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Title:
OPTICAL FILM, METHOD FOR MANUFACTURING THE OPTICAL FILM, POLARIZING PLATE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2008/026454
Kind Code:
A1
Abstract:
This invention provides an optical film which has been improved in slip property while reducing the necessary amount of a matting agent in the optical film, can meet requirements for increased width, thickness reduction, and increased length, and, at the same time, has been improved in a front contrast, and a method for manufacturing the optical film, and a polarizing plate and a display device using the optical film. The method for manufacturing an optical film is a method for manufacturing an optical film by a solution casting film forming method of a transparent base material film and is characterized in that, when the amount of the residual solvent in a web is 5 to 400% by mass, a fine particle dispersion liquid containing at least fine particles having an average particle diameter of 25 to 200 nm is ejected as liquid droplets through an ink jet head, and impacts and is deposited (coated) on one side of a web to form such a fine convex structure that the number of convexes having a height of 0.01 to 0.5 μm in the fine convex structure is 1 to 10000 per 10000 μm2.

Inventors:
UMEDA, Hiroki (Inc.2970, Ishikawa-mach, Hachioji-shi Tokyo 05, 1928505, JP)
Application Number:
JP2007/065953
Publication Date:
March 06, 2008
Filing Date:
August 16, 2007
Export Citation:
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Assignee:
Konica Minolta Opto, Inc. (2970, Ishikawa-machiHachioji-shi, Tokyo 05, 1928505, JP)
コニカミノルタオプト株式会社 (〒05 東京都八王子市石川町2970番地 Tokyo, 1928505, JP)
International Classes:
B29C41/24; B29C55/02; B32B7/02; B32B27/08; G02B5/30; G02F1/1335; B29K1/00; B29K45/00; B29K67/00; B29K69/00; B29L7/00; B29L11/00
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Claims:
透明基材フィルムの溶液流延製膜方法による光学フィルムの製造方法において、ウェブ中の残留溶媒が5~400質量%である時に、少なくとも平均粒経が25~200nmの微粒子を含有する微粒子分散液をインクジェットヘッドを用いて液滴として、吐出し、ウェブの一方の面上に、着弾、付着させて、微細凸構造を形成し、かつ該微細凸構造の凸部の高さが0.01~0.5μmである凸部を10000μm 2 当たり1~10000個形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
前記ウェブの一方の面に微細凸構造を形成する際の該ウェブ周囲の雰囲気含有溶媒濃度が50~10000ppmであることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学フィルムの製造方法。
前記ウェブの一方の面を直径50~1000mmバックロールに当てた状態でもう一方の面に前記微粒子分散液をインクジェットヘッドを用いて付着させることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項に記載の光学フィルムの製造方法。
前記ウェブ上に微粒子分散液の付着を行ってから、0.1~240秒以内に該ウェブ面を搬送ロールに接触させることを特徴とする請求の範囲第1項~第3項のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
前記ウェブ上に微粒子分散液の付着を行ってから、1~300秒以内に、該ウェブを搬送方向と直行する方向に1.05~2.5倍の延伸処理することを特徴とする請求の範囲第1項~第4項のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
微粒子分散液が付着したウェブ面が最初に搬送ロールに接触してから0.5~240秒以内に、該ウェブを搬送方向と直行する方向に1.05~2.5倍の延伸処理を行うことを特徴とする請求の範囲第1項~第5項のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
前記延伸処理の際の残留溶媒が0.5質量%~100質量%であり、延伸処理前後の残留溶媒差が0.4質量%~99質量%であることを特徴とする請求の範囲第5項又は第6項に記載の光学フィルムの製造方法。
前記透明基材フィルムの幅が1.4~5mであることを特徴とする請求の範囲第1項~第7項のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
前記透明基材フィルムの巻き長さが2000~10000mであり、膜厚が5~55μmであることを特徴とする請求の範囲第1項~第8項のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
前記透明基材フィルムが、セルロースエステル、シクロオレフィン系ポリマー、ポリカーボネート、及びポリ乳酸から選ばれる高分子化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする請求の範囲第1項~第9項のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
請求の範囲第1項~第9項のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法によって製造されたフィルムであって、透明基材フィルム上の少なくとも一方の面に光学異方層を設けたことを特徴とする光学フィルム。
前記光学異方層が活性線硬化層であることを特徴とする請求の範囲第11項に記載の光学フィルム。
波長589nmにおけるRoが1~400nm、Rtが-400~400nmであることを特徴とする請求の範囲第11項又は第12項に記載の光学フィルム。
前記光学フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層、防眩層、反射防止層、帯電防止層から選択される層を設けたことを特徴とする請求の範囲第11項~第13項のいずれか一項に記載の光学フィルム。
請求の範囲第11項~第13項のいずれか一項に記載の光学フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。
請求の範囲第11項~第14項のいずれか一項に記載の光学フィルムを用いたことを特徴とする表示装置。
請求の範囲第15項に記載の偏光板を用いたことを特徴とする液晶表示装置。
Description:
光学フィルムとその製造方法、 光板及び液晶表示装置

 本発明は光学フィルム、偏光板及び表示 置に関し、詳しくは幅広、或いは薄膜の基 であっても、すべり性に優れ、正面コント ストが改善された光学フィルムとその製造 法、及びそれを用いた偏光板、表示装置に する。

 液晶表示装置に用いる偏光板の材料とし トリアセチルセルロースに代表されるセル ースエステル系のフィルムや、シクロオレ ィン系フィルム、ポリカーボネート系フィ ムなど、様々なフィルムが存在するが、近 、液晶表示装置の薄型、軽量化と偏光板の 産性向上・コストダウンのため、これらの ィルムには更なる薄膜化、広幅化、長尺化 求められている。

 しかしながら、これらのフィルムをその ま薄膜化・広幅化・長尺化を進めるとフィ ムを巻き取る際に様々な故障が発生してし うことがある。そこで、すべり性を良くす フィルムを1枚付けるか、あるいはマット剤 を増量するなどで対応する手段もある。しか し、マット剤を増量するとすべり性は改善す るが、フィルムに入射した光が散乱するなど により、表示装置の正面コントラストが低下 するといった問題が発生し、品質の低下が起 こってしまう。

 また、1枚すべり性を良くするフィルムを付 けるのはすべり性向上や枚形状の改善には有 効な手段であるが、部材のコストアップや、 フィルムを巻いたときの大きさが大きくなっ てしまうという問題があり、あるいはすべり 性を付与したフィルムを廃棄する場合の環境 問題等がある(例えば、特許文献1~3参照)。

特開2001-183528号公報

特開2001-64422号公報

特開2001-83327号公報

 本発明は上記問題に鑑み、光学フィルム のマット剤を減量しながらすべり性を向上 せ、広幅化・薄膜化・長尺化に対応しただ ではなく正面コントラストの向上させた光 フィルムとその製造方法、及びそれを用い 偏光板、表示装置を提供することを課題と る。

 本発明に係る上記課題は、下記の手段に って解決される。

 1.透明基材フィルムの溶液流延製膜方法に る光学フィルムの製造方法において、ウェ 中の残留溶媒が5~400質量%である時に、少な とも平均粒経が25~200nmの微粒子を含有する微 粒子分散液をインクジェットヘッドを用いて 液滴として、吐出し、ウェブの一方の面上に 、着弾、付着させて、微細凸構造を形成し、 かつ該微細凸構造の凸部の高さが0.01~0.5μmで る凸部を10000μm 2 当たり1~10000
個形成することを特徴とする光学フィルムの 製造方法。

 2.前記ウェブの一方の面に微細凸構造を 成する際の該ウェブ周囲の雰囲気含有溶媒 度が50~10000ppmであることを特徴とする前記1 記載の光学フィルムの製造方法。

 3.前記ウェブの一方の面を直径50~1000mmバ クロールに当てた状態でもう一方の面に前 微粒子分散液をインクジェットヘッドを用 て付着させることを特徴とする前記1又は2に 記載の光学フィルムの製造方法。

 4.前記ウェブ上に微粒子分散液の付着を ってから、0.1~240秒以内に該ウェブ面を搬送 ールに接触させることを特徴とする前記1~3 いずれか一項に記載の光学フィルムの製造 法。

 5.前記ウェブ上に微粒子分散液の付着を ってから、1~300秒以内に、該ウェブを搬送方 向と直行する方向に1.05~2.5倍の延伸処理する とを特徴とする前記1~4のいずれか一項に記 の光学フィルムの製造方法。

 6.微粒子分散液が付着したウェブ面が最 に搬送ロールに接触してから0.5~240秒以内に 該ウェブを搬送方向と直行する方向に1.05~2. 5倍の延伸処理を行うことを特徴とする前記1~ 5のいずれか一項に記載の光学フィルムの製 方法。

 7.前記延伸処理の際の残留溶媒が0.5質量%~ 100質量%であり、延伸処理前後の残留溶媒差 0.4質量%~99質量%であることを特徴とする前記 5又は6に記載の光学フィルムの製造方法。

 8.前記透明基材フィルムの幅が1.4~5mであ ことを特徴とする前記1~7のいずれか一項に 載の光学フィルムの製造方法。

 9.前記透明基材フィルムの巻き長さが2000~ 10000mであり、膜厚が5~55μmであることを特徴 する前記1~8のいずれか一項に記載の光学フ ルムの製造方法。

 10.前記透明基材フィルムが、セルロース ステル、シクロオレフィン系ポリマー、ポ カーボネート、及びポリ乳酸から選ばれる 分子化合物の少なくとも一種を含有するこ を特徴とする前記1~9のいずれか一項に記載 光学フィルムの製造方法。

 11.前記1~9のいずれか一項に記載の光学フ ルムの製造方法によって製造されたフィル であって、透明基材フィルム上の少なくと 一方の面に光学異方層を設けたことを特徴 する光学フィルム。

 12.前記光学異方層が活性線硬化層である とを特徴とする前記11に記載の光学フィル 。

 13.波長589nmにおけるRoが1~400nm、Rtが-400~400n mであることを特徴とする前記11又は12に記載 光学フィルム。

 14.前記光学フィルムの少なくとも一方の にハードコート層、防眩層、反射防止層、 電防止層から選択される層を設けたことを 徴とする前記11~13のいずれか一項に記載の 学フィルム。

 15.前記11~13のいずれか一項に記載の光学 ィルムを用いたことを特徴とする偏光板。

 16.前記11~14のいずれか一項に記載の光学フ ルムを用いたことを特徴とする
表示装置。

 17.前記15に記載の偏光板を用いたことを 徴とする液晶表示装置。

 本発明の上記手段により、光学フィルム のマット剤を減量しながらすべり性を向上 せ、広幅化・薄膜化・長尺化に対応しただ ではなく正面コントラストの向上させた光 フィルムとその製造方法、及びそれを用い 偏光板、表示装置を提供することが出来る

 なお、本発明の手段により部材コストの 減も出来る。

透明基材フィルム上にインクジェット 式でブロッキング防止機能を有する微細凸 造を設けた一例を示す模式図 他の凸構造の一例を示す断面図 微粒子分散液(インク)の吐出角度、及 吐出方法を示す概略図 本発明に係るインクジェット方法に用 ることの出来るインクジェットヘッドの一 を示す断面図 本発明で用いることの出来るインクジ ットヘッド部、ノズルプレートの一例を示 概略図 本発明で好ましく用いることの出来る ンクジェット方式の一例を示す模式図 インクジェット方式により、粒径の大 なインク液滴で微細凸構造を形成した後、 り粒径の小さなインク液滴で、更に微細な 構造を形成した一例を表す模式図 微粒子分散液(インク)液滴の中に微粒 を含有させた凸部の一例を示す断面図 溶液流延で透明基材を製造する工程に インクジェット方式により微細凸構造を設 る工程を付加したフローを示す模式図 溶融流延で透明基材を製造する工程に 、インクジェット方式により微細凸構造を設 ける工程を付加したフローを示す模式図 透明基材上にインクジェット方式によ り微細凸構造を設ける別の工程のフローを示 す模式図

符号の説明

 1、14、502 透明基材
 2 機能性層
 3 微粒子分散液(インク)液滴
 4 微粒子
 10 インクジェットヘッド
 11 支持体
 12 流延ダイス
 21 溶融ダイス
 22 製膜ロール
 501 フィルムロール
 503 第1コータ
 504A、B バックロール
 505A、B 乾燥ゾーン
 506 紫外線照射部
 508 インク供給タンク
 509 インクジェット出射部

 本発明の光学フィルムの製造方法は、透明 材フィルムの溶液流延製膜方法による光学 ィルムの製造方法において、ウェブ中の残 溶媒が5~400質量%である時に、少なくともマ ト剤を形成する微粒子(一次粒子)が凝集し 二次粒子の平均粒経が25~200nmの微粒子を含有 する微粒子分散液をインクジェットヘッドを 用いて液滴として、吐出し、ウェブの一方の 面上に、着弾、付着させて、微細凸構造を形 成し、かつ該微細凸構造の凸部の高さが0.01~0 .5μmである凸部を10000μm 2 当たり1~10000個形成することを特徴とする。 の、着弾・付着させることを本明細書では 布という範疇に含めるものとする。

 なお、本発明の光学フィルム、それを用 た偏光板及び表示装置は、上記製造方法の 明によって実現されたものである。

 以下、本発明とその構成要素等について 細な説明をする。

 (微粒子分散液)
 本発明に係る微粒子分散液は、インクジェ ト方式により微細な凸構造を形成する組成 を含有することを要するが、該組成物の成 としては、微粒子を必須とし、その他に、 可塑性樹脂、活性光線硬化型樹脂、または 硬化性樹脂を含有することが好ましい。

 〈微粒子〉
 本発明に係る微粒子分散液は、平均粒経が2 5~200nmの微粒子を含有することを特徴とする 当該平均粒径は、50~150nmであることが好まし い。更には、80~120nmであることがより好まし 。

 なお、微粒子の平均粒径は、粒子の電子 微鏡写真で観察し、1,000個の任意の粒子の 径を測定し、その単純平均値(個数平均)とし て求められる。ここで個々の粒子の粒径は、 その投影面積に等しい円を仮定したときの直 径で表したものである。

 本発明において、微粒子分散液中に含有 しめることの出来る微粒子としては、例え 、無機微粒子または有機微粒子を挙げるこ が出来る。

 無機微粒子としては、例えば、珪素を含 化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、 化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシ ム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミ ウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カル ウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであ が、二酸化珪素が特に好ましく用いられる これらは球状、平板状、無定形状等の形状 粒子が挙げられる。

 二酸化珪素の微粒子としては、例えば、 エロジルR972、R972V、R972CF、R974、R812、50、200 、200V、300、R202、OX50、TT600、MOX170(以上日本ア エロジル(株)製)等の市販品が使用出来る。

 酸化ジルコニウムの微粒子としては、例 ば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロ ル(株)製)等の市販品が使用出来る。

 また、有機微粒子としては、ポリメタア リル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、ア リルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメ クリレート樹脂微粒子、シリコン系樹脂微 子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカー ネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹 微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレ ィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微 子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド 樹脂微粒子、またはポリ弗化エチレン系樹 微粒子、セルロースエステル系樹脂等を挙 ることが出来る。例えば、ポリメチルメタ リレート架橋粒子としてMS-300K、MS-300X(粒径0 .1μm)、アクリル単分散粒子としてMP1451(いず も綜研化学(株)製)が好ましく用いられる。

 好ましくは微粒子分散液に含まれる樹脂 微粒子との屈折率差が±0.02以内である、ま 微粒子分散液に含まれる樹脂と基材フィル との屈折率差も±0.02以内であることが好ま い。

 微粒子分散液に含まれる樹脂と微粒子の 率は、固形分全体の1~99%が微粒子であるこ が好ましく、5~95%が微粒子であることがさら に好ましい。

 微粒子分散液はさらに希釈して用いるこ が好ましい。濃度はインクジェットヘッド 塗布の液量と塗布液粘度および必要密度に って適宜調整して使用することが出来るが 塗布密度は50~500μm四方に1点程度であればよ く、微粒子の2次粒経が本発明の範囲であれ 、2次粒子は前記範囲に1~20個ほどあればすべ り性が確保できさらに最終的な表示装置の正 面コントラストを高いまま維持することが出 来る。ヘッドのノズル間隔にもよるが、希釈 液は微粒子分散液を1000~100万倍程度に希釈す ばよい。

 〈樹脂成分〉
 本発明に係る微粒子分散液は、微粒子の他 成分として、熱可塑性樹脂、活性光線硬化 樹脂、または熱硬化性樹脂を含有しても良 。

 始めに、本発明に用いられる熱可塑性樹 について説明する。

 本発明に係る熱可塑性樹脂としては、特 限定されないが、セルロースエステル、ポ カーボネート、アクリル樹脂、シクロオレ ィンポリマー、ポリエステル、ポリビニル ルコールなどが好ましい例として挙げられ がこれらのみに限定されるものではない。

 本発明の微粒子分散液に用いることが出来 熱可塑性樹脂は、特にセルロースエステル 主成分とすることが好ましく、後述する透 基材フィルムに用いられるセルロースエス ルが好ましく用いられる。即ち、セルロー アセテート、セルロースジアセテート、セ ロースアセテートブチレート、セルロース セテートプロピオネート、セルロースアセ ートフタレート、セルローストリアセテー 、セルロースナイトレート等のセルロース ステル類が好ましく、特にセルロースアセ ート、セルロースジアセテート、セルロー アセテートプロピオネートが好ましい。総 シル基置換度2.0~3.0のセルロースエステルが 好ましく用いられる。透明基材フィルムにセ ルロースエステルを用いる場合は
、該セルロースエステルと同じか、それより も低い置換度のセルロースエステルが好まし く用いられる。特に凸部形成面をアルカリケ ン化処理して偏光子を貼合する場合は該セル ロースエステルが好ましく用いられる。セル ロースエステルは後述する有機溶媒に溶解さ せ、微粒子分散液組成物として用いることが 出来る。

 次に、本発明に用いることが出来る活性 線硬化型樹脂について説明する。

 活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹 や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとし 挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性 照射によって硬化する樹脂でもよい。

 紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫 線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線 化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫 線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫 線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂ま は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げるこ が出来る。

 具体例としては、例えば、トリメチロー プロパントリアクリレート、ジトリメチロ ルプロパンテトラアクリレート、ペンタエ スリトールトリアクリレート、ペンタエリ リトールテトラアクリレート、ジペンタエ スリトールヘキサアクリレート、アルキル 性ジペンタエリスリトールペンタアクリレ ト等を挙げることが出来る。

 紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂と ては、一般にポリエステルポリオールにイ シアネートモノマー、若しくはプレポリマ を反応させて得られた生成物に更に2-ヒド キシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチ ルメタクリレート(以下アクリレートにはメ クリレートを包含するものとしてアクリレ トのみを表示する)、2-ヒドロキシプロピル クリレート等の水酸基を有するアクリレー 系のモノマーを反応させる容易に形成され ものを挙げることが出来、特開昭59-151110号 報に記載のものを用いることが出来る。

 紫外線硬化型ポリエステルアクリレート 樹脂としては、一般にポリエステルポリオ ルに2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒ ドロキシアクリレート系のモノマーを反応さ せる容易に形成されるものを挙げることが出 来、特開昭59-151112号公報に記載のものを用い ることが出来る。

 紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹 の具体例としては、エポキシアクリレート オリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光 応開始剤を添加し、反応させて生成するも を挙げることが出来、特開平1-105738号公報 記載のものを用いることが出来る。

 これらの光反応開始剤としては、具体的 は、ベンゾイン及び誘導体、アセトフェノ 、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェ ン、ミヒラーズケトン、α-アミロキシムエ テル、チオキサントン等及びこれらの誘導 を挙げることが出来る。光増感剤と共に使 してもよい。

 樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和 重結合が一つのモノマーとして、メチルア リレート、エチルアクリレート、ブチルア リレート、ベンジルアクリレート、シクロ キシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレ 等の一般的なモノマーを挙げることが出来 。

 本発明において使用し得る市販品の紫外 硬化樹脂としては、アデカオプトマーKR・BY シリーズ:KR-400、KR-410、KR-550、KR-566、KR-567、BY -320B(旭電化(株)製);コーエイハードA-101-KK、A-1 01-WS、C-302、C-401-N、C-501、M-101、M-102、T-102、D- 102、NS-101、FT-102Q8、MAG-1-P20、AG-106、M-101-C(広 化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHCX-9(K-3) PHC2213、DP-10、DP-20、DP-30、P1000、P1100、P1200、 P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業( )製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201 UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC -5015、RC-5016、RC-5020、RC-5031、RC-5100、RC-5102、RC -5120、RC-5122、RC-5152、RC-5171、RC-5180、RC-5181(大 本インキ化学工業(株)製);オーレックスNo.340 クリヤ(中国塗料(株)製);サンラッドH-601、RC700 、RC750(三洋化成工業(株)製);SP-1509、SP-1507(昭 高分子(株)製);RCC-15C(グレース・ジャパン(株) 製)、アロニックスM-6100、M-8030、M-8060(東亞合 (株)製)等を適宜選択して利用出来る。

 これらの活性線硬化樹脂は公知の方法で 化することが出来るが、本発明の場合は塗 後第一ロールに接触する前に活性線照射処 を行うことが好ましい。

 紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化 せるための光源としては、紫外線を発生す 光源であれば制限なく使用出来る。例えば 低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超 圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハラ ドランプ、キセノンランプ等を用いること 出来る。照射条件はそれぞれのランプによ て異なるが、照射光量は20~10000mJ/cm 2 程度あればよく、好ましくは、50~2000mJ/cm 2 である
 紫外線硬化樹脂を含有する微粒子分散液に いられる有機溶媒としては、例えば、炭化 素類、アルコール類、ケトン類、エステル 、グリコールエーテル類、その他の有機溶 の中から適宜選択し、或いはこれらを混合 利用出来る。例えば、プロピレングリコー モノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原 子数として1~4)またはプロピレングリコール ノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル の炭素原子数として1~4)等を5質量%以上、よ 好ましくは5質量%~80質量%以上含有する上記 機溶媒を用いるのが好ましい。

 この他に、微粒子分散液にはフッ素系界 活性剤、シリコン系界面活性剤、或いはノ オン系界面活性剤等の界面活性剤を、0.01~5. 0%程度添加することが出来る。

 次いで、本発明に用いることが出来る熱 化性樹脂について説明する。

 本発明で用いることの出来る熱硬化性樹 としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポ シ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール 脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポ アミドイミドなどを挙げることが出来る。

 不飽和ポリエステル樹脂としては、例えば オルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹 、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系 脂、プロピレングリコール-マレイン酸系樹 脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体 を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子 量化した、或いは被膜形成性のワックスコン パウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、 熱可塑性樹脂(ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレ ・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽 ポリエステルなど)を添加した低収縮性樹脂 不飽和ポリエステルを直接Br 2 でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロム ネオペンチルグリコールを共重合するなどし た反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラ ブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三 酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水 酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる 添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシ リコーンとハイブリッド化、またはIPN化した 強靭性(高強度、高弾性率、高伸び率)の強靭 樹脂等がある。

 エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフ ノールA型、ノボラックフェノール型、ビス フェノールF型、臭素化ビスフェノールA型を むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グ シジルアミン系、グリシジルエステル系、 式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊 ポキシ樹脂等を挙げることが出来る。

 ビニルエステル樹脂としては、例えば、 通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和 塩基酸とを開環付加反応して得られるオリ マーをスチレン等のモノマーに溶解した物 ある。また、分子末端や側鎖にビニル基を ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイ もある。グリシジルエーテル系エポキシ樹 のビニルエステル樹脂としては、例えば、 スフェノール系、ノボラック系、臭素化ビ フェノール系等があり、特殊ビニルエステ 樹脂としてはビニルエステルウレタン系、 ソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステ 系等がある。

 フェノール樹脂は、フェノール類とフォ ムアルデヒド類を原料として重縮合して得 れ、レゾール型とノボラック型がある。

 熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例え 、マレイン酸系ポリイミド、例えばポリマ イミドアミン、ポリアミノビスマレイミド ビスマレイミド・O,O″-ジアリルビスフェノ ール-A樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹 等、またナジック酸変性ポリイミド、及び セチレン末端ポリイミド等がある。

 また、上述した活性光線硬化型樹脂の一 も、熱硬化性樹脂として用いることが出来 。

 尚、本発明に係る熱硬化性樹脂を含有す 微粒子分散液には、酸化防止剤や紫外線吸 剤を適宜用いてもよい。

 本発明において、インクジェット方式に り形成した凸部が熱硬化性樹脂を含む場合 加熱方法としては、微粒子分散液の液滴を 明基体上に着弾させた直後に、加熱処理を うことが好ましい。

 本発明でいう微粒子分散液の液滴を透明 体上に着弾させた直後とは、具体的には微 子分散液の液滴が着弾と同時または5秒以内 に加熱が開始されることが好ましく、予め透 明基材の温度を上げておくことが出来る。例 えば、透明基材をヒートロール上に巻き付け て、これに微粒子分散液の液滴を着弾させる ことが出来、より好ましくは着弾と同時また は2.0秒の間である。また、ノズル部と加熱部 の距離が接近し過ぎて、熱がヘッド部に伝達 すると、ノズル部での硬化によりノズル詰ま りを起こすため注意が必要である。また、必 要に応じて加熱間隔が5.0秒を超えることによ って、着弾した微粒子分散液の液滴の流動、 変形させなだらかな凸構造を得ることも出来 る。

 上記加熱時のノズル部への熱の伝達を防 するため、本発明のインクジェット方式に いては、加熱部をインクジェットヘッドの ズル部に直接作用させない位置に配置する とが好ましい。

 加熱方法としては、特に制限はないが、 ートプレート、ヒートロール、サーマルヘ ド、或いは着弾した微粒子分散液表面に熱 を吹き付ける等の方法を使用するのが好ま い。また、インクジェット出射部の透明支 体を挟んで反対側に設けるバックロールを ヒートロールとして、連続的に加熱を施し もよい。加熱温度としては、使用する熱硬 性樹脂の種類により一概には規定出来ない 、透明基材への熱変形等の影響を与えない 度範囲であることが好ましく、30~200℃が好 しく、更に50~120℃が好ましく、特に好まし は70~100℃である。

 本発明に係る微粒子分散液においては、 成物として、上述した熱可塑性樹脂、活性 線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂のいずれ 用いることが出来るが、好ましくは熱可塑 樹脂を用いることである。

 本発明に係る上記微粒子分散液には、必 に応じて0~99.9質量%の溶媒を含有させること が出来る。例えば、水系溶媒に前記熱可塑性 樹脂成分、活性光線硬化型樹脂モノマー成分 、或いは熱硬化性樹脂モノマー成分を溶解若 しくは分散させてもよく、或いは有機溶媒を 用いてもよい。有機溶媒は低沸点のものでも 高沸点のものでも適宜選択して用いることが 出来、これらの溶媒の添加量や種類、組成は 微粒子分散液の粘度を調整するため適宜調整 することが好ましい。さらにインクジェット 塗布の際にはこの微粒子分散液をさらに希釈 して用いることが好ましい。

 本発明に係る微粒子分散液で用いること 出来る溶媒としては、例えば、メタノール エタノール、1-プロパノール、2-プロパノー ル、ブタノール等のアルコール類;アセトン メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ ン、シクロヘキサノン等のケトン類;ジアセ ンアルコール等のケトンアルコール類;ベン ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水 素類;エチレングリコール、プロピレングリ ール、ヘキシレングリコール等のグリコー 類;エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、 チルカルビトール、ブチルカルビトール、 エチルセルソルブ、ジエチルカルビトール プロピレングリコールモノメチルエーテル のグリコールエーテル類;N-メチルピロリド 、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、 酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸 ミル等のエステル類;ジメチルエーテル、ジ エチルエーテル等のエーテル類、水等が挙げ られ、それらを単独または2種以上混合して 用することが出来る。また、分子内にエー ル結合をもつものが特に好ましく、グリコ ルエーテル類も好ましく用いられる。

 グリコールエーテル類としては、具体的 は下記の溶媒が挙げられるが、特にこれら 限定されない。プロピレングリコールモノ チルエーテル、プロピレングリコールモノ チルエーテル、プロピレングリコールモノ チルエーテル、ジエチレングリコールジメ ルエーテル、エチレングリコールモノメチ エーテル、エチレングリコールモノメチル ーテルAc、エチレングリコールモノブチル ーテル、エチレングリコールモノエチルエ テル、エチレングリコールモノエチルエー ルAc、エチレングリコールジエチルエーテル 等を挙げることが出来る、尚Acはアセテート 表す。本発明に係る微粒子分散液において 、上記溶媒の中でも、沸点が100℃未満の溶 が好ましく用いられる。これらの溶媒は、 ンクジェットヘッドから吐出された直後か 揮発され、着弾後も所望の凸形状が維持さ る程度に速やかに揮発、乾燥されることが ましい。或いは揮発性の異なる溶媒を混合 てその比率を変更することで凸形状を制御 ることも出来る。

 微粒子分散液に使用する溶媒は基材フィル を溶解する溶媒と溶解しない溶媒とを混合 て用いることが好ましく、混合比率は1:9~9:1 であることが好ましく、比率は適宜調整され る
 (微細凸構造の形成)
 本発明に係る微細凸構造は、透明基材フィ ムの溶液流延製膜方法による光学フィルム 製造方法において、ウェブ中の残留溶媒が5 ~400質量%である時に、少なくとも平均粒経が2 5~200nmの微粒子を含有する微粒子分散液をイ クジェットヘッドを用いて液滴として、吐 し、ウェブの一方の面上に、着弾、付着さ て、形成することを特徴とする。

 尚、ここで言う微細凸構造とは層を形成 てもよく、また層構造を有さず基材上に微 子分散液の液滴による微細凸部が点在する 態でもよい。

 本発明に係る上記ウェブ中の残留溶媒は、2 0~300質量%であることが好ましい。更には、50~ 150質量%であることが好ましい。ウェブの一 の面に微細凸構造を形成する際の該ウェブ 囲の雰囲気含有溶媒濃度は、50~10000ppmである ことを要する。雰囲気の溶媒濃度が低すぎる と微粒子分散液(塗布液)のウェブに対するな みが良くない場合があり、500~8000ppm程度が ましく、1000~7000ppm程度がさらに好ましい
 雰囲気の溶媒濃度の測定は、通常溶液流延 際にはエンクロージャー内で、塗布のヘッ から、透明基材(ウェブ)搬送方向に、30cm離 たところで雰囲気の空気を1000cm 3 集気を行い、ガスクロマトグラフ法で測定す ることが出来る。

 本発明における微粒子含有溶液の付着(塗 布)は透明基材フィルム(ウェブ)の一方の面を バックロールに当てた状態でもう一方の面に 付着(塗布)を行うことが好ましく、該バック ールの直径は50mm~1000mmが好ましく、95mm~950mm より好ましい。直径が小さくなるとウェブ 曲がりが大きくなること、あるいは付着(塗 布)面とインクジェットヘッドとの距離が安 する部分が狭くなり付着(塗布)が偏りを生じ てしまうことやシワガ発生してしまうといっ た問題が発生してしまう。バックロールの直 径が大きすぎると、設置場所の問題以外にも 、バックロールの温度制御が煩雑になるため 安定性の確保が困難になる。

 付着(塗布)を行ってから付着(塗布)面を搬 送ロールに接触させるまでの時間は短すぎる と付着(塗布)部分がウェブとなじむ前に接触 ることから、剥れてしまうことがある。ま 時間が長すぎると乾燥が進んでしまい付着( 塗布)部分が剥れてしまうことがある。従っ 、ウェブ上に微粒子分散液の付着(塗布)を行 ってから、0.1~240秒以内に該ウェブ面を搬送 ールに接触させることを要する。この時間 、好ましくは0.1秒~150秒、より好ましくは0.1 ~65秒の範囲である。

 ウェブ上に微粒子分散液の付着(塗布)を ってから、1~300秒以内、好ましくは5~200秒、 り好ましくは5~180秒以内に、該ウェブを搬 方向と直行する方向に1.05倍~2.5倍の延伸処理 することが本発明に係る課題解決の観点から 好ましい。また、微粒子分散液が付着したウ ェブ面が最初に搬送ロールに接触してから0.5 ~240秒以内に、該ウェブを搬送方向と直行す 方向に1.05倍~2.5倍の延伸処理を行うことが好 ましい。なお、前記延伸処理の際の残留溶媒 が0.5質量%~100質量%であり、延伸処理前後の残 留溶媒差が0.4質量%~99質量%であることが好ま い。

 インクジェット方式による上記微粒子分 液の液滴としては、1種類の微粒子分散液を 用いてもよいが、2種以上の組成の異なる微 子分散液の液滴を用いてもよく、或いは2種 上の粒径の異なる微粒子分散液液滴を用い もよい。或いは、微粒子分散液の液滴中に 粒子を含有させることが好ましく、また微 子分散液中の溶媒含有量や微粒子分散液の 面エネルギー、微粒子分散液付着面の表面 ネルギー(接触角)を制御することも好まし 、これらにより本発明の目的効果がより一 発揮される。

 また、本発明の光学フィルムは、透明基 フィルム上に上記で規定する該微細凸構造 直接形成する構成、或いは1層以上の予め設 けられた機能性層を有する透明基材フィルム 上に、本発明の該微細凸構造を設ける構成の いずれでもよい。

 本発明に係る微細凸構造は、例えば、す り性を向上する場合は凸部の数を増やす、 たは同じ数なら高さを高くする、凸部の傾 をきつくするなどの調整が可能である。ま 、本発明によればフィルムの幅手方向で簡 に凸部の数を変更することも出来る。例え 、端部の凸部数を多く、フィルム中央を少 くすることや、その逆も可能である。或い フィルムの長尺方向で凸部数を変更するこ も出来る。例えば押され変形やブロッキン 故障が発生し易い巻きの中心部では凸部の を増やしたり、凸部の高さを高くすること 出来、巻きの外側になるにつれて凸部の数 高さを変更していくといったことが可能に る。特にフィルム幅が1.4~4mといった広幅に った場合、従来の方法では十分に対応出来 かったが、本発明によって著しく改良する とが出来たのである。本発明によれば、フ ルムに様々な加工を施した後に、適切なす り性を追加で簡便に付与することが出来る でも優れている。また、フィルムの品種に じて凸部数を変更することも簡単であり、 産性も著しく向上する。このような制御が 単に行える点でインクジェット方式は極め 優れている。

 本発明で形成される凸部は、高さa(図1参照) が0.01~0.5μmの凸部が10~10000個/10000μm 2 であることを要する。1個以下ではブロッキ グ防止効果が不十分となる場合があり、10000 個以上だとブロッキング防止効果は問題ない が、生産性が低下し、ヘイズが悪化する場合 がある。好ましくは10~10000個/10000μm 2 である。

 また高さaが0.02~0.3μmの凸部が10~10000個/10000μ m 2 であることが好ましく、0.02~0.2μmの凸部が10~1 000個/10000μm 2 であることが更に好ましい。

 また凸部の直径b(図1参照)は0.01~1μmが好ま しく、更に好ましくは0.01~0.3μmである。凸部 高さaと直径bの関係はb/aが1~100であることが 好ましく、1.5~30であることが更に好ましく、 2~10であることが特に好ましい。1未満では形 した凸部が剥がれ落ちて異物故障となるこ があり、100を超えるとブロッキング防止性 不足したり、基材フィルムが変形し易くな 。

 図1は、透明基材フィルム上に、インクジ ェット方式でブロッキング防止機能を有する 微細凸構造を設けた一例を示す模式図である 。

 図1の(a)は、微細凸構造の斜視図であり、 図1の(b)は断面図である。

 図1の(b)において、透明基材フィルム1の に、インクジェット方式により微粒子分散 の液滴3により形成された微細凸構造の一例 示してあるが、本発明で規定する凸部の高 aとは、下地である透明基材フィルム表面を 底部として、凸構造の頂部までの高さ(μm)と 義し、同様に直径bは基材に接している凸部 底の最大長と定義する。

 表面の微細な凸部は、市販の触針式表面粗 測定機或いは市販の光学干渉式表面粗さ測 機等によって測定することが出来る。例え 、光学干渉式表面粗さ測定機によって、約1 0000μm 2 の範囲(100μm×100μm)について2次元的に測定し 凸部を底部側より等高線のごとく色分けし 表示する。

 ここでフィルム面を基準とした高さaが0.01μ m~0.5μmである凸部の数をカウントし、10000μm 2 の面積当たりの数で示した。測定は、光学フ ィルムの該当箇所の任意の10点を測定してそ 平均値として求める。

 本発明において、ブロッキング防止加工 為の凸構造の形状として、図1の(b)ではコニ ーデ型の凸部を着弾させた微粒子分散液の液 滴によって形成された凸部の一例を示してい るが、本発明は上記の形状の凸構造に限定さ れるものではない。

 図1の(c)は予め設けられた機能性層の上に 本発明のインクジェット方式による微細な凸 構造を付与した模式図である。機能性層は特 に限定されるものではなく、バックコート層 、アンチカール層、帯電防止層、下引き層、 光散乱層、接着層等が挙げられる。

 図2は、他の微細凸構造の例を示す断面図 である。

 図2の(a)は、球体形状で着弾させた凸構造 の一例であり、出射する微粒子分散液の液滴 の粘度や、微粒子分散液吐出速度、微粒子分 散液の液滴と微粒子分散液着弾面との接触角 、インクジェットヘッドと基材との距離等を 適宜調整することにより、この様な形状の凸 構造を形成することが出来る。インクジェッ トヘッドと基材との距離は0.2~100mmが好ましく 、形成する凸の形状に応じて変更することが 出来る。微粒子分散液の液滴と微粒子分散液 着弾面との接触角は0~180°の範囲で適宜調整 れる。好ましくは5~120°である。また、微粒 分散液吐出速度を上げるなどにより吐出後 微粒子分散液の液滴を分裂させて微粒子分 液の液滴としてより微細な凸部を形成した 、吐出速度を抑制して大きめの凸部、或い 形状が整った凸部を形成することが出来る インクジェット部のこれらの条件は、印刷 のインクジェットで用いられている条件を 考にして設定することが出来る。また、微 子分散液吐出速度を上げて着弾の衝撃によ て微粒子分散液液滴による凸部を潰すこと 出来る。

 微粒子分散液吐出速度は、微粒子分散液 液滴先端の速度V1をピエゾ式のインクジェ ト装置のピエゾ素子に印加する電圧を増減 せることにより一般に0.1~20m/sの範囲で制御 来る。好ましくは1~20m/sの範囲である。更に 上記微粒子分散液液滴先端の速度V1の好ま い下限は5m/s、好ましい上限は12m/sである。 粒子分散液液滴後端の速度V2は微粒子分散液 液滴先端の速度V1よりも小さく、一般には0.1~ 10m/sである。上記微粒子分散液液滴後端の速 V2は、微粒子分散液液滴の分離状態、即ち 微粒子分散液の表面張力や粘度により決ま 。

 吐出時間tは、ピエゾ素子に印加する電圧 の制御条件に応じて3μs~1msに設定される。ピ ゾ素子に印加する電圧の制御条件は、安定 に微粒子分散液液滴を吐出できるように、 形制御条件、微粒子分散液液滴の表面張力 粘度等に応じて設定される。

 液滴は後述するように柱状に吐出され、 板に着弾するまでに分裂しない場合と分裂 る場合とがある。分裂しない場合であって 着弾するまでに空中で球状の液滴になる場 は、着弾時の液滴先端速度と後端速度はほ 同じとなる。柱状の液滴が球状になってい ので着弾時の液滴速度は吐出時の液滴先端 度や後端速度と厳密には異なるが、その差 液滴速度に対して小さい。一方、数個の液 に分裂する場合には、吐出時の液滴先端速 が着弾時の先頭液滴の速度となり、吐出時 液滴後端速度が着弾時の最後尾の液滴の速 となると考えられる。尚、通常は、液滴先 速度が3m/s以下の場合には液滴は分裂しない ことが多く、液滴先端速度が3~20m/sの場合に 液滴は分裂することが多い。

 本発明のインクジェット方式による凸構 の形成方法は、従来のフィルム中にマット を添加する方式や微粒子を含むバックコー 層を塗設する方式に比較し、任意の形状の 構造を形成出来、特に幅手方向でも長尺方 でも異なる凸形状としたり、付着量を変更 ることが出来ることが、大きな特徴である しかも、生産中に形成するパターンを変更 来るため様々な品種に迅速に対応可能であ 。また、反対側の面の加工に応じて追加す という自由度もある。

 図2の(b)は、半円状の凸構造からなるブロ ッキング防止加工の一例を示す断面図である 。

 上記凸構造の配置として、上図の説明で 凸部を間隔をあけて着弾させた一例を示し いるが、図2の(c)に示すように、間隙を設け ずに、着弾面全体を凸部で被覆した構成でも よい。本発明ではこのような凸部の大きさや 形状を変化させて微細凸構造を異ならせるこ とが出来る。

 微粒子分散液液滴によって形成された凸 である3は、フィルムの法線方向から見た時 に略円の形状であってもよいし、楕円形状で あってもよい。例えば縦横比×1.01~×10の比の 円でもよい。微粒子分散液を付着させる際 フィルム側、若しくはインクジェットのヘ ド部を高速で搬送させながら行うことで、 円状の凸部を形成することが出来る。

 図3は微粒子分散液の吐出角度、及び吐出 方法を示す概略図である。

 図3の(a)で示す、インクジェットヘッドか ら微粒子分散液をフィルムに向けて吐出する 時の角度は、フィルムの法線方向を90°、微 子分散液が付着したフィルムが搬送されて く方向を0°、フィルムが搬送されてくる方 を180°とすると、0°~180°の範囲で設定するこ とが出来る。好ましくは0°~90°とすることで 微粒子分散液の飛翔速度とフィルムの搬送 相対速度の差が小さく出来、所望の凸形状 形成し易くなる為好ましい。更に好ましく 5°~85°である。

 図3の(b)はフィルム面に対し、種々な角度 をつけたインクジェットヘッドを複数個配置 し、連続的に微粒子分散液を吐出する方法を 示している。その際、角度のみならずフィル ム面からの高さも任意に変えることが可能で ある。

 図3の(c)は、バックロールを抱かせて搬送 しているフィルム面に、複数個のインクジェ ットヘッドをその周りに配置し、微粒子分散 液液滴を吐出している状態を示している。こ のように、微粒子分散液液滴を着弾させるフ ィルム面は、平面、曲面どちらでも構わない 。

 次いで、本発明に係るインクジェット方 について説明する。

 図4は、本発明に係るインクジェット方法 に用いることの出来るインクジェットヘッド の一例を示す断面図である。

 図4(a)はインクジェットヘッドの断面図で あり、図4(b)は図4(a)のA-A線矢視拡大図である 図中、11は基板、12は圧電素子、13は流路板 13aは微粒子分散液流路、13bは壁部、14は共 液室構成部材、14aは共通液室、15は微粒子分 散液供給パイプ、16はノズルプレート、16aは ズル、17は駆動用回路プリント板(PCB)、18は ード部、19は駆動電極、20は溝、21は保護板 22は流体抵抗、23、24は電極、25は上部隔壁 26はヒータ、27はヒータ電源、28は伝熱部材 10はインクジェットヘッドである。

 集積化されたインクジェットヘッド10に いて、電極23、24を有する積層された圧電素 12は、流路13aに対応して、該流路13a方向に 加工が施され、溝20と駆動圧電素子12bと非駆 動圧電素子12aに区分される。溝20には充填剤 封入されている。溝加工が施された圧電素 12には、上部隔壁25を介して流路板13が接合 れる。即ち、前記上部隔壁25は、非駆動圧 素子12aと隣接する流路を隔てる壁部13bとで 持される。駆動圧電素子12bの幅は流路13aの よりも僅かに狭く、駆動用回路プリント板(P CB)上の駆動回路により選択された駆動圧電素 子12bはパルス状信号電圧を印加すると、該駆 動圧電素子12bは厚み方向に変化し、上部隔壁 25を介して流路13aの容積が変化し、その結果 ズルプレート16のノズル16aより微粒子分散 液滴を吐出する。

 流路板13上には、伝熱部材28を介してヒー タ26がそれぞれ接着されている。伝熱部材28 ノズル面にまわり込んで設けられている。 熱部材28は、ヒータ26からの熱を効率良く流 板13に伝え、かつ、ヒータ26からの熱をノズ ル面近傍に運びノズル面近傍の空気を温める ことを目的としており、従って、熱伝導率の 良い材料が用いられる。例えば、アルミニウ ム、鉄、ニッケル、銅、ステンレス等の金属 、或いは、SiC、BeO、AlN等のセラミックス等が 好ましい材料として挙げられる。

 圧電素子を駆動すると、流路の長手方向 垂直な方向に変位し、流路の容積が変化し その容積変化によりノズルから微粒子分散 液滴となって噴射する。圧電素子には常時 路容積が縮小するように保持する信号を与 、選択された流路に対して流路容積を増大 る向きに変位させた後、再び流路の容積が 小する変位を与えるパルス信号を印加する とにより、流路と対応するノズルより微粒 分散液が微粒子分散液液滴となって噴射す 。

 図5は、本発明で用いることの出来るイン クジェットヘッド部、ノズルプレートの一例 を示す概略図である。

 図5において、図5の(a)はヘッド部の断面 、図5の(b)はノズルプレートの平面図である 図中、1は透明基材、31は微粒子分散液液滴 32はノズルである。ノズル32より噴射した微 粒子分散液液滴31は透明基材1方向に飛翔して 付着する。透明基材1上に着弾した微粒子分 液液滴は、乾燥によって凸部が形成される

 本発明においては、図5の(b)に記載のよう に、インクジェットヘッド部のノズルは、千 鳥状に配置することが好ましく、また、透明 基材1の搬送方向に並列に多段に設けること 好ましい。また、微粒子分散液吐出の際に ンクジェットヘッド部に微細な振動を与え 微粒子分散液滴がランダムに透明基材上に 弾するようにすることが好ましい。これに って、干渉縞の発生を抑制することが出来 。微細な振動は、高周波電圧、音波、超音 などによって与えることが出来るが、特に れらに限定されない。また、インクジェッ 法により出射された微粒子分散液滴31が移動 してくる透明基材1の周辺空気によって乱さ て偏ったり、意図しないムラとならないよ に空気の流れを制御して行われる。

 インクジェットヘッドとしては特開2004-58 505号公報記載の静電吐出型インクジェットヘ ッドを本発明のブロッキング防止加工に転用 することも出来、特開2004-58532号公報記載の 体吐出ヘッド、特開2004-54271号公報記載のイ クジェットパターニング装置を本発明のブ ッキング防止加工に転用することも出来、 開2004-55520号公報記載の噴射ヘッドを転用す ることも出来、登録3,5000,636号公報号記載の ンクジェットヘッドを転用することも出来 登録3,501,583号記載のインクジェット記録シ テムを本発明のブロッキング防止加工に転 することも出来る。

 また、凸部を形成するための微粒子分散 を吐出する前に、テスト吐出を実施してヘ ドの目詰まりの有無を確認することが好ま く、目詰まりが確認された場合、或いは生 開始時には、ヘッドクリーニングを実施す ことが好ましい。ヘッドクリーニングは使 する微粒子分散液で実施しても、溶媒を主 とするクリーニング液で実施してもよい。 リーニング液の溶媒は微粒子分散液に使用 来るものが好ましく用いられる。必要に応 て界面活性剤(ノニオン系、フッ素系、シリ コン系等)を0.01~1%程度含有させてもよい。

 凸部を形成するための微粒子分散液吐出 度は、適宜調整することが好ましく、例え 、大きな凸部を形成するための微粒子分散 吐出密度に対して、小さな凸部を形成する めの微粒子分散液吐出密度を大きくするこ が好ましい。

 生産中にヘッドの目詰まりが検出された 合は、そのヘッドへの微粒子分散液供給を 止することが好ましい。それによって形成 る凸部にむらが生じないように、他のヘッ からの微粒子分散液吐出量を増やすことも ましい。多段のインクジェットヘッドを使 している場合には、生産を継続しながら目 まりしたインクジェットヘッドのヘッドク ーニングを行うことが好ましく、その場合 クリーニング液が被処理基材フィルムに付 しないように微粒子分散液吐出方向を切り えるか、クリーニング液を受け止める別の 材に向けて吐出させることが好ましい。ヘ ドクリーニング中は、別のインクジェット ッドの微粒子分散液吐出量を増加させるか 予備のインクジェットヘッドを用いて生産 継続することが好ましい。

 また、生産中にヘッドの目詰まりなど何 かの異常が確認された場合、フィルム基材 端部にインクジェットでマーキングを施す とが好ましい。マーキングは着色微粒子分 液で行うことが好ましく、異常個所を明確 することで後でその部分を製品から取り除 ことが容易になる。

 本発明に用いられる微細凸構造の形成方 は、多ノズルから微粒子分散液小液滴を吐 して形成するインクジェット方式を用いる とが好ましく、図6に、本発明で好ましく用 いることの出来るインクジェット方式の一例 を示す。

 図6において、図6のa)は、インクジェット ヘッド10を透明基材1の幅手方向に配置し、透 明基材1を搬送しながらその表面に微細凸構 を形成する方法(ラインヘッド方式)であり、 図6のb)はインクジェットヘッド10が副走査方 に移動しながらその表面に微細凸構造を形 する方法(フラットヘッド方式)であり、図6 c)はインクジェットヘッド10が、透明基材1 の幅手方向を走査しながらその表面に微細 構造を形成する方法(キャプスタン方式)であ り、いずれの方式も用いることが出来るが、 本発明においては、生産性の観点からライン ヘッド方式が好ましい。この様な方式のイン クジェットヘッドを用いることで、透明基材 上に任意の位置で、かつ任意のパターンの凸 部を容易に形成することが出来る。その為従 来のマット剤添加の方式と比べてインクジェ ットによる方法は自由度が高く優れている。

 尚、図6のa)~c)に記載の29は、微粒子分散 として後述の活性光線硬化型樹脂を用いる 合に使用する活性光線照射部である。微粒 分散液に熱可塑性樹脂を用いる場合は29は不 用である。

 また、本発明においては、図6のa)、b)、c) の透明基材の搬送方向の下流側に、別の活性 光線照射部を設けてもよい。インクジェット ヘッド部と活性光線照射部の間隔は0.1~20m程 が好ましく適宜設定される。また、必要に じて設置位置を変更或いは調整出来るよう なっていることが好ましい。

 本発明において、微細な凸部を形成する め、微粒子分散液液滴としては0.01~100plが好 ましく、0.1~50plがより好ましく、0.1~10plが特 好ましい。上記条件で微粒子分散液液滴を 射することにより、ヘイズにも優れる微細 凸部を有する光学フィルムを得ることが出 る。

 本発明では、インクジェットヘッドから 出される微粒子分散液を当該微粒子分散液 先端部に続いて微粒子分散液が延びた柱状 状態で前記インクジェットヘッドから分離 ないうちに凸部形成面上に付着させてもよ が、好ましくは微粒子分散液がインクジェ トヘッドから分離した後の微粒子分散液液 として付着させることが好ましい。ヘッド ら吐出された微粒子分散液液滴が分裂せず 凸部形成面上に付着させることが好ましく 或いは意図的に分裂するような吐出条件に ることで微小な微粒子分散液液滴とし、こ を付着させることでより微細な凸部形成を うことが好ましく、形成する凸部形状に応 て適宜調整することが出来る。

 また、微粒子分散液液滴の粘度は、25mPa s以下であることが好ましく、10mPa・s以下で ることが更に好ましい。着弾時の微粒子分 液粘度は吐出時の微粒子分散液粘度より高 ことが好ましく、15mPa・s以上であることが ましく、更に好ましくは25mPa・s以上である 着弾時の粘度が高いほどRaが大きな凸部を 成し易く、所望の凸部形状を形成するため 粘度は適宜調整することが好ましい。

 次いで、本発明に係る微細凸構造を形成 るインクジェット方式で用いる微粒子分散 について説明する。

 図7は、透明基材上にインクジェット方式 により、粒径の大きな微粒子分散液液滴で微 細凸構造71を形成した後、より粒径の小さな 粒子分散液液滴で、更に微細な凸構造72を 成した一例を表す模式図である。

 図7の(a)は、比較的低粘度の微粒子分散液 を用いて、コニーデ型の凸部71を設けた後、 の表面及び未着弾部により微小の凸部72を けた一例であり、図7の(b)は、微粒子分散液 滴と基材表面との接触角を制御し、球体状 凸部71″を設けた後、その表面及び未着弾 により微小の凸部72を設けた一例である。

 この場合も粒径の大きな液滴で形成され 凸部の高さ、直径及び形成個数は本発明の 囲内に制御する必要がある。

 このようにして、凸構造を形成する微粒 分散液として粒径の異なる微粒子分散液液 を用いて形成することにより、ブロッキン 防止効果に優れる微細な凸部を形成するこ が出来る。各々の微粒子分散液液滴は、0.01 ~100plが好ましく、0.1~50plが更に好ましく、0.1~ 10plが特に好ましい。2種以上の大きさの異な 微粒子分散液液滴を用いる場合、平均粒径 最も大きい粒径の微粒子分散液液滴に対し 平均粒径が最も小さな粒径の微粒子分散液 滴の容量としては、0.1~80体積%、更に好まし くは1~60体積%、特に好ましくは3~50体積%であ ことが好ましい。また、3種以上の容量が異 る微粒子分散液液滴を組み合わせることが り好ましい態様である。

 また、2種以上の微粒子分散液液滴を用い る場合、固形分濃度が異なる各微粒子分散液 液滴を用いることが出来る。例えば、微小な 液滴の固形分濃度を低く設定し、微粒子分散 液が飛翔している間や着弾後に溶媒を揮発さ せることで、より微細な凸部を形成すること が出来る。この様な各微粒子分散液液滴の固 形分濃度を適宜調整することにより、微細な 凸構造の形成や形状を容易に制御することが 出来る。

 更に、本発明においては、異なる容量の 粒子分散液滴を組み合わせて凸構造を形成 る場合、大きな微粒子分散液液滴を透明基 上に着弾させた後、より微細な微粒子分散 液滴をその上に着弾させることが好ましい

 本発明における微細凸構造の他の好まし 例として、微粒子分散液液滴が微粒子を含 することも好ましい。

 図8は、微粒子分散液液滴の中に微粒子を 含有させた凸部の一例を示す断面図である。

 次いで、本発明の光学フィルムの製造方 について説明する。

 図9は、溶液流延で透明基材を製造する工 程に、インクジェット方式により微細凸構造 を設ける工程を付加したフローを示す模式図 である。

 図9において、11はエンドレスで走行する 持体を示す。支持体としては鏡面帯状金属 使用されている。12は透明基材形成樹脂を 媒に溶解したドープを、支持体11に流延する ダイスを示す。13は支持体11に流延されたド プが固化したフィルムを剥離する剥離ロー を示し、14は剥離されたフィルムを示す。5 テンター搬送・乾燥工程を示し、51は排気口 を示し、52は乾燥風取り入れ口を示す。尚、 気口51と乾燥風取り入れ口52は逆であっても 良い。6は張力カット手段を示す。張力カッ 手段としてはニップロール、サクションロ ル等が挙げられる。尚、張力カット手段は 工程間に設けてもかまわない。

 8はロール搬送・乾燥工程を示し、81は乾 箱を示し、82は排気口を示し、83は乾燥風取 り入れ口を示す。尚、排気口82と乾燥風取り れ口83は逆であっても良い。84は上部搬送用 ロールを示し、85は下部搬送用ロールを示す 該搬送用ロール84、85は上下で一組で、複数 組から構成されている。7は巻き取られたロ ル状のフィルムを示す。

 本発明に係る微粒子分散液液滴を出射す インクジェットヘッド部10は、ドープ流延 、剥離~テンター部間、テンター~乾燥部間、 乾燥箱内のいずれの位置に設置してもよく、 具体的には図中、10A~Hの位置に設けることが 来る。その際、フィルム面の片側、両側の ちらにインクジェットヘッド部を設けても い。インクジェットヘッド部10の設置数に に制限はなく一つでも複数でもよいが、好 しくは複数のインクジェットヘッド部を設 することである。

 図10は、溶融流延で透明基材を製造する 程に、インクジェット方式により微細凸構 を設ける工程を付加したフローを示す模式 である。

 図10において、21は溶融流延用のダイスで あり、ここから後述する溶融されたポリマー が押し出されされ、製膜ロール22を通してフ ルムFとなる。引き続きテンター搬送・乾燥 工程5により延伸され、ロールを介して巻き られロール状のフィルム7となる。

 本発明に係る微粒子分散液液滴を出射す インクジェットヘッド部10は、図中、10I~Kの 位置に設けることが出来る。その際、フィル ム面の片側、両側のどちらにインクジェット ヘッド部を設けてもよい。インクジェットヘ ッド部10の設置数に特に制限はなく一つでも 数でもよいが、好ましくは複数のインクジ ットヘッド部を設置することである。

 図11は、透明基材上にインクジェット方 により微細凸構造を設ける別の工程のフロ を示す模式図である。詳しくは、透明基材 に紫外線硬化樹脂層、反射防止層等の機能 層を塗布方式で塗設した後、インクジェッ 方式で裏面側に微細凸構造を形成するフロ を示してある。

 図11において、ロール501より繰り出され 透明基材502は、搬送されて、第1コータステ ションAで、第1コータ503により機能性層を 設する。このとき、機能性層は単層構成で 、複数から構成されている層でもよい。機 性層を塗設した透明基材502は、次いで乾燥 ーン505Aで乾燥が行われる。乾燥は、透明基 502の両面より、温湿度が制御された温風に り乾燥が施される。

 次いで、インクジェット方式を用いた微 凸構造を設ける第2コータステーションBに 送される。インクジェット出射部509には、 粒子分散液供給タンク508が接続されており そこから微粒子分散液液が供給される。イ クジェット出射部509は、図5の(b)で示すよう 複数のインクジェットノズルを透明基材の 全域に千鳥状に配置し、微粒子分散液液滴 機能性層上に出射して、その表面に凸構造 形成する。また、2種以上の微粒子分散液液 滴を出射する場合には、2列以上配置したイ クジェットノズルより、各々の微粒子分散 液滴を出射してもよいし、或いはランダム 任意のインクジェットノズルより微粒子分 液液滴を出射してもよい。また、インクジ ット出射部を複数配置し、各々の微粒子分 液出射部より異なる微粒子分散液液滴を出 してもよい。本発明においては、0.01~100pl、 ましくは0.01~10plという微細な液滴を出射す ため、微粒子分散液液滴の飛翔性に対し、 気の気流の影響を受け易くなるため、第2コ ータステーションB全体を、隔壁等で覆って 圧の乱れを防止することが好ましい。また 1pl以下の極めて微細な液滴を精度高く飛翔 せるため、インクジェット出射部509と透明 材502或いはバックロール504B間に電圧を印加 、微粒子分散液液滴に電荷を与えて電気的 微粒子分散液液滴の飛翔安定性を補助する 法も好ましい。或いはフィルムの帯電によ ムラが生じないように、全工程を通じてフ ルムの搬送に伴う帯電を防止する為除電バ を設けるなどの除電対策を行うことが好ま い。また、着弾した微粒子分散液液滴の変 を防止するため、透明基材を冷却して着弾 の微粒子分散液液滴の流動を速やかに低下 せる方法を用いることも好ましい。或いは 微粒子分散液液滴が出射後、着弾するまで 飛翔中に含有する溶媒を揮発させて、微粒 分散液液滴中の含有溶媒量が減少した状態 着弾させることが、より微細な凸構造を形 する上で好ましい。その為、微粒子分散液 翔空間の温度を高くしたり、或いは気圧を 1気圧以下、例えば20~100kPaに制御する方法も 好ましい。例えば微粒子分散液液滴中の含有 溶媒量を出射時の溶媒含有量に対して、1/100~ 99/100となるように減少させて着弾させること が出来る。

 また、着弾による衝撃によって凸部の形 が大きく変形したり、つぶれないようにゆ やかに着弾させることも好ましく、例えば 粒子分散液出射部と着弾部の距離を離した 、重力や電荷に逆らって出射して着弾の衝 を柔らげることも好ましい。或いは、フィ ムに向かって流れる気流中に微粒子分散液 滴を吐出し、この微粒子分散液液滴を有す 空間にフィルムを配置することで、フィル 上に微粒子分散液液滴を付着させることも ましい。

 微粒子分散液液滴が熱硬化性樹脂を用い いる場合には、バックロール504Bをヒートロ ールとして加熱する方法も好ましい。

 着弾した微粒子分散液液滴により形成さ た凸構造が維持出来る程度に硬化処理を行 た透明基材502は、乾燥ゾーン505Bで不要な有 機溶媒等を蒸発させ硬化を完了させる。

 本発明の微粒子分散液液滴を付着させて べり性を付与する方法は、フィルム基材を1 ~200m/min、好ましくは3~150m/minで移送しながら 成することが好ましい。

 微粒子分散液を着弾させる際の基材フィ ムは帯電に斑がないことが好ましく、直前 徐電することが好ましく、或いは均一に帯 させてもよい。

 また、微粒子分散液を着弾させて形成し 凸部をヘイズ、透過鮮明度などの物性を測 し、所定の値であることを確認し、ずれや 動が確認された場合、その結果をフィード ックして微粒子分散液の吐出条件や硬化条 を変更して制御することが好ましい。測定 、全ての凸部を形成し樹脂を硬化させた後 行うことが好ましく、凸部形成の途中で行 てもよい。例えば、比較的大きな凹凸を形 した後とその後のより微細な凸部を形成し 後の測定を行うことで、更に適切なフィー バック制御を行うことが出来る。

 本発明では、上記で説明したインクジェ ト記録装置、画像形成方法に限定されるこ はなく、この他、特開平9-118024号公報記載 微粒子分散液吐出量測定方法及びその装置 流用することも好ましく、広い範囲で均一 凸部を形成することが出来る。また、特開 10-151748号公報記載のインクジェットヘッド び反り調整方法を流用することも好ましい 特開2006-3511号、特開2006-36865号、特開2005-30602 2号、特開2001-260368号等公報に記載のインクジ ェット式記録ヘッドを用いる画像形成装置及 び画像形成方法を流用することも好ましい。 特開2003-136740号公報記載のインクジェットプ ンタ及びインクジェット記録方法を流用す ことも好ましい。特開2003-154671号公報記載 クリーニング機構を備えたインクジェット 録装置を流用することも好ましい。特開2003- 165232号、特開2003-182092号、特開2003-182093号、 開2003-182097号、特開2003-182098号、特開2003-18212 1号、特開2003-191478号、特開2003-191479号等公報 どに記載されているインクジェット記録装 を流用することも好ましい。

 更に、特開2003-191594号公報に記載の画像 成方法、インク、記録装置などを流用する とが好ましく、特に選択的に微粒子分散液 の吐出制御可能な複数のノズルを有する記 ヘッドで、活性光線照射により硬化する微 子分散液を吐出する画像形成方法において 記録材料の種類によって、微粒子分散液着 後の活性光線照射条件を変えることを特徴 する画像形成方法を本発明に流用すること 好ましい。或いは、特開2003-211651号公報記載 のインクジェット記録方法、インクジェット 記録装置を本発明に流用することも好ましい 。

 或いは、特開2003-213183号公報記載の放射 硬化性インクジェット用インク及びインク ェット記録方法を本発明に流用することも ましい。或いは特開2003-231267号公報記載のイ ンクジェット記録装置及びインクジェット記 録方法を本発明に流用することも好ましい。 或いは、特開2003-237061号公報記載の画像形成 法、インク、記録装置を本発明に流用する とも好ましい。或いは、特開2003-251796号公 記載の画像形成方法を本発明に流用するこ も好ましい。或いは、特開2003-261799号公報記 載の活性光線硬化型インク及びそれを用いた インクジェット記録方法を本発明に流用する ことも好ましい。或いは、特開2003-260790号公 記載の画像形成方法及び記録装置を本発明 流用することも好ましい。或いは、特開2003 -276175号公報記載の画像形成方法、記録装置 インクを本発明に流用することも好ましい 或いは、特開2003-276256号公報記載の画像形成 方法、インク及び画像形成装置を本発明に流 用することも好ましい。或いは、特開2003-2776 54号公報記載の画像形成方法、印刷物及び記 装置を本発明に流用することも好ましい。 いは、特開2003-292837号公報記載のインクジ ット用インク、画像形成方法を本発明に流 することも好ましい。或いは、特開2003-305839 号公報記載の画像形成方法、インク及び記録 装置を本発明に流用することも好ましい。或 いは、特開2003-312120号公報記載の画像形成方 、及び記録装置を本発明に流用することも ましい。或いは、特開2003-313464号公報記載 画像形成方法、及び記録装置を本発明に流 することも好ましい。或いは、特開2003-327875 号公報記載の画像形成方法、及び記録装置を 本発明に流用することも好ましい。或いは、 特開2004-9360号公報記載の活性光線硬化型イン クジェット記録方法を本発明に流用すること も好ましい。或いは、特開2004-25480号公報記 の画像形成方法及びそれに用いるインクジ ット記録装置を本発明に流用することも好 しい。或いは、特開2004-34543号公報記載のイ クジェットプリンタを本発明に流用するこ も好ましい。或いは、特開2004-34545号公報記 載のインクジェット記録方法、インク及びイ ンクジェットプリンタを本発明に流用するこ とも好ましい。或いは、特開2004-51656号公報 載の画像形成方法、印刷物及び記録装置を 発明に流用することも好ましい。或いは、 開2004-51922号公報記載の活性光線硬化型イン 、画像形成方法、記録装置を本発明に流用 ることも好ましい。或いは、特開2004-51923号 公報記載の活性光線硬化型インク、画像形成 方法、記録装置を本発明に流用することも好 ましい。或いは、特開2004-51924号公報記載の ンクジェット記録用インクの保存方法及び 像形成方法を本発明に流用することも好ま い。或いは、特開2004-37855号公報記載のイン ジェット装置、インク吐出条件を本発明に 用することも好ましい。

 (透明基材フィルム)
 本発明においては光学フィルムの透明基材 ィルムとして熱可塑性樹脂フィルムを用い ことが好ましい。

 本発明に用いられる熱可塑性樹脂として 、特に限定されないが、セルロースエステ 、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボ ート、ポリ乳酸系ポリマー、アクリル樹脂 ポリエステルなどが好ましい例として挙げ れるがこれらのみに限定されるものではな 。これらは溶液流延製膜で作製されたフィ ムでも溶融流延で作製されたフィルムであ ても好ましく用いられる。

 本発明に用いられる熱可塑性樹脂フィル は、少なくとも、セルロースエステル、シ ロオレフィンポリマー、ポリカーボネート 及びポリ乳酸から選ばれる高分子を含有す ことが好ましい。また、これらのフィルム 偏光板保護フィルム或いは位相差フィルム あることが好ましい。

 なお、本発明においては、連続生産適性 観点から、透明基材フィルムの幅は、1.4m~5m であり、巻き長さは2000m~10000mであり、膜厚は 5μm~55μmであることが好ましい。

 〈セルロースエステル〉
 本発明に用いられるセルロースエステルの 量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比Mw/Mn の値は、1.4~3.0であることが好ましい。尚、 発明においては、セルロースエステルフィ ムが、材料として、Mw/Mnの値が1.4~3.0である ルロースエステルを含有すればよいが、フ ルムに含まれるセルロースエステル(好まし はセルローストリアセテートまたはセルロ スアセテートプロピオネート)全体のMw/Mnの は1.4~3.0の範囲であることがより好ましい。 セルロースエステルの合成過程で1.4未満とす ることは困難であり、ゲル濾過などによって 分画することで分子量の揃ったセルロースエ ステルを得ることは出来る。しかしながらこ の方法はコストが著しくかかる。また、3.0以 下であると平面性が維持されやすく好ましい 。尚、より好ましくは1.7~2.2である。

 本発明に用いられるセルロースエステル 分子量は、数平均分子量(Mn)で80000~200000のも のを用いることが好ましい。100000~200000のも が更に好ましく、150000~200000が特に好ましい

 セルロースエステルの平均分子量及び分 量分布は、高速液体クロマトグラフィーを いて公知の方法で測定することが出来る。 れを用いて数平均分子量、重量平均分子量 算出し、その比(Mw/Mn)を計算することが出来 る。

 測定条件は以下の通りである。
溶媒:   メチレンクロライド
カラム:  Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製 3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器:  RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ:  L6000(日立製作所(株)製)
流量:   1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリ スチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000~500迄の13サン ルによる校正曲線を使用した。13サンプル 、ほぼ等間隔に得ることが好ましい。

 本発明に用いられるセルロースエステル 、炭素数2~22程度の脂肪族カルボン酸エステ ルまたは芳香族カルボン酸エステル或いは脂 肪族カルボン酸エステルと芳香族カルボン酸 エステルの混合エステルが好ましく用いられ 、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであ ることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸 エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数 が6以下の脂肪酸を意味する。具体的には、 ルロースアセテート、セルロースプロピオ ート、セルロースブチレート、セルロース セテートフタレート等や、特開平10-45804号公 報、同8-231761号公報、米国特許第2,319,052号等 記載されているようなセルロースアセテー プロピオネート、セルロースアセテートブ レート等の混合脂肪酸エステルを用いるこ が出来る。上記記載の中でも、特に好まし 用いられるセルロースの低級脂肪酸エステ は、セルローストリアセテート、セルロー アセテートプロピオネートである。これら セルロースエステルは混合して用いること 出来る。

 セルローストリアセテートの場合には、 アシル基置換度(アセチル基置換度)2.5から2. 9のものが好ましく用いられる。

 セルローストリアセテート以外で好まし セルロースエステルは、炭素原子数2~22のア シル基を置換基として有し、アセチル基の置 換度をXとし、炭素原子数3~22のアシル基の置 度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に たすセルロースエステルである。

 式(I) 2.5≦X+Y≦2.9
 式(II) 0≦X≦2.5
 中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦1.0のセルロース セテートプロピオネート(総アシル基置換度= X+Y)が好ましい。アシル基で置換されていな 部分は通常水酸基として存在している。こ らは公知の方法で合成することが出来る。

 これらアシル基置換度は、ASTM-D817-96に規 の方法に準じて測定することが出来る。

 セルロースエステルは綿花リンター、木 パルプ、ケナフ等を原料として合成された ルロースエステルを単独或いは混合して用 ることが出来る。特に綿花リンター(以下、 単にリンターとすることがある)、木材パル から合成されたセルロースエステルを単独 いは混合して用いることが好ましい。

 また、これらから得られたセルロースエ テルはそれぞれ任意の割合で混合使用する とが出来る。これらのセルロースエステル 、セルロース原料をアシル化剤が酸無水物( 無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)で る場合には、酢酸のような有機酸やメチレ クロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のよ なプロトン性触媒を用いて常法により反応 せて得ることが出来る。

 アセチルセルロースの場合、酢化率を上 ようとすれば、酢化反応の時間を延長する 要がある。但し、反応時間を余り長くとる 分解が同時に進行し、ポリマー鎖の切断や セチル基の分解などが起こり、好ましくな 結果をもたらす。従って、酢化度を上げ、 解をある程度抑えるためには反応時間はあ 範囲に設定することが必要である。反応時 で規定することは反応条件が様々であり、 応装置や設備その他の条件で大きく変わる で適切でない。ポリマーの分解は進むにつ 、分子量分布が広くなってゆくので、セル ースエステルの場合にも、分解の度合いは 常用いられる重量平均分子量(Mw)/数平均分 量(Mn)の値で規定出来る。即ちセルロースト アセテートの酢化の過程で、余り長過ぎて 解が進み過ぎることがなく、かつ酢化には 分な時間酢化反応を行わせしめるための反 度合いの一つの指標として用いられる重量 均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値を用いる とが出来る。

 セルロースエステルの製造法の一例を以 に示すと、セルロース原料として綿化リン ー100質量部を解砕し、40質量部の酢酸を添 し、36℃で20分間前処理活性化をした。その 、硫酸8質量部、無水酢酸260質量部、酢酸350 質量部を添加し、36℃で120分間エステル化を った。24%酢酸マグネシウム水溶液11質量部 中和した後、63℃で35分間ケン化熟成し、ア チルセルロースを得た。これを10倍の酢酸 溶液(酢酸:水=1:1(質量比))を用いて、室温で16 0分間攪拌した後、濾過、乾燥させてアセチ 置換度2.75の精製アセチルセルロースを得た このアセチルセルロースはMnが92000、Mwが1560 00、Mw/Mnは1.7であった。同様にセルロースエ テルのエステル化条件(温度、時間、攪拌)、 加水分解条件を調整することによって置換度 、Mw/Mn比の異なるセルロースエステルを合成 ることが出来る。

 尚、合成されたセルロースエステルは、 製して低分子量成分を除去したり、未酢化 たは低酢化度の成分を濾過で取り除くこと 好ましく行われる。

 また、混酸セルロースエステルの場合に 、特開平10-45804号公報に記載の方法で得る とが出来る。アシル基の置換度の測定方法 ASTM-D817-96の規定に準じて測定することが出 る。

 また、セルロースエステルは、セルロー エステル中の微量金属成分によっても影響 受ける。これらは製造工程で使われる水に 係していると考えられるが、不溶性の核と り得るような成分は少ない方が好ましく、 、カルシウム、マグネシウム等の金属イオ は、有機の酸性基を含んでいる可能性のあ ポリマー分解物等と塩形成する事により不 物を形成する場合があり、少ないことが好 しい。鉄(Fe)成分については、1ppm以下であ ことが好ましい。カルシウム(Ca)成分につい は、地下水や河川の水等に多く含まれ、こ が多いと硬水となり、飲料水としても不適 であるが、カルボン酸や、スルホン酸等の 性成分と、また多くの配位子と配位化合物 ち、錯体を形成し易く、多くの不溶なカル ウムに由来するスカム(不溶性の澱、濁り) 形成する。

 カルシウム(Ca)成分は60ppm以下、好ましく 0~30ppmである。マグネシウム(Mg)成分につい は、やはり多過ぎると不溶分を生ずるため 0~70ppmであることが好ましく、特に0~20ppmであ ることが好ましい。鉄(Fe)分の含量、カルシ ム(Ca)分含量、マグネシウム(Mg)分含量等の金 属成分は、絶乾したセルロースエステルをマ イクロダイジェスト湿式分解装置(硫硝酸分 )、アルカリ溶融で前処理を行った後、ICP-AES (誘導結合プラズマ発光分光分析装置)を用い 分析を行うことによって求めることが出来 。

 本発明で用いられるセルロースエステル ィルムの屈折率は550nmで1.45~1.60であるもの 好ましく用いられる。フィルムの屈折率の 定方法は、アッベ屈折率計を使用し、日本 業規格JIS K 7105に基づき測定する。また後 する反射防止層の各層の屈折率は各層ごと 塗布した薄膜の5°正反射の反射スペクトル ら算出する。セルロースエステルフィルム は可塑剤や紫外線吸収剤、酸化防止剤、マ ト剤等の添加剤を含有させることが出来る

 〈可塑剤〉
 可塑剤は特に限定されないが、多価アルコ ルエステル系可塑剤、リン酸エステル系可 剤、フタル酸エステル、クエン酸エステル 脂肪酸エステル、グリコレート系可塑剤、 価カルボン酸エステル等から選択される可 剤を少なくとも1種含むことが好ましい。そ のうち、少なくとも1種は多価アルコールエ テル系可塑剤であることが好ましい。

 多価アルコールエステル系可塑剤は2価以 上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸 のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に 芳香環またはシクロアルキル環を有すること が好ましい。好ましくは2~20価の脂肪族多価 ルコールエステルである。

 本発明に用いられる多価アルコールは次 一般式(1)で表される。

 一般式(1)  R 1 -(OH) n
 但し、R 1 はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基は ルコール性、及び/またはフェノール性水酸 基を表す。

 好ましい多価アルコールの例としては、 えば以下のようなものを挙げることが出来 が、本発明はこれらに限定されるものでは い。アドニトール、アラビトール、エチレ グリコール、ジエチレングリコール、トリ チレングリコール、テトラエチレングリコ ル、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジ ール、ジプロピレングリコール、トリプロ レングリコール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブ タンジオール、1,4-ブタンジオール、ジブチ ングリコール、1,2,4-ブタントリオール、1,5- ンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ヘ キサントリオール、ガラクチトール、マンニ トール、3-メチルペンタン-1,3,5-トリオール、 ピナコール、ソルビトール、トリメチロール プロパン、トリメチロールエタン、キシリト ール等を挙げることが出来る。特に、トリエ チレングリコール、テトラエチレングリコー ル、ジプロピレングリコール、トリプロピレ ングリコール、ソルビトール、トリメチロー ルプロパン、キシリトールが好ましい。

 本発明の多価アルコールエステルに用い れるモノカルボン酸としては、特に制限は く、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族 ノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を いることが出来る。脂環族モノカルボン酸 芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、 留性を向上させる点で好ましい。

 好ましいモノカルボン酸の例としては以 のようなものを挙げることが出来るが、本 明はこれに限定されるものではない。

 脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1 ~32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好まし く用いることが出来る。炭素数は1~20である とが更に好ましく、1~10であることが特に好 しい。酢酸を含有させるとセルロースエス ルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と のモノカルボン酸を混合して用いることも ましい。

 好ましい脂肪族モノカルボン酸としては 酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプ ン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴ 酸、カプリン酸、2-エチル-ヘキサン酸、ウ デシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミ スチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸 ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカ 酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン 、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン 、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸 ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸 リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等 不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。

 好ましい脂環族モノカルボン酸の例とし は、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘ サンカルボン酸、シクロオクタンカルボン 、またはそれらの誘導体を挙げることが出 る。

 好ましい芳香族モノカルボン酸の例とし は、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸の ンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビ ェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸 テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個 以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそ れらの誘導体を挙げることが出来る。特に安 息香酸が好ましい。

 多価アルコールエステルの分子量は特に 限はないが、300~1500であることが好ましく 350~750であることが更に好ましい。分子量が きい方が揮発し難くなるため好ましく、透 性、セルロースエステルとの相溶性の点で 小さい方が好ましい。

 多価アルコールエステルに用いられるカ ボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合 あってもよい。また、多価アルコール中のOH 基は、全てエステル化してもよいし、一部を OH基のままで残してもよい。

 以下に、多価アルコールエステルの具体 化合物を例示する。

 グリコレート系可塑剤は特に限定されない 、アルキルフタリルアルキルグリコレート が好ましく用いることが出来る。アルキル タリルアルキルグリコレート類としては、 えばメチルフタリルメチルグリコレート、 チルフタリルエチルグリコレート、プロピ フタリルプロピルグリコレート、ブチルフ リルブチルグリコレート、オクチルフタリ オクチルグリコレート、メチルフタリルエ ルグリコレート、エチルフタリルメチルグ コレート、エチルフタリルプロピルグリコ ート、メチルフタリルブチルグリコレート エチルフタリルブチルグリコレート、ブチ フタリルメチルグリコレート、ブチルフタ ルエチルグリコレート、プロピルフタリル チルグリコレート、ブチルフタリルプロピ グリコレート、メチルフタリルオクチルグ コレート、エチルフタリルオクチルグリコ ート、オクチルフタリルメチルグリコレー 、オクチルフタリルエチルグリコレート等
が挙げられる。

 フタル酸エステル系可塑剤としては、ジ チルフタレート、ジメトキシエチルフタレ ト、ジメチルフタレート、ジオクチルフタ ート、ジブチルフタレート、ジ-2-エチルヘ シルフタレート、ジオクチルフタレート、 シクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキ ルテレフタレート等が挙げられる。

 クエン酸エステル系可塑剤としては、ク ン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチ トリエチル、クエン酸アセチルトリブチル が挙げられる。

 脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイ 酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、 バシン酸ジブチル等が挙げられる。

 多価カルボン酸エステル系可塑剤も好ま く用いることが出来る。具体的には特開2002 -265639号公報の段落番号[0015]~[0020]記載の多価 ルボン酸エステルを可塑剤の一つとして添 することが好ましい。

 リン酸エステル系可塑剤としては、トリ ェニルホスフェート、トリクレジルホスフ ート、クレジルジフェニルホスフェート、 クチルジフェニルホスフェート、ジフェニ ビフェニルホスフェート、トリオクチルホ フェート、トリブチルホスフェート等が挙 られる。

 セルロースエステルフィルム中の可塑剤 総含有量は、固形分総量に対し、5~30質量% 有させることが好ましい。更に5~20質量%が好 ましく、6~16質量%がより好ましく、特に好ま くは8~13質量%である。また、2種の可塑剤の 有量は各々少なくとも1質量%以上であり、 ましくは各々2質量%以上含有することである 。

 〈紫外線吸収剤〉
 本発明に係るセルロースエステルフィルム 紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸 剤は400nm以下の紫外線を吸収することで、 久性を向上させることを目的としており、 に波長370nmでの透過率が10%以下となるように 添加されていることが好ましく、より好まし くは5%以下、更に好ましくは2%以下である。

 本発明に用いることができる紫外線吸収 は特に限定されないが、例えばオキシベン フェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系 合物、サリチル酸エステル系化合物、ベン フェノン系化合物、シアノアクリレート系 合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩 化合物、無機粉体等が挙げられる。

 本発明に用いられるセルロースエステル ィルムには、微粒子を含有させることが出 る。

 本発明の方法で凸部を形成することでフ ルム中に添加する微粒子の量を少なくする とが出来る。これによって透明性に優れか 取り扱い性にも優れたフィルムを提供する とが出来る。

 二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロ ルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、 OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品 で市販されており、使用することが出来る

 酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、 エロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株 )製)の商品名で市販されており、使用するこ が出来る。

 ポリマーの例として、シリコーン樹脂、 ッ素樹脂、架橋アクリル樹脂及び架橋ポリ チレン樹脂を挙げることが出来る。シリコ ン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造 有するものが好ましく、例えば、トスパー 103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同 240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市 されており、使用することが出来る。

 これらの中でもアエロジル200V、アエロジ ルR972Vがセルロースエステルフィルムの濁度 低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が きいため特に好ましく用いられる。本発明 用いられるセルロースエステルフィルムに いては活性線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦 数が1.0以下であることが好ましく、0.1~0.8で あることが更に好ましい。また、活性線硬化 樹脂層を設ける面の動摩擦係数が1.0以下であ ることが好ましい。

 〈染料〉
 本発明で用いられるセルロースエステルフ ルムには、色味調整のため染料を添加する とも出来る。例えば、フィルムの黄色味を えるために青色染料を添加してもよい。好 しい染料としてはアンスラキノン系染料が げられる。

 アンスラキノン系染料は、アンスラキノ の1位から8位迄の任意の位置に任意の置換 を有することが出来る。好ましい置換基と てはアニリノ基、ヒドロキシル基、アミノ 、ニトロ基、または水素原子が挙げられる 特に特開2001-154017号公報の段落番号[0034]~[0037 ]記載の青色染料、特にアントラキノン系染 を含有することが好ましい。また、赤外吸 染料を含有することが好ましく、特に特開20 01-154017号公報のチオピリリウムスクアリリウ ム染料、チオピリリウムクロコニウム染料、 ピリリウムスクアリリウム染料、ピリリウム クロコニウム染料の内のいずれかであること が好ましい。具体的には該公報の一般式(1)若 しくは一般式(2)で示されている赤外吸収染料 を好ましく添加することが出来る。

 各種添加剤は製膜前のセルロースエステ 含有溶液であるドープにバッチ添加しても いし、添加剤溶解液を別途用意してインラ ン添加してもよい。特に微粒子は濾過材へ 負荷を減らすために、一部または全量をイ ライン添加することが好ましい。

 添加剤溶解液をインライン添加する場合 、ドープとの混合性をよくするため、少量 セルロースエステルを溶解するのが好まし 。好ましいセルロースエステルの量は、溶 100質量部に対して1~10質量部で、より好まし くは、3~5質量部である。

 本発明においてインライン添加、混合を うためには、例えば、スタチックミキサー( 東レエンジニアリング製)、SWJ(東レ静止型管 混合器 Hi-Mixer)等のインラインミキサー等 好ましく用いられる。

 〈セルロースエステルフィルムの製造方法
 次に、本発明に用いられるセルロースエス ルフィルムの製造方法について説明する。

 本発明に用いられるセルロースエステル ィルムの製造は、セルロースエステル及び 加剤を溶媒に溶解させてドープを調製する 程、ドープをベルト状若しくはドラム状の 属支持体上に流延する工程、流延したドー をウェブとして乾燥する工程、金属支持体 ら剥離する工程、延伸または幅保持する工 、更に乾燥する工程、仕上がったフィルム 巻き取る工程により行われる。

 ドープを調製する工程について述べる。 ープ中のセルロースエステルの濃度は、濃 が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥 荷が低減出来て好ましいが、セルロースエ テルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増 て、濾過精度が悪くなる。これらを両立す 濃度としては、10~35質量%が好ましく、更に ましくは、15~25質量%である。

 本発明のドープで用いられる溶媒は、単 で用いても2種以上を併用してもよいが、セ ルロースエステルの良溶媒と貧溶媒を混合し て使用することが生産効率の点で好ましく、 良溶媒が多い方がセルロースエステルの溶解 性の点で好ましい。良溶媒と貧溶媒の混合比 率の好ましい範囲は、良溶媒が70~98質量%であ り、貧溶媒が2~30質量%である。良溶媒、貧溶 とは、使用するセルロースエステルを単独 溶解するものを良溶媒、単独で膨潤するか たは溶解しないものを貧溶媒と定義してい 。その為、セルロースエステルのアシル基 換度によっては、良溶媒、貧溶媒が変わり 例えばアセトンを溶媒として用いる時には セルロースエステルの酢酸エステル(アセチ ル基置換度2.4)、セルロースアセテートプロ オネートでは良溶媒になり、セルロースの 酸エステル(アセチル基置換度2.8)では貧溶媒 となる。

 本発明に用いられる良溶媒は特に限定さ ないが、メチレンクロライド等の有機ハロ ン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢 メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる 特に好ましくはメチレンクロライドまたは 酸メチルが挙げられる。

 また、本発明に用いられる貧溶媒は特に 定されないが、例えば、メタノール、エタ ール、n-ブタノール、シクロヘキサン、シ ロヘキサノン等が好ましく用いられる。ま 、ドープ中には水が0.01~2質量%含有している とが好ましい。

 上記記載のドープを調製する時の、セル ースエステルの溶解方法としては、一般的 方法を用いることが出来る。加熱と加圧を み合わせると常圧における沸点以上に加熱 来る。溶媒の常圧での沸点以上でかつ加圧 で溶媒が沸騰しない範囲の温度で加熱しな ら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれ 塊状未溶解物の発生を防止するため好まし 。また、セルロースエステルを貧溶媒と混 して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶媒 添加して溶解する方法も好ましく用いられ 。

 加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入す 方法や、加熱によって溶媒の蒸気圧を上昇 せる方法によって行ってもよい。加熱は外 から行うことが好ましく、例えばジャケッ タイプのものは温度コントロールが容易で ましい。

 溶媒を添加しての加熱温度は、高い方が ルロースエステルの溶解性の観点から好ま いが、加熱温度が高過ぎると必要とされる 力が大きくなり生産性が悪くなる。好まし 加熱温度は45~120℃であり、60~110℃がより好 しく、70℃~105℃が更に好ましい。また、圧 は設定温度で溶媒が沸騰しないように調整 れる。

 若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ これによって酢酸メチルなどの溶媒にセル ースエステルを溶解させることが出来る。

 次に、このセルロースエステル溶液を濾 等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過 としては、不溶物等を除去するために絶対 過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過 度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生 易いという問題がある。この為絶対濾過精 0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001~0.008mmの 材がより好ましく、0.003~0.006mmの濾材が更に ましい。

 濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾 を使用することが出来るが、ポリプロピレ 、テフロン(登録商標)等のプラスチック製 濾材や、ステンレススティール等の金属製 濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過 より、原料のセルロースエステルに含まれ いた不純物、特に輝点異物を除去、低減す ことが好ましい。

 輝点異物とは、2枚の偏光板をクロスニコル 状態にして配置し、その間にセルロースエス テルフィルムを置き、一方の偏光板の側から 光を当てて、他方の偏光板の側から観察した 時に反対側からの光が漏れて見える点(異物) ことであり、径が0.01mm以上である輝点数が2 00個/cm 2 以下であることが好ましい。より好ましくは 100個/cm 2 以下であり、更に好ましくは50個/m 2 以下であり、更に好ましくは0~10個/cm 2 以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない 方が好ましい。

 ドープの濾過は通常の方法で行うことが 来るが、溶媒の常圧での沸点以上で、かつ 圧下で溶媒が沸騰しない範囲の温度で加熱 ながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の (差圧という)の上昇が小さく、好ましい。 ましい温度は45~120℃であり、45~70℃がより好 ましく、45~55℃であることが更に好ましい。

 濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa 下であることが好ましく、1.2MPa以下である とがより好ましく、1.0MPa以下であることが に好ましい。

 ここで、ドープの流延について説明する

 流延(キャスト)工程における金属支持体 、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、 属支持体としては、ステンレススティール ルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げし ドラムが好ましく用いられる。キャストの は1~4mとすることが出来る。流延工程の金属 持体の表面温度は-50℃~溶媒が沸騰して発泡 しない温度以下に設定される。温度が高い方 がウェブの乾燥速度が速く出来るので好まし いが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、 平面性が劣化する場合がある。好ましい支持 体温度としては0~100℃で適宜決定され、5~30℃ が更に好ましい。或いは、冷却することによ ってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含 んだ状態でドラムから剥離することも好まし い方法である。金属支持体の温度を制御する 方法は特に制限されないが、温風または冷風 を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏 側に接触させる方法がある。温水を用いる方 が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支 持体の温度が一定になるまでの時間が短く好 ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱 によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の 沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎな がら目的の温度よりも高い温度の風を使う場 合がある。特に、流延から剥離するまでの間 で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、 効率的に乾燥を行うことが好ましい。

 セルロースエステルフィルムが良好な平 性を示すためには、金属支持体からウェブ 剥離する際の残留溶媒量は10~150質量%が好ま しく、更に好ましくは20~40質量%または60~130質 量%であり、特に好ましくは、20~30質量%また 70~120質量%である。

 本発明においては、残留溶媒量は下記式 定義される。

 残留溶媒量(質量%)={(M-N)/N}×100
 尚、Mはウェブまたはフィルムを製造中また は製造後の任意の時点で採取した試料の質量 で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である 。本発明で言う残留溶媒とは前記処理によっ て蒸発する溶媒のことを言い、以下に限定さ れないが、具体的な例としてはメチレンクロ ライド、メタノール、エタノール、ブタノー ル、イソプロピルアルコール、酢酸メチル、 酢酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン 、プロピレングリコールモノメチルエーテル (PGME)、などの一般に言われている有機溶媒の ことを指しているが、フィルムに性能を持た せるために添加した物質が蒸発などした場合 には、これに含めることとする。

 また、セルロースエステルフィルムの乾 工程においては、ウェブを金属支持体より 離し、更に乾燥し、残留溶媒量を1質量%以 にすることが好ましく、更に好ましくは0.1 量%以下であり、特に好ましくは0~0.01質量%以 下である。

 フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥 式(上下に配置した多数のロールをウェブを 交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式 ウェブを搬送させながら乾燥する方式が採 れる。

 本発明の光学フィルム用のセルロースエ テルフィルムを作製するためには、金属支 体より剥離した直後のウェブの残留溶媒量 多いところで搬送方向に延伸し(MD延伸)、更 にウェブの両端をクリップ等で把持するテン ター方式で幅方向に延伸を行うことが好まし い。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率 は1.05~1.3倍であり、1.05~1.15倍が更に好ましい 縦方向及び横方向延伸により面積が1.12倍~1. 44倍となっていることが好ましく、1.15倍~1.32 となっていることが好ましい。これは縦方 の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めるこ が出来る。

 剥離直後に縦方向に延伸するために、剥 張力及びその後の搬送張力によって延伸す ことが好ましい。例えば剥離張力を210N/m以 で剥離することが好ましく、特に好ましく 220~300N/mである。

 ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく 一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイ ロ波等で行うことが出来るが、簡便さの点 熱風で行うことが好ましい。

 ウェブの乾燥工程における乾燥温度は30~1 80℃で段階的に高くしていくことが好ましく 50~140℃の範囲で行うことが寸法安定性を良 するため更に好ましい。

 セルロースエステルフィルムの膜厚の変 は幅方向、長手方向とも±3%以内が好ましく 、更に好ましくは±2%以内であり、特に好ま くは±0.5%以内である。

 本発明の光学フィルムは、幅1~4mのものが 好ましく用いられる。本発明によれば、特に 幅1.4~4mの広幅フィルムの取り扱い性を著しく 改善することが出来る。

 〈物性〉
 本発明に用いられるセルロースエステルフ ルムの透湿度は、40℃、90%RHで850g/m 2 ・24h以下であり、好ましくは20~800g/m 2 ・24hであり、20~750g/m 2 ・24hであることが特に好ましい。透湿度はJIS  Z0208に記載の方法に従い測定することが出 る。

 本発明に用いられるセルロースエステル ィルムは下記測定による破断伸度は10~80%で ることが好ましく20~50%であることが更に好 しい。

 (破断点伸度の測定)
 任意の残留溶媒を含むフィルムを試料幅を1 0mm、長さ130mmに切り出し、23℃、55%RHで24時間 管した試料を、チャック間距離100mmにして っ張り速度100mm/分で引っ張り試験を行い求 ることが出来る。

 本発明に用いられるセルロースエステル ィルムの下記測定による可視光透過率は90% 上であることが好ましく、93%以上であるこ が更に好ましい。

 (透過率の測定)
 透過率Tは、分光高度計U-3400(日立製作所(株) )を用い、各試料を350~700nmの波長領域で10nmお に求めた分光透過率τ(λ)から、380、400、500n mの透過率を算出することが出来る。

 本発明に用いられるセルロースエステル ィルムの下記測定によるヘイズは1%未満で ることが好ましく、0.5%未満であることが更 好ましく、0~0.1%であることが特に好ましい 可視光の透過率は90%以上が好ましく、より ましく92%以上であり、更に94%以上であるこ が好ましい。

 (ヘイズ値)
 JIS K7105に従って、ヘイズメーター(1001DP型 日本電色工業(株)製)を用いて測定し、透明 の指標とすることが出来る。

 レターデーション値(Ro)(Rt)は以下の式に って求めることが出来る。

 Ro=(nx-ny)×d
 Rt=((nx+ny)/2-nz)×d
 ここにおいて、dはフィルムの厚み(nm)、屈 率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相 方向の屈折率ともいう)、ny(フィルム面内で 相軸に直角な方向の屈折率)、nz(厚み方向に おけるフィルムの屈折率)である。

 尚、レターデーション値(Ro)、(Rt)、遅相 角度は自動複屈折率計を用いて測定するこ が出来る。例えば、KOBRA-21ADH(王子計測機器( ))を用いて、23℃、55%RHの環境下で、波長が5 90nmで求めることが出来る。

 また、遅相軸はフィルムの幅手方向±1° しくは長尺方向±1°にあることが好ましい。

 本発明では、共流延または逐次流延若し は塗布によって2層以上の多層構成とした熱 可塑性樹脂フィルムを用いてもよい。

 また、特開2000-352620号公報段落番号[0036]~[ 0105]記載のセルロースエステルフィルムも好 しく用いることが出来る。或いは特開2004-29 199号公報段落番号[0013]~[0124]記載のセルロー エステルフィルムも好ましく用いられる。

 本発明においては、市販のセルロースエ テルフィルムを使用することも出来る。例 ば、コニカミノルタタックKC8UX、KC8UY、LC4UX KC4UY、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UX-H(コニカミノルタ( 株)製)等のセルロースエステルフィルムが用 られる。

 〈シクロオレフィンポリマー〉
 本発明に用いられるシクロオレフィンポリ ーは脂環式構造を含有する重合体樹脂から るものである。

 好ましいシクロオレフィンポリマーは、 状オレフィンを重合または共重合した樹脂 ある。環状オレフィンとしては、ノルボル ン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロ デセン、エチルテトラシクロドデセン、エ リデンテトラシクロドデセン、テトラシク 〔7.4.0.110,13.02,7〕トリデカ-2,4,6,11-テトラエ などの多環構造の不飽和炭化水素及びその 導体;シクロブテン、シクロペンテン、シク ロヘキセン、3,4-ジメチルシクロペンテン、3- メチルシクロヘキセン、2-(2-メチルブチル)-1- シクロヘキセン、シクロオクテン、3a,5,6,7a- トラヒドロ-4,7-メタノ-1H-インデン、シクロ プテン、シクロペンタジエン、シクロヘキ ジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及 その誘導体等が挙げられる。これら環状オ フィンには置換基として極性基を有してい もよい。極性基としては、ヒドロキシル基 カルボキシル基、アルコキシル基、エポキ 基、グリシジル基、オキシカルボニル基、 ルボニル基、アミノ基、エステル基、カル ン酸無水物基などが挙げられ、特に、エス ル基、カルボキシル基またはカルボン酸無 物基が好適である。

 好ましいシクロオレフィンポリマーは、 状オレフィン以外の単量体を付加共重合し ものであってもよい。付加共重合可能な単 体としては、エチレン、プロピレン、1-ブ ン、1-ペンテンなどのエチレンまたはα-オレ フィン;1,4-ヘキサジエン、4-メチル-1,4-ヘキサ ジエン、5-メチル-1,4-ヘキサジエン、1,7-オク ジエンなどのジエン等が挙げられる。

 環状オレフィンは、付加重合反応或いはメ セシス開環重合反応によって得られる。重 は触媒の存在下で行われる。付加重合用触 として、例えば、バナジウム化合物と有機 ルミニウム化合物とからなる重合触媒など 挙げられる。開環重合用触媒として、ルテ ウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム イリジウム、白金などの金属のハロゲン化 、硝酸塩またはアセチルアセトン化合物と 還元剤とからなる重合触媒;或いは、チタン 、バナジウム、ジルコニウム、タングステン 、モリブデンなどの金属のハロゲン化物また はアセチルアセトン化合物と、有機アルミニ ウム化合物とからなる重合触媒などが挙げら れる。重合温度、圧力等は特に限定されない が、通常-50℃~100℃の重合温度、0~490N/cm 2 の重合圧力で重合させる。

 本発明に用いるシクロオレフィンポリマ は、環状オレフィンを重合または共重合さ た後、水素添加反応させて、分子中の不飽 結合を飽和結合に変えたものであることが ましい。水素添加反応は、公知の水素化触 の存在下で、水素を吹き込んで行う。水素 触媒としては、酢酸コバルト/トリエチルア ルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート /トリイソブチルアルミニウム、チタノセン クロリド/n-ブチルリチウム、ジルコノセン クロリド/sec-ブチルリチウム、テトラブトキ シチタネート/ジメチルマグネシウムの如き 移金属化合物/アルキル金属化合物の組み合 せからなる均一系触媒;ニッケル、パラジウ ム、白金などの不均一系金属触媒;ニッケル/ リカ、ニッケル/けい藻土、ニッケル/アル ナ、パラジウム/カーボン、パラジウム/シリ カ、パラジウム/けい藻土、パラジウム/アル ナの如き金属触媒を担体に担持してなる不 一系固体担持触媒などが挙げられる。

 或いは、シクロオレフィンポリマーとし 、下記のノルボルネン系ポリマーも挙げら る。ノルボルネン系ポリマーは、ノルボル ン骨格を繰り返し単位として有しているこ が好ましく、その具体例としては、特開昭6 2-252406号公報、特開昭62-252407号公報、特開平2 -133413号公報、特開昭63-145324号公報、特開昭63 -264626号公報、特開平1-240517号公報、特公昭57- 8815号公報、特開平5-39403号公報、特開平5-43663 号公報、特開平5-43834号公報、特開平5-70655号 報、特開平5-279554号公報、特開平6-206985号公 報、特開平7-62028号公報、特開平8-176411号公報 、特開平9-241484号公報等に記載されたものが ましく利用出来るが、これらに限定される のではない。また、これらは、1種単独で使 用してもよいし、2種以上を併用してもよい

 本発明においては、前記ノルボルネン系 リマーの中でも、下記構造式(I)~(IV)のいず かで表される繰り返し単位を有するものが ましい。

 前記構造式(I)~(IV)中、A、B、C及びDは、各 独立して、水素原子または1価の有機基を表 す。

 また、前記ノルボルネン系ポリマーの中 も、下記構造式(V)または(VI)で表される化合 物の少なくとも1種と、これと共重合可能な 飽和環状化合物とをメタセシス重合して得 れる重合体を水素添加して得られる水添重 体も好ましい。

 前記構造式中、A、B、C及びDは、各々独立 して、水素原子または1価の有機基を表す。

 ここで、上記A、B、C及びDは特に限定され ないが、好ましくは水素原子、ハロゲン原子 、一価の有機基、または、少なくとも2価の 結基を介して有機基が連結されてもよく、 れらは同じであっても異なっていてもよい また、AまたはBとCまたはDは単環または多環 造を形成してもよい。ここで、上記少なく も2価の連結基とは、酸素原子、イオウ原子 、窒素原子に代表されるヘテロ原子を含み、 例えばエーテル、エステル、カルボニル、ウ レタン、アミド、チオエーテル等が挙げられ るが、これらに限定されるものではない。ま た、上記連結基を介し、上記有機基は更に置 換されてもよい。

 また、ノルボルネン系モノマーと共重合 能なその他のモノマーとしては、例えば、 チレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン 、1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデ ン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オ タデセン、1-エイコセンなどの炭素数2~20の -オレフィン、及びこれらの誘導体;シクロブ テン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シ クロオクテン、3a,5,6,7a-テトラヒドロ-4,7-メタ ノ-1H-インデンなどのシクロオレフィン、及 これらの誘導体;1,4-ヘキサジエン、4-メチル- 1,4-ヘキサジエン、5-メチル-1,4-ヘキサジエン 1,7-オクタジエンなどの非共役ジエン;など 用いられる。これらの中でも、α-オレフィ 、特にエチレンが好ましい。

 これらの、ノルボルネン系モノマーと共 合可能なその他のモノマーは、それぞれ単 で、或いは2種以上を組み合わせて使用する ことが出来る。ノルボルネン系モノマーとこ れと共重合可能なその他のモノマーとを付加 共重合する場合は、付加共重合体中のノルボ ルネン系モノマー由来の構造単位と共重合可 能なその他のモノマー由来の構造単位との割 合が、質量比で通常30:70~99:1、好ましくは50:50 ~97:3、より好ましくは70:30~95:5の範囲となるよ うに適宜選択される。

 合成したポリマーの分子鎖中に残留する 飽和結合を水素添加反応により飽和させる 合には、耐光劣化や耐候劣化性などの観点 ら、水素添加率を90%以上、好ましくは95%以 、特に好ましくは99%以上とする。

 この他、本発明で用いられるシクロオレ ィンポリマーとしては、特開平5-2108号公報 落番号[0014]~[0019]記載の熱可塑性飽和ノルボ ルネン系樹脂、特開2001-277430号公報段落番号[ 0015]~[0031]記載の熱可塑性ノルボルネン系ポリ マー、特開2003-14901号公報段落番号[0008]~[0045] 載の熱可塑性ノルボルネン系樹脂、特開2003 -139950号公報段落番号[0014]~[0028]記載のノルボ ネン系樹脂組成物、特開2003-161832号公報段 番号[0029]~[0037]記載のノルボルネン系樹脂、 開2003-195268号公報段落番号[0027]~[0036]記載の ルボルネン系樹脂、特開2003-211589号公報段 番号[0009]~[0023]脂環式構造含有重合体樹脂、 開2003-211588号公報段落番号[0008]~[0024]記載の ルボルネン系重合体樹脂若しくはビニル脂 式炭化水素重合体樹脂などが挙げられる。

 具体的には、日本ゼオン(株)製ゼオネッ ス、ゼオノア、JSR(株)製アートン、三井化学 (株)製アペル(APL8008T、APL6509T、APL6013T、APL5014DP 、APL6015T)などが好ましく用いられる。

 本発明で使用されるシクロオレフィンポ マーの分子量は、使用目的に応じて適宜選 されるが、シクロヘキサン溶液(重合体樹脂 が溶解しない場合はトルエン溶液)のゲル・ ーミエーション・クロマトグラフ法で測定 たポリイソプレンまたはポリスチレン換算 重量平均分子量で、通常、5000~500000、好まし くは8000~200000、より好ましくは10000~100000の範 である時に、成形体の機械的強度、及び成 加工性とが高度にバランスされて好適であ 。

 また、シクロオレフィンポリマー100質量 に対して、低揮発性の酸化防止剤を0.01~5質 部の割合で配合すると、成形加工時のポリ ーの分解や着色を効果的に防止することが 来る。

 酸化防止剤としては、20℃における蒸気圧 10 -5 Pa以下、特に好ましくは10 -8 Pa以下の酸化防止剤が望ましい。蒸気圧が10 -5 Paより高い酸化防止剤は、押出成形する場合 発泡したり、また、高温にさらされた時に 形品の表面から酸化防止剤が揮散するとい 問題が起こる。

 本発明で使用出来る酸化防止剤としては 例えば、次のようなものを挙げることが出 、これらの内の一種または数種を組み合わ て用いてもよい。

 ヒンタードフェノール系:2,6-ジ-t-ブチル-4 -メチルフェノール、2,6-ジ-t-ブチルフェノー 、4-ヒドロキシメチル-2,6-ジ-t-ブチルフェノ ール、2,6-ジ-t-ブチル-α-メトキシ-p-ジメチル- フェノール、2,4-ジ-t-アミルフェノール、t-ブ チル-m-クレゾール、4-t-ブチルフェノール、 チレン化フェノール、3-t-ブチル-4-ヒドロキ アニソール、2,4-ジメチル-6-t-ブチルフェノ ル、オクタデシル-3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒド キシフェニル)プロピオネート、3,5-ジ-t-ブチ ル-4-ヒドロキシベンジルフォスフォネート- エチルエステル、4,4″-ビスフェノール、4,4 -ビス-(2,6-ジ-t-ブチルフェノール)、2,2″-メ レン-ビス-(4-メチル-6-t-ブチルフェノール) 2,2″-メチレン-ビス-(4-メチル-6-α-メチルシ ロヘキシルフェノール)、4,4″-メチレン-ビ -(2-メチル-6-t-ブチルフェノール)、4,4″-メチ レン-ビス-(2,6-ジ-t-ブチルフェノール)、1,1″- メチレン-ビス-(2,6-ジ-t-ブチルナフトール)、4 ,4″-ブチリデン-ビス-(2,6-ジ-t-ブチル-メタ-ク レゾール)、2,2″-チオ-ビス-(4-メチル-6-t-ブチ ルフェノール)、ジ-o-クレゾールスルフィド 2,2″-チオ-ビス-(2-メチル-6-t-ブチルフェノー ル)、4,4″-チオ-ビス(3-メチル-6-t-ブチルフェ ール)、4,4″-チオ-ビス-(2,3-ジ-sec-アミルフ ノール)、1,1″-チオ-ビス-(2-ナフトール)、3,5 -ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルエーテル 1,6-ヘキサンジオール-ビス-〔3-(3,5-ジ-t-ブチ -4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、 2,4-ビス-(n-オクチルチオ)-6-(4-ヒドロキシ-3,5- -t-ブチルアニリノ)-1,3,5-トリアジン、2,2-チ -ジエチレンビス〔3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒド キシフェニル)プロピオネート〕、2,2-チオビ ス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、N,N″-ヘ サメチレンビス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ -ヒドロシンナマミド)、ビス(3,5-ジ-t-ブチル-4 -ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル)カル ウム、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス-(3,5-ジ-t- ブチル-4-ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ト エチレングリコール-ビス〔3-(3-t-ブチル-5-メ チル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート 、1,3,5-トリメチル-2,4,6,-トリス(3,5-ジ-t-ブチ -4-ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス-(3 ,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-イソシ ヌレート、ペンタエリスリチル-テトラキス 〔3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシジェニル)プ ピオネート〕等。

 アミノフェノール類:ノルマルブチル-p-ア ミノフェノール、ノルマルブチロイル-p-アミ ノフェノール、ノルマルペラゴノイル-p-アミ ノフェノール、ノルマルラウロイル-p-アミノ フェノール、ノルマルステアロイル-p-アミノ フェノール、2、6-ジ-t-ブチル-α-ジメチル、 ミノ-p-クレゾール等。

 ハイドロキノン系:ハイドロキノン、2,5- -t-ブチルハイドロキノン、2,5-ジ-t-アミルハ ドロキノン、ハイドロキノンメチルエーテ 、ハイドロキノンモノベンジルエーテル等

 ホスファイト系トリホスファイト、トリ (3,4-ジ-t-ブチルフェニル)ホスファイト、ト ス(ノニルフェニル)ホスファイト、テトラ ス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)-4,4″-ビフェニレ ンフォスファナイト、2-エチルヘキシルオク ルホスファイト等。

 その他:2-メルカプトベンゾチアゾール亜 塩、ジカテコールボレート-ジ-o-トリルグア ニジン塩、ニッケル-ジメチルジチオカーバ イト、ニッケル-ペンタメチレンンジチオカ バネート、メルカプトベンズイミダゾール 2-メルカプトベンズイミダゾール亜鉛塩等

 シクロオレフィンポリマーフィルムは、 要に応じて、プラスチックフィルムに一般 に配合することが出来る添加剤を含有して てもよい。そのような添加剤としては、熱 定剤、耐光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防 剤、滑剤、可塑剤、及び充填剤などが挙げ れ、その含有量は本発明の目的を損ねない 囲で選択することが出来る。

 シクロオレフィンポリマーフィルムは、 の表面の濡れ張力が、好ましくは40mN/m以上 より好ましくは50mN/m以上、更に好ましくは5 5mN/m以上である。表面の濡れ張力が上記範囲 あると、フィルムと偏光子との接着強度が 上する。表面の濡れ張力を調整するために 例えば、コロナ放電処理、オゾンの吹き付 、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理、 の他公知の表面処理を施すことが出来る。

 延伸前のシートは厚さが50~500μm程度の厚 が必要であり、厚さムラは小さいほど好ま く、全面において±8%以内、好ましくは±6% 内、より好ましくは±4%以内である。

 上記シクロオレフィンポリマーフィルム セルロースエステルフィルムと同様に、シ トを一軸方向に延伸することが出来、更に の方向と直交する方向に延伸する二軸延伸 あってもよい。延伸するには前記テンター 置等を用いることが好ましい。

 延伸倍率は1.1~10倍、好ましくは1.3~8倍で る。

 延伸は、通常、シートを構成する樹脂のT g~Tg+50℃、好ましくはTg~Tg+40℃の温度範囲で行 われる。延伸温度が低過ぎると破断し、高過 ぎると分子配向しない。

 この様にして得たフィルムは、延伸によ 分子が配向されて、所望の大きさのリター ーションを持たせることが出来る。本発明 おいて好ましいリターデーション値は、Rt -400~400nm、Roが1~300nmである。

 (ポリカーボネート系ポリマー)
 ポリカーボネート系ポリマーを作製するの 用いられるポリカーボネート系樹脂として 種々があり、化学的性質及び物性の点から 香族ポリカーボネートが好ましく、特にビ フェノールA系ポリカーボネートが好ましい 。その中でも更に好ましくはビスフェノール Aにベンゼン環、シクロヘキサン環、叉は脂 族炭化水素基などを導入したビスフェノー A誘導体を用いたものが挙げられるが、特に 央炭素に対して非対称にこれらの基が導入 れた誘導体を用いて得られた、単位分子内 異方性を減少させた構造のポリカーボネー が好ましい。例えばビスフェノールAの中央 炭素の2個のメチル基をベンゼン環に置き換 たもの、ビスフェノールAのそれぞれのベン ン環の一の水素をメチル基やフェニル基な で中央炭素に対し非対称に置換したものを いて得られるポリカーボネートが好ましい

 具体的には、4,4″-ジヒドロキシジフェニ ルアルカンまたはこれらのハロゲン置換体か らホスゲン法またはエステル交換法によって 得られるものであり、例えば4,4″-ジヒドロ シジフェニルメタン、4,4″-ジヒドロキシジ ェニルエタン、4,4″-ジヒドロキシジフェニ ルブタン等をあげることができる。

 本発明に使用されるポリカーボネート樹脂 りなる位相差フィルムはポリスチレン系樹 あるいはメチルメタクリレート系樹脂ある はセルロースアセテート系樹脂等の透明樹 と混合して使用しても良いし、またセルロ スアセテート系フィルムの少なくとも一方 面にポリカーボネート樹脂を積層してもよ 。本発明において使用できるポリカーボネ ト系フィルムの作製方法は特に限定される のではない。すなわち押出法によるフィル 、溶媒キャスト法によるフィルム、カレン ー法によるフィルムなどのいずれを使用し もよい。本発明においては1軸延伸あるいは 2軸延伸のどちらかを使用し、セルロースエ テルフィルムの好ましい製造法と同様な製 法により、本発明の弾性率ε s と弾性率ε f の式(1)の関係を満たし、かつ面内及び厚み方 向の位相差値の範囲を満たすポリカーボネー ト系フィルムが得られる。

 本発明において使用されるポリカーボネ ト系フィルムはガラス転移点(Tg)が110℃以上 であって、吸水率(23℃水中、24時間の条件で 定した値)が0.3%以下のものを使用するのが い。より好ましくはTgが120℃以上であって、 吸水率が0.2%以下のものを使用するのがよい

 (ポリ乳酸系ポリマー)
 本発明では、ポリ乳酸系ポリマーを用いた 明基材フィルムを用いることも出来る。ポ 乳酸系ポリマーとしては、ポリ乳酸、また 乳酸と他のヒドロキシカルボン酸との共重 体があげられる。ポリ乳酸系重合体は1種を 単独で、または2種以上の混合物として用い れる。

 乳酸としては、L-乳酸、D-乳酸があげられ る。乳酸としては、L-乳酸が好ましい。他の ドロキシカルボン酸としては、グリコール 、3-ヒドロキシ酪酸、4-ヒドロキシ酪酸、3- ドロキシ吉草酸、4-ヒドロキシ吉草酸、6-ヒ ドロキシカプロン酸等があげられる。なお、 本発明において基材フィルムを構成するポリ 乳酸系重合体は、重合成分が乳酸のみからな るポリ乳酸が最も好ましい。

 ポリ乳酸系重合体の重合方法は、特に制 されず、たとえば、縮合重合法、開環重合 等の公知のいずれの方法を採用することが きる。ポリ乳酸系重合体の重量平均分子量 、10000~1000000程度であるのが好ましい。また 、ポリ乳酸系重合体としては、さらには分子 量増大のために、少量の鎖延長剤、例えばポ リイソシアネート化合物、ポリエポキシ化合 物、酸無水物等の架橋剤を使用したものを用 いてもよい。

 ポリ乳酸系フィルムは、前記ポリ乳酸系 合体を主成分とするが、本発明の効果を阻 しない範囲で、他の高分子材料が配合され いてもよい。他の高分子材料としては、ポ 乳酸 以外のポリエステル、ポリオレフィ 、ポリスチレン、ポリ(メタ)アクリロニトリ ル、セルロース系材料、ポリビニルアルコー ル、ポリアミド、ポリ酢酸ビニル、ポリフェ ニレンオキシド等があげられる。ただし、脂 肪族ポリエステルは、ポリ乳酸系重合体に配 合しない方が好ましい。脂肪族ポリエステル を配合すると、加温・加湿条件で保存された 場合にポリ乳酸系フィルムに白濁が生じ易く なり本用途では好ましくない。

 また、ポリ乳酸系フィルムには、成型加 性、フィルム物性を調整する目的で、可塑 、滑剤、無機フィラー、紫外線吸収剤、帯 防止剤等の添加剤を添加することもできる

 ポリ乳酸系フィルムの製法は特に制限さ ない。たとえば、前記ポリ乳酸系重合体ま はそれを主成分とする組成物を、溶融押出 法によりフィルム状に成形することができ 。さらにポリ乳酸系フィルムは、ロール法 テンター法等により、一軸または二軸に延 してもよい。延伸フィルムは強度に優れて り好ましい。特に二軸延伸フィルムが好ま い。延伸倍率は特に制限されないが、5倍以 内、さらには1.5~5倍とするのが好ましい。

 基材フィルムであるポリ乳酸系フィルム 厚さは、作業性(保護フィルムの取扱い性) 点から、一般に10μm以上、好ましくは15μm以 、より好ましくは20~200μmである。

 〈ハードコート層〉
 本発明は前記熱可塑性樹脂フィルムの微細 構造を設けた面若しくは反対の面上にハー コート層を塗設することが好ましい。ハー コート層は、活性線硬化樹脂及び微粒子を 有するハードコート層であることが好まし 。

 微粒子としては無機粒子及び有機粒子が げられる。本発明に使用することが出来る 機微粒子としては酸化珪素、酸化チタン、 化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウ 、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化 ンチモン、酸化マグネシウム、炭酸カルシ ム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼 カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケ 酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ マグネシウム及びリン酸カルシウム或いは れらの複合酸化物等を挙げることが出来る

 これらの内で、酸化珪素、酸化チタン、 化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化ジルコ ウム、酸化アンチモン或いはこれらの複合 化物等が好ましく用いられる。

 有機微粒子としては、ポリ(メタ)アクリ ート系樹脂、シリコン系樹脂、ポリスチレ 系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリ スチレン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂 メラミン系樹脂、更にポリオレフィン系樹 、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂 ポリイミド系樹脂、ポリ弗化エチレン系樹 等が使用出来る。特に好ましくは導電性微 子を含有することである。

 粒径は5nm~10μmの微粒子が用いられるが、5 nm~5μmの粒子が好ましい。特にハードコート の平均膜厚よりも直径の大きな粒子は防眩 ハードコート層を形成するのに有用である 防眩性を持たせない場合は、好ましくは5nm~1 μmの粒子を含有することである。異なる組成 、粒径、屈折率の微粒子を組み合わせて用い ることも出来る。例えば、酸化珪素と酸化ジ ルコニウム或いは酸化珪素とITO微粒子を組み 合わせて用いることが出来る。

 活性線硬化樹脂とは紫外線や電子線のよ な活性線照射により架橋反応等を経て硬化 る樹脂をいう。例えば、エチレン性不飽和 重結合を有するモノマーを含む成分が好ま く用いられ、紫外線や電子線のような活性 を照射することによって硬化させてハード ート層が形成される。活性線硬化樹脂とし は紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等 代表的なものとして挙げられるが、紫外線 射によって硬化する樹脂が好ましい。

 紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫 線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫 線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂 紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂 紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹 、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好 しく用いられる。

 紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は 一般にポリエステルポリオールにイソシア ートモノマー、またはプレポリマーを反応 せて得られた生成物に更に2-ヒドロキシエ ルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタク リレート(以下アクリレートにはメタクリレ トを包含するものとしてアクリレートのみ 表示する)、2-ヒドロキシプロピルアクリレ ト等の水酸基を有するアクリレート系のモ マーを反応させることによって容易に得る とが出来る。例えば、特開昭59-151110号公報 記載のものを用いることが出来る。

 例えば、ユニディック17-806(大日本インキ (株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン( 株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる 。

 紫外線硬化型ポリエステルアクリレート 樹脂としては、一般にポリエステルポリオ ルに2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒ ドロキシアクリレート系のモノマーを反応さ せると容易に形成されるものを挙げることが 出来、特開昭59-151112号公報に記載のものを用 いることが出来る。

 紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹 の具体例としては、エポキシアクリレート オリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光 応開始剤を添加し、反応させて生成するも を挙げることが出来、特開平1-105738号公報 記載のものを用いることが出来る。

 紫外線硬化型ポリオールアクリレート系 脂の具体例としては、トリメチロールプロ ントリアクリレート、ジトリメチロールプ パンテトラアクリレート、ペンタエリスリ ールトリアクリレート、ペンタエリスリト ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリ ールヘキサアクリレート、アルキル変性ジ ンタエリスリトールペンタアクリレート等 挙げることが出来る。

 これら紫外線硬化性樹脂の光反応開始剤 しては、具体的には、ベンゾイン及びその 導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、 ドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケト 、α-アミロキシムエステル、チオキサント 等及びこれらの誘導体を挙げることが出来 。光増感剤と共に使用してもよい。上記光 応開始剤も光増感剤として使用出来る。ま 、エポキシアクリレート系の光反応開始剤 使用の際、n-ブチルアミン、トリエチルア ン、トリ-n-ブチルホスフィン等の増感剤を いることが出来る。例えば、イルガキュア18 4、イルガキュア907(チバスペシャルティケミ ルズ社製)などの市販品が好ましく用いられ る。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光反 応開始剤また光増感剤は該組成物100質量部に 対して0.1~15質量部であり、好ましくは1~10質 部である。

 樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和 重結合が一つのモノマーとして、メチルア リレート、エチルアクリレート、ブチルア リレート、ベンジルアクリレート、シクロ キシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレ 等の一般的なモノマーを挙げることが出来 。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノ ーとして、エチレングリコールジアクリレ ト、プロピレングリコールジアクリレート ジビニルベンゼン、1,4-シクロヘキサンジア クリレート、1,4-シクロヘキシルジメチルジ クリレート、前出のトリメチロールプロパ トリアクリレート、ペンタエリスリトール トラアクリルエステル等を挙げることが出 る。

 本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂 市販品としては、アデカオプトマーKR・BYシ リーズ:KR-400、KR-410、KR-550、KR-566、KR-567、BY-32 0B(旭電化(株)製);コーエイハードA-101-KK、A-101- WS、C-302、C-401-N、C-501、M-101、M-102、T-102、D-102 、NS-101、FT-102Q8、MAG-1-P20、AG-106、M-101-C(広栄 学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHC X-9(K-3) PHC2213、DP-10、DP-20、DP-30、P1000、P1100、P1200、P 1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業(株 )製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201 UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC- 5015、RC-5016、RC-5020、RC-5031、RC-5100、RC-5102、RC- 5120、RC-5122、RC-51
52、RC-5171、RC-5180、RC-5181(大日本インキ化学工 業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料( 株)製);サンラッドH-601、RC-750、RC-700、RC-600、R C-500、RC-611、RC-612(三洋化成工業(株)製);SP-1509 SP-1507(昭和高分子(株)製);RCC-15C(グレース・ ャパン(株)製)、アロニックスM-6100、M-8030、M- 8060(東亞合成(株)製)、DPHA(日本化薬(株)製)等 適宜選択して利用出来る。

 また、具体的化合物例としては、トリメ ロールプロパントリアクリレート、ジトリ チロールプロパンテトラアクリレート、ペ タエリスリトールトリアクリレート、ペン エリスリトールテトラアクリレート、ジペ タエリスリトールヘキサアクリレート、ア キル変性ジペンタエリスリトールペンタア リレート等を挙げることが出来る。

 この他、屈折率調整のため、酸化ジルコ ウム超微粒子分散物含有させたハードコー 塗布液 デソライトZ-7041、デソライトZ-7042(J SR(株)製)なども単独で若しくは他の紫外線硬 樹脂などに添加混合して使用することが出 る。

 本発明に用いられる活性線硬化性樹脂の 化は、電子線または紫外線のような活性線 射によって硬化することが出来る。例えば 電子線硬化の場合にはコックロフトワルト 型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コ 変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高 波型等の各種電子線加速器から放出される5 0~1000KeV、好ましくは100~300KeVのエネルギーを する電子線等が使用され、紫外線硬化の場 には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀 、カーボンアーク、キセノンアーク、メタ ハライドランプ等の光線から発する紫外線 が利用出来る。

 活性線硬化樹脂組成物と微粒子の割合は 樹脂組成物100質量部に対して、0.1~40質量部 なるように配合することが望ましい。

 本発明に用いられるハードコート層の屈 率は、1.5~2.0であり、より好ましくは1.6~1.8 ある。透明支持体として用いられるセルロ スエステルフィルムの屈折率は約1.5である ハードコート層の屈折率が小さ過ぎると反 防止性が低下する。更に、これが大き過ぎ と、光学フィルムの反射光の色味が強くな 、好ましくない。本発明に用いられるハー コート層の屈折率は、低反射性フィルムを るための光学設計上から屈折率が1.60~1.70の 囲にあることが特に好ましい。ハードコー 層の屈折率は前記添加する微粒子の屈折率 含有量によって調製することが出来る。

 本発明に用いられるハードコート層の膜 とは、断層電子顕微鏡写真で観察した時の ードコート層の樹脂部分の膜厚10ケ所の平 を本発明の膜厚としており、十分な耐久性 耐衝撃性を付与する観点から、ハードコー 層の膜厚は0.5μm~10.0μmの範囲が好ましく、更 に好ましくは、1.0μm~5.0μmである。またハー コート層は2層以上から構成されていてもよ 。

 これらのハードコート層はグラビアコー ー、ディップコーター、リバースコーター ワイヤーバーコーター、ダイコーター、イ クジェット法等公知の方法で塗設すること 出来る。塗布量はウェット膜厚として0.1~30 mが適当で、好ましくは、0.5~15μmである。

 紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化 せ、硬化皮膜層を形成するための光源とし は、紫外線を発生する光源であれば制限な 使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水 灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボン ーク灯、メタルハライドランプ、キセノン ンプ等を用いることが出来る。照射条件は れぞれのランプによって異なるが、活性線 照射量は、0.5J/cm 2 以下であり、好ましくは0.1J/cm 2 以下である。

 活性線の照射量を得るための照射時間とし は、0.1秒~1分程度がよく、硬化性樹脂の硬 効率または作業効率の観点から0.1~10秒がよ 好ましい。また、これら活性線照射部の照 は50~150mW/m 2 であることが好ましい。

 また、活性線を照射する際には、フィル の搬送方向に張力を付与しながら行うこと 好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力 付与しながら行うことである。付与する張 は30~300N/mが好ましい。張力を付与する方法 特に限定されず、バックロール上で搬送方 に張力を付与してもよく、テンターにて幅 向、若しくは2軸方向に張力を付与してもよ い。これによって更に平面性優れたフィルム を得ることが出来る。

 ハードコート層の塗布液の有機溶媒とし は、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレ ン、)、アルコール類(メタノール、エタノー 、イソプロパノール、ブタノール、シクロ キサノール)、ケトン類(アセトン、メチル チルケトン、メチルイソブチルケトン)、エ テル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチ ル)、グリコールエーテル類、その他の有機 媒の中から適宜選択し、或いはこれらを混 し利用出来る。プロピレングリコールモノ ルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数と て1~4)またはプロピレングリコールモノアル キルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭 原子数として1~4)等を5質量%以上、より好ま くは5~80質量%以上含有する上記有機溶媒を用 いるのが好ましい。

 また、ハードコート層の塗布液には、特 シリコン化合物を添加することが好ましい 例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイ などが好ましく添加される。ポリエーテル 性シリコーンオイルの数平均分子量は、例 ば、1000~100000、好ましくは、2000~50000が適当 あり、数平均分子量が1000未満では、塗膜の 乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100000 を越えると、塗膜表面にブリードアウトしに くくなる傾向にある。

 シリコン化合物の市販品としては、DKQ8-77 9(ダウコーニング社製商品名)、SF3771、SF8410、 SF8411、SF8419、SF8421、SF8428、SH200、SH510、SH1107 SH3749、SH3771、BX16-034、SH3746、SH3749、SH8400、SH3 771M、SH3772M、SH3773M、SH3775M、BY-16-837、BY-16-839 BY-16-869、BY-16-870、BY-16-004、BY-16-891、BY-16-872 BY-16-874、BY22-008M、BY22-012M、FS-1265(以上、東レ ・ダウコーニングシリコーン社製商品名)、KF -101、KF-100T、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF6 15、KF618、KF945、KF6004、シリコーンX-22-945、X22- 160AS(以上、信越化学工業社製商品名)、XF3940 XF3949(以上、東芝シリコーン社製商品名)、デ ィスパロンLS-009(楠本化成社製)、グラノール4 10(共栄社油脂化学工業(株)製)、TSF4440、TSF4441 TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE東芝シリコー ン製)、BYK-306、BYK-330、BYK-307、BYK-341、BYK-344、 BYK-361(ビックケミ-ジャパン社製)日本ユニカ (株)製のLシリーズ(例えばL7001、L-7006、L-7604 L-9000)、Yシリーズ、FZシリーズ(FZ-2203、FZ-2206 FZ-2207)等が挙げられ、好ましく用いられる

 これらの成分は基材や下層への塗布性を める。積層体最表面層に添加した場合には 塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばか でなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮 る。これらの成分は、塗布液中の固形分成 に対し、0.01~3質量%の範囲で添加することが 好ましい。

 (反射防止層)
 本発明に係る光学フィルムはハードコート 上に、更に反射防止層を設けることができ 。

 本発明では反射防止層を設ける方法は特 限定されず、スパッタ、大気圧プラズマ処 、塗布などが挙げられるが、塗布により形 することが好ましい。

 反射防止層を塗布により形成する方法と ては、溶媒に溶解したバインダー樹脂中に 属酸化物の粉末を分散し、塗布乾燥する方 、架橋構造を有するポリマーをバインダー 脂として用いる方法、エチレン性不飽和モ マーと光重合開始剤を含有させ、活性線を 射することにより層を形成する方法等の方 を挙げることが出来る。

 本発明においては、ハードコート層を付 した透明基材フィルムの上に反射防止層を け、該反射防止層の少なくとも一層が低屈 率層である。

 好ましい光学フィルムの構成を下記に示 が、これらに限定されるものではない。

 ここでハードコート層、防眩層とは、前 の活性線硬化樹脂層を意味する。尚、ここ は本発明のブロッキング防止加工を施した をバックコート層と表記した。

 バックコート層/透明基材フィルム/クリア ードコート層/低屈折率層
 バックコート層/透明基材フィルム/クリア ードコート層/高屈折率層/低屈折率層
 バックコート層/透明基材フィルム/クリア ードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈 率層
 バックコート層/透明基材フィルム/防眩層/ 屈折率層
 バックコート層/透明基材フィルム/防眩層/ 屈折率層/低屈折率層
 バックコート層/透明基材フィルム/防眩層/ 屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
 また、中屈折率層若しくは高屈折率層が帯 防止層を兼ねてもよい。

 前記光学フィルムでは、最上層に低屈折 層を形成し、ハードコート層との間に高屈 率層の金属酸化物層を形成したり、更にハ ドコート層と高屈折率層との間に中屈折率 (金属酸化物の含有量或いは樹脂バインダー との比率、金属の種類を変更して屈折率を調 整した金属酸化物層)を設けることは、反射 の低減のために好ましい。

 本発明の低屈折率層には中空微粒子が含 されることが好ましい。

 ここでいう中空微粒子は、(I)多孔質粒子 該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とか なる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し 、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質 で充填された空洞粒子である。尚、低屈折率 層には(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいず かが含まれていればよく、また双方が含ま ていてもよい。

 尚、空洞粒子は、内部に空洞を有する粒 であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空 内には、調製時に使用した溶媒、気体また 多孔質物質などの内容物で充填されている この様な無機微粒子の平均粒子径が5~300nm、 好ましくは10~200nmの範囲にあることが望まし 。使用される無機微粒子の平均粒径は、形 される透明被膜の厚さに応じて適宜選択さ 、形成される低屈折率層などの透明被膜の 厚の2/3~1/10の範囲にあることが望ましい。 れらの無機微粒子は、低屈折率層の形成の め、適当な媒体に分散した状態で使用する とが好ましい。分散媒としては、水、アル ール(例えば、メタノール、エタノール、イ プロピルアルコール)及びケトン(例えば、 チルエチルケトン、メチルイソブチルケト )、ケトンアルコール(例えばジアセトンアル コール)が好ましい。

 複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子 粒子壁の厚さは、1~20nm、好ましくは2~15nmの 囲にあることが望ましい。複合粒子の場合 被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完 に被覆することが出来ないことがあり、後 する塗布液成分である重合度の低いケイ酸 ノマー、オリゴマーなどが容易に複合粒子 内部に内部に進入して内部の多孔性が減少 、低屈折率の効果が十分得られないことが る。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、 前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進 入することはないが、複合粒子の多孔性(細 容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られ くなることがある。また空洞粒子の場合、 子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を 持出来ないことがあり、また厚さが20nmを越 えても、低屈折率の効果が十分に現れないこ とがある。

 前記複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒 壁は、シリカを主成分とすることが好まし 。また複合粒子の被覆層または空洞粒子の 子壁には、シリカ以外の成分が含まれてい もよく、具体的には、Al 2 O 3 、B 2 O 3 、TiO 2 、ZrO 2 、SnO 2 、CeO 2 、P 2 O 3 、Sb 2 O 3 、MoO 3 、ZnO 2 、WO 3 などが挙げられる。複合粒子を構成する多孔 質粒子としては、シリカからなるもの、シリ カとシリカ以外の無機化合物とからなるもの 、CaF 2 、NaF、NaAlF 6 、MgFなどからなるものが挙げられる。この内 特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複 合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。 シリカ以外の無機化合物としては、Al 2 O 3 、B 2 O 3 、TiO 2 、ZrO 2 、SnO 2 、CeO 2 、P 2 O 3 、Sb 2 O 3 、MoO 3 、ZnO 2 、WO 3 等との1種または2種以上を挙げることが出来 。この様な多孔質粒子では、シリカをSiO 2 で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換 算(MOX)で表した時のモル比MOX/SiO 2 が、0.0001~1.0、好ましくは0.001~0.3の範囲にあ ことが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO 2 が0.0001未満のものは得ることが困難であり、 得られたとしても更に屈折率が低いものを得 ることはない。また、多孔質粒子のモル比MOX /SiO 2 が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくな るので、細孔容積が小さく、かつ屈折率の低 い粒子を得られないことがある。

 この様な多孔質粒子の細孔容積は、0.1~1.5 ml/g、好ましくは0.2~1.5ml/gの範囲であることが 望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分 屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを えると微粒子の強度が低下し、得られる被 の強度が低下することがある。

 尚、この様な多孔質粒子の細孔容積は水 圧入法によって求めることが出来る。また 空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に 用した溶媒、気体、多孔質物質などが挙げ れる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使 される粒子前駆体の未反応物、使用した触 などが含まれていてもよい。また多孔質物 としては、前記多孔質粒子で例示した化合 からなるものが挙げられる。これらの内容 は、単一の成分からなるものであってもよ が、複数成分の混合物であってもよい。

 この様な無機微粒子の製造方法としては 例えば特開平7-133105号公報の段落番号[0010]~[ 0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の 製方法が好適に採用される。具体的に、複 粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物 からなる場合、以下の第1~第3工程から無機 合物粒子は製造される。

 〈偏光板〉
 本発明に係る偏光板は一般的な方法で作製 ることが出来る。本発明の光学フィルムの 面側をアルカリ鹸化処理し、処理した光学 ィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作 した偏光子の少なくとも一方の面に、完全 化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて り合わせることが好ましい。もう一方の面 も該光学フィルムを用いても、別の偏光板 護フィルムを用いてもよい。反対面側に用 られる偏光板保護フィルムとしては、市販 セルロースエステルフィルムとして、KC8UX2M 、KC4UX、KC5UX、KC4UY、KC8UY、KC12UR、KC8UCR-1、KC8UC R-2、KC8UCR-3、KC8UCR-4、KC8UXW-H(コニカミノルタ プト(株)製)等が好ましく用いられる。これ は同種のフィルムを偏光子の両面に用いて 光板化することも出来、或いは異なる種類 フィルムを組み合わせて偏光板とすること 出来る。これらの偏光板は表示装置の表面 しくは裏面(バックライト側)に使用すること が出来る。例えば、KC8UY/偏光子/KC12UR、KC8UX2M/ 偏光子/KC8UCR-3、KC8UXW-H/偏光子/KC8UCR4、KCUXW-H/ 光子/KCUCR-3等と組み合わせて用いることが出 来る。本発明の光学フィルムに対して、もう 一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは 面内リターデーションRoが590nmで、20~70nm、Rt 70~400nmの位相差を有している光学補償フィル ムであることが好ましい。これらは例えば、 特開2002-71957号公報段落番号[0014]~[0078]、特開2 003-170492号公報段落番号[0064]~[0252]記載の方法 作製することが出来る。

 〈光学異方層〉
 本発明においては、更にディスコチック液 などの液晶化合物を配向させて形成した光 異方層を有している光学補償フィルムを兼 る偏光板保護フィルムを用いることが好ま い。例えば、特開2003-98348号公報段落番号[00 33]~[0053]記載の方法で光学異方層を形成する とが出来る。本発明の光学フィルムと組み わせて使用することによって、平面性に優 、安定した視野角拡大効果を有する偏光板 得ることが出来る。

 本発明において、光学異方層は前記透明 材上に直接または配向層を介して設けられ 。光学異方層は、好ましくは液晶性ディス ティック化合物を有し、該液晶性ディスコ ィック化合物の光軸は、透明支持体の法線 向に対して傾斜角を形成する。この傾斜角 光学異方層の透明支持体側から表面側に向 うにつれ増加していることが好ましい。こ ように本発明において光学異方層は、ディ コティック(円盤状)構造単位を有する化合 からなる負の複屈折を有する層である。す わち、光学異方層は、液晶性ディスコティ ク化合物の層であるか、または重合性ディ コティック化合物の硬化により得られるポ マー層である。本発明に適用できるディス ティック化合物としては、たとえば、C.Destra deらの研究報告、Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年)に 載されているベンゼン誘導体、Mol.Cryst.122巻 、141頁(1985年)、Phyics.Lett,A、78巻、82頁(1990年) 記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneら の研究報告、Angew.Chem.Soc.96巻、70頁(1984年)に 載されたシクロヘキサン誘導体およびJ.M.Lehn らの研究報告、J.Chem.Commun.1794頁(1985年)、J.Zhan gらの研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年 )に記載されているアザクラウン系やフェニ アセチレン系マクロサイクルなどを挙げる とができる。ディスコティック化合物は、 般にこのような芳香環を有する分子を核と 、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換 ンゾイルオキシ基などが側鎖としてその周 に放射状に置換した平板状構造を有してお 、液晶性を示し、一般にディスコティック 晶と呼ばれるものを含む。但し、分子自身 負の一軸性を有し、一定の配向を付与でき ものであれば上記記載に限定されるもので ない。また本発明においては、ディスコテ ック構造単位を有する化合物には、上記化 物の他に、低分子ディスコティック液晶が や電離放射線などで架橋しうる官能基を有 ており、熱または電離放射線照射によって 分子量化して液晶性を失ったものも含まれ 。

 光学異方層は、ディスコティック化合物 よび他の化合物を溶解した塗布液を配向層 に塗布、乾燥した後、ディスコティックネ ティック相形成温度まで加熱し、その配向 態を維持しつつ冷却することにより形成す ことができる。また、ディスコティックネ ティック相形成温度まで加熱した後、電離 射線照射により重合させてもよい。ディス ティックネマティック液晶相-固相転移温度 としては、好ましくは50~300℃、より好ましく は70~170℃が望ましい。

 なお、光学異方層には、可塑剤、界面活 剤、重合性モノマー、高分子化合物など、 ィスコティック化合物の配向を阻害しない り必要に応じていかなる化合物を添加して よい。重合性モノマーとしては、アクリロ ル基、メタクリロイル基、ビニル基および ニルオキシ基を有するものが好ましく、デ スコティック化合物に対して1~50質量%、好 しくは5~30質量%用いることができる。

 高分子化合物としては、ディスコティッ 化合物との相溶性を有していればよく、好 しくはセルロースエステル、より好ましく セルロースアセテートブチレートが望まし 。高分子化合物はディスコティック化合物 対し、0.1~10質量%、好ましくは0.1~5質量%用い ることができる。また、セルロースアセテー トブチレートのアセチル化度は30~80%が好まし く、ブチリル化度は30~80%が好ましい。

 本発明においては、記光学異方層が活性 硬化層であることが好ましい。

 〈偏光子〉
 偏光子としては、ポリビニルアルコール系 ィルムを延伸、染色したものが好ましく用 られる。特に、エチレン単位の含有量1~4モ %、重合度2000~4000、けん化度99.0~99.99モル%の チレン変性ポリビニルアルコールが好まし 用いられる。中でも熱水切断温度が66~73℃ あるエチレン変性ポリビニルアルコールフ ルムが好ましく用いられる。又、フィルム TD方向に5cm離れた二点間の熱水切断温度の差 が1℃以下であることが、色斑を低減させる えでさらに好ましく、さらにフィルムのTD方 向に1cm離れた二点間の熱水切断温度の差が0.5 ℃以下であることが、色斑を低減させるうえ でさらに好ましい。

 このエチレン変性ポリビニルアルコール ィルムを用いた偏光子は、偏光性能および 久性能に優れているうえに、色斑が少なく 大型液晶表示装置に特に好ましく用いられ 。

 本発明において用いられるエチレン変性 リビニルアルコール(エチレン変性PVA)とし は、エチレンとビニルエステル系モノマー を共重合して得られたエチレン-ビニルエス ル系重合体をけん化し、ビニルエステル単 をビニルアルコール単位としたものを用い ことができる。このビニルエステル系モノ ーとしては、例えば、ギ酸ビニル、酢酸ビ ル、プロピオン酸ビニル、バレリン酸ビニ 、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル 安息香酸ビニル、ピバリン酸ビニル、バー ティック酸ビニル等を挙げることができ、 れらのなかでも酢酸ビニルを用いるのが好 しい。

 エチレン変性PVAにおけるエチレン単位の 有量(エチレンの共重合量)は、1~4モル%であ 、好ましくは1.5~3モル%であり、より好まし は2~3モル%である。

 エチレン単位の含有量がこの範囲にある 、偏光性能および耐久性能が向上し、色斑 低減されるため好ましい。

 さらに、エチレン変性ポリビニルアルコ ルには、ビニルエステル系モノマーに下記 モノマーを共重合させることもできる。ビ ルエステル系モノマーに共重合させる場合 好ましい範囲は15モル%以下、より好ましく 5モル%以下である。

 このようなビニルエステル系モノマーと 重合可能なモノマーとしては、例えば、プ ピレン、1-ブテン、イソブテン等の炭素数3~ 30のオレフィン類;アクリル酸およびその塩; クリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク ル酸n-プロピル、アクリル酸i-プロピル、ア リル酸n-ブチル、アクリル酸i-ブチル、アク リル酸t-ブチル、アクリル酸2-エチルへキシ 、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクタ シル等のアクリル酸エステル類;メタクリル およびその塩;メタクリル酸メチル、メタク リル酸エチル、メタクリル酸n-プロピル、メ クリル酸i-プロピル、メタクリル酸n-ブチル 、メタクリル酸i-ブチル、メタクリル酸t-ブ ル、メタクリル酸2-エチルへキシル、メタク リル酸ドデシル、メタクリル酸オクタデシル 等のメタクリル酸エステル類;アクリルアミ 、N-メチルアクリルアミド、N-エチルアクリ アミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、ジア セトンアクリルアミド、アクリルアミドプロ パンスルホン酸およびその塩、アクリルアミ ドプロピルジメチルアミンおよびその塩、N- チロールアクリルアミドおよびその誘導体 のアクリルアミド誘導体;メタクリルアミド 、N-メチルメタクリルアミド、N-エチルメタ リルアミド、メタクリルアミドプロパンス ホン酸およびその塩、メタクリルアミドプ ピルジメチルアミンおよびその塩、N-メチロ ールメタクリルアミドおよびその誘導体等の メタクリルアミド誘導体;N-ビニルホルムアミ ド、N-ビニルアセトアミド、N-ビニルピロリ ン等のN-ビニルアミド類;メチルビニルエー ル、エチルビニルエーテル、n-プロピルビニ ルエーテル、i-プロピルビニルエーテル、n- チルビニルエーテル、i-ブチルビニルエーテ ル、t-ブチルビニルエーテル、ドデシルビニ エーテル、ステアリルビニルエーテル等の ニルエーテル類;アクリロニトリル、メタク リロニトリル等のニトリル類;塩化ビニル、 化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニ デン等のハロゲン化ビニル類;酢酸アリル、 化アリル等のアリル化合物;マレイン酸およ びその塩またはそのエステル;イタコン酸お びその塩またはそのエステル;ビニルトリメ キシシラン等のビニルシリル化合物;酢酸イ ソプロペニル、N-ビニルホルムアミド、N-ビ ルアセトアミド、N-ビニルピロリドン等のN- ニルアミド類を挙げることができる。

 偏光子を構成するエチレン変性PVAの重合 は、偏光性能と耐久性の点から2000~4000であ 、2200~3500が好ましく、2500~3000が特に好まし 。重合度が2000より小さい場合には、偏光子 の偏光性能や耐久性能が低下し、好ましくな い。また、重合度が4000以下であることが偏 子の色斑が生じにくく好ましい。

 エチレン変性PVAの重合度は、GPC測定から めた重量平均重合度である。この重量平均 合度は、単分散PMMAを標品として移動相に20 リモル/リットルのトリフルオロ酢酸ソーダ を加えたヘキサフルオロイソプロパノール(HF IP)を用い、40℃でGPC測定を行って求めた値で る。

 偏光子を構成するエチレン変性PVAのけん 度は、偏光子の偏光性能および耐久性の点 ら99.0~99.99モル%であり、99.9~99.99モル%がより 好ましく、99.95~99.99モル%が特に好ましい。

 エチレン変性PVAフィルムを製造する方法 しては特に限定されないが、流延製膜法お び溶融押出製膜法が、良好なエチレン変性P VAフィルムを得る観点から好ましい。又、得 れたエチレン変性PVAフィルムは、必要に応 て乾燥および熱処理が施される。

 エチレン変性PVAフィルムを製造する際に 用されるエチレン変性PVAを溶解する溶媒と ては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジ チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド N-メチルピロリドン、エチレングリコール グリセリン、プロピレングリコール、ジエ レングリコール、トリエチレングリコール テトラエチレングリコール、トリメチロー プロパン、エチレンジアミン、ジエチレン リアミン、グリセリン、水などを挙げるこ ができ、これらのうち1種または2種以上を使 用することができる。これらのなかでも、ジ メチルスルホキシド、水、またはグリセリン と水の混合溶媒が好ましく使用される。

 エチレン変性PVAフィルムを製造する際に 用されるエチレン変性PVA溶液または水を含 エチレン変性PVAにおけるエチレン変性PVAの 合はエチレン変性PVAの重合度に応じて変化 るが、20~70質量%が好ましく、25~60質量%がよ 好ましく、30~55質量%がさらに好ましく、35~5 0質量%が最も好ましい。エチレン変性PVAの割 が70質量%を超えるとエチレン変性PVA溶液ま は水を含むエチレン変性PVAの粘度が高くな 過ぎて、フィルムの原液を調製する際に濾 や脱泡が困難となり、異物や欠点のないフ ルムを得ることが困難となる。また、エチ ン変性PVAの割合が20質量%より低いとエチレ 変性PVA溶液または水を含むエチレン変性PVA 粘度が低くなり過ぎて、目的とする厚みを するPVAフィルムを製造することが困難にな 。また、このエチレン変性PVA溶液または水 含むエチレン変性PVAには、必要に応じて可 剤、界面活性剤、二色性染料などを含有さ てもよい。

 エチレン変性PVAフィルムを製造する際に 塑剤として、多価アルコールを添加するこ が好ましい。多価アルコールとしては、例 ば、エチレングリコール、グリセリン、プ ピレングリコール、ジエチレングリコール ジグリセリン、トリエチレングリコール、 トラエチレングリコール、トリメチロール ロパンなどを挙げることができ、これらの ち1種または2種以上を使用することができ 。これらの中でも延伸性向上効果からジグ セリンやエチレングリコールやグリセリン 好ましく使用される。

 多価アルコールの添加量としてはエチレ 変性PVA100質量部に対し1~30質量部が好ましく 、3~25質量部がさらに好ましく、5~20質量部が も好ましい。1質量部より少ないと、染色性 や延伸性が低下する場合があり、30質量部よ 多いと、エチレン変性PVAフィルムが柔軟に りすぎて、取り扱い性が低下する場合があ 。

 エチレン変性PVAフィルムを製造する際に 、界面活性剤を添加することが好ましい。 面活性剤の種類としては特に限定はないが アニオン性またはノニオン性の界面活性剤 好ましい。アニオン性界面活性剤としては たとえば、ラウリン酸カリウムなどのカル ン酸型、オクチルサルフェートなどの硫酸 ステル型、ドデシルベンゼンスルホネート どのスルホン酸型のアニオン性界面活性剤 好ましい。ノニオン性界面活性剤としては たとえば、ポリオキシエチレンオレイルエ テルなどのアルキルエーテル型、ポリオキ エチレンオクチルフェニルエーテルなどの ルキルフェニルエーテル型、ポリオキシエ レンラウレートなどのアルキルエステル型 ポリオキシエチレンラウリルアミノエーテ などのアルキルアミン型、ポリオキシエチ ンラウリン酸アミドなどのアルキルアミド 、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレ エーテルなどのポリプロピレングリコール ーテル型、オレイン酸ジエタノールアミド どのアルカノールアミド型、ポリオキシア キレンアリルフェニルエーテルなどのアリ フェニルエーテル型などのノニオン性界面 性剤が好ましい。これらの界面活性剤の1種 または2種以上の組み合わせで使用すること できる。

 界面活性剤の添加量としては、エチレン 性PVA100質量部に対して0.01~1質量部が好まし 、0.02~0.5質量部がさらに好ましい。0.01質量 より少ないと、製膜性や剥離性向上の効果 現れにくく、1質量部より多いと、界面活性 剤がエチレン変性PVAフィルムの表面に溶出し てブロッキングの原因になり、取り扱い性が 低下する場合がある。

 偏光子の作製に用いられる延伸前のエチ ン変性PVAフィルムは厚みが10~50μmであるこ が好ましく、20~40μmであることがさらに好ま しい。厚みが10μmより小さいと、フィルム強 が低すぎて均一な延伸が行いにくく、偏光 の色斑が発生しやすい。厚みが50μmを超え と、エチレン変性PVAフィルムを一軸延伸し 偏光子を作製した際に端部のネックインに る厚み変化が発生し易くなり、偏光子の色 が強調されやすいので好ましくない。

 また、エチレン変性PVAフィルムから偏光 を製造するには、例えばエチレン変性PVAフ ルムを染色、一軸延伸、固定処理、乾燥処 をし、さらに必要に応じて熱処理を行えば く、染色、一軸延伸、固定処理の操作の順 に特に制限はない。また、一軸延伸を二回 たはそれ以上行っても良い。

 染色は、一軸延伸前、一軸延伸時、一軸 伸後のいずれでも可能である。染色に用い 染料としては、ヨウ素-ヨウ化カリウムや二 色性染料などが、1種または2種以上の混合物 使用できる。通常染色は、PVAフィルムを上 染料を含有する溶液中に浸漬させることに り行うことが一般的であるが、PVAフィルム 混ぜて製膜するなど、その処理条件や処理 法は特に制限されるものではない。

 一軸延伸は、湿式延伸法または乾熱延伸 が使用でき、ホウ酸水溶液などの温水中(前 記染料を含有する溶液中や後記固定処理浴中 でもよい)または吸水後のエチレン変性PVAフ ルムを用いて空気中で行うことができる。 伸温度は、特に限定されず、エチレン変性PV Aフィルムを温水中で延伸(湿式延伸)する場合 は30~90℃が好ましく、また乾熱延伸する場合 50~180℃が好ましい。また一軸延伸の延伸倍 (多段の一軸延伸の場合には合計の延伸倍率 )は、偏光子の偏光性能の点から4倍以上が好 しく、特に5倍以上が最も好ましい。延伸倍 率の上限は特に制限はないが、8倍以下であ と均一な延伸が得られやすいので好ましい 延伸後のフィルムの厚さは、5~20μmが好まし 、5~15μmがより好ましい。

 エチレン変性PVAフィルムへの上記染料の 着を強固にすることを目的に、固定処理を うことが多い。固定処理に使用する処理浴 は、通常、ホウ酸および/またはホウ素化合 物が添加される。また、必要に応じて処理浴 中にヨウ素化合物を添加してもよい。

 得られた偏光子の乾燥処理は、30~150℃で うのが好ましく、50~150℃で行うのがより好 しい。

 以上のようにして得られた偏光子は、通 、その両面または片面に偏光板保護フィル が貼合されて偏光板として使用される。貼 する際に用いられる接着剤としては、PVA系 接着剤やウレタン系の接着剤などを挙げる とができるが、なかでもPVA系の接着剤が好 しく用いられる。

 〈接着剤〉
 本発明のポリエステルフィルム及びシクロ レフィン樹脂フィルムとポリビニルアルコ ル系偏光子とを貼り合わせるのに使用され 接着剤としては、十分な接着性を持ち、透 で、偏光機能を阻害しないものであって水 のものが好ましく用いられ、例えば、ポリ ステル系接着剤、ポリアクリル系接着剤、 ポキシ系接着剤、シアノアクリレート系接 剤、ポリウレタン系接着剤、ポリビニルア コール、ポリビニルブチラール等のポリビ ルアルコール系接着剤などが挙げられる。 にウレタン樹脂系の接着剤が好ましい。

 ウレタン樹脂としては、ポリエーテル系 レタン樹脂、ポリエステル系ウレタン樹脂 アクリル系ウレタン樹脂などが挙げられる 、なかでも、ポリエステル系アイオノマー ウレタン樹脂が好適である。ポリエステル アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエ テル骨格を有するウレタン樹脂であって、 の中に少量のイオン性成分(親水成分)が導 されたものである。かかるアイオノマー型 レタン樹脂は、乳化剤を使用せずに直接、 中で乳化してエマルジョンとなることから 水系の接着剤として好適である。ポリエス ル系アイオノマー型ウレタン樹脂それ自体 公知であり、例えば、特開平7-97504号公報に フェノール系樹脂を水性媒体中に分散させ ための高分子分散剤の例として記載されて る。このようなポリエステル系アイオノマ 型ウレタン樹脂は、例えば、以下の方法で 造することができる。

 (1)親水性基含有化合物(A)、ポリエステルポ オール(B)及びポリイソシアネート(C)を反応 せて得られた親水性基含有ポリウレタン樹 を水中に乳化して、アイオノマー樹脂を得 方法;
(2)親水性基含有化合物(A)、ポリエステルポリ オール(B)及びポリイソシアネート(C)を反応さ せて親水性基が導入された末端イソシアナト 基含有ウレタンポリマーを水に分散させ、ポ リアミンと反応させて、アイオノマー樹脂を 得る方法など。

 ここで用いる親水性基含有化合物(A)とし は、例えば、2-ヒドロキシエタンスルホン 、スルホコハク酸、スルファニル酸、2,4-ジ ミノトルエンスルホン酸のようなスルホン 基含有化合物、2,2-ジメチロールプロピオン 酸、ジヒドロキシマレイン酸、3,4-ジアミノ 息香酸のようなカルボン酸基含有化合物、 リマー中に少なくとも1個の活性水素を有す ポリオキシエチレングリコール又はポリオ シエチレン-ポリオキシプロピレン共重合体 グリコールなどが挙げられる。

 ポリエステルポリオール(B)は、グリコー 成分と酸成分との脱水縮合反応によって得 れるポリエステルのほか、ε-カプロラクト のような環状エステル化合物の開環重合反 によって得られるポリエステル、又はこれ の共重合ポリエステルであることができる ポリエステルポリオールに用いるグリコー 成分には、エチレングリコール、プロピレ グリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブ ンジオール、1,5-ペンタンジオール、3-メチ -1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオー 、ネオペンチルグリコール、ジエチレング コール、トリエチレングリコール、テトラ チレングリコール、ポリエチレングリコー (分子量 300~6,000)、ジプロピレングリコール トリプロピレングリコール、2,2-ジエチル-1, 3-プロパンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プ ロパンジオール、2-ペンチル-2-プロピル-1,3- ロパンジオール、2-ブチル-2-ヘキシル-1,3-プ パンジオール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオー ル、ビスヒドロキシエトキシベンゼン、1,4- クロヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサン メタノール、ビスフェノールA、水素添加ビ スフェノールA、ハイドロキノン及びそれら アルキレンオキシド付加体などがある。ま 酸成分には、コハク酸、アジピン酸、アゼ イン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン 、マレイン酸、フマル酸、1,3-シクロペンタ ジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボ ン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル 酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、2,5-ナフタ ンジカルボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン 酸、ナフタル酸、ビフェニルジカルボン酸、 1,2-ビス(フェノキシ)エタン-p,p’-ジカルボン 、及びこれらジカルボン酸の無水物やエス ル形成性誘導体、p-ヒドロキシ安息香酸、p- (2-ヒドロキシエトキシ)安息香酸及びこれら ヒドロキシカルボン酸のエステル形成性誘 体などがある。

 なお、ポリエステル系アイオノマー型ウ タン樹脂は、上記のポリエステルポリオー に加えて、本発明の効果を阻害しない範囲 、その他の高分子量ポリオール成分や低分 量の活性水素含有化合物を併用したもので ってもよい。高分子量ポリオールとしては 例えば、ポリエーテルポリオール、ポリカ ボネートポリオール、ポリアセタールポリ ール、ポリアクリレートポリオール、ポリ ステルアミドポリオール、ポリチオエーテ ポリオールなどが挙げられる。また低分子 の活性水素含有化合物としては、例えば、 チレングリコール、ネオペンチルグリコー 、1,6-ヘキサンジオール、グリセリン、トリ メチロールプロパンの如きポリヒドロキシ化 合物、エチレンジアミン、ピペラジンの如き ジアミン化合物などが挙げられる。なかでも 、低分子量の活性水素含有化合物を併用する ことは、好ましい形態である。

 前記のポリイソシアネート(C)は、分子内 イソシアナト基を少なくとも2個有する化合 物であって、具体的には例えば、2,4-トリレ ジイソシアネート、フェニレンジイソシア ート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネ ト、1,6-ヘキサメチレンジイソシアネート、 イソホロンジイソシアネートなどが挙げられ る。

 これら親水性基含有化合物(A)、ポリエス ルポリオール(B)及びポリイソシアネート(C) 反応は、無溶媒下で行うこともできるが、 機溶媒中で行ってもさしつかえない。得ら た樹脂は、水酸化ナトリウムや水酸化カリ ムのような不揮発性塩基、トリエチルアミ やジメチルエタノールアミンのようなアミ 類、又はアンモニアで中和し、そこに水を 加することにより、ポリエステル系アイオ マー型ウレタン樹脂の水性分散液が得られ 。

 ポリエステル系アイオノマー型ウレタン 脂は、反応に有機溶媒を用いるなどして有 溶媒を含有する状態で得られる場合には、 の有機溶媒を蒸留などにより除去してから いるのが有利である。このウレタン樹脂は イオノマー型のため、水中で極めて微細で つ安定なコロイドが形成でき、有機溶媒を まない水系接着剤となる。

 ポリエステル系アイオノマー型ウレタン 脂は、重量平均分子量が5,000以上であるこ が好ましく、さらに好ましくは重量平均分 量が10,000以上300,000以下である。その重量平 分子量が5,000以下では、接着層の強度が充 に得られず、また、300,000より高いと、それ 水分散液としたときの粘度が高くなり、取 扱いにくくなる。

 かかるポリエステル系アイオノマー型ウ タン樹脂が水中に分散した状態で、水系接 剤とされる。この水系接着剤の粘度は、2,00 0mPa・sec以下であるのが取り扱い上好ましく さらには1,000mPa・sec以下、とりわけ500mPa・sec 以下であるのが一層好ましい。粘度が低いほ ど接着剤の塗布が行いやすく、また、得られ た偏光板の外観も良好なものとなる。この水 系接着剤におけるポリエステル系アイオノマ ー型ウレタン樹脂の固形分濃度は、粘度と接 着強度の観点から、10~70質量%の範囲が好まし く、とりわけ、20質量%以上、また50質量%以下 であるのが好ましい。

 ポリエステル系アイオノマー型ウレタン 脂の水分散液にはさらに、ポリエチレング コールやポリオキシエチレンなど、また界 活性剤などが添加されていてもよい。さら は、ポリヒドロキシエチルメタクリレート ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリ クリル酸、ポリビニルアルコール系樹脂な の水溶性樹脂が添加されていてもよい。

 本発明で用いるのに好適な市販のポリエ テル系アイオノマー型ウレタン樹脂として 例えば、大日本インキ化学工業(株)から販 されている“ハイドラン AP-20”、“ハイド ン APX-101H”などが挙げられる。

 本発明では、以上説明したようなウレタ 樹脂、好ましくはポリエステル系アイオノ ー型ウレタン樹脂に加えて、オキセタン化 物及びエポキシ化合物を含有する水系接着 を用いることができる。

 接着性向上のため、コロナ放電処理、グ ー放電処理、紫外線処理、火炎処理、大気 ガス中放電プラズマ処理、薬液処理などの 種表面処理を必要に応じて施すことができ 。さらに接着性向上の為、下引層を塗設し もよい。下引層としては偏光子との接着性 優れる親水性コロイド層が特に好ましい。

 例えば、偏光板保護フィルムとして偏光 との接着性を向上させるために特開2000-35671 4号公報記載の方法等でプラズマ処理を行う とによって、接着性をさらに向上させるこ ができる。

 〈表示装置〉
 本発明の偏光板を表示装置に組み込むこと よって、種々の視認性に優れた本発明の表 装置を作製することが出来る。本発明の光 フィルムは反射型、透過型、半透過型LCD或 はTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA )、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用 られる。また、本発明の光学フィルムは反 防止層の反射光の色むらやぎらつきが著し 少なく、また、平面性に優れ、プラズマデ スプレイ、フィールドエミッションディス レイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプ レイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好 ましく用いられる。特に画面が30型以上、特 30型~54型の大画面の表示装置では、色むら ぎらつきや波打ちむらが少なく、長時間の 賞でも目が疲れないという効果があった。

 〈液晶表示装置〉
 本発明に係る偏光板を、液晶セルの少なく も一方の面に配置して貼合し、液晶表示装 を作製することが出来る。

 上記のように作製した本発明に係る偏光 を液晶表示に使用した場合には、15型以上 大画面の液晶表示装置であっても、ムラを じず、画面周辺部での白抜けなどもなく、 定した視野角特性が長期間維持され、かつ 正面コントラストも向上し、特にMVA(マルチ メインバーティカルアライメント)型液晶表 示装置では顕著な効果が認められる。また、 TN,STN,VA,OCB,HAN、IPS等の各種駆動方式を採用し 液晶表示装置の画像特性を向上させること 出来る。

 以下、実施例により本発明を説明するが 本発明はこれらに限定されるものではない

 (微粒子分散液:インクジェット塗布液の調 )
 (微粒子分散液)
 二酸化珪素分散液1
 アエロジル972V(日本アエロジル(株)製)          0.12質量部
 (一次粒子の平均径16nm、見掛け比重90g/リッ ル)
 エタノール                         99.88質量部
をディゾルバーで30分間攪拌混合した後、マ トンゴーリンで分散を行い。二酸化珪素分 液1を作製した。

 (分散希釈液A)
 二酸化珪素分散液1を0.1質量部にエタノール 2000質量部を投入し、ディゾルバーで30分間攪 拌混合し、分散希釈液Aを作製した。

 実施例の粒子径コントロールは希釈方法( 希釈時の分散方法と希釈率)によって表1の値 コントロールした。 

 (インライン添加液Aの作製)
 1,3,5トリアジン化合物(下記構造の化合物D)          12質量部
 メチレンクロライド                       100質量部

 以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌 ながら、完全に溶解し、濾過した。

 これに二酸化珪素分散希釈液Aを36質量部 攪拌しながら加えて、更に30分間撹拌した 、セルロースアセテートプロピオネート(ア チル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8) 6質量部を攪拌しながら加えて、更に60分間攪 拌した後、アドバンテック東洋(株)のポリプ ピレンワインドカートリッジフィルターTCW- PPS-1Nで濾過し、インライン添加液Aを調製し 。

 〈光学フィルム1の作製〉
 (ドープ液Aの調製)
 セルロースエステル(リンター綿から合成さ れたセルローストリアセテート)
                                  100質量部
 (Mn=148000、Mw=310000、Mw/Mn=2.1、アセチル基置換 度2.9)
 トリメチロールプロパントリベンゾエート( 下記化合物)      5.0質量部
 エチルフタリルエチルグリコレート                 5.5質量部
 メチレンクロライド                       440質量部
 エタノール                            40質量部

 以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌 ながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の 積濾紙No.24を使用して濾過し、ドープ液を調 製した。濾過したドープ液Aを100質量部に対 、前述のインライン添加液Aを2質量部加えて 、インラインミキサー(東レ静止型管内混合  Hi-Mixer、SWJ)で十分混合し、次いで、ベルト 流延装置を用い、温度35℃、1.8m幅でステンレ スバンド支持体に均一に流延した。ステンレ スバンド支持体で、残留溶媒量が120%になる で溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持 上から剥離した。剥離したセルロースエス ルのウェブを40℃で溶媒を蒸発させ、1.6m幅 スリットし、ウェブの残留溶媒が50質量%の に、250mm径のバックロール上でインクジェッ トヘッドにより分散希釈液Aを360×90dpi(dpiとは 、2.54cm当たりのドット数を表す。)となる速 で塗布した。インクジェット出射装置は、 インヘッド方式(図5の(a))を使用し、ノズル が3.5μmのノズルを所定数有するインクジェ トヘッドを100基を準備した。インクジェッ ヘッドは図4に記載の構成のものを使用した 微粒子分散液供給系は、微粒子分散液供給 ンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェ トヘッド及び配管から構成されており、微 子分散液供給タンクからインクジェットヘ ド部までは、断熱及び加温(40℃)し、出射温 度は40℃、駆動周波数は20kHzで行った。

 塗布のヘッドから、透明基材(ウェブ)搬送 向に、30cm離れたところで雰囲気の空気を1000 cm 3 集気を行い雰囲気のメチレンクロライドとエ タノールの濃度をガスクロマトグラフを用い て測定したところエタノールとメチレンクロ ライドの濃度の合計が6000ppmであった。塗布 2.5秒後に塗布面をロールに接触させ、塗布 25秒で延伸を開始し、124℃にて搬送方向と直 行する方向に1.3倍に延伸処理を行った。延伸 開始時の残留溶媒は60質量%、延伸終了時の残 留溶媒は5質量%であった。その後、110℃、120 の加熱ゾーンを多数のロールで搬送させな ら乾燥を終了させ、1.45m幅にスリットし、 ィルム両端に幅15mm、平均高さ10μmのナーリ グ加工を施して巻き取り、セルロースエス ルフィルムである光学フィルム1を得た。光 フィルム1の残留溶剤量は0.1%であり、平均 厚は38μm、巻数は7400mであった。

 (光学フィルム2~光学フィルム9の作製)
 光学フィルム1の作製と同様にして、ウェブ の残留溶媒量、分散希釈液種類、インクジェ ット出射条件、バックロール直径、塗布~バ クロール接触までの時間、塗布~延伸までの 間、ロール接触~延伸までの時間、延伸時の 残留溶媒量を表1~3記載のように変化させ、光 学フィルム2~光学フィルム9を作製した。

 (光学フィルム10の作製)
 光学フィルム1と同様にして表1~3記載の光学 フィルムを作製し、該光学フィルムをケン化 処理し、インクジェット塗布液塗布面と反対 の面に液晶化合物として大日本インキ製UCL-01 8のキシレン溶液を乾燥膜厚が0.6μmとなるよ に塗布・乾燥して、45℃にて35秒間熱処理し 酸素濃度0.5%にて、基材温度を35℃にて紫外 を350mJ照射し配向を固定化し、光学フィル 10を作製した。

 (光学フィルム11の作製)
 光学フィルム1と同様にして表1~3記載の光学 フィルムを作製し、該光学フィルムのインク ジェット塗布液塗布面と反対の面を長手方向 と直行方向にラビング処理を行い、続いてケ ン化処理し、液晶化合物としてMERCK製のRMS0300 1のキシレン溶液を乾燥膜厚が0.5μmとなるよ に塗布・乾燥して、65℃にて110秒間熱処理し 、酸素濃度0.5%にて、基材温度を35℃にて紫外 線を350mJ照射し配向を固定化し、光学フィル 11を作製した。

 (光学フィルム12の作製)
 光学フィルム1と同様にして表1~3記載の光学 フィルムを作製し、該光学フィルムのインク ジェット塗布液塗布面と反対の面を長手方向 と直行方向にラビング処理を行い、続いてケ ン化処理し、液晶化合物としてMERCK製のRMS0301 1のキシレン溶液を乾燥膜厚が1.1μmとなるよ に塗布・乾燥して、65℃にて110秒間熱処理し 、酸素濃度0.5%にて、基材温度を35℃にて紫外 線を350mJ照射し配向を固定化し、光学フィル 12を作製した。

 (光学フィルム13~光学フィルム15の作製)
 光学フィルム1の作製と同様にして、ウェブ の残留溶媒量、分散希釈液種類、インクジェ ット出射条件、バックロール直径、塗布~バ クロール接触までの時間、塗布~延伸までの 間、ロール接触~延伸までの時間、延伸時の 残留溶媒量を表1~3記載のように変化させ、光 学フィルム13~光学フィルム15を作製した。

 (光学フィルム16の作製)
 光学フィルム1と同様にして表1~3記載の光学 フィルムを作製し、該光学フィルムのインク ジェット塗布液塗布面と反対の面に、特開200 5-70745号公報の実施例2の溶液を乾燥膜厚が3.3 となるように塗布し、乾燥して光学フィル 16を作製した。

 (光学フィルム17の作製)
 光学フィルム1と同様にして表1~3記載の光学 フィルムを作製し、該光学フィルムのインク ジェット塗布液塗布面と反対の面に、BASF社 PaliocolorLC756にLC756を4.8質量%添加し、乾燥膜 が3.3μとなるように塗布し、乾燥して塗布表 面の温度を70℃にし、フィルム側の温度を25 にして120秒間熱処理を行い、続いて紫外線 化することで光学フィルム17を作製した。

 (光学フィルム18の作製)
 光学フィルム1と同様にして表1~3記載の光学 フィルムを作製し、該光学フィルムのインク ジェット塗布液塗布面と反対の面を長手方と 直行する方向にラビング処理とケン化処理を 行い、続いて特開2001-66433号公報の段落番号[0 080]の化合物7のトルエン溶液(5質量%)を乾燥膜 厚が2.2μmとなるように塗布、熱処理を行い、 ホモジニアス配向の膜を連続的に作製し、光 学フィルム18を作製した。

 (光学フィルム19の作製)
 ビスフェノールAからなるポリカーボネート 樹脂(粘度平均分子量52,000)15質量部をジオキ ラン85質量部に少しずつ加えてドープを作製 した。このドープを60℃に保持したエンドレ ベルト上にクリアランス0.8mmのドタクーブ ードで流延して、80℃、風速0.9m/秒の風をあ 乾燥、剥離後、残留溶媒が20質量%、雰囲気 溶媒濃度が950ppmにて、前記実施例同様にイ クジェットヘッドにて前記分散希釈液Aの塗 布を行い、ついで150秒後に塗布面にロールを 接触させ、さらにその5秒後に175℃にて1.1倍 延伸を行い、その後150℃、風速1m/秒にて60分 加熱処理を行い乾燥した。巻き長は2300mであ た。

 続いて、ステンレス製のエンドレスベル 上に、あらかじめ幅手方向にラビング処理 行い、続いて特開2001-66433号公報の段落番号 [0080]の化合物7のトルエン溶液(5質量%)を乾燥 厚が2.2μmとなるように塗布、熱処理を行い ホモジニアス配向の膜を連続的に作製し、 リカーボネートフィルムのインクジェット 布液塗布面と反対の面に、接着剤を用いて 合し、光学フィルム19を作製した。

 (光学フィルム22、25、26、37の作製)
 ゼオノア1020R(日本ゼオン製)100質量部、メチ レンクロライド(第1溶媒)300質量部をミキシン グタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、 各成分を溶解し、ポリマー溶液を調製した。 続いてエンドレスベルトに塗布し、乾燥条件 を変更して剥離残溶を調整して剥離し、その 後の乾燥を調整して前記インクジェットヘッ ドにより前記分散希釈液Aを塗布し、さらに 3に記載の条件で延伸処理を行い光学フィル 22、25、26、37を作製した。

 (光学フィルム39の作製)
 ポリ乳酸100質量部、およびメチレンクロラ ド400質量部をミキシングタンクに投入し、 温、攪拌して溶解し、ポリマー溶液を調製 た。続いてエンドレスベルトに塗布し、乾 、剥離し、その後の乾燥を調整して前記イ クジェットヘッドによりマット剤の分散希 液を塗布し、さらに表3に記載の条件で延伸 処理を行い光学フィルム39を作製した。

 (光学フィルム20、21、23、24、27~36、38の作製 )
 光学フィルム1の作製と同様にして、ウェブ の残留溶媒量、分散希釈液種類、インクジェ ット出射条件、バックロール直径、塗布~バ クロール接触までの時間、塗布~延伸までの 間、ロール接触~延伸までの時間、延伸時の 残留溶媒量を表1~3記載のように変化させ、光 学フィルム20、21、23、24、27~36、38を作製した 。 

 《ハードコート層の塗布》
 前記光学フィルム1~39上に、均一な塗布層と なるように下記のハードコート層塗布組成物 をダイコーターで、インクジェット塗布液塗 布面と反対の面に塗布し、熱風の温度、風速 を徐々に強め最終的に85℃で乾燥し、続いて 性光線照射部より0.1J/cm 2 の照射強度で紫外線照射し、乾燥膜厚で5μm クリアハードコート層を設けた。

 〈ハードコート層塗布組成物〉
 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー 単量体          60質量部
 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー 2量体          20質量部
 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー 3量体以上の成分     20質量部
 光反応開始剤                             4質量部
 (イルガキュア184(チバスペシャルティケミ ルズ(株)製))
 プロピレングリコールモノメチルエーテル              75質量部
 メチルエチルケトン                        75質量部
 次いで、上記ハードコート層の上に下記反 防止層を設け反射防止フィルムを作製した

 《反射防止層(低屈折率層1)の作製》
 下記の低屈折率層組成物1をダイコーターで 塗布し、80℃で5分間乾燥させた後、更に120℃ で5分間熱硬化させ、更に紫外線を175mJ/cm 2 照射して硬化させ、厚さ95nmとなるように低 折率層1を設けた。尚、この低屈折率層1の屈 折率は1.45であった。

 〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製 〉
 テトラエトキシシラン580gとエタノール1144g 混合し、これに酢酸水溶液を添加した後に 室温(25℃)にて1時間攪拌することでテトラ トキシシラン加水分解物Aを調製した。

 〈低屈折率層組成物1〉
 プロピレングリコールモノメチルエーテル             303質量部
 イソプロピルアルコール                     305質量部
 テトラエトキシシラン加水分解物A                 139質量部
 γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシ ン
(信越化学社製KBM503)                    1.6質量部
 10%FZ-2207、プロピレングリコールモノメチル エーテル溶液
(日本ユニカー社製)                        1.3質量部
 但し、光学フィルム21、23、27、28、29には、 硬化後の膜厚が3μmとなるようにマイクログ ビアコーターを用いて下記組成の溶液を塗 し溶剤を蒸発乾燥後、高圧水銀灯を用いて0. 2J/cm 2 の紫外線照射により硬化させ防眩層を形成し た後、反射防止層を設けた。

 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー              70質量部
 トリメチロールプロパントリアクリレート              30質量部
 光反応開始剤                             4質量部
 (イルガキュア184(チバスペシャルティケミ ルズ(株)製))
 酢酸エチル                           150質量部
 プロピレングリコールモノメチルエーテル             150質量部
 シリコン化合物                         0.4質量部
 (BYK-307(ビックケミージャパン社製))
  上記組成物に形成した膜の屈折率が1.60と るように酸化ジルコニウム微粒子(平均粒径 10nm)を添加した。酸化ジルコニウムは塗布液 添加する溶媒の一部を用いてあらかじめ分 したものを使用した。

 次いで、各々の反射防止フィルム1~39を用 いて偏光板を作製した。

 《偏光板の作製》
 厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィル を、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水10 0gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨ 化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68 の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し 光子を得た。

 次いで、下記工程1~5に従って偏光子と前 反射防止フィルム1~39、裏面側のセルロース エステルフィルムを貼り合わせて偏光板を作 製した。裏面側の偏光板保護フィルムには下 記の方法で作製した位相差を有するセルロー スエステルフィルムR(Ro=43nm、Rt=132nm)を用いて それぞれ偏光板とした。

 工程1:50℃の1モル/Lの水酸化ナトリウム溶 液に60秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、 光子と貼合する側を鹸化したセルロースエ テルフィルムを得た。

 工程2:前記偏光子を固形分2質量%のポリビ ニルアルコール接着剤槽中に1~2秒浸漬した。

 工程3:工程2で偏光子に付着した過剰の接 剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理した セルロースエステルフィルムの上にのせて、 更に反射防止層が外側になるように積層し、 配置した。

 工程4:工程3で積層した反射防止フィルムと 光子とセルロースエステルフィルム試料を 力20~30N/cm 2 、搬送スピードは約2m/分で貼合した。

 工程5:80℃の乾燥機中に工程4で作製した 光子とセルロースエステルフィルムと反射 止フィルム1~39とを貼り合わせた試料を2分間 乾燥し、偏光板1~39を作製した。尚、表示装 のバックライト側に用いられる偏光板には 偏光板保護フィルムとしてハードコート層 きセルロースエステルフィルム(KC8UXW-H、コ カミノルタオプト(株)製)と前記セルロース ステルフィルムRを用いて同様に作製した偏 板を使用した。

 〈セルロースエステルフィルムRの作製〉
 (ドープ液Rの調製)
 セルロースエステル(セルロースアセテート プロピオネート アセチル基置換度1.9、プロ オニル基置換度0.8)                   100質量部
 (Mn=100000、Mw=220000、Mw/Mn=2.2)
 トリフェニルホスフェート                       8質量部
 エチルフタリルエチルグリコレート                   2質量部
 メチレンクロライド                       300質量部
 エタノール                            60質量部
 以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌し がら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の安 濾紙No.24を使用して濾過し、ドープ液Eを調 した。

 (二酸化珪素分散液R)
 アエロジル972V(日本アエロジル(株)製)            10質量部
 エタノール                            75質量部
 以上をディゾルバーで30分間攪拌混合した 、マントンゴーリンで分散を行った。二酸 珪素分散液に75質量部のメチレンクロライド を攪拌しながら投入し、ディゾルバーで30分 攪拌混合し、二酸化珪素分散希釈液Rを作製 した。

 (インライン添加液Rの作製)
 メチレンクロライド                       100質量部
 チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ (株)製)       4質量部
 チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ (株)製)       4質量部
 チヌビン326(チバスペシャルティケミカルズ (株)製)       2質量部
 以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌し がら、完全に溶解し、濾過した。

 これに二酸化珪素分散希釈液Rを20質量部 攪拌しながら加えて、更に30分間攪拌した 、セルロースエステル(セルロースアセテー プロピオネート アセチル基置換度1.9、プ ピオニル基置換度0.8)5質量部を攪拌しながら 加えて、更に60分間攪拌した後、アドバンテ ク東洋(株)のポリプロピレンワインドカー リッジフィルターTCW-PPS-1Nで濾過し、インラ ン添加液Eを調製した。

 濾過したドープ液Rを100質量部に対し、濾 過したインライン添加液Rを4質量部加えて、 ンラインミキサー(東レ静止型管内混合機 H i-Mixer、SWJ)で十分混合し、次いで、ベルト流 装置を用い、温度35℃、1.8m幅でステンレス ンド支持体に均一に流延した。ステンレス ンド支持体で、残留溶剤量が100%になるまで 溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上 から剥離した。剥離したセルロースエステル フィルムのウェブを55℃で溶媒を蒸発させ、1 .6m幅にスリットし、その後、テンターでTD方 (フィルムの搬送方向と直交する方向)に130 で1.3倍に延伸した。このときテンターで延 を始めた時の残留溶剤量は18%であった。そ 後、120℃、110℃の乾燥ゾーンを多数のロー で搬送させながら乾燥を終了させ、1.4m幅に リットし、フィルム両端に幅15mm、平均高さ 10μmのナーリング加工を施し、巻き取り、セ ロースエステルフィルムRを得た。残留溶剤 量は0.1%であり、平均膜厚は80μm、巻数は3000m あった。このセルロースエステルフィルム Ro=43nm、Rt=132nmであり、幅方向に遅相軸を有 、幅方向に対する遅相軸のズレ角は±0.6度 内であった。

 《液晶表示装置の作製》
 液晶パネルを以下のようにして作製し、液 表示装置としての特性を評価した。

 市販の32型液晶テレビ(MVA型セル)の予め貼 合されていた表面の偏光板を剥がして、上記 作製した偏光板1~39をそれぞれ液晶セルのガ ス面に貼合した。

 その際、その偏光板の貼合の向きは、光 補償フィルム(位相差フィルム)の面が、液 セル側となるように、かつ、予め貼合され いた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くよ に行い、液晶表示装置1~39を各々作製した。

 以上の様にして作製した試料フィルム、 射防止フィルム、偏光板、液晶表示装置の 々について下記の評価を行った。

 《評価》
 (レターデーションの測定)
 光学フィルムのレターデーション値(Ro)(Rt) 以下の式によって求める。

 Ro=(nx-ny)×d
 Rt=((nx+ny)/2-nz)×d
 ここにおいて、dはフィルムの厚み(nm)、屈 率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相 方向の屈折率ともいう)、ny(フィルム面内で 相軸に直角な方向の屈折率)、nz(厚み方向に おけるフィルムの屈折率)である。

 レターデーション値(Ro)、(Rt)は自動複屈 率計を用いて測定する。KOBRA-21ADH(王子計測 器(株))を用いて、23℃、55%RHの環境下で、波 が590nmで求めた。

 (ブロッキング性の評価)
 光学フィルムの原反を巻き長3000~12000mのま 倉庫内で1ケ月保管した後、ブロッキングの 生を下記基準にて目視で評価した。

 ◎ :ブロッキングなし
 ○ :軽い剥離音がする程度でサンプルに跡 変形がない
 △ :変形はないがサンプルに少し跡が残る
 × :変形がありサンプルに凹凸が残る
 偏光板試料作製時における、偏光子とフィ ムとの貼合時の界面の微細な泡、異物故障 目視で行うことで以下の指標で△、×はNGと し他にも、折れしわやカールが発生している ものはNGとして、チップカットした偏光板の 率を求めた。

 ○:泡、異物は全く無し
 △:泡、異物が少し認められた
 ×:泡、異物が多く認められた
 続いて、偏光板1~39を100セット準備し、淀川 ヒューテック製の偏光板貼合装置を用いてパ ネルに貼合して、ズレ、気泡(100μm径以上)発 をNGとして収率を求めた。

 表示装置の正面コントラスト測定は、暗 にて、トプコン製BM-5Aを用い、白、黒の輝 を測定し、その輝度比を計算し、正面コン ラストとした。

 上記各種の実施例の内容と評価結果をま めて表1~5に示す。

 上表より本発明の光学フィルムは、広幅 基材であっても、すべり性に優れ、ブロッ ング防止、異物故障が改善された光学フィ ムであることが分かる。更に、本発明の反 防止フィルム、偏光板についても異物故障 改善されており、表示品位の高い液晶表示 置も提供出来ることが分かった。