本発明の上記課題は以下の構成により達� ��される。

 1.分子内に下記一般式(A)で表される部分� �造を有するエチレン性不飽和モノマーと下� �一般式(B)で表されるモノマーの少なくとも2� ��以上のモノマーから誘導される紫外線吸収� ��ポリマーを含有することを特徴とする光学� ��ィルム。

(式中、R ¹ は、水素原子、酸素原子、ハロゲン原子、置 換基を有していてもよい脂肪族基、置換基を 有していてもよい芳香族基、または置換基を 有していてもよい複素環基を表し、mは0~8の� �数を表し、mが2~8のときR ¹ は同じでも、異なっていてもよい。
R ² は、エチレン性不飽和結合を部分構造として 有する基を表し、X ¹ は、酸素原子または硫黄原子を表す。)

(式中、R ⁴ ~R ¹¹ は各々水素原子、ハロゲン原子、置換基を有 していてもよい脂肪族基、置換基を有してい てもよい芳香族基、または置換基を有してい てもよい複素環基を表す。但し、R ⁴ ~R ¹¹ で表される基のいずれか1つはエチレン性不� �和結合を部分構造として有する。)
 2.分子内に前記一般式(A)で表される部分構� �を有するエチレン性不飽和モノマー、前記� �般式(B)で表されるモノマー、及び下記一般� �(C)で表されるモノマーの少なくとも3種以上� ��ら誘導される紫外線吸収性ポリマーを含有� ��ることを特徴とする光学フィルム。

(式中、R ¹² は水素原子、またはアルキル基を表し、R ¹³ は置換基を有していてもよいアルキル基を表 す。)
 3.前記一般式(B)で表されるがモノマーが、� �なくとも下記一般式(D)で表されるモノマー� �及び下記一般式(E)で表されるモノマーであ� �ことを特徴とする前記1または2に記載の光学 フィルム。

(式中、各々R ¹⁴ ~R ¹⁸ は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有して いてもよい脂肪族基、置換基を有していても よい芳香族基、または置換基を有していても よい複素環基を表し、pは0~3の整数を表し、R ¹⁹ はエチレン性不飽和結合を部分構造として有 する基を表す。)

(式中、R ²⁰ ~R ²⁴ は各々水素原子、ハロゲン原子、置換基を有 していてもよい脂肪族基、置換基を有してい てもよい芳香族基、または置換基を有してい てもよい複素環基を表し、qは0~4の整数を表� �。但し、R ²⁰ ~R ²³ で表される基のいずれか1つはエチレン性不� �和結合を部分構造として有する。)
 4.前記分子内に前記一般式(A)で表される部� �構造を有するエチレン性不飽和モノマーがN- アクリロイルモルホリンであることを特徴と する前記1~3のいずれか1項に記載の光学フィ� �ム。

 5.前記分子内に前記一般式(A)で表される� �分構造を有するエチレン性不飽和モノマー� �組成比(質量比)がポリマー全体の65%以下であ ることを特徴とする前記1~4のいずれか1項に� �載の光学フィルム。

 6.前記紫外線吸収性ポリマーの重量平均� �子量が1000以上70000以下であることを特徴と� �る前記1~5のいずれか1項に記載の光学フィル� ��。

 7.前記光学フィルムがセルロースエステ� �を含有することを特徴とする前記1~6のいず� �か1項に記載の光学フィルム。

 8.前記光学フィルムが炭素ラジカル捕捉� �、フェノール系化合物、またはリン系化合� �の少なくとも1種を含有することを特徴とす� ��前記1~7のいずれか1項に記載の光学フィルム 。

 9.記セルロースエステルが下記式(1)~(3)のア� ��ル基置換度を満足するセルロースエステル� ��あることを特徴とする前記7または8に記載� �光学フィルム。
式(1) 2.4≦A+B<3.0
式(2) 0≦A≦2.4
式(3) 0.1≦B<3.0
(式中、Aはアセチル基の置換度、Bは炭素数3~5 のアシル基の置換度の総和を表す。)
 10.前記炭素ラジカル捕捉剤が、下記一般式( 1)で表わされる化合物であることを特徴とす� ��前記8または9に記載の光学フィルム。

(式中、R ³¹ は水素原子または炭素数1~10のアルキル基を� �し、R ³² およびR ³³ は、それぞれ独立して炭素数1~8のアルキル基 を表す。)
 11.前記炭素ラジカル捕捉剤が、下記一般式( 2)で表わされる化合物であることを特徴とす� ��前記8または9に記載の光学フィルム。

(式中、R ⁴² ~R ⁴⁶ はおのおの互いに独立して水素原子、置換基 を有していてもよい脂肪族基、置換基を有し ていてもよい芳香族基、または置換基を有し ていてもよい複素環基を表し、nは1または2を 表す。nが1であるとき、R ⁴¹ は置換基を有していてもよい脂肪族基、置換 基を有していてもよい芳香族基、または置換 基を有していてもよい複素環基を表し、nが2� ��あるとき、R ⁴¹ は2価の連結基を表す。)
 12.前記リン系化合物が下記一般式(3)または( 4)で表されるホスホナイト化合物であること� ��特徴とする前記8~11のいずれか1項に記載の� �学フィルム。

 一般式(3)  R ⁵¹ P(OR ⁵² ) ₂
(式中、R ⁵¹ は置換基を有していてもよいフェニル基、ま たは置換基を有していてもよいチエニル基、 R ⁵² は置換基を有していてもよいアルキル基、置 換基を有していてもよいフェニル基、または 置換基を有していてもよいチエニル基を表す 。複数のR ⁵² は互いに結合して環を形成してもよい。)
 一般式(4)  (R ⁵⁴ O) ₂ PR ⁵³ -R ⁵³ P(OR ⁵⁴ ) ₂
(式中、R ⁵³ は置換基を有していてもよいフェニレン基、 または置換基を有していてもよいチエニレン 基、R ⁵⁴ は置換基を有していてもよいアルキル基、置 換基を有していてもよいフェニル基、または 置換基を有していてもよいチエニル基を表す 。複数のR ⁵⁴ は互いに結合して環を形成してもよい。)
 13.前記一般式(4)のR ⁵⁴ が1つのフェニル基に対し炭素数の合計が9~14� ��置換基を有する置換フェニル基であること� ��特徴とする前記12に記載の光学フィルム。
(但し、1つのフェニル基に対し炭素数の合計� ��9~14の範囲内で複数の置換基を有してもよい 。)
 14.前記一般式(4)で表されるホスホナイト化� ��物がテトラキス(2,4-ジ-t-ブチル-5-メチルフ� �ニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイトで� �ることを特徴とする前記12に記載の光学フィ ルム。

 15.前記1~14のいずれか1項に記載の光学フ� �ルムを用いることを特徴とする偏光板。

 16.前記1~14のいずれか1項に記載の光学フ� �ルムまたは前記15に記載の偏光板を用いるこ とを特徴とする液晶表示装置。

 17.分子内に前記一般式(A)で表される部分� ��造を有するエチレン性不飽和モノマー、前� ��一般式(B)で表されるモノマー、及び前記一� ��式(C)で表されるモノマーの少なくとも3種以 上から誘導されることを特徴とする紫外線吸 収性ポリマー。

 18.前記一般式(B)で表されるがモノマーが� ��少なくとも前記一般式(D)で表されるモノマ� ��、及び前記一般式(E)で表されるモノマーで� ��ることを特徴とする前記17に記載の紫外線� �収性ポリマー。

 19.前記一般式(A)で表される部分構造を有� ��るエチレン性不飽和モノマーがN-アクリロ� �ルモルホリンであることを特徴とする前記17 または18に記載の紫外線吸収性ポリマー。

 以下本発明を実施するための最良の形態� ��ついて詳細に説明するが、本発明はこれら� ��限定されるものではない。

 (光学フィルム)
 まず、本発明の光学フィルムの詳細につい� ��説明する。

 本発明において光学フィルムとは、液晶� ��ィスプレイ、プラズマディスプレイ、有機E Lディスプレイ等の各種表示装置に用いられ� �機能フィルムのことであり、詳しくは液晶� �示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フ� �ルム、反射防止フィルム、輝度向上フィル� �、ハードコートフィルム、防眩フィルム、� �電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償� �ィルム等を含む。

 本発明の光学フィルムの基材となる樹脂� ��ィルムに用いられる樹脂としては、セルロ� ��スエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹� ��、ポリスチレン系樹脂、ポリスルホン系樹� ��、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系� ��脂、アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂(ノ ルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィン系 樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式 炭化水素系樹脂等)等を挙げることができる� �この中で、セルロースエステル系樹脂、ポ� �カーボネート系樹脂、単環の環状オレフィ� �系樹脂が好ましく、中でもセルロースエス� �ル系樹脂が最も好ましい。

 また、これらの樹脂は併用して用いても� ��く、例えば、セルロースエステル系樹脂の� ��、セルロースエーテル系樹脂、ビニル系樹� ��(ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコ ール系樹脂等も含む)、環状オレフィン樹脂� �ポリエステル系樹脂(芳香族ポリエステル、� ��肪族ポリエステル、もしくはそれらを含む� ��重合体)、アクリル系樹脂(共重合体も含む)� ��を含有させることができる。セルロースエ� ��テル以外の樹脂の含有量としては0.1~30質量% が好ましい。

 本発明に係る光学フィルムは、偏光板保� ��フィルム、位相差フィルム、光学補償フィ� ��ムに好ましく用いられ、特に、偏光板保護� ��ィルムに好ましく用いられる。

 更に本発明を実施するための最良の形態� ��してセルロースエステルの例を詳細に説明� ��るが、本発明はこれらに限定されるもので� ��ない。

 セルロースエステル光学フィルムの製造� ��は主に二つあり、その一つである溶液流延� ��は、セルロースエステルを溶媒に溶解した� ��液を流延し、溶媒を蒸発、乾燥することに� ��って製膜するものであり、この方法はフィ� ��ム内部に残存する溶媒を除去しなければな� ��ないため、乾燥ライン、乾燥エネルギー、� ��び蒸発した溶媒の回収及び再生装置等、製� ��ラインへの設備投資及び製造コストが膨大� ��なっており、これらを削減することが重要� ��課題となっている。これに対し溶融流延法� ��よる製膜では、溶液流延としてセルロース� ��ステルの溶液を調整するための溶媒を用い� ��いため、前述の乾燥負荷、設備負荷が生じ� ��い。従って、本発明では溶液流延法で製造� ��るよりも、溶融流延法を特に好ましく用い� ��。

 本発明者らは上記課題に対し鋭意検討の� ��果、セルロースエステルに特定のベンゾト� ��アゾール構造をもつモノマーと特定の構造� ��もつモノマーから誘導されるポリマーが特� ��的に相溶性が良く、溶融製膜しても、ヘイ� ��値が小さく、驚くべきことに寸法安定性に� ��れ、リターデーションの均一性が良好で、� ��時に、フィルム幅手方向の端部の着色が低� ��ことも分かった。更には、炭素ラジカル捕� ��剤、フェノール系化合物、及びリン系化合� ��からなる群から選択される少なくとも1種の 化合物を混合させて溶融製膜することにより 、更に寸法安定性とリターデーションの均一 性が改善され、同時にフィルム幅手方向の端 部の着色も改善できることも分かった。これ らの効果により溶液製膜法で作製されたもの と同等以上の特性を有するセルロースエステ ル光学フィルムを溶融製膜法でも得られるこ とが分かった。

 以下、本発明に用いられる各種化合物につ� ��て詳述する。
(分子内に前記一般式(A)で表される部分構造� �有するエチレン性不飽和モノマーと前記一� �式(B)で表されるモノマーの少なくとも2種以� ��から誘導される紫外線吸収性ポリマー)
 本発明の光学フィルムは、分子内に下記一� ��式(A)で表される部分構造を有するエチレン� ��不飽和モノマーと下記一般式(B)で表される� ��ノマーの少なくとも2種以上から誘導される 紫外線吸収性ポリマーを少なくとも1種含有� �る。前記紫外線吸収性ポリマーは非カチオ� �性のポリマーである。

 一般式(A)の式中、R ¹ は、水素原子、酸素原子、ハロゲン原子、置 換基を有していてもよい脂肪族基、置換基を 有していてもよい芳香族基、または置換基を 有していてもよい複素環基を表し、mは0~8の� �数を表し、mが2~8のときR ¹ は同じでも、異なっていてもよい。R ² は、エチレン性不飽和結合を部分構造として 有する基を表し、X ¹ は、酸素原子または硫黄原子を表す。

 R ¹ で表される基としては、特に制限はないが、 例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エ� �ル基、プロピル基、イソプロピル基、t-ブチ ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基 、ドデシル基、トリフルオロメチル基等)、� �クロアルキル基(例えば、シクロペンチル基� ��シクロヘキシル基等)、アリール基(例えば� �フェニル基、ナフチル基等)、アシルアミノ� ��(例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルア ミノ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチル� ��オ基、エチルチオ基等)、アリールチオ基(� �えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)� ��アルケニル基(例えば、ビニル基、2-プロペ� ��ル基、3-ブテニル基、1-メチル-3-プロペニル 基、3-ペンテニル基、1-メチル-3-ブテニル基� �4-ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等)、� �ロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子� ��臭素原子、沃素原子等)、アルキニル基(例� �ば、プロパルギル基等)、複素環基(例えば、 ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基 、イミダゾリル基等)、アルキルスルホニル� �(例えば、メチルスルホニル基、エチルスル� ��ニル基等)、アリールスルホニル基(例えば� �フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニ� �基等)、アルキルスルフィニル基(例えば、メ チルスルフィニル基等)、アリールスルフィ� �ル基(例えば、フェニルスルフィニル基等)、 ホスホノ基、アシル基(例えば、アセチル基� �ピバロイル基、ベンゾイル基等)、カルバモ� ��ル基(例えば、アミノカルボニル基、メチル アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボ ニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロ ヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミ ノカルボニル基、2-ピリジルアミノカルボニ� ��基等)、スルファモイル基(例えば、アミノ� �ルホニル基、メチルアミノスルホニル基、� �メチルアミノスルホニル基、ブチルアミノ� �ルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基� �シクロヘキシルアミノスルホニル基、オク� �ルアミノスルホニル基、ドデシルアミノス� �ホニル基、フェニルアミノスルホニル基、� �フチルアミノスルホニル基、2-ピリジルアミ ノスルホニル基等)、スルホンアミド基(例え� ��、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスル� ��ンアミド基等)、シアノ基、アルコキシ基(� �えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキ� �基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキ シ基、ナフチルオキシ基等)、複素環オキシ� �、シロキシ基、アシルオキシ基(例えば、ア� ��チルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、ス ルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボ ニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ基� �エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチ� �アミノ基、シクロペンチルアミノ基、2-エチ ルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等)� �アニリノ基(例えば、フェニルアミノ基、ク� ��ロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニ� ��ジノ基、ナフチルアミノ基、2-ピリジルア� �ノ基等)、イミド基、ウレイド基(例えば、メ チルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチ ルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、 オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、 フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、 2-ピリジルアミノウレイド基等)、アルコキシ カルボニルアミノ基(例えば、メトキシカル� �ニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミ� �基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メ トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基 、フェノキシカルボニル等)、アリールオキ� �カルボニル基(例えば、フェノキシカルボニ� ��基等)、複素環チオ基、チオウレイド基、カ ルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシ ル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙 げられる。これらの置換基は同様の置換基に よって更に置換されていてもよい。

 R ² はエチレン性不飽和結合を有するが、具体例 としては、例えば、ビニル基、アリル基、ア クリロイル基、メタクリロイル基、スチリル 基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基 、シアン化ビニル基、2-シアノアクリルオキ� ��基、1,2-エポキシ基、ビニルベンジル基、ビ ニルエーテル基などが挙げられるが、好まし くは、ビニル基、アクリロイル基、メタクリ ロイル基、アクリルアミド基、メタクリルア ミド基である。

 以下に本発明で用いられる前記分子内に� ��記一般式(A)で表される部分構造を有するエ� ��レン性不飽和モノマーの好ましい具体例を� ��示するが、これらに限定されるものではな� ��。

 前記分子内に前記一般式(A)で表される部� ��構造を有するエチレン性不飽和モノマーは1 種或いは2種以上組み合わせて用いることが� �きる。また前記一般式(A)で表される部分構� �を有するエチレン性不飽和モノマーとして� �に好ましくはN-アクリロイルモルホリンであ る。

 本発明に用いられる前記分子内に前記一� ��式(A)で表される部分構造を有するエチレン� ��不飽和モノマーは市販品として入手または� ��知の文献を参照して合成することができる� ��

 一般式(B)の式中、R ⁴ ~R ¹¹ は各々水素原子、ハロゲン原子、置換基を有 していてもよい脂肪族基、置換基を有してい てもよい芳香族基、または置換基を有してい てもよい複素環基を表す。但し、R ⁴ ~R ¹¹ で表される基のいずれか1つはエチレン性不� �和結合を部分構造として有する。

 前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ� ��原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子な� ��が挙げられ、好ましくはフッ素原子、塩素� ��子である。また、置換基を有していてもよ� ��脂肪族基、置換基を有していてもよい芳香� ��基、または置換基を有していてもよい複素� ��基としては、例えば、アルキル基(例えば、 メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒド ロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフ ルオロメチル基、t-ブチル基など)、アルケニ ル基(例えば、ビニル基、アリル基、3-ブテン -1-イル基など)、アリール基(例えば、フェニ� ��基、ナフチル基、p-トリル基、p-クロロフェ ニル基など)、複素環基(例えば、ピリジル基� ��ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル� ��、ベンズオキサゾリル基など)、アルコキシ 基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソ� �ロポキシ基、n-ブトキシ基など)、アリール� �キシ基(例えば、フェノキシ基など)、複素環 オキシ基(例えば、1-フェニルテトラゾール-5- オキシ基、2-テトラヒドロピラニルオキシ基� ��ど)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ� �、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ� �など)、アシル基(例えば、アセチル基、プロ パノイル基、ブチロイル基など)、アルコキ� �カルボニル基(例えば、メトキシカルボニル� ��、エトキシカルボニル基など)、アリールオ キシカルボニル基(例えば、フェノキシカル� �ニル基など)、カルバモイル基(例えば、メチ ルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、 ジメチルカルバモイル基など)、アミノ基、� �ルキルアミノ基(例えば、メチルアミノ基、� ��チルアミノ基、ジエチルアミノ基など)、ア ニリノ基(例えば、アニリノ基、N-メチルアニ リノ基など)、アシルアミノ基(例えば、アセ� ��ルアミノ基、プロピオニルアミノ基など)、 ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、スル ホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミ� �基、ベンゼンスルホンアミド基など)、スル� ��ァモイルアミノ基(例えば、ジメチルスルフ ァモイルアミノ基など)、スルホニル基(例え� ��、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル� ��、フェニルスルホニル基など)、スルファモ イル基(例えば、エチルスルファモイル基、� �メチルスルファモイル基など)、スルホニル� ��ミノ基(例えば、メタンスルホニルアミノ基 、ベンゼンスルホニルアミノ基など)、ウレ� �ド基(例えば、3-メチルウレイド基、3,3-ジメ� ��ルウレイド基、1,3-ジメチルウレイド基など )、イミド基(例えば、フタルイミド基など)、 シリル基(例えば、トリメチルシリル基、ト� �エチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基 など)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ� ��、エチルチオ基、n-ブチルチオ基など)、ア� ��ールチオ基(例えば、フェニルチオ基など)� �が挙げられるが、好ましくは、アルキル基� �アリール基である。R ⁴ ~R ¹¹ で表される各基が、更に置換可能な基である 場合、更に置換基を有していてもよく、置換 基としては前記R ¹ と同様の基を挙げることができる。また、隣 接するR ⁴ ~R ⁷ またはR ⁸ ~R ¹¹ が互いに連結して5~7員の環を形成していても よい。

 R ⁴ ~R ¹¹ で表される基のいずれか1つはエチレン性不� �和結合を部分構造として有するが、エチレ� �性不飽和結合の具体例としては、ビニル基� �アリル基、アクリロイル基、メタクリロイ� �基、スチリル基、アクリルアミド基、メタ� �リルアミド基、シアン化ビニル基、2-シアノ アクリルオキシ基、1,2-エポキシ基、ビニル� �ンジル基、ビニルエーテル基などが挙げら� �るが、好ましくは、ビニル基、アクリロイ� �基、メタクリロイル基アクリルアミド基、� �タクリルアミド基である。また、エチレン� �不飽和結合を部分構造として有するとは、� �記エチレン性不飽和結合が直接、若しくは2� ��以上の連結基によって結合していることを� ��味し、2価以上の連結基とは、例えば、アル キレン基(例えば、メチレン、1,2-エチレン、1 ,3-プロピレン、1,4-ブチレン、シクロヘキサ� �-1,4-ジイルなど)、アルケニレン基(例えば、� ��テン-1,2-ジイル、ブタジエン-1,4-ジイルなど )、アルキニレン基(例えば、エチン-1,2-ジイ� �、ブタン-1,3-ジイン-1,4-ジイルなど)、少なく とも一つの芳香族基を含む化合物から誘導さ れる連結基(例えば、置換若しくは無置換の� �ンゼン、縮合多環炭化水素、芳香族複素環� �芳香族炭化水素環集合、芳香族複素環集合� �ど)、ヘテロ原子連結基(酸素、硫黄、窒素、 ケイ素、リン原子など)が挙げられるが、好� �しくは、アルキレン基、及び、ヘテロ原子� �連結する基である。これらの連結基は更に� �み合わせて複合基を形成してもよい。

 以下に本発明で用いられる前記一般式(B)� ��表されるモノマーの好ましい具体例を例示� ��るが、これらに限定されるものではない。

 前記分子内に前記一般式(B)で表されるエチ� ��ン性不飽和モノマーは1種或いは2種以上組� �合わせて用いることができる。また前記一� �式(D)、前記一般式(E)の2種以上を組合わせて� ��いることが好ましい。前記一般式(D)の式中� ��各々R ¹⁴ ~R ¹⁸ は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有して いてもよい脂肪族基、置換基を有していても よい芳香族基、または置換基を有していても よい複素環基を表し、pは0~3の整数を表し、R ¹⁹ はエチレン性不飽和結合を部分構造として有 する基を表す。前記一般式(E)の式中、R ²⁰ ~R ²⁴ は各々水素原子、ハロゲン原子、置換基を有 していてもよい脂肪族基、置換基を有してい てもよい芳香族基、または置換基を有してい てもよい複素環基を表し、qは0~4の整数を表� �。但し、R ²⁰ ~R ²³ で表される基のいずれか1つはエチレン性不� �和結合を部分構造として有する。置換基を� �していてもよい脂肪族基、置換基を有して� �てもよい芳香族基、または置換基を有して� �てもよい複素環基、及びエチレン性不飽和� �合を部分構造として有する基としては前記� �般式(B)と同様の基を挙げることができる。

 本発明に用いられる前記一般式(B)で表さ� ��るモノマー及びその中間体は公知の文献を� ��照して合成することができる。例えば、米� ��特許第3,072,585号、同3,159,646号、同3,399,173号� ��同3,761,272号、同4,028,331号、同5,683,861号、ヨ� ��ロッパ特許第86,300,416号、特開昭63-227575号、 同63-185969号、Polymer Bulletin.V.20(2)、169-176及びC hemical Abstracts V.109、No.191389などを参照して� �成することができる。

 本発明の光学フィルムは、分子内に前記� ��般式(A)で表される部分構造を有するエチレ� ��性不飽和モノマー、前記一般式(B)で表され� ��モノマー、及び前記一般式(C)で表されるの� ��なくとも3種以上のモノマーから誘導される 紫外線吸収性ポリマーを少なくとも1種含有� �ることが好ましい。

 一般式(C)の式中、R ¹² は水素原子、またはアルキル基を表し、R ¹³ は置換基を有していてもよいアルキル基を表 すが、アルキル基としては、例えば、メチル 基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基 、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、� �ミル基、イソアミル基、ヘキシル基などが� �げることができ、これらは無置換でも、置� �されていても良く置換基としては、前記一� �式(B)と同様の基を挙げることができる。ま� �前記一般式(C)で表されるモノマーは1種或い� ��2種以上組み合わせて用いることができる。 本発明に用いられる前記一般式(C)で表される モノマーは市販品として入手または公知の文 献を参照して合成することができる。

 本発明の光学フィルムに含有する紫外線� ��収性ポリマーは、更に他の重合性モノマー� ��の共重合体でもよく、共重合可能な他の重� ��性モノマーとしては、例えば、スチレン誘� ��体(例えば、スチレン、α-メチルスチレン、 o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチ ルスチレン、ビニルナフタレンなど)、アク� �ル酸エステル誘導体(例えば、アクリル酸メ� ��ル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピ� ��、アクリル酸ブチル、アクリル酸i-ブチル� �アクリル酸t-ブチル、アクリル酸オクチル、 アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベン ジルなど)、メタクリル酸エステル誘導体(例� ��ば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ� ��ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸� ��チル、メタクリル酸i-ブチル、メタクリル� �t-ブチル、メタクリル酸オクチル、メタクリ ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル 等)、アルキルビニルエーテル(例えば、メチ� ��ビニルエーテル、エチルビニルエーテル、� ��チルビニルエーテルなど)、アルキルビニル エステル(例えば、ギ酸ビニル、酢酸ビニル� �酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、ステアリ� �酸ビニルなど)、クロトン酸、マレイン酸、� ��マル酸、イタコン酸、アクリロニトリル、� ��タクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニ� ��デン、アクリルアミド、メタクリルアミド� ��どの不飽和化合物が挙げられる。好ましく� ��、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル� ��酢酸ビニルである。また特に好ましくは、� ��子内に前記一般式(A)で表される部分構造を� ��するエチレン性不飽和モノマー、前記一般� ��(D)で表されるモノマー、前記一般式(E)で表� ��れるモノマー、及び前記一般式(C)で表され� ��モノマーの少なくとも4種以上から誘導され る紫外線吸収性ポリマーである。

 本発明の紫外線吸収性ポリマーの重量平� ��分子量は1000以上70000以下であることが好ま� ��く、より好ましくは2000~50000、更に好ましく は5000~30000である。重量平均分子量が1000未満� ��場合、フィルム表面への滲出が起こる可能� ��があり、また70000より大きい場合、樹脂と� �相溶性が悪くなる可能性がある。

 更に本発明の紫外線吸収性ポリマー中の� ��分子量成分は少ない方が好ましく、分子量1 000未満の低分子量成分の比率が5質量%以下で� ��ることが好ましく、更に好ましくは1質量%� �下である。また本発明の紫外線吸収性ポリ� �ーの重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn比が1.5 ~4.0のものが好ましく用いられ、特に好まし� �は1.5~3.0である。

 本発明の紫外線吸収性ポリマーを重合す� ��方法は特に問わないが、従来公知の方法を� ��く採用することができ、例えばラジカル重� ��、アニオン重合、カチオン重合などが挙げ� ��れる。ラジカル重合法の開始剤としては、� ��えば、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられ� ��アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、アゾビ� ��イソブチル酸ジエステル誘導体、過酸化ベ� ��ゾイル、ジラウロイルパーオキサイドなど� ��挙げられる。重合溶媒は特に問わないが、� ��えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香� ��炭化水素系溶媒、ジクロロエタン、クロロ� ��ルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テ� ��ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル� ��溶媒、ジメチルホルムアミド等のアミド系� ��媒、メタノール等のアルコール系溶媒、酢� ��メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、� ��セトン、シクロヘキサノン、メチルエチル� ��トンなどのケトン系溶媒、水溶媒等が挙げ� ��れる。溶媒の選択により、均一系で重合す� ��溶液重合、生成したポリマーが沈澱する沈� ��重合、ミセル状態で重合する乳化重合を行� ��こともできる。

 本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマ� ��の重量平均分子量は、公知の分子量調節方� ��で調整することができる。そのような分子� ��調節方法としては、例えば四塩化炭素、ラ� ��リルメルカプタン、チオグリコール酸オク� ��ル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げ� ��れる。重合温度は通常室温から130℃、好ま� ��くは50℃から110℃で行われる。

 上記各モノマーの使用割合は、得られる� ��外線吸収性ポリマーと他のポリマーとの相� ��性、光学フィルムの透明性や機械的強度に� ��する影響を考慮して適宜選択される。

 本発明の紫外線吸収性ポリマー中の前記� ��子内に前記一般式(A)で表される部分構造を� ��するエチレン性不飽和モノマーの含有比率� ��全体の10~90質量%であることが好ましく、よ� ��好ましくは、30~65質量%である。本発明の紫� ��線吸収性ポリマー中の前記一般式(B)で表さ� ��るモノマーの含有比率は全体の1~70質量%で� �ることが好ましく、より好ましくは、5~50質� ��%である。本発明の紫外線吸収性ポリマー中 の前記一般式(C)で表されるモノマーの含有比 率は全体の1~70質量%であることが好ましく、� ��り好ましくは、1~50質量%である。

 本発明の紫外線吸収性ポリマーは、光学� ��ィルムを形成する樹脂に対し、0.1~50質量%の 割合で混ぜることが好ましく、更に好ましく は0.5~30質量%の割合で混ぜることが好ましい� �この時、光学フィルムを形成したときのヘ� �ズが1.0以下であれば特に制限はされないが� �好ましくはヘイズが0.5以下である。更に好� �しくは、光学フィルムを形成したときのヘ� �ズが0.3以下である。

 更に前述したように、液晶劣化防止の観� ��から波長380nm以下の紫外線吸収性能に優れ� �かつ、良好な液晶表示性の観点から400nm以上 の可視光吸収が少ないものが好ましい。本発 明においては、特に、波長380nmでの透過率が8 %以下であることが好ましく、4%以下が更に好 ましく、1%以下であることが特に好ましい。

 (炭素ラジカル捕捉剤)
 本発明に用いられる「炭素ラジカル捕捉剤� ��とは、炭素ラジカルが速やかに付加反応し� ��る基(例えば2重結合、3重結合等の不飽和基) を有し、かつ炭素ラジカル付加後に重合等の 後続反応が起こらない安定な生成物を与える 化合物を意味する。上記炭素ラジカル捕捉剤 としては分子内に速やかに炭素ラジカルと反 応する基((メタ)アクリロイル基、アリール基 等の不飽和基)およびフェノール系、ラクト� �系化合物等のラジカル重合禁止能を有する� �合物が有用であり、特に下記一般式(1)また� �下記一般式(2)で表わされる化合物が好まし� �。

 一般式(1)において、R ³¹ は水素原子または炭素数1~10のアルキル基を� �し、好ましくは水素原子または炭素数1~4の� �ルキル基であり、特に好ましくは水素原子� �たはメチル基である。R ³² およびR ³³ は、それぞれ独立して炭素数1~8のアルキル基 を表し、直鎖でも、分岐構造または環構造を 有してもよい。R ³² およびR ³³ は、好ましくは4級炭素を含む「*-C(CH ₃ ) ₂ -R″」で表される構造(*は芳香環への連結部� �を表し、R″は炭素数1~5のアルキル基を表す� ��)である。R ³² は、より好ましくはtert-ブチル基、tert-アミ� �基またはtert-オクチル基である。R ³³ は、より好ましくはtert-ブチル基、tert-アミ� �基である。上記一般式(1)で表される化合物� �して、市販のものでは「SumilizerGM、SumilizerGS� ��(共に商品名、住友化学(株)製)等が挙げられ る。以下に上記一般式(2)で表わされる化合物 の具体例(I-1~I-18)を例示するが、本発明はこ� �らに限定されるものではない。

 一般式(2)において、R ⁴² ~R ⁴⁶ はおのおの互いに独立して水素原子または置 換基を表し、R ⁴² ~R ⁴⁶ で表される置換基としては特に制限はないが 、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、� �チル基、プロピル基、イソプロピル基、t-ブ チル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル 基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等)� �シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル� ��、シクロヘキシル基等)、アリール基(例え� �、フェニル基、ナフチル基等)、アシルアミ� ��基(例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイル アミノ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチ� ��チオ基、エチルチオ基等)、アリールチオ基 (例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基� �)、アルケニル基(例えば、ビニル基、2-プロ� ��ニル基、3-ブテニル基、1-メチル-3-プロペニ ル基、3-ペンテニル基、1-メチル-3-ブテニル� �、4-ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等)� �ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原� ��、臭素原子、沃素原子等)、アルキニル基(� �えば、プロパルギル基等)、複素環基(例えば 、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル 基、イミダゾリル基等)、アルキルスルホニ� �基(例えば、メチルスルホニル基、エチルス� ��ホニル基等)、アリールスルホニル基(例え� �、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホ� �ル基等)、アルキルスルフィニル基(例えば、 メチルスルフィニル基等)、アリールスルフ� �ニル基(例えば、フェニルスルフィニル基等) 、ホスホノ基、アシル基(例えば、アセチル� �、ピバロイル基、ベンゾイル基等)、カルバ� ��イル基(例えば、アミノカルボニル基、メチ ルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカル ボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シク ロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルア ミノカルボニル基、2-ピリジルアミノカルボ� ��ル基等)、スルファモイル基(例えば、アミ� �スルホニル基、メチルアミノスルホニル基� �ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミ� �スルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル� �、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オ� �チルアミノスルホニル基、ドデシルアミノ� �ルホニル基、フェニルアミノスルホニル基� �ナフチルアミノスルホニル基、2-ピリジルア ミノスルホニル基等)、スルホンアミド基(例� ��ば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンス� ��ホンアミド基等)、シアノ基、アルコキシ基 (例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポ� �シ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノ キシ基、ナフチルオキシ基等)、複素環オキ� �基、シロキシ基、アシルオキシ基(例えば、� ��セチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、 スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカル ボニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ� �、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブ� �ルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2-エ チルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等 )、アニリノ基(例えば、フェニルアミノ基、� ��ロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、ア� ��シジノ基、ナフチルアミノ基、2-ピリジル� �ミノ基等)、イミド基、ウレイド基(例えば、 メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペン チルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基 、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基 、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基 、2-ピリジルアミノウレイド基等)、アルコキ シカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカ� �ボニルアミノ基、フェノキシカルボニルア� �ノ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、 メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル 基、フェノキシカルボニル等)、アリールオ� �シカルボニル基(例えば、フェノキシカルボ� ��ル基等)、複素環チオ基、チオウレイド基、 カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキ シル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が 挙げられる。これらの置換基は同様の置換基 によって更に置換されていてもよい。

 前記一般式(2)において、nは1または2を表� ��。

 前記一般式(2)において、nが1であるとき、R ⁴¹ は置換基を表し、nが2であるとき、R ⁴¹ は2価の連結基を表す。R ⁴¹ が置換基を表すとき、置換基としては、前記 R ⁴² ~R ⁴⁵ で表される置換基と同様な基を挙げることが できる。

 R ⁴¹ は2価の連結基を表すとき、2価の連結基とし� ��例えば、置換基を有しても良いアルキレン� ��、置換基を有しても良いアリーレン基、酸� ��原子、窒素原子、硫黄原子、或いはこれら� ��連結基の組み合わせを挙げることができる� ��

 前記一般式(2)において、nは1が好ましい� �

 次に、本発明における前記一般式(2)で表� ��れる化合物の具体例を示すが、本発明は以� ��の具体例によって限定されるものではない� ��

 上記、炭素ラジカル捕捉剤は、それぞれ1 種或いは2種以上組み合わせて用いることが� �き、その配合量は本発明の目的を損なわな� �範囲で適宜選択されるが、セルロースエス� �ル100質量部に対して、通常0.001~10.0質量部、� ��ましくは0.01~5.0質量部、更に好ましくは、0. 1~1.0質量部である。

 (フェノール系化合物)
 本発明に用いられるフェノール系化合物は� ��例えば、米国特許第4,839,405号明細書の第12~1 4欄に記載されているもの等の、2,6-ジアルキ� ��フェノール誘導体化合物が好ましく、特に� ��記一般式(5)で表される化合物が好ましい。

 式中、R ⁶¹ 、R ⁶² 及びR ⁶³ は、さらに置換されているかまたは置換され ていないアルキル置換基を表す。フェノール 系化合物の具体例としては、n-オクタデシル3 -(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロ� ��オネート、n-オクタデシル3-(3,5-ジ-t-ブチル- 4-ヒドロキシフェニル)-アセテート、n-オクタ デシル3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエ� �ト、n-ヘキシル3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ� �ェニルベンゾエート、n-ドデシル3,5-ジ-t-ブ� �ル-4-ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネ� �-ドデシル3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェ ニル)プロピオネート、ドデシルβ(3,5-ジ-t-ブ� ��ル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、 エチルα-(4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルフェニ� ��)イソブチレート、オクタデシルα-(4-ヒドロ キシ-3,5-ジ-t-ブチルフェニル)イソブチレート 、オクタデシルα-(4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチ� ��-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2-( n-オクチルチオ)エチル3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒド� �キシ-ベンゾエート、2-(n-オクチルチオ)エチ� ��3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニルアセ� �ート、2-(n-オクタデシルチオ)エチル3,5-ジ-t-� ��チル-4-ヒドロキシフェニルアセテート、2-(n -オクタデシルチオ)エチル3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒ ドロキシ-ベンゾエート、2-(2-ヒドロキシエチ ルチオ)エチル3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベ� ��ゾエート、ジエチルグリコールビス-(3,5-ジ- t-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)プロピオネ� �ト、2-(n-オクタデシルチオ)エチル3-(3,5-ジ-t-� ��チル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート 、ステアルアミドN,N-ビス-[エチレン3-(3,5-ジ-t -ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネー� ��]、n-ブチルイミノN,N-ビス-[エチレン3-(3,5-ジ -t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネ� �ト]、2-(2-ステアロイルオキシエチルチオ)エ� ��ル3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート 、2-(2-ステアロイルオキシエチルチオ)エチル 7-(3-メチル-5-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)� ��プタノエート、1,2-プロピレングリコールビ ス-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)� �ロピオネート]、エチレングリコールビス-[3- (3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピ オネート]、ネオペンチルグリコールビス-[3-( 3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピ� ��ネート]、エチレングリコールビス-(3,5-ジ-t- ブチル-4-ヒドロキシフェニルアセテート)、� �リセリン-l-n-オクタデカノエート-2,3-ビス-(3, 5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルアセテー� ��)、ペンタエリトリトール-テトラキス-[3-(3� �,5″-ジ-t-ブチル-4″-ヒドロキシフェニル)プ� ��ピオネート]、1,1,1-トリメチロールエタン-� �リス-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニ� �)プロピオネート]、ソルビトールヘキサ-[3-(3 ,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピ� �ネート]、2-ヒドロキシエチル7-(3-メチル-5-t-� ��チル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート 、2-ステアロイルオキシエチル7-(3-メチル-5-t- ブチル-4-ヒドロキシフェニル)ヘプタノエー� �、1,6-n-ヘキサンジオール-ビス[(3″,5″-ジ-t-� ��チル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート ]、ペンタエリトリトール-テトラキス(3,5-ジ-t -ブチル-4-ヒドロキシヒドロシンナメート)が� ��げられる。上記タイプのフェノール系化合� ��は、例えば、CibaSpecialtyChemicalsから、“Irgano x1076”及び“Irganox1010”という商品名で市販� �れている。

 上記、フェノール系化合物は、それぞれ1 種或いは2種以上組み合わせて用いることが� �き、その配合量は本発明の目的を損なわな� �範囲で適宜選択されるが、セルロースエス� �ル100質量部に対して、通常0.001~10.0質量部、� ��ましくは0.05~5.0質量部、更に好ましくは、0. 2~2.0質量部である。

 (リン系化合物)
 本発明に用いられるリン系化合物は、従来� ��知のものを用いることができる。好ましく� ��ホスファイト(phosphite)、ホスホナイト(phospho nite)、ホスフィナイト(phosphinite)、または第3� �ホスファン(phosphane)からなる群より選ばれる 化合物であり、例えば、特開2002-138188号、特� ��2005-344044号段落番号0022~0027、特開2004-182979号 段落番号0023~0039、特開平10-306175号、特開平1-2 54744号、特開平2-270892号、特開平5-202078号、特 開平5-178870号、特表2004-504435号、特表2004-530759 号、および特願2005-353229号の明細書中に記載� ��れているものが好ましい。更に好ましいリ� ��系化合物としては前記一般式(3)または(4)で� ��されるホスホナイト化合物である。

 前記一般式(3)において、R ⁵¹ は置換基を有していてもよいフェニル基、ま たは置換基を有していてもよいチエニル基を 、R ⁵² は置換基を有していてもよいアルキル基、置 換基を有していてもよいフェニル基、または 置換基を有していてもよいチエニル基を表す 。複数のR ⁵² は互いに結合して環を形成してもよいが、R ⁵² として好ましくは置換フェニル基である。置 換フェニル基の、置換基の炭素数の合計は、 好ましくは9~14であり、より好ましくは9~11で� ��る。

 前記、置換基としては特に制限はないが� ��例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エ チル基、プロピル基、イソプロピル基、t-ブ� ��ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル� ��、ドデシル基、トリフルオロメチル基等)、 シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル� �、シクロヘキシル基等)、アリール基(例えば 、フェニル基、ナフチル基等)、アシルアミ� �基(例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイル� ��ミノ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチ� �チオ基、エチルチオ基等)、アリールチオ基( 例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等 )、アルケニル基(例えば、ビニル基、2-プロ� �ニル基、3-ブテニル基、1-メチル-3-プロペニ� ��基、3-ペンテニル基、1-メチル-3-ブテニル基 、4-ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等)、 ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原� �、臭素原子、沃素原子等)、アルキニル基(例 えば、プロパルギル基等)、複素環基(例えば� ��ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル� ��、イミダゾリル基等)、アルキルスルホニル 基(例えば、メチルスルホニル基、エチルス� �ホニル基等)、アリールスルホニル基(例えば 、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニ ル基等)、アルキルスルフィニル基(例えば、� ��チルスルフィニル基等)、アリールスルフィ ニル基(例えば、フェニルスルフィニル基等)� ��ホスホノ基、アシル基(例えば、アセチル基 、ピバロイル基、ベンゾイル基等)、カルバ� �イル基(例えば、アミノカルボニル基、メチ� ��アミノカルボニル基、ジメチルアミノカル� ��ニル基、ブチルアミノカルボニル基、シク� ��ヘキシルアミノカルボニル基、フェニルア� ��ノカルボニル基、2-ピリジルアミノカルボ� �ル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノ スルホニル基、メチルアミノスルホニル基、 ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノ スルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基 、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オク チルアミノスルホニル基、ドデシルアミノス ルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、 ナフチルアミノスルホニル基、2-ピリジルア� ��ノスルホニル基等)、スルホンアミド基(例� �ば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンス� �ホンアミド基等)、シアノ基、アルコキシ基( 例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキ シ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノ� ��シ基、ナフチルオキシ基等)、複素環オキシ 基、シロキシ基、アシルオキシ基(例えば、� �セチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、� ��ルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカル� ��ニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ基 、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチ ルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2-エ� ��ルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等) 、アニリノ基(例えば、フェニルアミノ基、� �ロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、ア� �シジノ基、ナフチルアミノ基、2-ピリジルア ミノ基等)、イミド基、ウレイド基(例えば、� ��チルウレイド基、エチルウレイド基、ペン� ��ルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基� ��オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基� ��フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基� ��2-ピリジルアミノウレイド基等)、アルコキ� ��カルボニルアミノ基(例えば、メトキシカル ボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミ ノ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、� ��トキシカルボニル基、エトキシカルボニル� ��、フェノキシカルボニル等)、アリールオキ シカルボニル基(例えば、フェノキシカルボ� �ル基等)、複素環チオ基、チオウレイド基、� ��ルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキ� ��ル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が� ��げられる。これらの置換基は同様の置換基� ��よって更に置換されていてもよい。

 前記一般式(4)において、R ⁵³ は置換基を有していてもよいフェニレン基、 または置換基を有していてもよいチエニレン 基を、R ⁵⁴ は置換基を有していてもよいアルキル基、置 換基を有していてもよいフェニル基、または 置換基を有していてもよいチエニル基を表す 。複数のR ⁵⁴ は互いに結合して環を形成してもよいが、R ⁵⁴ として好ましくは置換フェニル基である。置 換フェニル基の、置換基の炭素数の合計は、 好ましくは9~14であり、より好ましくは9~11で� ��る。前記置換基としては、R ⁵² において、述べたものと同じである。

 具体的には、一般式(3)で表されるホスホ� ��イト化合物としては、ジメチル-フェニルホ スホナイト、ジ-t-ブチル-フェニルホスホナ� �ト等のジアルキル-フェニルホスホナイト類� ��ジフェニル-フェニルホスホナイト、ジ-(4-� �ンチル-フェニル)-フェニルホスホナイト、� �-(2-t-ブチル-フェニル)-フェニルホスホナイ� �、ジ-(2-メチル-3-ペンチル-フェニル)-フェニ� ��ホスホナイト、ジ-(2-メチル-4-オクチル-フ� �ニル)-フェニルホスホナイト、ジ-(3-ブチル-4 -メチル-フェニル)-フェニルホスホナイト、� �-(3-ヘキシル-4-エチル-フェニル)-フェニルホ� ��ホナイト、ジ-(2,4,6-トリメチルフェニル)-フ ェニルホスホナイト、ジ-(2,3-ジメチル-4-エチ ル-フェニル)-フェニルホスホナイト、ジ-(2,6- ジエチル-3-ブチルフェニル)-フェニルホスホ� ��イト、ジ-(2,3-ジプロピル-5-ブチルフェニル) -フェニルホスホナイト、ジ-(2,4,6-トリ-t-ブチ ルフェニル)-フェニルホスホナイト、等のジ- フェニル誘導体-フェニルホスホナイト類が� �げられる。

 また、一般式(4)で表されるホスホナイト� ��合物としては、テトラキス(2,4-ジ-t-ブチル-� ��ェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト� ��テトラキス(2,5-ジ-t-ブチル-フェニル)-4,4″-� ��フェニレンジホスホナイト、テトラキス(3,5 -ジ-t-ブチル-フェニル)-4,4″-ビフェニレンジ� ��スホナイト、テトラキス(2,3,4-トリメチルフ ェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、 テトラキス(2,3-ジメチル-5-エチル-フェニル)-4 ,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキ ス(2,3-ジメチル-4-プロピルフェニル)-4,4″-ビ� ��ェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3-� �メチル-5-t-ブチルフェニル)-4,4″-ビフェニレ ンジホスホナイト、テトラキス(2,5-ジメチル- 4-t-ブチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホ� �ホナイト、テトラキス(2,3-ジエチル-5-メチル フェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト 、テトラキス(2,6-ジエチル-4-メチルフェニル) -4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テトラ� ��ス(2,4,5-トリエチルフェニル)-4,4″-ビフェニ レンジホスホナイト、テトラキス(2,6-ジエチ� ��-4-プロピルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジ� ��スホナイト、テトラキス(2,5-ジエチル-6-ブ� �ルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナ� �ト、テトラキス(2,3-ジエチル-5-t-ブチルフェ� ��ル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テ� ��ラキス(2,5-ジエチル-6-t-ブチルフェニル)-4,4� ��-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス (2,3-ジプロピル-5-メチルフェニル)-4,4″-ビフ� ��ニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6-ジ� �ロピル-4-メチルフェニル)-4,4″-ビフェニレ� �ジホスホナイト、テトラキス(2,6-ジプロピル -5-エチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホス ホナイト、テトラキス(2,3-ジプロピル-6-ブチ� ��フェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイ� ��、テトラキス(2,6-ジプロピル-5-ブチルフェ� �ル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テ� �ラキス(2,3-ジブチル-4-メチルフェニル)-4,4″- ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2, 5-ジブチル-3-メチルフェニル)-4,4″-ビフェニ� ��ンジホスホナイト、テトラキス(2,6-ジブチ� �-4-メチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホ� �ホナイト、テトラキス(2,4-ジ-t-ブチル-3-メチ ルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイ ト、テトラキス(2,4-ジ-t-ブチル-5-メチルフェ� ��ル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テ� ��ラキス(2,4-ジ-t-ブチル-6-メチルフェニル)-4,4 ″-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキ� �(2,5-ジ-t-ブチル-3-メチルフェニル)-4,4″-ビフ ェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5-ジ- t-ブチル-4-メチルフェニル)-4,4″-ビフェニレ� ��ジホスホナイト、テトラキス(2,5-ジ-t-ブチ� �-6-メチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホ� �ホナイト、テトラキス(2,6-ジ-t-ブチル-3-メチ ルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイ ト、テトラキス(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェ� ��ル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テ� ��ラキス(2,6-ジ-t-ブチル-5-メチルフェニル)-4,4 ″-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキ� �(2,3-ジブチル-4-エチルフェニル)-4,4″-ビフェ ニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4-ジブ� ��ル-3-エチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジ� ��スホナイト、テトラキス(2,5-ジブチル-4-エ� �ルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナ� �ト、テトラキス(2,4-ジ-t-ブチル-3-エチルフェ ニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テ トラキス(2,4-ジ-t-ブチル-5-エチルフェニル)-4, 4″-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキ� ��(2,4-ジ-t-ブチル-6-エチルフェニル)-4,4″-ビ� �ェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5-ジ -t-ブチル-3-エチルフェニル)-4,4″-ビフェニレ ンジホスホナイト、テトラキス(2,5-ジ-t-ブチ� ��-4-エチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホ� ��ホナイト、テトラキス(2,5-ジ-t-ブチル-6-エ� �ルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナ� �ト、テトラキス(2,6-ジ-t-ブチル-3-エチルフェ ニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テ トラキス(2,6-ジ-t-ブチル-4-エチルフェニル)-4, 4″-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキ� ��(2,6-ジ-t-ブチル-5-エチルフェニル)-4,4″-ビ� �ェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3,4-� ��リブチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホ� ��ホナイト、テトラキス(2,4,6-トリ-t-ブチルフ ェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト等 が挙げられる。

 本発明においては、一般式(4)で表される� ��スホナイト化合物が好ましい。中でも、テ� ��ラキス(2,4-ジ-t-ブチル-フェニル)-4,4″-ビフ� ��ニレンジホスホナイト等の4,4″-ビフェニレ ンジホスホナイト化合物が好ましく、特に好 ましいものはテトラキス(2,4-ジ-t-ブチル-5-メ� ��ルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナ� ��トが好適である。

 特に好ましいホスホナイト化合物を次に� ��す。

 リン系化合物の含有量は、セルロースエ� ��テル100質量部に対して、通常0.001~10.0質量部 、好ましくは0.01~5.0質量部、さらに好ましく� ��0.1~1.0質量部である。

 前記、炭素ラジカル捕捉剤、フェノール� ��化合物、及びリン系化合物は3種類併用する ことが好ましく、それぞれの添加量のより好 ましい範囲はセルロースエステル100質量部に 対して、炭素ラジカル捕捉剤が0.1~1.0質量部� �フェノール系化合物が0.2~2.0質量部、リン系� ��合物が0.1~1.0質量部であり、3種の化合物の� �加量が前記範囲内であれば、各化合物同士� �相乗効果をもたらし、性能が向上すること� �明らかとなった。

 (セルロースエステル)
 本発明の光学フィルムの基材となる樹脂と� ��て最も好適なセルロースエステルについて� ��明する。

 本発明に用いられるセルロースエステル� ��、脂肪酸アシル基、置換もしくは無置換の� ��香族アシル基の中からいずれかの構造を含� ��、セルロースの単独または混合酸エステル� ��ある。

 芳香族アシル基において、芳香族環がベン� ��ン環であるとき、ベンゼン環の置換基の例� ��してハロゲン原子、シアノ、アルキル基、� ��ルコキシ基、アリール基、アリールオキシ� ��、アシル基、カルボンアミド基、スルホン� ��ミド基、ウレイド基、アラルキル基、ニト� ��、アルコキシカルボニル基、アリールオキ� ��カルボニル基、アラルキルオキシカルボニ� ��基、カルバモイル基、スルファモイル基、� ��シルオキシ基、アルケニル基、アルキニル� ��、アルキルスルホニル基、アリールスルホ� ��ル基、アルキルオキシスルホニル基、アリ� ��ルオキシスルホニル基、アルキルスルホニ� ��オキシ基及びアリールオキシスルホニル基� ��-S-R、-NH-CO-OR、-PH-R、-P(-R) ₂ 、-PH-O-R、-P(-R)(-O-R)、-P(-O-R) ₂ 、-PH(=O)-R-P(=O)(-R) ₂ 、-PH(=O)-O-R、-P(=O)(-R)(-O-R)、-P(=O)(-O-R) ₂ 、-O-PH(=O)-R、-O-P(=O)(-R) ₂ -O-PH(=O)-O-R、-O-P(=O)(-R)(-O-R)、-O-P(=O)(-O-R) ₂ 、-NH-PH(=O)-R、-NH-P(=O)(-R)(-O-R)、-NH-P(=O)(-O-R) ₂ 、-SiH ₂ -R、-SiH(-R) ₂ 、-Si(-R) ₃ 、-O-SiH ₂ -R、-O-SiH(-R) ₂ 及び-O-Si(-R) ₃ が含まれる。上記Rは脂肪族基、芳香族基ま� �はヘテロ環基である。置換基の数は、1~5個� �好ましく、1~4個がより好ましく、1~3個がさ� �に好ましく、1個または2個が最も好ましい。 置換基としては、ハロゲン原子、シアノ、ア ルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリ ールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基 、スルホンアミド基及びウレイド基が好まし く、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、ア ルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基及 びカルボンアミド基がより好ましく、ハロゲ ン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基 及びアリールオキシ基がさらに好ましく、ハ ロゲン原子、アルキル基及びアルコキシ基が 最も好ましい。

 上記ハロゲン原子には、フッ素原子、塩� ��原子、臭素原子及びヨウ素原子が含まれる� ��

 上記アルキル基は、環状構造或いは分岐� ��有していてもよい。アルキル基の炭素原子� ��は、1~20が好ましく、1~12がより好ましく、1~ 6がさらに好ましく、1~4が最も好ましい。ア� �キル基の例には、メチル、エチル、プロピ� �、イソプロピル、ブチル、t-ブチル、ヘキシ ル、シクロヘキシル、オクチル及び2-エチル� ��キシルが含まれる。上記アルコキシ基は、� ��状構造或いは分岐を有していてもよい。ア� ��コキシ基の炭素原子数は、1~20が好ましく、 1~12がより好ましく、1~6がさらに好ましく、1~ 4が最も好ましい。アルコキシ基は、さらに� �のアルコキシ基で置換されていてもよい。� �ルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ� �2-メトキシエトキシ、2-メトキシ-2-エトキシ� ��トキシ、ブチルオキシ、ヘキシルオキシ及� ��オクチルオキシが含まれる。

 上記アリール基の炭素原子数は、6~20が好 ましく、6~12がさらに好ましい。アリール基� �例には、フェニル及びナフチルが含まれる� �上記アリールオキシ基の炭素原子数は、6~20� ��好ましく、6~12がさらに好ましい。アリール オキシ基の例には、フェノキシ及びナフトキ シが含まれる。上記アシル基の炭素原子数は 、1~20が好ましく、1~12がさらに好ましい。ア� ��ル基の例には、ホルミル、アセチル及びベ� ��ゾイルが含まれる。上記カルボンアミド基� ��炭素原子数は、1~20が好ましく、1~12がさら� �好ましい。カルボンアミド基の例には、ア� �トアミド及びベンズアミドが含まれる。上� �スルホンアミド基の炭素原子数は、1~20が好� ��しく、1~12がさらに好ましい。スルホンアミ ド基の例には、メタンスルホンアミド、ベン ゼンスルホンアミド及びp-トルエンスルホン� ��ミドが含まれる。上記ウレイド基の炭素原� ��数は、1~20が好ましく、1~12がさらに好まし� �。ウレイド基の例には、(無置換)ウレイドが 含まれる。

 上記アラルキル基の炭素原子数は、7~20が 好ましく、7~12がさらに好ましい。アラルキ� �基の例には、ベンジル、フェネチル及びナ� �チルメチルが含まれる。上記アルコキシカ� �ボニル基の炭素原子数は、1~20が好ましく、2 ~12がさらに好ましい。アルコキシカルボニル 基の例には、メトキシカルボニルが含まれる 。上記アリールオキシカルボニル基の炭素原 子数は、7~20が好ましく、7~12がさらに好まし� ��。アリールオキシカルボニル基の例には、� ��ェノキシカルボニルが含まれる。上記アラ� ��キルオキシカルボニル基の炭素原子数は、8 ~20が好ましく、8~12がさらに好ましい。アラ� �キルオキシカルボニル基の例には、ベンジ� �オキシカルボニルが含まれる。上記カルバ� �イル基の炭素原子数は、1~20が好ましく、1~12 がさらに好ましい。カルバモイル基の例には 、(無置換)カルバモイル及びN-メチルカルバ� �イルが含まれる。上記スルファモイル基の� �素原子数は、20以下が好ましく、12以下がさ� ��に好ましい。スルファモイル基の例には、( 無置換)スルファモイル及びN-メチルスルファ モイルが含まれる。上記アシルオキシ基の炭 素原子数は、1~20が好ましく、2~12がさらに好� ��しい。アシルオキシ基の例には、アセトキ� ��及びベンゾイルオキシが含まれる。

 上記アルケニル基の炭素原子数は、2~20が 好ましく、2~12がさらに好ましい。アルケニ� �基の例には、ビニル、アリル及びイソプロ� �ニルが含まれる。上記アルキニル基の炭素� �子数は、2~20が好ましく、2~12がさらに好まし い。アルキニル基の例には、チエニルが含ま れる。上記アルキルスルホニル基の炭素原子 数は、1~20が好ましく、1~12がさらに好ましい� ��上記アリールスルホニル基の炭素原子数は� ��6~20が好ましく、6~12がさらに好ましい。上� �アルキルオキシスルホニル基の炭素原子数� �、1~20が好ましく、1~12がさらに好ましい。上 記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数 は、6~20が好ましく、6~12がさらに好ましい。� ��記アルキルスルホニルオキシ基の炭素原子� ��は、1~20が好ましく、1~12がさらに好ましい� �上記アリールオキシスルホニル基の炭素原� �数は、6~20が好ましく、6~12がさらに好ましい 。

 本発明に係るセルロースエステルにおい� ��、セルロースの水酸基部分の水素原子が脂� ��族アシル基との脂肪酸エステルであるとき� ��脂肪族アシル基は炭素原子数が2~20で、具体 的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、 イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキ サノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステ アロイル等が挙げられる。

 本発明において前記脂肪族アシル基とは� ��さらに置換基を有するものも包含する意味� ��あり、置換基としては上述の芳香族アシル� ��において、芳香族環がベンゼン環であると� ��、ベンゼン環の置換基として例示したもの� ��挙げられる。

 また、上記セルロースエステルのエステ� ��化された置換基が芳香環であるとき、芳香� ��環に置換する置換基Xの数は0または1~5個で� �り、好ましくは1~3個で、特に好ましいのは1� ��たは2個である。さらに芳香族環に置換する 置換基の数が2個以上の時、互いに同じでも� �なっていてもよいが、また、互いに連結し� �縮合多環化合物(例えば、ナフタレン、イン� ��ン、インダン、フェナントレン、キノリン� ��イソキノリン、クロメン、クロマン、フタ� ��ジン、アクリジン、インドール、インドリ� ��等)を形成してもよい。

 上記セルロースエステルにおいて置換も� ��くは無置換の脂肪族アシル基、置換もしく� ��無置換の芳香族アシル基の少なくともいず� ��か1種選択された構造を有する構造を有する ことが本発明に係るセルロースエステルに用 いる構造として用いられ、これらは、セルロ ースの単独または混合酸エステルでもよく、 2種以上のセルロースエステルを混合して用� �てもよい。

 本発明に係るセルロースエステルとして� ��、セルロースアセテート、セルロースプロ� ��オネート、セルロースブチレート、セルロ� ��スペンタネート、セルロースアセテートプ� ��ピオネート、セルロースアセテートブチレ� ��ト、セルロースアセテートペンタネート、� ��ルロースアセテートフタレート及びセルロ� ��スフタレートから選ばれる少なくとも1種が 好ましい。

 β-1,4-グリコシド結合でセルロースを構成 しているグルコース単位は、2位、3位および6 位に遊離の水酸基を有している。本発明にお けるセルロースエステルは、これらの水酸基 の一部または全部をアシル基によりエステル 化した重合体(ポリマー)である。置換度とは� ��繰り返し単位の2位、3位および6位について� ��セルロースがエステル化している割合の合� ��を表す。具体的には、セルロースの2位、3� �および6位のそれぞれの水酸基が100%エステル 化した場合をそれぞれ置換度1とする。した� �って、セルロースの2位、3位および6位のす� �てが100%エステル化した場合、置換度は最大� ��3となる。なお、アシル基の置換度は、ASTM-D 817に規定の方法により求めることができる。

 混合脂肪酸エステルの置換度として、さら� ��好ましいセルロースエステルは炭素原子数2 ~5のアシル基を置換基として有し、アセチル� ��の置換度をAとし、炭素数3~5のアシル基の置 換度の総和をBとした時、下記式(1)~(3)を同時� ��満たすセルロースエステルを含むセルロー� ��樹脂である。
式(1) 2.4≦A+B<3.0
式(2) 0≦A≦2.4
式(3) 0.1≦B<3.0
 この内、特にセルロースアセテートプロピ� ��ネートが好ましく用いられ、中でも1.00≦A� �2.20であり、0.50≦B≦2.00が好ましい。より好� ��しくは1.20≦A≦2.00であり、0.70≦B≦1.70であ� ��。上記アシル基で置換されていない部分は� ��常水酸基として存在しているのものである� ��これらは公知の方法で合成することができ� ��。

 さらに、本発明で用いられるセルロース� ��ステルは、重量平均分子量Mw/数平均分子量M n比が1.5~5.5のものが好ましく用いられ、特に� ��ましくは2.0~4.0である。

 本発明に係るセルロースエステルは、50,0 00~150,000の数平均分子量(Mn)を有することが好� ��しく、55,000~120,000の数平均分子量を有する� �とが更に好ましく、60,000~100,000の数平均分子 量を有することが最も好ましい。

 なお、Mn及びMw/Mnは下記の要領で、ゲルパー ミエーションクロマトグラフィーにより算出 した。
測定条件は以下の通りである。
溶媒:テトヒドロフラン
装置:HLC-8220(東ソー(株)製)
カラム:TSKgel SuperHM-M(東ソー(株)製)
カラム温度:40℃
試料濃度:0.1質量%
注入量:10μl
流量:0.6ml/min
校正曲線:標準ポリスチレン:PS-1(Polymer Laborato ries社製)Mw=2,560,000~580迄の9サンプルによる校� �曲線を使用した。

 本発明で用いられるセルロースエステル� ��原料セルロースは、木材パルプでも綿花リ� ��ターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広� ��樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい� ��製膜の際の剥離性の点からは綿花リンター� ��好ましく用いられる。これらから作られた� ��ルロースエステルは適宜混合して、或いは� ��独で使用することができる。

 例えば、綿花リンター由来セルロースエ� ��テル:木材パルプ(針葉樹)由来セルロースエ� ��テル:木材パルプ(広葉樹)由来セルロースエ� ��テルの比率が100:0:0、90:10:0、85:15:0、50:50:0、 20:80:0、10:90:0、0:100:0、0:0:100、80:10:10、85:0:15� �40:30:30で用いることができる。

 セルロースエステルは、例えば、原料セ� ��ロースの水酸基を無水酢酸、無水プロピオ� ��酸及び/または無水酪酸を用いて常法により アセチル基、プロピオニル基及び/またはブ� �ル基を上記の範囲内に置換することで得ら� �る。このようなセルロースエステルの合成� �法は、特に限定はないが、例えば、特開平10 -45804号或いは特表平6-501040号に記載の方法を� ��考にして合成することができる。

 本発明に用いられるセルロースエステル� ��アルカリ土類金属含有量は、1~50ppmの範囲で あることが好ましい。50ppmを超えるとリップ� ��着汚れが増加或いは熱延伸時や熱延伸後で� ��スリッティング部で破断しやすくなる。1ppm 未満でも破断しやすくなるがその理由はよく 分かっていない。1ppm未満にするには洗浄工� �の負担が大きくなり過ぎるためその点でも� �ましくない。更に1~30ppmの範囲が好ましい。� ��こでいうアルカリ土類金属とはCa、Mgの総含 有量のことであり、X線光電子分光分析装置(X PS)を用いて測定することができる。

 本発明に用いられるセルロースエステル� ��の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で0.1~45p pmの範囲であることが好ましい。これらは塩� ��形で含有していると考えられる。残留硫酸� ��有量が45ppmを超えると熱溶融時のダイリッ� �部の付着物が増加するため好ましくない。� �た、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティン� �の際に破断しやすくなるため好ましくない� �少ない方が好ましいが、0.1未満とするには� �ルロースエステルの洗浄工程の負担が大き� �なり過ぎるため好ましくないだけでなく、� �に破断しやすくなることがあり好ましくな� �。これは洗浄回数が増えることが樹脂に影� �を与えているのかもしれないがよく分かっ� �いない。更に1~30ppmの範囲が好ましい。残留� ��酸含有量は、ASTM-D817に規定の方法に準じて� ��定することができる。

 本発明に用いられるセルロースエステル� ��の遊離酸含有量は、1~500ppmであることが好� �しい。500ppmを超えるとダイリップ部の付着� �が増加し、また破断しやすくなる。洗浄で1p pm未満にすることは困難である。更に1~100ppm� �範囲であることが好ましく、更に破断しに� �くなる。特に1~70ppmの範囲が好ましい。遊離� ��含有量はASTM-D817に規定の方法に準じて測定� ��ることができる。

 合成したセルロースエステルの洗浄を、� ��液流延法に用いられる場合に比べて、さら� ��十分に行うことによって、残留酸含有量を� ��記の範囲とすることができ、溶融流延法に� ��ってフィルムを製造する際に、リップ部へ� ��付着が軽減され、平面性に優れるフィルム� ��得られ、寸法変化、機械強度、透明性、耐� ��湿性、後述するリターデーション値が良好� ��フィルムを得ることができる。また、セル� ��ースエステルの洗浄は、水に加えて、メタ� ��ール、エタノールのような貧溶媒、或いは� ��果として貧溶媒であれば貧溶媒と良溶媒の� ��合溶媒を用いることができ、残留酸以外の� ��機物、低分子の有機不純物を除去すること� ��できる。さらに、セルロースエステルの洗� ��は、ヒンダードアミン、ヒンダードフェノ� ��ル、リン系化合物(ホスファイト、ホスホナ イト等)といった酸化防止剤の存在下で行う� �とが好ましく、セルロースエステルの耐熱� �、製膜安定性が向上する。

 また、セルロースエステルの耐熱性、機� ��物性、光学物性等を向上させるため、セル� ��ースエステルの良溶媒に溶解後、貧溶媒中� ��再沈殿させ、セルロースエステルの低分子� ��成分、その他不純物を除去することができ� ��。この時、前述のセルロースエステルの洗� ��同様に、酸化防止剤の存在下で行うことが� ��ましい。

 さらに、セルロースエステルの再沈殿処� ��の後、別のポリマー或いは低分子化合物を� ��加してもよい。

 本発明では、セルロースエステル樹脂の� ��か、セルロースエーテル系樹脂、ビニル系� ��脂(ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアル コール系樹脂なども含む)、環状オレフィン� �脂、ポリエステル系樹脂(芳香族ポリエステ� ��、脂肪族ポリエステル、若しくはそれらを� ��む共重合体)、アクリル系樹脂(共重合体も� �む)などを含有させることができる。セルロ� ��スエステル以外の樹脂の含有量としては0.1~ 30質量%が好ましい。

 また、本発明で用いられるセルロースエ� ��テルはフィルムにした時の輝点異物が少な� ��ものであることが好ましい。輝点異物とは� ��2枚の偏光板を直交に配置し(クロスニコル)� ��この間にセルロースエステル光学フィルム� ��配置して、一方の面から光源の光を当てて� ��もう一方の面からセルロースエステル光学� ��ィルムを観察した時に、光源の光が漏れて� ��える点のことである。このとき評価に用い� ��偏光板は輝点異物がない保護フィルムで構� ��されたものであることが望ましく、偏光子� ��保護にガラス板を使用したものが好ましく� ��いられる。輝点異物はセルロースエステル� ��含まれる未アシル化若しくは低アシル度の� ��ルロースがその原因の1つと考えられ、輝点 異物の少ないセルロースエステルを用いる(� �換度の分散の小さいセルロースエステルを� �いる)ことと、溶融したセルロースエステル� ��濾過すること、或いはセルロースエステル� ��合成後期の過程や沈殿物を得る過程の少な� ��ともいずれかにおいて、一度溶液状態とし� ��同様に濾過工程を経由して輝点異物を除去� ��ることもできる。

 しかし、このような微細な異物は溶融濾� ��では完全に取りきれないことがあるが、本� ��明者らはセルロースエステルに特定のアミ� ��構造をもつポリマーと、炭素ラジカル捕捉� ��、フェノール系化合物、及びリン系化合物� ��らなる群から選択される少なくとも1種の化 合物を混合させて溶融製膜することにより、 輝点異物の発生を大幅に低減できることを見 出した。原因は明らかではないが、輝点異物 の原因となる低アシル化物を十分に融解させ たことが推定される。

 フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当た� ��の輝点異物数は少なくなり、フィルムに含� ��れるセルロースエステルの含有量が少なく� ��るほど輝点異物は少なくなる傾向があるが� ��輝点異物は、輝点の直径0.01mm以上が200個/cm ² 以下であることが好ましく、更に100個/cm ² 以下であることが好ましく、50個/cm ² 以下であることが好ましく、30個/cm ² 以下であることが好ましく、10個/cm ² 以下であることが好ましいが、皆無であるこ とが最も好ましい。また、0.005~0.01mm以下の輝 点についても200個/cm ² 以下であることが好ましく、更に100個/cm ² 以下であることが好ましく、50個/cm ² 以下であることが好ましく、30個/cm ² 以下であることが好ましく、10個/cm ² 以下であることが好ましいが、皆無であるこ とが最も好ましい。

 輝点異物を溶融濾過によって除去する場� ��、セルロースエステルを単独で溶融させた� ��のを濾過するよりも可塑剤、劣化防止剤等� ��添加混合した組成物を濾過することが輝点� ��物の除去効率が高く好ましい。もちろん、� ��ルロースエステルの合成の際に溶媒に溶解� ��せて濾過により低減させてもよい。紫外線� ��収剤、その他の添加物も適宜混合したもの� ��濾過することができる。溶融濾過はセルロ� ��スエステルを含む溶融物の粘度が10000Pa・s� �下で濾過されることが好ましく、更に好ま� �くは5000Pa・s以下が好ましく、1000Pa・s以下で あることが更に好ましく、500Pa・s以下である ことが更に好ましい。濾材としては、ガラス 繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチ レン樹脂などの弗素樹脂等の従来公知のもの が好ましく用いられるが、特にセラミックス 、金属等が好ましく用いられる。絶対濾過精 度としては50μm以下のものが好ましく用いら� ��、30μm以下のものが更に好ましく、10μm以下 のものが更に好ましく、5μm以下のものが更� �好ましく用いられる。これらは適宜組み合� �せて使用することもできる。濾材はサーフ� �ースタイプでもデプスタイプでも用いるこ� �ができるが、デプスタイプの方が比較的目� �まりしにくく好ましく用いられる。

 別の実施態様では、原料のセルロースエ� ��テルは少なくとも一度溶媒に溶解させる、� ��たは、溶媒中で懸濁洗浄した後、溶媒を乾� ��させたセルロースエステルを用いても良い� ��その際には可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防� ��剤、酸化防止剤及びマット剤の少なくとも1 つ以上と共に溶媒に溶解させてもよい。溶媒 としては、メチレンクロライド、酢酸メチル 、ジオキソラン等の溶液流延法で用いられる 良溶媒を用いてもよく、またメタノール、エ タノール、ブタノール等の貧溶媒を用いても よく、これらの混合溶媒でも良い。溶解の過 程で-20℃以下に冷却したり、80℃以上に加熱� ��たりしても良い。このようなセルロースエ� ��テルを用いると、溶融状態にした時の各添� ��物を均一にしやすく、光学特性を均一にで� ��ることがある。

 (可塑剤)
 本発明のセルロースエステル光学フィルム� ��、可塑剤として、多価アルコールと1価のカ ルボン酸からなるエステル系可塑剤の少なく とも1種を含有させることが好ましく、特に� �記一般式(6)で表される有機酸と3価以上のア� ��コールが縮合した構造を有するエステル化� ��物を、可塑剤として1~25質量%含有すること� �好ましい。1質量%よりも少ないと可塑剤を添 加する効果が認められず、25質量%よりも多い とブリードアウトが発生しやすくなり、フィ ルムの経時安定性が低下するために好ましく ない。より好ましくは上記可塑剤を3~20質量%� ��有するセルロースエステル光学フィルムで� ��り、さらに好ましくは5~15質量%含有するセ� �ロースエステル光学フィルムである。

 可塑剤とは、一般的には高分子中に添加� ��ることによって脆弱性を改良したり、柔軟� ��を付与したりする効果のある添加剤である� ��、本発明においては、セルロースエステル� ��独での溶融温度よりも溶融温度を低下させ� ��ため、また同じ加熱温度においてセルロー� ��樹脂単独よりも可塑剤を含むフィルム組成� ��の溶融粘度を低下させるために、可塑剤を� ��加する。また、セルロースエステルの親水� ��を改善し、光学フィルムの透湿度改善する� ��めにも添加されるため透湿防止剤としての� ��能を有する。

 ここで、フィルム組成物の溶融温度とは� ��該材料が加熱され流動性が発現された状態� ��温度を意味する。セルロースエステルを溶� ��流動させるためには、少なくともガラス転� ��温度よりも高い温度に加熱する必要がある� ��ガラス転移温度以上においては、熱量の吸� ��により弾性率或いは粘度が低下し、流動性� ��発現される。しかしセルロースエステルで� ��高温下では溶融と同時に熱分解によってセ� ��ロースエステルの分子量の低下が発生し、� ��られるフィルムの力学特性等に悪影響を及� ��すことがあるため、なるべく低い温度でセ� ��ロースエステルを溶融させる必要がある。� ��ィルム組成物の溶融温度を低下させるため� ��は、セルロースエステルのガラス転移温度� ��りも低い融点またはガラス転移温度をもつ� ��塑剤を添加することで達成することができ� ��。本発明に用いられる、下記一般式(6)で表� ��れる有機酸と多価アルコールが縮合した構� ��を有する多価アルコールエステル系可塑剤� ��、セルロースエステルの溶融温度を低下さ� ��、溶融製膜プロセスや製造後にも揮発性が� ��さく工程適性が良好であり、かつ得られる� ��ルロースエステルフィルムの光学特性・寸� ��安定性・平面性が良好となる点で優れてい� ��。

 一般式(6)において、R ⁷¹ ~R ⁷⁵ は水素原子またはシクロアルキル基、アラル キル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基 、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、 アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカル ボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し 、これらはさらに置換基を有していて良く、 Lは2価の連結基を表し、置換または無置換の� ��ルキレン基、酸素原子、または直接結合を� ��す。

 R ⁷¹ ~R ⁷⁵ で表されるシクロアルキル基としては、同様 に炭素数3~8のシクロアルキル基が好ましく、 具体的にはシクロプロピル、シクロペンチル 、シクロヘキシル等の基である。これらの基 は置換されていてもよく、好ましい置換基と しては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、 臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、 アルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキ シ基、アラルキル基(このフェニル基にはア� �キル基またはハロゲン原子等によってさら� �置換されていてもよい)、ビニル基、アリル� ��等のアルケニル基、フェニル基(このフェニ ル基にはアルキル基またはハロゲン原子等に よってさらに置換されていてもよい)、フェ� �キシ基(このフェニル基にはアルキル基また� ��ハロゲン原子等によってさらに置換されて� ��てもよい)、アセチル基、プロピオニル基等 の炭素数2~8のアシル基、またアセチルオキシ 基、プロピオニルオキシ基等の炭素数2~8の無 置換のカルボニルオキシ基等が挙げられる。

 R ⁷¹ ~R ⁷⁵ で表されるアラルキル基としては、ベンジル 基、フェネチル基、γ-フェニルプロピル基等 の基を表し、また、これらの基は置換されて いてもよく、好ましい置換基としては、前記 のシクロアルキル基に置換してもよい基を同 様に挙げることができる。

 R ⁷¹ ~R ⁷⁵ で表されるアルコキシ基としては、炭素数1~8 のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メ トキシ、エトキシ、n-プロポキシ、n-ブトキ� �、n-オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソ ブトキシ、2-エチルヘキシルオキシ、もしく� ��t-ブトキシ等の各アルコキシ基である。ま� �、これらの基は置換されていてもよく、好� �しい置換基としては、ハロゲン原子、例え� �、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒ� �ロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコ� �シ基、アラルキル基(このフェニル基にはア� ��キル基またはハロゲン原子等を置換してい� ��もよい)、アルケニル基、フェニル基(この� �ェニル基にはアルキル基またはハロゲン原� �等によってさらに置換されていてもよい)、� ��リールオキシ基(例えばフェノキシ基(この� �ェニル基にはアルキル基またはハロゲン原� �等によってさらに置換されていてもよい))、 アセチル基、プロピオニル基等のアシル基が 、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキ シ基等の炭素数2~8の無置換のアシルオキシ基 、またベンゾイルオキシ基等のアリールカル ボニルオキシ基が挙げられる。

 R ⁷¹ ~R ⁷⁵ で表されるシクロアルコキシ基としては、無 置換のシクロアルコキシ基としては炭素数1~8 のシクロアルコキシ基基が挙げられ、具体的 には、シクロプロピルオキシ、シクロペンチ ルオキシ、シクロヘキシルオキシ等の基が挙 げられる。また、これらの基は置換されてい てもよく、好ましい置換基としては、前記の シクロアルキル基に置換してもよい基を同様 に挙げることができる。

 R ⁷¹ ~R ⁷⁵ で表されるアリールオキシ基としては、フェ ノキシ基が挙げられるが、このフェニル基に はアルキル基またはハロゲン原子等前記シク ロアルキル基に置換してもよい基として挙げ られた置換基で置換されていてもよい。

 R ⁷¹ ~R ⁷⁵ で表されるアラルキルオキシ基としては、ベ ンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等が挙 げられ、これらの置換基は更に置換されてい てもよく、好ましい置換基としては、前記の シクロアルキル基に置換してもよい基を同様 に挙げることができる。

 R ⁵¹ ~R ⁵⁵ で表されるアシル基としては、アセチル基、 プロピオニル基等の炭素数2~8の無置換のアシ ル基が挙げられ(アシル基の炭化水素基とし� �は、アルキル、アルケニル、アルキニル基� �含む。)、これらの置換基は更に置換されて� ��てもよく、好ましい置換基としては、前記� ��シクロアルキル基に置換してもよい基を同� ��に挙げることができる。

 R ⁷¹ ~R ⁷⁵ で表されるカルボニルオキシ基としては、ア セチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の 炭素数2~8の無置換のアシルオキシ基(アシル� �の炭化水素基としては、アルキル、アルケ� �ル、アルキニル基を含む。)、またベンゾイ� ��オキシ基等のアリールカルボニルオキシ基� ��挙げられるが、これらの基は更に前記シク� ��アルキル基に置換してもよい基と同様の基� ��より置換されていてもよい。

 R ⁷¹ ~R ⁷⁵ で表されるオキシカルボニル基としては、メ トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基 、プロピルオキシカルボニル基等のアルコキ シカルボニル基、またフェノキシカルボニル 基等のアリールオキシカルボニル基を表す。 これらの置換基は更に置換されていてもよく 、好ましい置換基としては、前記のシクロア ルキル基に置換してもよい基を同様に挙げる ことができる。

 また、R ⁷¹ ~R ⁷⁵ で表されるオキシカルボニルオキシ基として は、メトキシカルボニルオキシ基等の炭素数 1~8のアルコキシカルボニルオキシ基を表し、 これらの置換基は更に置換されていてもよく 、好ましい置換基としては、前記のシクロア ルキル基に置換してもよい基を同様に挙げる ことができる。

 なおR ⁷¹ ~R ⁷⁵ のうちのいずれか同士で互いに連結し、環構 造を形成していても良い。

 また、Lで表される連結基としては、置換ま たは無置換のアルキレン基、酸素原子、また は直接結合を表すが、アルキレン基としては 、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等 の基であり、これらの基は、更に前記のR ⁷¹ ~R ⁷⁵ で表される基に置換してもよい基としてあげ られた基で置換されていてもよい。

 中でも、Lで表される連結基として特に好 ましいのは直接結合であり芳香族カルボン酸 である。

 なお本発明においては3価以上のアルコー ルの水酸基を置換する有機酸は単一種であっ ても複数種であってもよい。

 本発明において、前記一般式(6)で表され� ��有機酸と反応して多価アルコールエステル� ��合物を形成する3価以上のアルコール化合物 としては、好ましくは3~20価の脂肪族多価ア� �コールであり、本発明おいて3価以上のアル� ��ールは下記の一般式(7)で表されるものが好� ��しい。

 一般式(7) R″-(OH)m
 式中、R″はm価の有機基、mは3以上の正の整 数、OH基はアルコール性水酸基を表す。特に� ��ましいのは、mとしては3または4の多価アル� ��ールである。

 好ましい多価アルコールの例としては、� ��えば以下のようなものを挙げることができ� ��が、本発明はこれらに限定されるものでは� ��い。アドニトール、アラビトール、1,2,4-ブ� ��ントリオール、1,2,3-ヘキサントリオール、1 ,2,6-ヘキサントリオール、グリセリン、ジグ� ��セリン、エリスリトール、ペンタエリスリ� ��ール、ジペンタエリスリトール、トリペン� ��エリスリトール、ガラクチトール、グルコ� ��ス、セロビオース、イノシトール、マンニ� ��ール、3-メチルペンタン-1,3,5-トリオール、� ��ナコール、ソルビトール、トリメチロール� ��ロパン、トリメチロールエタン、キシリト� ��ル等を挙げることができる。特に、グリセ� ��ン、トリメチロールエタン、トリメチロー� ��プロパン、ペンタエリスリトールが好まし� ��。

 一般式(6)で表される有機酸と3価以上の多 価アルコールのエステルは、公知の方法によ り合成できる。前記一般式(6)で表される有機 酸と、多価アルコールを例えば、酸の存在下 縮合させエステル化する方法、また、有機酸 を予め酸クロライド或いは酸無水物としてお き、多価アルコールと反応させる方法、有機 酸のフェニルエステルと多価アルコールを反 応させる方法等があり、目的とするエステル 化合物により、適宜、収率のよい方法を選択 することが好ましい。

 一般式(6)で表される有機酸と3価以上の多 価アルコールのエステルからなる可塑剤とし ては、下記一般式(8)で表される化合物が好ま しい。

 一般式(8)において、R ⁸¹ ~R ⁸⁵ は水素原子またはシクロアルキル基、アラル キル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基 、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、 アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカル ボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し 、これらはさらに置換基を有していて良い。 また、R ⁸⁶ はアルキル基を表す。

 R ⁸¹ ~R ⁸⁵ のシクロアルキル基、アラルキル基、アルコ キシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキ シ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カル ボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキ シカルボニルオキシ基については、前記R ⁷¹ ~R ⁷⁵ と同様の基が挙げられる。

 この様にして得られる多価アルコールエ� ��テルの分子量には特に制限はないが、300~150 0であることが好ましく、400~1000であることが 更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難 くなるため好ましく、透湿性、セルロースエ ステルとの相溶性の点では小さい方が好まし い。

 以下に、本発明に係わる多価アルコール� ��ステルの具体的化合物を例示する。

 本発明のセルロースエステル光学フィル� ��は、他の可塑剤と併用してもよい。

 本発明に好ましい可塑剤である前記一般� ��(6)で表される有機酸と3価以上の多価アルコ ールからなるエステル化合物は、セルロース エステルに対する相溶性が高く、高添加率で 添加することができる特徴があるため、他の 可塑剤や添加剤を併用してもブリードアウト を発生することがなく、必要に応じて他種の 可塑剤や添加剤を容易に併用することができ る。

 なお他の可塑剤を併用する際には、前記� ��般式(6)で表される有機酸と3価以上の多価ア ルコールからなるエステル化合物が、可塑剤 全体の少なくとも50質量%以上含有されること が好ましい。より好ましくは70%以上、さらに 好ましくは80%以上含有されることが好ましい 。このような範囲で用いれば、他の可塑剤と の併用によっても、溶融流延時のセルロール エステルフィルムの平面性を向上させること ができるという、一定の効果を得ることがで きる。

 好ましい他の可塑剤として下記の可塑剤� ��挙げられる。

 多価アルコールエステル系の一つである� ��チレングリコールエステル系の可塑剤:具体 的には、エチレングリコールジアセテート、 エチレングリコールジブチレート等のエチレ ングリコールアルキルエステル系の可塑剤、 エチレングリコールジシクロプロピルカルボ キシレート、エチレングリコールジシクロヘ キルカルボキシレート等のエチレングリコー ルシクロアルキルエステル系の可塑剤、エチ レングリコールジベンゾエート、エチレング リコールジ4-メトキシベンゾエート等のエチ� ��ングリコールアリールエステル系の可塑剤� ��挙げられる。これらアルキレート基、シク� ��アルキレート基、アリレート基は、同一で� ��あっても異なっていてもよく、更に置換さ� ��ていてもよい。またアルキレート基、シク� ��アルキレート基、アリレート基のミックス� ��もよく、またこれら置換基同志が共有結合� ��結合していてもよい。更にエチレングリコ� ��ル部も置換されていてもよく、エチレング� ��コールエステルの部分構造が、ポリマーの� ��部、或いは規則的にペンダントされていて� ��よく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線� ��収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入さ� ��ていてもよい。

 多価アルコールエステル系の一つである� ��リセリンエステル系の可塑剤:具体的にはト リアセチン、トリブチリン、グリセリンジア セテートカプリレート、グリセリンオレート プロピオネート等のグリセリンアルキルエス テル、グリセリントリシクロプロピルカルボ キシレート、グリセリントリシクロヘキシル カルボキシレート等のグリセリンシクロアル キルエステル、ジグリセリンテトラアセチレ ート、ジグリセリンテトラプロピオネート、 ジグリセリンアセテートトリカプリレート、 ジグリセリンテトララウレート、等のジグリ セリンアルキルエステル、ジグリセリンテト ラシクロブチルカルボキシレート、ジグリセ リンテトラシクロペンチルカルボキシレート 等のジグリセリンシクロアルキルエステル等 が挙げられる。これらアルキレート基、シク ロアルキルカルボキシレート基は同一でもあ っても異なっていてもよく、更に置換されて いてもよい。またアルキレート基、シクロア ルキルカルボキシレート基、アリレート基の ミックスでもよく、またこれら置換基同志が 共有結合で結合していてもよい。更にグリセ リン、ジグリセリン部も置換されていてもよ く、グリセリンエステル、ジグリセリンエス テルの部分構造がポリマーの一部、或いは規 則的にペンダントされていてもよく、また酸 化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加 剤の分子構造の一部に導入されていてもよい 。

 その他の多価アルコールエステル系の可� ��剤としては、具体的には特開2003-12823号公報 の段落30~33記載の多価アルコールエステル系� ��塑剤が挙げられる。

 多価カルボン酸エステル系の一つである� ��カルボン酸エステル系の可塑剤:具体的には 、ジドデシルマロネート(C1)、ジオクチルア� �ペート(C4)、ジブチルセバケート(C8)等のアル キルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑 剤、ジシクロペンチルサクシネート、ジシク ロヘキシルアジーペート等のアルキルジカル ボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、 ジフェニルサクシネート、ジ4-メチルフェニ� ��グルタレート等のアルキルジカルボン酸ア� ��ールエステル系の可塑剤、ジヘキシル-1,4-� �クロヘキサンジカルボキシレート、ジデシ� �ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボキシレ� �ト等のシクロアルキルジカルボン酸アルキ� �エステル系の可塑剤、ジシクロヘキシル-1,2- シクロブタンジカルボキシレート、ジシクロ プロピル-1,2-シクロヘキシルジカルボキシレ� ��ト等のシクロアルキルジカルボン酸シクロ� ��ルキルエステル系の可塑剤、ジフェニル-1,1 -シクロプロピルジカルボキシレート、ジ2-ナ フチル-1,4-シクロヘキサンジカルボキシレー� ��等のシクロアルキルジカルボン酸アリール� ��ステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、� ��メチルフタレート、ジオクチルフタレート� ��ジブチルフタレート、ジ-2-エチルヘキシル� ��タレート等のアリールジカルボン酸アルキ� ��エステル系の可塑剤、ジシクロプロピルフ� ��レート、ジシクロヘキシルフタレート等の� ��リールジカルボン酸シクロアルキルエステ� ��系の可塑剤、ジフェニルフタレート、ジ4-� �チルフェニルフタレート等のアリールジカ� �ボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げ� �れる。これらアルコキシ基、シクロアルコ� �シ基は、同一でもあっても異なっていても� �く、また一置換でもよく、これらの置換基� �更に置換されていてもよい。アルキル基、� �クロアルキル基はミックスでもよく、また� �れら置換基同志が共有結合で結合していて� �よい。更にフタル酸の芳香環も置換されて� �てよく、ダイマー、トリマー、テトラマー� �の多量体でもよい。またフタル酸エステル� �部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則� �にポリマーへペンダントされていてもよく� �酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の� �加剤の分子構造の一部に導入されていても� �い。

 その他の多価カルボン酸エステル系の可� ��剤としては、具体的にはトリドデシルトリ� ��ルバレート、トリブチル-meso-ブタン-1,2,3,4-� ��トラカルボキシレート等のアルキル多価カ� ��ボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリ� ��クロヘキシルトリカルバレート、トリシク� ��プロピル-2-ヒドロキシ-1,2,3-プロパントリカ ルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸 シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフ ェニル2-ヒドロキシ-1,2,3-プロパントリカルボ キシレート、テトラ3-メチルフェニルテトラ� ��ドロフラン-2,3,4,5-テトラカルボキシレート� ��のアルキル多価カルボン酸アリールエステ� ��系の可塑剤、テトラヘキシル-1,2,3,4-シクロ� ��タンテトラカルボキシレート、テトラブチ� ��-1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボキシレ� ��ト等のシクロアルキル多価カルボン酸アル� ��ルエステル系の可塑剤、テトラシクロプロ� ��ル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボキシレ� ��ト、トリシクロヘキシル-1,3,5-シクロヘキシ ルトリカルボキシレート等のシクロアルキル 多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の 可塑剤、トリフェニル-1,3,5-シクロヘキシル� �リカルボキシレート、ヘキサ4-メチルフェニ ル-1,2,3,4,5,6-シクロヘキシルヘキサカルボキ� �レート等のシクロアルキル多価カルボン酸� �リールエステル系の可塑剤、トリドデシル� �ンゼン-1,2,4-トリカルボキシレート、テトラ� ��クチルベンゼン-1,2,4,5-テトラカルボキシレ� ��ト等のアリール多価カルボン酸アルキルエ� ��テル系の可塑剤、トリシクロペンチルベン� ��ン-1,3,5-トリカルボキシレート、テトラシク ロヘキシルベンゼン-1,2,3,5-テトラカルボキシ レート等のアリール多価カルボン酸シクロア ルキルエステル系の可塑剤トリフェニルベン ゼン-1,3,5-テトラカルトキシレート、ヘキサ4- メチルフェニルベンゼン-1,2,3,4,5,6-ヘキサカ� �ボキシレート等のアリール多価カルボン酸� �リールエステル系の可塑剤が挙げられる。� �れらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は� �同一でもあっても異なっていてもよく、ま� �1置換でもよく、これらの置換基は更に置換� ��れていてもよい。アルキル基、シクロアル� ��ル基はミックスでもよく、またこれら置換� ��同志が共有結合で結合していてもよい。更� ��フタル酸の芳香環も置換されていてよく、� ��イマー、トリマー、テトラマー等の多量体� ��もよい。またフタル酸エステルの部分構造� ��ポリマーの一部、或いは規則的にポリマー� ��ペンダントされていてもよく、酸化防止剤� ��酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子� ��造の一部に導入されていてもよい。

 上記多価カルボン酸と1価のアルコールか らなるエステル系可塑剤の中では、ジアルキ ルカルボン酸アルキルエステルが好ましく、 具体的には上記のジオクチルアジペート、ト リデシルトリカルバレートが挙げられる。

 本発明に用いられる可塑剤としては、更� ��リン酸エステル系可塑剤、炭水化物エステ� ��系可塑剤、ポリマー可塑剤等が挙げられる� ��

 リン酸エステル系の可塑剤:具体的には、 トリアセチルホスフェート、トリブチルホス フェート等のリン酸アルキルエステル、トリ シクロベンチルホスフェート、シクロヘキシ ルホスフェート等のリン酸シクロアルキルエ ステル、トリフェニルホスフェート、トリク レジルホスフェート、クレジルフェニルホス フェート、オクチルジフェニルホスフェート 、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリ オクチルホスフェート、トリブチルホスフェ ート、トリナフチルホスフェート、トリキシ リルオスフェート、トリスオルト-ビフェニ� �ホスフェート等のリン酸アリールエステル� �挙げられる。これらの置換基は同一でもあ� �ても異なっていてもよく、更に置換されて� �てもよい。またアルキル基、シクロアルキ� �基、アリール基のミックスでもよく、また� �換基同志が共有結合で結合していてもよい� �

 またエチレンビス(ジメチルホスフェート )、ブチレンビス(ジエチルホスフェート)等の アルキレンビス(ジアルキルホスフェート)、� ��チレンビス(ジフェニルホスフェート)、プ� �ピレンビス(ジナフチルホスフェート)等のア ルキレンビス(ジアリールホスフェート)、フ� ��ニレンビス(ジブチルホスフェート)、ビフ� �ニレンビス(ジオクチルホスフェート)等のア リーレンビス(ジアルキルホスフェート)、フ� ��ニレンビス(ジフェニルホスフェート)、ナ� �チレンビス(ジトルイルホスフェート)等のア リーレンビス(ジアリールホスフェート)等の� ��ン酸エステルが挙げられる。これらの置換� ��は同一でもあっても異なっていてもよく、� ��に置換されていてもよい。またアルキル基� ��シクロアルキル基、アリール基のミックス� ��もよく、また置換基同志が共有結合で結合� ��ていてもよい。

 更にリン酸エステルの部分構造が、ポリ� ��ーの一部、或いは規則的にペンダントされ� ��いてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、� ��外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に� ��入されていてもよい。上記化合物の中では� ��リン酸アリールエステル、アリーレンビス( ジアリールホスフェート)が好ましく、具体� �にはトリフェニルホスフェート、フェニレ� �ビス(ジフェニルホスフェート)が好ましい。

 炭水化物エステル系可塑剤:炭水化物とは 、糖類がピラノース又はフラノース(6員環又� ��5員環)の形態で存在する単糖類、二糖類又� �三糖類を意味する。炭水化物の非限定的例� �しては、グルコース、サッカロース、ラク� �ース、セロビオース、マンノース、キシロ� �ス、リボース、ガラクトース、アラビノー� �、フルクトース、ソルボース、セロトリオ� �ス及びラフィノースなどが挙げられる。炭� �化物エステルとは、炭水化物の水酸基とカ� �ボン酸が脱水縮合してエステル化合物を形� �したものを指し、詳しくは、炭水化物の脂� �族カルボン酸エステル、或いは芳香族カル� �ン酸エステルを意味する。脂肪族カルボン� �として、例えば酢酸、プロピオン酸等を挙� �ることができ、芳香族カルボン酸として、� �えば安息香酸、トルイル酸、アニス酸等を� �げることができる。炭水化物は、その種類� �応じた水酸基の数を有するが、水酸基の一� �とカルボン酸が反応してエステル化合物を� �成しても、水酸基の全部とカルボン酸が反� �してエステル化合物を形成してもよい。本� �明においては、水酸基の全部とカルボン酸� �反応してエステル化合物を形成するのが好� �しい。

 炭水化物エステル系可塑剤として、具体� ��には、グルコースペンタアセテート、グル� ��ースペンタプロピオネート、グルコースペ� ��タブチレート、サッカロースオクタアセテ� ��ト、サッカロースオクタベンゾエート等を� ��ましく挙げることができ、この内、サッカ� ��ースオクタベンゾエートがより好ましい。

 ポリマー可塑剤:具体的には、脂肪族炭化 水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー 、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸 メチル、メタクリル酸メチルとメタクリル酸 -2-ヒドロキシエチルとの共重合体(例えば、� �重合比1:99~99:1の間の任意の比率)等のアクリ� ��系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテ� ��、ポリN-ビニルピロリドン等のビニル系ポ� �マー、メタクリル酸メチルとN-ビニルピロリ ドンの共重合体(例えば、共重合比1:99~99:1の� �の任意の比率)、ポリスチレン、ポリ4-ヒド� �キシスチレン等のスチレン系ポリマー、メ� �クリル酸メチルと4-ヒドロキシスチレンの共 重合体(例えば、共重合比1:99~99:1の間の任意� �比率)、ポリブチレンサクシネート、ポリエ� ��レンテレフタレート、ポリエチレンナフタ� ��ート等のポリエステル、ポリエチレンオキ� ��ド、ポリプロピレンオキシド等のポリエー� ��ル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレ� ��等が挙げられる。数平均分子量は1,000~500,000 程度が好ましく、特に好ましくは、5000~200000� ��ある。1000以下では揮発性が大きくなり、500 000を超えると可塑化能力が低下する傾向があ り、セルロースエステル光学フィルムの機械 的性質に悪影響を及ぼす可能性がある。これ らポリマー可塑剤は1種のモノマーの繰り返� �単位からなる単独重合体でも、複数のモノ� �ーの繰り返し構造体を有する共重合体でも� �い。また、上記ポリマーを2種以上併用して� ��いてもよい。

 なお本発明のセルロースエステル光学フ� ��ルムは、着色すると光学用途として影響を� ��えるため、好ましくは黄色度(イエローイン デックス、YI)が3.0以下、より好ましくは1.0以 下である。黄色度はJIS-K7103に基づいて測定す ることができる。

 可塑剤は、前述のセルロースエステル同� ��に、製造時から持ち越される、或いは保存� ��に発生する残留酸、無機塩、有機低分子等� ��不純物を除去することが好ましく、より好� ��しくは純度99%以上である。残留酸、及び水� ��しては、0.01~100ppmであることが好ましく、� �ルロース樹脂を溶融製膜する上で、熱劣化� �抑制でき、製膜安定性、フィルムの光学物� �、機械物性が向上する。

 (紫外線吸収剤)
 本発明の光学フィルムには、偏光子や表示� ��置の紫外線に対する劣化防止のために紫外� ��吸収剤を添加することができ、紫外線吸収� ��としては、偏光子や表示装置の紫外線に対� ��る劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫� �線の吸収能に優れており、且つ液晶表示性� �観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少 ないものが好ましい。

 例えば、サリチル酸系紫外線吸収剤(フェ ニルサリシレート、p-tert-ブチルサリシレー� �等)或いはベンゾフェノン系紫外線吸収剤(2,4 -ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2″-ジヒド� ��キシ-4,4″-ジメトキシベンゾフェノン等)、� ��ンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(2-(2″-ヒ� ��ロキシ-3″-tert-ブチル-5″-メチルフェニル)- 5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2″-ヒドロ� �シ-3″,5″-ジ-tert-ブチルフェニル)-5-クロロ� �ンゾトリアゾール、2-(2″-ヒドロキシ-3″,5� �-ジ-tert-アミルフェニル)ベンゾトリアゾール 、2-(2″-ヒドロキシ-3″-ドデシル-5″-メチル� ��ェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2″-ヒドロ� ��シ-3″-tert-ブチル-5″-(2-オクチルオキシカ� �ボニルエチル)-フェニル)-5-クロロベンゾト� �アゾール、2-(2″-ヒドロキシ-3″-(1-メチル-1- フェニルエチル)-5″-(1,1,3,3-テトラメチルブ� �ル)-フェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2″-ヒ ドロキシ-3″,5″-ジ-(1-メチル-1-フェニルエチ ル)-フェニル)ベンゾトリアゾール等)、シア� �アクリレート系紫外線吸収剤(2″-エチルヘ� �シル-2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリレート、 エチル-2-シアノ-3-(3″,4″-メチレンジオキシ� ��ェニル)-アクリレート等)、トリアジン系紫� ��線吸収剤、或いは特開昭58-185677号、同59-1493 50号記載の化合物、ニッケル錯塩系化合物、� ��機粉体等が挙げられる。

 本発明に係る紫外線吸収剤としては、透� ��性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ� ��果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸� ��剤やトリアジン系紫外線吸収剤が好ましく� ��分光吸収スペクトルがより適切なベンゾト� ��アゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。

 本発明に係る紫外線吸収剤と共に特に好� ��しく用いられる従来公知のベンゾトリアゾ� ��ル系紫外線吸収剤は、ビス化したものであ� ��てもよく、例えば、6,6″-メチレンビス(2-(2H -ベンゾ[d][1,2,3]トリアゾール-2-イル))-4-(2,4,4-� ��リメチルペンタン-2-イル)フェノール、6,6″ -メチレンビス(2-(2H-ベンゾ[d][1,2,3]トリアゾー ル-2-イル))-4-(2-ヒドロキシエチル)フェノール 等が挙げられる。

 また、本発明においては、従来公知の紫� ��線吸収性ポリマーと組み合わせて用いるこ� ��もできる。従来公知の紫外線吸収性ポリマ� ��としては、特に限定されないが、例えば、R UVA-93(大塚化学社製)を単独重合させたポリマ� ��及びRUVA-93と他のモノマーとを共重合させた ポリマー等が挙げられる。具体的には、RUVA-9 3とメチルメタクリレートを3:7の比(質量比)で 共重合させたPUVA-30M、5:5の比(質量比)で共重� �させたPUVA-50M等が挙げられる。更に、特開200 3-113317号公報に記載のポリマー等が挙げられ� ��。

 また、市販品として、チヌビン(TINUVIN)109� ��チヌビン(TINUVIN)171、チヌビン(TINUVIN)360、チ� ��ビン(TINUVIN)900、チヌビン(TINUVIN)928(いずれも チバ-スペシャルティ-ケミカルズ社製)、LA-31( 旭電化社製)、RUVA-100(大塚化学社製)、Sumisorb25 0(住友化学社製)を用いることもできる。

 ベンゾフェノン系化合物の具体例として� ��2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2″-ジ� �ドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒド ロキシ-4-メトキシ-5-スルホベンゾフェノン、 ビス(2-メトキシ-4-ヒドロキシ-5-ベンゾイルフ ェニルメタン)等を挙げることができるが、� �れらに限定されるものではない。

 本発明においては、紫外線吸収剤は0.1~20� ��量%添加することが好ましく、更に0.5~10質量 %添加することが好ましく、更に1~5質量%添加� ��ることが好ましい。これらは2種以上を併用 してもよい。

 (微粒子)
 本発明のセルロースエステル光学フィルム� ��は、滑り性を付与するためにマット剤等の� ��粒子を添加することができ、微粒子として� ��、無機化合物の微粒子または有機化合物の� ��粒子が挙げられる。マット剤はできるだけ� ��粒子のものが好ましく、微粒子としては、� ��えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化� ��ルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カル� ��ウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カル� ��ウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アル� ��ニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カル� ��ウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を� ��げることができる。中でも、二酸化ケイ素� ��フィルムのヘイズを低くできるので好まし� ��。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物に� ��り表面処理されている場合が多いが、この� ��うなものはフィルムのヘイズを低下できる� ��め好ましい。

 表面処理で好ましい有機物としては、ハ� ��シラン類、アルコキシシラン類、シラザン� ��シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平� ��粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反� ��に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。� ��た、微粒子の平均粒径は0.005~1.0μmの範囲が� ��ましい。これらは一次粒子であっても二次� ��子であってもよい。特に好ましい微粒子の� ��均粒径は5~50nmが好ましく、更に好ましくは7 ~14nmである。平均粒径は、例えば、走査型電� ��顕微鏡により観察して無作為に粒子200個の� ��径を測定し、平均粒径を求めることができ� ��。これらの微粒子はセルロースエステル光� ��フィルム中では、セルロースエステル光学� ��ィルム表面に0.01~1.0μmの凹凸を生成させる� �に好ましく用いられる。微粒子のセルロー� �エステル中の含有量はセルロースエステル� �対して0.005~5質量%が好ましい。

 二酸化ケイ素の微粒子としては、日本ア� ��ロジル(株)製のアエロジル(AEROSIL)200、200V、3 00、R972、R972V、R974、R202、R812、OX50、TT600、NAX5 0、日本触媒(株)製のSEAHOSTAR KE-P100、SEAHOSTAR K E-P30等を挙げることができ、好ましくはアエ� ��ジル200V、R972、R972V、R974、R202、R812、NAX50、K E-P100、KE-P30である。これらの微粒子は2種以� �併用してもよい。2種以上併用する場合、任� ��の割合で混合して使用することができる。� ��の場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、� ��えば、アエロジル200VとR972Vを質量比で0.1:99. 9~99.9:0.1の範囲で使用できる。

 上記マット剤として用いられるフィルム� ��の微粒子の存在は、別の目的としてフィル� ��の強度向上のために用いることもできる。� ��た、フィルム中の上記微粒子の存在は、本� ��明のセルロースエステル光学フィルムを構� ��するセルロースエステル自身の配向性を向� ��することも可能である。

 (その他添加剤)
 本発明のセルロースエステル光学フィルム� ��、添加剤として前述の可塑剤、UV吸収剤、� �粒子以外に、更に粘度低下剤、リターデー� �ョン制御剤、酸掃去剤、染料、顔料等を含� �でも構わない。

 (粘度低下剤)
 本発明において、溶融粘度を低減する目的� ��して、水素結合性溶媒を添加することがで� ��る。水素結合性溶媒とは、J.N.イスラエルア チビリ著、「分子間力と表面力」(近藤保、� �島広行訳、マグロウヒル出版、1991年)に記載 されるように、電気的に陰性な原子(酸素、� �素、フッ素、塩素)と電気的に陰性な原子と� ��有結合した水素原子間に生ずる、水素原子� ��介「結合」を生ずることができるような有� ��溶媒、すなわち、結合モーメントが大きく� ��かつ水素を含む結合、例えば、O-H(酸素水素 結合)、N-H(窒素水素結合)、F-H(フッ素水素結� �)を含むことで近接した分子同士が配列でき� ��ような有機溶媒をいう。これらは、セルロ� ��ス樹脂の分子間水素結合よりもセルロース� ��の間で強い水素結合を形成する能力を有す� ��もので、本発明で行う溶融流延法において� ��、用いるセルロース樹脂単独のガラス転移� ��度よりも、水素結合性溶媒の添加によりセ� ��ロース樹脂組成物の溶融温度を低下するこ� ��ができる、または同じ溶融温度においてセ� ��ロース樹脂よりも水素結合性溶媒を含むセ� ��ロース樹脂組成物の溶融粘度を低下するこ� ��ができる。

 水素結合性溶媒としては、例えば、アル� ��ール類:例えば、メタノール、エタノール、 プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノ� ��ル、sec-ブタノール、t-ブタノール、2-エチ� �ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノー� �、ノナノール、ドデカノール、エチレング� �コール、プロピレングリコール、ヘキシレ� �グリコール、ジプロピレングリコール、ポ� �エチレングリコール、ポリプロピレングリ� �ール、メチルセロソルブ、エチルセロソル� �、ブチルセロソルブ、ヘキシルセロソルブ� �グリセリン等、ケトン類:アセトン、メチル� ��チルケトン等、カルボン酸類:例えば蟻酸、 酢酸、プロピオン酸、酪酸等、エーテル類:� �えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ� �ン、ジオキサン等、ピロリドン類:例えば、N -メチルピロリドン等、アミン類:例えば、ト� ��メチルアミン、ピリジン等、等を例示する� ��とができる。これら水素結合性溶媒は、単� ��で、又は2種以上混合して用いることができ る。これらのうちでも、アルコール、ケトン 、エーテル類が好ましく、特にメタノール、 エタノール、プロパノール、イソプロパノー ル、オクタノール、ドデカノール、エチレン グリコール、グリセリン、アセトン、テトラ ヒドロフランが好ましい。さらに、メタノー ル、エタノール、プロパノール、イソプロパ ノール、エチレングリコール、グリセリン、 アセトン、テトラヒドロフランのような水溶 性溶媒が特に好ましい。ここで水溶性とは、 水100gに対する溶解度が10g以上のものをいう� �

 (リターデーション制御剤)
 本発明のセルロースエステル光学フィルム� ��おいて配向膜を形成して液晶層を設け、セ� ��ロースエステルフィルムと液晶層由来のリ� ��ーデーションを複合化して光学補償能を付� ��した偏光板加工を行ってもよい。リターデ� ��ションを制御するために添加する化合物は� ��欧州特許第911,656A2号明細書に記載されてい� ��ような、二つ以上の芳香族環を有する芳香� ��化合物をリターデーション制御剤として使� ��することもできる。また2種類以上の芳香族 化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の 芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、 芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族性ヘテロ環 であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ 環は一般に不飽和ヘテロ環である。中でも1,3 ,5-トリアジン環を有する化合物が特に好まし い。

 (酸掃去剤)
 酸掃去剤とは製造時から持ち込まれるセル� ��ースエステル中に残留する酸(プロトン酸)� �トラップする役割を担う剤である。また、� �ルロースエステルを溶融するとポリマー中� �水分と熱により側鎖の加水分解が促進し、� �ルロースアセテートプロピオネートならば� �酸やプロピオン酸が生成する。酸と化学的� �結合できればよく、エポキシ、3級アミン、� ��ーテル構造等を有する化合物が挙げられる� ��、これに限定されるものでない。

 具体的には、米国特許第4,137,201号明細書� ��記載されている酸掃去剤としてのエポキシ� ��合物を含んでなるのが好ましい。このよう� ��酸掃去剤としてのエポキシ化合物は当該技� ��分野において既知であり、種々のポリグリ� ��ールのジグリシジルエーテル、特にポリグ� ��コール1モル当たりに約8~40モルのエチレン� �キシドなどの縮合によって誘導されるポリ� �リコール、グリセロールのジグリシジルエ� �テルなど、金属エポキシ化合物(例えば、塩� ��ビニルポリマー組成物において、及び塩化� ��ニルポリマー組成物と共に、従来から利用� ��れているもの)、エポキシ化エーテル縮合生 成物、ビスフェノールAのジグリシジルエー� �ル(即ち、4,4″-ジヒドロキシジフェニルジメ チルメタン)、エポキシ化不飽和脂肪酸エス� �ル(特に、2~22この炭素原子の脂肪酸の4~2個程 度の炭素原子のアルキルのエステル(例えば� �ブチルエポキシステアレート)など)、及び種 々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリドな ど(例えば、エポキシ化大豆油などの組成物� �よって代表され、例示され得る、エポキシ� �植物油及び他の不飽和天然油(これらは時と� ��てエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和� ��肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に12~2 2個の炭素原子を含有している))が含まれる。 特に好ましいのは、市販のエポキシ基含有エ ポキシド樹脂化合物 EPON 815c、及び一般式(9) の他のエポキシ化エーテルオリゴマー縮合生 成物である。

 上式中、nは0~12に等しい。用いることが� �きる更に可能な酸掃去剤としては、特開平5- 194788号公報の段落87~105に記載されているもの が含まれる。

 酸掃去剤は、前述のセルロース樹脂同様� ��、製造時から持ち越される、或いは保存中� ��発生する残留酸、無機塩、有機低分子等の� ��純物を除去することが好ましく、より好ま� ��くは純度99%以上である。残留酸、及び水と� ��ては、0.01~100ppmであることが好ましく、セ� �ロース樹脂を溶融製膜する上で、熱劣化を� �制でき、製膜安定性、フィルムの光学物性� �機械物性が向上する。

 なお酸掃去剤は酸捕捉剤、酸捕獲剤、酸� ��ャッチャー等と称されることもあるが、本� ��明においてはこれらの呼称による差異なく� ��いることができる。

 (溶融流延法)
 フィルム構成材料は溶融及び製膜工程にお� ��て、揮発成分が少ないまたは発生しないこ� ��が求められる。これは加熱溶融時に発泡し� ��、フィルム内部の欠陥やフィルム表面の平� ��性劣化を削減または回避するためである。

 フィルム構成材料が溶融されるときの揮� ��成分の含有量は、5質量%以下、好ましくは1. 0質量%以下、さらに好ましくは0.5質量%以下、 さらにより好ましくは0.2質量%以下であるこ� �が望まれる。本発明においては、示差熱質� �測定装置(セイコー電子工業社製TG/DTA200)を用 いて、30℃から250℃までの加熱減量を求め、� ��の量を揮発成分の含有量としている。

 用いるフィルム構成材料は、前記水分や� ��記溶媒等に代表される揮発成分を、製膜す� ��前に、または加熱時に除去することが好ま� ��い。除去する方法は、所謂公知の乾燥方法� ��適用でき、加熱法、減圧法、加熱減圧法等� ��方法で行うことができ、空気中または不活� ��ガスとして窒素を選択した雰囲気下で行っ� ��もよい。これらの公知の乾燥方法を行うと� ��、フィルム構成材料が分解しない温度領域� ��行うことがフィルムの品質上好ましい。

 製膜前に乾燥することにより、揮発成分� ��発生を削減することができ、樹脂単独、ま� ��は樹脂とフィルム構成材料の内、樹脂以外� ��少なくとも1種以上の混合物または相溶物に 分割して乾燥することもできる。乾燥温度は 100℃以上が好ましい。乾燥する材料にガラス 転移温度を有する物が存在するときには、そ のガラス転移温度よりも高い乾燥温度に加熱 すると、材料が融着して取り扱いが困難にな ることがあるので、乾燥温度は、ガラス転移 温度以下であることが好ましい。複数の物質 がガラス転移温度を有する場合は、ガラス転 移温度が低い方のガラス転移温度を基準とす る。より好ましくは100℃以上、(ガラス転移� �度-5)℃以下、さらに好ましくは110℃以上、(� ��ラス転移温度-20)℃以下である。乾燥時間は 、好ましくは0.5~24時間、より好ましくは1~18� �間、さらに好ましくは1.5~12時間である。乾� �温度が低くなりすぎると揮発成分の除去率� �低くなり、また乾燥するのに時間にかかり� �ぎることになる。また、乾燥工程は2段階以� ��にわけてもよく、例えば、乾燥工程が、材� ��の保管のための予備乾燥工程と、製膜する� ��前~1週間前の間に行う直前乾燥工程を含む� �のであってもよい。

 溶融流延製膜法は、加熱溶融する成形法� ��分類され、溶融押出し成形法、プレス成形� ��、インフレーション法、射出成形法、ブロ� ��成形法、延伸成形法などを適用できる。こ� ��らの中で、機械的強度及び表面精度などに� ��れる光学フィルムを得るためには、溶融押� ��し法が優れている。以下、セルロースエス� ��ルの溶融押出し法を例にとり本発明のフィ� ��ムの製造方法について説明するが、本発明� ��これに限定されるものではなく、光学フィ� ��ムの基材となる他の樹脂にも適用できる。

 図1は、本発明のセルロースエステル光学 フィルムの製造方法を実施する装置の全体構 成を示す概略フローシートであり、図2は、� �延ダイから冷却ロール部分の拡大図である� �

 図1と図2において、本発明によるセルロ� �スエステル光学フィルムの製造方法は、セ� �ロース樹脂などのフィルム材料を混合した� �、押出し機1を用いて、流延ダイ4から第1冷� �ロール5上に溶融押し出し、第1冷却ロール5� �外接させるとともに、さらに、第2冷却ロー� ��7、第3冷却ロール8の合計3本の冷却ロールに 順に外接させて、冷却固化してフィルム10と� ��る。ついで、剥離ロール9によって剥離した フィルム10を、ついで延伸装置12によりフィ� �ムの両端部を把持して幅方向に延伸した後� �巻取り装置16により巻き取る。また、平面性 を矯正するために溶融フィルムを第1冷却ロ� �ル5表面に挟圧するタッチロール6が設けられ ている。このタッチロール6は表面が弾性を� �し、第1冷却ロール5との間でニップを形成し ている。タッチロール6についての詳細は後� �する。

 本発明によるセルロースエステル光学フ� ��ルムの製造方法において、溶融押し出しの� ��件は、他のポリエステルなどの熱可塑性樹� ��に用いられる条件と同様にして行うことが� ��きる。材料は予め乾燥させておくことが好� ��しい。真空または減圧乾燥機や除湿熱風乾� ��機などで水分を1000ppm以下、好ましくは200ppm 以下に乾燥させることが望ましい。

 例えば、熱風や真空または減圧下で乾燥� ��たセルロースエステル系樹脂を押出し機1を 用いて、押し出し温度200~300℃程度で溶融し� �リーフディスクタイプのフィルター2などで� ��過し、異物を除去する。

 異物の除去に用いるフィルターは、ステ� ��レス繊維焼結フィルターが好ましく用いら� ��る。ステンレス繊維焼結フィルターは、ス� ��ンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作� ��出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化� ��たもので、その繊維の太さと圧縮量により� ��度を変え、ろ過精度を調整できる。ろ過精� ��を粗、密と連続的に複数回繰り返した多層� ��としたものが好ましい。また、ろ過精度を� ��次上げていく構成としたり、ろ過精度の粗� ��密を繰り返す方法をとることで、フィルタ� ��のろ過寿命が延び、異物やゲル等の補足精� ��も向上できるので好ましい。

 供給ホッパー(図示略)から押出し機1へ導� ��する際は、真空下または減圧下や不活性ガ� ��雰囲気下にして、酸化分解等を防止するこ� ��が好ましい。

 可塑剤などの添加剤を予め混合しない場� ��は、押出し機の途中で練り込んでもよい。� ��一に添加するために、スタチックミキサー3 などの混合装置を用いることが好ましい。

 本発明において、セルロース樹脂と、そ� ��他必要により添加される安定化剤等の添加� ��は、溶融する前に混合しておくことが好ま� ��い。セルロース樹脂と安定化剤を最初に混� ��することがさらに好ましい。混合は、混合� ��等により行ってもよく、また、前記したよ� ��にセルロース樹脂調製過程において混合し� ��もよい。混合機を使用する場合は、V型混合 機、円錐スクリュー型混合機、水平円筒型混 合機等、ヘンシェルミキサー、リボンミキサ ー一般的な混合機を用いることができる。

 上記のようにフィルム構成材料を混合し� ��後に、その混合物を押出し機1を用いて直接 溶融して製膜するようにしてもよいが、一旦 、フィルム構成材料をペレット化した後、該 ペレットを押出し機1で溶融して製膜するよ� �にしてもよい。また、フィルム構成材料が� �融点の異なる複数の材料を含む場合には、� �点の低い材料のみが溶融する温度で一旦、� �わゆるおこし状の半溶融物を作製し、半溶� �物を押出し機1に投入して製膜することも可� ��である。フィルム構成材料に熱分解しやす� ��材料が含まれる場合には、溶融回数を減ら� ��目的で、ペレットを作製せずに直接製膜す� ��方法や、上記のようなおこし状の半溶融物� ��作ってから製膜する方法が好ましい。

 押出し機1は、市場で入手可能な種々の押 出し機を使用可能であるが、溶融混練押出し 機が好ましく、単軸押出し機でも2軸押出し� �でも良い。フィルム構成材料からペレット� �作製せずに、直接製膜を行う場合、適当な� �練度が必要であるため2軸押出し機を用いる� ��とが好ましいが、単軸押出し機でも、スク� ��ューの形状をマドック型、ユニメルト型、� ��ルメージ等の混練型のスクリューに変更す� ��ことにより、適度の混練が得られるので、� ��用可能である。フィルム構成材料として、� ��旦、ペレットやおこし状の半溶融物を使用� ��る場合は、単軸押出し機でも2軸押出し機で も使用可能である。

 押出し機1内および押出した後の冷却工程 は、窒素ガス等の不活性ガスで置換するか、 或いは減圧することにより、酸素の濃度を下 げることが好ましい。

 押出し機1内のフィルム構成材料の溶融温 度は、フィルム構成材料の粘度や吐出量、製 造するシートの厚み等によって好ましい条件 が異なるが、一般的には、フィルムのガラス 転移温度Tgに対して、Tg以上、Tg+100℃以下、� �ましくはTg+10℃以上、Tg+90℃以下である。溶� ��温度は、通常150~300℃の範囲、好ましくは180 ~270℃、さらに好ましくは200~270℃の範囲であ� ��。押出し時の溶融粘度は、1~10000Pa・s、好ま しくは10~1000Pa・sである。また、押出し機1内� ��のフィルム構成材料の滞留時間は短い方が� ��ましく、10分以内、好ましくは5分以内、よ� ��好ましくは3分以内である。滞留時間は、押 出し機1の種類、押出す条件にも左右される� �、材料の供給量やL/D、スクリュー回転数、� �クリューの溝の深さ等を調整することによ� �短縮することが可能である。

 押出し機1のスクリューの形状や回転数等 は、フィルム構成材料の粘度や吐出量等によ り適宜選択される。本発明において押出し機 1でのせん断速度は、1/秒~10000/秒、好ましく� �5/秒~1000/秒、より好ましくは10/秒~100/秒であ� ��。

 本発明に使用できる押出し機1としては、 一般的にプラスチック成形機として入手可能 である。

 押出し機1から押し出されたフィルム構成 材料は、流延ダイ4に送られ、流延ダイ4のス� ��ットからフィルム状に押し出される。流延� ��イ4はシートやフィルムを製造するために用 いられるものであれば特に限定はされない。 流延ダイ4の材質としては、ハードクロム、� �化クロム、窒化クロム、炭化チタン、炭窒� �チタン、窒化チタン、超鋼、セラミック(タ� ��グステンカーバイド、酸化アルミ、酸化ク� ��ム)などを溶射もしくはメッキし、表面加工 としてバフ、#1000番手以降の砥石を用いるラ� ��ピング、#1000番手以上のダイヤモンド砥石� �用いる平面切削(切削方向は樹脂の流れ方向� ��垂直な方向)、電解研磨、電解複合研磨など の加工を施したものなどがあげられる。流延 ダイ4のリップ部の好ましい材質は、流延ダ� �4と同様である。またリップ部の表面精度は0 .5S以下が好ましく、0.2S以下がより好ましい� �

 この流延ダイ4のスリットは、そのギャッ プが調整可能なように構成されている。これ を図3に示す。図3(a)は流延ダイの要部の一例� ��示す外観図、図3(b)は流延ダイの要部の一例 を示す断面図である。流延ダイ4のスリット32 を形成する一対のリップのうち、一方は剛性 の低い変形しやすいフレキシブルリップ33で� ��り、他方は固定リップ34である。そして、� �数のヒートボルト35が流延ダイ4の幅方向す� �わちスリット32の長さ方向に一定ピッチで配 列されている。各ヒートボルト5には、埋め� �み電気ヒータ37と冷却媒体通路とを具えたブ ロック36が設けられ、各ヒートボルト35が各� �ロック36を縦に貫通している。ヒートボルト 35の基部はダイ本体31に固定され、先端はフ� �キシブルリップ33の外面に当接している。そ してブロック36を常時空冷しながら、埋め込� ��電気ヒータ37の入力を増減してブロック36の 温度を上下させ、これによりヒートボルト35� ��熱伸縮させて、フレキシブルリップ33を変� �させてフィルムの厚さを調整する。ダイ後� �の所要箇所に厚さ計を設け、これによって� �出されたウェブ厚さ情報を制御装置にフィ� �ドバックし、この厚さ情報を制御装置で設� �厚み情報と比較し、同装置から来る補正制� �量の信号によってヒートボルトの発熱体の� �力又はオン率を制御するようにすることも� �きる。ヒートボルトは、好ましくは、長さ20 ~40cm、直径7~14mmを有し、複数、例えば数十本� ��ヒートボルトが、好ましくはピッチ20~40mmで 配列されている。ヒートボルトの代わりに、 手動で軸方向に前後動させることによりスリ ットギャップを調節するボルトを主体とする ギャップ調節部材を設けてもよい。ギャップ 調節部材によって調節されたスリットギャッ プは、通常200~3000μm、好ましくは500~2000μmで� �る。

 第1乃至第3冷却ロールは、肉厚が20~30mm程� ��のシームレスな鋼管製で、表面が鏡面に仕� ��げられている。その内部には、冷却液また� ��加熱媒体を流す配管が配置されており、配� ��を流れる冷却液または加熱媒体によってロ� ��ル上のフィルムから熱を吸収または加熱で� ��るように構成されている。

 一方、第1冷却ロール5に当接するタッチ� �ール6は、表面が弾性を有し、第1冷却ロール 5への押圧力によって第1冷却ロール5の表面に 沿って変形し、第1ロール5との間にニップを� ��成する。タッチロール6は挟圧回転体ともい う。タッチロール6としては、登録特許3194904� ��、登録特許3422798号、特開2002-36332、特開2002- 36333などで開示されているタッチロールを好� ��しく用いることができる。これらは市販さ� ��ているものを用いることもできる。以下に� ��れらについて、さらに詳細に説明する。

 図4は挟圧回転体の一例を示す断面図であ る。(タッチロール6の第1の例(以下、タッチ� �ールA)の概略断面)を示す。図に示すように� �タッチロールAは、可撓性の金属スリーブ41� �内部に弾性ローラ42を配したものである。

 金属スリーブ41は厚さ0.3mmのステンレス製 であり、可撓性を有する。金属スリーブ41が� ��すぎると強度が不足し、逆に厚すぎると弾� ��が不足する。これらのことから、金属スリ� ��ブ41の厚さとしては、0.1mm以上1.5mm以下が好� ��しい。弾性ローラ42は、軸受を介して回転� �在な金属製の内筒43の表面にゴム44を設けて� ��ール状としたものである。そして、タッチ� ��ールAが第1冷却ロール5に向けて押圧される� ��、弾性ローラ42が金属スリーブ41を第1冷却� �ール5に押しつけ、金属スリープ41及び弾性� �ーラ42は第1冷却ロール5の形状になじんだ形� ��に対応しつつ変形し、第1冷却ロールとの間 にニップを形成する。金属スリーブ41の内部� ��弾性ローラ42との間に形成される空間には� �冷却水または加熱媒体45が流される。

 図5は挟圧回転体の第2の例(以下、タッチ� ��ールB)を示す回転軸に垂直な平面での断面� �である。

 図6は挟圧回転体の第2の例(タッチロールB)� �回転軸を含む平面の一例を示す断面図であ� �。
図5、図6においてタッチロールBは、可撓性を 有する、シームレスなステンレス鋼管製(厚� �4mm)の外筒51と、この外筒51の内側に同一軸心 状に配置された高剛性の金属内筒52とから概� ��構成されている。外筒51と内筒52との間の空 間53には、冷却液または加熱媒体54が流され� �。詳しくは、タッチロールBは、両端の回転� ��55a,55bに外筒支持フランジ56a,56bが取付けら� �、これら両外筒支持フランジ56a,56bの外周部� ��に薄肉金属外筒51が取付けられている。ま� �、一方の回転軸55aの軸心部に形成されて流� �戻り通路57を形成する流体排出孔58内に、流� ��供給管59が同一軸心状に配設され、この流� �供給管59が薄肉金属外筒51内の軸心部に配置� ��れた流体軸筒60に接続固定されている。こ� �流体軸筒60の両端部に内筒支持フランジ61a,61 bがそれぞれ取り付けられ、これら内筒支持� �ランジ61a,61bの外周部間から他端側外筒支持� ��ランジ56bにわたって約15~20mm程度の肉厚を有 する金属内筒52が取付けられている。そして� ��の金属内筒52と薄肉金属外筒51との間に、た とえば10mm程度の冷却液または加熱媒体の流� �空間53が形成され、また金属内筒52に両端部� ��傍には、流送空間53と内筒支持フランジ61a,6 1b外側の中間通路62a,62bとを連通する流出口52a および流入口52bがそれぞれ形成されている。

 また外筒51は、ゴム弾性に近い柔軟性と� �撓性、復元性をもたせるために、弾性力学� �薄肉円筒理論が適用できる範囲内で薄肉化� �図られている。この薄肉円筒理論で評価さ� �る可撓性は、肉厚t/ロール半径rで表わされ� �おり、t/rが小さいほど可撓性が高まる。こ� �タッチロールBではt/r≦0.03の場合に可撓性が 最適の条件となる。通常、一般的に使用され ているタッチロールは、ロール径R=200~500mm(ロ ール半径r=R/2)、ロール有効幅L=500~1600mmで、r/L <1で横長の形状である。そして図6に示すよ うに、たとえばロール径R=300mm、ロール有効� �L=1200mmの場合、肉厚tの適正範囲は150×0.03=4.5m m以下であるが、溶融シート幅を1300mmに対し� �平均線圧を100N/cmで挟圧する場合、同一形状� ��ゴムロールと比較して、外筒51の肉厚を3mm� �することで相当ばね定数も等しく、外筒51と 冷却ロールとのニップのロール回転方向のニ ップ幅kも約9mmで、このゴムロールのニップ� �約12mmとほぼ近い値を示し、同じような条件� ��で挟圧できることがわかる。なお、このニ� ��プ幅kにおけるたわみ量は0.05~0.1mm程度であ� �。

 ここで、t/r≦0.03としたが、一般的なロー ル径R=200~500mmの場合では、特に2mm≦t≦5mmの範 囲とすると、可撓性も十分に得られ、また機 械加工による薄肉化も容易に実施でき、極め て実用的な範囲となる。

 この2mm≦t≦5mmの換算値は、一般的なロー ル径に対して0.008≦t/r≦0.05となるが、実用に あたってはt/r≒0.03の条件下でロール径に比� �して肉厚も大きくするとよい。たとえばロ� �ル径:R=200ではt=2~3mm、ロール径:R=500ではt=4~5mm の範囲で選択する。

 このタッチロールA,Bは不図示の付勢手段� ��より第1冷却ロールに向けて付勢される。そ の付勢手段の付勢力をF、ニップにおけるフ� �ルムの、第1冷却ロール5の回転軸に沿った方 向の幅Wを除した値F/W(線圧)は、10N/cm以上150N/c mに設定される。本実施の形態によれば、タ� �チロールA,Bと第1冷却ロール5との間にニップ が形成され、当該ニップをフィルムが通過す る間に平面性を矯正すればよい。従って、タ ッチロールが剛体で構成され、第1冷却ロー� �との間にニップが形成されない場合と比べ� �、小さい線圧で長時間かけてフィルムを挟� �するので、平面性をより確実に矯正するこ� �ができる。すなわち、線圧が10N/cmよりも小� �いと、ダイラインを十分に解消することが� �きなくなる。逆に、線圧が150N/cmよりも大き� ��と、フィルムがニップを通過しにくくなり� ��フィルムの厚さにかえってムラができてし� ��う。

 また、タッチロールA,Bの表面を金属で構� ��することにより、タッチロールの表面がゴ� ��である場合よりもタッチロールA,Bの表面を� ��滑にすることができるので、平滑性の高い� ��ィルムを得ることができる。なお、弾性ロ� ��ラ42の弾性体44の材質としては、エチレンプ ロピレンゴム、ネオプレンゴム、シリコンゴ ム等を用いることができる。

 さて、タッチロール6によってダイライン を良好に解消するためには、タッチロール6� �フィルムを挟圧するときのフィルムの粘度� �適切な範囲であることが重要となる。また� �セルロース樹脂は温度による粘度の変化が� �較的大きいことが知られている。従って、� �ッチロール6がセルロースエステル光学フィ� ��ムを挟圧するときの粘度を適切な範囲に設� ��するためには、タッチロール6がセルロース エステル光学フィルムを挟圧するときのフィ ルムの温度を適切な範囲に設定することが重 要となる。そして本発明者は、セルロースエ ステル光学フィルムのガラス転移温度をTgと� ��たとき、フィルムがタッチロール6に挟圧さ れる直前のフィルムの温度Tを、Tg<T<Tg+110 ℃を満たすように設定すればよいことを見い だした。フィルム温度TがTgよりも低いとフィ ルムの粘度が高くなり、逆に、フィルムの温 度TがTg+110℃よりも高いと、フィルム表面と� �ールが均一に接着せず、ダイラインを矯正� �るのが難しくなる可能性がある。好ましく� �Tg+10℃<T<Tg+90℃、さらに好ましくはTg+20� �<T<Tg+70℃である。タッチロール6がセル� �ースフィルムを挟圧するときのフィルムの� �度を適切な範囲に設定するには、流延ダイ4� ��ら押し出された溶融物が第1冷却ロール5に� �触する位置P1から第1冷却ロール5とタッチロ� ��ル6とのニップの位置P2まで、第1冷却ロール 5の回転方向に沿った長さLを調整すればよい� ��またはタッチロール6、第1冷却ロール5、第2 冷却ロール7、及び第3冷却ロール8の表面温度 をそれぞれ適切に制御すればよい。前記タッ チロール6、第1冷却ロール5の表面温度は、通 常60~230℃の範囲が好ましく、より好ましくは 100~150℃の範囲であり、第2冷却ロール7の温度 は、通常30~150℃の範囲が好ましく、より好ま しくは60~130℃の範囲である。

 本発明において、第1ロール5、第2ロール6 に好ましい材質は、炭素鋼、ステンレス鋼、 樹脂、などが挙げられる。また、表面精度は 高くすることが好ましく表面粗さとして0.3S� �下、より好ましくは0.01S以下とする。

 本発明者らは、流延ダイ4の開口部(リッ� �)から第1ロール5までの部分を70kPa以下に減圧 させることにより、上記、ダイラインの矯正 効果がより大きく発現することを発見した。 好ましくは減圧は50kPa以上70kPa以下である。� �延ダイ4の開口部(リップ)から第1ロール5まで の部分の圧力を70kPa以下に保つ方法としては� ��特に制限はないが、流延ダイ4からロール周 辺を耐圧部材で覆い、減圧するなどの方法が ある。このとき、吸引装置は、装置自体が昇 華物の付着場所にならないようヒーターで加 熱するなどの処置を施すことが好ましい。本 発明では、吸引圧が小さすぎると昇華物を効 果的に吸引できないため、適当な吸引圧とす る必要がある。

 本発明において、Tダイ4から溶融状態の� �ィルム状のセルロースエステル系樹脂を、� �1ロール(第1冷却ロール)5、第2冷却ロール7、� ��び第3冷却ロール8に順次密着させて搬送し� �がら冷却固化させ、未延伸のセルロースエ� �テル系樹脂フィルム10を得る。

 図1に示す本発明の実施形態では、第3冷� �ロール8から剥離ロール9によって剥離した冷 却固化された未延伸のフィルム10は、ダンサ� ��ロール(フィルム張力調整ロール)11を経て延 伸機12に導き、そこでフィルム10を横方向(幅� ��向)に延伸する。この延伸により、フィルム 中の分子が配向される。

 フィルムを幅方向に延伸する方法は、公� ��のテンターなどを好ましく用いることがで� ��る。特に延伸方向を幅方向とすることで、� ��光フィルムとの積層がロール形態で実施で� ��るので好ましい。幅方向に延伸することで� ��セルロースエステル系樹脂フィルムからな� ��セルロースエステル光学フィルムの遅相軸� ��幅方向になる。

 一方、偏光フィルムの透過軸も、通常、� ��方向である。偏光フィルムの透過軸とセル� ��ースエステルフィルムの遅相軸とが平行に� ��るように積層した偏光板を液晶表示装置に� ��み込むことで、液晶表示装置の表示コント� ��ストを高くすることができるとともに、良� ��な視野角が得られるのである。

 フィルム構成材料のガラス転移温度Tgは� �ィルムを構成する材料種及び構成する材料� �比率を異ならしめることにより制御できる� �セルロースエステル光学フィルムとして位� �差フィルムを作製する場合、Tgは110℃以上、 好ましくは125℃以上とすることが好ましい。 液晶表示装置においては、画像の表示状態に おいて、装置自身の温度上昇、例えば光源由 来の温度上昇によってフィルムの温度環境が 変化する。このときフィルムの使用環境温度 よりもフィルムのTgが低いと、延伸によって� ��ィルム内部に固定された分子の配向状態に� ��来するリターデーション値及びフィルムと� ��ての寸法形状に大きな変化を与えることと� ��る。フィルムのTgが高過ぎると、フィルム� �成材料をフィルム化するとき温度が高くな� �ために加熱するエネルギー消費が高くなり� �またフィルム化するときの材料自身の分解� �それによる着色が生じることがあり、従っ� �、Tgは250℃以下が好ましい。

 また延伸工程には公知の熱固定条件、冷� ��、緩和処理を行ってもよく、目的とする光� ��フィルムに要求される特性を有するように� ��宜調整すればよい。

 位相フィルムの物性と液晶表示装置の視� ��角拡大のための位相フィルムの機能付与す� ��ために、上記延伸工程、熱固定処理は適宜� ��択して行われている。このような延伸工程� ��熱固定処理を含む場合、本発明の加熱加圧� ��程は、それらの延伸工程、熱固定処理の前� ��行うようにする。

 セルロースエステル光学フィルムとして� ��相差フィルムを製造し、さらに偏光板保護� ��ィルムの機能を複合させる場合、屈折率制� ��をおこなう必要が生じるが、その屈折率制� ��は延伸操作により行うことが可能であり、� ��た延伸操作が好ましい方法である。以下、� ��の延伸方法について説明する。

 延伸は縦延伸、横延伸、およびこれらの� ��み合わせによって実施される。縦延伸は、� ��ール延伸(出口側の周速を速くした2対以上� �ニップロールを用いて長手方向に延伸)や固� ��端延伸(フィルムの両端を把持しこれを長手 方向に次第に早く搬送して長手方向に延伸)� �により行うことができる。また横延伸は、� �ンター延伸{フィルムの両端をチャックで把� ��しこれを横方向(長手方向と直角方向)に広� �て延伸}等により行うことができる。

 これらの縦延伸と横延伸は、それぞれ単� ��で行ってもよく(一軸延伸)、組み合わせて� �ってもよい(二軸延伸)。二軸延伸の場合、縦 、横逐次で実施してもよく(逐次延伸)、同時� ��実施してもよい(同時延伸)。縦延伸、横延� �の延伸速度は、10%/分~10000%/分が好ましく、� �り好ましくは20%/分~1000%/分、さらに好ましく は30%/分~800%/分である。多段延伸の場合、延� �速度は各段の延伸速度の平均値を指す。こ� �ような延伸に引き続き、縦または横方向に0% ~10%緩和することも好ましい。さらに、延伸� �引き続き、150℃~250℃で1秒~3分熱固定するこ� ��も好ましい。

 位相差フィルムの延伸工程において、セ� ��ロース樹脂の1方向に1.0~4.0倍及びフィルム� �内にそれと直交する方向に1.01~4.0倍延伸する ことで、必要とされるリターデーションRo及� ��Rtを制御することができる。ここで、Roとは 面内リターデーションを示し、面内の長手方 向MDの屈折率と幅方向TDの屈折率との差に厚� �を乗じたもの、Rtとは厚み方向リターデーシ ョンを示し、面内の屈折率(長手方向MDと幅方 向TDの平均)と厚み方向の屈折率との差に厚み を乗じたものである。

 延伸は、例えばフィルムの長手方向及び� ��れとフィルム面内で直交する方向、即ち幅� ��向に対して、逐次または同時に行うことが� ��きる。このとき少なくとも1方向に対しての 延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得ら れず、大き過ぎると延伸が困難となりフィル ム破断が発生してしまう場合がある。

 互いに直交する2軸方向に延伸することは 、フィルムの屈折率nx、ny、nzを所定の範囲に 入れるために有効な方法である。ここで、nx� ��は長手MD方向の屈折率、nyとは幅手TD方向の� ��折率、nzとは厚み方向の屈折率である。

 例えば溶融流延方向に延伸した場合、幅� ��向の収縮が大き過ぎると、nzの値が大きく� �り過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅� �縮を抑制、或いは幅方向にも延伸すること� �改善できる。幅方向に延伸する場合、幅方� �で屈折率に分布が生じることがある。この� �布は、テンター法を用いた場合に現れるこ� �があり、フィルムを幅方向に延伸したこと� �、フィルム中央部に収縮力が発生し、端部� �固定されていることにより生じる現象で、� �わゆるボーイング現象と呼ばれるものと考� �られる。この場合でも、流延方向に延伸す� �ことで、ボーイング現象を抑制でき、幅方� �の位相差の分布を少なくできる。

 互いに直行する2軸方向に延伸することに より、得られるフィルムの膜厚変動が減少で きる。位相差フィルムの膜厚変動が大き過ぎ ると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイ に用いたとき着色等のムラが問題となること がある。

 セルロース樹脂フィルムの膜厚変動は、� �3%、さらに±1%の範囲とすることが好ましい� �以上のような目的において、互いに直交す� �2軸方向に延伸する方法は有効であり、互い� ��直交する2軸方向の延伸倍率は、それぞれ最 終的には流延方向に1.0~4.0倍、幅方向に1.01~4.0 倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に 1.0~1.5倍、幅方向に1.05~2.0倍に範囲で行うこと が必要とされるリターデーション値を得るた めにより好ましい。

 本発明の光学フィルムの寸法変化率は80� �、90%RHの高温高湿下、50時間の処理において� ��±1.0%以内であることが好ましく、より好ま� ��くは±0.5%以内、さらに好ましくは±0.4%以内� ��あり、特に好ましくは±0.3%以内であること� ��特に好ましい。

 長手方向に偏光子の吸収軸が存在する場� ��、幅方向に偏光子の透過軸が一致すること� ��なる。長尺状の偏光板を得るためには、位� ��差フィルムは、幅方向に遅相軸を得るよう� ��延伸することが好ましい。

 応力に対して、正の複屈折を得るセルロ� ��ス樹脂を用いる場合、上述の構成から、幅� ��向に延伸することで、位相差フィルムの遅� ��軸が幅方向に付与することができる。この� ��合、表示品質の向上のためには、位相差フ� ��ルムの遅相軸が、幅方向にあるほうが好ま� ��く、目的とするリターデーション値を得る� ��めには、式、(幅方向の延伸倍率)>(流延方 向の延伸倍率)の条件を満たすことが必要で� �る。

 延伸後、フィルムの端部をスリッター13� �より製品となる幅にスリットして裁ち落と� �た後、エンボスリング14及びバックロール15� ��りなるナール加工装置によりナール加工(エ ンボッシング加工)をフィルム両端部に施し� �巻取り機16によって巻き取ることにより、セ ルロースエステルフィルム(元巻き)F中の貼り 付きや、すり傷の発生を防止する。ナール加 工の方法は、凸凹のパターンを側面に有する 金属リングを加熱や加圧により加工すること ができる。なお、フィルム両端部のクリップ の把持部分は通常、変形しており、フィルム 製品として使用できないので、切除されて、 原料として再利用される。

 一般的に、溶融押出しでは流延ダイの形� ��により、端部側の滞留時間が長くなる傾向� ��知られており、それによりフィルム端部の� ��色が促進されると考えられる。しかし本発� ��のフィルムの製造法を用いれば、フィルム� ��部の着色が抑えられることが判明した。本� ��明では溶融押出し直後のフィルム幅手方向� ��端部のイエローインデックスYeと、フィル� �中央部分のイエローインデックスYcは下式(4) を満たすことが好ましく、より好ましくはYe/ Ycが3.0以下である。Ye/Ycが5.0より大きいと、� �ィルム端部を切除して、原料として再利用� �た際に、生産したフィルムの着色が増加す� �。なお、本発明で端部のイエローインデッ� �スとはフィルム幅手方向の両端部から30mm以� ��での最大値と定義する。

 式(4) 1.0≦Ye/Yc≦5.0
 位相差フィルムを偏光板保護フィルムとす� ��場合、該保護フィルムの厚さは、10~500μmが� ��ましい。特に、下限は20μm以上、好ましく� �30μm以上である。上限は150μm以下、好ましく は120μm以下である。特に好ましい範囲は25以� ��~90μmである。位相差フィルムが厚いと、偏� ��板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート� ��パソコンやモバイル型電子機器に用いる液� ��表示においては、特に薄型軽量の目的に適� ��なくなる。一方、位相差フィルムが薄いと� ��位相差フィルムとしてのリターデーション� ��発現が困難となり、加えてフィルムの透湿� ��が高くなり、偏光子を湿度から保護する能� ��が低下する傾向がある。

 位相差フィルムの遅相軸または進相軸が� ��ィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角� ��をθ1とすると、θ1は-1°以上+1°以下、好ま� �くは-0.5°以上+0.5°以下となるようにする。

 このθ1は配向角として定義でき、θ1の測� ��は、自動複屈折計KOBRA-21ADH(王子計測機器社� ��)を用いて行うことができる。

 θ1が各々上記関係を満たすことは、表示� ��像において高い輝度を得ること、光漏れを� ��制または防止することに寄与し、カラー液� ��表示装置においては忠実な色再現に寄与す� ��。

 本発明に係るセルロースエステル光学フ� ��ルムを位相差フィルムとして用い、かつマ� ��チドメイン化されたVAモードに用いられる� �き、位相差フィルムの配置は、位相差フィ� �ムの進相軸がθ1として上記領域に配置する� �とで、表示画質の向上に寄与し、偏光板及� �液晶表示装置としてMVAモードとしたとき、� �えば図7に示される構成をとることができる� ��

 図7において、21a、21bは保護フィルム、22a 、22bは位相差フィルム、25a、25bは偏光子、23a 、23bはフィルムの遅相軸方向、24a、24bは偏光 子の透過軸方向、26a、26bは偏光板、27は液晶� ��ル、29は液晶表示装置を示している。

 光学フィルムの面内方向のリターデーシ� ��ンRo分布は、5%以下に調整することが好まし く、より好ましくは2%以下であり、特に好ま� ��くは、1.5%以下である。また、フィルムの厚 み方向のリターデーションRt分布を10%以下に� ��整することが好ましいが、さらに好ましく� ��、2.0%以下であり、特に好ましくは、1.5%以� �である。

 位相差フィルムにおいて、リターデーシ� ��ン値の分布変動が小さい方が好ましく、液� ��表示装置に位相差フィルムを含む偏光板を� ��いるとき、該リターデーション分布変動が� ��さいことが色ムラ等を防止する観点で好ま� ��い。

 位相差フィルムを、VAモードまたはTNモー ドの液晶セルの表示品質の向上に適したリタ ーデーション値を有するように調整し、特に VAモードとして上記のマルチドメインに分割� ��てMVAモードに好ましく用いられるようにす� ��には、面内リターデーションRoを30nmよりも� ��きく、95nm以下に、かつ厚み方向リターデー ションRtを70nmよりも大きく、400nm以下の値に� ��整することが求められる。

 上記の面内リターデーションRoは、2枚の� ��光板がクロスニコルに配置され、偏光板の� ��に液晶セルが配置された、例えば図7に示す 構成であるときに、表示面の法線方向から観 察するときを基準にしてクロスニコル状態に あるとき、表示面の法線から斜めに観察した とき、偏光板のクロスニコル状態からのずれ が生じ、これが要因となる光漏れを、主に補 償する。厚さ方向のリターデーションは、上 記TNモードやVAモード、特にMVAモードにおい� �液晶セルが黒表示状態であるときに、同様� �斜めから見たときに認められる液晶セルの� �屈折を主に補償するために寄与する。

 図7に示すように、液晶表示装置において 、液晶セルの上下に偏光板が二枚配置された 構成である場合、図中の22a及び22bは、厚み方 向リターデーションRtの配分を選択すること� ��でき、上記範囲を満たしかつ厚み方向リタ� ��デーションRtの両者の合計値が140nmよりも大 きくかつ500nm以下にすることが好ましい。こ� ��とき22a及び22bの面内リターデーションRo、� �み方向リターデーションRtが両者同じである ことが、工業的な偏光板の生産性向上におい て好ましい。特に好ましくは面内リターデー ションRoが35nmよりも大きくかつ65nm以下であ� �、かつ厚み方向リターデーションRtが90nmよ� �も大きく180nm以下で、図7の構成でMVAモード� �液晶セルに適用することである。

 液晶表示装置において、一方の偏光板に� ��えば市販の偏光板保護フィルムとして面内� ��ターデーションRo=0~4nm及び厚み方向リター� �ーションRt=20~50nmで厚さ35~85μmのTACフィルム� �、例えば図7の22bの位置で使用されている場� ��、他方の偏光板に配置される偏光フィルム� ��例えば、図7の22aに配置する位相差フィルム は、面内リターデーションRoが30nmよりも大き く95nm以下であり、かつ厚み方向リターデー� �ョンRtが140nmよりも大きく400nm以下であるも� �を使用するようにする。表示品質が向上し� �かつフィルムの生産面からも好ましい。

 (偏光板)
 本発明の偏光板について述べる。

 偏光板は一般的な方法で作製することが� ��きる。本発明のセルロースエステル光学フ� ��ルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理� ��たセルロースエステル光学フィルムを、ヨ� ��素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の� ��なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニ� ��アルコール水溶液を用いて貼り合わせるこ� ��が好ましい。もう一方の面にも本発明のセ� ��ロースエステル光学フィルムを用いても、� ��の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本� ��明のセルロースエステル光学フィルムに対� ��て、もう一方の面に用いられる偏光板保護� ��ィルムは市販のセルロースエステルフィル� ��を用いることができる。例えば、市販のセ� ��ロースエステルフィルムとして、KC8UX2M、KC4 UX、KC5UX、KC4UY、KC8UY、KC12UR、KC8UCR-3、KC8UCR-4(� �上、コニカミノルタオプト(株)製)等が好ま� �く用いられる。或いは更にディスコチック� �晶、棒状液晶、コレステリック液晶などの� �晶化合物を配向させて形成した光学異方層� �有している光学補償フィルムを兼ねる偏光� �保護フィルムを用いることも好ましい。例� �ば、特開2003-98348号記載の方法で光学異方性� ��を形成することができる。本発明の反射防� ��フィルムと組み合わせて使用することによ� ��て、平面性に優れ、安定した視野角拡大効� ��を有する偏光板を得ることができる。

 偏光板の主たる構成要素である偏光膜と� ��、一定方向の偏波面の光だけを通す素子で� ��り、現在知られている代表的な偏光膜は、� ��リビニルアルコール系偏光フィルムで、こ� ��はポリビニルアルコール系フィルムにヨウ� ��を染色させたものと二色性染料を染色させ� ��ものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコ� ��ル水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて� ��色するか、染色した後一軸延伸してから、� ��ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行っ� ��ものが用いられている。該偏光膜の面上に� ��本発明のセルロースエステル光学フィルム� ��片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好� ��しくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を� ��成分とする水系の接着剤によって貼り合わ� ��る。

 偏光膜は一軸方向(通常は長手方向)に延� �されているため、偏光板を高温高湿の環境� �に置くと延伸方向(通常は長手方向)は縮み、 延伸と垂直方向(通常は幅方向)には伸びる。� ��光板保護用フィルムの膜厚が薄くなるほど� ��光板の伸縮率は大きくなり、特に偏光膜の� ��伸方向の収縮量が大きい。通常、偏光膜の� ��伸方向は偏光板保護用フィルムの流延方向( MD方向)と貼り合わせるため、偏光板保護用フ ィルムを薄膜化する場合は、特に流延方向の 伸縮率を抑えることが重要である。本発明の 光学フィルムは極めて寸法安定に優れる為、 このような偏光板保護フィルムとして好適に 使用される。

 即ち60℃、90%RHの条件での耐久性試験によ っても波打ち状のむらが増加することはなく 、裏面側に光学補償フィルムを有する偏光板 であっても、耐久性試験後に視野角特性が変 動することなく良好な視認性を提供すること ができる。

 偏光板は、更に該偏光板の一方の面にプ� ��テクトフィルムを、反対面にセパレートフ� ��ルムを貼合して構成することができる。プ� ��テクトフィルム及びセパレートフィルムは� ��光板出荷時、製品検査時等において偏光板� ��保護する目的で用いられる。この場合、プ� ��テクトフィルムは、偏光板の表面を保護す� ��目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合す� ��面の反対面側に用いられる。また、セパレ� ��トフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカ� ��ーする目的で用いられ、偏光板を液晶セル� ��貼合する面側に用いられる。

 (液晶表示装置)
 本発明に係るセルロースエステル光学フィ� ��ムを位相差フィルムとして含む偏光板は、� ��常の偏光板と比較して高い表示品質を発現� ��せることができ、特にマルチドメイン型の� ��晶表示装置、より好ましくは複屈折モード� ��よってマルチドメイン型の液晶表示装置へ� ��使用に適している。

 本発明の偏光板は、MVA(Multi-domain Vertical  Alignment)モード、PVA(Patterned Vertical Alignment)モ ード、CPA(Continuous Pinwheel Alignment)モード、OCB (Optical Compensated Bend)モード等に用いること� �でき、特定の液晶モード、偏光板の配置に� �定されるものではない。

 液晶表示装置はカラー化及び動画表示用� ��装置としても応用されつつあり、本発明に� ��り表示品質が改良され、コントラストの改� ��や偏光板の耐性が向上したことにより、疲� ��にくく忠実な動画像表示が可能となる。

 前記位相差フィルムを含む偏光板を少な� ��とも含む液晶表示装置においては、前記位� ��差フィルムを含む偏光板を、液晶セルに対� ��て、一枚配置するか、或いは液晶セルの両� ��に二枚配置する。このとき偏光板に含まれ� ��本発明の前記位相差側が液晶表示装置の液� ��セルに面するように用いることで表示品質� ��向上に寄与できる。図7においては22a及び22b のフィルムが液晶表示装置の液晶セルに面す ることになる。

 このような構成において、前記位相差フ� ��ルムは、液晶セルを光学的に補償すること� ��できる。本発明の偏光板を液晶表示装置に� ��いる場合は、液晶表示装置の偏光板の内の� ��なくとも一つの偏光板を、本発明の偏光板� ��すればよい。本発明の偏光板を用いること� ��、表示品質が向上し、視野角特性に優れた� ��晶表示装置が提供できる。

 本発明の偏光板において、偏光子からみ� ��位相差フィルムとは反対側の面には、セル� ��ース誘導体の偏光板保護フィルムが用いら� ��、汎用のTACフィルムなどを用いることがで� ��る。液晶セルから遠い側に位置する偏光板� ��護フィルムは、表示装置の品質を向上する� ��で、他の機能性層を配置することも可能で� ��る。

 例えば、反射防止、防眩、耐キズ、ゴミ� ��着防止、輝度向上のためにディスプレイと� ��ての公知の機能層を構成物として含むフィ� ��ムや、または本発明の偏光板表面に貼付し� ��もよいがこれらに限定されるものではない� ��

 一般に位相差フィルムでは、上述のリタ� ��デーション値としてRoまたはRtの変動が少な いことが安定した光学特性を得るために求め られている。特に複屈折モードの液晶表示装 置は、これらの変動が画像のムラを引き起こ す原因となることがある。

 本発明に従い溶融流延製膜法により製造� ��れる長尺状位相差フィルムは、セルロース� ��脂を主体として構成されるため、セルロー� ��樹脂固有のケン化を活用してアルカリ処理� ��程を活用することができる。これは、偏光� ��を構成する樹脂がポリビニルアルコールで� ��るとき、従来の偏光板保護フィルムと同様� ��完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を� ��いて前記長尺状位相差フィルムと貼合する� ��とができる。このために本発明は、従来の� ��光板加工方法が適用できる点で優れており� ��特に長尺状であるロール偏光板が得られる� ��で優れている。

 本発明により得られる製造的効果は、特� ��100m以上の長尺の巻物においてより顕著とな り、1500m、2500m、5000mとより長尺化する程、偏 光板製造の製造的効果を得る。

 例えば、位相差フィルム製造において、� ��ール長さは、生産性と運搬性を考慮すると� ��10m以上5000m以下、好ましくは50m以上4500m以下 であり、このときのフィルムの幅は、偏光子 の幅や製造ラインに適した幅を選択すること ができる。0.5m以上4.0m以下、好ましくは0.6m以 上3.0m以下の幅でフィルムを製造してロール� �に巻き取り、偏光板加工に供してもよく、� �た、目的の倍幅以上のフィルムを製造して� �ールに巻き取った後、断裁して目的の幅の� �ールを得て、このようなロールを偏光板加� �に用いるようにしてもよい。

 本発明のセルロースエステル光学フィル� ��製造に際し、延伸の前及び/又は後で帯電防 止層、ハードコート層、易滑性層、接着層、 防眩層、バリアー層等の機能性層を塗設して もよい。この際、コロナ放電処理、プラズマ 処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応 じて施すことができる。

 製膜工程において、カットされたフィル� ��両端のクリップ把持部分は、粉砕処理され� ��後、或いは必要に応じて造粒処理を行った� ��、同じ品種のフィルム用原料としてまたは� ��なる品種のフィルム用原料として再利用し� ��もよい。

 前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤� ��の添加物濃度が異なるセルロース樹脂を含� ��組成物を共押出しして、積層構造の光学フ� ��ルムを作製することもできる。例えば、ス� ��ン層/コア層/スキン層といった構成の光学� �ィルムを作ることができる。例えば、マッ� �剤は、スキン層に多く、またはスキン層の� �に入れることができる。可塑剤、紫外線吸� �剤はスキン層よりもコア層に多く入れるこ� �ができ、コア層のみに入れてもよい。また� �コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤� �種類を変更することもでき、例えば、スキ� �層に低揮発性の可塑剤及び/又は紫外線吸収� ��を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤� ��或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤� ��添加することもできる。スキン層とコア層� ��ガラス転移温度が異なっていても良く、ス� ��ン層のガラス転移温度よりコア層のガラス� ��移温度が低いことが好ましい。このとき、� ��キンとコアの両者のガラス転移温度を測定� ��、これらの体積分率より算出した平均値を� ��記ガラス転移温度Tgと定義して同様に扱う� �ともできる。また、溶融流延時のセルロー� �エステルを含む溶融物の粘度もスキン層と� �ア層で異なっていても良く、スキン層の粘� �>コア層の粘度でも、コア層の粘度≧スキ� ��層の粘度でもよい。

 本発明のセルロースエステル光学フィル� ��は、寸度安定性が、23℃55%RHに24時間放置し� ��フィルムの寸法を基準としたとき、80℃90%RH における寸法の変動値が±2.0%未満であり、好 ましくは1.0%未満であり、さらに好ましくは0. 5%未満である。

 本発明のセルロースエステル光学フィル� ��を位相差フィルムとして偏光板の保護フィ� ��ムとして用いる際に、位相差フィルム自身� ��上記の範囲以上の変動を有すると、偏光板� ��してのリターデーションの絶対値と配向角� ��当初の設定とずれるために、表示品質の向� ��能の減少或いは表示品質の劣化を引き起こ� ��ことがある。

 本発明のセルロースエステル光学フィル� ��は偏光板保護フィルム用として用いること� ��できる。偏光板保護フィルムとして用いる� ��合、偏光板の作製方法は特に限定されず、� ��般的な方法で作製することができる。得ら� ��たセルロースエステル光学フィルムをアル� ��リ処理し、ポリビニルアルコールフィルム� ��沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子� ��両面に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶� ��を用いて、偏光子の両面に偏光板保護フィ� ��ムを貼り合わせる方法があり、少なくとも� ��面に本発明の偏光板保護フィルムであるセ� ��ロースエステル光学フィルムが偏光子に直� ��貼合する。

 上記アルカリ処理の代わりに特開平6-94915 号公報、特開平6-118232号公報に記載されてい� ��ような易接着加工を施して偏光板加工を行� ��てもよい。

 (機能性層の形成)
 本発明の光学フィルム製造に際し、延伸の� ��及び/または後で透明導電層、ハードコート 層、反射防止層、易滑性層、易接着層、防眩 層、バリアー層、光学補償層等の機能性層を 塗設してもよい。特に、透明導電層、ハード コート層、反射防止層、易接着層、防眩層及 び光学補償層から選ばれる少なくとも1層を� �けることが好ましい。この際、コロナ放電� �理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面� �理を必要に応じて施すことができる。

 〈透明導電層〉
 本発明のフィルムには、界面活性剤や導電� ��微粒子分散物などを用いて、透明導電層を� ��けることも好ましい。フィルム自身に導電� ��を付与しても、透明導電性層を設けてもよ� ��。帯電防止性を付与するには透明導電性層� ��設けることが好ましい。透明導電性層は、� ��布、大気圧プラズマ処理、真空蒸着、スパ� ��タ、イオンプレーティング法などによって� ��けることもできる。或いは共押出し法で表� ��或いは内部層のみに導電性微粒子を含有さ� ��て、透明導電性層とすることもできる。透� ��導電層はフィルムの一方の面のみに設けて� ��両面に設けてもよい。導電性微粒子を滑り� ��を付与させるマット剤と併用若しくは兼用� ��ることもできる。導電剤としては、下記の� ��電性を有する金属酸化物粉体を使用するこ� ��ができる。

 金属酸化物の例としては、ZnO、TiO ₂ 、SnO ₂ 、Al ₂ O ₃ 、In ₂ O ₃ 、SiO ₂ 、MgO、BaO、MoO ₂ 、V ₂ O ₅ 等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、 特にZnO、TiO ₂ 及びSnO ₂ が好ましい。異種原子を含む例としては、例 えばZnOに対してはAl、In等の添加、TiO ₂ に対してはNb、Ta等の添加、またSnO ₂ に対しては、Sb、Nb、ハロゲン元素等の添加� �効果的である。これら異種原子の添加量は0. 01~25mol%の範囲が好ましいが、0.1~15mol%の範囲� �特に好ましい。

 また、これらの導電性を有する金属酸化物� ��体の体積抵抗率は1×10 ⁷ ωcm特に1×10 ⁵ ωcm以下であって、一次粒子径が10nm以上、0.2� �m以下で、高次構造の長径が30nm以上、6μm以� �である特定の構造を有する粉体を導電層に� �積分率で0.01%以上、20%以下含んでいることが 好ましい。

 本発明において透明導電層の形成は、導� ��性微粒子をバインダーに分散させて基体上� ��設けてもよいし、基体上に下引処理を施し� ��その上に導電性微粒子を被着させてもよい� ��

 また、特開平9-203810号公報の段落番号0038~ 同0055に記載の一般式(I)~(V)で表されるアイオ� ��ン導電性ポリマーや、同公報の段落番号0056 ~同0145に記載の一般式(1)または(2)で表される� ��4級アンモニウムカチオンポリマーを含有さ せることができる。

 また、本発明の効果を阻害しない範囲で� ��金属酸化物からなる透明導電層中に耐熱剤� ��耐候剤、無機粒子、水溶性樹脂、エマルジ� ��ン等をマット化、膜質改良のために添加し� ��もよい。

 透明導電層で使用するバインダーは、フ� ��ルム形成能を有する物であれば特に限定さ� ��るものではないが、例えば、ゼラチン、カ� ��イン等のタンパク質、カルボキシメチルセ� ��ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ア� ��チルセルロース、ジアセチルセルロース、� ��リアセチルセルロース等のセルロース化合� ��、デキストラン、寒天、アルギン酸ソーダ� ��デンプン誘導体等の糖類、ポリビニルアル� ��ール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エ� ��テル、ポリメタクリル酸エステル、ポリス� ��レン、ポリアクリルアミド、ポリ-N-ビニル� ��ロリドン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル� ��ポリアクリル酸等の合成ポリマー等を挙げ� ��ことができる。

 特に、ゼラチン(石灰処理ゼラチン、酸処 理ゼラチン、酸素分解ゼラチン、フタル化ゼ ラチン、アセチル化ゼラチン等)、アセチル� �ルロース、ジアセチルセルロース、トリア� �チルセルロース、ポリ酢酸ビニル、ポリビ� �ルアルコール、ポリアクリル酸ブチル、ポ� �アクリルアミド、デキストラン等が好まし� �。

 〈反射防止フィルム〉
 本発明のセルロースエステル光学フィルム� ��、その表面にハードコート層及び反射防止� ��を設け、反射防止フィルムとすることも好� ��しい。

 ハードコート層としては、活性線硬化樹� ��層または熱硬化樹脂層が好ましく用いられ� ��。ハードコート層は、支持体上に直接設層� ��ても、帯電防止層または下引層等の他の層� ��上に設層してもよい。

 ハードコート層として活性線化樹脂層を� ��ける場合には、紫外線等光照射により硬化� ��る活性線硬化樹脂を含有することが好まし� ��。

 ハードコート層は、光学設計上の観点か� ��屈折率が1.45~1.65の範囲にあることが好まし� ��。また、反射防止フィルムに充分な耐久性� ��耐衝撃性を付与し、かつ、適度な屈曲性、� ��製時の経済性等を鑑みた観点から、ハード� ��ート層の膜厚としては、1μm~20μmの範囲が好 ましく、更に好ましくは、1μm~10μmである。

 活性線硬化性樹脂層とは紫外線や電子線� ��ような活性線照射(本発明では、『活性線』 とは、電子線、中性子線、X線、アルファ線� �紫外線、可視光線、赤外線等、種々の電磁� �を全て光と定義する)により架橋反応等を経� ��硬化した樹脂を主たる成分として含有する� ��をいう。活性線硬化性樹脂としては、紫外� ��硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的� ��ものとして挙げられるが、紫外線や電子線� ��外の光照射によって硬化する樹脂でもよい� ��紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外� ��硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬� ��型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外� ��硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外� ��硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、ま� ��は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げるこ� ��ができる。

 紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、� ��外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹� ��、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹� ��、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系� ��脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂を挙� ��ることができる。

 また、光反応開始剤、光増感剤を含有さ� ��ることもできる。具体的には、アセトフェ� ��ン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフ� ��ノン、ミヒラーケトン、α-アミロキシムエ� ��テル、チオキサントン等及びこれらの誘導� ��を挙げることができる。また、エポキシア� ��リレート系樹脂の合成に光反応剤を使用す� ��際に、n-ブチルアミン、トリエチルアミン� �トリ-n-ブチルホスフィン等の増感剤を用い� �ことができる。塗布乾燥後に揮発する溶媒� �分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含ま� �る光反応開始剤また光増感剤は、組成物の2. 5~6質量%であることが好ましい。

 樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和� ��重結合が1個のモノマーとして、メチルアク リレート、エチルアクリレート、ブチルアク リレート、酢酸ビニル、ベンジルアクリレー ト、シクロヘキシルアクリレート、スチレン 等の一般的なモノマーを挙げることができる 。また不飽和二重結合を2個以上持つモノマ� �として、エチレングリコールジアクリレー� �、プロピレングリコールジアクリレート、� �ビニルベンゼン、1,4-シクロヘキサンジアク� ��レート、1,4-シクロヘキシルジメチルアジア クリレート、前述のトリメチロールプロパン トリアクリレート、ペンタエリスリトールテ トラアクリルエステル等を挙げることができ る。

 また、紫外線硬化性樹脂組成物の活性線� ��化を妨げない程度に、紫外線吸収剤を紫外� ��硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。紫外� ��吸収剤としては、前記基材に使用してもよ� ��紫外線吸収剤と同様なものを用いることが� ��きる。

 また硬化された層の耐熱性を高めるため� ��、活性線硬化反応を抑制しないような酸化� ��止剤を選んで用いることができる。例えば� ��ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピ� ��ン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げ� ��ことができる。具体的には、例えば、4,4″- チオビス(6-t-3-メチルフェノール)、4,4″-ブチ リデンビス(6-t-ブチル-3-メチルフェノール)、 1,3,5-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベン� ��ル)イソシアヌレート、2,4,6-トリス(3,5-ジ-t-� ��チル-4-ヒドロキシベンジル)メシチレン、ジ -オクタデシル-4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルベ ンジルホスフェート等を挙げることができる 。

 紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ア� ��カオプトマーKR、BYシリーズのKR-400、KR-410、 KR-550、KR-566、KR-567、BY-320B(以上、旭電化工業( 株)製)、コーエイハードのA-101-KK、A-101-WS、C-3 02、C-401-N、C-501、M-101、M-102、T-102、D-102、NS-10 1、FT-102Q8、MAG-1-P20、AG-106、M-101-C(以上、広栄� ��学工業(株)製)、セイカビームのPHC2210(S)、PHC X-9(K-3)、PHC2213、DP-10、DP-20、DP-30、P1000、P1100� �P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(以上、大 日精化工業(株)製)、KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM 7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(以上、ダイセル・� ��ーシービー(株))、RC-5015、RC-5016、RC-5020、RC-5 031、RC-5100、RC-5102、RC-5120、RC-5122、RC-5152、RC-5 171、RC-5180、RC-5181(以上、大日本インキ化学工 業(株)製)、オーレックスNo.340クリヤ(中国塗� �(株)製)、サンラッドH-601(三洋化成工業(株)製 )、SP-1509、SP-1507(以上、昭和高分子(株)製)、RC C-15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニック スM-6100、M-8030、M-8060(以上、東亞合成(株)製)� �またはその他の市販のものから適宜選択し� �利用することができる。

 活性線硬化性樹脂層の塗布組成物は、固� ��分濃度は10~95質量%であることが好ましく、� ��布方法により適当な濃度が選ばれる。

 活性線硬化性樹脂を活性線硬化反応により� ��化被膜層を形成するための光源としては、� ��外線を発生する光源であればいずれでも使� ��できる。具体的には、前記光の項に記載の� ��源を使用できる。照射条件はそれぞれのラ� ��プによって異なるが、照射光量としては20mJ /cm ² ~10000mJ/cm ² の範囲が好ましく、更に好ましくは、50mJ/cm ² ~2000mJ/cm ² である。近紫外線領域から可視光線領域にか けてはその領域に吸収極大のある増感剤を用 いることによって使用できる。

 活性線硬化性樹脂層を塗設する際の溶媒� ��、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン 、)、アルコール類(メタノール、エタノール� ��イソプロパノール、ブタノール、シクロヘ� ��サノール)、ケトン類(アセトン、メチルエ� �ルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケト� ��アルコール類(ジアセトンアルコール)、エ� �テル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチ� ��)、グリコールエーテル類、その他の有機溶 媒の中から適宜選択し、或いはこれらを混合 し利用できる。プロピレングリコールモノア ルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数と� �て1~4)またはプロピレングリコールモノアル� ��ルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素 原子数として1~4)等を5質量%以上、より好まし くは5~80質量%以上含有する上記有機溶媒を用� ��るのが好ましい。

 活性線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方� ��としては、グラビアコータ、スピナーコー� ��、ワイヤーバーコータ、ロールコータ、リ� ��ースコータ、押出コータ、エアードクター� ��ータ等公知の方法を用いることができる。� ��布量はウェット膜厚で0.1μm~30μmが適当で、� ��ましくは0.5μm~15μmである。塗布速度は10m/分 ~60m/分の範囲が好ましい。

 活性線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥され� ��後、紫外線を照射するが、照射時間は0.5秒~ 5分がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、� �業効率から3秒~2分がより好ましい。

 こうして硬化被膜層を得ることができる� ��、液晶表示装置パネルの表面に防眩性を与� ��るために、また他の物質との対密着性を防� ��、対擦り傷性等を高めるために、硬化被膜� ��用の塗布組成物中に無機または有機の微粒� ��を加えることもできる。

 例えば、無機微粒子としては酸化珪素、� ��化ジルコニウム酸化チタン、酸化アルミニ� ��ム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、� ��酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カル� ��ウム等を挙げることができる。

 また、有機微粒子としては、ポリメタア� ��リル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アク� ��ルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタク� ��レート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポ� ��スチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹� ��粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラ� ��ン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末� ��ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹� ��粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ� ��化エチレン系樹脂粉末等を挙げることがで� ��る。これらは紫外線硬化性樹脂組成物に加� ��て用いることができる。これらの微粒子粉� ��の平均粒径としては、0.01μm~10μmであり、使 用量は紫外線硬化樹脂組成物100質量部に対し て、0.1質量部~20質量部となるように配合する ことが望ましい。防眩効果を付与するには、 平均粒径0.1μm~1μmの微粒子を紫外線硬化樹脂� ��成物100質量部に対して1質量部~15質量部用い るのが好ましい。

 このような微粒子を紫外線硬化樹脂に添� ��することによって、中心線平均表面粗さRa� �0.05μm~0.5μmの好ましい凹凸を有する防眩層を 形成することができる。また、このような微 粒子を紫外線硬化性樹脂組成物に添加しない 場合、中心線平均表面粗さRaは0.05μm未満、よ り好ましくは0.002μm~0.04μm未満の良好な平滑� �を有するハードコート層を形成することが� �きる。

 この他、ブロッキング防止機能を果たす� ��のとして、上述したのと同じ成分で、体積� ��均粒径0.005μm~0.1μmの極微粒子を樹脂組成物1 00質量部に対して0.1質量部~5質量部を用いる� �ともできる。

 反射防止層は上記ハードコート層の上に� ��けるが、その方法は特に限定されず、塗布� ��スパッタ、蒸着、CVD(Chemical Vapor Deposition)� �、大気圧プラズマ法またはこれらを組み合� �せて形成することができる。本発明では、� �に塗布によって反射防止層を設けることが� �ましい。

 反射防止層を塗布により形成する方法と� ��ては、溶剤に溶解したバインダー樹脂中に� ��属酸化物の粉末を分散し、塗布乾燥する方� ��、架橋構造を有するポリマーをバインダー� ��脂として用いる方法、エチレン性不飽和モ� ��マーと光重合開始剤を含有させ、活性線を� ��射することにより層を形成する方法等の方� ��を挙げることができる。

 本発明においては、紫外線硬化樹脂層を� ��与したセルロースエステル光学フィルムの� ��に反射防止層を設けることができる。光学� ��ィルムの最上層に低屈折率層を形成し、そ� ��間に高屈折率層の金属酸化物層を形成した� ��、更に光学フィルムと高屈折率層との間に� ��に中屈折率層(金属酸化物の含有量或いは樹 脂バインダーとの比率、金属の種類を変更し て屈折率を調整した金属酸化物層)を設ける� �とは、反射率の低減のために、好ましい。� �屈折率層の屈折率は、1.55~2.30であることが� �ましく、1.57~2.20であることが更に好ましい� �中屈折率層の屈折率は、基材であるセルロ� �スエステルフィルムの屈折率(約1.5)と高屈折 率層の屈折率との中間の値となるように調整 する。中屈折率層の屈折率は、1.55~1.80である ことが好ましい。各層の厚さは、5nm~0.5μmで� �ることが好ましく、10nm~0.3μmであることが更 に好ましく、30nm~0.2μmであることが最も好ま� ��い。金属酸化物層のヘイズは、5%以下であ� �ことが好ましく、3%以下であることが更に好 ましく、1%以下であることが最も好ましい。� ��属酸化物層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で3 H以上であることが好ましく、4H以上であるこ とが最も好ましい。金属酸化物層を塗布によ り形成する場合は、無機微粒子とバインダー ポリマーとを含むことが好ましい。

 本発明における中、高屈折率層は下記一� ��式(T)で表される有機チタン化合物のモノマ� ��、オリゴマーまたはそれらの加水分解物を� ��有する塗布液を塗布し乾燥させて形成させ� ��屈折率1.55~2.5の層であることが好ましい。

 一般式(T)  Ti(OR1) ₄
 一般式(T)において、R1としては炭素数1~8の� �肪族炭化水素基がよいが、好ましくは炭素� �1~4の脂肪族炭化水素基である。また、有機� �タン化合物のモノマー、オリゴマーまたは� �れらの加水分解物は、アルコキシド基が加� �分解を受けて-Ti-O-Ti-のように反応して架橋� �造を作り、硬化した層を形成する。

 本発明に用いられる有機チタン化合物のモ� ��マー、オリゴマーとしては、Ti(OCH ₃ ) ₄ 、Ti(OC ₂ H ₅ ) ₄ 、Ti(O-n-C ₃ H ₇ ) ₄ 、Ti(O-i-C ₃ H ₇ ) ₄ 、Ti(O-n-C ₄ H ₉ ) ₄ 、Ti(O-n-C ₃ H ₇ )4の2~10量体、Ti(O-i-C ₃ H ₇ )4の2~10量体、Ti(O-n-C ₄ H ₉ ) ₄ の2~10量体等が好ましい例として挙げられる� �これらは単独で、または2種以上組み合わせ� ��用いることができる。中でもTi(O-n-C ₃ H ₇ ) ₄ 、Ti(O-i-C ₃ H ₇ ) ₄ 、Ti(O-n-C ₄ H ₉ ) ₄ 、Ti(O-n-C ₃ H ₇ )4の2~10量体、Ti(O-n-C ₄ H ₉ ) ₄ の2~10量体が特に好ましい。

 本発明における中、高屈折率層用塗布液� ��、水と後述する有機溶媒が順次添加された� ��液中に上記有機チタン化合物を添加するこ� ��が好ましい。水を後から添加した場合は、� ��水分解/重合が均一に進行せず、白濁が発生 したり、膜強度が低下することもある。水と 有機溶媒は添加された後、良く混合させるた めに攪拌し混合溶解されていることが好まし い。

 また、別法として有機チタン化合物と有� ��溶媒を混合させておき、この混合溶液を、� ��記水と有機溶媒の混合攪拌された溶液中に� ��加することも好ましい態様である。

 また、水の量は有機チタン化合物1モルに対 して、0.25~3モルの範囲であることが好ましい 。0.25モル未満であると、加水分解、重合の� �行が不十分で膜強度が低下することもある� �3モルを超えると加水分解、重合が進行し過� ��て、TiO ₂ の粗大粒子が発生し白濁することもある。従 って水の量は上記範囲で調整することが好ま しい。

 また、水の含有率は塗布液総量に対して1 0質量%未満であることが好ましい。水の含有� ��を塗布液総量に対して10質量%以上にすると� ��塗布液の経時安定が劣り白濁を生じること� ��ある。

 本発明に用いられる有機溶媒としては、� ��混和性の有機溶媒であることが好ましい。� ��混和性の有機溶媒としては、例えば、アル� ��ール類(例えば、メタノール、エタノール、 プロパノール、イソプロパノール、ブタノー ル、イソブタノール、セカンダリーブタノー ル、ターシャリーブタノール、ペンタノール 、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベン ジルアルコール等)、多価アルコール類(例え� ��、エチレングリコール、ジエチレングリコ� ��ル、トリエチレングリコール、ポリエチレ� ��グリコール、プロピレングリコール、ジプ� ��ピレングリコール、ポリプロピレングリコ� ��ル、ブチレングリコール、ヘキサンジオー� ��、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサ� ��トリオール、チオジグリコール等)、多価ア ルコールエーテル類(例えば、エチレングリ� �ールモノメチルエーテル、エチレングリコ� �ルモノエチルエーテル、エチレングリコー� �モノブチルエーテル、ジエチレングリコー� �モノメチルエーテル、ジエチレングリコー� �モノメチルエーテル、ジエチレングリコー� �モノブチルエーテル、プロピレングリコー� �モノメチルエーテル、プロピレングリコー� �モノブチルエーテル、エチレングリコール� �ノメチルエーテルアセテート、トリエチレ� �グリコールモノメチルエーテル、トリエチ� �ングリコールモノエチルエーテル、エチレ� �グリコールモノフェニルエーテル、プロピ� �ングリコールモノフェニルエーテル等)、ア� ��ン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノ ールアミン、トリエタノールアミン、N-メチ� ��ジエタノールアミン、N-エチルジエタノー� �アミン、モルホリン、N-エチルモルホリン、 エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、ト リエチレンテトラミン、テトラエチレンペン タミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチル ジエチレントリアミン、テトラメチルプロピ レンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルム� ��ミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメ� �ルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2-ピ� ��リドン、N-メチル-2-ピロリドン、シクロヘ� �シルピロリドン、2-オキサゾリドン、1,3-ジ� �チル-2-イミダゾリジノン等)、スルホキシド� ��(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スル� �ン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセト ニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に 、アルコール類、多価アルコール類、多価ア ルコールエーテル類が好ましい。これらの有 機溶媒の使用量は、前述したように、水の含 有率が塗布液総量に対して10質量%未満である ように、水と有機溶媒のトータルの使用量を 調整すればよい。

 本発明に用いられる有機チタン化合物の� ��ノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分� ��物は、単独で用いる場合は、塗布液に含ま� ��る固形分に対し50.0質量%~98.0質量%を占めて� �ることが望ましい。固形分比率は50質量%~90� �量%がより好ましく、55質量%~90質量%が更に好 ましい。この他、塗布組成物には有機チタン 化合物のポリマー(予め有機チタン化合物の� �水分解を行って架橋したもの)或いは酸化チ� ��ン微粒子を添加することも好ましい。

 本発明における高屈折率層及び中屈折率� ��は、微粒子として金属酸化物粒子を含んで� ��よく、更にバインダーポリマーを含んでも� ��い。

 上記塗布液調製法で加水分解/重合した有 機チタン化合物と金属酸化物粒子を組み合わ せると、金属酸化物粒子と加水分解/重合し� �有機チタン化合物とが強固に接着し、粒子� �もつ硬さと均一膜の柔軟性を兼ね備えた強� �塗膜を得ることができる。

 高屈折率層及び中屈折率層に用いる金属酸� ��物粒子は、屈折率が1.80~2.80であることが好� ��しく、1.90~2.80であることが更に好ましい。� ��属酸化物粒子の1次粒子の平均粒径は、1~150n mであることが好ましく、1~100nmであることが� ��に好ましく、1~80nmであることが最も好まし� ��。層中での金属酸化物粒子の平均粒径は、1 ~200nmであることが好ましく、5~150nmであるこ� �がより好ましく、10~100nmであることが更に好 ましく、10~80nmであることが最も好ましい。� �属酸化物粒子の平均粒径は、例えば、走査� �電子顕微鏡により観察して無作為に粒子200� �の長径を測定し、平均粒径を求めることが� �きる。金属酸化物粒子の比表面積は、BET法� �測定された値として、10~400m ² /gであることが好ましく、20~200m ² /gであることが更に好ましく、30~150m ² /gであることが最も好ましい。

 金属酸化物粒子の例としては、Ti、Zr、Sn� ��Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg� ��Si、P及びSから選択される少なくとも一種の 元素を有する金属酸化物であり、具体的には 二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナター� ��の混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、 酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸 化ジルコニウムが挙げられる。中でも、酸化 チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好 ましい。金属酸化物粒子は、これらの金属の 酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むこ とができる。主成分とは、粒子を構成する成 分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味 する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb� ��Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si� ��P及びS等が挙げられる。

 金属酸化物粒子は表面処理されているこ� ��が好ましい。表面処理は、無機化合物また� ��有機化合物を用いて実施することができる� ��表面処理に用いる無機化合物の例としては� ��アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び� ��化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシ� ��カが好ましい。表面処理に用いる有機化合� ��の例としては、ポリオール、アルカノール� ��ミン、ステアリン酸、シランカップリング� ��及びチタネートカップリング剤が挙げられ� ��。中でも、シランカップリング剤が最も好� ��しい。

 具体的なシランカップリング剤の例とし� ��は、メチルトリメトキシシラン、メチルト� ��エトキシシラン、メチルトリメトキシエト� ��シシラン、メチルトリアセトキシシラン、� ��チルトリブトキシシラン、エチルトリメト� ��シシラン、エチルトリエトキシシラン、ビ� ��ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキ� ��シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビ� ��ルトリメトキシエトキシシラン、フェニル� ��リメトキシシラン、フェニルトリエトキシ� ��ラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ-� ��ロロプロピルトリメトキシシラン、γ-クロ� ��プロピルトリエトキシシラン、γ-クロロプ� ��ピルトリアセトキシシラン、3,3,3-トリフル� ��ロプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシ� ��ルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-� ��リシジルオキシプロピルトリエトキシシラ� ��、γ-(β-グリシジルオキシエトキシ)プロピ� �トリメトキシシラン、β-(3,4-エポシシシクロ ヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β-(3,4- エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキ� �シラン、γ-アクリロイルオキシプロピルト� �メトキシシラン、γ-メタクリロイルオキシ� �ロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロ� �ルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピル� �リエトキシシラン、γ-メルカプトプロピル� �リメトキシシラン、γ-メルカプトプロピル� �リエトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-ア ミノプロピルトリメトキシシラン及びβ-シア ノエチルトリエトキシシランが挙げられる。

 また、珪素に対して2置換のアルキル基を 持つシランカップリング剤の例として、ジメ チルジメトキシシラン、フェニルメチルジメ トキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、 フェニルメチルジエトキシシラン、γ-グリシ ジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン 、γ-グリシジルオキシプロピルメチルジメト キシシラン、γ-グリシジルオキシプロピルフ ェニルジエトキシシラン、γ-クロロプロピル メチルジエトキシシラン、ジメチルジアセト キシシラン、γ-アクリロイルオキシプロピル メチルジメトキシシラン、γ-アクリロイルオ キシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メ タクリロイルオキシプロピルメチルジメトキ シシラン、γ-メタクリロイルオキシプロピル メチルジエトキシシラン、γ-メルカプトプロ ピルメチルジメトキシシラン、γ-メルカプト プロピルメチルジエトキシシラン、γ-アミノ プロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノ プロピルメチルジエトキシシラン、メチルビ ニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエ トキシシランが挙げられる。

 これらのうち、分子内に二重結合を有す� ��ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエ� ��キシシラン、ビニルトリアセトキシシラン� ��ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ-ア� ��リロイルオキシプロピルトリメトキシシラ� ��及びγ-メタクリロイルオキシプロピルトリ� ��トキシシラン、珪素に対して2置換のアルキ ル基を持つものとしてγ-アクリロイルオキシ プロピルメチルジメトキシシラン、γ-アクリ ロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラ ン、γ-メタクリロイルオキシプロピルメチル ジメトキシシラン、γ-メタクリロイルオキシ プロピルメチルジエトキシシラン、メチルビ ニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエ トキシシランが好ましく、γ-アクリロイルオ キシプロピルトリメトキシシラン及びγ-メタ クリロイルオキシプロピルトリメトキシシラ ン、γ-アクリロイルオキシプロピルメチルジ メトキシシラン、γ-アクリロイルオキシプロ ピルメチルジエトキシシラン、γ-メタクリロ イルオキシプロピルメチルジメトキシシラン 及びγ-メタクリロイルオキシプロピルメチル ジエトキシシランが特に好ましい。

 2種類以上のカップリング剤を併用しても よい。上記に示されるシランカップリング剤 に加えて、他のシランカップリング剤を用い てもよい。他のシランカップリング剤には、 オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、� �ルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、� �ルトケイ酸n-プロピル、オルトケイ酸i-プロ� ��ル、オルトケイ酸n-ブチル、オルトケイ酸se c-ブチル、オルトケイ酸t-ブチル)及びその加� ��分解物が挙げられる。

 カップリング剤による表面処理は、微粒� ��の分散物に、カップリング剤を加え、室温� ��ら60℃までの温度で、数時間から10日間分散 物を放置することにより実施できる。表面処 理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫� �、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホ� �酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸( 例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンス ルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)� �またはこれらの塩(例えば、金属塩、アンモ� ��ウム塩)を、分散物に添加してもよい。

 これらシランカップリング剤は予め必要� ��の水で加水分解されていることが好ましい� ��シランカップリング剤が加水分解されてい� ��と、前述の有機チタン化合物及び金属酸化� ��粒子の表面が反応し易く、より強固な膜が� ��成される。また、加水分解されたシランカ� ��プリング剤を予め塗布液中に加えることも� ��ましい。この加水分解に用いた水も有機チ� ��ン化合物の加水分解/重合に用いることがで きる。

 本発明では2種類以上の表面処理を組み合 わせて処理されていても構わない。金属酸化 物粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状 、紡錘形状或いは不定形状であることが好ま しい。2種類以上の金属酸化物粒子を高屈折� �層及び中屈折率層に併用してもよい。

 高屈折率層及び中屈折率層中の金属酸化� ��粒子の割合は、5~90質量%であることが好ま� �く、より好ましくは10~85質量%であり、更に� �ましくは20~80質量%である。微粒子を含有す� �場合に、前述の有機チタン化合物のモノマ� �、オリゴマーまたはそれらの加水分解物の� �合は、塗布液に含まれる固形分に対し1~50質� ��%であり、好ましくは1~40質量%、更に好まし� ��は1~30質量%である。

 上記金属酸化物粒子は、媒体に分散した� ��散体の状態で、高屈折率層及び中屈折率層� ��形成するための塗布液に供される。金属酸� ��物粒子の分散媒体としては、沸点が60~170℃� ��液体を用いることが好ましい。分散溶媒の� ��体例としては、水、アルコール(例、メタノ ール、エタノール、イソプロパノール、ブタ ノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、� ��セトン、メチルエチルケトン、メチルイソ� ��チルケトン、シクロヘキサノン)、エステル (例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ� �、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、� �酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素( 例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン� �炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロ� ��ルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、� �ンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、 ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ ド、n-メチルピロリドン)、エーテル(例、ジ� �チルエーテル、ジオキサン、テトラハイド� �フラン)、エーテルアルコール(例、1-メトキ� ��-2-プロパノール)が挙げられる。中でも、ト ルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メ チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及 びブタノールが特に好ましい。

 また金属酸化物粒子は、分散機を用いて� ��体中に分散することができる。分散機の例� ��しては、サンドグラインダーミル(例、ピン 付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペ� �ブルミル、ローラーミル、アトライター及� �コロイドミルが挙げられる。サンドグライ� �ダーミル及び高速インペラーミルが特に好� �しい。また、予備分散処理を実施してもよ� �。予備分散処理に用いる分散機の例として� �、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー� �びエクストルーダーが挙げられる。

 本発明における高屈折率層及び中屈折率� ��は、架橋構造を有するポリマー(以下、架橋 ポリマーともいう)をバインダーポリマーと� �て用いることが好ましい。架橋ポリマーの� �として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素� �を有するポリマー(以下、ポリオレフィンと� ��称する)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリ ウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリ アミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げら れる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテ ル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポ リオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更 に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も 好ましい。また、架橋ポリマーがアニオン性 基を有することは更に好ましい。アニオン性 基は無機微粒子の分散状態を維持する機能を 有し、架橋構造はポリマーに皮膜形成能を付 与して皮膜を強化する機能を有する。上記ア ニオン性基は、ポリマー鎖に直接結合してい てもよいし、連結基を介してポリマー鎖に結 合していてもよいが、連結基を介して側鎖と して主鎖に結合していることが好ましい。

 アニオン性基の例としては、カルボン酸� ��(カルボキシル)、スルホン酸基(スルホ)及び リン酸基(ホスホノ)が挙げられる。中でも、� ��ルホン酸基及びリン酸基が好ましい。ここ� ��、アニオン性基は、塩の状態であってもよ� ��。アニオン性基と塩を形成するカチオンは� ��アルカリ金属イオンであることが好ましい� ��また、アニオン性基のプロトンは、解離し� ��いてもよい。アニオン性基とポリマー鎖と� ��結合する連結基は、-CO-、-O-、アルキレン基 、アリーレン基、及びこれらの組み合わせか ら選ばれる二価の基であることが好ましい。 好ましいバインダーポリマーである架橋ポリ マーは、アニオン性基を有する繰り返し単位 と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有す るコポリマーであることが好ましい。この場 合、コポリマー中のアニオン性基を有する繰 り返し単位の割合は、2~96質量%であることが� ��ましく、4~94質量%であることが更に好まし� �、6~92質量%であることが最も好ましい。繰り 返し単位は、2以上のアニオン性基を有して� �てもよい。

 アニオン性基を有する架橋ポリマーには� ��その他の繰り返し単位(アニオン性基も架橋 構造も有しない繰り返し単位)が含まれてい� �もよい。その他の繰り返し単位としては、� �ミノ基または4級アンモニウム基を有する繰� ��返し単位及びベンゼン環を有する繰り返し� ��位が好ましい。アミノ基または4級アンモニ ウム基は、アニオン性基と同様に、無機微粒 子の分散状態を維持する機能を有する。ベン ゼン環は、高屈折率層の屈折率を高くする機 能を有する。尚、アミノ基、4級アンモニウ� �基及びベンゼン環は、アニオン性基を有す� �繰り返し単位或いは架橋構造を有する繰り� �し単位に含まれていても、同様の効果が得� �れる。

 上記アミノ基または4級アンモニウム基を 有する繰り返し単位を構成単位として含有す る架橋ポリマーにおいて、アミノ基または4� �アンモニウム基は、ポリマー鎖に直接結合� �ていてもよいし、或いは連結基を介し側鎖� �してポリマー鎖に結合していてもよいが、� �者がより好ましい。アミノ基または4級アン� ��ニウム基は、2級アミノ基、3級アミノ基ま� �は4級アンモニウム基であることが好ましく� ��3級アミノ基または4級アンモニウム基であ� �ことが更に好ましい。2級アミノ基、3級アミ ノ基または4級アンモニウム基の窒素原子に� �合している基としては、アルキル基が好ま� �く、より好ましくは炭素数1~12のアルキル基� ��あり、更に好ましくは炭素数1~6のアルキル� ��である。4級アンモニウム基の対イオンは、 ハライドイオンであることが好ましい。アミ ノ基または4級アンモニウム基とポリマー鎖� �を結合する連結基は、-CO-、-NH-、-O-、アルキ レン基、アリーレン基、及びこれらの組み合 わせから選ばれる2価の基であることが好ま� �い。架橋ポリマーが、アミノ基または4級ア� ��モニウム基を有する繰り返し単位を含む場� ��、その割合は、0.06~32質量%であることが好� �しく、0.08~30質量%であることが更に好ましく 、0.1~28質量%であることが最も好ましい。

 架橋ポリマーは、架橋ポリマーを生成す� ��ためのモノマーを配合して高屈折率層及び� ��屈折率層形成用の塗布液を調製し、塗布液� ��塗布と同時または塗布後に、重合反応によ� ��て生成させることが好ましい。架橋ポリマ� ��の生成と共に、各層が形成される。アニオ� ��性基を有するモノマーは、塗布液中で無機� ��粒子の分散剤として機能する。アニオン性� ��を有するモノマーは、無機微粒子に対して� ��好ましくは1~50質量%、より好ましくは5~40質� ��%、更に好ましくは10~30質量%使用される。ま た、アミノ基または4級アンモニウム基を有� �るモノマーは、塗布液中で分散助剤として� �能する。アミノ基または4級アンモニウム基� ��有するモノマーは、アニオン性基を有する� ��ノマーに対して、好ましくは3~33質量%使用� �れる。塗布液の塗布と同時または塗布後に� �重合反応によって架橋ポリマーを生成する� �法により、塗布液の塗布前にこれらのモノ� �ーを有効に機能させることができる。

 本発明に用いられるモノマーとしては、2 個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマ ーが最も好ましいが、その例としては、多価 アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル( 例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー� ��、1,4-ジクロヘキサンジアクリレート、ペン タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート� ��ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ� �ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アク リレート、トリメチロールエタントリ(メタ)� ��クリレート、ジペンタエリスリトールテト� ��(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト� �ルペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリス リトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3-シ� ��ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウ� ��タンポリアクリレート、ポリエステルポリ� ��クリレート)、ビニルベンゼン及びその誘導 体(例、1,4-ジビニルベンゼン、4-ビニル安息� �酸-2-アクリロイルエチルエステル、1,4-ジビ� ��ルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例� �ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メ チレンビスアクリルアミド)及びメタクリル� �ミド等が挙げられる。アニオン性基を有す� �モノマー、及びアミノ基または4級アンモニ� ��ム基を有するモノマーは市販のモノマーを� ��いてもよい。好ましく用いられる市販のア� ��オン性基を有するモノマーとしては、KAYAMAR PM-21、PM-2(日本化薬(株)製)、AntoxMS-60、MS-2N、MS -NH4(日本乳化剤(株)製)、アロニックスM-5000、M -6000、M-8000シリーズ(東亞合成化学工業(株)製) 、ビスコート#2000シリーズ(大阪有機化学工業 (株)製)、ニューフロンティアGX-8289(第一工業� ��薬(株)製)、NKエステルCB-1、A-SA(新中村化学� �業(株)製)、AR-100、MR-100、MR-200(第八化学工業( 株)製)等が挙げられる。また、好ましく用い� ��れる市販のアミノ基または4級アンモニウム 基を有するモノマーとしてはDMAA(大阪有機化� ��工業(株)製)、DMAEA,DMAPAA(興人(株)製)、ブレン マーQA(日本油脂(株)製)、ニューフロンティア C-1615(第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。

 ポリマーの重合反応は、光重合反応また� ��熱重合反応を用いることができる。特に光� ��合反応が好ましい。重合反応のため、重合� ��始剤を使用することが好ましい。例えば、� ��ードコート層のバインダーポリマーを形成� ��るために用いられる後述する熱重合開始剤� ��及び光重合開始剤が挙げられる。

 重合開始剤として市販の重合開始剤を使� ��してもよい。重合開始剤に加えて、重合促� ��剤を使用してもよい。重合開始剤と重合促� ��剤の添加量は、モノマーの全量の0.2~10質量% の範囲であることが好ましい。塗布液(モノ� �ーを含む無機微粒子の分散液)を加熱して、� ��ノマー(またはオリゴマー)の重合を促進し� �もよい。また、塗布後の光重合反応の後に� �熱して、形成されたポリマーの熱硬化反応� �追加処理してもよい。

 中屈折率層及び高屈折率層には、比較的� ��折率が高いポリマーを用いることが好まし� ��。屈折率が高いポリマーの例としては、ポ� ��スチレン、スチレン共重合体、ポリカーボ� ��ート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エ� ��キシ樹脂及び環状(脂環式または芳香族)イ� �シアネートとポリオールとの反応で得られ� �ポリウレタンが挙げられる。その他の環状(� ��香族、複素環式、脂環式)基を有するポリマ ーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基と して有するポリマーも、屈折率が高く用いる ことができる。

 本発明に用いることのできる低屈折率層� ��しては、熱または電離放射線により架橋す� ��含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹 脂」ともいう)の架橋からなる低屈折率層、� �ルゲル法による低屈折率層、または微粒子� �バインダーポリマーを用い、微粒子間また� �微粒子内部に空隙を有する低屈折率層等が� �いられるが、本発明に適用できる低屈折率� �は、主として微粒子とバインダーポリマー� �用いる低屈折率層であることが好ましい。� �に粒子内部に空隙を有する(中空微粒子とも� ��う)低屈折率層である場合、より屈折率を低 下することができ好ましい。但し、低屈折率 層の屈折率は、低ければ反射防止性能が良化 するため好ましいが、低屈折率層の強度付与 の観点では困難となる。このバランスから、 低屈折率層の屈折率は1.45以下であることが� �ましく、更に1.30~1.50であることが好ましく� �1.35~1.49であることがより好ましく、1.35~1.45� �あることが特に好ましい。

 また、上記低屈折率層の調製方法は適宜� ��み合わせて用いても構わない。

 架橋前の含フッ素樹脂としては、含フッ� ��ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモ� ��マーから形成される含フッ素共重合体を好� ��しく挙げることができる。上記含フッ素ビ� ��ルモノマー単位の具体例としては、例えば� ��ルオロオレフィン類(例えば、フルオロエチ レン、ビニリデンフルオライド、テトラフル オロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘ キサフルオロプロピレン、パーフルオロ-2,2-� ��メチル-1,3-ジオキソール等)、(メタ)アクリ� �酸の部分または完全フッ素化アルキルエス� �ル誘導体類(例えば、ビスコート6FM(大阪有機 化学製)やM-2020(ダイキン製)等)、完全または� �分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられ� �。架橋性基付与のためのモノマーとしては� �グリシジルメタクリレートや、ビニルトリ� �トキシシラン、γ-メタクリロイルオキシプ� �ピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジ� �エーテル等のように分子内に予め架橋性官� �基を有するビニルモノマーの他、カルボキ� �ル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホ� �酸基等を有するビニルモノマー(例えば、(メ タ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレー ト、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート� ��アリルアクリレート、ヒドロキシアルキル� ��ニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリル� ��ーテル等)が挙げられる。後者は共重合の後 、ポリマー中の官能基と反応する基ともう1� �以上の反応性基を持つ化合物を加えること� �より、架橋構造を導入できることが特開平10 -25388号、同10-147739号に記載されている。架橋 性基の例には、アクリロイル、メタクリロイ ル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン 、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、 ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び 活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共 重合体が、加熱により反応する架橋基、若し くは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生 剤若しくはエポキシ基と熱酸発生剤等の組み 合わせにより、加熱により架橋する場合、熱 硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジ カル発生剤若しくは、エポキシ基と光酸発生 剤等の組み合わせにより、光(好ましくは紫� �線、電子ビーム等)の照射により架橋する場� ��、電離放射線硬化型である。

 また上記モノマー加えて、含フッ素ビニ� ��モノマー及び架橋性基付与のためのモノマ� ��以外のモノマーを併用して形成された含フ� ��素共重合体を架橋前の含フッ素樹脂として� ��いてもよい。併用可能なモノマーには特に� ��定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、 プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化 ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アク� ��ル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル� ��エチル、アクリル酸2-エチルヘキシル)、メ� ��クリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、 メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、 エチレングリコールジメタクリレート等)、� �チレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン� ��ビニルトルエン、α-メチルスチレン等)、ビ ニルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、� ��ニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸 ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド� �(N-tertブチルアクリルアミド、N-シクロヘキ� �ルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類� ��アクリロニトリル誘導体等を挙げることが� ��きる。また、含フッ素共重合体中に、滑り� ��、防汚性付与のため、ポリオルガノシロキ� ��ン骨格や、パーフルオロポリエーテル骨格� ��導入することも好ましい。これは、例えば� ��端にアクリル基、メタクリル基、ビニルエ� ��テル基、スチリル基等を持つポリオルガノ� ��ロキサンやパーフルオロポリエーテルと上� ��のモノマーとの重合、末端にラジカル発生� ��を持つポリオルガノシロキサンやパーフル� ��ロポリエーテルによる上記モノマーの重合� ��官能基を持つポリオルガノシロキサンやパ� ��フルオロポリエーテルと、含フッ素共重合� ��との反応等によって得られる。

 架橋前の含フッ素共重合体を形成するた� ��に用いられる上記各モノマーの使用割合は� ��含フッ素ビニルモノマーが好ましくは20~70� �ル%、より好ましくは40~70モル%、架橋性基付� ��のためのモノマーが好ましくは1~20モル%、� �り好ましくは5~20モル%、併用されるその他の モノマーが好ましくは10~70モル%、より好まし くは10~50モル%の割合である。

 含フッ素共重合体は、これらモノマーを� ��ジカル重合開始剤の存在下で、溶液重合、� ��状重合、乳化重合、懸濁重合法等の手段に� ��り重合することにより得ることができる。

 架橋前の含フッ素樹脂は、市販されてお� ��使用することができる。市販されている架� ��前の含フッ素樹脂の例としては、サイトッ� ��(旭硝子製)、テフロン(登録商標)AF(デュポン 製)、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン(旭� ��子製)、オプスター(JSR製)等が挙げられる。

 架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする� ��屈折率層は、動摩擦係数が0.03~0.15の範囲、� ��に対する接触角が90~120度の範囲にあること� ��好ましい。

 架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする� ��屈折率層が後述する無機粒子を含有するこ� ��は、屈折率調整の点から好ましい。また無� ��微粒子は、表面処理を施して用いることも� ��ましい。表面処理法としてはプラズマ放電� ��理やコロナ放電処理のような物理的表面処� ��とカップリング剤を使用する化学的表面処� ��があるが、カップリング剤の使用が好まし� ��。カップリング剤としては、オルガノアル� ��キシ金属化合物(例、チタンカップリング剤 、シランカップリング剤等)が好ましく用い� �れる。無機微粒子がシリカの場合はシラン� �ップリング剤による処理が特に有効である� �

 また、低屈折率層用の素材として、各種� ��ルゲル素材を用いることもできる。この様� ��ゾルゲル素材としては、金属アルコレート( シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウ ム等のアルコレート)、オルガノアルコキシ� �属化合物及びその加水分解物を用いること� �できる。特に、アルコキシシラン、オルガ� �アルコキシシラン及びその加水分解物が好� �しい。これらの例としては、テトラアルコ� �シシラン(テトラメトキシシラン、テトラエ� ��キシシラン等)、アルキルトリアルコキシシ ラン(メチルトリメトキシシラン、エチルト� �メトキシシラン等)、アリールトリアルコキ� ��シラン(フェニルトリメトキシシラン等)、� �アルキルジアルコキシシラン、ジアリール� �アルコキシシラン等が挙げられる。また、� �種の官能基を有するオルガノアルコキシシ� �ン(ビニルトリアルコキシシラン、メチルビ� ��ルジアルコキシシラン、γ-グリシジルオキ� ��プロピルトリアルコキシシラン、γ-グリシ� ��ルオキシプロピルメチルジアルコキシシラ� ��、β-(3,4-エポキジシクロヘキシル)エチルト� ��アルコキシシラン、γ-メタクリロイルオキ� ��プロピルトリアルコキシシラン、γ-アミノ� ��ロピルトリアルコキシシラン、γ-メルカプ� ��プロピルトリアルコキシシラン、γ-クロロ� ��ロピルトリアルコキシシラン等)、パーフル オロアルキル基含有シラン化合物(例えば、(� ��プタデカフルオロ-1,1,2,2-テトラデシル)トリ エトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピル トリメトキシシラン等)を用いることも好ま� �い。特にフッ素含有のシラン化合物を用い� �ことは、層の低屈折率化及び撥水・撥油性� �与の点で好ましい。

 低屈折率層として、無機若しくは有機の� ��粒子を用い、微粒子間または微粒子内のミ� ��ロボイドとして形成した層を用いることも� ��ましい。微粒子の平均粒径は、0.5~200nmであ� ��ことが好ましく、1~100nmであることがより好 ましく、3~70nmであることが更に好ましく、5~4 0nmの範囲であることが最も好ましい。微粒子 の粒径は、なるべく均一(単分散)であること� ��好ましい。

 機微粒子としては、非晶質であることが好� ��しい。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化� ��、硫化物またはハロゲン化物からなること� ��好ましく、金属酸化物または金属ハロゲン� ��物からなることが更に好ましく、金属酸化� ��または金属フッ化物からなることが最も好� ��しい。金属原子としては、Na、K、Mg、Ca、Ba� ��Al、Zn、Fe、Cu、Ti、Sn、In、W、Y、Sb、Mn、Ga、 V、Nb、Ta、Ag、Si、B、Bi、Mo、Ce、Cd、Be、Pb及� �Niが好ましく、Mg、Ca、B及びSiが更に好まし� �。二種類の金属を含む無機化合物を用いて� �よい。好ましい無機化合物の具体例として� �、SiO ₂ 、またはMgF ₂ であり、特に好ましくはSiO ₂ である。

 無機微粒子内にミクロボイドを有する粒子� ��、例えば、粒子を形成するシリカの分子を� ��橋させることにより形成することができる� ��シリカの分子を架橋させると体積が縮小し� ��粒子が多孔質になる。ミクロボイドを有す� ��(多孔質)無機微粒子は、ゾル-ゲル法(特開昭 53-112732号、特公昭57-9051号に記載)または析出� ��(APPLIED OPTICS,27巻,3356頁(1988)記載)により、分 散物として直接合成することができる。また 、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に 粉砕して分散物を得ることもできる。市販の 多孔質無機微粒子(例えば、SiO ₂ ゾル)を用いてもよい。

 これらの無機微粒子は、低屈折率層の形� ��のため、適当な媒体に分散した状態で使用� ��ることが好ましい。分散媒としては、水、� ��ルコール(例えば、メタノール、エタノール 、イソプロピルアルコール)及びケトン(例え� ��、メチルエチルケトン、メチルイソブチル� ��トン)が好ましい。

 有機微粒子も非晶質であることが好まし� ��。有機微粒子は、モノマーの重合反応(例え ば乳化重合法)により合成されるポリマー微� �子であることが好ましい。有機微粒子のポ� �マーはフッ素原子を含むことが好ましい。� �リマー中のフッ素原子の割合は、35~80質量%� �あることが好ましく、45~75質量%であること� �更に好ましい。また、有機微粒子内に、例� �ば、粒子を形成するポリマーを架橋させ、� �積を縮小させることによりミクロボイドを� �成させることも好ましい。粒子を形成する� �リマーを架橋させるためには、ポリマーを� �成するためのモノマーの20モル%以上を多官� �モノマーとすることが好ましい。多官能モ� �マーの割合は、30~80モル%であることが更に� �ましく、35~50モル%であることが最も好まし� �。上記有機微粒子の合成に用いられるモノ� �ーとしては、含フッ素ポリマーを合成する� �めに用いるフッ素原子を含むモノマーの例� �して、フルオロオレフィン類(例えば、フル� ��ロエチレン、ビニリデンフルオライド、テ� ��ラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロ� ��レン、パーフルオロ-2,2-ジメチル-1,3-ジオキ ソール)、アクリル酸またはメタクリル酸の� �ッ素化アルキルエステル類及びフッ素化ビ� �ルエーテル類が挙げられる。フッ素原子を� �むモノマーとフッ素原子を含まないモノマ� �とのコポリマーを用いてもよい。フッ素原� �を含まないモノマーの例としては、オレフ� �ン類(例えば、エチレン、プロピレン、イソ� ��レン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アク リル酸エステル類(例えば、アクリル酸メチ� �、アクリル酸エチル、アクリル酸2-エチルヘ キシル)、メタクリル酸エステル類(例えば、� ��タクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、� ��タクリル酸ブチル)、スチレン類(例えば、� �チレン、ビニルトルエン、α-メチルスチレ� �)、ビニルエーテル類(例えば、メチルビニル エーテル)、ビニルエステル類(例えば、酢酸� ��ニル、プロピオン酸ビニル)、アクリルアミ ド類(例えば、N-tert-ブチルアクリルアミド、N -シクロヘキシルアクリルアミド)、メタクリ� ��アミド類及びアクリルニトリル類が挙げら� ��る。多官能モノマーの例としては、ジエン� ��(例えば、ブタジエン、ペンタジエン)、多� �アルコールとアクリル酸とのエステル(例え� ��、エチレングリコールジアクリレート、1,4- シクロヘキサンジアクリレート、ジペンタエ リスリトールヘキサアクリレート)、多価ア� �コールとメタクリル酸とのエステル(例えば� ��エチレングリコールジメタクリレート、1,2, 4-シクロヘキサンテトラメタクリレート、ペ� ��タエリスリトールテトラメタクリレート)、 ジビニル化合物(例えば、ジビニルシクロヘ� �サン、1,4-ジビニルベンゼン)、ジビニルスル ホン、ビスアクリルアミド類(例えば、メチ� �ンビスアクリルアミド)及びビスメタクリル� ��ミド類が挙げられる。

 粒子間のミクロボイドは、微粒子を少な� ��とも2個以上積み重ねることにより形成する ことができる。尚、粒径が等しい(完全な単� �散の)球状微粒子を最密充填すると、26体積%� ��空隙率の微粒子間ミクロボイドが形成され� ��。粒径が等しい球状微粒子を単純立方充填� ��ると、48体積%の空隙率の微粒子間ミクロボ� ��ドが形成される。実際の低屈折率層では、� ��粒子の粒径の分布や粒子内ミクロボイドが� ��在するため、空隙率は上記の理論値からか� ��り変動する。空隙率を増加させると、低屈� ��率層の屈折率が低下する。微粒子を積み重� ��てミクロボイドを形成すると、微粒子の粒� ��を調整することで、粒子間ミクロボイドの� ��きさも適度の(光を散乱せず、低屈折率層の 強度に問題が生じない)値に容易に調節でき� �。更に、微粒子の粒径を均一にすることで� �粒子間ミクロボイドの大きさも均一である� �学的に均一な低屈折率層を得ることができ� �。これにより、低屈折率層は微視的にはミ� �ロボイド含有多孔質膜であるが、光学的或� �は巨視的には均一な膜にすることができる� �粒子間ミクロボイドは、微粒子及びポリマ� �によって低屈折率層内で閉じていることが� �ましい。閉じている空隙には、低屈折率層� �面に開かれた開口と比較して、低屈折率層� �面での光の散乱が少ないとの利点もある。

 ミクロボイドを形成することにより、低� ��折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構� ��する成分の屈折率の和よりも低い値になる� ��層の屈折率は、層の構成要素の体積当たり� ��屈折率の和になる。微粒子やポリマーのよ� ��な低屈折率層の構成成分の屈折率は1よりも 大きな値であるのに対して、空気の屈折率は 1.00である。その為、ミクロボイドを形成す� �ことによって、屈折率が非常に低い低屈折� �層を得ることができる。

 また、本発明ではSiO ₂ の中空微粒子を用いることも好ましい態様で ある。

 本発明でいう中空微粒子とは、粒子壁を有� ��その内部が空洞であるような粒子をいい、� ��えば前述の微粒子内部にミクロボイドを有� ��るSiO ₂ 粒子を更に有機珪素化合物(テトラエトキシ� �ラン等のアルコキシシラン類)で表面を被覆� ��その細孔入り口を閉塞して形成された粒子� ��ある。或いは前記粒子壁内部の空洞が溶媒� ��たは気体で満たされていてもよく、例えば� ��気の場合は中空微粒子の屈折率は、通常の� ��リカ(屈折率=1.46)と比較して著しく低くする ことができる(屈折率=1.44~1.34)。この様な中空 SiO ₂ 微粒子を添加することにより、低屈折率層の 更なる低屈折率化が可能となる。

 上記無機微粒子内にミクロボイドを有する� ��子を中空にする調製方法は、特開2001-167637� �公報、同2001-233611号公報に記載されている方 法に準じればよく、また本発明では市販の中 空SiO ₂ 微粒子を用いることができる。市販の粒子の 具体例としては、触媒化成工業社製P-4等が挙 げられる。

 低屈折率層は、5~50質量%の量のポリマー� �含むことが好ましい。ポリマーは、微粒子� �接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維� �する機能を有する。ポリマーの使用量は、� �隙を充填することなく低屈折率層の強度を� �持できるように調整する。ポリマーの量は� �低屈折率層の全量の10~30質量%であることが� �ましい。ポリマーで微粒子を接着するため� �は、(1)微粒子の表面処理剤にポリマーを結� �させるか、(2)微粒子をコアとして、その周� �にポリマーシェルを形成するか、或いは(3)� �粒子間のバインダーとして、ポリマーを使� �することが好ましい。(1)の表面処理剤に結� �させるポリマーは、(2)のシェルポリマーま� �は(3)のバインダーポリマーであることが好� �しい。(2)のポリマーは、低屈折率層の塗布� �の調製前に、微粒子の周囲に重合反応によ� �形成することが好ましい。(3)のポリマーは� �低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、� �屈折率層の塗布と同時または塗布後に、重� �反応により形成することが好ましい。上記(1 )~(3)のうちの二つまたは全てを組み合わせて� ��施することが好ましく、(1)と(3)の組み合わ� ��、または(1)~(3)全ての組み合わせで実施する ことが特に好ましい。(1)表面処理、(2)シェル 及び(3)バインダーについて順次説明する。

 (1)表面処理
 微粒子(特に無機微粒子)には、表面処理を� �施して、ポリマーとの親和性を改善するこ� �が好ましい。表面処理は、プラズマ放電処� �やコロナ放電処理のような物理的表面処理� �、カップリング剤を使用する化学的表面処� �に分類できる。化学的表面処理のみ、また� �物理的表面処理と化学的表面処理の組み合� �せで実施することが好ましい。カップリン� �剤としては、オルガノアルコキシメタル化� �物(例、チタンカップリング剤、シランカッ� ��リング剤)が好ましく用いられる。微粒子が SiO ₂ からなる場合は、シランカップリング剤によ る表面処理が特に有効に実施できる。具体的 なシランカップリング剤の例としては、前記 したシランカップリング剤が好ましく用いら れる。

 カップリング剤による表面処理は、微粒� ��の分散物に、カップリング剤を加え、室温� ��ら60℃までの温度で、数時間から10日間分散 物を放置することにより実施できる。表面処 理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫� �、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホ� �酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸( 例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンス ルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)� �またはこれらの塩(例えば、金属塩、アンモ� ��ウム塩)を、分散物に添加してもよい。

 (2)シェル
 シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水� ��を主鎖として有するポリマーであることが� ��ましい。フッ素原子を主鎖または側鎖に含� ��ポリマーが好ましく、フッ素原子を側鎖に� ��むポリマーが更に好ましい。ポリアクリル� ��エステルまたはポリメタクリル酸エステル� ��好ましく、フッ素置換アルコールとポリア� ��リル酸またはポリメタクリル酸とのエステ� ��が最も好ましい。シェルポリマーの屈折率� ��、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増加� ��伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下� ��せるため、シェルポリマーは35~80質量%のフ� ��素原子を含むことが好ましく、45~75質量%の� ��ッ素原子を含むことが更に好ましい。フッ� ��原子を含むポリマーは、フッ素原子を含む� ��チレン性不飽和モノマーの重合反応により� ��成することが好ましい。フッ素原子を含む� ��チレン性不飽和モノマーの例としては、フ� ��オロオレフィン(例えば、フルオロエチレン 、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロ エチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パー フルオロ-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)、フ� ��素化ビニルエーテル及びフッ素置換アルコ� ��ルとアクリル酸またはメタクリル酸とのエ� ��テルが挙げられる。

 シェルを形成するポリマーは、フッ素原� ��を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まな� ��繰り返し単位からなるコポリマーであって� ��よい。フッ素原子を含まない繰り返し単位� ��、フッ素原子を含まないエチレン性不飽和� ��ノマーの重合反応により得ることが好まし� ��。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和� ��ノマーの例としては、オレフィン(例えば、 エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビ ニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステ� �(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エ� ��ル、アクリル酸2-エチルヘキシル)、メタク� ��ル酸エステル(例えば、メタクリル酸メチル 、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル 、エチレングリコールジメタクリレート)、� �チレン及びその誘導体(例えば、スチレン、� ��ビニルベンゼン、ビニルトルエン、α-メチ� ��スチレン)、ビニルエーテル(例えば、メチ� �ビニルエーテル)、ビニルエステル(例えば、 酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビ ニル)、アクリルアミド(例えば、N-tert-ブチル アクリルアミド、N-シクロヘキシルアクリル� ��ミド)、メタクリルアミド及びアクリロニト リルが挙げられる。

 後述する(3)のバインダーポリマーを併用� ��る場合は、シェルポリマーに架橋性官能基� ��導入して、シェルポリマーとバインダーポ� ��マーとを架橋により化学的に結合させても� ��い。シェルポリマーは、結晶性を有してい� ��もよい。シェルポリマーのガラス転移温度( Tg)が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと 、低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易 である。但し、Tgが低屈折率層の形成時の温� ��よりも高いと、微粒子が融着せず、低屈折� ��層が連続層として形成されない(その結果、 強度が低下する)場合がある。その場合は、� �述する(3)のバインダーポリマーを併用し、� �インダーポリマーにより低屈折率層を連続� �として形成することが望ましい。微粒子の� �囲にポリマーシェルを形成して、コアシェ� �微粒子が得られる。コアシェル微粒子中に� �機微粒子からなるコアが5~90体積%含まれてい ることが好ましく、15~80体積%含まれているこ とが更に好ましい。二種類以上のコアシェル 微粒子を併用してもよい。また、シェルのな い無機微粒子とコアシェル粒子とを併用して もよい。

 (3)バインダー
 バインダーポリマーは、飽和炭化水素また� ��ポリエーテルを主鎖として有するポリマー� ��あることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖� ��して有するポリマーであることが更に好ま� ��い。バインダーポリマーは架橋しているこ� ��が好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有� ��るポリマーは、エチレン性不飽和モノマー� ��重合反応により得ることが好ましい。架橋� ��ているバインダーポリマーを得るためには� ��二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ� ��ーを用いることが好ましい。2以上のエチレ ン性不飽和基を有するモノマーの例としては 、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエ� ��テル(例えば、エチレングリコールジ(メタ)� ��クリレート、1,4-ジクロヘキサンジアクリレ ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア� ��リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ )アクリレート、トリメチロールプロパント� �(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン トリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ� ��ールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタ� �リスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペ ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー� ��、1,2,3-シクロヘキサンテトラメタクリレー� ��、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエ� ��テルポリアクリレート)、ビニルベンゼン及 びその誘導体(例えば、1,4-ジビニルベンゼン� ��4-ビニル安息香酸-2-アクリロイルエチルエ� �テル、1,4-ジビニルシクロヘキサノン)、ビニ ルスルホン(例えば、ジビニルスルホン)、ア� ��リルアミド(例えば、メチレンビスアクリル アミド)及びメタクリルアミドが挙げられる� �ポリエーテルを主鎖として有するポリマー� �、多官能エポシキ化合物の開環重合反応に� �り合成することが好ましい。2以上のエチレ� ��性不飽和基を有するモノマーの代わりまた� ��それに加えて、架橋性基の反応により、架� ��構造をバインダーポリマーに導入してもよ� ��。架橋性官能基の例としては、イソシアナ� ��ト基、エポキシ基、アジリジン基、オキサ� ��リン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒ� ��ラジン基、カルボキシル基、メチロール基� ��び活性メチレン基が挙げられる。ビニルス� ��ホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘� ��体、メラミン、エーテル化メチロール、エ� ��テル及びウレタンも、架橋構造を導入する� ��めのモノマーとして利用できる。ブロック� ��ソシアナート基のように、分解反応の結果� ��して架橋性を示す官能基を用いてもよい。� ��た、架橋基は、上記化合物に限らず上記官� ��基が分解した結果反応性を示すものであっ� ��もよい。バインダーポリマーの重合反応及� ��架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合� ��始剤や、光重合開始剤が用いられるが、光� ��合開始剤の方がより好ましい。光重合開始� ��の例としては、アセトフェノン類、ベンゾ� ��ン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキ� ��ド類、ケタール類、アントラキノン類、チ� ��キサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2 ,3-ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド 化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族 スルホニウム類がある。アセトフェノン類の 例としては、2,2-ジエトキシアセトフェノン� �p-ジメチルアセトフェノン、1-ヒドロキシジ� ��チルフェニルケトン、1-ヒドロキシシクロ� �キシルフェニルケトン、2-メチル-4-メチルチ オ-2-モルフォリノプロピオフェノン及び2-ベ� ��ジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフ� ��ニル)-ブタノンが挙げられる。ベンゾイン� �の例としては、ベンゾインメチルエーテル� �ベンゾインエチルエーテル及びベンゾイン� �ソプロピルエーテルが挙げられる。ベンゾ� �ェノン類の例としては、ベンゾフェノン、2, 4-ジクロロベンゾフェノン、4,4-ジクロロベン ゾフェノン及びp-クロロベンゾフェノンが挙� ��られる。ホスフィンオキシド類の例として� ��、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフ� ��スフィンオキシドが挙げられる。

 バインダーポリマーは、低屈折率層の塗� ��液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布� ��同時または塗布後に重合反応(必要ならば更 に架橋反応)により形成することが好ましい� �低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー(例� ��ば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエ� ��レン、ポリメチルメタクリレート、ポリメ� ��ルアクリレート、ジアセチルセルロース、� ��リアセチルセルロース、ニトロセルロース� ��ポリエステル、アルキド樹脂)を添加しても よい。

 また、本発明の低屈折率層或いは他の屈� ��率層には滑り剤を添加することが好ましく� ��滑り性を付与することによって耐傷性を改� ��することができる。滑り剤としては、シリ� ��ーンオイルまたはワックス状物質が好まし� ��用いられる。例えば、下記一般式で表され� ��化合物が好ましい。

 一般式  R ₁ COR ₂
 式中、R ₁ は炭素原子数が12以上の飽和または不飽和の� ��肪族炭化水素基を表す。アルキル基または� ��ルケニル基が好ましく、更に炭素原子数が1 6以上のアルキル基またはアルケニル基が好� �しい。R ₂ は-OM1基(M1はNa、K等のアルカリ金属を表す)、- OH基、-NH ₂ 基、または-OR ₃ 基(R ₃ は炭素原子数が12以上の飽和または不飽和の� ��肪族炭化水素基、好ましくはアルキル基ま� ��はアルケニル基を表す)を表し、R ₂ としては-OH基、-NH ₂ 基または-OR ₃ 基が好ましい。具体的には、ベヘン酸、ステ アリン酸アミド、ペンタコ酸等の高級脂肪酸 またはその誘導体、天然物としてこれらの成 分を多く含んでいるカルナバワックス、蜜蝋 、モンタンワックスも好ましく使用できる。 特公昭53-292号公報に開示されているようなポ リオルガノシロキサン、米国特許第4,275,146号 明細書に開示されているような高級脂肪酸ア ミド、特公昭58-33541号公報、英国特許第927,446 号明細書または特開昭55-126238号公報及び同58- 90633号公報に開示されているような高級脂肪� ��エステル(炭素数が10~24の脂肪酸と炭素数が1 0~24のアルコールのエステル)、そして米国特� ��第3,933,516号明細書に開示されているような� ��級脂肪酸金属塩、特開昭51-37217号公報に開� �されているような炭素数10までのジカルボン 酸と脂肪族または環式脂肪族ジオールからな るポリエステル化合物、特開平7-13292号公報� �開示されているジカルボン酸とジオールか� �のオリゴポリエステル等を挙げることがで� �る。

 例えば、低屈折率層に使用する滑り剤の添� ��量は0.01mg/m ² ~10mg/m ² が好ましい。

 反射防止フィルムの各層またはその塗布� ��には、金属酸化物粒子、ポリマー、分散媒� ��、重合開始剤、重合促進剤等以外に、重合� ��止剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止剤� ��紫外線吸収剤、シランカップリング剤、帯� ��防止剤や接着付与剤を添加してもよい。

 反射防止フィルムの各層は、ディップコ� ��ト法、エアーナイフコート法、カーテンコ� ��ト法、ローラーコート法、ワイヤーバーコ� ��ト法、グラビアコート法やエクストルージ� ��ンコート法(米国特許2,681,294号)により、塗� �により形成することができる。2以上の層を� ��時に塗布してもよい。同時塗布の方法につ� ��ては、米国特許2,761,791号、同2,941,898号、同3 ,508,947号、同3,526,528号及び原崎勇次著、コー� ��ィング工学、253頁、朝倉書店(1973)に記載が� ��る。

 本発明では、反射防止フィルムの製造に� ��いて、前記調製した塗布液を支持体に塗布� ��た後乾燥する際に、好ましくは60℃以上で� �燥することが好ましく、80℃以上で乾燥する ことが更に好ましい。また、露点20℃以下で� ��燥することが好ましく、15℃以下で乾燥す� �ことが更に好ましい。更に支持体に塗布し� �後10秒以内に乾燥が開始されることが好まし く、上記条件と組み合わせることが、本発明 の効果を得る上で好ましい製造方法である。

 本発明のセルロースエステル光学フィル� ��は、上述の如く偏光板保護フィルム、反射� ��止フィルム、ハードコートフィルム、防眩� ��ィルム、位相差フィルム、光学補償フィル� ��、帯電防止フィルム、輝度向上フィルム等� ��好ましく用いられる。