本発明の、電極部(アース電極)付きディス� �レイ用光学フィルタの製造方法、及び本発� �の電極部付きディスプレイ用光学フィルタ� �ついて、以下に詳細に説明する。
 図1に、本発明の電極部付きディスプレイ用 光学フィルタの製造方法の1例を説明するた� �の概略断面図を示す。
 長尺状の透明基板12の表面の全域に、メッ� �ュ状の金属導電層13を形成し(1)、次いで、メ ッシュ状の金属導電層13の全域に機能性層と� ��ての合成樹脂からなるハードコート層16を� �成する(2)。例えば、このようにして得られ� �長尺状の積層体をロール状に巻き、例えば� �ール・ツー・ロール方式で、このロールか� �連続的にこの長尺状の積層体を送り出し、� �ードコート層16の側端部に、レーザを間欠的 に照射する(3)。照射は、両側縁部に同時に行 っても良いし、一方を行った後他方の側端部 を照射しても良い。ここでは、レーザの照射 を最端部(縁部)には照射しないように行う。� ��ーザの照射は、一般に、長尺状の積層体を� ��行させながら、レーザヘッドを(両)端部に� �定して、間欠的に行われる。ハードコート� �16は合成樹脂からなる薄層であるため、レー ザが照射された領域のハードコート層16は分� ��又は燃焼して消失するか、或いは基板がPET� ��ようにレーザにより沸騰しやすい場合は界� ��のPETが部分的に沸騰してハードコート層16� �吹き飛ばされる。これにより、両側端部近� �のハードコート層16が除去され、多数の島状 の金属導電層が露出し、導電層露出領域13’� ��間欠的帯状領域として形成され、これが電� ��部を形成する(4)。この際、通常、透明基板1 2の縁部に、レーザが照射されなかったハー� �コート層が残り縁部ハードコート層16’が形 成される。
 島状の金属導電層の列を、2列以上形成する 場合は、レーザを2本以上用いるか、上記と� �様の操作を、位置をずらして繰り返し行う� �とにより形成される。
 図1の方法では、一般に、幅方向に対して1� �の光学フィルタが得られるような寸法の透� �基板を使用するが、例えば幅方向に対して2� ��の光学フィルタが得られるような寸法の透� ��基板を用いて、中央にも2箇所レーザを設置 する等して、両端部だけでなく端部と平行に 中央にもパルスレーザを照射して、幅方向に 2枚光学フィルタを得られるようにしても良� �。
 透明基板とメッシュ状の金属導電層13との� �には両者の接着性を向上させるため、ポリ� �ステル樹脂等の易接着層が設けられている� �とが好ましい。

 あるいは、上記工程(端部レーザ照射)前� �又は上記工程後、金属導電層が露出した長� �状積層体のハードコート層16に、幅方向にレ ーザを間欠的照射することにより(例えばレ� �ザを2本使用して)、照射部分のハードコート 層16を除去して幅方向に金属導電層を露出さ� ��ても良い。これを連続的に行うことにより� ��両側の側端近傍部にレーザ照射した場合は� ��全周囲に金属導電層が露出したものが得ら� ��る(図2参照)。幅方向のレーザ照射は、一般� ��、フィルタの走行を停止させて、幅方向に� ��動させることにより行われる。或いは、長� ��状の積層体を矩形状に裁断し、その裁断さ� ��た積層体を矩形状に間欠的にレーザ照射し� ��も良い。

 或いは、上記レーザの照射工程(3)を、長尺� ��の積層体を矩形状のガラス基板の表面に固� ��し(例えば下記の透明粘着剤層15等を利用し� ��)、ガラス基板の端部に沿って矩形状に裁断 し(この際レーザを利用しても良い)、ガラス� ��板に貼付された矩形状の積層体の両端部近� ��又は周辺端部近傍にレーザを間欠的に照射� ��て、導電層を露出させることにより、両端� ��近傍又は周辺端部近傍に導電層露出領域(電 極部)を有する矩形状の光学フィルタを得る� �ともできる。このような光学フィルタの平� �図は、周辺に電極部がある枠状の電極部の� �合は図3となる(最端部にハードコーティング 層が残っている)。この方法を採用すること� �より、長尺状の積層体がガラス基板上に固� �されることから、積層体の位置ズレや積層� �の浮きが発生しないため、レーザの照射を� �定の位置に確実に行うことができ、外観に� �れた光学フィルタを得ることができ、好ま� �い。
 上記長尺状の透明基板12の裏側(通常全面)に 別の機能性層としての近赤外線吸収層14及び� ��の上に透明粘着剤層15が形成されていても� �く、この場合、図4に示すように、本発明の� ��ましい態様の一つである光学フィルタが得� ��れる。透明粘着剤層15は設けなくても良い� �得られた光学フィルタの電極部(導電層露出� ��域13’)には、アースをとるための種々の導� ��材料が接続される。尚、上記ハードコート� ��は本発明の機能性層の1種として示している 。
 或いは、上記電極部を形成した後、透明基� ��12の裏側(通常全面)に第2の機能性層として� �近赤外線吸収層14及びその上に透明粘着剤層 15が形成しても良い。透明粘着剤層15は設け� �くても良い。

 以上、長尺状の透明基板を用いた光学フ� ��ルタの製造方法を説明したが、矩形状の光� ��フィルタ(一般に、1台又は2台のディスプレ� ��表示面用)も同様にして製造することができ る。即ち、矩形状の透明基板12の表面の全域� ��、メッシュ状の金属導電層13を形成し(1)、� �いで、メッシュ状の金属導電層13の全域に第 1の機能性層としての合成樹脂からなるハー� �コート層16を形成する(2)。例えば、このよう にして得られた矩形状の積層体のハードコー ト層16の側端部に、レーザを間欠的に照射す� ��(3)。照射は、1個のパルスレーザで全周囲の 側端部に行っても良いし、両側縁部に行って も良い。或いは2個のパルスレーザで両側縁� �に行っても良い。島状の金属導電層の列を� �2列以上形成する場合は、一般に同様の操作� ��繰り返される。ハードコート層16は合成樹� �からなる薄層であるため、パルスレーザが� �射された領域のハードコート層16は分解又は 燃焼等により消失する。これにより、両側端 部近傍のハードコート層16が除去され、金属� ��電層が露出し、導電層露出領域13’が形成� �れ、これが電極部を形成する(4)(以上図1、図 3参照)。この際、通常、透明基板12の縁部に� �パルスレーザが照射されなかったハードコ� �ト層が残り縁部ハードコート層16’が形成さ れる。

 上記のようにして得られる本発明の光学フ� ��ルタにおいては、多数の島状の金属導電層� ��間欠的帯状領域の形で形成される。この間� ��的帯状領域(帯状の導電層露出領域)の幅(図2 、4及び5のL)は、一般に1~100mm、特に2~50mmが好� ��しい。また縁部ハードコート層16’の細い� �状の領域の幅は、一般に0.1~20mmであり、特に 0.5~5mmが好ましい。
 本発明では、上記間欠的帯状領域の面積に� ��して島状の金属導電層の個数が25~250個/cm ² (50~200個/cm ² )で、島状の金属導電層の面積率が2~50%(好ま� �くは15~50%、特に20~40%)となるように、島状の� ��属導電層(即ち間欠的帯状領域)が形成され� �いる。このように状態になるように、機能� �層にレーザを間欠的に照射することにより� �金属導電層の基板からの剥離を抑制しなが� �照射部分の機能性層を除去することができ� �欠陥のない光学フィルタを容易に製造する� �とができる。このようにして形成された電� �部は、光学フィルタの周囲に金属導電層が� �確に露出したものであるため、この電極部� �設置により、アースを簡単にとることがで� �る。

 図1~4の導電層露出領域13’は、上記のよう� �間欠的帯状領域(間欠的な島状領域)である。 本発明では、間欠的帯状領域は島状の金属導 電層の最も内側の地点と最も外側の地点の垂 直幅を有する領域であるが、これは、例えは 、図2及び下記の図5において、Lで表される幅 を有する帯状領域である。本発明では、この 幅がLの間欠的帯状領域の面積に対して島状� �金属導電層の個数が25~250個/cm ² で、島状の金属導電層の面積率が2~50%(好まし くは15~50%)である。
 間欠的帯状領域である導電層露出領域の好� ��しい態様を図5(1)~(3)に示す。図5(1)では、導� ��層露出領域13’として、島状領域13”が帯状 に1列形成されている。図5(2)では、導電層露� ��領域として、島状領域13”が帯状に且つ千� �状に2列形成されている。この場合、帯状に2 列形成され、その2列の島状領域13”の位置関 係がズレなく設けられても良いが、千鳥状が 好ましい。図5(3)では、導電層露出領域とし� �、島状領域13”が帯状に且つ千鳥状に3列形� �されており、3列の島状領域13’の位置関係� �千鳥状にズレて設けられている。勿論4列以� ��設けても良い。本発明の間欠的帯状領域は� ��例えば、図5(3)において、内側の列の島状領 域13”の内、最も内側の島状領域13”の最内� �の地点と、外側の島状領域13”の内、最も外 側の島状領域13”の最外側の地点との垂直幅� ��有する領域と言える。従って、垂直幅はLに 相当する。
 上記島状領域13”の形状は、矩形、楕円形� �円形、多角形等、どのような形状でも良い� �また島状領域13”は、全て同じ大きさでも良 く、また相互に異なっていても良い。一般に 同じ大きさである。

 上記島状領域13”は、図5に示したように、� ��辺に対して平行に並んだ多数の楕円形領域� ��集合体として形成されており、一般に複数� ��でアース用電極である導電層露出領域13’� �構成している。各島状領域13”の大きさは、 レーザヘッドから照射されるレーザビームの ビーム径、途中に設けられたビームエキスパ ンダの倍率、レンズの曲率及び焦点距離、光 路長、ビーム強度、及びビームプロファイル 等により決定される。列方向における島状領 域13”間の距離(列方向における隣接する島状 領域13”の中心間距離)D2は、ヘッドの移動速� ��とレーザの発振周波数によって決定され、{ (島状領域13”の最大半径)×2+0.3}mm程度が好ま� ��い。列間の距離D1もD2と同様であり、列間で 隣接する島状領域13”間の距離D3もD2と同様で ある。島状領域13”の最大半径は、一般に0.1~ 10mm、好ましくは0.2~1.0mmである。島状領域13” の面積は、一般に0.1~30mm ² 、好ましくは0.1~5mm ² である。

 導電層露出領域13’を効率よく形成するに� �、連続波レーザを用いてハードコート層等� �第1の機能性層を除去することが有利である� ��、連続波レーザを用いると照射部分に過剰� ��熱が付与され易い傾向にあり、照射部分(導 電層露出領域13’)において、積層体(例、透� �基板、メッシュ状導電層及びハードコート� �)のメッシュ状導電層の剥離等の熱的損傷が� ��生し易い。ハードコート層等は、その厚さ� ��一般に5~7μmと極めて薄層であり、その下側� ��導電層の熱的損傷を受けやすいが、パルス� ��ーザ(特に赤外線の波長の)を用いることに� �りこの熱的損傷を回避することが容易で、� �ましい。但し、パルスレーザを使用する場� �、短波長の短パルスのレーザを用いると熱� �損傷の少なくできるが、加工に時間がかか� �すぎるため、長波長のパルスレーザを用い� �、ショット間距離を大きく取ることにより� �ッシュ状導電層の密着性の低下を最小限に� �制しながら、有効な導電層露出領域13’を確 保することが可能である。
 パルスレーザの波長は、0.2~30μm、さらに5~15 μmであることが好ましい。また、パルスレー ザのパルス幅(特にCO ₂ レーザでは)は、1~1000マイクロ秒、さらに100~8 00マイクロ秒であることが好ましい。上記熱� ��よる剥離損傷抑制効果が得られやすい。島� ��領域13”の形成は、パルスレーザのパルス� �体を利用しても良いが(その場合パルスは一� ��に数百マイクロ秒である)、短パルス(一般� �百マイクロ秒未満)の場合は、特定の数のパ� ��ス群でオン-オフさせることにより行なって も良い。剥離損傷抑制効果の点で後者の短パ ルスを用いることが好ましい。
 本発明の島状の金属導電層の個数25~250個/cm ² 及び島状の金属導電層の面積率2~50%(好ましく は15~50%)は、上述のパルスレーザを適当な条� �(例、相対移動速度、出力、オン/オフ間隔等 )で使用することにより、積層体への熱的損� �を最小限に抑制しながら得られやすい範囲� �ある。さらに、前述の列間の距離D1、D2、島� ��領域13”間の距離D3そして島状領域13”の最� ��半径等を満たすことが好ましい。

 機能性層及び別の機能性層としては、何� ��かの機能を示す合成樹脂を含む層であれば� ��のようなものでも良い。本発明では、一般� ��、機能性層は、ハードコート層であるか;ハ ードコート層とハードコート層より屈折率の 低い低屈折率層とからなるか(この場合ハー� �コート層が金属導電層と接している)或いは� ��ハードコート層、ハードコート層より屈折� ��の高い高屈折率層及びハードコート層より� ��折率の低い低屈折率層からなる(この場合ハ ードコート層が金属導電層と接している)。� �が多いほど、より良好な反射防止性が得ら� �る。あるいは、機能性層が防眩層、又は防� �層と防眩層より屈折率の低い低屈折率層と� �らなる(防眩層が金属導電層と接している)こ とも好ましい。防眩層は、いわゆるアンチグ レア層であり、一般に優れた反射防止効果を 有し、上記反射防止層を設けなくて良い場合 が多い。これにより、他の層の屈折率の自由 度が向上し、層の材料の選択肢が広がるため 、コスト低減効果もある。防眩層と低屈折率 層とからなる場合は、防眩層のみよりさらに 優れた反射防止効果が得られる。また、別の 機能性層は、一般に、近赤外線吸収層、ネオ ンカット層又は透明粘着剤層、或いはこれら の層の2層以上の組合せである。本発明では� �別の機能性層が、近赤外線吸収機能及びネ� �ンカット機能を有する透明粘着剤層からな� �か、或いはネオンカット機能を有する近赤� �線吸収層、及び透明粘着剤層(この順で透明� ��板上に設けられている)からなるか、或いは 近赤外線吸収層、ネオンカット層及び透明粘 着剤層(この順で透明基板上に設けられてい� �)からなることが好ましい。

 ハードコート層16上には、反射防止性を� �上させるためにハードコート層16より屈折率 の低い低屈折率層等を設けることが好ましい が、その場合、一般に、ハードコート層全面 に形成される。ハードコート層及び低屈折率 層等を設ける場合は、それぞれ塗工、(光)硬� ��を別々に行っても良いが、ハードコート層� ��び低屈折率層等を塗工した後、一度に(光)� �化しても良い。また、上記の金属導電層上� �ハードコート層16を形成したが、光学フィル タの所望の設計に従い、上述のように防眩層 、さらに必要により低屈折率層を設けること も好ましい。防眩層は防眩機能を有するハー ドコート層であることが好ましい。

 図1(4)で得られた本発明のディスプレイ用 光学フィルタで、裏面に近赤外線吸収層14及� ��その上に透明粘着剤層15が設けられた好ま� �い態様の1例を、前記図4に示したが、図4に� �された本発明のディスプレイ用光学フィル� �で、ハードコート層の上にさらに低屈折率� �(反射防止層)が設けられた光学フィルタの断 面の概略図の1例を図6に示す。図6において、 透明基板22の一方の表面に、メッシュ状の金� ��導電層23、ハードコート層26及び低屈折率層 27がこの順で設けられ、他方の表面には近赤� ��線吸収層24及びその上に透明粘着剤層25が設 けられている。この場合レーザの照射は低屈 折率層27の表面端部近傍に行われる。ハード� ��ート層26は、図4と同様に、縁部(最端部)領� �に、導電層露出領域23’を介してその外側に 縁部ハードコート層26’を有し、低屈折率層2 7も、縁部領域に、導電層露出領域23’を介し てその外側の縁部ハードコート層26’上に縁� ��低屈折率層27’を有する。ハードコート層26 (26’)上に設ける層(例、高屈折率層)は、低屈 折率層27と同様に中央部と縁部に設けられる� ��またメッシュ状金属層24のメッシュの空隙� �、ハードコート層26で埋められており、これ により透明性が向上している。前述のように 、ハードコート層26の代わりに防眩層を設け� ��ことも好ましい。

 上記構成において、ハードコート層26及び� �屈折率層(等の反射防止層)27と、近赤外線吸� ��層24との位置が、相互に入れ替わっていて� �良く、また近赤外線吸収層24が、金属導電層 23とハードコート層26との間に設けられても� �い。しかながら、図6の構成は、ディスプレ� ��装着時に導電層が、ディスプレイの前面(表 面側)に存在することになるため、アースの� �置が容易である点で有利である。
 上記図1では、導電層露出領域は、側端部領 域ではあるが、その外側に縁部ハードコート 層等が設けられた態様について説明した。本 発明には、縁部にこのようなハードコート層 等が存在しない、即ち最端部に導電層露出領 域が設けられた態様も含まれる。このよう態 様について、図7を参照しながら説明する。

 図7に、上記の本発明の電極部付きディスプ レイ用光学フィルタの製造方法の別の1例を� �明するための概略断面図を示す。
 長尺状の透明基板32の表面の全域に、メッ� �ュ状の金属導電層33を形成し(1)、次いで、メ ッシュ状の金属導電層33の全域に第1の機能性 層としての合成樹脂からなるハードコート層 36を形成する(2)。例えば、このようにして得� ��れた長尺状の積層体をロール状に巻き、例� ��ばロール・ツー・ロール方式で、このロー� ��から連続的にこの長尺状の積層体を送り出� ��、ハードコート層36の側端部に、レーザを� �欠的に照射する(3)。照射は、両側縁部に同� �に行っても良いし、一方を行った後他方の� �端部を照射しても良い。この場合、レーザ� �照射を最端部(縁部)に照射するように行う。 ハードコート層36は合成樹脂からなる層であ� ��ため、レーザが照射された領域のハードコ� ��ト層36は分解又は燃焼等により消失する。� �れにより、両端部のハードコート層36が除去 され、金属導電層が露出し、導電層露出領域 33’が形成され、これが電極部を形成する(4)� ��このように最端部ハードコート層等が残ら� ��いようにレーザを照射する場合、透明基板� ��で軟化変形する場合があるので注意する必� ��がある。この後、一般に、透明基板32の裏� �(通常全面)に別の機能性層としての近赤外線 吸収層34及びその上に透明粘着剤層35が形成� �れ、この後、レーザを用いて幅方向に裁断� �ることにより、周囲に導電層露出領域33’(� �極部)を有する矩形状の光学フィルタが得ら� ��る。裁断は裁断機等で行っても良い。その� ��合は、必要により幅方向にもレーザで金属� ��電層を露出させる。レーザで裁断して、レ� ��ザ照射領域が島状でなくなる場合があり、� ��の範囲は本発明の間欠的帯状領域ではない� ��このような光学フィルタの平面図を図8に示 す。図7の方法では、幅方向に1枚の光学フィ� ��タが得られるが、図1と同様、例えば中央に も2箇所レーザを設置して、両端部だけでな� �端部と平行に中央においてもレーザを照射� �て、幅方向に2枚光学フィルタを得られるよ� ��にしても良い。
 あるいは、上記工程(端部レーザ照射)中、� �は上記工程後、金属導電層が露出した長尺� �積層体のハードコート層36に、幅方向にレー ザを間欠的に照射することにより、照射部分 のハードコート層16を除去して幅方向に金属� ��電層を露出させても良い。これを連続的に� ��うことにより、両側の側端近傍部にレーザ� ��射した場合は、全周囲に金属導電層が露出� ��たものが得られる(図8参照)。幅方向のレー� ��照射は、一般に、フィルタの走行を停止さ� ��て、幅方向に移動させることにより行われ� ��。

 図7及び8の導電層露出領域33’は上記のよう に間欠的帯状領域(間欠的な島状領域)である� ��本発明では、間欠的帯状領域は島状の金属� ��電層の最も内側の地点と最も外側の地点の� ��直幅を有する領域であるが、これは、例え� ��、図8及び下記の図9において、Lで表される� ��を有する帯状領域である。本発明では、こ� ��幅がLの間欠的帯状領域の面積に対して島状 の金属導電層の個数が25~250個/cm ² で、島状の金属導電層の面積率が2~50%(好まし くは15~50%)である。
 間欠的帯状領域である導電層露出領域の好� ��しい態様を図9(1)~(3)に示す。図9(1)では、導� ��層露出領域33’として、島状領域33”が帯状 に1列形成されている。図9(2)では、導電層露� ��領域として、島状領域33”が帯状に且つ千� �状に2列形成されている。或いは帯状に2列形 成され、2列の島状領域13”の位置関係はズレ なく設けられても良いが、千鳥状が好ましい 。図9(3)では、導電層露出領域として、島状� �域33”が帯状に且つ千鳥状に3列形成されて� �り、3列の島状領域33’の位置関係は千鳥状� �ズレて設けられている。勿論4列以上設けて� ��良い。
 上記島状領域33”の形状は、矩形、楕円形� �円形、多角形等、どのような形状でも良い� �また島状領域33”は、全て同じ大きさでも良 いが、相互に異なっていても良く、一般に同 じ大きさである。

 上記島状領域33”は、図9に示したように、� ��辺に対して平行に並んだ多数の楕円形領域� ��集合体として形成されており、一般に複数� ��でアース用電極である導電層露出領域33’� �構成している。各島状領域33”の大きさは、 レーザヘッドから照射されるレーザビームの ビーム径、途中に設けられたビームエキスパ ンダの倍率、レンズの曲率及び焦点距離、ビ ーム強度、及びビームプロファイルにより決 定される。列方向における島状領域33”間の� ��離(列方向における隣接する島状領域33”の� ��心間距離)D2は、ヘッドの移動速度とレーザ� ��発振周波数によって決定され、{(島状領域33 ”の最大半径)×2+0.3}mm程度が好ましい。前述� ��ように、列間の距離D1もD2と同様であり、列 間で隣接する島状領域33”間の距離D3もD2と同 様である。また島状領域33”の最大半径は、� ��般に0.1~10mm、好ましくは0.2~1.0mmである。島� �領域33”の面積は、一般に0.1~30mm ² 、好ましくは0.1~5mm ² である。

 上記長尺状の透明基板32の裏側(通常全面)に 第2の機能性層としての近赤外線吸収層34及び その上に透明粘着剤層35が形成されていても� ��く、この場合、図10に示すように、本発明� �好ましい態様の一つである光学フィルタが� �られる。透明粘着剤層35は設けなくても良い 。得られた光学フィルタの電極部(導電層露� �領域33’)には、アースをとるための種々の� �電材料が接続される。尚、上記ハードコー� �層は本発明の機能性層の1種として示してい� ��。
 或いは、上記電極部を形成した後、透明基� ��32の裏側(通常全面)に別の機能性層としての 近赤外線吸収層34及びその上に透明粘着剤層3 5が形成しても良い。透明粘着剤層35は設けな くても良い。
 前記導電層露出領域33’がアースのための� �極部として使用される。この間欠的帯状領� �(細い帯状の導電層露出領域)の幅(図8~図10のL )は、一般に2~100mm、特に5~50mmが好ましい。

 ハードコート層36上には、反射防止性を� �上させるためにハードコート層36より屈折率 の低い低屈折率層等を設けることが好ましい が、その場合、一般に、ハードコート層全面 に形成される。ハードコート層及び低屈折率 層等を設ける場合は、それぞれ塗工、(光)硬� ��を別々に行っても良いが、ハードコート層� ��び低屈折率層等を塗工した後、一度に(光)� �化しても良い。また、上記の金属導電層上� �ハードコート層36を形成したが、光学フィル タの所望の設計に従い、上述のように防眩層 、さらに必要により低屈折率層を設けること も好ましい。

 図10に示された本発明のディスプレイ用光� �フィルタで、ハードコート層の上にさらに� �屈折率層(反射防止層)が設けられた光学フィ ルタの断面の概略図の1例を図11に示す。図11� ��おいて、透明基板42の一方の表面に、メッ� �ュ状の金属導電層43、ハードコート層46及び� ��屈折率層27がこの順で設けられ、他方の表� �には近赤外線吸収層44及びその上に透明粘着 剤層45が設けられている。この場合レーザの� ��射は低屈折率層47の表面端部近傍に行われ� �。図10同様に、端部領域に、導電層露出領域 43’が存在する。ハードコート層46上に設け� �層(例、高屈折率層)は、低屈折率層47と同様� ��中央部に設けられる。またメッシュ状金属� ��44のメッシュの空隙は、ハードコート層46で 埋められており、これにより透明性が向上し ている。メッシュ状金属層44も同様である。
 上記構成において、ハードコート層46及び� �屈折率層(等の反射防止層)47と、近赤外線吸� ��層44との位置が、相互に入れ替わっていて� �良く、また近赤外線吸収層44が、金属導電層 43とハードコート層46との間に設けられても� �い。しかしながら、図11の構成は、ディスプ レイ装着時に導電層が、ディスプレイの前面 (表面側)に存在することになるため、アース� ��設置が容易である点で有利である。

 上記金属導電層13、23等は、例えば、メッシ ュ状の金属層又は金属含有層、或いは金属酸 化物層(誘電体層)、又は金属酸化物層と金属� ��との交互積層膜である。メッシュ状の金属� ��又は金属含有層は、一般に、エッチングに� ��り、又は印刷法により形成されているか、� ��属繊維層である。これにより低抵抗を得ら� ��やすい。一般に、メッシュ状の金属層又は� ��属含有層のメッシュの空隙は、前記のよう� ��、ハードコート層16、26等或いは防眩層で埋 められている。これにより透明性が向上する 。ハードコート層16、26等で埋めない場合は� �他の層、例えば近赤外線吸収層14、24等或い� ��それ専用の透明樹脂層で埋められるのが好� ��しい。
 上記低屈折率層27等は、反射防止層を構成� �ている。即ち、ハードコート層16、26等とそ� ��上に設けられた低屈折率層との複合膜によ� ��反射防止効果を効率良くに示す。この低屈� ��率層とハードコート層との間に高屈折率層� ��設けても良い。これにより反射防止機能は� ��上する。
 また低屈折率層27等は設けなくても良く、� �明基板と、透明基板より屈折率の高い又は� �い(好ましくは低い)ハードコート層16、26等� �みであっても良い。ハードコート層16、26、� ��射防止層27等は、一般に塗工により形成さ� �る。生産性、経済性の観点から好ましい。
 上記近赤外線吸収層14、24等は、PDPのネオン 発光等の不要な光を遮断する機能を有する。 一般に800~1200nmに吸収極大を有する色素を含� �層である。透明粘着層15、25は一般にディス� ��レイへの容易に装着するために設けられて� ��る。透明粘着剤層15の上に剥離シートを設� �ても良い。
 電極部は、光学フィルタの周囲の金属導電� ��であり、その幅(図2等のL)は、前述のように 、一般に2~100mm、特に5~50mmが好ましい。金属� �電層は、メッシュ状金属層であることが好� �しい。

 上記矩形のディスプレイ用光学フィルタは� ��明基板を1枚用いているが、透明基板は2枚� �いても良い。例えば、金属導電層を有する� �明基板(一般に裏面に近赤外線吸収層等有す� ��)の金属導電層上に、ハードコート層及び低 屈折率層等の反射防止層を有する透明基板の 裏面を粘着剤層を介して積層し、ハードコー ト層及び低屈折率層等の反射防止層上から前 記のようにレーザを照射することによっても 得られる。或いは、透明基板の表面に、メッ シュ状の金属導電層、ハードコート層及び低 屈折率層等の反射防止層がこの順で設けられ 、別の透明基板の表面には近赤外線吸収層及 びその上に透明粘着剤層が設けられ、2枚の� �明基板の層が設けられていない表面同士で� �着された構成を有する。この場合、前者の� �層体が、本発明の方法により製造される。
 透明基板2枚は、製造上有利である場合に採 用されるが、厚さが大きくなるので嵩高くな る点で不利である。
 上記透明基板1枚用いるディスプレイ用光学 フィルタは、前述のように、例えば、矩形状 のプラスチックフィルムの一方の全表面に、 金属導電層を形成し、次いで導電層上に、ハ ードコート層及び低屈折率層等の反射防止層 を形成し、レーザ照射により、導電層露出領 域を形成し、他方の表面に近赤外線吸収層、 透明粘着剤層等を形成する(或いは予めプラ� �チックフィルム裏面に形成する)ことにより� ��学フィルタを得る。作製されたフィルタは� ��各ディスプレイの全面の表示部の形状に合� ��せて設計されている。このような光学フィ� ��タは、周囲に導電層の電極部が突出してお� ��、これが接地及びディスプレイに装着容易� ��電極部(アース電極)を形成している。

 本発明では、上記のようにパルスレーザ照� ��により導電層露出領域が形成される。本発� ��で使用することができるパルスレーザ(パル ス発振レーザ)は、短時間で、金属導電層等� �光学フィルタ形成材料に熱的損傷を与える� �となく、第1の機能性層の合成樹脂等を燃焼� ��分解等により除去できるもの、或いはその� ��うに設定できるものであればよい。レーザ� ��射技術としては、ラインビーム成形技術、� ��ーザ光分岐技術、ダブルパルス技術等を、� ��独または組み合わせて用いることができる� ��パルスレーザ光としては、YAGレーザ(基本波 、2倍波、3倍波)、ルビーレーザ、エキシマレ ーザ、半導体レーザ、CO ₂ レーザ、アルゴンレーザ等を用いることがで きる。特に、CO ₂ レーザが、短時間で合成樹脂層を燃焼、分解 により除去、或いはレーザ吸収による発熱部 分を沸騰させて機能性層を除去することがで きるので、好ましい。即ち、これらのパルス レーザは、一般に、前述の長波長のパルスレ ーザであり、ショット間距離を大きく取るこ とにより熱的損傷を最小限に抑制しながら、 有効な導電層露出領域13’を確保することが� ��能である。
 パルスレーザの波長は、前述のように、0.2~ 30μm、さらに5~15μmであることが好ましい。ま た、パルスレーザのパルス幅(特にCO ₂ レーザでは)は、1~1000マイクロ秒、さらに100~8 00マイクロ秒であることが好ましい。上記熱� ��よる剥離損傷抑制効果が得られやすい。さ� ��にパルスレーザの照射は、出力5W~5kW、焦点� ��置での直径 を10~50μmに集光して(機能性層� �では、400~1000μmである。適宜、焦点ずらしに より600μm程度まで直径を拡大している)、相� �移動速度(積層体とパルスレーザとの相対速� ��)1~3000mm/秒で行うことが好ましい。

 本発明のディスプレイ用光学フィルタに使� ��される材料について以下に説明する。
 透明基板は、一般に、透明なプラスチック� ��ィルムである。その材料としては、透明(「 可視光に対して透明」を意味する。)であれ� �特に制限はない。プラスチックフィルムの� �としては、ポリエステル{例、ポリエチレン� ��レフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタ� �ート}、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ア� ��リル樹脂、ポリカーボネート(PC)、ポリスチ レン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアル コール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ ン、ポリエチレン、エチレン-酢酸ビニル共� �合体、ポリビニルブチラール、金属イオン� �橋エチレン-メタクリル酸共重合体、ポリウ� ��タン、セロファン等を挙げることができる� ��これらの中でも、加工時の負荷(熱、溶剤、 折り曲げ等)に対する耐性が高く、透明性が� �に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレ� �ト(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチル� �タクリレート(PMMA)等が好ましい。特に、PET� �、加工性に優れているので好ましい。
 透明基板の厚さとしては、光学フィルタの� ��途等によっても異なるが、一般に1μm~10mm、1 μm~5mm、特に25~250μmが好ましい。

 本発明の金属導電層は、得られる光学フィ� ��タの表面抵抗値が、一般に10ω/□以下、好� �しくは0.001~5ω/□の範囲、特に0.005~5ω/□のと なるように設定される。メッシュ(格子)状の� ��電層も好ましい。或いは、導電層は、気相� ��膜法により得られる層(金属酸化物(ITO等)の� ��明導電薄膜)でも良い。さらに、ITO等の金属 酸化物の誘電体膜とAg等の金属層との交互積� ��体(例、ITO/銀/ITO/銀/ITOの積層体)であっても� ��い。
 メッシュ状の金属導電層としては金属繊維� ��び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたも� ��、透明基板上の銅箔等の層を網状にエッチ� ��グ加工し、開口部を設けたもの、透明基板� ��に導電性インクをメッシュ状に印刷したも� ��、等を挙げることができる。
 メッシュ状の金属導電層の場合、メッシュ� ��しては、金属繊維及び/又は金属被覆有機繊 維よりなる線径1μm~1mm、開口率40~95%のものが� ��ましい。より好ましい線径は10~500μm、開口� ��は50~95%である。メッシュ状の導電層におい� ��、線径が1mmを超えると電磁波シールド性が� ��上するが、開口率が低下し両立させること� ��できない。1μm未満では、メッシュとしての 強度が下がり取扱いが困難となる。また開口 率が95%を超えるとメッシュとしての形状を維 持することが困難であり、40%未満では光透過 性が低下し、ディスプレイからの光量も低下 する。
 なお、導電性メッシュの開口率とは、当該� ��電性メッシュの投影面積における開口部分� ��占める面積割合を言う。
 メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及� ��金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ス� ��ンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン� ��タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或い� ��これらの合金、好ましくは銅、ステンレス� ��ニッケルが用いられる。
 金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポ� ��エステル、ナイロン、塩化ビニリデン、ア� ��ミド、ビニロン、セルロース等が用いられ� ��。
 金属箔等の導電性の箔をパターンエッチン� ��したもの場合、金属箔の金属としては、銅� ��ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄� ��真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅� ��ステンレス、アルミニウムが用いられる。
 金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパ� ��ーンエッチングの作業性等の面で好ましく� ��く、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに� ��響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が� ��くなることから、1~200μm程度とするのが好� �しい。
 エッチングパターンの形状には特に制限は� ��く、例えば四角形の孔が形成された格子状� ��金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円� ��の孔が形成されたパンチングメタル状の金� ��箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並� ��だものに限らず、ランダムパターンとして� ��良い。この金属箔の投影面における開口部� ��の面積割合は、20~95%であることが好ましい� ��
 上記の他に、メッシュ状の金属導電層とし� ��、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料� ��よってドットを形成し、フィルム面に溶剤� ��対して不溶な導電材料からなる導電材料層� ��形成し、フィルム面を溶剤と接触させてド� ��ト及びドット上の導電材料層を除去するこ� ��によって得られるメッシュ状金属導電層を� ��いても良い。
 金属導電層上に、さらに金属メッキ層を、� ��電性を向上させるためは設けても良い(特に 、上記溶剤に対して可溶な材料によってドッ トを形成する方法の場合)。金属メッキ層は� �公知の電解メッキ法、無電解メッキ法によ� �形成することができる。メッキに使用され� �金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケ� �、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用� �ることが可能であり、好ましくは銅、銅合� �、銀、又はニッケルであり、特に経済性、� �電性の点から、銅又は銅合金を使用するこ� �が好ましい。
 また、防眩性能を付与させても良い。この� ��眩化処理を行う場合、(メッシュ)導電層の� �面に黒化処理を行っても良い。例えば、金� �膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ� �黒又は暗色系のインクの塗布等を行うこと� �できる。

 本発明の反射防止層は、一般に基板である� ��明基板より屈折率の低いハードコート層と� ��の上に設けられたハードコート層より屈折� ��の低い低屈折率層との複合膜であるか、或� ��はハードコート層と低屈折率層との間にさ� ��に高屈折率層が設けられた複合膜である。� ��射防止膜は基板より屈折率の低いハードコ� ��ト層のみであっても有効である。但し、基� ��の屈折率が低い場合、透明基板より屈折率� ��高いハードコート層とその上に設けられた� ��屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上� ��さらに高屈折率層が設けられた複合膜とし� ��も良い。
 ハードコート層としては、アクリル樹脂層� ��エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコ� ��樹脂層等の合成樹脂を主成分とする層であ� ��。通常その厚さは1~50μm、好ましくは1~10μm� �ある。合成樹脂は、一般に熱硬化性樹脂、� �外線硬化性樹脂であり、紫外線硬化性樹脂� �好ましい。紫外線硬化性樹脂は、短時間で� �化させることができ、生産性に優れ、また� �ーザにより除去し易い点からも好ましい。
 熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、� ��ゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹� ��、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン� ��脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げ� ��ことができる。
 ハードコート層としては、紫外線硬化性樹� ��組成物(紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤等 からなる)を主成分とする層の硬化層が好ま� �く、通常その厚さは1~50μm、好ましくは1~10μm である。
 紫外線硬化性樹脂(モノマー、オリゴマー)� �しては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)� ��クリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)ア クリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アク� �レート、2-エチルヘキシルポリエトキシ(メ� �)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレー� �、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェニ ルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシ� ��ロデカンモノ(メタ)アクリレート、ジシク� �ペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート 、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレー� ��、アクリロイルモルホリン、N-ビニルカプ� �ラクタム、2-ヒドロキシ-3-フェニルオキシプ ロピル(メタ)アクリレート、o-フェニルフェ� �ルオキシエチル(メタ)アクリレート、ネオペ ンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネ� ��ペンチルグリコールジプロポキシジ(メタ)� �クリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペ� �チルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリ シクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレ� ��ト、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレ� ��ト、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート� �トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレ ート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アク� ��レート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ )アクリレート、トリス〔(メタ)アクリロキシ エチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロー ルプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の(メ タ)アクリレートモノマー類;ポリオール化合� ��(例えば、エチレングリコール、プロピレン グリコール、ネオペンチルグリコール、1,6-� �キサンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオ� ��ル、1,9-ノナンジオール、2-エチル-2-ブチル- 1,3-プロパンジオール、トリメチロールプロ� �ン、ジエチレングリコール、ジプロピレン� �リコール、ポリプロピレングリコール、1,4-� ��メチロールシクロヘキサン、ビスフェノー� ��Aポリエトキシジオール、ポリテトラメチレ ングリコール等のポリオール類、前記ポリオ ール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸 、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、 イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又 はこれらの酸無水物類との反応物であるポリ エステルポリオール類、前記ポリオール類と ε-カプロラクトンとの反応物であるポリカプ ロラクトンポリオール類、前記ポリオール類 と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類の ε-カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネ ートポリオール、ポリマーポリオール等)と� �機ポリイソシアネート(例えば、トリレンジ� ��ソシアネート、イソホロンジイソシアネー� ��、キシリレンジイソシアネート、ジフェニ� ��メタン-4,4’-ジイソシアネート、ジシクロ� �ンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレ� �ジイソシアネート、2,4,4’-トリメチルヘキ� �メチレンジイソシアネート、2,2’-4-トリメ� �ルヘキサメチレンジイソシアネート等)と水� ��基含有(メタ)アクリレート(例えば、2-ヒド� �キシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキ� ��プロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシ ブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-� �ェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、 シクロヘキサン-1,4-ジメチロールモノ(メタ)� �クリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ� ��)アクリレート、ペンタエリスリトールペン タ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト� ��ルヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリン� �(メタ)アクリレート等)の反応物であるポリ� �レタン(メタ)アクリレート、ビスフェノール A型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキ� ��樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と( メタ)アクリル酸の反応物であるビスフェノ� �ル型エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)� ��クリレートオリゴマー類等を挙げることが� ��きる。これら化合物は1種又は2種以上、混� �して使用することができる。これらの紫外� �硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用い� �熱硬化性樹脂として使用してもよい。
 ハードコート層とするには、上記の紫外線� ��化性樹脂(モノマー、オリゴマー)の内、ペ� �タエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、 ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレ� ��ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)� �クリレート等の硬質の多官能モノマーを主� �使用することが好ましい。
 紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、� ��外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合� ��を使用することができる。例えば、2-ヒド� �キシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1- ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、 2-メチル-1-(4-(メチルチオ)フェニル)-2-モルホ� ��ノプロパン-1などのアセトフェノン系、ベ� �ジルジメチルケタールなどのベンゾイン系� �ベンゾフェノン、4-フェニルベンゾフェノン 、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフ ェノン系、イソプロピルチオキサントン、2-4 -ジエチルチオキサントンなどのチオキサン� �ン系、その他特殊なものとしては、メチル� �ェニルグリオキシレートなどが使用できる� �特に好ましくは、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フ ェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロ� ��キシルフェニルケトン、2-メチル-1-(4-(メチ� ��チオ)フェニル)-2-モルホリノプロパン-1、ベ ンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合 開始剤は、必要に応じて、4-ジメチルアミノ� ��息香酸のごとき安息香酸系叉は、第3級アミ ン系などの公知慣用の光重合促進剤の1種ま� �は2種以上を任意の割合で混合して使用する� ��とができる。また、光重合開始剤のみの1種 または2種以上の混合で使用することができ� �。特に1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニル ケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社� �、イルガキュア184)が好ましい。
 光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して� ��般に0.1~10質量%、好ましくは0.1~5質量%である 。
 さらに、ハードコート層は、紫外線吸収剤� ��赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤� ��着色剤等を少量含んでいても良い。特に、� ��外線吸収剤(例、ベンゾトリアゾール系紫外 線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤 )を含むことが好ましく、これによりフィル� �の黄変等の防止が効率的に行うことができ� �。その量は、樹脂組成物に対して一般に0.1~1 0質量%、好ましくは0.1~5質量%である。
 ハードコート層は、透明基板より屈折率が� ��いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂� ��用いることにより一般に基板より低い屈折� ��を得られやすい。従って、透明基板として� ��、PET等の高い屈折率の材料を用いることが� ��ましい。このため、ハードコート層は、屈� ��率を、1.60以下にすることが好ましい。膜厚 は前記の通りである。

 高屈折率層は、ポリマー(好ましくは紫外線 硬化性樹脂)中に、ITO,ATO,Sb ₂ O ₃ ,SbO ₂ ,In ₂ O ₃ ,SnO ₂ ,ZnO、AlをドープしたZnO、TiO ₂ 等の導電性金属酸化物微粒子(無機化合物)が� ��散した層(硬化層)とすることが好ましい。� �属酸化物微粒子としては、平均粒径10~10000nm� ��好ましくは10~50nmのものが好ましい。特にITO (特に平均粒径10~50nmのもの)が好ましい。屈折 率を1.64以上としたものが好適である。膜厚� �一般に10~500nmの範囲、好ましくは20~200nmであ� ��。
 なお、高屈折率層が導電層である場合、こ� ��高屈折率層2の屈折率を1.64以上とすること� �より反射防止フィルムの表面反射率の最小� �射率を1.5%以内にすることができ、1.69以上、 好ましくは1.69~1.82とすることにより反射防止 フィルムの表面反射率の最小反射率を1.0%以� �にすることができる。
 低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微� ��子、好ましくは中空シリカを10~40重量%(好ま しくは10~30質量%)がポリマー(好ましくは紫外� ��硬化性樹脂)中に分散した層(硬化層)である� ��とが好ましい。この低屈折率層の屈折率は� ��1.45~1.51が好ましい。この屈折率が1.51超であ ると、反射防止フィルムの反射防止特性が低 下する。膜厚は一般に10~500nmの範囲、好まし� ��は20~200nmである。
 中空シリカとしては、平均粒径10~100nm、好� �しくは10~50nm、比重0.5~1.0、好ましくは0.8~0.9� �ものが好ましい。
 ハードコート層は、可視光線透過率が85%以� ��であることが好ましい。高屈折率層及び低� ��折率層の可視光線透過率も、いずれも85%以� ��であることが好ましい。
 反射防止層がハードコート層と上記2層より 構成される場合、例えば、ハードコート層の 厚さは2~20μm、高屈折率層の厚さは75~90nm、低� ��折率層の厚さは85~110nmであることが好まし� �。

 反射防止層の、各層を形成するには、例え� ��、前記の通り、ポリマー(好ましくは紫外線 硬化性樹脂)に必要に応じ上記の微粒子を配� �し、得られた塗工液を、前記の矩形透明基� �表面に塗工し、次いで乾燥した後、紫外線� �射して硬化すればよい。この場合、各層を1� ��ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工� ��た後、まとめて硬化させてもよい。
 塗工の具体的な方法としては、アクリル系� ��ノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエ� ��等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコ� ��タ等によりコーティングし、その後乾燥し� ��次いで紫外線により硬化する方法を挙げる� ��とができる。このウェットコーティング法� ��あれば、高速で均一に且つ安価に成膜でき� ��という利点がある。このコーティング後に� ��えば紫外線を照射して硬化することにより� ��着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が� ��られる。前記導電層も同様に形成すること� ��できる。
 紫外線硬化の場合は、光源として紫外~可視 領域に発光する多くのものが採用でき、例え ば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルラン プ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マー キュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯 、白熱灯、レーザ光等を挙げることができる 。照射時間は、ランプの種類、光源の強さに よって一概には決められないが、数秒~数分� �度である。また、硬化促進のために、予め� �層体を40~120℃に加熱し、これに紫外線を照� �してもよい。
 前述のようにハードコート層の代わりに防� ��層を設けることも好ましい。反射防止効果� ��大きいものが得られやすい。防眩層は、例� ��ば、バインダ(インクメジウム)に顔料微粒� �(例、カーボンブラック、黒色酸化鉄等)を分 散させた液、又はポリマー微粒子(例、アク� �ルビーズ)等の透明フィラー(好ましくは平均 粒径1~10μm)をバインダに分散させた液を塗布� ��乾燥することにより、或いは金属層を硫化� ��理等の黒化処理により金属硫化物よりなる� ��眩層を形成する。或いは、前述のハードコ� ��ト層形成用材料に透明フィラー(ポリマー微 粒子;例、アクリルビーズ)を加えた液を塗布� ��硬化させた、ハードコート機能を有する防� ��層が好ましい。防眩層の層厚は、一般に0.01 ~1μmの範囲である。

 近赤外線吸収層は、一般に、透明基板の表� ��に色素等を含む層が形成することにより得� ��れる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素� ��びバインダ樹脂等を含む紫外線硬化性又は� ��子線硬化性の樹脂、或いは熱硬化性樹脂を� ��む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして� ��化させることにより得られる。或いは上記� ��素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工� ��そして単に乾燥させることによっても得ら� ��る。フィルムとして使用する場合は、一般� ��近赤外線カットフィルムであり、例えば色� ��等を含有するフィルムである。色素として� ��、一般に800~1200nmの波長に吸収極大を有する もので、例としては、フタロシアニン系色素 、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体 系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系 色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素 、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウ ム系色素、アミニウム系色素、アントラキノ ン系色素、を挙げることができ、特にシアニ ン系色素又はスクアリリウム系色素が好まし い。これらの色素は、単独又は組み合わせて 使用することができる。バインダ樹脂の例と しては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙 げることができる。
 本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発� ��の吸収機能を付与することにより色調の調� ��機能を持たせても良い。このために、ネオ� ��発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線� ��収層にネオン発光の選択吸収色素を含有さ� ��ても良い。
 ネオン発光の選択吸収色素としては、シア� ��ン系色素、スクアリリウム系色素、アント� ��キノン系色素、フタロシアニン系色素、ポ� ��メチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニ� ��ム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリ� ��ェニルメタン系色素を挙げることができる� ��このような選択吸収色素は、585nm付近のネ� �ン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波� �において吸収が小さいことが必要であるた� �、吸収極大波長が575~595nmであり、吸収スペ� �トル半値幅が40nm以下であるものが好ましい� ��
 また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を� ��数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問� ��がある場合、混合による色素間の反応ある� ��合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる� ��合には、すべての近赤外線吸収色素を同一� ��層に含有させる必要はなく、別の層に含有� ��せても良い。
 また、光学特性に大きな影響を与えない限� ��、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸� ��防止剤等を加えても良い。
 本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性� ��しては、850~1000nmの透過率を、20%以下、さら に15%するのが好ましい。また選択吸収性とし ては、585nmの透過率が50%以下であることが好� ��しい。特に前者の場合には、周辺機器のリ� ��コン等の誤作動が指摘されている波長領域� ��透過度を減少させる効果があり、後者の場� ��は、575~595nmにピークを持つオレンジ色が色� ��現性を悪化させる原因であることから、こ� ��オレンジ色の波長を吸収させる効果があり� ��これにより真赤性を高めて色の再現性を向� ��させたものである。
 近赤外線吸収層の層厚は、0.5~50μmが一般的� ��ある。

 端部に露出した金属導電層をそのまま電極� ��として使用しても良いが、ディスプレイ側� ��金属カバー等との接触を容易にするために� ��露出した金属導電層上に導電性テープを貼� ��付けて電極部を設けても良い。
 縁部に露出した金属導電層に導電性粘着テ� ��プ貼付する場合、その導電性粘着テープと� ��ては、金属箔の一方の面に、導電性粒子を� ��散させた粘着層を設けたものであって、こ� ��粘着層には、アクリル系、ゴム系、シリコ� ��系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹� ��に硬化剤を配合したものを用いることがで� ��る。
 粘着層に分散させる導電性粒子としては、� ��気的に良好な導体であればよく、種々のも� ��を使用することができる。例えば、銅、銀� ��ニッケル等の金属粉体、このような金属で� ��覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用� ��ることができる。また、その形状について� ��特に制限はなく、リン片状、樹枝状、粒状� ��ペレット状等の任意の形状をとることがで� ��る。
 この導電性粒子の配合量は、粘着層を構成� ��るポリマーに対し0.1~15容量%であることが好 ましく、また、その平均粒径は0.1~100μmであ� �ことが好ましい。このように、配合量及び� �径を規定することにより、導電性粒子の凝� �を防止して、良好な導電性を得ることがで� �るようになる。
 導電性粘着テープの基材となる金属箔とし� ��は、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ス� ��ンレス等の箔を用いることができ、その厚� ��は通常の場合、1~100μmである。
 粘着層は、この金属箔に、前記粘着剤と導� ��性粒子とを所定の割合で均一に混合したも� ��をロールコーター、ダイコーター、ナイフ� ��ーター、マイカバーコーター、フローコー� ��ー、スプレーコーター等により塗工するこ� ��により容易に形成することができる。
 この粘着層の厚さは通常の場合5~100μmであ� �。
 導電性粘着テープの代わりに、上記粘着層� ��構成する材料からなる接着剤を導電層の露� ��部に塗布し、その上に上記導電性テープを� ��付しても良い。

 本発明の透明粘着剤層は、本発明の光学フ� ��ルムをディスプレイに接着するための層で� ��り、接着機能を有するものであればどのよ� ��な樹脂でも使用することができる。例えば� ��ブチルアクリレート等から形成されたアク� ��ル系粘着剤、ゴム系粘着剤、SEBS(スチレン/� ��チレン/ブチレン/スチレン)及びSBS(スチレン /ブタジエン/スチレン)等の熱可塑性エラスト マー(TPE)を主成分とするTPE系粘着剤及び接着� ��等も用いることができる。
 その層厚は、一般に5~500μm、特に10~100μmの� �囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上� �粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱� �着することによる装備することができる。

 本発明において透明基板2枚を使用する場合 、これらの接着(粘着剤層)には、例えば、エ� ��レン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-アク� �ル酸メチル共重合体、アクリル樹脂(例、エ� ��レン-(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン- (メタ)アクリル酸エチル共重合体、エチレン- (メタ)アクリル酸メチル共重合体、金属イオ� ��架橋エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体)、 部分鹸化エチレン-酢酸ビニル共重合体、カ� �ボキシル化エチレン-酢酸ビニル共重合体、� ��チレン-(メタ)アクリル-無水マレイン酸共重 合体、エチレン-酢酸ビニル-(メタ)アクリレ� �ト共重合体等のエチレン系共重合体を挙げ� �ことができる(なお、「(メタ)アクリル」は� �アクリル又はメタクリル」を示す。)。その� ��、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂、エポキ� �樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポ� �エステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着� �、SEBS及びSBS等の熱可塑性エラストマー等も� ��いることができるが、良好な接着性が得ら� ��やすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキ� ��樹脂である。
 その層厚は、一般に10~50μm、好ましくは、20 ~30μmの範囲が好ましい。光学フィルタは、一 般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板 に加熱圧着することによる装備することがで きる。
 前記透明粘着剤層の材料として、EVAも使用� ��る場合、EVAとしては酢酸ビニル含有量が5~50 重量%、好ましくは15~40重量%のものが使用さ� �る。酢酸ビニル含有量が5重量%より少ないと 透明性に問題があり、また40重量%を超すと機 械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難 となり、フィルム相互のブロッキングが生じ 易い。
 架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機� ��酸化物が適当であり、シート加工温度、架� ��温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。� ��用可能な過酸化物としては、例えば2,5-ジメ チルヘキサン-2,5-ジハイドロパーオキサイド; 2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキ� �ン-3;ジ-t-ブチルパーオキサイド;t-ブチルク� �ルパーオキサイド;2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチ� ��パーオキシ)ヘキサン;ジクミルパーオキサ� �ド;α,α’-ビス(t-ブチルパーオキシイソプロ� ��ル)ベンゼン;n-ブチル-4,4-ビス(t-ブチルパー� ��キシ)バレレート;2,2-ビス(t-ブチルパーオキ� ��)ブタン;1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)シクロ ヘキサン;1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)-3,3,5-� �リメチルシクロヘキサン;t-ブチルパーオキ� �ベンゾエート;ベンゾイルパーオキサイド;第 3ブチルパーオキシアセテート;2,5-ジメチル-2, 5-ビス(第3ブチルパーオキシ)ヘキシン-3;1,1-ビ ス(第3ブチルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシ� �ロヘキサン;1,1-ビス(第3ブチルパーオキシ)シ クロヘキサン;メチルエチルケトンパーオキ� �イド;2,5-ジメチルヘキシル-2,5-ビスパーオキ� ��ベンゾエート;第3ブチルハイドロパーオキ� �イド;p-メンタンハイドロパーオキサイド;p-� �ロルベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパ ーオキシイソブチレート;ヒドロキシヘプチ� �パーオキサイド;クロルヘキサノンパーオキ� ��イド等を挙げることができる。これらの過� ��化物は1種を単独で又は2種以上を混合して� �通常EVA100重量部に対して、5質量部以下、好� ��しくは0.5~5.0質量部の割合で使用される。
 有機過酸化物は通常EVAに対し押出機、ロー� ��ミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤� ��ビニルモノマー等に溶解し、EVAのフィルム� ��含浸法により添加しても良い。
 なお、EVAの物性(機械的強度、光学的特性、 接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など)� �良のために、各種アクリロキシ基又はメタ� �リロキシ基及びアリル基含有化合物を添加� �ることができる。
 なお、本発明に係るEVA接着層には、その他� ��シランカップリング剤、紫外線吸収剤、赤� ��線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着� ��剤等を少量含んでいてもよく、また、場合� ��よってはカーボンブラック、疎水性シリカ� ��炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも� ��い。
 上記接着のための粘着剤層は、例えばEVAと� ��述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等� ��混練した後、カレンダー、ロール、Tダイ押 出、インフレーション等の成膜法により所定 の形状にシート成形することにより製造され る。
 反射防止層上には、保護層を設けても良い� ��保護層は、前記ハードコート層と同様にし� ��形成することが好ましい。

 透明粘着剤層上に設けられる剥離シート� ��材料としては、ガラス転移温度が50℃以上� �透明のポリマーが好ましく、このような材� �としては、ポリエチレンテレフタレート、� �リシクロヘキシレンテレフタレート、ポリ� �チレンナフタレート等のポリエステル系樹� �、ナイロン46、変性ナイロン6T、ナイロンMXD6 、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、 ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテ ルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフ ォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォ ン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポ リアリレート、ポリエーテルイミド、ポリア ミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチル メタクリレート、トリアセチルセルロース、 ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポ リマーを主成分とする樹脂を用いることがで きる。これら中で、ポリカーボネート、ポリ メチルメタアクリレート、ポリビニルクロラ イド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタ レートが好適に用いることができる。厚さは 10~200μmが好ましく、特に30~100μmが好ましい。

 本発明の光学フィルタが、ディスプレイの1 種であるプラズマディスプレイパネルの画像 表示面に貼付された状態の1例を図12に示す。 ディスプレイパネル50の表示面の表面に透明� ��着剤層55を介して光学フィルタが接着され� �いる。即ち、透明基板52の一方の表面に、メ ッシュ状導電層53、ハードコート層56、低屈� �率層等の反射防止層57がこの順で設けられ、 透明基板52の他方の表面には近赤外線吸収層5 4及び透明粘着剤層55が設けられた光学フィル タが表示面に設けられている。そしてフィル タの縁部(側縁部)に、メッシュ状導電層53’� �露出している。この露出したメッシュ状導� �層53’にプラズマディスプレイパネル50の周� ��に設けられた金属カバー59に板バネ状金属� �品58を介して接触状態にされている。板バネ 状金属部品の代わりに、導電性ガスケット等 が用いても良い。これにより、光学フィルタ と金属カバー59が導通し、アースが達成され� ��。金属カバー59は金属枠、フレームでも良� �。図12から明らかなように、メッシュ状導電 層53は、視聴者側を向いている。金属カバー5 9は、導電層53の縁部の縁部から2~20mm程度覆っ ている。また金属カバー59の形状を変更して� ��金属カバー59をメッシュ状導電層53’に直接 接触するようにしても良い。
 本発明のPDP表示装置は、一般に透明基板と� ��てプラスチックフィルムを使用しているの� ��、上記のように本発明の光学フィルタをそ� ��表面であるガラス板表面に直接貼り合わせ� ��ことができるため、特に透明基板を1枚使用 した場合は、PDP自体の軽量化、薄型化、低コ スト化に寄与できる。また、PDPの前面側に透 明成形体からなる前面板を設置する場合に比 べると、PDPとPDP用フィルタとの間に屈折率の 低い空気層をなくすことができるため、界面 反射による可視光反射率の増加、二重反射な どの問題を解決でき、PDPの視認性をより向上 させることができる。
 従って、本発明の光学フィルタを有するデ� ��スプレイは、アースが容易であるばかりで� ��く、優れた反射防止効果、帯電防止性の付� ��、危険な電磁波の放射の抑制も容易である� ��