung photoaktivierbare Resistschicht (6) aufweist, wobei die mindestens eine strukturierte Schicht (5) und die Resistschicht (6) passergenau zueinander ausgerichtet so auf der ersten Seite der Trägerlage (1) angeordnet sind, dass die Resistschicht (6) auf der von der Trägerlage (1 ) abgekehrten Seite der mindestens einen strukturierten Schicht (5) und die Dekorlage (3) auf der anderen Seite der mindestens einen strukturierten Schicht (5) angeordnet ist. 20. Mehrschichtkörper (100) nach Anspruch 18 oder 19,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dekorlage (3) eine erste Lackschicht (31) umfasst, die in dem ersten Bereich (8) mit einer ersten Schichtdicke und in dem zweiten Bereich (9) entweder nicht oder mit einer im Vergleich zu der ersten Schichtdicke kleineren zweiten Schichtdicke auf der Trägerlage (1) angeordnet ist, so dass die Dekorlage (3) in dem ersten Bereich (8) den besagten ersten Transmissionsgrad und in dem zweiten Bereich (9) den besagten zweiten Transmissionsgrad aufweist. 21. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 20,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dekorlage (3) eine erste Einfärbung (33, 34) der Trägerlage (1) umfasst, die in dem ersten Bereich (8) mit einer ersten Schichtdicke und in dem zweiten Bereich (9) entweder nicht oder mit einer im Vergleich zu der ersten Schichtdicke kleineren zweiten Schichtdicke ausgebildet ist, so dass die Dekorlage (3) in dem ersten Bereich (8) den besagten ersten

Transmissionsgrad und in dem zweiten Bereich (9) den besagten zweiten Transmissionsgrad aufweist. 22. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 21 ,

dadurch gekennzeichnet, dass die Dekorlage (3) für sichtbares Licht mit einer Wellenlänge in einem Bereich von ungefähr 380 bis 750 nm zumindest teilweise durchlässig ist.

23. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 22,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dekorlage (3) mit mindestens einem opaken und/oder mindestens einem transparenten Farbmittel eingefärbt ist, das zumindest in einem Wellenlängenbereich des elektromagnetischen Spektrums farbig oder farberzeugend ist, insbesondere buntfarbig oder bunt farberzeugend ist, insbesondere dass ein Farbmittel in der Dekorlage (3) enthalten ist, das außerhalb des sichtbaren Spektrums angeregt werden kann und einen visuell erkennbaren farbigen Eindruck erzeugt.

24. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 23,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dekorlage (3) mit mindestens einem Farbmittel der Farbe gelb, magenta, cyan oder schwarz (CMYK) oder der Farbe rot, grün oder blau (RGB) eingefärbt ist, und/oder mit mindestens einem rot und/oder grün und/oder blau fluoreszierenden strahlungsanregbaren Pigment oder Farbstoff versehen ist und dadurch eine additive Farbe bei Bestrahlung erzeugt.

25. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 24,

dadurch gekennzeichnet,

dass der erste Transmissionsgrad größer als Null ist.

26. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 25,

dadurch gekennzeichnet,

dass das Verhältnis zwischen dem zweiten Transmissionsgrad und dem ersten Transmissionsgrad größer als zwei ist.

27. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 26,

dadurch gekennzeichnet,

dass auf der ersten Seite (11) der Trägerlage (1) mindestens eine

Reliefstruktur (42) ausgebildet und die mindestens eine zu strukturierende Schicht (5) auf der Oberfläche (40) der mindestens einen Reliefstruktur (42) angeordnet ist.

28. Mehrschichtkörper (100) nach Anspruch 27,

dadurch gekennzeichnet,

dass auf der ersten Seite (11) der Trägerlage (1) eine Replizierschicht (4) angeordnet und die mindestens eine Reliefstruktur (42) in eine von der Trägerlage (1) abgewandte Oberfläche (40) der Replizierschicht (4) eingeprägt ist. 29. Mehrschichtkörper (100) nach Anspruch 27,

dadurch gekennzeichnet,

dass die mindestens eine Reliefstruktur (42) in die Trägerlage (1) eingeprägt ist. 30. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 27 bis 29,

dadurch gekennzeichnet,

dass die mindestens eine Reliefstruktur (42) zumindest teilweise in dem ersten Bereich (8) und/oder in dem zweiten Bereich (9) angeordnet ist. 31. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 30,

dadurch gekennzeichnet,

dass auf der von der Trägerlage (1) abgekehrten Seite der mindestens einen strukturierten Schicht (5) eine Ausgleichsschicht (10) angeordnet ist. 32. Mehrschichtkörper (100) nach Anspruch 28 und 31 ,

dadurch gekennzeichnet,

dass der Brechungsindex der Ausgleichsschicht (10) im sichtbaren Wellenlängenbereich im Bereich von 90% bis 110% des Brechungsindexes der Replizierschicht (4) liegt.

33. Mehrschichtkörper (100) nach Anspruch 31 oder 32,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Ausgleichsschicht (10) als eine Adhäsionsschicht ausgebildet ist.

34. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 33,

dadurch gekennzeichnet,

dass mindestens eine Schicht der Dekorlage (3) auf der zweiten Seite (12) der Trägerlage (1) angeordnet ist.

35. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 34,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dekorlage (3) mindestens zwei, unterschiedliche Farbeindrücke hervorrufende Lackschichten (31, 32) umfasst.

36. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 35,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dekorlage (3) eine erste Lackschicht (31), die lediglich

bereichsweise auf der Trägerlage (1) aufgebracht ist, und eine zweite Lackschicht (32), die vollflächig auf der Trägerlage (1) aufgebracht ist, umfasst. 37. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 36,

dadurch gekennzeichnet,

dass die mindestens eine strukturierte Schicht (5) eine oder mehrere der folgenden Schichten umfasst: Metallschicht, HRI-Schicht ,

Flüssigkristallschicht, Polymerschicht, Dünnfilmschicht, Pigmentschicht, Halbleiterschicht.

38. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 37,

dadurch gekennzeichnet,

dass die mindestens eine strukturierte Schicht (5) eine Dicke im Bereich von 20 bis 1000 nm, insbesondere 20 bis 100 nm aufweist.

39. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 38,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dekorlage (3) eine Dicke im Bereich von 0,5 bis 5 μm aufweist. 40. Mehrschichtkörper (100) nach Anspruch 19,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Resistschicht (6) eine Dicke im Bereich von 0,3 bis 3 μm aufweist.

41. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 40,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dekorlage (3) hochdisperse Pigmente, insbesondere eine

Mikrolith®-K-Pigmentdispersion, aufweist.

42. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 41 ,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dekorlage (3) anorganische Absorber mit hohem Streuanteil, insbesondere nano-skalierte UV-Absorber auf Basis anorganischer Oxide, aufweist. 43. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 42,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Dekorlage (3) organische Absorber, insbesondere Benzotriazol- Derivate, mit einem Massenanteil in einem Bereich von ca.3% bis 5% aufweist.

44. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 43,

dadurch gekennzeichnet, dass die Dekorlage (3) organische oder anorganische, fluoreszierende Pigmente in Kombination mit hochdispersen Pigmenten, insbesondere Mikrolith®-K, aufweist. 45. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 44,

dadurch gekennzeichnet,

dass die Trägerlage (1) als eine ein- oder mehrschichtige Trägerfolie ausgebildet ist. 46. Mehrschichtkörper (100) nach einem der Ansprüche 18 bis 45,

dadurch gekennzeichnet,

dass zwischen der Trägerlage (1) und der mindestens einen zu

strukturierenden Schicht (5), vorzugsweise unmittelbar auf der ersten Seite der Trägerlage (1), mindestens eine funktionelle Schicht (2), insbesondere eine Ablöseschicht und/oder eine Schutzlackschicht, angeordnet ist.

Description:
Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers

sowie Mehrschichtkörper

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers mit einer Trägerlage und einer auf und/oder in der Trägerlage ausgebildeten ein- oder mehrschichtigen Dekorlage, sowie einen danach erhältlichen Mehrschichtkörper.

Optische Sicherheitselemente werden häufig dazu verwendet, das Kopieren von Dokumenten oder Produkten zu erschweren, um ihren Missbrauch zu verhindern. So finden optische Sicherheitselemente Verwendung zur Sicherung von

Dokumenten, Banknoten, Kredit- und Geldkarten, Ausweisen, Verpackungen hochwertiger Produkte und dergleichen. Hierbei ist es bekannt, optisch variable Elemente als optische Sicherheitselemente zu verwenden, die mit herkömmlichen Kopierverfahren nicht dupliziert werden können. Es ist auch bekannt,

Sicherheitselemente mit einer strukturierten Metallschicht auszustatten, die in Form eines Textes, Logos oder eines sonstigen Musters ausgebildet ist.

Das Erzeugen einer strukturierten Metallschicht aus einer beispielsweise durch Sputtem oder Aufdampfen flächig aufgebrachten Metallschicht erfordert eine Vielzahl von Prozessen, insbesondere wenn feine Strukturen erzeugt werden sollen, die eine hohe Fälschungssicherheit aufweisen. So ist es beispielsweise bekannt, eine vollflächig aufgebrachte Metallschicht durch Positiv- oder Negativ- Ätzen oder durch Laser-Ablation partiell zu demetallisieren und damit zu strukturieren. Alternativ dazu ist es möglich, Metallschichten mittels Verwendung von Bedampfungsmasken bereits in strukturierter Form auf einen Träger aufzubringen.

Je mehr Fertigungsschritte zur Herstellung des Sicherheitselements vorgesehen sind, desto größere Bedeutung erhält die Passer- oder Registergenauigkeit der einzelnen Verfahrensschritte, d.h. die Genauigkeit der Positionierung der einzelnen Werkzeuge relativ zueinander bei der Bildung des Sicherheitselements in Bezug auf am Sicherheitselement bereits vorhandene Merkmale oder

Schichten oder Strukturen.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen besonders schwer zu

reproduzierenden Mehrschichtkörper und ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Mehrschichtkörpers anzugeben, bei dem eine partiell ausgeformte Schicht im Register zu einer weiteren partiell ausgeformten Schicht ausgeformt ist.

Die Aufgabe wird durch ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers gelöst, in dem

a) auf und/oder in einer Trägerlage mit einer ersten Seite und einer zweiten Seite eine ein- oder mehrschichtige Dekorlage mit einem ersten Bereich und einem zweiten Bereich ausgebildet wird, wobei die Dekorlage senkrecht zur Ebene der Trägerlage gesehen in dem ersten Bereich einen ersten

Transmissionsgrad und in dem zweiten Bereich einen im Vergleich zu dem ersten Transmissionsgrad größeren zweiten Transmissionsgrad aufweist, wobei sich die besagten Transmissionsgrade auf eine elektromagnetische Strahlung mit einer für eine Photoaktivierung geeigneten Wellenlänge beziehen,

b) mindestens eine zu strukturierende Schicht auf der ersten Seite der

Trägerlage angeordnet wird, c) eine mittels der besagten elektromagnetischen Strahlung photoaktivierbare Resistschicht (kurz als„Resist" bezeichnet) auf der ersten Seite der

Trägerlage so angeordnet wird, dass die Resistschicht auf der von der Trägerlage abgekehrten Seite der mindestens einen zu strukturierenden Schicht und die Dekorlage auf der anderen Seite der mindestens einen zu strukturierenden Schicht angeordnet ist,

d) die Resistschicht von der zweiten Seite der Trägerlage her mittels der

besagten elektromagnetischen Strahlung belichtet wird, wobei die Dekorlage durch die Ausbildung des ersten Bereichs und des zweiten Bereichs als eine Belichtungsmaske dient, und

e) die mindestens eine zu strukturierende Schicht und die Resistschicht mittels zueinander synchronisierter strukturgebender Prozesse zueinander

passergenau strukturiert werden. Die Schritte a) bis e) des erfindungsgemäßen Verfahrens sind bevorzugt in der angegebenen Reihenfolge auszuführen. Bei der Belichtung der

photoaktivierbaren Schicht mittels der besagten elektromagnetischen Strahlung von der der photoaktivierbaren Schicht abgewandten Seite der Trägerlage her durch die Dekorlage hindurch wirkt die den ersten Bereich und den zweiten Bereich definierende Dekorlage als eine Belichtungsmaske, da der erste Bereich einen Transmissionsgrad aufweist, der gegenüber dem Transmissionsgrad des zweiten Bereichs erniedrigt ist.

Ein derartiges Verfahren ermöglicht die Ausbildung besonders fälschungssicherer Mehrschichtkörper. Wie bereits erwähnt, dient bei dem Verfahren die Dekorlage während der Herstellung des Mehrschichtkörpers als eine Belichtungsmaske für eine Belichtung, d.h. eine Photoaktivierung, der photoaktivierbaren Resistschicht und am fertigen Mehrschichtkörper zur Dekoration. Die Dekorlage erfüllt also mehrere, völlig unterschiedliche Funktionen. Insbesondere ist die Dekorlage so ausgebildet, dass ein Betrachter eines mittels des Mehrschichtkörpers dekorierten Gegenstands die mindestens eine strukturierte Schicht durch die Dekorlage hindurch betrachten kann. Die typische Transmission der ersten Bereiche der Dekorlage ist also um mindestens eine Größenordnung größer als die typische Transmission einer herkömmlichen Belichtungsmaske, z.B. aus Metall.

Durch die Verwendung der Dekorlage als Belichtungsmaske wird die

Resistschicht passergenau zu den ersten und zweiten Bereichen der Dekorlage strukturiert, d.h. die Strukturen der strukturierten Resistschicht sind im Register zu den ersten und zweiten Bereichen der Dekorlage angeordnet. Darüber hinaus wird gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren die mindestens eine zu strukturierende Schicht passergenau zu der Resistschicht strukturiert. Das Verfahren erlaubt also die Ausbildung von mindestens drei zueinander

passergenau ausgebildeten Schichten: der Dekorlage, der Resistschicht und der mindestens einen zu strukturierenden Schicht. Mittels des Strukturierungsschritts e) wird die mindestens eine zu strukturierende Schicht als eine strukturierte Schicht ausgebildet. Als Ergebnis des Verfahrens weist der Mehrschichtkörper die strukturierte Schicht registergenau in dem ersten Bereich oder in dem zweiten Bereich der Dekorlage auf. Unter Register oder Registergenauigkeit ist die lagengenaue Anordnung von übereinanderliegenden Schichten zu verstehen. Die Registerhaltigkeit bzw. Registergenauigkeit der Schichten wird vorzugsweise anhand von Passermarken oder Registermarken kontrolliert, die auf allen

Schichten gleichermaßen vorhanden sind und an denen, vorzugsweise mittels optischer Erkennungsmethoden oder Sensorik, leicht erkannt werden kann, ob die Schichten im Register angeordnet sind. Die Registergenauigkeit ist in beiden Dimensionen, d.h. Länge und Breite der Schichten, gegeben. Unter Register bzw. Passer wird das genaue Aufeinander- oder

Übereinanderpassen von verschiedenen Elementen des Mehrschichtkörpers verstanden. Eine Lage umfasst mindestens eine Schicht. Eine Dekorlage umfasst eine oder mehrere Dekor- und/oder Schutzschichten, insbesondere als

Lackschichten ausgebildet. Die Dekorschichten können vollflächig oder in musterförmig strukturierter Form auf der Trägerlage angeordnet sein. Dabei können die einen oder mehreren Dekorschichten auf einer oder auf beiden Seiten der Trägerlage, die beispielsweise als eine Grund- oder Trägerfolie ausgebildet ist, angeordnet sein. Die Dekorlage umfasst mindestens eine die elektromagnetische Strahlung mit der für eine Photoaktivierung geeigneten Wellenlänge schwächende Schicht. Die Dekorlage hat in Bezug auf die

elektromagnetische Strahlung mit der für eine Photoaktivierung geeigneten Wellenlänge eine optische Dichte größer Null.

Durch die Ausbildung der Belichtungsmaske als eine Dekorlage ergibt sich zwangsläufig eine absolut 100%-ige Registergenauigkeit der Belichtungsmaske zu der Dekorlage, d.h. die Dekorlage selbst fungiert zumindest bereichsweise als Belichtungsmaske. Die Dekorlage und die Belichtungsmaske bilden also eine gemeinsame funktionale Einheit. Durch das ebenso einfache wie effektive erfindungsgemäße Verfahren bietet die vorliegende Erfindung einen erheblichen Vorteil gegenüber herkömmlichen Verfahren, in denen eine separate

Belichtungsmaske in Register zu der Dekorlage gebracht werden muss, wobei sich in der Praxis Registerabweichungen in den wenigsten Fällen ganz vermeiden lassen.

Durch die vorliegende Erfindung kann also die zu strukturierende Schicht ohne zusätzlichen technologischen Aufwand registergenau zu den durch die

Dekorschicht definierten ersten und zweiten Bereichen strukturiert werden. Bei herkömmlichen Verfahren zum Erzeugen einer Ätzmaske mittels einer

Masken bei ichtung, wobei die Maske entweder als eine separate Einheit, z.B. als eine separate Folie oder als eine separate Glasplatte/Glaswalze, oder als eine nachträglich aufgedruckte Schicht vorliegt, kann das Problem auftreten, dass durch vorherige, insbesondere thermisch und/oder mechanisch beanspruchende, Prozessschritte hervorgerufene lineare und/oder nichtlineare Verzüge in dem Mehrschichtkörper durch eine Ausrichtung der Maske auf dem Mehrschichtkörper nicht vollständig über die gesamte Fläche des Mehrschichtkörpers ausgeglichen werden können, obwohl die Maskenausrichtung an vorhandenen, vorzugsweise an den horizontalen und/oder vertikalen Rändern des Mehrschichtkörpers angeordneten, Register- oder Passermarken erfolgt. Die Toleranz schwankt dabei über die gesamte Fläche des Mehrschichtkörpers in einem vergleichsweise großen Bereich. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren werden die durch die Dekorschicht definierten ersten und zweiten Bereiche als Maske benutzt, wobei die die ersten und zweiten Bereiche definierenden Teile des Dekorschicht in einem frühen Prozessschritt während der Herstellung des Mehrschichtkörpers aufgebracht werden. Die als Dekorschicht ausgebildete Maske ist also allen nachfolgenden Prozessschritten des Mehrschichtkörpers unterworfen, und folgt dadurch automatisch allen durch diese Prozessschritte eventuell hervorgerufenen Verzügen in dem Mehrschichtkörper selbst. Dadurch können keine zusätzlichen Toleranzen, insbesondere auch keine zusätzlichen Toleranzschwankungen, über die Fläche des Mehrschichtkörpers auftreten, da das nachträgliche Erzeugen einer Maske und das dadurch nötige möglichst registergenaue nachträgliche Positionieren dieser vom bisherigen Prozessverlauf unabhängigen Maske vermieden wird. Die Toleranzen bzw. Registergenauigkeiten bei dem

erfindungsgemäßen Verfahren liegen lediglich in eventuell nicht absolut exakt ausgebildeten Rändern der ersten und zweiten Bereiche begründet, deren

Qualität durch das jeweils angewendete Herstellungsverfahren bestimmt wird. Die Toleranzen bzw. Registergenauigkeiten bei dem erfindungsgemäßen Verfahren liegen etwa im Mikrometerbereich, und damit weit unterhalb des

Auflösungsvermögens des Auges; d.h. das unbewaffnete menschliche Auge kann vorhandene Toleranzen nicht mehr wahrnehmen.

Bei der erfindungsgemäßen Belichtung der Resistschicht von der zweiten Seite der Trägerlage her wird die Resistschicht bereichsweise unterschiedlich stark belichtet. Diese unterschiedliche Belichtung der Resistschicht ist bedingt durch die unterschiedlichen Transmissionsgrade in dem ersten und dem zweiten

Bereich der Dekorlage, aber unabhängig von einer gegebenenfalls vorhandenen Reliefstruktur, insbesondere unabhängig von einer in dem Trägerfilm oder in einer auf dem Trägerfilm angeordneten Schicht abgeformten Reliefstruktur. Mit anderen Worten ist die unterschiedliche Belichtung der Resistschicht nicht bedingt durch eine Relief struktur. Die Strukturierung der mindestens einen zu strukturierenden Schicht und der photoaktivierbaren Resistschicht, die auf der ersten Seite der Trägerlage angeordnet wird, ist festgelegt durch die unterschiedlich starke Belichtung der Resistschicht, die ihrerseits durch den ersten und den zweiten Bereich der Dekorlage definiert ist; die Strukturierung ist aber unabhängig von einer gegebenenfalls vorhandenen Reliefstruktur und nicht bedingt durch eine

Reliefstruktur, insbesondere unabhängig von einer in dem Trägerfilm oder in einer auf dem Trägerfilm angeordneten Schicht abgeformten Reliefstruktur. Die

Grenzen des ersten und des zweiten Bereichs der Dekorlage entsprechen also, senkrecht zur Ebene der Trägerlage gesehen, registergenau den Grenzen der Strukturierung der mindestens einen zu strukturierenden Schicht und der photoaktivierbaren Resistschicht, sind aber unabhängig von und nicht bedingt durch Grenzen, insbesondere Konturen einer Reliefstruktur. Gemäß dem Schritt d) des erfindungsgemäßen Verfahrens dient die Dekorlage durch die Ausbildung des ersten Bereichs und des zweiten Bereichs als eine Belichtungsmaske, wobei die so gebildete Belichtungsmaske unabhängig von einer gegebenenfalls vorhandenen Reliefstruktur ist, insbesondere unabhängig von einer in dem Trägerfilm oder in einer auf dem Trägerfilm angeordneten Schicht abgeformten Reliefstruktur. Gemäß dem Schritt e) des

erfindungsgemäßen Verfahrens werden die mindestens eine zu strukturierende Schicht und die Resistschicht mittels zueinander synchronisierter

strukturgebender Prozesse zueinander passergenau strukturiert, wobei diese Strukturierung von dem ersten und zweiten Bereich der Dekorlage abhängig ist, aber unabhängig von einer gegebenenfalls vorhandenen Reliefstruktur,

insbesondere unabhängig von einer in dem Trägerfilm oder in einer auf dem Trägerfilm angeordneten Schicht abgeformten Reliefstruktur.

Die Funktion der Dekorlage als Belichtungsmaske ist unabhängig von der zu strukturierenden Schicht. Die physikalischen Eigenschaften, insbesondere die effektive Dicke oder die optische Dichte, der zu strukturierenden Schicht haben keinen Einfluss auf bzw. sind unabhängig von den physikalischen Eigenschaften der Dekorlage, d.h. der Belichtungsmaske, insbesondere von den Transmissionsgraden in dem ersten und dem zweiten Bereich der Dekorlage. Die Dekorlage bestimmt alleine und losgelöst von gegebenenfalls vorhandenen Reliefstrukturen, insbesondere diffraktiven Reliefstrukturen und anderen, insbesondere physikalischen und/oder chemischen Eigenschaften der zu strukturierenden Schicht die erfindungsgemäße Belichtungsmaske. Die zu strukturierende Schicht ist kein Teil der Belichtungsmaske, d.h. bei der

vorliegenden Erfindung liegen die Belichtungsmaske (= Dekorlage) und die zu strukturierende Schicht separat vor und sind funktional entkoppelt.

Es ist möglich, dass die mindestens eine zu strukturierende Schicht auf der gesamten Fläche, auf der sie auf der ersten Seite der Trägerlage angeordnet ist, eine konstante Schichtdicke aufweist. Es ist möglich, dass die Dekorlage eine erste Lackschicht umfasst, die in dem ersten Bereich mit einer ersten Schichtdicke und in dem zweiten Bereich entweder nicht oder mit einer im Vergleich zu der ersten Schichtdicke kleineren zweiten Schichtdicke auf der Trägerlage angeordnet wird, so dass die Dekorlage in dem ersten Bereich den besagten ersten Transmissionsgrad und in dem zweiten Bereich den besagten zweiten Transmissionsgrad aufweist.

Es ist möglich, dass die Dekorlage eine erste Einfärbung der Trägerlage umfasst, die in dem ersten Bereich mit einer ersten Schichtdicke und in dem zweiten Bereich entweder nicht oder mit einer im Vergleich zu der ersten Schichtdicke kleineren zweiten Schichtdicke ausgebildet wird, so dass die Dekorlage in dem ersten Bereich den besagten ersten Transmissionsgrad und in dem zweiten Bereich den besagten zweiten Transmissionsgrad aufweist. Die Einfärbung der Trägerlage kann als ein eingefärbter oder verfärbter Bereich innerhalb der Trägerlage ausgebildet sein. Ein bevorzugtes Verfahren zur Ausbildung einer Einfärbung der Trägerlage ist eine Lasermarkierung in der Trägerlage mit

Farbumschlag oder ein Verfahren, bei dem man Pigmente oder Farbstoffe in die Trägerlage eindiffundieren lässt. Ein Beispiel für eine Lasermarkierung in Form einer Schwärzung oder

Verdunkelung einer Trägerlage ist das Einwirken eines Laserstrahls auf eine Trägerlage beispielsweise aus Polycarbonat (= PC), welches besonders effektiv ist, wenn das Polycarbonat dotiert ist. Derartige Trägerlagen sind beispielsweise in der EP 0 991 523 B1 oder der EP 0 797 511 B1 beschrieben.

Ein Beispiel für ein Verfahren zum Eindiffundieren von Pigmenten oder

Farbstoffen ist das Bedrucken der Trägerlage mit einem lösemittelhaltigen Farblack, das anschließende zeitweise Einwirkenlassen des Farblackes und das anschließende Wiederabwaschen des Farblackes. Durch das oder die Lösemittel in dem Farblack wird die Oberfläche des Materials der Trägerlage teilweise angegriffen, wodurch Teile des Farblacks zumindest in die im Bereich der angegriffenen Oberfläche liegenden oberen Schichten der Trägerlage

eindiffundieren können. Das Material der Trägerlage ist dazu so auszuwählen, dass es durch ein in dem Farblack verwendetes Lösemittel angreifbar ist. Eine solche Kombination kann z.B. eine Trägerlage aus Polycarbonat und ein Farblack auf Basis aromatischer Lösemittel sein. Nach Entfernen des Farblackes verbleibt der eindiffundierte Bestandteil des Farblackes in der Trägerlage. Je nach

Schichtdicke des aufgebrachten Farblackes und je nach Auswahl des Materials der Trägerlage können unterschiedliche Mengen an Pigmenten oder Farbstoffen in die Trägerlage unterschiedlich tief eindiffundieren. Durch das Eindiffundieren entsteht zwar an den Rändern der ersten und/oder zweiten Bereiche eine leichte Unscharfe, deren horizontale Ausdehnung jedoch lediglich im Bereich der vorzugsweise vertikalen Schichtdicke des aufgedruckten Farblacks liegt. Hierbei bezieht sich„vertikal" auf eine Ausdehnung im Wesentlichen senkrecht zu der Trägerlage, und„horizontal" auf eine Ausdehnung im Wesentlichen in der durch die Trägerlage gebildeten Ebene. Wird beispielsweise in einem Druckverfahren eine Farblackschicht von wenigen Mikrometern, z.B. 1 bis 10 μm, aufgedruckt, liegt die Unscharfe auch nur in diesem Bereich von 1 bis 10 μm und damit weit unterhalb des Auflösungsvermögens des Auges. Ein anderes Beispiel für ein Verfahren zum Eindiffundieren von Pigmenten oder Farbstoffen ist das bereichsweise Bedrucken einer Trägerlage mit einem Liftoff- Lack zum Abdecken der zweiten Bereiche. Anschließend wird die Trägerlage einer Atmosphäre mit einem verdampften Farbmittel, beispielsweise einer Atmosphäre aus einem Inertgas wie Argon oder Stickstoff und verdampftem Jod ausgesetzt. In den vom Liftoff-Lack nicht bedeckten ersten Bereichen diffundiert nun das verdampfte Farbmittel in die Trägerlage ein. Anschließend kann der Liftoff-Lack entfernt werden. Alternativ oder auch in Kombination dazu kann die bereichsweise mit dem Liftoff-Lack bedruckte Trägerlage ein Bad durchlaufen, beispielsweise enthaltend apolare Lösemittel wie Toluol oder Benzin und einen darin gelösten Farbstoff und vorzugsweise einen ebenfalls im Bad gelösten UV- Blocker (UV = Ultraviolett). Dabei muss der Liftoff-Lack gegen die Lösemittel des Bades beständig sein, z.B. als ein wasserlöslicher Liftoff-Lack. Der Farbstoff und ggf. der UV-Blocker diffundieren in die vom Liftoff-Lack nicht bedeckten ersten Bereiche der Trägerlage in dem Bad ein und färben dadurch die Trägerlage ein. Anschließend kann der Liftoff-Lack von der Trägerlage entfernt werden.

Ein anderes Beispiel für ein Verfahren zum Eindiffundieren von Pigmenten oder Farbstoffen ist das Bedrucken der Trägerlage mittels eines

Thermosublimationsverfahrens, bei dem Farbstoff von einer separaten

Farbträgerlage mittels lokaler Hitzeeinwirkung durch einen Thermodruckkopf sublimiert, d.h. verdampft, wird. Dieser Farbdampf kann dann in die Trägerlage eindiffundieren, wobei hohe Auflösungen von ca. 300 dpi (= dots per inch) erreichbar sind. Um die Randschärfe beim Eindiffundieren weiter zu erhöhen, kann eine zusätzliche Maske verwendet werden, die zwischen Thermodruckkopf und Trägerlage angeordnet ist und nicht einzufärbende Bereiche der Trägerlage abdeckt.

Es ist möglich, dass eine Schicht der Dekorlage bereichsweise in

unterschiedlicher Schichtdicke auf und/oder innerhalb der Trägerlage ausgebildet wird. Es ist möglich, dass eine Schicht der Dekorlage als eine Schicht mit im wesentlichen gleichmäßiger Dicke ausgebildet ist und die Schicht lediglich bereichsweise, d.h. in musterförmig strukturierter Form, auf und/oder innerhalb der Trägerlage ausgebildet wird. Dabei ist es möglich, dass die Dekorlage nur auf einer Seite der Trägerlage aufgebrachte Schichten oder auf beiden Seiten der Trägerlage aufgebrachte Schichten umfasst.

Die Aufgabe wird weiter gelöst durch einen Mehrschichtkörper mit einer

Trägerlage, die eine erste Seite und eine zweite Seite aufweist, und einer auf und/oder in der Trägerlage ausgebildeten ein- oder mehrschichtigen Dekorlage, die einen ersten Bereich und einen zweiten Bereich aufweist, wobei die Dekorlage senkrecht zur Ebene der Trägerlage gesehen in dem ersten Bereich einen ersten Transmissionsgrad und in dem zweiten Bereich einen im Vergleich zu dem ersten Transmissionsgrad größeren zweiten Transmissionsgrad aufweist, wobei sich die besagten Transmissionsgrade auf eine elektromagnetische Strahlung mit einer für eine Photoaktivierung geeigneten Wellenlänge beziehen, wobei der

Mehrschichtkörper außerdem mindestens eine im Register zu dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich strukturierte Schicht aufweist.

Der erfindungsgemäße Mehrschichtkörper kann, beispielsweise als Etikett, Laminier-, Heißpräge- oder Transferfolie, zur Bereitstellung eines optischen Sicherheitselementes verwendet werden, das zur Sicherung von Dokumenten, Banknoten, Kredit- und Geldkarten, Ausweisen, Verpackungen hochwertiger Produkte und dergleichen zum Einsatz kommt. Dabei können die Dekorlage und die mindestens eine registergenau dazu angeordnete strukturierte Schicht als optisches Sicherheitselement dienen.

Wenn im folgenden eine Anordnung eines Gegenstands im ersten Bereich und/oder im zweiten Bereich beschrieben wird, so ist darunter zu verstehen, dass der Gegenstand so angeordnet ist, dass der Gegenstand und der erste und/oder der zweite Bereich der Dekorlage senkrecht zur Ebene der Trägerlage gesehen überlappen. Auch werden im Folgenden die Begriffe„erster Bereich" und„zweiter Bereich" ausgehend von der Dekorlage auch auf andere Gegenstände, z.B.

Schichten/Lagen, des Mehrschichtkörpers übertragen. Ein erster/zweiter Bereich eines Gegenstands bedeutet, dass der erste/zweite Bereich der Dekorlage und der erste/zweite Bereich des Gegenstands senkrecht zur Ebene der Trägerlage gesehen deckungsgleich sind. Die durch die Dekorlage ausgebildete Belichtungsmaske umfasst den ersten Bereich und den zweiten Bereich, die einen unterschiedlichen Transmissionsgrad in Bezug auf die bei der Belichtung verwendete Strahlung aufweisen. Die

Belichtungsmaske weist daher keinen für die bei der Belichtung verwendete Strahlung absolut undurchlässigen Bereich, sondern nur einen Bereich mit einem höheren Transmissionsgrad und einen Bereich mit einem geringeren

Transmissionsgrad auf und kann deshalb als eine Halbton-Maske bezeichnet werden. Der durch den ersten Bereich hindurch belichtete Bereich der

photoaktivierbaren Schicht wird in einem geringeren Maße aktiviert als der durch den zweiten Bereich hindurch belichtete Bereich der photoaktivierbaren Schicht, da der erste Bereich einen kleineren Transmissionsgrad besitzt als der zweite Bereich.

Es hat sich bewährt, wenn zur Ausbildung der photoaktivierbaren Schicht ein positiver Photoresist, dessen Löslichkeit bei einer Aktivierung durch Belichten zunimmt, oder ein negativer Photoresist, dessen Löslichkeit bei einer Aktivierung durch Belichten abnimmt, verwendet wird. Als Belichten bezeichnet man die selektive Bestrahlung einer photoaktivierbaren Schicht durch eine

Belichtungsmaske hindurch mit dem Ziel, die Löslichkeit der photoaktivierbaren Schicht durch eine fotochemische Reaktion lokal zu verändern. Nach der Art der fotochemisch erzielbaren Löslichkeitsveränderung unterscheidet man folgende photoaktivierbaren Schichten, die als Fotolacke ausgebildet sein können: Bei einem ersten Typ von photoaktivierbaren Schichten (z.B. Negativlack; engl, „negative resist") nimmt deren Löslichkeit durch Belichten im Vergleich zu unbelichteten Bereichen der Schicht ab, beispielsweise weil das Licht zum Aushärten der Schicht führt; bei einem zweiten Typ von photoaktivierbaren

Schichten (z.B. Positivlack; engl,„positive resist") nimmt deren Löslichkeit durch Belichten im Vergleich zu unbelichteten Bereichen der Schicht zu, beispielsweise weil das Licht zum Zersetzen der Schicht führt.

Weiter hat es sich bewährt, wenn die Resistschicht bei Verwendung eines positiven Photoresists in dem zweiten Bereich oder bei Verwendung eines negativen Photoresists in dem ersten Bereich entfernt wird. Dies kann durch ein Lösemittel wie eine Lauge oder Säure erfolgen. Bei Verwendung eines positiven Photoresists hat der stärker belichtete zweite Bereich der Resistschicht eine höhere Löslichkeit als der geringer belichtete erste Bereich der Resistschicht. Daher löst ein Lösemittel das Material der Resistschicht, d.h. den positiven

Photoresist, das in dem zweiten Bereich angeordnet ist, schneller und besser als das Material der Resistschicht, das in dem ersten Bereich angeordnet ist. Durch die Verwendung eines Lösemittels kann die Resistschicht also strukturiert werden, d.h. die Resistschicht wird in dem zweiten Bereich entfernt, aber bleibt in dem ersten Bereich erhalten.

Es hat sich bewährt, wenn die zu strukturierende Schicht in dem ersten oder zweiten Bereich, in dem die Resistschicht entfernt worden ist, entfernt wird. Dies kann durch ein Ätzmittel wie eine Säure oder Lauge erfolgen. Es ist bevorzugt, wenn das bereichsweise Entfernen der Resistschicht in dem ersten oder zweiten Bereich und der dadurch in dem ersten oder zweiten Bereich freigelegten

Bereiche der zu strukturierenden Schicht in demselben Verfahrensschritt erfolgt. Dies kann in einfacher Weise durch ein Löse-/Ätzmittel wie eine Lauge oder Säure erreicht werden, das in der Lage ist, sowohl die Resistschicht - bei einem positiven Resist im belichteten Bereich, bei einem negativen Resist im

unbelichteten Bereich - als auch die zu strukturierende Schicht zu entfernen, d.h. beide Materialien angreift. Dabei muss die Resistschicht so ausgebildet sein, dass sie dem zum Entfernen der zu strukturierenden Schicht eingesetzten Löse- bzw. Ätzmittel bei Verwendung eines positiven Resists im unbelichteten Bereich, bei Verwendung eines negativen Resists im belichteten Bereich zumindest eine ausreichende Zeit lang, d.h. für die Einwirkzeit des Löse- bzw. Ätzmittels widersteht. Eine bevorzugte Ausführung sieht vor, den Resist während des Arbeitsschrittes zum Entfernen der zu strukturierenden Schicht in dem ersten oder zweiten Bereich oder in einem separaten, darauf folgenden, späteren Arbeitsschritt ebenfalls weitgehend vollständig zu entfernen (=„strippen"). Dabei kann durch eine Verringerung der Anzahl übereinander liegender Schichten in dem

Mehrschichtkörper dessen Beständigkeit und Haltbarkeit erhöht werden, da Haftungsprobleme zwischen angrenzenden Schichten minimiert werden.

Weiterhin kann das optische Erscheinungsbild des Mehrschichtkörpers verbessert werden, da nach Entfernen des Resists, welcher insbesondere eingefärbt und/oder nicht vollständig transparent, sondern nur transluzent oder opak sein kann, die darunter liegenden Bereiche wieder frei liegen. Für spezielle

Anwendungen ohne besonders hohe Anforderungen an die Beständigkeit oder das optische Erscheinungsbild ist es jedoch auch möglich, den Resist auf der strukturierten Schicht zu belassen. Den Resist auf der strukturierten Schicht zu belassen kann insbesondere dann vorteilhaft sein, wenn er als ein relativ stabiler Negativ-Resist ausgeführt ist und eingefärbt wurde. Der Resist kann dazu mit zwei oder mehr Farben auch gedruckt werden. So können bei Betrachtung des Mehrschichtkörpers von unterschiedlichen Seiten unterschiedliche Farbeindrücke realisiert werden.

Es ist bevorzugt, wenn die Resistschicht von der der Resistschicht abgewandten Seite der Trägerlage her mittels der besagten elektromagnetischen Strahlung belichtet wird, wobei die Dekorlage durch die Ausbildung des mindestens einen ersten Bereichs und des mindestens einen zweiten Bereichs als eine

Belichtungsmaske dient. Die mindestens eine zu strukturierende Schicht wird mittels der nach dem Belichten in dem mindestens einen ersten Bereich oder dem mindestens einen zweiten Bereich entfernten photoaktivierbaren Schicht im Register zu dem mindestens einen ersten Bereich und dem mindestens einen zweiten Bereich strukturiert. Es ist bevorzugt, wenn die Resistschicht ein UV-aktivierbares Material aufweist. In diesem Fall kann für den Belichtungsschritt d) UV-Strahlung verwendet werden. Dadurch können die visuellen Eigenschaften des Mehrschichtkörpers von den gewünschten Prozesseigenschaften zur Strukturierung der mindestens einen zu strukturierenden Schicht getrennt werden. Der Belichtungsschritt d) wird so ausgestaltet, dass die Strahlung die Resistschicht ganz durchdringt, also bis zu deren von der Trägerlage abgekehrter, äußerer Oberfläche gelangt. Nur dann ist es problemlos möglich, mittels eines Lösemittels von der Seite der äußeren Oberfläche der Resistschicht her den Resist zu entfernen. Ist der Resist nicht vollständig durchstrahlt, so weist er in der Regel noch eine„Haut" auf seiner von der Trägerlage abgekehrten, äußeren Oberfläche auf, die den Angriff eines Lösemittels zumindest teilweise verhindert.

Die Trägerlage muss für die bei dem Belichtungsschritt d) eingesetzte Strahlung durchlässig sein. Es hat sich bewährt, für die Belichtung elektromagnetische Strahlung mit einem Strahlungsmaximum im Bereich von 365 nm zu verwenden, da in diesem Bereich PET (= Polyethylenterephthalat), das einen wesentlichen Bestandteil der Trägerlage bilden kann, transparent ist. Im Bereich dieser

Wellenlänge liegt das Maximum der Emission eines Quecksilber- Hochdruckstrahlers. Bei den folgenden Trägermaterialien ist es auch möglich, elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge im Bereich von 254 bis 314 nm zu verwenden: olefinisches Trägermaterial wie PP (= Polypropylen) oder PE (= Polyethylen), Trägermaterial auf PVC- und PVC-Copolymer-Basis,

Trägermaterial auf Basis von Polyvinylalkohol und Polyvinylacetat,

Polyesterträger auf Basis aliphatischer Rohstoffe.

Es hat sich als vorteilhaft herausgestellt, die Dicke und das Material der

Dekorlage so zu wählen, dass der erste Transmissionsgrad größer als Null ist. Die Dicke und das Material der Dekorlage sind so gewählt, dass

elektromagnetische Strahlung mit der für die Photoaktivierung geeigneten

Wellenlänge die Dekorlage im ersten Bereich teilweise durchdringt. Die durch die Dekorlage ausgebildete Belichtungsmaske ist also im ersten Bereich

strahlungsdurchlässig ausgebildet.

Es hat sich bewährt, wenn die Dicke und das Material der Dekorlage so gewählt werden, dass das Verhältnis zwischen dem zweiten und dem ersten

Transmissionsgrad gleich oder größer als zwei ist. Das Verhältnis zwischen dem ersten und dem zweiten Transmissionsgrad liegt vorzugsweise bei 1 :2, auch als Kontrast 1 :2 bezeichnet. Ein Kontrast von 1:2 ist um mindestens eine

Größenordnung geringer als bei herkömmlichen Masken. Es war bisher nicht gebräuchlich, für eine Belichtung einer Resistschicht eine Maske zu verwenden, die einen derart geringen Kontrast wie die hier beschriebene Dekorschicht aufweist. Bei einer Belichtung eines Resists mit einer herkömmlichen Maske (z.B. einer Chrommaske) liegen opake, d.h. mit OD>2, und völlig transparente

Bereiche vor; die Maske weist also einen hohen Kontrast auf. Eine herkömmliche Aluminium-Maske weist einen typischen Kontrast von 1 :100 auf, da der typische Transmissionsgrad einer Aluminiumschicht bei Werten um 1% liegt, entsprechend einer optischen Dichte (= OD) von 2,0. Der Transmissionsgrad (= T) und die OD sind miteinander verknüpft wie folgt: T=10 'OD (d.h. OD=O entspricht T=100%; OD=2 entspricht T=1%; OD=3 entspricht T=O, 1%). Im Gegensatz zu

herkömmlichen Belichtungsverfahren wird bei der vorliegenden Erfindung die Resistschicht nicht nur durch eine Maske mit geringem Kontrast (= Dekorlage), sondern auch durch die zu strukturierende Schicht hindurch belichtet.

Es ist weiterhin möglich, dass zwischen der Trägerlage und der mindestens einen zu strukturierenden Schicht, vorzugsweise unmittelbar auf der ersten Seite der Trägerlage, mindestens eine funktionelle Schicht, insbesondere eine

Ablöseschicht und/oder eine Schutzlackschicht, angeordnet wird. Dies ist insbesondere bei Verwendung der Mehrschichtfolie als eine Transferfolie vorteilhaft, bei der die funktionelle Schicht ein problemloses Ablösen der

Trägerlage von einer Übertragungslage, die zumindest eine Schicht der

Dekorlage und die strukturierte Schicht umfasst, ermöglicht. Es hat sich bewährt, wenn die Dicke und das Material der Dekorlage so gewählt wird, dass die elektromagnetische Strahlung, gemessen nach einem Durchgang durch ein Schichtpaket bestehend aus der Trägerlage, der mindestens einen funktionellen Schicht und der Dekorlage, in dem ersten Bereich einen

Transmissionsgrad von ca. 0,3 und in dem zweiten Bereich einen

Transmissionsgrad von ca. 0,7 aufweist. Ein solcher Kontrast zwischen den beiden als unterschiedliche Transmissionsbereiche ausgebildeten Bereichen, d.h. dem ersten und dem zweiten Bereich, ist insbesondere bei einer positiven

Resistschicht ausreichend.

Es ist möglich, dass auf der ersten Seite der Trägerlage mindestens eine

Reliefstruktur ausgebildet wird, und dass die mindestens eine zu strukturierende Schicht auf der Oberfläche der mindestens einen Relief struktur angeordnet wird. Dazu kann vorgesehen sein, auf der ersten Seite der Trägerlage eine

Replizierschicht anzuordnen und die mindestens eine Relief Struktur in eine von der Trägerlage abgewandte Oberfläche der Replizierschicht einzuprägen. Es kann aber auch vorgesehen sein, die mindestens eine Reliefstruktur direkt in die Trägerlage einzuprägen. Dabei muss die Trägerlage auf der ersten Seite der Trägerlage ein für ein Replizierverfahren geeignetes replizierbares Trägermaterial aufweisen, z.B. PVC (= Polyvinylchlorid), PC, PS (= Polystyrol) oder PVA (=

Polyvinylacetat). Unter einer Replizierschicht wird allgemein eine oberflächlich mit einer Reliefstruktur herstellbare Schicht verstanden. Darunter fallen

beispielsweise organische Schichten wie Kunststoff- oder Lackschichten oder anorganische Schichten wie anorganische Kunststoffe (z.B. Silikone),

Glasschichten, Halbleiterschichten, Metallschichten usw., aber auch

Kombinationen daraus. Es ist bevorzugt, dass die Replizierschicht als eine

Replizierlackschicht ausgebildet ist. Zur Ausbildung der Reliefstruktur kann auf die Trägerlage eine strahlungshärtbare Replizierschicht aufgebracht werden, ein Relief in die Replizierschicht abgeformt werden und die Replizierschicht mit dem darin eingeprägten Relief ausgehärtet werden. Es ist bevorzugt, wenn das Relief als eine lichtbeugende oder lichtbrechende oder lichtstreuende, mikroskopische oder makroskopische Struktur, wie eine diffraktive Struktur oder ein Beugungsgitter oder eine Mattstruktur oder Kombinationen von lichtbeugenden oder lichtbrechenden oder lichtstreuenden, mikroskopischen oder

makroskopischen Strukturen, wie diffraktive Strukturen, Mattstrukturen oder Beugungsgitter, ausgebildet wird.

Es ist möglich, dass die mindestens eine Reliefstruktur zumindest teilweise in dem ersten Bereich und/oder in dem zweiten Bereich angeordnet wird. Dabei kann das Flächenlayout der Reliefstruktur an das Flächenlayout des ersten und des zweiten Bereiches angepasst, insbesondere im Register dazu ausgebildet sein, oder das Flächenlayout der Reliefstruktur ist beispielsweise als fortlaufendes Endlosmuster unabhängig vom Flächenlayout des ersten und des zweiten

Bereiches ausgebildet. Durch die erfindungsgemäße Anordnung der Resistschicht auf der ersten Seite der Trägerlage so, dass die Resistschicht auf der von der Trägerlage abgekehrten Seite der mindestens einen zu strukturierenden Schicht und die Dekorlage auf der anderen Seite der mindestens einen zu

strukturierenden Schicht angeordnet ist, ist es möglich, die zu strukturierende Schicht zumindest teilweise auf einer Reliefstruktur anzuordnen, im Gegensatz zu strukturierenden Verfahren unter Verwendung von Waschlack. Bei einem herkömmlichen strukturierenden Verfahren unter Verwendung von Waschlack, der Silika (= Siliziumdioxid) oder Titandioxid (z.B. Rutil) aufweist, wirken das Silika und das Titandioxid durch mechanische Einwirkung zerstörend auf die Oberfläche der Replikationswalze, insbesondere mit einer Nickel-Oberfläche, ein. Darüber hinaus behindern auch die Niveauunterschiede zwischen der Waschlackschicht und der darunter angeordneten Schicht, in die die Reliefstruktur eingeprägt werden soll, die Replikation.

Es ist möglich, dass nach dem Schritt e) eine Ausgleichsschicht auf der ersten Seite der Trägerlage aufgebracht wird. Mittels des Strukturierungsschritts e) wird die zu strukturierende Schicht als eine strukturierte Schicht ausgebildet. Es ist bevorzugt, wenn nach dem Schritt e) die strukturierte Schicht und die

Resistschicht in dem ersten oder dem zweiten Bereich entfernt ist und in dem anderen Bereich vorhanden ist. Durch Aufbringen der Ausgleichsschicht können vertiefte Bereiche/Vertiefungen der strukturierten Schicht zumindest teilweise ausgefüllt werden. Es ist möglich, dass durch Aufbringen der Ausgleichsschicht auch vertiefte Bereiche/Vertiefungen der Resistschicht zumindest teilweise ausgefüllt werden. Die Ausgleichsschicht kann eine oder mehrere verschiedene Schichtmaterialien umfassen. Die Ausgleichsschicht kann als eine Schutz- und/oder Klebe- und/oder Dekorschicht ausgebildet sein. Es ist möglich, dass auf die von der Trägerlage abgekehrte Seite der Ausgleichsschicht eine

Haftvermittlungsschicht, z. B. Klebeschicht, aufgetragen wird. Damit kann der als eine Laminier- oder Transferfolie ausgebildete Mehrschichtkörper mit einem an die Haftvermittlungsschicht angrenzenden Substrat verbunden werden, z.B. in einem Heißpräge- oder IMD-Verfahren (IMD = In-Mould Decoration). Das Substrat kann beispielsweise Papier, Pappe, Textil oder ein anderer Faserstoff, oder ein Kunststoff und dabei flexibel oder überwiegend starr sein. Es ist möglich, dass mindestens eine Schicht der Dekorlage auf der zweiten Seite der Trägerlage aufgebracht wird. Dadurch können eine oder mehrere Schichten der mindestens einen Schicht nach dem Belichtungsschritt, in dem die Dekorlage als eine Belichtungsmaske dient, wieder entfernt werden. Es ist daher möglich, dass eine oder mehrere Schichten der auf der zweiten Seite der Trägerlage aufgebrachten mindestens einen Schicht der Dekorlage nach dem

Belichtungsschritt d) wieder von der Trägerlage entfernt werden.

Es ist bevorzugt, wenn die Dekorlage für sichtbares Licht mit einer Wellenlänge in einem Bereich von ungefähr 380 bis 750 nm zumindest teilweise durchlässig ist. Es ist möglich, wenn die Dekorlage mit mindestens einem opaken und/oder mindestens einem transparenten Farbmittel eingefärbt ist, das zumindest in einem Wellenlängenbereich des elektromagnetischen Spektrums farbig oder

farberzeugend ist, insbesondere bunt farbig oder bunt farberzeugend ist, insbesondere dass ein Farbmittel in der Dekorlage enthalten ist, das außerhalb des sichtbaren Spektrums angeregt werden kann und einen visuell erkennbaren farbigen Eindruck erzeugt. Es ist möglich, dass die Dekorlage mit mindestens einem Pigment oder mindestens einem Farbmittel der Farbe Cyan, Magenta, Gelb (= Yellow) oder Schwarz (= Black) (CMYK = Cyan Magenta Yellow Key; Key: Schwarz als Farbtiefe) oder der Farbe Rot, Grün oder Blau (= RGB), insbesondere zum Erzeugen einer subtraktiven Mischfarbe, eingefärbt ist, und/oder mit mindestens einem rot und/oder grün und/oder blau fluoreszierenden strahlungsanregbaren Pigment oder Farbstoff versehen ist und dadurch insbesondere eine additive Mischfarbe bei Bestrahlung erzeugt werden kann. Die Einfärbung kann dabei über den gesamten eingefärbten Flächenbereich weitgehend konstant sein oder auch als ein insbesondere kontinuierlicher Farbverlauf, beispielsweise ein linearer oder radialer Farbverlauf, ausgebildet sein, d.h. dass die Einfärbung einen Gradienten aufweist, wobei die Einfärbung insbesondere zwischen zwei oder mehreren Farbtönen variieren kann, beispielsweise von Rot nach Blau und weiter nach Grün oder zwischen einem oder mehreren Farbtönen und einem Unbunt, beispielsweise zwischen Rot und transparent, d. h. einer nicht eingefärbten Dekorlage. Derartige Farbverläufe sind im Sicherheitsdruck bekannt und verbreitet, da deren Fälschung schwierig ist.

Dadurch erfüllt die Dekorlage eine doppelte Funktion. Einerseits dient die

Dekorlage als Belichtungsmaske zur Ausbildung mindestens einer strukturierten Schicht, die registergenau zu dem ersten und zweiten Bereich der Dekorlage angeordnet ist. Insbesondere dient die Dekorlage als Belichtungsmaske für eine bereichsweise Demetallisierung einer Metallschicht. Andererseits dient die Dekorlage, oder zumindest eine oder mehrere Schichten der Dekorlage, an dem Mehrschichtkörper als optisches Element, insbesondere als eine ein- oder mehrfarbige Farbschicht für eine Einfärbung der mindestens einen strukturierten Schicht, wobei die Farbschicht registergenau über und/oder neben/angrenzend an die mindestens einen strukturierten Schicht angeordnet ist.

Es ist möglich, dass der Mehrschichtkörper in dem ersten Bereich oder dem zweiten Bereich eine mittels der besagten elektromagnetischen Strahlung photoaktivierbare Resistschicht aufweist, wobei die mindestens eine strukturierte Schicht und die Resistschicht passergenau zueinander ausgerichtet so auf der ersten Seite der Trägerlage angeordnet sind, dass die Resistschicht auf der von der Trägerlage abgekehrten Seite der mindestens einen strukturierten Schicht und die Dekorlage auf der anderen Seite der mindestens einen strukturierten Schicht angeordnet ist. Es ist möglich, dass die Dekorlage eine erste Lackschicht umfasst, die in dem ersten Bereich mit einer ersten Schichtdicke und in dem zweiten Bereich entweder nicht oder mit einer im Vergleich zu der ersten Schichtdicke kleineren zweiten Schichtdicke auf der Trägerlage angeordnet ist, so dass die Dekorlage in dem ersten Bereich den besagten ersten Transmissionsgrad und in dem zweiten Bereich den besagten zweiten Transmissionsgrad aufweist.

Es ist möglich, dass die Dekorlage eine erste Einfärbung der Trägerlage umfasst, die in dem ersten Bereich mit einer ersten Schichtdicke und in dem zweiten Bereich entweder nicht oder mit einer im Vergleich zu der ersten Schichtdicke kleineren zweiten Schichtdicke ausgebildet ist, so dass die Dekorlage in dem ersten Bereich den besagten ersten Transmissionsgrad und in dem zweiten Bereich den besagten zweiten Transmissionsgrad aufweist.

Es ist bevorzugt, wenn das Verhältnis zwischen dem zweiten Transmissionsgrad und dem ersten Transmissionsgrad größer als zwei ist.

Es ist möglich, dass auf der ersten Seite der Trägerlage mindestens eine

Reliefstruktur ausgebildet und die mindestens eine zu strukturierende Schicht auf der Oberfläche der mindestens einen Reliefstruktur angeordnet ist. Dabei ist es möglich, dass auf der ersten Seite der Trägerlage eine Replizierschicht angeordnet und die mindestens eine Reliefstruktur in eine von der Trägerlage abgewandte Oberfläche der Replizierschicht eingeprägt ist. Es ist allerdings auch möglich, dass die mindestens eine Reliefstruktur in die Trägerlage eingeprägt ist. Es ist möglich, dass die Reliefstruktur als eine diffraktive Reliefstruktur

ausgebildet ist. Es ist bevorzugt, wenn die mindestens eine Reliefstruktur zumindest teilweise in dem ersten Bereich und/oder in dem zweiten Bereich angeordnet ist. Es ist möglich, dass auf der von der Trägerlage abgekehrten Seite der

mindestens einen strukturierten Schicht eine Ausgleichsschicht angeordnet ist. Es ist bevorzugt, wenn der Brechungsindex n1 der Ausgleichsschicht im sichtbaren Wellenlängenbereich im Bereich von 90% bis 110% des Brechungsindexes n2 der Replizierschicht liegt. Es ist bevorzugt, wenn in den ersten oder zweiten Bereichen, in denen die strukturierte Schicht entfernt ist und eine räumliche Struktur, d.h. ein Relief, an der Oberfläche ausgebildet ist, die Vertiefungen und Erhöhungen des Reliefs mittels einer Ausgleichsschicht egalisiert wird, die einen ähnlichen Brechungsindex wie die Replizierschicht aufweist, d.h. Δn = |n2-n11 < 0,3. Auf diese Weise ist der durch das Relief ausgebildete optische Effekt in den Bereichen, in denen die Ausgleichsschicht unmittelbar auf die Replizierschicht aufgebracht ist, nicht mehr wahrnehmbar. Es ist möglich, dass die Ausgleichsschicht als eine Adhäsionsschicht, z.B.

Klebeschicht, ausgebildet ist. Es ist möglich, dass mindestens eine Schicht der Dekorlage auf der zweiten Seite der Trägerlage angeordnet ist. Es ist möglich, dass die Dekorlage mindestens zwei, unterschiedliche Farbeindrücke

hervorrufende Lackschichten umfasst. Es ist möglich, dass die Dekorlage eine erste Lackschicht, die lediglich bereichsweise auf der Trägerlage aufgebracht ist, und eine zweite Lackschicht, die vollflächig auf der Trägerlage aufgebracht ist, umfasst.

Es ist möglich, dass die mindestens eine strukturierte Schicht eine oder mehrere der folgenden Schichten umfasst: Metallschicht, insbesondere enthaltend Kupfer, Aluminium, Silber und/oder Gold, HRI-Schicht (HRI = High Refractive Index), insbesondere enthaltend ZnS oder TiO 2 , Flüssigkristallschicht, Polymerschicht, insbesondere leitfähige oder halbleitende Polymerschicht, Interferenz- Dünnfilmschichtpaket, Pigmentschicht, Halbleiterschicht. Die mindestens eine strukturierte Schicht ist nicht auf die genannten Ausführungsbeispiele beschränkt. Die zu strukturierende Schicht kann jedes Material sein, das durch ein Lösemittel oder Ätzmittel angreifbar, d.h. lösbar oder entfernbar, ist. Es ist möglich, dass die mindestens eine strukturierte Schicht eine Dicke im Bereich von 20 bis 1000 nm, insbesondere 20 bis 100 nm aufweist. Es ist bevorzugt, dass die strukturierte Schicht des Mehrschichtkörpers als eine Reflexionsschicht für von Seiten der Replizierschicht einfallendes Licht. Durch die Kombination einer Reliefstruktur der Replizierschicht und einer darunter angeordneten, beispielsweise als

Metallschicht ausgebildeten strukturierten Schicht lassen sich eine Vielzahl von verschiedenen und für Sicherheitsaspekte wirksam einsetzbaren optischen Effekten generieren. Die strukturierte Schicht kann aus Metall, beispielsweise Aluminium oder Kupfer oder Silber bestehen, das in einem nachfolgenden

Verfahrensschritt galvanisch verstärkt wird. Das Metall, das zur galvanischen Verstärkung verwendet wird, kann gleich oder unterschiedlich zu dem Metall der strukturierten Schicht sein. Ein Beispiel ist z.B. die galvanische Verstärkung einer dünnen Silberschicht mit Kupfer. Es ist möglich, dass die Resistschicht eine Dicke im Bereich von 0,3 bis 3 μm aufweist. Es hat sich bewährt, wenn die Resistschicht als ein Ätzresist ausgebildet ist, wobei die Resistschicht, falls sie als ein positives Photoresist ausgebildet ist, in dem unbelichteten Bereich und, falls sie als ein negatives Photoresist ausgebildet ist, in dem belichteten Bereich gegenüber einem die zu

strukturierende Schicht angreifenden Ätzmittel eine hohe Beständigkeit aufweist, die ausreichend ist, den Zutritt des Ätzmittels zu der zu strukturierenden Schicht in dem von der Resistschicht bedeckten Bereich im wesentlichen zumindest solange zu verhindern, bis das Ätzmittel die zu strukturierende Schicht in dem gewünschten Bereich entfernt hat. Der besagte gewünschte Bereich ist, falls die Resistschicht als ein positives Photoresist ausgebildet ist, der belichtete Bereich und, falls die Resistschicht als ein negatives Photoresist ausgebildet ist, der unbelichtete Bereich.

Es ist möglich, dass die Dekorlage eine Dicke im Bereich von 0,5 bis 5 μm aufweist. Es ist möglich, dass die Dekorlage Farbstoffe oder hochdisperse

Pigmente, insbesondere eine Mikrolith ® -K-Pigmentdispersion, aufweist. Dies ist vor allem bei einer farbigen Dekorlage mit Pigmentanteil vorteilhaft. Es ist möglich, dass dem Material zur Ausbildung der Dekorlage UV-Absorber hinzugefügt werden, insbesondere falls dieses Material relativ wenige Pigmente oder andere UV-absorbierende Bestandteile enthalten sind. Es ist möglich, dass die Dekorlage anorganische Absorber mit hohem Streuanteil, insbesondere nano- skalierte UV-Absorber auf Basis anorganischer Oxide, aufweist. Als geeignete Oxide haben sich vor allem TΪO 2 und ZnO in hochdisperser Form erwiesen, wie sie auch in Sonnenschutzcremes mit einem hohen Lichtschutzfaktor eingesetzt werden. Diese anorganischen Absorber führen zu einer hohen Streuung und sind daher insbesondere für eine matte, insbesondere seidenmatte, Einfärbung der Dekorlage geeignet. Es ist möglich, dass die Dekorlage organische Absorber, insbesondere Benzotriazol-Derivate, mit einem Massenanteil in einem Bereich von ca. 3 % bis 5 % aufweist. Geeignete organische Absorber werden unter dem Handelsnamen Tinuvin ® von der Firma Ciba, Basel, Schweiz vertrieben. Es ist möglich, dass die Dekorlage fluoreszierende Farbstoffe oder organische oder anorganische, fluoreszierende Pigmente in Kombination mit hochdispersen Pigmenten, insbesondere Mikrolith ® -K, aufweist. Durch die Anregung dieser fluoreszierenden Pigmente wird die UV-Strahlung zum größten Teil bereits in der Dekorlage ausgefiltert, so dass nur noch ein unbedeutender Bruchteil der

Strahlung die Resistschicht erreicht. Die fluoreszierenden Pigmente können im Mehrschichtkörper als ein zusätzliches Sicherheitsmerkmal Verwendung finden.

Der Einsatz einer UV-aktivierbaren Resistschicht bietet Vorteile: Durch die

Verwendung eines UV-Absorbers, der im visuellen Wellenlängenbereich transparent wirkt, in der Dekorlage kann die Eigenschaft„Farbe" der Dekorlage im visuellen Wellenlängenbereich von gewünschten Eigenschaften der Dekorlage zur Strukturierung der Resistschicht, z.B. empfindlich im nahen UV, und dadurch der mindestens einen zu strukturierenden Schicht getrennt werden. Auf diese Weise kann ein hoher Kontrast zwischen dem ersten und dem zweiten Bereich erreicht werden, unabhängig von der visuell erkennbaren Einfärbung der

Dekorlage. Es ist möglich, dass die Trägerlage als eine ein- oder mehrschichtige Trägerfolie ausgebildet ist. Eine Dicke der Trägerfolie der erfindungsgemäßen

Mehrschichtkörpers im Bereich von 12 bis 100 μm hat sich bewährt. Als Material für die Trägerfolie kommt beispielsweise PET, aber auch andere

Kunststoffmaterialien, wie PEN (= Polyethylennaphthalat) oder PMMA (=

Polymethylmethacrylat) in Frage. Es ist möglich, dass unmittelbar auf der ersten Seite der Trägerlage eine oder mehrere funktionelle Schichten, insbesondere eine Ablöseschicht und/oder eine Schutzlackschicht, angeordnet sind. Die Erfindung wird anhand der Zeichnungen beispielhaft erläutert. Es zeigen

Fig. 1a einen schematischen Schnitt einer ersten Fertigungsstufe des in Fig.

8a dargestellten Mehrschichtkörpers;

Fig. 1b-c schematische Schnitte von zwei alternativen Ausgestaltungen einer ersten Fertigungsstufe;

Fig. 1d eine schematische Draufsicht der in Fig. 1a dargestellten ersten

Fertigungsstufe;

Fig. 2 einen schematischen Schnitt einer zweiten Fertigungsstufe des in

Fig. 8a dargestellten Mehrschichtkörpers;

Fig. 2a einen schematischen Schnitt einer alternativen Ausgestaltung einer zweiten Fertigungsstufe;

Fig. 3 einen schematischen Schnitt einer dritten Fertigungsstufe des in Fig.

8a dargestellten Mehrschichtkörpers;

Fig. 4 einen schematischen Schnitt einer vierten Fertigungsstufe des in

Fig. 8a dargestellten Mehrschichtkörpers;

Fig. 5 einen schematischen Schnitt einer fünften Fertigungsstufe des in

Fig. 8a dargestellten Mehrschichtkörpers;

Fig. 6 einen schematischen Schnitt einer sechsten Fertigungsstufe des in

Fig. 8a dargestellten Mehrschichtkörpers;

Fig. 7 einen schematischen Schnitt einer siebten Fertigungsstufe des in

Fig. 8a dargestellten Mehrschichtkörpers; Fig. 7a einen schematischen Schnitt einer achten Fertigungsstufe des in

Fig. 8a dargestellten Mehrschichtkörpers;

Fig. 8a einen schematischen Schnitt eines ersten Ausführungsbeispiels

eines erfindungsgemäßen Mehrschichtkörpers, ausgebildet unter Verwendung eines positiven Resists;

Fig. 8b einen schematischen Schnitt eines alternativen

Ausführungsbeispiels eines erfindungsgemäßen

Mehrschichtkörpers;

Fig. 9 einen schematischen Schnitt eines weiteren Ausführungsbeispiels eines erfindungsgemäßen Mehrschichtkörpers, ausgebildet unter

Verwendung eines negativen Resists;

Fig. 10 einen schematischen Schnitt eines weiteren Ausführungsbeispiels eines erfindungsgemäßen Mehrschichtkörpers;

Fig. 11a-g schematische Darstellungen von möglichen Ausgestaltungen der

Dekorlage;

Fig. 12 einen schematischen Schnitt eines weiteren Ausführungsbeispiels eines erfindungsgemäßen Mehrschichtkörpers;

Fig. 13 einen schematischen Schnitt einer Fertigungsstufe eines

Mehrschichtkörpers;

Fig. 14 einen schematischen Schnitt einer weiteren Fertigungsstufe eines

Mehrschichtkörpers; und

Fig. 15 Transmissionsspektren verschiedener UV-Absorber.

Die Fig. 1a bis 14 sind jeweils schematisch und nicht maßstabsgetreu gezeichnet, um eine deutliche Darstellung der wesentlichen Merkmale zu gewährleisten.

Fig. 8a zeigt einen Mehrschichtkörper 100, der eine Trägerlage 1 mit einer ersten Seite 11 und einer zweiten Seite 12, eine auf der ersten Seite 11 der Trägerlage 1 angeordnete funktionelle Schicht 2, eine auf der funktionellen Schicht 2

angeordnete Dekorlage 3 mit einer in einem ersten Bereich 8 ausgebildeten ersten Lackschicht 31 , eine an die Dekorlage 3 angrenzende Replizierschicht 4, eine auf der Replizierschicht 4 angeordnete strukturierte Schicht 5 im Register zur ersten Lackschicht 3 und auf der Replizierschicht 4 und der strukturierten Schicht 5 angeordnete Ausgleichsschicht 10 umfasst.

Bei der Trägerlage 1 handelt es sich um eine vorzugsweise transparente

Kunststofffolie einer Dicke zwischen 8 μm und 125 μm, vorzugsweise im Bereich von 12 bis 50 μm, weiter vorzugsweise im Bereich von 16 bis 23 μm. Die

Trägerfolie 1 kann als eine mechanisch und thermisch stabile Folie aus einem lichtdurchlässigen Material ausgebildet sein, z.B. aus ABS (= Acrylnitril-Butadien- Styrol), BOPP (= Biaxially Oriented Polypropylene), PEN, PC 1 bevorzugt jedoch aus PET. Die Trägerfolie 1 kann hierbei monoaxial oder biaxial gereckt sein.

Weiter ist es auch möglich, dass die Trägerfolie 1 nicht nur aus einer Schicht, sondern auch aus mehreren Schichten besteht. So ist es beispielsweise möglich, dass die Trägerfolie 1 neben einem Kunststoff-Träger, beispielsweise einer oben beschriebenen Kunststofffolie, eine Ablöseschicht aufweist, welche das Ablösen des aus den Schichten 2 bis 6 und 10 bestehenden Schichtgebildes von der Kunststofffolie ermöglicht, beispielsweise bei Verwendung des

Mehrschichtkörpers 100 als Heißprägefolie

Die funktionelle Schicht 2 kann eine Ablöseschicht, z.B. aus heißschmelzendem Material, umfassen, die ein Ablösen der Trägerfolie 1 von den Schichten des Mehrschichtkörpers 100, die auf einer von der Trägerfolie 1 abgewandten Seite der Ablöseschicht 2 angeordnet sind, erleichtert. Dies ist insbesondere vorteilhaft, wenn der Mehrschichtkörper 100 als eine Transferlage ausgebildet ist, wie sie z.B. in einem Heißprägeverfahren oder einem IMD-Verfahren zum Einsatz kommt. Weiterhin hat es sich bewährt, insbesondere falls der Mehrschichtkörper 100 als eine Transferfolie eingesetzt wird, wenn die funktionelle Schicht 2 außer einer Ablöseschicht eine Schutzschicht, z.B. eine Schutzlackschicht, aufweist. Nach einem Verbinden des Mehrschichtkörpers 100 mit einem Substrat und einem Ablösen der Trägerfolie 1 von den Schichten des Mehrschichtkörpers 100, die auf einer von der Trägerfolie 1 abgewandten Seite der Ablöseschicht 2 angeordnet sind, bildet die Schutzschicht eine der oberen Schichten der auf der Oberfläche des Substrats angeordneten Schichten und kann darunter angeordnete Schichten vor Abrieb, Beschädigung, chemischen Angriffen o.a. schützen. Der

Mehrschichtkörper 100 kann ein Abschnitt einer Transferfolie, beispielsweise einer Heißprägefolie sein, der mittels einer Klebeschicht auf einem Substrat angeordnet werden kann. Die Klebeschicht ist vorzugsweise auf der von der Trägerfolie 1 abgewandten Seite der Ausgleichsschicht 10 angeordnet. Bei der Klebeschicht kann es sich um einen Schmelzkleber handeln, der bei thermischer Einwirkung schmilzt und den Mehrschichtkörper 100 mit der Oberfläche des Substrats verbindet. Bei einer Ausbildung des Mehrschichtkörpers 100 als eine Laminierfolie, d.h. ohne eine Ablöseschicht zum Ablösen der Trägerfolie 1 von den Schichten des Mehrschichtkörpers 100, kann zusätzlich oder alternativ zur Klebeschicht eine weitere Trägerfolie auf der von der Trägerfolie 1 abgewandten Seite der

Ausgleichsschicht 10 vorgesehen sein. Dieser Laminatkörper, welcher aus zwei außenseitigen Trägerfolien und den innenliegenden Schichten des

Mehrschichtkörpers 100 besteht, kann beispielsweise zur weiteren Verwendung in Kartenverbunde einlaminiert werden, beispielsweise aus PC. Dazu ist es vorteilhaft, wenn die Trägerfolien aus demselben Material wie die an den

Laminatkörper angrenzenden Schichten des Kartenverbundes bestehen, beispielsweise ebenfalls aus PC.

Auf der funktionellen Schicht 2 ist in dem Bereich 8 eine transparente, farbige Lackschicht 31 aufgedruckt. Transparent heißt, dass die Lackschicht 31 im sichtbaren Wellenlängenbereich zumindest teilweise strahlungsdurchlässig ist. Farbig bedeutet, dass die Lackschicht 31 bei ausreichendem Tageslicht einen sichtbaren Farbeindruck zeigt.

Sowohl die mit der Lackschicht 31 bedruckten Bereiche 8 als auch die

unbedruckten Bereiche 9 der funktionellen Schicht 2 sind von einer

Replizierschicht 4 bedeckt, die die Reliefstruktur der Dekorlage 3, d.h. die differierenden Niveaus in den bedruckten 8 und den unbedruckten Bereichen 9, egalisiert. Die Replizierschicht 4 weist in einer zweiten Zone 42 eine Reliefstruktur auf, die in einer ersten Zone 41 nicht vorhanden ist. Im Register und bei

Betrachtung senkrecht zu der Ebene der Trägerlage 1 deckungsgleich zu der Lackschicht 31 ist auf der Replizierschicht 4 eine dünne Metallschicht 5 angeordnet. Sowohl die mit der Metallschicht 5 bedeckten Bereiche 8 der Replizierschicht 4 als auch die unbedeckten Bereiche 9 der Replizierschicht 4 sind mit einer Ausgleichsschicht 10 bedeckt, die durch die Reliefstruktur 42 und die bereichsweise 8 angeordnete Metallschicht 5 hervorgerufene Strukturen (z.B. Reliefstruktur 42, unterschiedliche Schichtdicken, Höhenversatz) egalisiert, d.h. überdeckt und ausfüllt, so dass der Mehrschichtkörper auf der der Trägerfolie 1 abgekehrten Seite der Ausgleichsschicht 10 eine ebene, im Wesentlichen strukturlose Oberfläche aufweist. Weist die Ausgleichsschicht 10 einen ähnlichen Brechungsindex auf wie die Replizierschicht 4, d.h. ist der Brechungsindex- Unterschied kleiner als etwa 0,3, dann werden die nicht mit der Metallschicht 5 bedeckten, direkt an die Ausgleichsschicht 10 angrenzenden Bereiche der Reliefstruktur 42 in der Replizierschicht 4 optisch ausgelöscht, weil dort wegen des ähnlichen Brechungsindexes beider Schichten keine optisch erkennbaren Schichtgrenzen zwischen der Replizierschicht 4 und der Ausgleichsschicht 10 mehr vorhanden sind. Die Figuren 1a bis 7a zeigen nun Fertigungsstufen des in Figur 8a dargestellten Mehrschichtkörpers 100. Gleiche Elemente wie in Figur 8a sind mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet.

Figur 1a zeigt eine erste Fertigungsstufe 100a des Mehrschichtkörpers 100, bei der auf einer ersten Seite 11 einer Trägerfolie 1 eine funktionelle Schicht 2 und eine Dekorlage 3 angeordnet sind. Eine Seite der funktionellen Schicht 2 grenzt an die Trägerfolie 1 , ihre andere Seite an die Dekorlage 3. Die Dekorlage 3 weist einen ersten Bereich 8, in dem eine Lackschicht 31 ausgebildet ist, und einen zweiten Bereich 9, in dem die Lackschicht 31 nicht vorhanden ist, auf. Die

Lackschicht 31 ist auf die funktionelle Schicht 2 aufgedruckt, z.B. durch

Siebdruck, Tiefdruck oder Offsetdruck. Durch die bereichsweise, d.h. auf den ersten Bereich 8 beschränkte, Ausbildung der Lackschicht 31 ergibt sich eine musterförmige Ausgestaltung der Dekorlage 3.

Figur 1d zeigt eine Draufsicht auf die in Fig. 1a dargestellte erste Fertigungsstufe 100a des Mehrschichtkörper 100 mit einer Blickrichtung senkrecht zu der Ebene der Trägerfolie 1. Auf der vollflächig auf der Trägerfolie 1 angeordneten funktionellen Schicht 2 ist im ersten Bereich 8 die Lackschicht 31 aufgedruckt, während der zweite Bereich 9 der funktionellen Schicht 2 nicht mit der

Lackschicht 31 bedruckt, d.h. freigelassen ist. In dem in Figur 1 b dargestellten Ausführungsbeispiel besteht der erste Bereich 8 aus zwei Rechtecksflächen. Neben derartigen geometrischen Mustern kann der mit der Lackschicht 31 versehene, erste Bereich 8 jede beliebige Form aufweisen, z.B. alphanumerische Zeichen, Symbole, Logos, feinlinige Muster, z.B. Gitterraster, oder Ornamente, z.B. Guillochen, geometrische, bildliche oder figürliche Muster. In Figur 1 b ist eine Schnittebene Ia angegeben; bei Betrachtung der Schnittebene Ia in der durch die Pfeile angegebenen Blickrichtung ergibt sich der in Figur 1a dargestellte Schnitt.

Fig. 1b zeigt eine alternative Ausgestaltung einer ersten Fertigungsstufe eines erfindungsgemäßen Mehrschichtkörpers. Im Gegensatz zu dem in Fig. 1a dargestellten Ausführungsbeispiel ist bei dem in Fig. 1b dargestellten

Ausführungsbeispiel die Dekorlage 3 nicht auf der Trägerfolie 1 , sondern in der Trägerfolie 1 ausgebildet. Die Trägerfolie 1 besteht aus drei Schichten 1a, 1b und 1c. Die beiden äußeren Schichten 1a und 1c bestehen aus PC. Die

dazwischenliegende, mittlere Schicht 1b besteht aus einem Kunststoffmaterial, z.B. einem mit Additiven versetztem PC, das bei Einwirkung von Laserstrahlung einer bestimmten Energie einen Farbumschlag von einem transparenten, farblosen, ersten Zustand zu einem transparenten, farbigen, zweiten Zustand zeigt, d. h. sog. Laserschwärzen. Das Kunststoffmaterial verbleibt in dem einmal erreichten zweiten Zustand, auch nachdem die Laserstrahlung entfernt wurde. Das bedeutet, die Trägerfolie 1 ist gleichzeitig Dekorlage und Träger. Fig. 1c zeigt eine weitere alternative Ausgestaltung einer ersten Fertigungsstufe eines erfindungsgemäßen Mehrschichtkörpers. Ebenso wie bei dem in Fig. 1b dargestellten Ausführungsbeispiel ist auch bei dem in Fig. 1c dargestellten

Ausführungsbeispiel die Dekorlage 3 nicht auf der Trägerfolie 1 , sondern in der Trägerfolie 1 ausgebildet. Die Trägerfolie 1 besteht aus einem Kunststoffmaterial, in das Farbstoff/Farbpigmente eindiffundieren können. Zur Ausbildung der

Dekorlage 3 wurde die zweite Oberfläche 12 der Trägerfolie 1 in dem ersten Bereich 8 für einen bestimmten Zeitraum mit einem Stoff in Kontakt gebracht, aus dem Farbpigmente in die Trägerfolie 1 diffundieren können. Während dieses Zeitraums diffundierte ein Teil dieser Farbpigmente in die Trägerfolie 1 ein, so dass sich die verfärbten Bereiche 34 mit einer bestimmten Schichtdicke

ausbildeten. Das bedeutet, die Trägerfolie 1 ist gleichzeitig Dekorlage und Träger.

Figur 2 zeigt eine zweite Fertigungsstufe 100b des Mehrschichtkörpers 100, die aus der ersten Fertigungsstufe 100a in Figur 1a gebildet ist, indem auf die funktionelle Schicht 2 und die bereichsweise, d. h. auf den ersten Bereich 8 beschränkt, darauf angeordnete Lackschicht 31 eine Replizierschicht 4

aufgebracht wurde. Dabei kann es sich um eine organische Schicht handeln, die durch klassische Beschichtungsverfahren, wie Drucken, Gießen oder Sprühen, in flüssiger Form aufgebracht wird. Der Auftrag der Replizierschicht 4 ist hier vollflächig vorgesehen. Die Schichtdicke der Replizierschicht 4 variiert, da sie die unterschiedlichen Niveaus der Dekorlage 3, umfassend den bedruckten, ersten Bereich 8 und den unbedruckten, zweiten Bereich 9, ausgleicht/egalisiert; in dem ersten Bereich 8 ist die Schichtdicke der Replizierschicht 4 dünner als in dem zweiten Bereich 9, so dass die von der Trägerlage 1 abgekehrten Seite der Replizierschicht 4 vor der Ausbildung der Reliefstruktur in der zweiten Zone 42 eine ebene, im Wesentlichen strukturlose Oberfläche aufweist. Es kann aber auch ein Auftrag der Replizierschicht 4 lediglich in einem Teilbereich des

Mehrschichtkörpers 100 vorgesehen sein. Die Oberfläche der Replizierschicht 4 ist durch bekannte Verfahren in einer zweiten Zone 42 strukturiert während sie in einer ersten Zone 41 unstrukturiert ist. Hierzu wird beispielsweise als

Replizierschicht 4 ein thermoplastischer Replizierlack durch Drucken, Sprühen oder Lackieren aufgebracht und eine Reliefstruktur in der zweiten Zone 42 in den insbesondere thermisch härtbaren/trockenbaren Replizierlack 4 mittels eines beheizten Stempels oder einer beheizten Replizierwalze abgeformt. Bei der Replizierschicht 4 kann es sich auch um einen UV-härtbaren Replizierlack handeln, der beispielsweise durch eine Replizierwalze strukturiert und

anschließend mittels UV-Strahlung gehärtet ist. Die Strukturierung kann aber auch durch eine UV-Bestrahlung durch eine Belichtungsmaske hindurch erzeugt sein. Auf diese Weise kann die zweite Zone 42 in die Replizierschicht 4 abgeformt sein.

Figur 2a zeigt eine alternative zweite Fertigungsstufe eines Mehrschichtkörpers, die aus der in Fig. 1b gezeigten ersten Fertigungsstufe gebildet wird, indem in die erste Seite 11 der Trägerfolie 1 eine Reliefstruktur 42 eingeprägt wird. Das bedeutet, die Trägerfolie 1 ist gleichzeitig Dekorlage, Träger und Replizierschicht. Natürlich sind auch Alternativen möglich, in denen in die Trägerlage 1 nur eine Reliefstruktur eingeprägt wird, die Trägerlage 1 selbst aber nicht als Dekorlage dient.

Figur 3 eine dritte Fertigungsstufe 100c des Mehrschichtkörpers 100, die aus der zweiten Fertigungsstufe 100b in Figur 2 gebildet ist, indem die zu strukturierende Schicht 5 auf die Replizierschicht 4 aufgebracht wurde. Diese zu strukturierende Schicht 5 kann beispielsweise als eine aufgedampfte Metallschicht, z.B. aus Silber oder Aluminium, ausgebildet sein. Der Auftrag der zu strukturierenden Schicht wird hier ganzflächig vorgesehen. Es kann aber auch ein Auftrag lediglich in einem Teilbereich des Mehrschichtkörpers 100 vorgesehen sein, z.B. unter Zuhilfenahme einer bereichsweise abschirmenden Bedampfungsmaske.

Figur 4 zeigt eine vierte Fertigungsstufe 100d des Mehrschichtkörpers 100, die aus der dritten Fertigungsstufe 100c in Figur 3 gebildet ist, indem eine

photoaktivierbare Resistschicht 6 auf die zu strukturierende Schicht 5 aufgebracht wurde. Die Resistschicht 6 ist in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel als ein positives Resist ausgebildet ist, d. h. als ein Resist, in dem die stärker belichteten (= aktivierten) Bereiche nach dem Belichten gelöst werden. Bei der Resistschicht 6 kann es sich um eine organische Schicht handeln, die durch klassische

Beschichtungsverfahren, wie Drucken, Gießen oder Sprühen, in flüssiger Form aufgebracht wird. Es kann auch vorgesehen sein, dass die Resistschicht 6 aufgedampft wird oder als trockener Film auflaminiert wird.

Bei der photoaktivierbaren Schicht 6 kann es sich beispielsweise um einen positiven Photoresist BAZ 1512 oder AZ P 4620 von Clariant oder S1822 von Shipley handeln, welcher in einer Flächendichte von 0,1 g/m 2 bis 10 g/m 2 , vorzugsweise von 0,1 g/m 2 bis 1 g/m 2 auf die zu strukturierende Schicht 5 aufgebracht wird. Die Schichtdicke richtet sich nach der gewünschten Auflösung und dem Prozess. Der Auftrag wird hier ganzflächig vorgesehen. Es kann aber auch ein Auftrag lediglich in einem Teilbereich des Mehrschichtkörpers 100 vorgesehen sein.

Figur 5 zeigt eine fünfte Fertigungsstufe 100d des Mehrschichtkörpers 100, bei welcher der nach der vierten Fertigungsstufe 100d vorliegende Mehrschichtkörper 100 bestrahlt wird. Elektromagnetische Strahlung 7 mit einer Wellenlänge, die zur Aktivierung der photoaktivierbaren Resistschicht 6 geeignet ist, wird von der zweiten Seite 12 der Trägerfolie 1 her, d.h. der Seite der Trägerfolie 1 , die der mit der Resistschicht 6 beschichteten Seite der Trägerfolie 1 gegenüberliegt, durch den Mehrschichtkörper 100d gestrahlt. Die Bestrahlung dient zur Aktivierung der photoaktivierbaren Resistschicht 6 in dem zweiten Bereich 9, in dem die

Dekorlage 3 einen höheren Transmissionsgrad als in dem ersten Bereich 8 ausweist. Die Stärke und Dauer der Belichtung mit der elektromagnetischen Strahlung 7 ist so auf den Mehrschichtkörper 100e abgestimmt, dass die

Strahlung 7 in dem zweiten Bereich 9 zu einer Aktivierung der photoaktivierbaren Resistschicht 6 führt, dagegen in den mit der Lackschicht 31 bedrucktem ersten Bereich 8 nicht zu einer Aktivierung der photoaktivierbaren Resistschicht 6 führt. Es hat sich bewährt, wenn der durch die Lackschicht 31 hervorgerufene Kontrast zwischen dem ersten Bereich 8 und dem zweiten Bereich 9 größer als zwei ist. Weiter hat es sich bewährt, wenn die Lackschicht 31 so ausgestaltet sind, dass die Strahlung 7 nach Durchlaufen des gesamten Mehrschichtkörpers 10Oe ein Verhältnis der Transmissionsgrade, d.h. ein Kontrastverhältnis von etwa 1 :2 zwischen dem ersten Bereich 8 und dem zweiten Bereich 9 aufweist. Figur 6 zeigt eine„entwickelte" sechste Fertigungsstufe 100e des

Mehrschichtkörpers 100, die aus der fünften Fertigungsstufe 100d in Figur 5 gebildet ist, indem eine Entwicklerlösung, z. B. Lösemittel oder Laugen, insbesondere eine Natriumcarbonatlösung oder eine Natriumhydroxydlösung auf die von der Trägerfolie 1 abgekehrte Oberfläche der belichteten

photoaktivierbaren Resistschicht 6 eingewirkt hat. Dadurch ist die belichtete

Resistschicht 6 in dem zweiten Bereich 9 entfernt worden. In dem ersten Bereich 8 ist die Resistschicht 6 erhalten, weil die in diesen Bereichen absorbierte

Strahlungsmenge nicht zu einer ausreichenden Aktivierung geführt hat. Wie bereits erwähnt, ist in dem in der Figur 6 dargestellten Ausführungsbeispiel die Resistschicht 6 also aus einem positiven Photoresist ausgebildet. Bei einem solchen Photoresist sind die stärker belichteten Bereiche 9 in der

Entwicklerlösung, z.B. dem Lösemittel, löslich. Im Gegensatz dazu sind bei einem negativen Photoresist die unbelichteten bzw. weniger stark belichteten Bereiche 8 in der Entwicklerlösung löslich, wie weiter unten in dem in Figur 9 dargestellten Ausführungsbeispiel ausgeführt.

Figur 7 zeigt eine siebte Fertigungsstufe 100f des Mehrschichtkörpers 100, die aus der sechsten Fertigungsstufe 100e in Figur 6 gebildet ist, indem die zu strukturierende Schicht 5 in dem zweiten Bereich 9 durch ein Ätzmittel entfernt wurde. Dies ist dadurch möglich, weil in dem zweiten Bereich 9 die zu

strukturierende Schicht 5 nicht durch die als Ätzmaske dienende entwickelte Resistschicht 6 vor dem Angriff des Ätzmittels geschützt ist. Bei dem Ätzmittel kann es sich beispielsweise um eine Säure oder Lauge handeln. Auf diese Weise werden die in Figur 7 gezeigten Bereiche der strukturierten Schicht 5 ausgebildet.

Figur 7a zeigt eine achte Fertigungsstufe 100g des Mehrschichtkörpers 100, die aus der siebten Fertigungsstufe 100f in Figur 7 gebildet ist, indem die erhalten gebliebenen Bereiche der Resistschicht 6 ebenfalls noch entfernt werden (= „strippen"). Der Resist der Resistschicht 6 ist im Allgemeinen chemisch nur wenig beständig, da er im vorliegenden Verfahren durch die Entwicklerlösung angreifbar sein muss. Falls man die erhalten gebliebenen Bereiche der Resistschicht 6 auf dem Mehrschichtkörper beließe, wäre es daher möglich, dass die erhalten gebliebenen Bereiche der Resistschicht 6 die Stabilität und Beständigkeit des Sicherheitselements schwächten, z.B. bei einem Fälschungsangriff auf den Mehrschichtkörper unter Verwendung von Lösungsmitteln oder Säuren oder Laugen. Durch das vollständige Entfernen der Resistschicht 6 wird daher dieser Nachteil vermieden. Dass bestimmte Resiste chemisch nur wenig beständig, d.h. empfindlich, gegenüber Lösungsmitteln sind, kann jedoch fallweise auch zum Vorteil ausgenutzt werden. Nach einer Applikation des Mehrschichtkörpers 100 auf ein Substrat, insbesondere die Oberfläche eines Sicherheitsdokuments, wird der Resist zusammen mit einem den Resist einfärbenden Farbstoff bei

Manipulationsversuchen mittels Lösungsmittel ausgewaschen. Der

Manipulationsversuch wird dadurch sichtbar, dass die Farbigkeit des Resists verändert ist.

Auf diese Weise kann also die zu strukturierende Schicht 5 ohne zusätzlichen technologischen Aufwand registergenau zu den durch die Lackschicht 31 definierten ersten und zweiten Bereichen 8 und 9 strukturiert werden. Bei herkömmlichen Verfahren zum Erzeugen einer Ätzmaske mittels

Maskenbelichtung, wobei die Maske entweder als separate Einheit, z.B. als separate Folie oder als separate Glasplatte/Glaswalze, oder als nachträglich aufgedruckte Schicht vorliegt, tritt das Problem auf, dass durch vorherige, insbesondere thermisch und/oder mechanisch beanspruchende Prozessschritte, z.B. beim Erzeugen der Replizierstruktur 42 in der Replizierschicht 4,

hervorgerufene lineare und/oder nichtlineare Verzüge in dem Mehrschichtkörper 100 nicht vollständig über die gesamte Fläche des Mehrschichtkörpers 100 ausgeglichen werden können, obwohl die Maskenausrichtung an vorhandenen, vorzugsweise an den horizontalen und/oder vertikalen Rändern des

Mehrschichtkörpers angeordneten, Register- oder Passermarken erfolgt. Die Toleranz schwankt dabei über die gesamte Fläche des Mehrschichtkörpers 100 in einem vergleichsweise großen Bereich.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren werden die durch die Lackschicht 31 definierten ersten und zweiten Bereiche 8 und 9 als Maske benutzt, wobei die Lackschicht 31 in einem frühen Prozessschritt bei der Herstellung des

Mehrschichtkörpers 100 wie oben beschrieben aufgebracht wird. Dadurch können keine zusätzlichen Toleranzen und auch keine zusätzlichen

Toleranzschwankungen über die Fläche des Mehrschichtkörpers 100 auftreten, da das nachträgliche Erzeugen einer Maske und das dadurch nötige möglichst registergenaue nachträgliche Positionieren dieser vom bisherigen Prozessverlauf unabhängigen Maske vermieden wird. Die Toleranzen bzw.

Registergenauigkeiten bei dem erfindungsgemäßen Verfahren liegen lediglich in dem nicht absolut exakten Verlauf der Farbkante der durch die Lackschicht 31 definierten ersten und zweiten Bereiche 8 und 9 begründet, deren Qualität durch das jeweils angewendete Druckverfahren bestimmt wird, und liegen etwa im Mikrometerbereich, und damit weit unterhalb des Auflösungsvermögens des Auges; d.h. das unbewaffnete menschliche Auge kann vorhandene Toleranzen nicht mehr wahrnehmen.

Der in Figur 8a dargestellte Mehrschichtkörper 100 wird aus der in Figur 7a dargestellten Fertigungsstufe 100g des Mehrschichtkörpers 100 gebildet, indem eine Ausgleichsschicht 10 auf die im ersten Bereich 8 angeordnete, freiliegende strukturierte Schicht 5 sowie auf die im zweiten Bereich 9 angeordnete, durch Entfernen der zu strukturierenden Schicht 5 und der Photoresistschicht 6 freiliegende Replizierschicht 4 aufgebracht wird. Der Auftrag der

Ausgleichsschicht 10 ist hier vollflächig vorgesehen.

Es ist möglich, dass die Ausgleichsschicht 10 in dem ersten Bereich 8 und dem zweiten Bereich 9 jeweils in einer unterschiedlichen Schichtdicke aufgebracht wird, z.B. durch Aufrakeln, Aufdrucken oder Aufsprühen, so dass die

Ausgleichsschicht 10 auf ihrer von der Trägerlage 1 abgekehrten Seite eine ebene, im Wesentlichen strukturlose Oberfläche aufweist. Die Schichtdicke der Ausgleichsschicht 10 variiert, da sie die unterschiedlichen Niveaus der im ersten Bereich 8 angeordneten strukturierten Schicht 5 und der im zweiten Bereich 9 freiliegenden Replizierschicht 4 ausgleicht/egalisiert. Im zweiten Bereich 9 ist die Schichtdicke der Ausgleichsschicht 10 größer als die Schichtdicke der

strukturierten Schicht 5 im ersten Bereich 8 gewählt, so dass die von der

Trägerlage 1 abgekehrte Seite der Ausgleichsschicht 10 eine ebene Oberfläche aufweist. Es kann aber auch ein Auftrag der Ausgleichsschicht 10 lediglich in einem Teilbereich des Mehrschichtkörpers 100 vorgesehen sein. Es ist möglich, dass auf die ebene Ausgleichsschicht 10 eine oder mehrere weitere Schichten, z.B. eine Adhäsions- oder Klebeschicht, aufgebracht werden. Es ist in vorteilhafter Weise auch möglich, dass die Adhäsions- oder Klebeschicht die niveauausgleichende Wirkung der Ausgleichsschicht 10 übernimmt, sodass keine separate Ausgleichsschicht 10 nötig ist.

Fig. 8b zeigt eine alternative Ausgestaltung des in Fig. 8a dargestellten

Mehrschichtkörpers 100, die aus der in Figur 7a dargestellten Fertigungsstufe 100f des Mehrschichtkörpers 100 gebildet wird, indem eine Ausgleichsschicht 10 auf die im ersten Bereich 8 erhalten gebliebenen Bereiche der Resistschicht 6 sowie auf die im zweiten Bereich 9 angeordnete, durch Entfernen der zu strukturierenden Schicht 5 und der Photoresistschicht 6 freiliegende

Replizierschicht 4 aufgebracht wird. Im Gegensatz zu dem in Fig. 8a dargestellten Mehrschichtkörper 100 umfasst der in Fig. 8b gezeigte Mehrschichtkörper also die erhalten gebliebenen Bereiche der Resistschicht 6.

Figur 9 zeigt einen alternativ ausgebildeten erfindungsgemäßen

Mehrschichtkörper 100', bei dem, im Gegensatz zu dem in Figur 8 dargestellten Mehrschichtkörper 100, anstatt einer positiven Resistschicht 6 eine negative Resistschicht 6 verwendet worden ist. Dadurch ist die strukturierte Schicht 5 und die Resistschicht 6 nicht wie die Lackschicht 31 im ersten Bereich 8, sondern im zweiten Bereich 9 angeordnet. Die strukturierte Schicht 5 und der Resistschicht 6 des alternativen Mehrschichtkörpers 100' sind zwar wie bei dem in Figur 8 dargestellten Mehrschichtkörper 100 im Register zu den Bereichsgrenzen der Bereiche 8, 9 der Lackschicht 31 angeordnet, aber nicht deckungsgleich zu der Lackschicht 31 , sondern in den unbedruckten Zwischenräumen 9 der Lackschicht 31.

Figur 10 zeigt einen Mehrschichtkörper 100", bei dem die Dekorlage 3 aus einer bereichsweise ausgebildeten Lackschicht 31 besteht, die auf der zweiten Seite 12 der Trägerfolie 1 angeordnet ist, wobei die zweite Seite 12 der ersten Seite 11 der Trägerfolie 1 , auf der die strukturierte Schicht 5 angeordnet ist, gegenüberliegt.

Fig. 11a bis Fig. 11g zeigen in schematischer Darstellung unterschiedliche erfindungsgemäße Ausgestaltungen der Dekorlage 3. Es ist jeweils eine

Trägerfolie 1 mit einer Unterseite und einer Oberseite dargestellt, auf der eine Dekorlage 3 umfassend einen ersten Bereich 8 und/oder einen zweiten Bereich 9 in unterschiedlichen Anordnungen angeordnet ist. Bei allen dargestellten

Ausgestaltungen kann die Oberseite entweder die erste oder die zweite Seite des erfindungsgemäßen Mehrschichtkörpers sein.

Wenn im Folgenden auf eine„erste Lackschicht" und eine„zweite Lackschicht" Bezug genommen wird, so ist damit gemeint, dass es sich um zwei

unterschiedlich ausgebildete Lackschichten, z.B. mit unterschiedlichen optischen Eigenschaften wie Farbe und/oder unterschiedlichen mechanischen

Eigenschaften wie Elastizitätsmodul, mit unterschiedlichem Transmissionsgrad handelt. Zwei erste Lackschichten, von denen explizit beschrieben ist, dass sie eine voneinander abweichende Schichtdicke aufweisen, haben ebenfalls einen unterschiedlichen Transmissionsgrad. Falls nicht explizit beschrieben ist, dass zwei Schichtelemente einer ersten Lackschicht eine unterschiedliche Schichtdicke aufweisen, soll davon ausgegangen werden, dass sie gleich dick sind und denselben Transmissionsgrad aufweisen. Fig. 11a zeigt die bereits in Fig. 10 dargestellte Variante, bei der die Dekorlage 3 aus einer im ersten Bereich 8 auf der Oberseite der Trägerfolie 1 angeordneten ersten Lackschicht 31 besteht, die im zweiten Bereich 9 nicht vorhanden ist. Fig. 11b zeigt eine Variante, bei der die Dekorlage 3 aus einer vollflächig auf der Oberseite der Trägerfolie 1 angeordneten ersten Lackschicht 31 besteht, die im ersten Bereich 8 eine größere Dicke aufweist als im zweiten Bereich 9.

Fig. 11c zeigt eine Variante, bei der die Dekorlage 3 aus einer im ersten Bereich 8 auf der Oberseite der Trägerfolie 1 angeordneten ersten Lackschicht 31 und einer im zweiten Bereich 9 ebenfalls auf der Oberseite der Trägerfolie 1 angeordneten zweiten Lackschicht 32 besteht. Die Lackschichten 31 und 32 können

beispielsweise zwei unterschiedliche farbige Lackschichten sein oder zwei Lackschichten mit jeweils unterschiedlichen optischen Effekten.

Fig. 11d zeigt eine Variante, bei der die Dekorlage 3 aus einer im ersten Bereich 8 angeordneten ersten Lackschicht 31 besteht, die im zweiten Bereich 9 nicht vorhanden ist. Die erste Lackschicht umfasst zwei Schichtelemente, wobei ein erstes Schichtelement auf der Oberseite der Trägerfolie 1 und ein zweites

Schichtelement auf der Unterseite der Trägerfolie 1 angeordnet ist.

Fig. 11e zeigt eine Variante, bei der die Dekorlage 3 aus einer im ersten Bereich 8 auf der Oberseite der Trägerfolie 1 angeordneten ersten Lackschicht 31 mit einer ersten Dicke und einer im zweiten Bereich 9 auf der Unterseite der Trägerfolie 1 angeordneten ersten Lackschicht 31 mit einer zweiten Dicke, die geringer als die erste Dicke ist.

Fig. 11f zeigt eine Variante, bei der die Dekorlage 3 aus einer im ersten Bereich 8 auf der Oberseite der Trägerfolie 1 angeordneten ersten Lackschicht 31 und einer im zweiten Bereich 9 auf der Unterseite der Trägerfolie 1 angeordneten zweiten Lackschicht 32 besteht. Fig. 11g zeigt eine Variante, bei der die Dekorlage 3 aus einer im ersten Bereich 8 auf der Oberseite der Trägerfolie 1 angeordneten ersten Lackschicht 31 und einer vollflächig auf der Unterseite der Trägerfolie 1 angeordneten zweiten Lackschicht 32 besteht.

Figur 12 zeigt einen Mehrschichtkörper 100'", bei dem die Dekorlage 3 durch eine erste Lackschicht 31 , die einen ersten Farbeindruck erzeugt, und eine zweite Lackschicht 32, die einen zweiten Farbeindruck erzeugt, ausgebildet ist, wobei beide Lackschichten 31 , 32 auf derselben Seite der Trägerlage 1 zwischen der funktionellen Schicht 2 und der Replizierschicht 4 angeordnet sind.

Figur 13 zeigt einen Mehrschichtkörper 100a', bei dem die Dekorlage 3 aus einer ersten bereichsweise aufgebrachten Lackschicht 31 und einer zweiten darüber vollflächig aufgebrachten Lackschicht 32 ausgebildet ist, wobei beide

Lackschichten 31 , 32 auf derselben Seite der Trägerlage 1 angeordnet sind.

Figur 14 zeigt einen Mehrschichtkörper 100a", bei dem die Dekorlage 3 aus einer ersten Lackschicht 31 , die vollflächig auf der zweiten Seite 12 der Trägerfolie 1 aufgebracht ist, und einer zweiten Lackschicht 32, die bereichsweise auf der ersten Seite 11 der Trägerfolie 1 aufgebracht ist, besteht.

Figur 15 zeigt Transmissionsspektren vier verschiedener Klassen von UV- Absorbern, die in dem ersten Bereich 8 der Dekorlage 3 vorhanden sein können, um in dem ersten Bereich 8 und in dem zweiten Bereich 9 einen

unterschiedlichen Transmissionsgrad auszubilden. Die UV-Absorber liegen mit einer Konzentration von 0,00014 mol/l in Chloroform vor. Aufgetragen ist der in Prozent gemessene Transmissionsgrad %T über der Wellenlänge λ im Bereich von 280 bis 410 nm. Die Strich-Punkt-Linie A gibt die Transmission von

Oxalanilid, die Strich-Punkt-Punkt-Linie B die Transmission von

Hydroxybenzophenon, die Strich-Strich-Linie C die Transmission von

Hydroxyphenyl-S-Triazin, und die durchgezogene Linie D die Transmission von Benzotriazol wieder. Bezuqszeichenliste

I Trägerlage

1a, 1b, 1c Schichten (von 1)

2 funktionelle Schicht

3 Dekorlage

4 Replizierschicht

5 zu strukturierende bzw. strukturierte Schicht

6 Resistschicht

7 Strahlung

8 erster Bereich

9 zweiter Bereich

10 Ausgleichsschicht

I I erste Seite (von 1)

12 zweite Seite (von 1 )

31 erste Lackschicht (von 3)

32 zweite Lackschicht (von 3)

33, 34 Einfärbung

40 Oberfläche (von 4)

41 erste Zone, unstrukturiert (von 4)

42 zweite Zone, strukturiert (von 4)

100 Mehrschichtkörper