Title:
METHOD FOR ROUGHENING SUBSTRATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOVOLTAIC POWER APPARATUS
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2011/145479
Kind Code:
A1
Abstract:
Disclosed is a method for roughening a substrate, which includes: a disposing step wherein a mask plate having a plurality of rectangular openings previously formed is disposed on the side of the substrate surface to be processed; and a blast step wherein abrasive grains are blasted to the surface to be processed through the mask plate.
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Inventors:
NISHIMURA, Kunihiko (7-3 Marunouchi 2-chome, Chiyoda-k, Tokyo 10, 〒1008310, JP)
西村 邦彦 (〒10 東京都千代田区丸の内二丁目７番３号 三菱電機株式会社内 Tokyo, 〒1008310, JP)
MATSUNO, Shigeru (7-3 Marunouchi 2-chome, Chiyoda-k, Tokyo 10, 〒1008310, JP)
西村 邦彦 (〒10 東京都千代田区丸の内二丁目７番３号 三菱電機株式会社内 Tokyo, 〒1008310, JP)
MATSUNO, Shigeru (7-3 Marunouchi 2-chome, Chiyoda-k, Tokyo 10, 〒1008310, JP)
Application Number:
JP2011/060761
Publication Date:
November 24, 2011
Filing Date:
May 10, 2011
Export Citation:
Assignee:
Mitsubishi Electric Corporation (7-3 Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku Tokyo, 10, 〒1008310, JP)
三菱電機株式会社 (〒10 東京都千代田区丸の内二丁目７番３号 Tokyo, 〒1008310, JP)
NISHIMURA, Kunihiko (7-3 Marunouchi 2-chome, Chiyoda-k, Tokyo 10, 〒1008310, JP)
西村 邦彦 (〒10 東京都千代田区丸の内二丁目７番３号 三菱電機株式会社内 Tokyo, 〒1008310, JP)
三菱電機株式会社 (〒10 東京都千代田区丸の内二丁目７番３号 Tokyo, 〒1008310, JP)
NISHIMURA, Kunihiko (7-3 Marunouchi 2-chome, Chiyoda-k, Tokyo 10, 〒1008310, JP)
西村 邦彦 (〒10 東京都千代田区丸の内二丁目７番３号 三菱電機株式会社内 Tokyo, 〒1008310, JP)
International Classes:
H01L21/304; B24C1/04; H01L31/04
Attorney, Agent or Firm:
SAKAI, Hiroaki (Sakai International Patent Office, Kasumigaseki Building 2-5, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 20, 〒1006020, JP)
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Claims: