Verfahren zur Selbstüberwachung des Durchbruchs in

Halbleiterbauteilen sowie dafür ausgebildetes

Halbleiterbauteil

Technisches Anwendungsgebiet Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur überwachung des Durchbruchs von pn-übergängen in Halbleiterbauteilen sowie ein für die Anwendung des Verfahrens ausgebildetes Halbleiterbauteil . Ein Halbleiterbauteil kann dabei ein oder mehrere Halbleiter- bauelemente, wie bspw. Dioden oder Transistoren, umfassen. Das Verfahren eignet sich vor allem für die Selbstüberwachung des Durchbruchs in schnellen integrierten Schaltungen (ICs) und in schnellen Halbleiterbauelementen .

Stand der Technik

Schnelle integrierte Schaltungen und schnelle Halbleiterbauelemente weisen einen frühen Durchbruch auf. Mit dem Begriff Durchbruch wird in der vorliegenden Patentanmeldung der Lawinendurchbruch an einem pn-übergang bezeichnet, der ab einer gewissen, am pn-übergang angelegten Spannung oder ab einer gewissen elektrischen Feldstärke (kritische Feldstärke) in der Raumladungszone auftritt. Durch den frühen Durchbruch ergibt sich für diese ICs und Halbleiterbauelemente ein stark eingeschränkter Betriebsbereich.

Bislang kann der Durchbruch nur durch externe Spannungs- oder Strombegrenzung verhindert werden. Eine

derartige feste Begrenzung muss jedoch frühzeitig einsetzen, um individuelle Schwankungen in den elektrischen Eigenschaften des Halbleiterbauteils und Temperatureffekte zu berücksichtigen. Dies verkleinert den Be- triebsbereich des Halbleiterbauteils zusätzlich und verringert dadurch die Leistungsausschöpfung. Der Durchbruch kann das Bauelement und die integrierte Schaltung zerstören.

Die US-2006/0194382 Al offenbart ein Verfahren zur Erstellung einer ESD-Schutzschaltung für ein Halbleiterbauteil, die in das Halbleiterbauteil integriert ist. Zur Bestimmung der für die Erstellung der Schutzschaltung erforderlichen Parameter wird eine physikali- sehe Analyse der Elemente der Schutzschaltung durchgeführt, die unter anderem eine Messung der Durchbruch- charakteristik eingesetzter MOSFET sowie eine Analyse der Photoemission umfasst .

Darstellung der Erfindung

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Echtzeitverfahren zur überwachung des Durchbruchs von pn-übergängen in Halbleiterbauteilen sowie ein für die Durchführung des Verfahrens ausgebildetes Halbleiterbauteil anzugeben, das einen vergrößerten Betriebsbereich des Halbleiterbauteils ermöglicht.

Die Aufgabe wird mit dem Verfahren und dem HaIb- leiterbauteil gemäß den Patentansprüchen 1 und 7 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen des Verfahrens sowie des Halbleiterbauteils sind Gegenstand der Unteransprü-

che oder lassen sich der nachfolgenden Beschreibung sowie dem Ausführungsbeispiel entnehmen.

Bei dem vorgeschlagenen Verfahren zur überwachung des Durchbruchs von pn-übergängen in Halbleiterbauteilen wird mit einem in der Umgebung des pn-übergangs in das Halbleiterbauteil integrierten photosensitiven elektronischen Bauelement optische Strahlung erfasst, die der pn-übergang während eines Durchbruchs emit- tiert. In Abhängigkeit dieser erfassten Strahlung wird dann eine an den pn-übergang angelegte Spannung oder ein über den pn-übergang geleiteter Strom geregelt. Die Regelung kann derart erfolgen, dass ein vollständiger Durchbruch des pn-übergangs verhindert wird. Bei An- steigen der optischen Emission des pn-übergangs über eine vorgebbare Schwelle wird in diesem Fall der Strom oder die Spannung am pn-übergang verringert, bis die optische Emission wieder unter den Schwellwert gefallen ist oder nicht weiter ansteigt. Unter einem vollständi- gen Durchbruch wird in diesem Zusammenhang ein Durchbruch mit einer Dauer verstanden, die zu überhitzung oder Zerstörung des Halbleiterbauteils führt.

Das vorgeschlagene Halbleiterbauteil umfasst zu- mindest den zu überwachenden pn-übergang, eine Regelungseinheit zur Regelung einer an den pn-übergang angelegten Spannung oder eines über den pn-übergang geleiteten Stroms und ein mit der Regelungseinheit verbundenes photosensitives elektronisches Bauelement . Das photosensitive Bauelement ist dabei derart in der Umgebung des pn-übergangs integriert, dass es während eines Durchbruchs am pn-übergang emittierte optische Strahlung erfassen kann. Die Regelungseinheit ist so ausge-

bildet, das sie die an den pn-übergang angelegte Spannung oder den über den pn-übergang geleiteten Strom in Abhängigkeit der erfassten Strahlung regelt .

Das vorliegende Verfahren ermöglicht die Selbst- überwachung des Durchbruchs an einem pn-übergang in einem Halbleiterbauteil, ohne den Betriebsbereich des Halbleiterbauteils dadurch weiter einzuschränken. Vielmehr lässt sich damit das Halbleiterbauteil mit Span- nungen oder Strömen kurz vor dem Einsetzen des Durchbruchs betreiben, so dass eine erhöhte Leistungsausbeute erzielbar ist. Das Verfahren eignet sich hierbei insbesondere für die Selbstüberwachung des Durchbruchs in schnellen ICs und schnellen Halbleiter- bauelementen während ihres bestimmungsgemäßen Betriebs. Wesentliche Vorteile des Verfahrens und des Halbleiterbauteils bestehen daher in einem vergrößerten Betriebsbereich und einer erhöhten Leistung des Halbleiterbauteils, in einem größeren Temperaturbereich für den Be- trieb, einer größeren Akzeptanz von Bauelement-

Streuungen und einem Schutz vor Zerstörung und somit Ausfall des Halbleiterbauteils.

Bei dem vorliegenden Verfahren und dem dafür aus- gestalteten Halbleiterbauteil wird die Erkenntnis genutzt, dass während des Durchbruchs eines pn-übergangs sichtbares Licht emittiert wird. Die Lichtemission steigt im Verlauf des Durchbruchs an, so dass sie als Signal für den einsetzenden Durchbruch sowie als Maß für einen fortschreitenden Durchbruch herangezogen werden kann. Beim vorliegenden Verfahren und dem zugehörigen Halbleiterbauteil wird daher ein photosensitives elektronisches Bauelement, vorzugsweise eine Photodio-

de, nahe am Erzeugungsort der Lichtemission, d. h. nahe am zu überwachenden pn-übergang, in das Halbleiterbauteil integriert. Der Ort dieses photosensitiven Bauelementes muss dabei ausreichend nahe am pn-übergang ge- wählt werden, da die Lichtemission nur schwach ist und zudem im Halbleitermaterial stark absorbiert wird. Das von dem photosensitiven Bauelement gemessene Signal, im Fall der Photodiode der Photostrom, wird zur Regelung der Versorgung (Spannung, Strom) des zu schützenden Bauelementes bzw. pn-übergangs verwendet.

Bei dem vorgeschlagenen Verfahren wird somit die schwache und bisher als nutzlos betrachtete Lichtemission beim Durchbruch eines pn-übergangs als Selbst- test für den Durchbruch während des Betriebs des Halbleiterbauteils genutzt. Das hierzu integrierte photosensitive Bauelement dient ausschließlich der Erfassung dieser Lichtemission für die Regelung der Versorgung des überwachten Halbleiterbauelements.

Selbstverständlich können mit dem vorgeschlagenen Verfahren auch mehrere pn-übergänge in einem Halbleiterbauteil, bspw. einer komplexen integrierten Schaltung, überwacht werden. In diesem Falle ist an jedem zu überwachenden pn-übergang ein entsprechendes photosensitives Bauelement integriert und mit einer die Versorgung des Halbleiterbauelements des überwachten pn- überganges regelnden Regelungseinheit verbunden.

Bei dem zu regelnden Bauelement kann es sich beispielsweise um einen Bipolartransistor, einen Heterobi- polartransistor (HBT) oder um einen Feldeffekttransistor (FET) , insbesondere einen MOSFET, handeln. Bei ei-

nem Feldeffekttransistor wird vorzugsweise das Regel - signal der Regelungseinheit zur Steuerung der Source- BuIk oder Source-Drain oder Gate-Source Spannung benutzt .

An die Regelungseinheit selbst werden keine besonderen Anforderungen gestellt. Diese Regelungseinheit muss lediglich schnell genug die Spannung oder den Strom regeln können, um den Durchbruch zu verhindern. Als Regelungstechniken können hierbei bspw. eine PI- oder eine PID-Regelung zum Einsatz kommen. Die Regelungseinheit selbst ist dabei vorzugsweise ebenfalls, wie auch das photosensitive Bauelement, monolithisch in das Halbleiterbauteil integriert.

Kurze Beschreibung der Zeichnungen

Das vorgeschlagene Verfahren sowie das Halbleiter- bauteil werden nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispiels in Verbindung mit den Zeichnungen nochmals kurz erläutert. Hierbei zeigen:

Fig. 1 ein Beispiel für die Integration einer Photodiode in einen Heterobipolar- transistor zur Durchführung des vorgeschlagenen Verfahrens; und Fig. 2 schematisch den prinzipiellen Aufbau eines Halbleiterbauteils gemäß der vorliegenden Erfindung.

Wege zur Ausführung der Erfindung

Im folgenden Beispiel wird das vorgeschlagene Verfahren sowie der Aufbau eines entsprechend ausgestalteten Halbleiterbauteils am Beispiel eines Heterobipo- lartransistors nochmals erläutert. Der Durchbruch des pn-übergangs im Heterobipolartransistor soll dabei während des normalen Betriebs dieses Transistors durch das Halbleiterbauteil selbst überwacht werden, um einen Durchbruch während des Betriebs zu verhindern. Bei dem Verfahren erfolgt eine in situ Detektion des Lichtes, das von dem Halbleitermaterial im Lawinendurchbruch am pn-übergang emittiert wird. Dieses Leuchten wird mit einem monolithisch integrierten Photodetektor, der nahe am pn-übergang platziert ist, in einen Photostrom ge- wandelt. Der Photostrom wird als Regelsignal für die Versorgung des Heterobipolartransistors genutzt.

In Figur 1 ist hierbei der bekannte Aufbau eines Heterobipolartransistors dargestellt, mit dem Emitter 1, der Basis 2, dem Kollektor 3, dem SIC-Kollektor- bereich 4 (SIC: Selectively Implanted Collector) , dem darunter liegenden Subkollektor 5 und dem Kollektoran- schluss 6. Der obere Bereich dieses Heterobipolartransistors ist von einem Trenchgraben mit einem Isola- tor 7 umgeben.

Für die Erfassung des während eines Durchbruchs von dem zu überwachenden pn-übergang zwischen Basis und Kollektor ausgesendeten Licht ist in der Nähe dieses übergangs, in Figur 1 im linken Teil, eine Photodiode 8 integriert, deren pn-übergang ebenfalls in der Figur erkennbar ist. Diese Photodiode 8 ist mit einer in Figur 1 nicht dargestellten Regelungseinheit verbunden,

die den Basisstrom des Heterobipolartransistors in Abhängigkeit vom Photostrom der Photodiode 8 regelt .

Die Regelschleife hält den für das zu überwachende Halbleiterbauelement bestimmenden Eingangsparameter, d. h. den Basisstrom bei dem hier beispielhaft dargestellten Heterobipolartransistor, auf einem definierten Wert in oder kurz vor dem Durchbruch. Im Falle eines MOSFET als zu überwachendem Bauelement kann beispiels- weise die Gatespannung als bestimmender Eingangsparameter geregelt werden.

Das Bauelement kann hierbei sowohl am Beginn des Durchbruchs oder aber im Durchbruch gehalten werden. Die Festlegung des Arbeitspunktes für die Regelung ist dem Hersteller oder dem Anwender überlassen. Das vorgeschlagene Verfahren lässt sämtliche Möglichkeiten zu.

Figur 2 zeigt schematisch die Regelungseinheit 9, die Photodiode 8 sowie die Versorgung 10 für das zu ü- berwachende Halbleiterbauelement 11. Der in der Photodiode 8 erzeugte Photostrom kann im vorliegenden Beispiel des Heterobipolartransistors zur Regelung im einfachsten Fall auf die Basis 2 als zweiter Stromanteil (mit invertiertem Vorzeichen) gegeben werden. Selbstverständlich ist jedoch auch eine PID-Regelung des Basisstromes möglich, wobei der Photostrom der Photodiode 8 als Regelsignal verwendet wird.

Bei dem vorgeschlagenen Verfahren wird das von

Halbleiterbauelement, das eine Qualitätsprüfung bereits bestanden hat, im Betrieb ausgesendete Licht mittels eines integrierten Photodetektors erfasst und das de-

tektierte Signal zur Regelung des Arbeitspunktes des Halbleiterbauelementes verwendet . Diese Regelung kann bei zukünftigen Oszillatorschaltungen verwendet werden, um mehr Leistung mit den Transistoren zu erzeugen, da diese mit dem Verfahren ohne Gefahr einer Zerstörung definiert im Durchbruch betrieben werden können.

Bezugs zeichenliste

Emitter

Basis

Kollektor

SIC-Kollektor

Sub-Kollektor

Kollektoranschluss

Isolator

Photodiode

Regelungseinheit

Versorgung

Halbleiterbauelement