〔実施形態1〕
 本発明の一実施形態について図1ないし図12� ��基づいて説明すると以下の通りである。

 まず、本発明の光情報記録媒体に対して� ��報の記録再生を行うことが可能な記録再生� ��置について、その主な構成を説明する。

 記録再生装置は、レーザ光源と、集光光� ��手段と、相対運動手段と、光電変換手段と� ��サーボ手段と、アドレス情報検出手段と、� ��生信号復調回路とを有する。

 レーザ光源としては、例えば波長406nmの� �を発する半導体レーザ等を用いることがで� �る。

 集光光学手段は、レーザ装置から発生さ� ��たレーザ光をビーム状にして光情報記録媒� ��上に集光するもので、集光レンズ、ビーム� ��プリッタ等の光学部品を含んでいる。

 相対運動手段は、集光光学手段と光情報� ��録媒体とを相対運動させるもので、リニア� ��クチュエータやスイングアーム等からなる� ��その運動は、光情報記録媒体が回転または� ��行移動する運動と、上記集光光学手段に含� ��れる集光レンズが、その光軸に直角方向に� ��動する運動との少なくとも一方を含む。

 光電変換手段は、光情報記録媒体からの� ��射光レベルの高低を電気信号に変換するも� ��で、サーボ手段は、レーザ光のオートフォ� ��カス及びトラッキングを行うものである。

 アドレス情報検出手段は、光情報記録媒� ��上に設けられたアドレス情報マークを再生� ��ることにより得られる電気信号から、アド� ��ス情報を検出するもので、再生信号復調回� ��は、光情報記録媒体の反射光より記録情報� ��再生するものである。

 これら構成部材のうち、レーザ光源、集� ��光学手段、光電変換手段、および、サーボ� ��段は、上記相対運動手段によって光情報記� ��媒体と相対運動を行う光学ヘッド内に収納� ��れている。レーザ光源と光電変換手段とを� ��集光光学手段とは別のケースに収めること� ��可能である。

 また、記録再生装置においては、集光さ� ��るレーザ光と光情報記録媒体とのなす角度� ��調節するための手段をさらに備えておくこ� ��が好ましく、これによれば、収差の発生に� ��る光スポットの劣化をも防止することがで� ��る。

 図2は、このような記録再生装置に光学ヘ ッドとして搭載される、光情報記録媒体が円 盤状の光ディスクである場合の一般的な光学 系の構成図を示す。光学系は、半導体レーザ 61、コリメートレンズ62、ビーム整形プリズ� �63、ビームスプリッタ64、対物レンズ65、及� �検出光学系67を備えている。

 光源である半導体レーザ61からのレーザ� �は、コリメートレンズ62によってほぼ平行光 に変換され、ビーム整形プリズム63によって� ��強度の分布をほぼ円形に整形される。この� ��ぼ円形の平行光はビームスプリッタ64を透� �した後、対物レンズ65によって光情報記録媒 体66に集光される。この反射光はビームスプ� ��ッタ64で分岐され、検出光学系67に導かれる 。

 スピンドルモータ68は、光情報記録媒体66 を回転させることにより、光スポットを光情 報記録媒体66上で走査させる。検出光学系67� �、反射光の偏光方向の変化や反射光強度の� �化などから信号を識別し、光情報記録媒体66 上に記録された記録マークを読み取るのと同 時に、光スポットの光情報記録媒体66に対し� ��の焦点ずれ信号とトラック位置ずれ信号と� ��検出し、対物レンズ65の駆動系にフィード� �ックすることにより光スポットの位置ずれ� �補正する。対物レンズの開口数(NA)は、例え� ��0.85に設定する。

 このような光情報記録再生装置において� ��、光情報記録媒体66として、超解像媒体技� �を採用した本発明に係る光情報記録媒体と� �超解像媒体技術を用いない通常の光情報記� �媒体との両方を記録再生できることが望ま� �い。そこで、上記光情報記録再生装置では� �本発明に係る光情報記録媒体の場合と、通� �の光情報記録媒体の場合とで、検出器のゲ� �ン、再生光強度、記録光強度、記録波形、� �情報記録媒体の回転数などをそれぞれ切り� �えることができるように構成されている。� �し、これらは電気的に制御できる範囲であ� �ため、通常媒体のみを記録再生する装置と� �べて、光学系に大きな変更を施す必要はな� �。

 次に、本発明に係る超解像媒体技術を用� ��た光情報記録媒体について説明する。図3は 、本実施形態に係る光情報記録媒体1の概略� �成を示す断面図である。

 光情報記録媒体1は、図3に示されるよう� �、透光層10と、薄膜部20と、基板30とを備え� �再生光入射面からこの順に形成されている� �

 透光層10は、再生光が充分に透過できる� �料であればよく、例えば、ポリカーボネー� �フィルム、紫外線硬化樹脂等から形成され� �。これにより、外的要因による薄膜部20の破 壊を防ぐことが可能となる。

 基板30は、図4に示されるように、記録情� ��に対応した凹凸形状のプリピット(ピット)31 が、同心円状、または、スパイラル状に形成 されている。基板30を構成する材料の光学的� ��性は、特に限定されるものではなく、透明� ��も不透明であってもよい。基板30を構成す� �材料としては、例えば、ガラス、ポリカー� �ネート、アモルファスポリオレフィン、熱� �塑型ポリイミド、PET、PEN、PES等の熱可塑性� �明樹脂、熱硬化型ポリイミド、紫外線硬化� �アクリル樹脂等の熱硬化性透明樹脂、金属� �、およびそれらの組合せが挙げられる。

 薄膜部20は、再生層21と、光吸収層22とを� ��え、再生光入射面からこの順に形成されて� ��る。なお、薄膜部20は、再生層21と、光吸収 層22とによって形成されているが、これらの� ��にも、例えば、光吸収層22と基板30との間に 、再生光を反射する反射層を備えていてもよ い。

 再生層21は、温度が上昇すると、再生光� �波長における光学定数である、屈折率nおよ� ��消衰係数kを変化させ、光学多重干渉を生じ させる。光吸収層22は、再生光の一部を吸収� ��て熱に変換することで、再生層21の温度を� �昇させる。

 具体的には、光吸収層22は、光情報記録� �体1に再生光が入射されると、再生光の一部� ��吸収し、熱に変換する。この熱は、再生層2 1に供給されると、該再生層21上の再生光の光 スポット領域内に、高温領域と低温領域とを 生じさせる。この温度分布に対応して、高温 領域では、再生層21の光学定数である、屈折� ��nおよび消衰係数kがそれぞれ変化すること� �よって、複素屈折率が変化する。これに伴� �、再生層21での光学多重干渉の状態が変化し 、その結果、再生層21の反射率が変化する。

 従って、再生光の入射強度に応じて光ス� ��ット内の一部の反射率が変化することによ� ��て、光スポット領域内にあり、光スポット� ��りも小さい記録マークを強調して読み取る� ��とができる。結果として、実効再生スポッ� ��を縮小できるため、超解像再生が可能にな� ��とともに、記録密度を向上させることが可� ��となると考えられる。

 また、再生層21を構成する材料としては� �温度変化によって化学的な構造変化が繰り� �された場合であっても、組成または形状が� �化しにくく、耐久性に優れていることから� �金属酸化物が挙げられる。具体的には、例� �ば、酸化亜鉛、酸化すず、酸化インジウム� �酸化ニッケル、酸化バナジウム、酸化チタ� �、酸化セリウム、チタン酸ストロンチウム� �酸化コバルト、酸化タンタル等が挙げられ� �。これらのうちでも、安価であり、環境に� �して負荷の少ない酸化亜鉛が特に好ましい� �また、これらを主成分とした混合物でも良� �。

 さらに、再生層21の膜厚は、実験および� �論値より、80nm以上120nm未満であることが好� �しい。なお、再生層21の膜厚については、後 で詳しく述べる。

 また、光吸収層22を構成する材料として� �、光吸収がある程度あって、再生層21の温度 を効果的に上昇させるものであればよく、例 えば、Si、Ge等の半導体または半金属、相変� �材料、有機色素等が挙げられる。特に、有� �色素は高価であり、相変化材料は管理が難� �いため、Si、Ge等の半導体または半金属がよ� ��、その中でも安価な、SiもしくはGe、または 、SiもしくはGeを主成分とした混合物が好ま� �い。

 さらに、光吸収層22は、プリピット31の凹 凸が反映された状態となるように、基板30上� ��形成される。光吸収層22は、通常、マグネ� �ロンスパッタ法によって形成されるが、ス� �ッタによって蒸発した光吸収層22を形成する 原子は、基板30上に対して、完全に垂直に入� ��するとは限らない。このため、光吸収層22� �膜厚を500nmより厚くすると、プリピット31の� ��凸を、正確に反映できなくなってしまう虞� ��ある。従って、光吸収層22の膜厚は、500nm以 下であることが好ましい。なお、光吸収層22� ��膜厚については、後で詳しく述べる。

 再生層21の膜厚が、上述のように、80nm以� ��120未満に設定されていることによって、室� ��時(30℃)における該薄膜部20の反射率の波長� ��布は、図1に示されるように、隣り合う極小 値および極大値をそれぞれ、λminおよびλmax� �し、再生光の波長をλrとしたとき、λmin<λ r<λmaxとなる。

 この場合、薄膜部20を形成する再生層21の 屈折率nは、高温になるほど増加する。これ� �伴い、高温時(200℃)における薄膜部20の反射� ��の波長分布は、図1に示されるように、室温 時の波長分布に比べ、長波長側にシフトされ る。このため、再生光の波長λrにおいて、高 温時における薄膜部20の反射率は、室温時の� ��射率に比べて低下している。さらに、再生� ��21の消衰係数kは、高温になるほど増加する� ��め、これに伴い、該再生層21の透過率を減� �させる。このため、再生光の波長λrにおい� �、薄膜部20の反射率を低下させるように働く 。従って、室温時における薄膜部20の反射率� ��波長分布がλmin<λr<λmaxとなっている場� ��には、再生光の光スポットの高温領域にお� ��て、屈折率nおよび消衰係数kは、ともに該� �膜部20の反射率の変化を増強させるように働 く。

 なお、再生層21の膜厚は、80nm以上120nm未� �に設定されていることが好ましいが、80nm未� ��、または、120nm以上に設定されることによ� �ても、室温時における薄膜部20の反射率の波 長分布を、λmin<λr<λmaxとなるようにする ことが可能である。

 しかしながら、再生層21の膜厚が80nm未満� ��なった場合には、光学多重干渉の効果を充� ��に得ることができないため、安定した超解� ��再生を行うことができない虞がある。また� ��再生層21の膜厚が120nm以上となった場合には 、薄膜部20の反射率の波長依存性において、� ��反射率の極小値が400nm付近になる虞がある� �このとき、例えば、Blu-ray光学系を使用した� ��合、再生光の波長と、反射率の極小値をと� ��波長とが近い値となる。このため、光情報� ��録媒体を再生するときに、必要とされる反� ��光を充分に得られなくなり、フォーカスが� ��かりにくくなってしまう。さらに、光情報� ��録媒体の再生するときに、光吸収層22から� �給される熱を充分に得られなくなるため、� �生感度が低下する虞がある。

 従って、再生層21の膜厚は、80nm以上120nm� �満に設定されることが好ましい。

 一方、図5は、再生層21の膜厚が144nmであ� �場合の、室温時(30℃)における該薄膜部20の� �射率の波長分布を示している。図5に示され� ��ように、波長分布の隣り合う極小値λminお� �び極大値λmaxと、再生光の波長λrとの関係は 、λmax≦λr≦λminとなる。

 この場合も、薄膜部20を形成する再生層21 の屈折率nは、高温になるほど増加する。こ� �に伴い、高温時(200℃)における薄膜部20の反� ��率の波長分布は、図5に示されるように、室 温時の波長分布に比べ、長波長側にシフトさ れる。このため、再生光の波長λrにおいて、 高温時における薄膜部20の反射率は、室温時� ��反射率に比べて増加している。一方、再生� ��21の消衰係数kは、高温になるほど増加する� ��め、これに伴い、該再生層21の透過率を減� �させる。このため、再生光の波長λrにおい� �、薄膜部20の反射率を低下させるように働く 。従って、室温時における薄膜部20の反射率� ��波長分布がλmax≦λr≦λminとなっている場合 には、再生光の光スポットの高温領域におい て、屈折率nおよび消衰係数kは、薄膜部20の� �射率の変化を増強させていないことがわか� �。

 上述のように、室温時における薄膜部20� �反射率の波長分布がλmin<λr<λmaxとなっ� �いる場合、上記屈折率nおよび消衰係数kは、 薄膜部20の反射率の低下を増強させるように� ��くため、ジッタを低減させることが可能と� ��る。すなわち、光情報記録媒体1は、安定し た超解像再生を効率的に行うことができるた め、該光情報記録媒体1の再生感度を向上さ� �ることが可能となる。

 また、光情報記録媒体1の薄膜部20は、再� ��層21と光吸収層22とに分離形成されている。 これにより、薄膜部20内において役割が分担� ��れているため、再生耐久性を向上させるこ� ��が可能となる。

 さらに、室温時における薄膜部20の反射� �の波長分布は、再生層21の膜厚によって適宜 変更することが可能である。従って、光情報 記録媒体1の反射率制御を容易に行うことが� �きるため、該光情報記録媒体1の生産コスト� ��減少させることが可能となる。

 なお、室温時における薄膜部20の反射率� �波長分布がλmin<λr<λmaxとなるように再� �層21の膜厚を設定することによって、ジッタ が低減されることに関して、以下に、実施例 を示すことにより詳細に説明する。

 (実施例)
 光情報記録媒体2は、図6に示されるように� �光情報記録媒体1の実施例1であり、該光情報 記録媒体1のもっとも好適な例である。光情� �記録媒体2は、透光層10と、薄膜部20と、基板 30とを備え、再生光入射面からこの順に形成� ��れている。

 透光層10は、ポリカーボネートフィルム11 (膜厚:80μm)と、透明粘着層12(膜厚:20μm)とを備 え、再生光入射面からこの順に形成されてい る。薄膜部20は、酸化亜鉛からなる再生層21(� ��厚:111nm)と、Geからなる光吸収層22(膜厚:50nm)� ��を備え、再生光入射面からこの順に形成さ� ��ている。基板30は、ポリオレフィン系樹脂� �形成されている。

 なお、上記構成において、実施例1におけ る光情報記録媒体2の薄膜部20の膜厚は、λmin& lt;λr<λmaxの関係が成り立つように設定され ている。

 また、光情報記録媒体3は、図7に示され� �ように、光情報記録媒体1の比較例1であり、 透光層10と、薄膜部20と、基板30とを備え、再 生光入射面からこの順に形成されている。

 透光層10は、ポリカーボネートフィルム11 (膜厚:80μm)と、透明粘着層12(膜厚:20μm)とを備 え、再生光入射面からこの順に形成されてい る。薄膜部20は、酸化亜鉛からなる再生層21(� ��厚:144nm)と、Geからなる光吸収層22(膜厚:50nm)� ��を備え、再生光入射面からこの順に形成さ� ��ている。基板30は、ポリオレフィン系樹脂� �形成されている。すなわち、光情報記録媒� �3の再生層21の膜厚は、光情報記録媒体2の再� ��層21の膜厚よりも厚く、120nm以上に設定され ている。なお、上記構成において、比較例1� �おける光情報記録媒体3の薄膜部20の膜厚は� �λmax≦λr≦λminの関係が成り立つように設定� ��れている。

 ここで、光情報記録媒体2および3は、例� �ば、以下の方法により作製される。

 まず、5×10 ^-4 (Pa)以下まで排気されたスパッタ装置内にお� �て、0.05mm厚のポリオレフィン系樹脂からな� �基板30上に、直径3インチのGeをターゲットと して配置した後、スパッタ装置内にアルゴン ガスを送り込み、高周波電力200Wを供給する� �これにより、基板30上に、Geからなる膜厚50nm の光吸収層22が形成される。

 次に、スパッタ装置内に酸化亜鉛をター� ��ットとして配置した後、アルゴンおよび酸� ��(アルゴン流量:酸素流量=16:1)の混合ガスを� �り込み、高周波電力200Wを供給する。これに� ��り、光吸収層22上に、酸化亜鉛からなる膜� �111nm(または、144nm)の再生層21が形成され、結 果、基板30上に薄膜部20が形成される。

 その後、基板30上に薄膜部20が形成された ディスクを大気中に取り出し、該薄膜部20上� ��は、膜厚80nmのポリカーボネートフィルム11� ��、膜厚20nmの透明粘着層12を用いて貼り合わ� ��る。これにより、薄膜部20上に透光層10が形 成される。このようにして、光情報記録媒体 2および3が作製される。

 また、光情報記録媒体4は、図8に示され� �ように、光情報記録媒体2に対する比較例2で あり、超解像媒体技術を用いない通常の光情 報記録媒体を示している。

 光情報記録媒体4は、透光層10と、薄膜層� ��部40と、基板30とを備え、再生光入射面から この順に形成されている。

 透光層10は、ポリカーボネートフィルム11 (膜厚:80μm)と、透明粘着層12(膜厚:20μm)とを備 え、再生光入射面からこの順に形成されてい る。Auからなる薄膜層状部40の膜厚は、50nmで� ��る。また、基板30は、ポリオレフィン系樹� �で形成されている。

 さらに、光情報記録媒体5は、図9に示さ� �るように、光情報記録媒体2に対する比較例3 であり、特許文献3に記載の超解像光情報記� �媒体を示している。

 光情報記録媒体5は、透光層10と、薄膜層� ��部50と、基板30とを備え、再生光入射面から この順に形成されている。

 透光層10は、ポリカーボネートフィルム11 (膜厚:80μm)と、透明粘着層12(膜厚:20μm)とを備 え、再生光入射面からこの順に形成されてい る。Geからなる薄膜層状部50の膜厚は、50nmで� ��る。また、基板30は、ポリオレフィン系樹� �で形成されている。

 また、光情報記録媒体2、3、4および5を形 成する基板30には、図4に示されるように、光 回折限界以下であるマーク長0.12μmからなる� �モノトーンパターン方式が採用されており� �単一周波数繰り返し位相ピット(マーク・ス� ��ース比1:1)が記録されている。

 さらに、本実施例では、ランダムパター� ��方式に従い、光学回折限界以下の長さで、� ��も短いマーク(0.12μm)となる最小長さのプリ� ��ットと、その長さを基準に、数種類の長さ� ��もつプリピットが、規格によって定められ� ��規則にしたがって、信号再生する方向に順� ��配置されている。つまり、本実施例では、� ��も短いマーク長(0.12μm)を基準に数種類の長� ��を持つプリピットを規格に準じて配置する� ��め、光回折限界以下のマーク長となるプリ� ��ットと、光回折限界より長いマーク長を持� ��プリピットが混在する。すなわち、再生装� ��の光学系解像限界以下の記録マーク長を含� ��プリピットと、再生装置の光学系解像限界� ��り長い記録マーク長からなるプリピットと� ��混在し、これらプリピットがランダムパタ� ��ン方式にて情報が記録されている。

 まず、実施例1、比較例2および比較例3の� ��情報記録媒体において、再生信号のC/Nを測� ��した結果を示す。このとき、それぞれの光� ��報記録媒体に記録されたプリピットであり� ��光回折限界以下のマークで長さが0.12μmであ るモノトーンパターン方式のプリピットを再 生した場合のC/Nを測定した。また、測定は、 波長406nm、対物レンズの開口数NA0.85、再生光� ��ーザパワーの上限が2.0mWの光ディスク評価� �で行った。

 再生光レーザパワーが増加し、飽和する� ��きのC/Nを表す到達C/Nは、実施例1では42dB、� �較例2では10dB、比較例3では39dBであった。一� ��に、到達C/Nが30dB以上あれば、光情報記録媒 体の実用化が可能であると言われている。従 って、比較例2は、超解像媒体技術を用いな� �通常の光情報記録媒体であるため、光限界� �下のマーク長の再生ができていない一方、� �施例1および比較例3では、超解像再生が可能 であることがわかる。

 次に、上記ディスク評価器において、実� ��例1、および比較例1ないし3のジッタを測定� ��た結果を示す。このとき最小長さのプリピ� ��ト(マーク長0.12μm)を基準として、数種類の� ��リピットが形成されている、ランダムパタ� ��ン方式のプリピットを再生した場合のジッ� ��を測定した。

 図10は、実施例1、および比較例1ないし3� �、再生光レーザパワーに対するジッタの変� �を示している。

 まず、実施例1と比較例2とを比較する。� �施例1のジッタ底値は、比較例2のジッタ底値 より約7%低減されている。すなわち、光回折� ��界以下の長さのマークをもつランダムパタ� ��ン方式の光情報記録媒体2は、比較例2より� �、安定した超解像再生を効率的に行うこと� �可能であることがわかる。

 次に、実施例1と比較例1とを比較する。� �記のように、実施例1および、比較例1ともに 、ジッタ底値はほとんど変わらない。しかし ながら、ジッタが底値となるのは、実施例1� �は、再生レーザパワーが0.5mWのときであり、 比較例1では、該再生光レーザパワーが1.6mWの ときである。すなわち、実施例1での再生光� �ーザパワーは、比較例1での再生光レーザパ� ��ーの1/3以下で、ジッタ底値となっているこ� ��がわかる。従って、実施例1の光情報記録媒 体2は、比較例1の光情報記録媒体3と比べ、低 電力で安定した超解像再生を可能とする。

 さらに、実施例1と比較例3とを比較する� �実施例1と比較例3とは、モノトーンパターン 方式で記録され、光回折限界以下の長さのプ リピットを再生した場合のC/Nは、良好なC/N値 が得られており、超解像再生が可能であるこ とがわかった。

 しかしながら、比較例3は、超解像再生が できない比較例2と比較して、図10に示される ように、光回折限界以下の長さのマークをも つランダムパターン方式では、ジッタが低減 されていないことがわかる。すなわち、比較 例3では、光回折限界以下の長さであるマー� �の単一周波数繰り返し位相ピット(モノトー� ��パターン方式)の再生において、良好なC/Nが 得られたとしても、光回折限界以下の長さと 、光回折限界以上の長さのマークを持つラン ダムパターン方式ではジッタが低減されてい ない。これより、光回折限界以下の長さのマ ークと光回折限界以上の長さのマークが混在 するランダムパターン方式にて情報が記録さ れた光情報記録媒体では、C/Nとジッタとの間 に必ずしも相関関係が成立するとは限らない と言える。

 つまり、光回折限界以下の長さのマーク� ��良好なC/Nが得られるということは、光回折� ��界以下の長さの同一のマークのみにより情� ��が記録された超解像媒体の再生特性を保障� ��ているが、より高密度に記録可能であるラ� ��ダムパターン方式で情報が記録されている� ��解像媒体の再生特性に対しては何ら保障し� ��いないことになる。このことは、記録密度� ��より高密度なランダムパターン方式に対応� ��た超解像光情報記録媒体において、光回折� ��界以下の長さの記録マークと、光回折限界� ��上の長さの記録マークとを再生評価する場� ��には、ジッタによる評価が重要であること� ��示している。

 実施例1に係る光情報記録媒体2は、室温� �における薄膜部20の反射率の波長分布がλmin& lt;λr<λmaxになるように設計されているため 、良好なC/Nであるとともに、ジッタも低減さ れている。すなわち、実施例1は、室温時に� �ける薄膜部20の反射率の波長分布がλmax≦λr� ��λminとなるように設計されている、比較例1� ��係る光情報記録媒体3よりも、安定した超解 像再生を効率的に行うことが可能であること がわかる。

 次に、実施例1の光吸収層22の膜厚を変更� ��た光情報記録媒体を作製し、上記ディスク� ��価器を用いて、各光情報記録媒体のジッタ� ��測定した。光吸収層22の膜厚は、図11に示さ れるように、該膜厚が増加するにつれて、ジ ッタも減少していることがわかる。

 なお、光吸収層22の膜厚が5nm未満の場合� �該膜厚が薄すぎるために、再生光入射時の� �生耐久性が確保できない。従って、光吸収� �22の膜厚は、5nm以上であることが好ましい。

 また、図11に示されるように、光吸収層22 の膜厚が5nm以上の場合には、ジッタの低減が みられるものの、該膜厚が50nm以上になると� �ジッタの値がほとんど変わらなくなるため� �ジッタの更なる低減がみられなくなる。従� �て、ジッタを確実に低減させた状態にする� �めには、光吸収層の膜厚を50nm以上にするこ� ��が好ましい。

 しかしながら、上述のように、スパッタ� ��にて光吸収層22を形成する場合、該光吸収� �22の膜厚が500nmより厚くなると、基板30上の� �リピット31の凹凸を、正確に反映できなくな ってしまうと考えられる。従って、光吸収層 22の膜厚は、500nm以下であることが好ましい� �

 これにより、光吸収層22の膜厚を適宜設� �することによって、ジッタを低減させるこ� �が可能となり、すなわち、安定した超解像� �生を効率的に行うことが可能となる。さら� �、光吸収層22の膜厚を、50nm以上500nm以下に設 定すると、ジッタを確実に低減させた状態に することが可能となる。

 なお、光情報記録媒体1と、その実施例で ある光情報記録媒体2とでは、透光層10と、薄 膜部20と、基板30とが、再生光入射面からこ� �順に形成されているが、この膜形成に限定� �れるものではない。

 〔実施形態2〕
 本発明の他の実施形態について説明すれば� ��以下の通りである。なお、実施形態1と同一 の機能を有する部材については、同一の符号 を付記し、その説明は省略する。

 図12は、本実施形態の光情報記録媒体6の� ��略構成を示す断面図である。なお、光情報� ��録媒体1および2と同一の機能を有する部材� �ついては、同一の符号を付記し、その説明� �省略する。

 光情報記録媒体6は、図12に示されるよう� ��、基板30と、薄膜部20とを備え、再生光入射 面からこの順に形成されている。また、薄膜 部20には、再生層21と、光吸収層22とを備え、 再生光入射面からこの順に形成されている。 すなわち、光情報記録媒体6は、光情報記録� �体1および2と、保護膜として機能する透光層 10が形成されていない点で異なる。

 なお、光情報記録媒体6は、上記構成に限 定されるものではなく、例えば、さらに、透 明樹脂からなる中間層(図示しない)と、情報� ��記録および/または再生するための情報記録 層(図示しない)と、基板30とを有する構成で� �ってもよい。この構成は、DVD(HD-DVD)の規格に 適合するものである。

 光情報記録媒体6においても、室温時にお ける薄膜部20の反射率の波長分布がλmin<λr& lt;λmaxとなるように、再生層21の膜厚を適切� �範囲に設定することが可能である。上記波� �分布λmin<λr<λmaxとなっている場合、再� �層21の屈折率nおよび消衰係数kは、高温にな� ��た場合に、薄膜部20の反射率の低下を増強� �せるように働くため、ジッタを低減させる� �とが可能である。すなわち、光情報記録媒� �6は、安定した超解像再生を効率的に行うこ� ��が可能となる。

 また、光情報記録媒体6の薄膜部20は、光� ��報記録媒体1および2と同様、再生層21と光吸 収層22とに分離形成されている。これにより� ��薄膜部20内において役割が分担されている� �め、再生耐久性を向上させることが可能と� �る。加えて、光情報記録媒体6では、基板30� �通して光読み出しを行うため、該基板30の再 生光入射面に傷がついた場合であっても、読 み取り誤りが生じにくい。

 従って、本実施形態に係る光情報記録媒� ��は、再生光が入射される側に基板が位置す� ��ため、該基板が保護膜として機能し、別途� ��保護膜等を設ける必要がない。従って、保� ��膜等が別途設けられている光情報記録媒体� ��比べ、安価な光情報記録媒体を提供するこ� ��が可能となる。加えて、基板を通して光読� ��出しを行うため、再生光の入射側である基� ��上に傷がついた場合であっても、読み取り� ��りを防ぐことが可能となる。

 なお、光情報記録媒体1、2および6は、再� ��専用基板から構成した再生専用光情報記録� ��体であってもよいし、情報の記録ができる� ��録膜を有した情報記録可能な光情報記録媒� ��であってもよい。

 具体的には、光情報記録媒体1、2および6� ��、CD-ROM(Compact Disk Read Only Memory)、CD-R(Compac t Disk Recordable)、CD-RW(Compact Disk Rewritable)、DV D-ROM(Digital Versatile Disk Read Only Memory)、DVD-RW (Digital Versatile Disk Rewritable)、BD(Blu-ray Disc)� �BD-ROM等の光学読取式のディスク、光磁気デ� �スク、相変化型ディスク等の光ディスクを� �応できるものである。また、本発明は、記� �の方式、および、光情報記録媒体の大きさ� �限定されるものではない。

 以上のように、本発明の係る第1の光情報 記録媒体は、上記課題を解決するため、再生 光の入射側より、透光層と、光学多重干渉の 状態の変化に基づいて反射率が変化する薄膜 部と、記録情報に対応し、凸および/または� �からなるランダムパターン方式により情報� �記録された基板とが順に積層された光情報� �録媒体であって、上記薄膜部は、再生光の� �射側より順に、温度が上昇することによっ� �、再生光の波長における光学定数である、� �折率および消衰係数を変化させることに伴� �て、光学多重干渉の状態を変化させる再生� �と、入射される再生光の一部を吸収して熱� �変換することにより、上記再生層の温度を� �昇させる光吸収層とを有し、上記薄膜部の� �温時における反射率の波長分布において、� �り合う極小値および極大値となる波長をそ� �ぞれ、λminおよびλmaxとし、再生光の波長を� �rとしたとき、λmin<λr<λmaxの関係が成立� ��る。

 従来からある超解像技術を利用し作製さ� ��た光回折限界以下の長さの記録マークを含� ��、ランダムパターン方式の光情報記録媒体� ��は、C/Nが向上した場合であっても、ジッタ� ��低減するとは限らない。このため、ジッタ� ��低減させることは、安定した超解像再生を� ��う上で重要である。

 上記構成によれば、再生光が入射される� ��から透光層と、薄膜部と、基板とが順に積� ��されており、該薄膜部の室温時における反� ��率の波長分布において、隣り合う極小値お� ��び極大値となる波長をそれぞれ、λminおよ� �λmaxとし、再生光の波長をλrとしたとき、λm in<λr<λmaxの関係が成立するように、該薄 膜部が形成されている。

 この場合、薄膜部を構成する再生層の高� ��時における屈折率は、室温時におけるそれ� ��比較して増加する。これに伴い、薄膜部の� ��温時における反射率の波長分布は、室温時� ��それと比べ、同様に長波長側にシフトする� ��薄膜部の室温時における反射率の波長分布� ��おいて、隣り合う極小値および極大値とな� ��波長をそれぞれ、λminおよびλmaxとするとき 、λminが再生光の波長λrに近づくので、再生� ��の波長λrにおける該薄膜部の反射率は、高� ��になると低下する(図1参照)。さらに、再生� ��の消衰係数が増加することに伴い、該再生� ��の透過率は減少する。結果として、再生層� ��消衰係数は、薄膜部の反射率を低下させる� ��うに働く。このように、屈折率および消衰� ��数それぞれの変化が、共に薄膜部の反射率� ��下を増強させている。

 従って、再生光の光スポットの高温領域� ��おいて、屈折率および消衰係数は共に薄膜� ��の反射率を低下させるように働き、反射率� ��化が増強されるため、効率的にジッタの低� ��を図ることが可能となると考えられる。す� ��わち、再生系における読み出し誤りが生じ� ��くくなり、安定した超解像再生を効率的に� ��うことができ、光情報記録媒体の再生感度� ��向上させることが可能となる。

 また、薄膜部の反射率の波長分布は、該� ��膜部の膜厚に依存する。このため、薄膜部� ��室温における反射率の波長分布において、� �max≦λr≦λminの関係が成立するように、再生 層の膜厚を設定することによって、該薄膜部 を形成することも可能である。この場合、薄 膜部を構成する再生層の高温時における屈折 率nは、室温時におけるそれと比較して増加� �る。これに伴い、薄膜部の高温時における� �射率の波長分布は、室温時のそれと比べ、� �波長側にシフトする(図5参照)。すなわち、λ maxが再生光の波長λrに近づくので、再生光の 波長λrにおける薄膜部の反射率は、高温にな ると増加することとなる。しかしながら、こ のとき、再生層の消衰係数kは増加するため� �再生層の透過率は減少する。結果として、� �生層の消衰係数kは、薄膜部の反射率を低下� ��せるように働く。このように、屈折率nおよ び消衰係数kそれぞれの変化が、薄膜部の反� �率変化を増強させることはない。従って、� �膜部は、本発明に係る構成からなることが� �ましい。

 さらに、薄膜部の反射率の波長分布が薄� ��部の膜厚に依存するため、光情報記録媒体� ��反射率制御を容易に行うことができ、該光� ��報記録媒体の生産コストを減少させること� ��可能となる。

 さらに、上記構成によれば、薄膜部にお� ��て、温度上昇によって、光学多重干渉の状� ��を変化させる再生層と、再生層の温度を上� ��させる光吸収層とが、分離形成されている� ��め、再生耐久性を向上させることが可能と� ��る。

 本発明に係る第2の光情報記録媒体は、上 記課題を解決するため、再生光の入射側より 、記録情報に対応して、凸および/または凹� �らなるランダムパターン方式により情報が� �録された基板と、光学多重干渉の状態の変� �に基づいて反射率が変化する薄膜部とが積� �された光情報記録媒体であって、上記薄膜� �は、再生光の入射側より順に、温度が上昇� �ることによって、再生光の波長における光� �定数である、屈折率および消衰係数を変化� �せることに伴って、光学多重干渉の状態を� �化させる再生層と、入射される再生光の一� �を吸収して熱に変換することにより、上記� �生層の温度を上昇させる光吸収層とを有し� �上記薄膜部の室温時における反射率の波長� �布において、隣り合う極小値および極大値� �なる波長をそれぞれ、λminおよびλmaxとし、� ��生光の波長をλrとしたとき、λmin<λr<λm axの関係が成立する。

 上記構成によれば、再生光が入射される� ��から基板と、薄膜部とが順に積層されてお� ��、薄膜部の室温時における反射率の波長分� ��において、隣り合う極小値および極大値と� ��る波長をそれぞれ、λminおよびλmaxとし、再 生光の波長をλrとしたとき、λmin<λr<λmax の関係が成立するように、薄膜部が形成され ている。

 この場合、薄膜部を構成する再生層の高� ��時における屈折率は、室温時におけるそれ� ��比較して増加する。これに伴い、薄膜部の� ��温時における反射率の波長分布は、室温時� ��それと比べ、同様に長波長側にシフトする� ��薄膜部の室温時における反射率の波長分布� ��おいて、隣り合う極小値および極大値とな� ��波長をそれぞれ、λminおよびλmaxとするとき 、λminが再生光の波長λrに近づくので、再生� ��の波長λrにおける該薄膜部の反射率は、高� ��になると低下する(図1参照)。さらに、再生� ��の消衰係数が増加することに伴い、該再生� ��の透過率は減少する。結果として、再生層� ��消衰係数は、薄膜部の反射率を低下させる� ��うに働く。このように、屈折率および消衰� ��数それぞれの変化が、共に薄膜部の反射率� ��下を増強させている。

 従って、再生光の光スポットの高温領域� ��おいて、屈折率および消衰係数は共に薄膜� ��の反射率を低下させるように働き、反射率� ��化が増強されるため、効率的にジッタの低� ��を図ることが可能となると考えられる。す� ��わち、再生系における読み出し誤りが生じ� ��くくなり、安定した超解像再生を効率的に� ��うことができ、光情報記録媒体の再生感度� ��向上させることが可能となる。

 また、薄膜部の反射率の波長分布が薄膜� ��の膜厚に依存するため、光情報記録媒体の� ��射率制御を容易に行うことができ、該光情� ��記録媒体の生産コストを減少させることが� ��能となる。

 さらに、上記構成によれば、薄膜部にお� ��て、温度上昇によって、光学多重干渉の状� ��を変化させる再生層と、再生層の温度を上� ��させる光吸収層とが、分離形成されている� ��め、再生耐久性を向上させることが可能と� ��る。

 上記した本発明の第1、第2の光情報記録� �体においては、上記光吸収層は、Siもしくは Ge、または、どちらかを主成分とした混合物� ��らなることが好ましい。これによれば、再� ��層の温度を効果的に上昇させるとともに、� ��機色素、半導体、半金属等よりも安価で、� ��変化材料より管理が容易であるため、安価� ��光情報記録媒体を提供することができる。

 上記した本発明の第1、第2の光情報記録� �体においては、上記再生層は、金属酸化物� �または、該金属酸化物を主成分とした混合� �からなることが好ましい。これによれば、� �属酸化物は、化学的に安定であるため、再� �光の入射に伴う破壊を受けにくい。このた� �、光情報記録媒体の再生耐久性の向上を図� �ことが可能となる。また、金属酸化物は、� �元処理により金属として回収が可能である� �め、光情報記録媒体のリサイクル効率を向� �させることが可能となる。

 上記した本発明の第1、第2の光情報記録� �体においては、上記金属酸化物は、酸化亜� �、または該酸化亜鉛を主成分とした混合物� �あることが好ましい。これによれば、酸化� �鉛は、金属酸化物の中でも、特に化学的に� �定した物質であるため、再生光が入射され� �ことによって融解することがない。このた� �、酸化亜鉛は、薄膜部に他の金属酸化物を� �用した場合よりも、再生光の入射に伴う破� �を受けにくい。このため、光情報記録媒体� �再生耐久性をさらに向上させることが可能� �なる。また、酸化亜鉛は、金属酸化物の中� �も安価であり、環境に負荷が少ない物質で� �る。そのため、生産コストが抑えられ、環� �調和型の光情報記録媒体を提供することが� �きる。

 本発明に係る第3の光情報記録媒体は、上 記課題を解決するため、再生光の入射側より 、透光層と、金属酸化物、または該金属酸化 物を主成分とした混合物からなる金属酸化物 層と、SiもしくはGe、またはどちらかを主成� �とした混合物からなる薄膜層と、記録情報� �応じた、凸および/または凹からなるランダ� ��パターン方式により情報が記録された基板� ��が順に積層された光情報記録媒体であって� ��上記金属酸化物層および薄膜層からなる薄� ��部の室温時における反射率の波長分布にお� ��て、隣り合う極小値および極大値となる波� ��をそれぞれ、λminおよびλmaxとし、再生光の 波長をλrとしたとき、λmin<λr<λmaxの関係 が成立する。

 上記構成によれば、光情報記録媒体は、� ��に金属酸化物からなる金属酸化物層と、Si� �しくはGe、またはどちらかを主成分とした混 合物からなる薄膜層を有しており、上記金属 酸化物層および薄膜層によって薄膜部が構成 されている。

 また、薄膜部の室温時における反射率の� ��長分布において、隣り合う極小値および極� ��値となる波長をそれぞれ、λminおよびλmaxと し、再生光の波長をλrとしたとき、λmin<λr <λmaxの関係が成立するように、薄膜部が形 成されている。

 この場合、薄膜部を構成する再生層の高� ��時における屈折率は、室温時におけるそれ� ��比較して増加する。これに伴い、薄膜部の� ��温時における反射率の波長分布は、室温時� ��それと比べ、同様に長波長側にシフトする� ��薄膜部の室温時における反射率の波長分布� ��おいて、隣り合う極小値および極大値とな� ��波長をそれぞれ、λminおよびλmaxとするとき 、λminが再生光の波長λrに近づくので、再生� ��の波長λrにおける該薄膜部の反射率は、高� ��になると低下する(図1参照)。さらに、再生� ��の消衰係数は増加することに伴い、該再生� ��の透過率は減少する。結果として、再生層� ��消衰係数は、薄膜部の反射率を低下させる� ��うに働く。このように、屈折率および消衰� ��数それぞれの変化が、共に薄膜部の反射率� ��下を増強させている。

 従って、再生光の光スポットの高温領域� ��おいて、屈折率および消衰係数は共に薄膜� ��の反射率を低下させるように働き、反射率� ��化が増強されるため、効率的にジッタの低� ��を図ることが可能となると考えられる。す� ��わち、再生系における読み出し誤りが生じ� ��くくなり、安定した超解像再生を効率的に� ��うことができ、光情報記録媒体の再生感度� ��向上させることが可能となる。

 また、薄膜部の反射率の波長分布が薄膜� ��の膜厚に依存するため、光情報記録媒体の� ��射率制御を容易に行うことができ、該光情� ��記録媒体の生産コストを減少させることが� ��能となる。

 さらに、上記構成によれば、薄膜部にお� ��て、温度上昇によって、光学多重干渉の状� ��を変化させる再生層と、再生層の温度を上� ��させる光吸収層とが、分離形成されている� ��め、再生耐久性を向上させることが可能と� ��る。

 本発明に係る第4の光情報記録媒体は、上 記課題を解決するため、再生光の入射側より 、記録情報に応じた、凸および/または凹か� �なるランダムパターン方式により情報が記� �された基板と、金属酸化物、または該金属� �化物を主成分とした混合物からなる金属酸� �物層と、SiもしくはGe、またはどちらかを主� ��分とした混合物からなる薄膜層とが順に積� ��された光情報記録媒体であって、上記金属� ��化物層および薄膜層からなる薄膜部の室温� ��における反射率の波長分布において、隣り� ��う極小値および極大値となる波長をそれぞ� ��、λminおよびλmaxとし、再生光の波長をλrと したとき、λmin<λr<λmaxの関係が成立する 。

 上記構成によれば、光情報記録媒体は、� ��に金属酸化物からなる金属酸化物層と、Si� �しくはGe、またはどちらかを主成分とした混 合物からなる薄膜層を有しており、上記金属 酸化物層および薄膜層によって薄膜部が構成 されている。

 また、薄膜部の室温時における反射率の� ��長分布において、隣り合う極小値および極� ��値となる波長をそれぞれ、λminおよびλmaxと し、再生光の波長をλrとしたとき、λmin<λr <λmaxの関係が成立するように、薄膜部が形 成されている。

 この場合、薄膜部を構成する再生層の高� ��時における屈折率は、室温時におけるそれ� ��比較して増加する。これに伴い、薄膜部の� ��温時における反射率の波長分布は、室温時� ��それと比べ、同様に長波長側にシフトする� ��薄膜部の室温時における反射率の波長分布� ��おいて、隣り合う極小値および極大値とな� ��波長をそれぞれ、λminおよびλmaxとするとき 、λminが再生光の波長λrに近づくので、再生� ��の波長λrにおける該薄膜部の反射率は、高� ��になると低下する(図1参照)。さらに、再生� ��の消衰係数は増加することに伴い、該再生� ��の透過率は減少する。結果として、再生層� ��消衰係数は、薄膜部の反射率を低下させる� ��うに働く。このように、屈折率および消衰� ��数それぞれの変化が、共に薄膜部の反射率� ��下を増強させている。

 従って、再生光の光スポットの高温領域� ��おいて、屈折率および消衰係数は共に薄膜� ��の反射率を低下させるように働き、反射率� ��化が増強されるため、効率的にジッタの低� ��を図ることが可能となると考えられる。す� ��わち、再生系における読み出し誤りが生じ� ��くくなり、安定した超解像再生を効率的に� ��うことができ、光情報記録媒体の再生感度� ��向上させることが可能となる。

 また、薄膜部の反射率の波長分布が薄膜� ��の膜厚に依存するため、光情報記録媒体の� ��射率制御を容易に行うことができ、該光情� ��記録媒体の生産コストを減少させることが� ��能となる。

 さらに、上記構成によれば、薄膜部にお� ��て、温度上昇によって、光学多重干渉の状� ��を変化させる再生層と、再生層の温度を上� ��させる光吸収層とが、分離形成されている� ��め、再生耐久性を向上させることが可能と� ��る。

 上記した本発明の第3、第4の光情報記録� �体においては、上記金属酸化物層は、酸化� �鉛、または該酸化亜鉛を主成分とした混合� �からなることが好ましい。これによれば、� �化亜鉛は、金属酸化物の中でも、特に化学� �に安定した物質であるため、再生光が入射� �れることによって融解することがない。こ� �ため、酸化亜鉛は、薄膜部に他の金属酸化� �を使用した場合よりも、再生光の入射に伴� �破壊を受けにくい。このため、光情報記録� �体の再生耐久性をさらに向上させることが� �能となる。また、酸化亜鉛は、金属酸化物� �中でも安価であり、環境に負荷が少ない物� �である。そのため、生産コストが抑えられ� �環境調和型の光情報記録媒体を提供するこ� �ができる。

 上記再生層の膜厚は、80nm以上120nm未満で� ��ることが好ましい。再生層の膜厚が80nm未満 の場合、光学多重干渉の効果を充分に得るこ とができないと考えられ、安定した超解像再 生を行うことができない虞がある。また、再 生層の膜厚が120nm以上の場合、薄膜部の反射� ��の波長依存性において、極小値となる波長� ��400nm付近となるような、再生層の膜厚が存� �する。この場合、例えば、Blu-ray光学系にお� ��て光情報記録媒体を再生するときに、再生� ��は、反射光を充分に得ることができない虞� ��ある。このため、フォーカスがかかりにく� ��なると考えられる。また、再生層の膜厚が� ��らに増加すると、薄膜部の反射率は、光情� ��記録媒体を再生するときに、光吸収層から� ��給される熱が十分ではなくなるため、再生� ��度が低下すると考えられる。

 上記構成によれば、上記問題点を回避す� ��ことができるため、確実にλmin<λr<λmax� ��関係が成立するように、光情報記録媒体を� ��計することができるため、効率的なジッタ� ��低減を図ることが可能となる。すなわち、� ��定した超解像再生を効率的に行うことが可� ��となる。

 加えて、再生層の膜厚を上記80nm以上120nm� ��満とすることによって、ジッタの低減が図� ��、かつ必要な再生光レーザパワーの消費電� ��を削減することができる。これにより、ド� ��イブの低電力化、再生光部素子の劣化を防� ��ことが可能となり、再生光レーザの照射に� ��る光情報記録媒体の劣化を防ぐことができ� ��。

 上記光吸収層の膜厚は、5nm以上500nm以下� �あることが好ましい。5nm未満の膜厚では、� �膜厚が薄すぎるために、再生耐久性が確保� �きないと考えられる。また、光吸収層の膜� �を500nmより厚くすると、例えば、マグネトロ ンスパッタ法で光吸収層を形成する場合、ス パッタによって蒸発した光吸収層を形成する 原子は、基板上に対して、完全に垂直に入射 するとは限らない。このため、基板上の凹凸 形状のピットを正確に反映することが困難と なる。従って、光吸収層の膜厚を5nm以上500nm� ��下とすることにより、再生耐久性を向上さ� ��ることができるとともに、凹凸形状のピッ� ��を正確に反映することが可能となる。また� ��上記構成により、効率的にジッタが低減さ� ��、安定した再生ができるようになる。

 上記光吸収層の膜厚が50nm以上500nm以下で� ��ることが好ましい。光吸収層の膜厚が増加� ��るとともに、ジッタが低減されるが、該光� ��収層の膜厚が50nmより増加すると、ジッタ低 減がほぼ同程度となる。従って、光吸収層の 膜厚を50nm以上に設定することにより、ジッ� �を確実に低減させることが可能となる。

 なお、本願の光情報記録媒体は再生専用� ��板から構成した再生専用光情報記録媒体で� ��ってもよいし、情報の記録ができる記録膜� ��有した情報記録可能な光情報記録媒体であ� ��てもよい。

 本発明に係る光情報記録媒体は、以上の� ��うに、光学多重干渉の状態の変化に基づい� ��反射率が変化する薄膜部を有し、上記薄膜� ��は、再生光の入射側より順に、温度が上昇� ��ることによって、再生光の波長における光� ��定数である、屈折率および消衰係数を変化� ��せることに伴って、光学多重干渉の状態を� ��化させる再生層と、入射される再生光の一� ��を吸収して熱に変換し、上記再生層の温度� ��上昇させる光吸収層とを有している。

 また、本発明に係る光情報記録媒体は、� ��上のように、金属酸化物、または該金属酸� ��物を主成分とした混合物からなる金属酸化� ��層と、SiもしくはGe、またはどちらかを主成 分とした混合物からなる薄膜層とを有し、上 記金属酸化物および薄膜層からなる薄膜部を 有している。

 上記薄膜部の室温時における反射率の波� ��分布において、隣り合う極小値および極大� ��となる波長をそれぞれ、λminおよびλmaxとし 、再生光の波長をλrとしたとき、λmin<λr< ;λmaxの関係が成立することで、記録情報に対 応し、凸および/または凹からなるランダム� �ターン方式により情報が記録された光情報� �録媒体においても、効率的にジッタの低減� �れ、安定した超解像再生を効率的に行うこ� �が可能となる。これにより、記録密度がよ� �向上した光情報記録媒体を提供できるとう� �う効果を奏する。

 さらに、本発明に係る光情報記録媒体は� ��記録情報に対応し、凸および/または凹から なるランダムパターンで情報が記録された基 板上に順に、少なくとも、再生光の一部を吸 収して熱に変換する光吸収層と、該光吸収層 の発熱により加熱され、再生光波長における 屈折率nおよび消衰係数kが増加し、かつ光学� ��重干渉を生じる再生層と、さらに、透光層� ��積層され、該透光層表面から再生光が入射� ��れる光情報記録媒体であって、該光吸収層� ��該再生層からなる薄膜部の室温における反� ��率の波長分布において、隣り合う極小値、� ��大値となる波長をそれぞれ、λmin、λmaxとし たとき、再生光波長λrがλmin<λr<λmaxであ るように設定されている。また、上記光吸収 層がSiまたはGe、または、どちらかを主成分� �した混合物からなる。さらに、上記再生層� �主に金属酸化物からなり、金属酸化物層が� �に酸化亜鉛からなる。

 また、記録情報に応じた凸および/または 凹からなるランダムパターンで情報が記録さ れた基板上に順に、光学多重干渉が生じ、か つ温度上昇により再生光波長における屈折率 nおよび消衰係数kが増加する再生層と、再生� ��の一部を吸収して熱に変換し、該再生層に� ��を供給する光吸収層が積層され、基板表面� ��ら再生光が入射される光情報記録媒体であ� ��て、該再生層と該光吸収層からなる薄膜部� ��室温における反射率の波長分布において、� ��り合う極小値、極大値となる波長をそれぞ� ��、λmin、λmaxとしたとき、再生光波長λrがλm in<λr<λmaxであるようにであるように設定 されている。また、上記光吸収層がSiまたはG e、または、どちらかを主成分とした混合物� �らなる。さらに、上記再生層が主に金属酸� �物からなる。さらに、上記金属酸化物層が� �に酸化亜鉛からなる。

 また、記録情報に応じた凸および/または 凹からなるランダムパターンで情報が記録さ れた基板上に順に、少なくとも、SiまたはGe� �または、どちらかを主成分とした混合物か� �なる薄膜層と、主に金属酸化物からなる金� �酸化物層と、さらに、透光層が積層され、� �透光層表面から再生光が入射される光情報� �録媒体であって、該薄膜層と該金属酸化物� �からなる薄膜部の室温における反射率の波� �分布において、隣り合う極小値、極大値と� �る波長をそれぞれ、λmin、λmaxとしたとき、� ��生光波長λrがλmin<λr<λmaxであるように� ��定されている。また、上記金属酸化物層が� ��に酸化亜鉛からなる。

 また、記録情報に応じた凸および/または 凹からなるランダムパターンで情報が記録さ れた基板上に順に、主に金属酸化物からなる 金属酸化物層と、SiまたはGe、または、どち� �かを主成分とした混合物からなる薄膜層が� �層され、基板表面から再生光が入射される� �情報記録媒体であって、該金属酸化物層と� �薄膜層からなる薄膜部の室温における反射� �の波長分布において、隣り合う極小値、極� �値となる波長をそれぞれ、λmin、λmaxとした� ��き、再生光波長λrがλmin<λr<λmaxである� ��うに設定されている。また、上記金属酸化� ��層が主に酸化亜鉛からなる。さらに、上記� ��生層の膜厚が80nm以上120nm未満である。

 また、本発明に係る光情報記録媒体は、� ��記光吸収層の膜厚が5nm以上500nm以下である� �さらに、上記光吸収層の膜厚が50nm以上500nm� �下である。

 発明の詳細な説明の項においてなされた� ��体的な実施形態または実施例は、あくまで� ��、本発明の技術内容を明らかにするもので� ��って、そのような具体例にのみ限定して狭� ��に解釈されるべきものではなく、本発明の� ��神と次に記載する請求の範囲内において、� ��ろいろと変更して実施することができるも� ��である。