Title:
METHOD OF TREATING SUBSTRATE, PROCESS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND RECORDING MEDIUM
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2008/023585
Kind Code:
A1
Abstract:
A method of treating a substrate, comprising the first step of setting a substrate with
metal layer to be treated to a first temperature so that a treating gas containing an
organic compound is adsorbed on the metal layer to thereby form a metal complex, and
the second step of heating the substrate at a second temperature higher than the
first temperature to thereby sublime the metal complex.
Inventors:
MIYOSHI, Hidenori (650 Mitsuzawa, Hosaka-Ch, Nirasaki-Shi Yamanashi 92, 4070192, JP)
三好 秀典 (〒92 山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢６５０ 東京エレクトロン株式会社内 Yamanashi, 4070192, JP)
ISHIKAWA, Kenji (1-1 Kamikodanaka 4-Chome, Nakahara-K, Kawasaki-Shi Kanagawa 88, 2118588, JP)
石川 健治 (〒88 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番１号 富士通株式会社内 Kanagawa, 2118588, JP)
TATEISHI, Hideki (11-1 Haneda Asahi-Ch, Ohta-Ku Tokyo 10, 1448510, JP)
三好 秀典 (〒92 山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢６５０ 東京エレクトロン株式会社内 Yamanashi, 4070192, JP)
ISHIKAWA, Kenji (1-1 Kamikodanaka 4-Chome, Nakahara-K, Kawasaki-Shi Kanagawa 88, 2118588, JP)
石川 健治 (〒88 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番１号 富士通株式会社内 Kanagawa, 2118588, JP)
TATEISHI, Hideki (11-1 Haneda Asahi-Ch, Ohta-Ku Tokyo 10, 1448510, JP)
Application Number:
JP2007/065759
Publication Date:
February 28, 2008
Filing Date:
August 10, 2007
Export Citation:
Assignee:
TOKYO ELECTRON LIMITED (3-6 Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 81, 1078481, JP)
東京エレクトロン株式会社 (〒81 東京都港区赤坂五丁目３番６号 Tokyo, 1078481, JP)
MIYOSHI, Hidenori (650 Mitsuzawa, Hosaka-Ch, Nirasaki-Shi Yamanashi 92, 4070192, JP)
三好 秀典 (〒92 山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢６５０ 東京エレクトロン株式会社内 Yamanashi, 4070192, JP)
ISHIKAWA, Kenji (1-1 Kamikodanaka 4-Chome, Nakahara-K, Kawasaki-Shi Kanagawa 88, 2118588, JP)
石川 健治 (〒88 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番１号 富士通株式会社内 Kanagawa, 2118588, JP)
東京エレクトロン株式会社 (〒81 東京都港区赤坂五丁目３番６号 Tokyo, 1078481, JP)
MIYOSHI, Hidenori (650 Mitsuzawa, Hosaka-Ch, Nirasaki-Shi Yamanashi 92, 4070192, JP)
三好 秀典 (〒92 山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢６５０ 東京エレクトロン株式会社内 Yamanashi, 4070192, JP)
ISHIKAWA, Kenji (1-1 Kamikodanaka 4-Chome, Nakahara-K, Kawasaki-Shi Kanagawa 88, 2118588, JP)
石川 健治 (〒88 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番１号 富士通株式会社内 Kanagawa, 2118588, JP)
International Classes:
H01L21/302; H01L21/3205; H01L21/768; H01L23/52
Attorney, Agent or Firm:
ITOH, Tadahiko (32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower20-3, Ebisu 4-Chom, Shibuya-Ku Tokyo 32, 1506032, JP)
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