本発明のシランカップリング剤を塗布する 基板としては、金属コーティングを目的とし 、本発明の方法を行うことの出来るものであ ればどのようなものでもよいが、中でもシリ コン基板が好ましい。

 本発明の金属捕捉能を持つ官能基を有する� ��ランカップリング剤中の金属捕捉能を持つ� ��能基は、金属と会合又は結合する能力を有� ��る官能基であり、例えばイミダゾール基、� ��ミノ基、ジアミノ基、メルカプト基、ビニ� ��基が挙げられる。
 シランカップリング剤は分子の一端に加水� ��解でシラノール基(Si-OH)を与えるエトキシ(� �はメトキシ)基を有し、他端にアミノ基やグ� ��シジル基等の有機官能基を有するものを言� ��。

 本発明の金属捕捉能を持つ官能基を有する� ��ランカップリング剤として、例えばアゾー� ��系化合物とエポキシシラン系化合物との反� ��により得られたシランカップリング剤が挙� ��られる。アゾール系化合物としては、例え� ��イミダゾール、オキサゾール、チアゾール� ��セレナゾール、ピラゾール、イソオキサゾ� ��ル、イソチアゾール、トリアゾール、オキ� ��ジアゾール、チアジアゾール、テトラゾー� ��、オキサトリアゾール、チアトリアゾール� ��ベンダゾール、インダゾール、ベンズイミ� ��ゾール、ベンゾトリアゾールなどが挙げら� ��、エポキシシラン系化合物としては、
(式中、R ¹ 、R ² は水素又は炭素数が1~3のアルキル基、nは1~3� �整数)で示されるエポキシシランカップリン� ��剤が好ましい。
 アゾール系化合物とエポキシシラン系化合� ��との反応は、例えば特開平6-256358号公報に� �載されている条件で行うことが出来る。例� �ば、80~200℃でアゾール化合物1モルに対して0 .1~10モルのエポキシ基含有シラン化合物を滴� ��して5分~2時間反応させる。その際、溶媒は� ��に不要であるが、クロロホルム、ジオキサ� ��、メタノール、エタノール等の有機溶剤を� ��いても良い。
 本発明の金属捕捉能を持つ官能基を有する� ��ランカップリング剤として、具体的には例� ��ば、イミダゾールシラン、3-アミノプロピ� �トリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-� �ミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミ ノエチル)-3-アミノプロピルトリエトキシシ� �ン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラ ン、ビニルシランが挙げられる。

 基板塗布用のシランカップリング剤液の調� ��方法としては、水、メチルアルコールやエ� ��ルアルコール等のアルコール類、トルエン� ��キシレン等の芳香族炭化水素類を溶媒とし� ��、適当量の目的のシランカップリング剤を� ��に溶解させるだけでよい。
 シランカップリング剤の塗布方法は、当業� ��が通常行う方法が採用でき、例えばスピン� ��ート、浸漬等が挙げられる。

 ナノ金属粒子の金属は、基板に担持固定す� ��目的で使用される金属であり、例えば金、� ��金、銀、銅、パラジウム、ニッケル、コバ� ��ト、ルテニウム、ロジウム、レニウム、マ� ��ガン、クロム、モリブデン、タングステン� ��ニオブ、タンタル、チタン、ジルコニウム� ��ハフニウム、亜鉛、カドミウム、アルミニ� ��ム、ガリウム、インジウム、スズ、シリコ� ��の群から選ばれた少なくとも一種、又は二� ��以上を組み合わせた合金、例えば白金-パラ ジウム合金パラジウム-銅合金、銅―銀合金� �ど、又は、少なくとも一種を含む金属、例� �ばタングステン-パラジウムや、タンタル-パ ラジウムなどが挙げられる。TaNやTiNなどの窒 化物やNiSiやCoSiなどのケイ物としても良い。
 ナノ金属粒子の大きさとしては、数nmから� �百nm、特に2~100nmが好ましい。本発明のナノ� �属粒子は、下記イオン性流体に含まれ、保� �された状態でシランカップリング剤と接触� �せられる。

 本発明のイオン性流体とは、陽イオンと陰� ��オンのみから構成され、かつ常温で液体で� ��る化合物をいう。イオン性流体は、高温で� ��定であり、液相の温度範囲が広く、蒸気圧� ��非常に低く、低粘性、高い酸化還元耐性等� ��性質を有する。本発明に適用可能なイオン� ��流体は、親水性であっても疎水性であって� ��よく、例えば脂肪族系イオン性流体、イミ� ��ゾリウム系イオン性流体、ピリジニウム系� ��オン性流体等が挙げられる。
 脂肪族系イオン性流体としては、N,N,N-トリ� ��チル-N-プロピルアンモニウムビス(トリフル オロメタンスルホニル)イミドやN-メチル-N-プ ロピルピペリジニウムビス(トリフルオロメ� �ンスルホニル)イミド、N,N-ジエチル-N-メチル -N-(2-メトキシエチル)アンモニウムビス(トリ� ��ルオロメタンスルホニル)イミド、N,N-ジエ� �ル-N-メチル-N-(2-メトキシエチル)アンモニウ� ��テトラフルオロホウ酸塩等が挙げられる。

 イミダゾリウム系イオン性流体として、1 ,3-ジアルキルイミダゾリウム塩、1,2,3-トリア ルキルイミダゾリウム塩等が挙げられる。1,3 -ジアルキルイミダゾリウム塩として、1-エチ ル-3-メチルイミダゾリウムブロマイド、1-エ� ��ル-3-メチル-イミダゾリウムクロライド、1-� ��チル-3-メチルイミダゾリウム(L)-乳酸塩、1-� ��チル-3-メチルイミダゾリウムヘキサフルオ� ��リン酸塩、1-エチル-3-メチルイミダゾリウ� �テトラフルオロホウ酸塩、1-ブチル-3-メチル イミダゾリウムクロライド、1-ブチル-3-メチ� ��イミダゾリウムヘキサフルオロリン酸塩(BMI -PF6)、1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムテト� �フルオロホウ酸塩、1-ブチル-3-メチルイミダ ゾリウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、 1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム(L)-乳酸塩、 1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムブロマイ� ��、1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムクロ� �イド、1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムヘ キサフルオロリン酸塩、1-ヘキシル-3-メチル� ��ミダゾリウムテトラフルオロホウ酸塩、1-� �キシル-3-メチルイミダゾリウムトリフルオ� �メタンスルホン酸塩、1-オクチル-3-メチルイ ミダゾリウムクロライド、1-オクチル-3-メチ� ��イミダゾリウムヘキサフルオロリン酸塩、1 -デシル-3-メチルイミダゾリウムクロライド� �1-ドデシル-3-メチルイミダゾリウムクロライ ド、1-テトラデシル-3-メチルイミダゾリウム� ��ロライド、1-ヘキサデシル-3-メチルイミダ� �リウムクロライド、1-オクタデシル-3-メチル イミダゾリウムクロライド等が挙げられる。 1,2,3-トリアルキルイミダゾリウム塩としては 、1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムブロ� �イドや1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウム� ��ロライド、1-ブチル-2,3-ジメチルイミダゾリ ウムブロマイド、1-ブチル-2,3-ジメチルイミ� �ゾリウムクロライド、1-ブチル-2,3-ジメチル� ��ミダゾリウムテトラフルオロホウ酸塩、1-� �チル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリフルオ ロメタンスルホン酸塩、1-ヘキシル-2,3-ジメ� �ルイミダゾリウムブロマイド、1-ヘキシル-2, 3-ジメチルイミダゾリウムクロライド、1-ヘ� �シル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトラフルオ ロホウ酸塩、1-ヘキシル-2,3-ジメチルイミダ� �リウムトリフルオロメタンスルホン酸塩等� �挙げられる。

 又、ピリジニウム系イオン性流体として� ��、エチルピリジニウム塩やブチルピリジニ� ��ム塩、ヘキシルピリジニウム塩等が挙げら� ��る。具体的には、エチルピリジニウム塩と� ��ては、1-エチルピリジニウムブロマイドや1- エチルピリジニウムクロライドが挙げられ、 ブチルピリジニウム塩としては、1-ブチルピ� ��ジニウムブロマイドや1-ブチルピリジニウ� �クロライド、1-ブチルピリジニウムヘキサフ ルオロリン酸塩、1-ブチルピリジニウムテト� ��フルオロホウ酸塩、1-ブチルピリジニウム� �リフルオロメタンスルホン酸塩等が挙げら� �、ヘキシルピリジニウム塩としては、1-ヘキ シルピリジニウムブロマイドや1-ヘキシルピ� ��ジニウムクロライド、1-ヘキシルピリジニ� �ムヘキサフルオロリン酸塩、1-ヘキシルピリ ジニウムテトラフルオロホウ酸塩、1-ヘキシ� ��ピリジニウムトリフルオロメタンスルホン� ��塩等が挙げられる。

 基板上にシランカップリング剤を塗布した� ��に、イオン性流体に覆われたナノ金属粒子� ��基板とを接触させる工程の例示を、下記に� ��系列で記載する。
 基板を酸性溶液と強酸で洗浄する。基板を� ��ランカップリング剤溶液中に浸漬、又は基� ��上にシランカップリング剤溶液をスピンコ� ��トする。適宜、溶剤を選択して洗浄後、加� ��乾燥する。スピンコートの場合は、塗布後� ��分間程度スピンコーター上で回転させても� ��い。
 イオン性流体を加熱減圧乾燥した後、その� ��にナノ金属粒子のスパッタリング蒸着を行� ��。スパッタリングにより得られたナノ金属� ��子を含むイオン性流体を、上記コートされ� ��基板上に滴下し、基板表面に広がったイオ� ��性流体を減圧乾燥して除去し、ナノ金属粒� ��が担持された基板を得る。予め調製したナ� ��金属粒子をイオン流体と混合して保護した� ��態で、シランカップリング剤が塗布された� ��板に滴下し、基板表面に広がったイオン性� ��体を減圧乾燥して除去し、ナノ金属粒子が� ��持された基板を得ることも出来る。

 本発明の方法でナノ金属粒子を担持させた� ��、担持させた金属によってはその後無電解� ��っきをしてもよい。
 以下に本発明の例を示すが、これらは本発� ��を限定するものではない。