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Title:
NOVEL COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION CONTAINING SAME, AND COLOR FILTER
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2017/018617
Kind Code:
A1
Abstract:
Provided are: a compound including cations and anions, wherein the cations are represented by a specific formula; a photosensitive resin composition containing the compound; and a color filter manufactured using the photosensitive resin composition.

Inventors:
KIM SUNDAE (KR)
CHOI EUNJEONG (KR)
SHIN MYOUNGYOUP (KR)
CHOI SEUNGJIB (KR)
Application Number:
PCT/KR2015/013609
Publication Date:
February 02, 2017
Filing Date:
December 11, 2015
Export Citation:
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Assignee:
SAMSUNG SDI CO LTD (KR)
International Classes:
C07D333/10; C07D307/34; C09B57/00; G02B5/20; G03F7/00; G03F7/004; G03F7/027
Domestic Patent References:
WO2015041114A12015-03-26
Foreign References:
KR20140001396A2014-01-07
JP2011227408A2011-11-10
JPH08179465A1996-07-12
KR20150070957A2015-06-25
Attorney, Agent or Firm:
PANKOREA PATENT AND LAW FIRM (KR)
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Claims:
【청구의 범위】

【청구항 1】

양이온 및 음이은을 포함하고,

상기 양이온은 하기 화학식 1로 표시되는

[화학식 1]

상기 화학식 1에서,

R1 내지 R6은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내 C20 헤테로아릴기이고,

R7은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

X는 -0-, -S- 또는— NR8-(R8은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기)이다.

【청구항 2】

제 1항에 있어서,

상기 X는 -0- 또는 -S-인 화합물.

【청구항 3】

제 1항에 있어서,

상기 R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기인 화합물.

【청구항 4】 제 1항에 있어서,

상기 양이온은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물.

[화학식 2]

상기 화학식 2에서,

R9 및 R10은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, Ri i 및 는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 ci 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

R13은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

R14 내지 R17은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

nl 내지 n4는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 0≤ nl+n2≤ 5 이고, 0 < n3+n4 < 5 이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다.

【청구항 5】

제 1항에 있어서,

상기 양이온은 하기 화학식 3 내지 화학식 7로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되는 화합물. [화학식 3]

(상기 화학식 3에서,

18, 19 및 R21은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,

R22는 할로겐 원자이고,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다)

[화학식 4]

(상기 화학식 4에서 R18 내지 R21,은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,

R22는 할로겐 원자이고,

R23 내지 R20은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다)

[화학식 5]

(상기 화학식 5에서,

Ris 및 Rig는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R22는 할로겐 원자이고,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

R27은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다) [화학식 6]

(상기 화학식 6에서,

R18 및 R19는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고 R22는 할로겐 원자이고,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C110 알킬기이고,

R27 및 R28은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고 m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다)

[화학식 7]

(상기 화학식 7에서, R18, R19 및 R21은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내자 C20 알킬기이고,

R22는 할로겐 원자이고,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

R28은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다)

【청구항 6】

제 1항에 있어서,

상기 양이온은 하기 화학식 5-3, 화학식 5-4, 화학식 5-5, 화학식 5-6, 화학식 7-6, 화학식 7-8, 화학식 7-10, 화학식 7-12 및 화학식 7-17 내지 화학식 7-23으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되는 화합물.

[화학식 5-3]

90

[화학식 7-12]

[ 7-22]

[ 7-23]

【청구항 기ᅵ

제 1항에 있어서,

상기 음이온은 하기 화학식 A 내지 화학식 F로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되는 화합물.

[화학식 A]

[화학식 B] 95

[화학식 C]

PW12O403"

[화학식 D]

SiW12O404"

[화학식 E]

CF3SO3"

[화학식 F]

C104"

【청구항 8 ]

제 1항에 있어서,

상기 화합물은 염료인 화합물.

【청구항 9】

거 1 8항에 있어서,

상기 염료는 청색 염료인 화합물.

【청구항 10】

제 1항에 있어서,

상기 화합물은 600 nm 내지 700 nm의 파장범위에서 최대 흡광도 (λ Χ)를 가지는 화합물.

【청구항 1 1】

제 1항에 있어서,

상기 화합물은 400 nm 내지 500 nm의 파장범위에서 丁^를 가지는 화합물. 【청구항 12】

게 1항 내지 제 1 1항 중 어느 한 항의 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물.

【청구항 13】

제 12항에 있어서, 상기 감광성 수지 조성물은 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.

【청구항 14]

제 13항에 있어서,

상기 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함하는 감광^ 수지 조성물. 【청구항 15】

제 12항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터 .

Description:
【명세서】

【발명의 명칭】

신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 【기술분야】

본 기재는 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터에 관한 것이다.

【배경기술】

안료분산액의 안정한 분산상태 및 미세화를 용이하게 학기 위해, 합성을 통해 얻어진 안료를 솔트밀링 등의 공정을 통해, 일정한 크기의 입자 상태를 가지는 안료를 만들기 위해 여러 연구가 진행되고 있다. 또한, 안료의 경우, 입자 크기에서 비롯되는 휘도와 명암비의 한계가 존재하고, 이미지 센서용 컬러 촬상 소자의 경우에는 미세한 패턴 형성을 위해 더 작은 분산입도를 요구하기 때문에, 안료를 단독으로 사용하지 않고, 안료와 염료를 흔합한 하이브리드 형태의 착색제를 이용하여, 휘도, 명암비 등을 물성을 개선하고자 하는 연구도 진행되고 있다.

그러나 현재까지, 종래 착색제 등과 비교하여, 내열성, 휘도 등의 물성 개선의 효과가 큰 착색제는 보고되고 있지 않다.

따라서, 감광성 수지 조성물의 제조에 사용되는 착색제로 적합한 화합물에 대한 연구가 필요한 실정이다.

【발명의 상세한 설명】

【기술적 과제】

일 구현예는 신규한 화합물을 제공하기 위한 것이다.

다른 일 구현예는 상기 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된

컬러필터를 제공하기 위한 것이다. 【기술적 해결방법】 일 구현예는 양이은 및 음이온을 포함하는 화합물을 제공하며, 상기 양이온은 하기 화학식 1로 표시된다.

상기 화학식 1에서,

R 1 내지 R 6 은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,

R 7 은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

X는 -Ο-, -S- 또는— NR 8 -(R 8 은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기)이다.

상기 X는 -0- 또는 -S- 일 수 있다.

상기 R 1 내지 R 4 는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기일 수 있다.

상기 양이온은 하기 화학식 2로 표시될 수 있다.

[화학식 2]

상기 화학식 2에서,

R 9 및 R 10 은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R 11 ¾ R 12 는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

R 13 은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

R 14 내지 R 17 은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

nl 내지 n4는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 0≤ nl+n2≤ 5 이고, 0≤ n3+n4 < 5 이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다.

상기 양이온은 하기 화학식 3 내지 화학식 7로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.

[화학식 3]

상기 화학식 3에서,

R 18 , R 19 및 R 21 은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,

R 22 는 할로겐 원자이고,

R 23 내지 R 26 은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, ᅳ

m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다.

[화학식 4]

상기 화학식 4에서 R 18 내지 R 21 은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,

R 22 는 할로겐 원자이고,

R 23 내지 R 26 은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다.

[화학식 5]

상기 화학식 5에서,

R 18 및 R 19 는 각각독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R 22 는 할로겐 원자이고,

R 23 내지 R 26 은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

R 27 은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고, ' m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다. 화학식 6]

상기 화학식 6에서,

R 18 및 R 19 는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고

R 22 는 할로겐 원자이고,

R 23 내지 R 26 은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C110 알킬기이고,

R 27 및 R 28 은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고 m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다.

[화학식 7]

상기 화학식 7에서 R 18 , R 19 및 R 21 은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, '

R 22 는 할로겐 원자이고,

2 3 내지 R 26 은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

R 28 은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다.

상기 양이온은 하기 화학식 5-3, 화학식 5-4, 화학식 5-5, 화학식 5-6, 화학식 7-6, 화학식 7-8, 화학식 7-10, 화학식 7-12 및 화학식 7-17 내지 화학식 7-23으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.

[화학식 5-3]

[화학식 5_6]

[화학식 7_8]

[화학식 7-10]

7-19]

[화학식 7-21] [화학식 7-22]

상기 음이온은 하기 화학식 A 내지 화학식 F로 이루어진 군에서 선택된 하나로 표시될 수 있다.

[화학식 A]

[화학식 Β]

Ο

、 - II

ο 、ᄋ

[화학식 c]

PW l 2 0 '.40 [화학식 D]

SiW, 2 0 4 o 4"

[화학식 E]

CF3SO3 "

[화학식 F]

C10 4 "

상기 화합물은 염료일 수 있다.

상기 염료는 청색 염료일 수 있다.

상기 화합물은 600 nm 내지 700 nm의 파장범위에서 최대 흡광도 „ )를 가질 수 있다.

상기 화합물은 400 nm 내지 500 nm의 파장범위에서 T max 를 가질 수 있다. 다른 일 구현예는 상기 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물올 제공한다. 상기 감광성 수지 조성물은 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함할 수 있다.

상기 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함할 수 있다.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수직 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터를 제공한다.

기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.

【유리한 효과】

일 구현예에 따른 화합물은 착색력 및 내열성이 뛰어나며 , 상기 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 이용하면 휘도가 우수한 컬러필터의 제조가 가능하다.

【발명의 실시를 위한 최선의 형태】

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.

본 명세서쎄서 특별한 언급이 없는 한, "치환" 내지 "치환된"이란, 본 발명의 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 원자 (F, Br, Cl 또는 I), 히드톡시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기 (NH 2 , NH(R 200 ) 또는 N(R 201 )(R 202 )이고, 여기서 R 200 , R 201 및 R 202 는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 C1 내지 C10 알킬기임), 아미디노기, 하이드라진기, 하이드라존기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 , 치환 또는 비치환된 알키닐기, 치환 또는 비치환된 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미한다.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기 "란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기를 의미하고, ' '사이클로알킬기"란 C3 내지 C20 사이클로알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C18 사이클로알킬기를 의미하고, ' '알콕시기"란 ci 내지 C20 알콕시기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알콕시기를 의미하고,"아릴기 "란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고,

구체적으로는 C6 내지 C18 아릴기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 알케닐기를 의미하고, ' '알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알킬렌기를 의미하고 "아릴렌기' '란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C16 아릴렌기를 의미한다.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, " (메타)아크릴레이트 "는

"아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, " (메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산'' 둘 다 가능함을 의미한다.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "조합"이란 흔합 또는 공중합을 의미한다. 또한 "공중합"이란 블록 공중합 내지 랜덤 공중합을 의미하고,

"공중합체"란 블록 공중합체 내지 랜덤 공중합체를 의미한다.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합아 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, " * "는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다. ' 일 구현예는 양이은 및 음이은을 포함하는 화합물을 제공하며, 상기 양이온은 하기 화학식 1로 표시된다.

상기 화학식 1에서,

R 1 내지 R 6 은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,

R 7 은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

X는 -Ο-, -S- 또는 -NR 8 -(R 8 은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기)이다.

예컨대, 상기 X는 -0- 또는 -S- 일 수 있다.

예컨대, 상기 R 1 내지 R 4 는 각각 독립적으로 치환또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기일 수 있다.

최근 고휘도 및 고명암비를 가지는 컬러필터를 제조하기 위해서, 안료보다 내구성이 우수한 염료를 합성하고, 상기 염료를 포함하는 조성물을 이용하여, 컬러필터의 고휘도 및 고명암비를 달성하는 연구가 활발하게 진행되고 있다. 상기 염료 중에서도 청색 염료로 알려진 트리아릴메탄 화합물을 이용한 연구가 많이 진행되고 있다. 상기 트리아릴메탄 염료는 420 nm 내지 450 nm의 파장범위에서 높은 휘도를 가지는 장점이 있으나, PGMEA 등의 유기용매에 대한 용해도가 좋지 않으며 내열성 또한 좋지 않은 단점을 가진다. 약한 내열성을 극복하기 위해 트리아릴메탄 염료에 나프탈렌술폰산, 나프틸아민술폰산 등의 음이온을 이용하려는 시도가 있었으나, 내열성이 크게 개선되지는 않았다.

일 구현예에 따른 화합물은 상기 화학식 1로 표시되는 양이온을 포함하여, 기존 착색제로 사용되는 화합물, 예컨대 트리아릴메탄 화합물 대비, 우수한 분광 특성과 높은 몰흡광계수를 가지며, 착색력 및 내열성이 우수하고, 사이클로핵사논,

PGMEA 등의 유기용매에 대한 용해도도 우수하다. 특히, 일 구현예에 따른 화합물은 중심 탄소에 세 개의 고리가 연결되는데, 상기 세 개의 고리 중 하나의 고리가 시아노기를 포함하는 방향족 헤테로 고리를 가지므로, 일 구현예에 따른 화합물을 포함하는 조성물은 휘도 및 내구성이 우수한 컬러필터를 제공할 수 있다. 예컨대, 상기 양이온은 하기 화학식 2로 표시될 수 있다.

[화학식 2]

상기 화학식 2에서,

R 9 및 R 10 은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,

R" 및 R 12 는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

R 13 은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

R 14 내지 R 17 은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

nl 내지 n4는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 0≤ nl+n2≤ 5 이고, 0 < n3+n4 < 5 이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다.

예컨대, 상기 nl 내지 n4는 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수일 수 있다. 예컨대, 상기 할로겐 원자는 F, Cl, Br 또는 I 일 수 있다.

예컨대, 상기 양이온은 하기 화학식 3 내지 화학식 7로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다. [화학식 3]

상기 화학식 3에서,

R 18 , R 19 및 R 21 은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,

R 22 는 할로겐 원자이고,

R 23 내지 R 26 은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 이다.

[화학식 4]

상기 화학식 4에서 R 1S 내지 R 21 은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,

R 22 는 할로겐 원자이고,

R 23 내지 R 26 은 각각,독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C 1 내지 C10 알킬기이고,

m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다.

[화학식 5]

상기 화학식 5에서,

R 18 및 R 19 는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고 R 22 는 할로겐 원자이고,

R 23 내지 R 26 은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

R 27 은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다. [화학식 6]

상기 화학식 6에서,

R 18 및 R 19 는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고 R 22 는 할로겐 원자이고,

R 23 내지 R 26 은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환또는 비치환된 C110 알킬기이고, '

R 27 및 R 28 은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고 : m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다.

[화학식 7]

상기 화학식 7에서 R 18 , R 19 및 R 21 은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,

R 22 는 할로겐 원자이고,

R 23 내지 R 26 은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C 10 알킬기이고,

R 28 은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

m은 0 내지 2의 정수이고,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,

X는 -0- 또는 -S- 이다.

예컨대, 상기 양이온은 하기 화학식 3-1, 화학식 3-2, 화학식 4-1 내지 화학식 4-3, 화학식 5-1 내지 화학식 5-8, 화학식 6-1 내지 화학식 6-19 및 화학식 7-1 내지 화학식 7-23으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

[화학식 3-1]



[화학식 5-8]

[화학식 6-8]

[화학식 6-12]

[화학식 6-19] [화학식 7-1

[화학식 7-ΙΓ]

[화학식 7-15]

[화학식 7-17]

[화학식 7-20]

[화학식 7-21] [화학식 7-23]

일 구현예에 따른 화합물은 음이온을 포함하며, 상기 음이온은 하기 화학식 A 내지 화학식 F로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표 ᅵ될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

[화학식 A]

Β]

[화학식 C]

PW 12 O 40 3 -

[화학식 D]

SiW !2 O 40 4"

[화학식 E]

CF 3 S0 3 "

[화학식 F]

C10 4 "

일 구현예에 따른 화합물은 상기 화학식 1로 표시되는 양이온을

포함함으로써, 적은 양으로도 보다 선명한 색의 발현이 가능하여, 착,색제로 사용 휘도나 명암비 등의 색특성이 우수한 디스플레이 소자의 제조가 가능하다. 예컨대 상기 화합물은 착색제, 예컨대 염료, 예컨대 청색 염료, 예컨대 600 nm 내지 700 nm의 파장범위, 예컨대 610 nm 내지 680 nm의 파장범위, 예컨대 610 nm 내지 650 rnn의 파장범위에서 최대 흡광도 (^ 를 가지는 염료일 수 있다. 예컨대, 상기 화합물은 400 nm 내지 500 nm의 파장범위, 예컨대 420 nm 내지 450 nm의 파장범위, 예컨대 430 nm 내지 440 nm의 파장범위에서 T應를 가지는 염료일 수 있다 . T max 는 최대 투과도를 의미할 수 있다.

일반적으로, 염료는 컬러필터 내에 사용되는 구성성분 중 가장 고가의 구성성분이다. 그러므로, 원하는 효과, 예컨대 고휘도나 고명암비 등을 달성하기 위해서는 고가의 염료를 더 많이 사용해야 하기 때문에 생산 단가가 상승할 수 밖에 없었다. 그러나, 일 구현예에 따른 화합물을 컬러필터 내 염료로 사용하는 경우, 적은 양으로도 고휘도, 고명암비 등의 우수한 색특성을 달성할 수 있어 생산 단가의 절감이 가능하다.

다른 일 구현예에 따르면, 상기 일 구현예에 따른 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.

예컨대, 상기 감광성 수지 조성물은 상기 일 구현예에 따른 화합물, 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함할 수 있다.

예컨대, 상기 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함할 수도 있다.

상기 일 구현예에 따른 화합물은 감광성 수지 조성물 내에서 착색제, 예컨대 염료, 예컨대 청색 염료로서의 역할을 하여, 우수한 색특성을 발현할 수 있다. 일 구현예에 따른 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 ' 1 중량 % 내지 10 중량 %, 예컨대 3 중량 0 / 0 내지 7 중량 0 /。로 포함될 수 있다ᅳ 상기 범위로 일 구현예에 따른 화합물이 포함될 경우 색재현율 및 명암비가 우수해진다.

상기 안료는 청색 안료, 황색 안료, 녹색 안료, 적색 안료, 바이을렛 안료 또는 이들의 조합 등을 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대 상기 안료는 안료분산액의 형태로 상기 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다.

상기 안료분산액은 고형분의 안료, 용제 및 상기 용제 내에 상기 안료를 균일하게 분산시키기 위한 분산제를 포함할 수 있다.

상기 고형분의 안료는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량 0 / 0 내지 20 중량 0 / 0 , 예컨대 8 중량% 내지 20 중량 0 /。, 예컨대 15 중량 0 /。 내지 20 중량 %, 예컨대 8 중량% 내지 15 중량 0 / 0 , 예컨대 10 중량 0 /。 내지 20 중량 0 /。, 예컨대 10 중량 0 / 0 내지 15 중량 %로 포함될 수 있다.

상기 분산제로는 비이온성 분산제, 음이온성 분산제, 양이온성 분산제 등을 사용할 수 있다. 상기 분산제의 구체적인 예로는, 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌, 다가알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복실산 에스테르, 카르복실산 염, 알킬아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 분산제의 시판되는 제품을 예로 들면, BYK社의 DISPERBYK- 101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165,

DISPERBYK-166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182,

DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 등; EFKA 케미칼社의 EFKA-47, EFKA- 47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450 등; Zeneka社의 Solsperse 5000,Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 등; 또는 Ajinomoto社와 ΡΒ7Π, ΡΒ821 등이 있다.

상기 분산제는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량 % 내지 20 중량%로 ' 포함될 수 있다. 분산제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 적절한 점도를 유지할 수 있어 감광성 수지 조성물의 분산성이 우수하며, 이로 인해 제품 적용 시 광학적, 물리적 및 화학적 품질을 유지할 수 있다.

상기 안료분산액을 형성하는 용제로는 에틸렌글리콜 아세테이트,

에틸샐로솔브, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 에틸락테이트,

폴리에틸렌글리콜, 사이클로핵사논, 프로필렌글리콜 메틸에테르 등을 사용할 수 있다.

상기 안료분산액은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 5 중량 0 / 0 내지

30 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 25 중량 0 /。로 포함될 수 있다. 상기

안료분산액이 상기 범위 내로 포함될 경우, 공정마진 확보에 유리하고, 색재현율 및 명암비가 우수해진다.

상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합일 수 있다. 상기 아크릴계 수지는 게 1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제 2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지일 수 있다.

상기 제 1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산, 또는 이들의 조합을 들 수 았다.

상기 게 1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량 0 / 0 내지 50 중량 %, 예컨대 10 중량 0 /。 내지 40 중량 %로 포함될 수 있다.

상기 제 2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, (X-메틸스티렌, 비닐를루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸 (메타)아크릴레이트,

에틸 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록사부틸 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트,

사이클로핵실 (메타)아크릴레이트, 페닐 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물 ; 2-아미노에틸 (메타)아크릴레이트 , 2- 디메틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물;

글리시딜 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물;

(메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 흔합하여 사용할 수 있다.

상기 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예로는 폴리벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산 /벤질메타크릴레이트 공중합체,

(메타)아크릴산 /벤질메타크릴레이트 /스티렌 공중합체,

(메타)아크릴산 /벤질메타크릴레이트 /2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체,

(메타)아크릴산 /벤질메타크릴레이트 /스티렌 /2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.

상기 바인더 수지의 중량평균 분자량은 3,000 g/mol 내지 150,000 g/mol, 예컨대 5,000 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 20,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 상기 감광성 수지 조성물의.물리적 및 화학적 물성이 우수하고 점도가 적절하며, 컬러필터 제조 시 가판과의 밀착성이 우수하다.

상기 바인더 수지의 산가는 15 mgKOH/g 내지 60 mgKOH/g, 예컨대 20 mgKOH/g 내지 50 mgKOH/g 일 수 있다. 바인더 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.

상기 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량 0 / 0 내지 30 중량 0 /。, 예컨대 1 중량 0 /。 내지 15 중량 %로 포함될 수 있다. 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조 시 현상성이 우수하며 가교성이 개선되어 우수한 표면 평활도를 얻을 수 있다.

상기 광중합성 화합물은 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는

(메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.

광중합성 화합물은 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광시 충분한 중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.

광중합성 화합물의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디 (메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디 (메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디 (메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디 (메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리클 디 (메타)아크릴레이트 , 1,4- 부탄디올 디 (메타)아크릴레이트 , 1 ,6-핵산디올 디 (메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디 (메타)아크릴레이트, 펜타에리트리를 디 (메타)아크릴레이트, 펜타에리트리를 트리 (메타)아크릴레이트, 펜타에리트리를 테트라 (메타)아크릴레이트, 펜타에리트리를 핵사 (메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리를 디 (메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리를 트리 (메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리를 펜타 (메타)아크릴레이트,

디펜타에리트리를 핵사 (메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 에폭시 (메타)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메틸에 ' 테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸을 프로판

트리 (메타)아크릴레이트, 트리스 (메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트, 노블락에폭시 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

광중합성 화합물의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 상기

(메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교 (주)社의 아로닉스 M-101®, 동 M-1 1 1®, 동 M-1 14® 등;.니흔 가야꾸 (주)社의 KAYARAD TC- 1 1 OS®, 동 TC-120S® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교 (주)社의 V-158®, V-231 1® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교 (주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200® 등; 니흔 가야꾸 (주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교 (주)社의 V- 260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 삼관능

에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교 (주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-710®, 동 M-8030®, 동 M-8060® 등; 니흔

가야꾸 (주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동 -30®, 동 -60®, 동 -120® 등;

오사카 유끼 가야꾸 고교 (주)社의 V-295®, 동 -300®, 동 -360®, 동 -GPT®, 동 -3PA®, 동- 400® 등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.

상기 광중합성 화합물은 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.

상기 광중합성 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량 0 / 0 내지 15 중량 0 / 0 , 예컨대 5 증량 0 / 0 내지 10 중량 0 /。로 포함될 수 있다. 광중합성 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 층분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 알칼리 현상액에의 현상성이 우수하다.

상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는

개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다.

상기 아세토페논계의 화합물의 예로는 , 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부록시 아세토페논, 2-히드록시 -2-메틸프로피오페논 , ρ-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t- 부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로 -4-페녹시 아세토페논, 2- 메틸 -1-(4- (메틸티오)페닐) -2-모폴리노프로판 -1-온, 2-벤질 -2-디메틸아미노 -1-(4- 모폴리노페닐) -부탄 -1-온 등을 들 수 있다.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'- 비스 (디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스 (디에틸아미노)벤조페논, 4,4'- 디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸 -2-메록시벤조페논 등을 들 수 있다.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤,

이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2- 클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.

상기 트리아진계 화합물의 예로는 , 2,4,6-트리클로로 -S-트리아진, 2-페닐 4,6- 비스 (트리클로로메틸) -S-트리아진, 2-(3', 4'-디메톡시스티릴) -4,6-비스 (트리클로로메틸) -S- 트리아진, 2-(4'-메특시나프틸 )-4,6-비스 (트리클로로메틸) -S-트리아진, 2-(p-메특시페닐) - 4,6-비스 (트리클로로메틸) -S-트리아진, 2-(p-를릴) -4,6-비스 (트리클로로 메틸) -S-트리아진,

2-비페닐 4,6-비스 (트리클로로 메틸) -S-트리아진, 비스 (트리클로로메틸) -6-스티릴 -S- 트리아진, 2- (나프토 -1-일) -4,6-비스 (트리클로로메틸) -S-트리아진, 2-(4-메톡시나프토 -1- 일)ᅳ 4 ,6-비스 (트리클로로메틸) -S-트리아진, 2- 4 -비스 (트리클로로메틸) -6-피페로닐 -S- 트리아진, 2-4-비스 (트리클로로메틸) -6-(4-메특시스티릴) -S-트리아진 등을 들 수 있다. 상기 옥심계 화합물의 예로는 , 0-아실옥심계 화합물 , 2-( 0 -벤조일옥심) -1-[4- (페닐티오)페닐] -1 ,2-옥탄디온, 1-( 0 -아세틸옥심) -1-[9-에틸 -6-(2-메틸벤조일) -9H-카르바졸-

3-일]에탄온 , 0-에록시카르보닐 -α-옥시아미노 -1-페닐프로판 -1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 0-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는 , 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노 -2-(4- 메틸벤질) -1-(4-모르폴린 -4-일-페닐) -부탄 -1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐) -부탄 -1,2-디온 2- 옥심 -0-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐) -옥탄 -1,2-디온 2-옥심 -0-벤조에이트, 1-(4- 페닐술파닐페닐) -옥탄 -1-온옥심 -0-아세테이트 및 1-(4-페닐술파닐페닐) -부탄 -1-은옥심- 0-아세테이트 등을 들 수 있다.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물,

비이미다졸계 화합물 등을 사용할 수 있다.

상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반웅을 일으키는 광 증감제와 함께 사용될 수도 있다.

상기 광 증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜 비스 -3-머캡토 프로피오네이트, 펜타에리트리를 테트라키스 -3-머캡토 프로피오네이트, 디펜타에리트리를 테트라키스- 3-머캡토 프로피오네이트 등을 들 수 있다.

상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.01 중량% 내지 10 중량 0 /。, 예컨대 0.1 중량 0 /。 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 층분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하고, 해상도 및 밀착성 또한 우수하며, 미반웅 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.

상기 용매는 일 구현예에 따른 화합물, 상기 안료,상기 바인더 수지, 상기 광중합성 화합물 및 상기 광중합 개시제와의 상용성을 가지되 반웅하지 않는물질들이 사용될 수 있다.

상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르 , η - 부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의

에테르류; 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 샐로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비롤, 디에틸 카르비를, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비롤류; 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 를루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로핵사논, 4-히드록시-

4-메틸 -2-펜타논, 메틸 -η-프로필케톤, 메틸 -η-부틸케톤, 메틸 -η-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산 -η-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 젖산 메틸, 젖산 에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시 초산 메틸, 옥시 초산 에틸, 옥시 초산 부틸 등의 옥시 초산 알킬 에스테르류; 메록시 초산 메틸, 메특시 초산 에틸, 메톡시 초산 부틸, 에톡시 초산 메틸, 에특시 초산 에틸 등의 알콕시 초산 알킬 에스테르류; 3-옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시 프로피온산 에틸 등의 3-옥시 프로피온산 알킬에스테르류; 3-메록시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에특시 프로피온산 에틸, 3-에록시 프로피온산 메틸 등의 3- 알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시 프로피온산 메틸, 2-옥시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피은산 프로필 등의 2-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-메록시 프로피온산 메틸, 2-메록시 프로피온산 에틸, 2-에록시 프로피온산 에틸, 2-에특시 프로피은산 메틸 등의 2-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시 -2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시 -2-메틸 프로피은산 에틸 등의 2-옥시 -2-메틸 프로피온산 에스테르류, 2-메특시 -2-메틸 프로피은산 메틸, 2-에록시 -2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-알콕시 -2-메틸 프로피온산 알킬류의 모노옥시 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 2- 히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시 -2-메틸 프로피온산 에틸, 히드록시 초산 에틸, 2-히드록시 -3-메틸 부탄산 메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 있으며, 또한 , Ν-메틸포름아미드 , Ν,Ν-디메틸포름아미드, N- 메틸포름아닐라드, Ν-메틸아세트아미드, Ν,Ν-디메틸아세트아미드 , Ν-메틸피를리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디핵실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄을, 1-노난올, 벤질알코을, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸 , γ-부티로락톤, 탄산 에틸렌, 탄산 프로필렌, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다ᅳ

이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 에틸렌 글리콜

모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류 ; 2-히드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리뽈 모노메틸에테르 등의 카르비를류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류가사용될 수 있다ᅳ

상기 용매는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 30 중량 0 /。 내지 90 중량 %로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 상기 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 컬러필터 제조 시 공정성이 우수하다.

다른 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 에폭시 화합물을 더 포함할 수 있다/

상기 에폭시 화합물의 예로는, 페놀 노불락 에폭시 화합물, 테트라메틸 비페닐 에폭시 화합물, 비스페놀 Α형 에폭시 화합물, 지환족 에폭시화합물 또는 이들의 조합을 들 수 있다.

상기 에폭시 화합물은 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 20 중량부, 예컨대 0.1 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 에폭시 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 기판과의 접착성을 향상시키기 위해 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제를 더 포함할 수 있다.

상기 실란—커플링제의 예로는, 트리메록시실릴 벤조산 , γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란 , γ-이소시아네이트 프로필 트리에록시실란 , γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란 , β-(3,4- 에폭시사이클로핵실)에틸트리메록시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 흔합하여 사용할 수 있다.

상기 실란 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 증량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 실란 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제를 더 포함할 수 있다.

상기 계면활성제의 예로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1 100® 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교 (주)社의 메카 팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183® . 등; .스미토모 스리엠 (주)社의 프로라드 FC- 135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-

431® 등; 아사히 그라스 (주)社의 사프론 S-1 12®, 동 S-1 13®, 동 S-131®, 동 S- 141®, 동

S-145® 등; 도레이 실리콘 (주)社의 SH-28PA®, 동 -190®, 동 -193®, SZ-6032®, SF-8428® 등의 명칭으로 시판된고 있는 불소계 계면활성제를 사용할 수 있다.

상기 계면활성제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다ᅳ 계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, 유리 기판에 대한 습윤성 (wetting)이 우수하다.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다.

또 다른 일 구현예에 따르면, 상기 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터를 제공한다.

상기 컬러필터 내 패턴 형성 공정은 다음과 같다.

' 상기 감광성 수지 조성물을 지지 기판상에 스핀 코팅, 슬¾ 코팅, 잉크젯 프린팅 등으로 도포하는 공정; 상기 도포된 감광성 수지 조성물을 건¾하여 감광성 수지 조성물 막을 형성하는 공정 ; 상기 감광성 수지 조성물 막을 노광하는 공정 ; 상기 노광된 감광성 수지 조성물 막을 알칼리 수용액으로 현상하여 감광성

수지막을 제조하는 공정; 및 상기 감광성 수지막을 가열 처리하는 공정을 포함한다. 상기 공정 상의 조건 등에 대하여는 당해 분야에서 널리 알려진 사항이므로, 본 명세서에서 자세한 설명은 생략하기로 한다.

【발명의 실시를 위한 형태】

(실시예)

(합성예)

합성예 1

(1) 질소분위기 하에서 4 ,4'-dichlorobenzophenone(10g, 39.8mmol),

Pd 2 (dba) 3 (220mg, 0.002 mol%), XPhos(230mg, 0.005mol%) 및 sodium t-butoxide(l 1.48g, 1 19.5mmol)을 둥근바닥 플라스크에 넣은 후, 여기에 toluene 50g을 첨가하고, 실온에서 10분간 교반시킨 후, 여기에 2,6-difluoroaniline(10.3g, 79.6mmol)을 첨가한다ᅳ 반웅물의 온도를 80 ° C로 서서히 올리면서 2시간 동안 교반한다. 반웅이 종결되면 반웅물의 은도를 실온으로 낮춘 뒤, 여기에 isopropanol 50g을 첨가한 후 교반시킨다. 필터를 이용해 침전물을 걸러내고, 물로 세정한 다음, 이를 acetonkrile에 첨가하여 80 ° C로 30분간 교반시킨다. 실온으로 은도를 낮춘 뒤, 침전물을 필터한 후 건조시켜, 하기 화학식 S-1로 표시되는 화합물 (15g, 86%)을 합성하였다.

[화학식 s-1]

Ή NMR (solvent: DMSO-d6): 8.54(s, 2H), 7.60(d, 4H), 7.35-7.15(m, 6H), 6.73(d, 4H). GC-MS: 436 m/z.

(2) 2,6-difluoroaniline 대신 2,6-dimethylaniline을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 1의 (1)과 동일하게 하여, 하기 화학식 S-2로 표시되는 화합물을 합성하였다. S-2]

Ή NMR (solvent: DMSO-d6): 8.05(s, 2H), 7.53(d, 4H), 7.17-7.08(m, 6H), 6.43(d, 4H) : 2.14(s, 12H).

GC-MS: 420 mix.

(3) 2,6-difluoroaniline 대신 2, 6 -diisopropylanilme을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 1의 (1)과 동일하게 하여, 하기 화학식 S-3으로 표시되는 화합물을 합성하였다.

[화학식 S-3]

'H NMR (solvent: CDC13): 7.66(d, 4H), 7.35-7.30(m, 2H), 7.23(t, 4H), 6.47-6.45(m, 4H), 5.50(s, 2H), 3.21 -3.12(m, 4H), 1 .14(d, 24H).

GC-MS: 532 m/z.

(4) 2,6-difluoroaniline 대신 N-isopropylaniline을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 1의 (1)과 동일하게 하여, 하기 화학식 S-4로 표시되는 화합물을 합성하였다.

[ s-4]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.63(d, 4H), 7.46-7.40(m, 4H), 7.36-7.30(m, 2H),그 12(d 4H), 6.54(d, 4H), 4.46-4.33(m, 2H), 1.17(d, 12H).

GC-MS : 420 m/z. 합성예 2

(1) 질소분위기 하에서 상기 화학식 S-1로 표시되는 화합물 10g(23mmol)을 둥근바닥 플라스크에 넣고, 여기에 DMF 30g을 첨가한 다음, 온도를 10 ° C로 낮추어 교반시킨다. sodium t-butoxide(7.71g, 68.7 mmo])와 iodoethane(10.7g, 68.7mmol)을 반웅물에 .각각 첨가한 후, 온도를 서서히 실온으로 올리며 2시간 교반시킨다.

반웅이 종결되면 물 30g을 첨가하여 10분간 교반 후 필터를 이용해 침전물을 걸러내고, 물로 세정한 다음, 이를 acetonitrile에 첨가하여 8( C로 30분간 교반시킨다. 실온으로 온도를 낮춘 뒤 , 침전물을 필터한 후 건조시켜, 하기 화학식 S-5로 표시되는 화합물 (8.2g,736%)을 합성하였다.

[ S-5]

H NMR (solvent: DMSO-d6): 7.54(d, 4H), 7.53-7.48(m, 2H), 7.46(t, 4H), 6.65(d, 4H) : 3.71(q, 4H), 1.16(t, 6H).

GC-Mass: 492 m/z.

(2) 상기 화학식 S-1로 표시되는 화합물 대신 상기 화학식 S-2로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 2의 (1)과 동일하게 하여, 하기 화학식 S-6으로 표시되는 화합물을 합성하였다.

S-6]

'H NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.68(s, 4H), 7.15(s, 6H), 3.65(q, 4H), 2.1 1(s, 12H), 1.24(t,

6H).

GC-MS: 476 m/z.

(3) 상기 화학식 S-1로 표시되는 화합물 대신 상기 화학식 S-3으로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 2의 (1)과 동일하게 하여, 하기 S-7로 표시되는 화합물을 합성하였다.

s-7]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.65(bs, 4H), 7.35(dd, 2H), 7.27(d, 4H), 6.82(bs, 2H) :

6.24(bs, 2H), 3.66(q, 4H), 2.96-2.87(m, 4H), 1.29(t, 3H), 1.20(d, 12H), 1.01(d, 12H).

GC-MS: 588 m/z. 합성예 3

scheme]

(1) 등근바닥 플라스크에 sodium ethoxide(75.5g, 1.1 lmol)과 ethanol 250g을 넣은 후, 실온에서 30분간 교반시킨 후, 여기에 ethyl cyanoacetate (100g, 0.887mol)을

반응물에 서서히 첨가한 다음, 실온에서 30분간 교받시킨다. PhenylisotWocyanate (100g : 0.73mol)을 반웅물에 서서히 적하한 후 온도를 80 ° C로 을려 3시간돔안 교반시킨다. 반응이 종결되면 온도를 낮춘 후, 용매를 제거한 다음, 이를 dichloromethane을 이용해 추출하고, 10% HC1과 물로 각각 세정한다. 유기용매를 제거한 후 생성된 고체 화합물에 MeOH 200g을 첨가해 , 0 ° C에서 30분간 교반한 후 이를 필터하여, 하기 화학식 S-8로 표시되는 화합물 (125g, 68%)을 합성하였다.

[ S-8]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 1 1.7 (bs, 1H), 7.48-7.39(m, 3H), 7.28-7.25(m, 2H), 4.71(s lH), 4.27(q, 2H), 1.35(t, 3H).

GC-MS: 248 m/z. (2) 둥근바닥 플라스크에 NaOH(80.5g, 2.01mol)과 물 300g을 넣은 후 0 ° C에서 30분간 교반한 다음 상기 합성예 3의 (1)에서 합성한 화학식 S-8로 표시되는 화합물 (50g, 0.201mol)을 첨가한 후, 반웅물을 80 ° C로 온도를 을려 3시간 동안 교반시킨다. 반웅이 종결되면 온도를 0 ° C로 낮춘 후 conc. HCl을 이용해 반웅물을 산성화 (acidify)시킨다 (pH: 약 6). 생성된 침전물을 필터를 통해 걸러내고 물로 세정한 후 건조시켜, 하기 화학식 S-9로 표시되는 화합물 (29g, 82%)을 합성하였다.

[ S-9]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 9.42(s, 1H), 7.65(d, 2H), 7.49-7.40(m, 2H), 7.34-7.26(m, 1H), 4.05(s, 2H).

GC-MS: 176 m/z.

(3) 등근바닥 플라스크에 KOH(7.26g, 0.129mol)과 MeOH 200g을 넣고 실온에서 30분간 교반한 후, 여기에 상기 화학식 S-9로 표시되는 화합물 (19g,으 108mol)과 phenacyl bromide(21.5g, 0.108mol)을 각각 첨가한 후, 실은에서 2시간 동안 교반시킨다. 반웅이 종결되면 물 200g을 첨가하고, 실온에서 1시간 교반시킨 후, 생성된

침전물을 필터를 통해 걸러내고 MeOH로 세정 후 건조시켜, 하기 화학식 S-10으로 표시되는 화합물 (27g, 90%)을 합성하였다.

[화학식 S-10]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.6 l(d, 2H), 7.46-7.36(m, 5H), 7.27(d, 2H), 7.13(t, 1H),

6.98(bs, 1H), 6.50(s, 1H).

GC-MS: 276 m/z.

(4) 등근바닥 플라스크에 KOH(5.8g, 0.103mol)과 acetone 170g, 물 80g을 넣고 실온에서 교반시킨 후 여기에 상기 화학식 . S-10으로 표시되는 화합물 (25g,

86.1mmol)과 iodoethane(16.1g, 0.l03mol)을 각각 첨가한 후, 50 ° C에서 3시간 동안 교반한다. 반응아 종결되면 증류를 통해 acetone을 제거하고, dichloromethane을 이용해 추출하고, 10% HC1 및 sat. sodium thiosulfate를 이용해 세정한다. 유기용매를 제거한 후 건조시켜, 하기 화학식 S-11로 표시되는 화합물 (21g, 80%)을 합성하였다.

[화학식 S-1 1]

'H NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.61(d, 2H), 7.59-7.36(m, 5H), 7.24-7.18(m, 3H), 6.65(s, 1H), 4.01(q, 2H), 1.39(t, 3H).

GC-MS: 304 m/z. 합성예 4

(l) phenacyl bromide 대신 2-fluorophenacyl bromide를 사용한 것을 제외하고는 상기 합성예 3의 (3)과 동일하게 하여, 하기 화학식 S-12로 표시되는 화합물을 합성하였다.

[ s-12]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.58(t, 1H), 7.44-7.37(m, 3H), 7.29(d, 2H), 7.25-7.13(m, 3H), 6.97(bs, 1H), 6.63(s, 1H).

GC-MS: 294 m/z.

(2) 상기 화학식 S-10으로 표시되는 화합물 대신 상기 화학식 S-12로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 3의 (4)와 동일하게 하여, 하기 화학식 S-13으로 표시되는 화합물을 합성하였다. [화 S-13]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.52(t, IH), 7.49-7.35(m 3H), 7.24-7.17(m, 5H), 6.70(s, IH) 4.02(q, 2H), 1.38(t, 3H).

GC-MS: 322 m/z.

(3) phenacyl bromide 대신 2-chlorophenacyl bromide ¾- 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 3의 (3)과 동일하게 하여, 하기 화학식 S-14로 표시되는 화합물을 합성하였다.

[ S-1 4 ]

H NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.51-7.48(m, IH), 7.43-7.3.2(m, 5H), 7.28(d, IH), 7.13(t, lH), 6.92(bs, lH), 6.53(s, IH).

GC-MS: 310 m/z.

(4) 상기 화학식 S-10으로 표시되는 화합물 대신 상기 화학식 S-14로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 3의 (4)와 동일하게 하여, 하기 화학식 S-15로 표시되는 화합물을 합성하였다.

[화학식 S-15]

'H NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.48-7.32(m, 6H), 7.31-7.18(m, 3H), 6.58(s, IH), 4.00(q, 2H), 1.36(t, 3H).

GC-MS: 338 m/z.

(5) phenacyl bromide 대신 4-chlorophenacyl bromide를 사용한 것을 제외하고는 상기 합성예 3의 (3)과 동일하게 하여, 하기 화학식 S-16으로 표시되는 화합물을 합성하였다.

[화학식 s-16]

'H NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.54(d, 2H), 7.43-7.37(m, 4H), 7.27(d, 2H), 7.15(t, IH), 6.98(bs, IH), 6.48(s, IH).

GC-MS: 310 m/z.

(6) 상기 화학식 S-10으로 표시되는 화합물 대신 상기 화학식 S-16으로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 3의 (4)와 동일하게 하여, 하기 화학식 S-17로 표시되는 화합물을 합성하였다.

[화학식 S-17]

H NMR (solvent: CDCI 3 ): 7.47(d, 2H), 7.46-7.35(m, 4H), 7.24-7.18(m, 3H), 6.54(s, IH), 3.96(q, 2H), 1.34(t, 3H).

GC-MS: 338 m/z.

(7) Phenylisothiocyanate 대신 o-tolylisothiocyanate를 사용한 것을 제외하고는 상기 합성예 3의 (1)과 동일하게 하여, 하기 화학식 S-18로 표시되는 화합물을 합성하였다. [ S-18]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 11.5(bs, IH), 7.36-7.22(m, 4H), 4.61(s, IH), 4.29(q, 2H), 1.37(t, 3H).

GC-MS: 262 m/z.

(8) 상기 화학식 S-8로 표시되는 화합물 대신 상기 화학식 S-18로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 3의 (2)와 동일하게 하여, 하기 화학식 S-19로 표시되는 화합물을 합성하였다.

[ S-19]

'H NMR (solvent: CDC1 3 ): 9.24(bs, IH), 7.43-7.28(m, 4H), 4.08(s, 2H).

GC-MS: 190 m/z.

(9) 상기 화학식 S-9로 표시되는 화합물 대신 상기 화학식 S-19로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 3의 (3)과 동일하게 하여, 하기 화학식 S-20으로 표시되는 화합물을 합성하였다.

[화학식 S-20]

'H NMR (solvent: CDCI 3 ): 7.61 (d, 2H), 7.47-7.38(m, 4H), 7.29-7.24(m, 2H), 7.14(t IH), 6.62(bs, IH), 6.46(s, IH), 2.36(s, 3H).

GC-MS: 290 m/z.

(10) 상기 화학식 S-10으로 표시되는 화합물 대신 상기 화학식 S-20으로 표시되는 화합물올 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 3의 (4)와 동일하게 하여, 하기 화학식 S-21로 표시되는 화합물을 합성하였다.

[ -21]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.5 l(d, 2H), 7.41-7.23(m, 7H), 6.27(s, IH), 3.95(q, 2H), 2.28(s, 3H), 1.34(t, 3H).

GC-MS: 318 m/z.

(11) Phenylisothiocyanate 대신 o-tolylisothiocyanate를 사용한 것을 제외하고는 상기 합성예 3의 (1)과 동일하게 하였고, phenacyl bromide 대신 2-fluorophenacyl bromide를 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 3의 (3)과 동일하게 하여, 하기 화학식 S-22로 표시되는 화합물을 합성하였다.

S-22]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.55(t, IH), 7.46(d, IH), 7.43-7.10(m, 6H), 6.62(s, 1H) ; 6.56(s, IH), 2.36(s, 3H).

GC-MS: 308 m/z.

(12) 상기 화학식 S-10으로 표시되는 화합물 대신 상기 화학식 S-22로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 3의 (4)와 동일하게 하여, 하기 화학식 S-23으로 표시되는 화합물을 합성하였다. [ S-23]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.42(t, 1H), 7.34-7.25(m, 5H), 7.18-7.09(m, 2H), 6.35(s, 1H) : .95(q, 2H), 2.28(s, 3H), 1.34(t, 3H).

GC-MS: 336 m/z. 합성예 5

[전체 scheme]

(1) 등근바닥 플라스크에 ammonium acetate(U .6g, 0.15mol)와 malononitrile(20.8g : 0.315mol)을 넣고 여기에 AcOH 12g, toluene 180g을 넣고 실온에서 교반시키고, 여기에 acetophenone(36g, 0.3mol)을 첨가한 후, 120 ° C에서 Dean-Stark 반응을 5시간 동안 진행한다ᅳ 반응이 종결되면 실온으로 온도를 낮추고, ethyl acetate를 이용하여

추출하고, 10% HC1 및 물을 이용하여 세정한다. 유기용매를 제거한 후, hexane을 이용해 재결정하고 건조하여, 하기 화학식 S-24로 표시되는 화합물 (42g, 83%)을 합성하였다.

[화학식 S-2 4 ]

H NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.55-7.50(m, 5H), 2.64(s, 3H).

GC-MS: 168 m/z. (2) 둥근바닥 플라스크에 상기 화학식 S-24로 표시되는 화합물 (33.6g, 0.2mol)과 sulfur powder(7.1g, 0.22mol)를 넣고, ethanol l20g을 첨가하여 교반시킨 후, 여기에 triethylamine (22.2g, 0.22mol)을 첨가하고, 반응은도를 80 ° C로 올려 2시간 동안 교반시킨다. 반웅이 종결되면 온도를 낮추고 증류를 통하여 용매를 제거한다.

Dichloromethane으로 추출하고, 10% HC1과 물로 각각 세정하고 용매를 제거한 다음, column chromatography(ethyl acetate:hexane=l/3)¾- 이용하여 , 하기 화학식 S-25로 표시되는 화합물 (35.7g, 81 %)을 합성하였다.

[화학식 S-25]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.56(d, 2H), 7.44-7.32(m, 3H), 6.35(s, 1H), 4.90(s, 1 H).

GC-MS: 200 m/z.

(3) 둥근바닥 플라스크에 상기 화학식 S-25로 표시되는 화합물 (20g, O. lmol)과 KOH(8.45g, 0.15mol)을 넣고 DMF 100g을 첨가하여 교반시킨 후, 여기에 2- fluoronitrobenzene(21.2g, 0.15mol)을 첨가하고, 실은에서 15시간 동안 교반시킨다. 반웅이 종결되면 ethyl acetate로 추출하고 10% HC1 과 물로 각각 세정한 후, 용매를 제거한다. Hexane을 이용하여 재결정하고 건조하여 , 하기 화학식 S-26으로 표시되는 화합물 (21g, 65%)을 합성하였다.

[화학식 S-26]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 10.0(s, 1H), 8.31(d, 1H), 7.68-7.64(m, 3H), 7.61-7.41(m : 3H), 7.08-7.02(m, 2H).

GC-MS: 321 m/z.

(4) 상기 화학식 S-10으로 표시되는 화합물 대신 상기 화학식 S-26으로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 3의 (4)와 동일하게 하여 하기 화학식 S-27로 표시되는 화합물을 합성하였다.

[화학식 s-27]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 8.05(d, 1H), 7.69(t, 1H), 7.54-7.48(m, 4H), 7.42-7.34(m ; 3H), 6.52(s, 1H), 3.93(q, 2H), 1.39(t, 3H).

GC-MS: 349 m/z. 합성예 6

(1) 질소 하에서 등근바닥 플라스크에 상기 화학식 S-5로 표시되는

화합물 (1.03g, 2.1mmol) 및 상기 화학식 S-8로 표시되는 화합물 (0.64g, 2.1mmol)을 넣은 후, toluene 5g과 POCl 3 (L29g, 8.4mmoi)을 첨가한 후, 온도를 서서히 110 ° C로 올리며 5시간 동안 교반한다. 반웅이 종결되면 실은으로 온도를 낮춘 뒤, methyl ethyl ketone(MEK)로 추출하고, 10% NaCl, 물 그리고 10% HC1로 각각 세정한다. 유기층을 제거하고 건조시킨 뒤, Lithium bis(trifuloromethane)sulfon imide(L2g, 4.2mmol)을 첨가하고, 여기에 DMSO 10g을 넣고 30분간 실온에서 교반시킨다 (anion exchange process). 상기 반응물을 물에 dropping 시켜 침전을 형성시키고, 이를 필터를 통해 분리하여 얻어낸다. 필터를 통해 얻어낸 고체 화합물을 acetonitrile 40g에 녹인 후, 여기에 활성탄 3g을 넣어 30분간 교반시킨다. 필터를 통해 활성탄을 제거하고, 여액은 증류를 통해 제거한 후 건조시켜, 하기 화학식 P-1로 표시되는 화합물 (L82g, 83%)을 얻었다. p-i]

'H NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.57-7.51(m, 3H), 7.45-7.26(m, 8H), 7.10-7.05(m, 9H) 6.50(bs, 4H), 4.13(q, 2H), 3.75(q, 4H), 1.41(t, 3H), 1.24(t, 6H).

(2)

scheme]

화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 6의 (1)과 동일하게 하여, 하기 화학식 P-2로 표시되는 화합물을 합성하였다.

pᅳ 2 ]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.57-7.41 (m, 7H), 7.26-6.87(m, 15H), 5.89(d, 2H), 4.10(q ; 2H), 3.72(d, 4H), 2.05(s, 12H), 1.40(t, 3H), 1.24(t, 6H).

(3) 상기 화학식 S-8로 표시되는 화합물 대신 상기 화학식 S-24로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 6의 (1)과 동일하게 하여, 하기 - ζ ' ί '(HI '1)69 ' /, '(HI 'V) -L '(H ¾58 " /. '( 'P)S1 ' 8 :( CK) -\u3A\os) H

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609CT0/Sl0ZaM/X3d .Ϊ98Ϊ0/.Ϊ0Ζ OAV 7.45(m, 6H), 7.23-7.22(m, 4H), 7.1-7.04(m, 9H), 6.45(d, 4H), 4.51-4.41(m, 2H), 3.95(q, 2H) 1.32(t, 3H), 1.18(d, 12H).

(5)

[전체 scheme]

H NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.51-7.38(m, 12H), 7.20-7.03(m, 12H), 6.42(d, 4H), 4.52- 4.45(m, 2H), 4.08(q, 2H), 1.38(t, 3H), 1.17(d, 12H).

(6)

[전체 scheme]

상기 합성법 등을 참고하여, 상기 전체 scheme에 따라, 하기 화학식 P-6으로 표시되는 화합물을 합성하였다.

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.58-7.41(m, 12H), 7.24-7.05(m, 1 IH), 6.98(t, IH), 6.79(1 IH), 6.47(d, 4H), 4.55-4.48(m, 2H), 4.10(q, 2H), 1.41(t, 3H), 1.20(d, 12H).

(7)

scheme]

'H NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.61-7.53(m, 3H), 7.49-7.28(m, 8H), 7.19-7.09(m, 6H) 6.96(t, lH), 6.76(t, IH), 6.56(bs, 4H), 4.15(q, 2H), 3.78(q, 4H), 1.43(t, 3H), 1.27(t, 6H).

(8) scheme]

상기 합성법 등을 참고하여, 상기 전체 scheme에 따라, 하기 화학식 P-8로 표시되는 화합물을 합성하였다.

P-8]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.60-7.43(m, 7H), 7.28-7.17(m, 7H), 7.01-6.94(m, 6H) 6.77(t, 1H), 5.9 l(d, 2H), 4.12(q, 2H), 3.76(q, 4H), 2.07(s, 12H), 1.42(t, 3H), 1.27(ΐ, 6H).

(9)

scheme]

상기 합성법 등을 참고하여, 상기 전체 scheme에 따라, 하기 화학식 P-9로 표시되는 화합물을 합성하였다. P-9]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.58-7.40(m, 1 1H), 7.22-7.03(m, 12H), 6.45(d, 4H), 4.53- 4.44(m, 2H), 4.09(q, 2H), 1.39(t, 3H), 1.18(d, 12H).

(10)

scheme]

상기 합성법 등을 참고하여, 상기 전체 scheme에 따라, 하기 화학식 P-10으로 표시되는 화합물을 합성하였다.

P-10]

Ή NMR (solvent: CDC1 3 ): 7.59-7.36(m, 8H), 7.30-7.26(m, 3H), 7.20-7.07(m, 8H), 6.53(bs, 4H), 4.14(q, 2H), 3.76(q, 4H), 1.42(t, 3H), 1.26(t, 6H).

(감광성 수지 조성물 제조)

실시예 1

하기 표 1 및 표 2에 기재된 조성으로, 실시예 1 내지 실시예 10 및 비교예 1 내지 비교예 4에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다. 구체적으로, 용매에 광중합 개시제를 용해시킨 후 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 여기에, 바인더 수지 및 광중합성 단량체를 첨가하고, 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 여기에, 염료를 첨가 (경우에 따라서는 안료분산액을 첨가)한 후, 1시간 동안 상온에서 교반하고, 기타 첨가제 (계면활성제)를 첨가하고 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 상기 용액에 대하여 3회에 걸친 여과를 행하여 불순물을 제거하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다.

[표 1]

(단위: 중량 %)

실시 실시 실시 실시 실시 실시 실시 실시 실시 실시

예 예 1 예 2 예 3 예 4 예 5 예 6 예 7 예 8 예 9

10 바인더

10 10 10 10 10 10 10 10 10 10 수지

광중합성

6.5 6.5 6.5 6.5 6.5 6.5 6.5 6.5 6.5 6.5 화합물

광중합

0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 개시제

료 5 - - - - - - - -

1

료 - 5 - - - - - - - 착색

2

제 :

료 - - 5 - - - - - - - 3

- . - - 5 - - - - - - 료 4

료 - - ― - 5 - - ― - - 5

료 - - - - - 5 - - - - 6

in

료 ― - - - - - 5 - - -

7

료 - - - - - - ― 5 - - 8

3

료 - - ' - - - - - - 5 - 9

료 - - - - ᅳ - - - - 5

10

ᄋ 3

료 - ― ᅳ - - - - - - -

1 1

료 - - - - - - - - - ᅳ

1

용매 77.8 77.8 77.8 77.8 77.8 77.8 77.8 77.8 77.8 77.8 기타

0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 첨가제

Total 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100,0 100.0 100.0 100.0 [표 2]

(단위: 중량 0 / 0 )

바인더 수지

아크릴계 바인더 수지 (메타크릴산 /벤질메타크릴레이트 ==. 15/85 (w/w), 중량평균 분자량 = 22,000g/mol, 산가 = 100 mgKOH/g)

착색제

(염료 1) 화학식 P-1로 표시되는 화합물

(염료 2) 화학식 P-2로 표시되는 화합물 '

(염료 3) 화학식 P-3으로 표시되는 화합물

(염료 4) 화학식 P-4로 표시되는 화합물

(염료 5) 화학식 P-5로 표시되는 화합물

(염료 6) 화학식 P-6으로 표시되는 화합물

(염료 7) 화학식 P-7로 표시되는 화합물

(염료 8) 화학식 P-8로 표시되는 화합물

(염료 9) 화학식 P-9로 표시되는 화합물

(염료 10) 화학식 P-10으로 표시되는 화합물

(염료 1 1) 하기 화학식 P-11로 표시되는 화합물 (Win-chemical社, Brilliant Blue

FG) [화학식 P-l l]

(안료 1) B 15:6 안료분산액 (Sanyo社)

광중합성 화합물

디펜타에리트리를핵사아크릴레이트 (DPHA)

광중합 개시제

옥심계 개시제 (BASF社, OXE-01 )

용매

프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 (PGMEA)

기타 첨가제

불소계 계면활성제 (DIC社, F-554(10% 희석액 사용)) (평가)

평가 1: 착색력 평가

상기 화학식 P- 1 내지 P-1 1로 표시되는 화합물을 UV-1800 UV-Vis Spectrometer 장비로 최대 흡수 파장 (ληΐίΐχ)을 측정하여, 하기 표 2에 나타내었다. 또한, 상기 화합물 20 mg을 Anone(Cyclohexanone)에 녹여 20 g의 진한 용액을 만든 후, 상기 진한 용액 0.1 g을 다시 10 g이 되도록 묽혀 0.001 중량 %의 묽은 용액을 만든다. 상온에서 상기 0.001 중량%의 용액의 분광을 측정한 후, 하기 수학식 1로부터 몰흡광계수를 계산하여, 하기 표 3에 나타내었다. [수학식 1]

A = eel

(A: 최대 흡광도, e: 몰흡광계수, c: 몰농도 , 1: 광로 길이)

[표 3]

상기 표 3으로부터, 일 구현예에 따른 화합물인 화학식 P-1 내지 P-10으로 표시되는 화합물은, 화학식 P-1 1로 표시되는 화합물과 최대 흡수 파장이

유사하더라도, 보다 우수한 착색력을 가짐을 확인할 수 있다. 평가 2: 명암비 ί콘트라스트ᅵ평가

탈지 세척한 두께 1 mm의 유리 기판 삼에 1 내지 3 의 두께로 상기 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 비교예 4에서 제조한 감광성 수지 조성물을 도포하고, 90 ° C의 핫 플레이트 상에서 2분 동안 건조시켜 도막을 수득하였다. 계속해서 도막에 365nm의 주파장을 가진 고압수은램프를 사용하여 노광하여 수득하였다. 200 ° C의 열풍순환식 건조로 안에서 5분 동안 건조시켜 수득하였다. 화소층은 분광광도계 (MCPD3000, Otsuka electronic社)를 이용하여 명암비를 측정하여 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.

[표 4]

명암비

실시예 1 20970

실시예 2 21023

실시예 3 19231

실시예 4 18929

실시예 5 21000

실시예 6 20568

실시예 7 21533

실시예 8 19984

실시예 9 20631

실시예 10 18530

비교예 1 1821 1

비교예 2 18190

비교예 3 18210

비교예 4 18015 상기 표 4로부터, 일 구현예에 따른 화합물을 염료로 포함한 실시예 1 내지 실시예 10의 감광성 수지 조성물이 상기 화합물을 포함하지 않은 비교예 1 내지 비교예 4의 감광성 수지 조성물보다 우수한 명암비를 나타냄올 확인할 수 있다. 이상 본 발명에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.