以下、本発明を詳細に説明するが、本発明� ��以下の説明に限定されるものではなく、そ� ��要旨の範囲内において種々に変更して実施� ��ることができる。
 本発明は、記録再生ディスク等の光記録媒� ��に関するものであり、本発明の光記録媒体� ��、樹脂基板と、記録再生機能層と、ウレタ� ��(メタ)アクリレート(A)及び上記ウレタン(メ� ��)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート� ��合物(B)を含む放射線硬化性組成物の硬化物� ��ある保護層と、表面硬度がB以上であるハー ドコート層とをこの順に具備する。なお、本 発明において、(メタ)アクリレートは、アク� ��レート及び/又はメタアクリレートの意味す る。

 また、本発明の光記録媒体は、下記式で示� ��れる上記保護層の25℃、湿度45%における引� �張り弾性率に対する飽和吸水時における引� �張り弾性率の比e(以下、適宜「引っ張り弾性 率の比」ともいう。)が、0.20以上であること� ��特徴とする。
 e=(飽和吸水時における引っ張り弾性率)/(25� �、45%RHにおける引っ張り弾性率)

 上記引っ張り弾性率とは、0.1mm厚のフィル� �を形成し、引っ張り強度試験機を用い、引� �張り速度1mm/minにて引っ張り試験を行った際� ��弾性率を意味する。また、本発明における� ��和吸水時弾性率とは、上記フィルムを25℃� �おいて水に3時間浸漬した直後のフィルムに� ��いて、上記引っ張り試験を行った際の弾性� ��を意味する。
 光記録媒体として完成された製品から、本� ��明における保護層の上記弾性率、吸水率を� ��定することも、以下の方法により可能であ� ��。
 通常の光記録媒体においては、保護層と記� ��再生機能層の界面から、比較的容易に保護� ��より表面側の部分をディスク状に剥離する� ��とができる。保護層上に他の層、例えばハ� ��ドコート層等の樹脂層が形成されている場� ��は、両層を分離することは困難であるが、� ��離した層の断面を、走査型電子顕微鏡(SEM)� �察あるいは顕微FT-IR(フーリエ変換赤外分光� �析法)測定等の方法により、どの程度の膜厚� ��異なる層が積層されているかを把握するこ� ��ができる。膜厚を把握した上で、例えば回� ��式の研磨機等を用いて剥離困難な層を除去� ��た後、保護層部分を剥離すればよい。この� ��うにして保護層単独の膜を得た後に、上記� ��測定方法により弾性率、吸水率を測定すれ� ��よい。
 保護層の組成物を同定したい場合は、上記� ��得られた保護層単独の膜を熱分解GC-MS法(ガ� ��クロマトグラフ質量分析法)等により分析す ることで、樹脂の組成を知ることも可能であ る。

 本発明によれば、上記保護層が、所定の材� ��(ウレタン(メタ)アクリレート(A)及び上記ウ� ��タン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アク リレート化合物(B))を含有することから、光� �録媒体の表面硬度を高いものとすることが� �き、さらに環境温度に対する変形性が少な� �ものとすることが可能となる。
 表面硬度及び耐環境温度性を良好なものと� ��ることができる理由は必ずしも明らかでは� ��いが、所定の材料を用いた場合は、その骨� ��に由来する微小な結晶ドメインに類するも� ��が形成され、このドメインが無機フィラー� ��ような役割を果たして高い表面硬度をもた� ��す一方で、架橋密度そのものは適度に低く� ��分子運動のバッファー(緩衝物)のようなも� �が存在し、これが熱膨張収縮を抑制してい� �と推定される。

 また本発明においては、保護層の上記引っ� ��り弾性率の比が所定の値以上とされている� ��とから、環境湿度が変化した直後の変形を� ��ないものとすることができる。このメカニ� ��ムは下記のように推測される。
 上述したように、環境湿度が変化した際の� ��記録媒体の変形は、保護層及び樹脂基板の� ��脱水に伴う変形が支配的である。本発明に� ��いては、吸湿時の引っ張り弾性率と通常時� ��引っ張り弾性率との比が所定の範囲内であ� ��保護層を記録再生機能層上に形成する。通� ��の放射線硬化性組成物等の樹脂材料は、吸� ��時には膨潤して軟らかくなり、弾性率が大� ��に低下する。その低下が大きい材料は、吸� ��時の引っ張り弾性率と通常時の引っ張り弾� ��率との比が小さくなることになる。

 本発明においては、保護層の吸湿時弾性� ��の通常時弾性率に対する比が大きい、すな� ��ち吸湿時に弾性率低下しにくいことから、� ��湿時における保護層の、樹脂基材が吸湿時� ��起こす変形を相殺する応力が大きくなり、� ��の変形を十分に抑制することができる。し� ��がって、環境湿度変化が生じた場合でも光� ��録媒体が変形しにくいものとすることがで� ��ると考えられる。

 以上のことから、本発明の光記録媒体では� ��表面硬度が十分であり、また環境温度が変� ��した際の変形が少なく、さらに環境湿度が� ��化した直後の変形も少ないものとすること� ��できる。
 以下、本発明の光記録媒体の各部材につい� ��説明する。

 [保護層]
 まず、本発明の光記録媒体に用いられる保� ��層について説明する。本発明に用いられる� ��護層は、後述する記録再生機能層に接して� ��けられ、通常平面円環形状を有するものと� ��ることができる。またこのような保護層は� ��記録再生に用いられるレーザー光を透過可� ��な材料により形成される。
 以下、本発明の光記録媒体に用いられる保� ��層の物性、保護層の材料、及び形成方法に� ��いて説明する。

 (保護層の物性)
 上記保護層における上記引っ張り弾性率の� ��eは通常0.2以上であり、好ましくは0.3以上で あり、さらに好ましくは0.5以上であり、特に 好ましくは0.7以上である。また上限としては 、通常1以下である。上記引っ張り弾性率の� �eが小さすぎると、吸湿時の弾性率が小さく� ��る傾向があり、環境湿度が変化した際に、� ��脂基板の変形を抑制しきれず、光記録媒体� ��変形が大きくなる傾向がある。

 また上記保護層の吸水率は、2(wt/wt)%以下で� ��ることが好ましく、より好ましくは1.5(wt/wt) %以下、更に好ましくは1(wt/wt)%以下、特に好� �しくは0.7(wt/wt)%以下である。保護層の吸水率 が高すぎると、前記引っ張り弾性率の比eが� �記範囲より小さくなる傾向があり、環境湿� �の変化に伴う光記録媒体の変形が大きくな� �ことがある。上記吸水率は、下記の方法に� �り求められる。0.1mm厚のフィルムを形成して 初期重量W _o を測定する。次いで、上記フィルムを25℃に� ��いて純水で満たした容器に3時間浸漬させた 後、フィルムを取り出し、付着している純水 をワイパーで軽く拭き取り、ただちに重量W� �測定する。初期重量W _o に対する浸漬後の重量増加(W-W ₀ )を求めることにより算出される。すなわち� �吸水率は下式で表される。
  吸水率(wt/wt)(%)=(W-W _o )/W _o ×100

 上記保護層は、所定の飽和吸水時弾性率� ��有することが好ましく、具体的には上限と� ��て、1100MPa以下が好ましく、更に好ましくは 900MPa以下、より好ましくは700MPa以下、特に好 ましくは600MPa以下である。また下限としては 、200MPa以上が好ましく、更に好ましくは250MPa 以上、より好ましくは300MPa以上、特に好まし くは400MPa以上である。上記飽和吸水時弾性率 が高すぎると、環境湿度が急激に変化した際 に保護層の変形が著しく増大し、光記録媒体 の変形が増大する傾向がある。また上記範囲 より低すぎると、保護層の吸脱水に由来する 変形が小さく、樹脂基板の変形を抑制する効 果が小さくなる傾向がある。

 また上記保護層と、後述するハードコー� ��層とを合わせた複合層は、その飽和吸水時� ��性率が所定の範囲内であることが好ましく� ��複合層の飽和吸水時弾性率の上限として、� ��常1200MPa以下、好ましくは1000MPa以下、より� �ましくは900MPa以下、さらに好ましくは800MPa� �下、特に好ましくは700MPa以下である。また� �合層の飽和吸水時弾性率の下限として、通� �300MPa以上、好ましくは350MPa以上、より好ま� �くは400MPa以上、さらに好ましくは450MPa以上� �特に好ましくは500MPa以上である。上記飽和� �水時弾性率が高すぎると、環境湿度が急激� �変化した際に光記録媒体の変形が著しく増� �する傾向がある。逆に低すぎると、樹脂基� �の吸脱水に由来する変形を抑制する効果が� �さくなる傾向がある。

 また上記保護層の膜厚は、通常10μm以上� �好ましくは20μm以上、より好ましくは30μm以� ��、さらに好ましくは70μm以上、特に好まし� �は85μm以上、また、通常300μm以下、好ましく は130μm以下、より好ましくは115μm以下、さら に好ましくは105μm以下である。これにより、 ゴミ等による情報の読み書きへの影響と透過 率とのバランスを良好なものとすることがで きる。

 また上記保護層は、通常、溶剤等に不溶不� ��の性質を示し、厚膜化した場合であっても� ��学部材の用途に有利な性質を備え、密着性� ��表面硬化度に優れていることが好ましい。� ��体的には、低い光学歪み性(低複屈折性)、� �い光線透過率、機械的強度、寸法安定性、� �密着性、高表面硬度、一定以上の耐熱・耐� �変形性、及び低収縮性を示すことが好まし� �。
 また上記保護層は、光記録媒体の記録再生� ��用いる波長付近のレーザー光に対して十分� ��透明性が高く、かつ後述する樹脂基板上に� ��成された記録再生機能層を、水や塵埃から� ��護し、劣化を防止するような性質を持つこ� ��が望ましい。

 上記保護層の硬度は、JIS K5400に準拠した 鉛筆硬度試験による表面硬度で、通常6B程度� ��好ましくは4B以上、より好ましくは3B以上で ある。これにより後述するハードコート層の 表面硬度を高くすることができ、耐摩耗性や 記録膜保護性に優れた光記録媒体とすること ができる。

 また上記保護層の光線透過率は、波長550n mにおける光路長0.1mm当たりの光線透過率が、 通常80%以上であり、好ましくは85%以上、さら に好ましくは89%以上である。また上限はなく 、100%に近いほど好ましい。光線透過率が低� �ぎると、保護層の透明性が劣る。従って、� �記録媒体において、記録された情報の読み� �し時にエラーが増加する傾向がある。

 また保護層の光線透過率は、記録・再生� ��用いられる光の波長において、通常、80%以� ��、好ましくは85%以上、より好ましくは89%以� ��である。このような範囲であれば、記録再� ��光の吸収による損失を最小限にすることが� ��きる。一方、光線透過率は100%になることが 特に好ましいが、用いる材料の性能上、通常 、99%以下となる。上記光線透過率は、例えば 、ヒューレットパッカード社製HP8453型紫外・ 可視吸光光度計にて公知の方法で、室温で測 定することができる。

 保護層の光線透過率を上記範囲とするに� ��、後述する放射線硬化性組成物を構成する� ��成分として光線透過率の高いものを用いる� ��とが好ましい。具体的には、可視光領域の� ��線透過率を低下させないために、各成分中� ��有色物や分解物等の不純物量が少ないこと� ��好ましい。また各成分を製造する際の触媒� ��が少ないことが好ましい。また紫外領域の� ��線透過率を低下させないためには、各成分� ��芳香環を含まない、脂肪族或いは脂環式骨� ��のものを選択することが好ましい。

 さらに、上記保護層と後述する記録再生� ��能層との密着性が高いことが好ましく、経� ��密着性も高いほうが好ましい。具体的には� ��80℃、80%RHの環境下に100時間、さらに好まし くは200時間置いた後の保護層と記録再生機能 層との密着面積の割合が、当初密着面積の50% 以上を保持していることが好ましく、さらに 好ましくは80%以上、特に好ましくは100%保持� �ていることである。

 (保護層の材料)
 上記保護層は、ウレタン(メタ)アクリレー� �(A)、及び上記ウレタン(メタ)アクリレート(A) 以外の(メタ)アクリレート化合物(B)を含む放� ��線硬化性組成物の硬化物である。上記放射� ��硬化性組成物中には、必要に応じて適宜上� ��以外の材料が含有されていてもよい。

 <ウレタン(メタ)アクリレート(A)>
 上記保護層の形成に用いられる放射線硬化� ��組成物中には、ウレタン(メタ)アクリレー� �(A)が含有される。これにより、光記録媒体� �環境の温湿度変化に対する変形を小さいも� �とし、かつ光記録媒体が高い表面硬度を有� �るものとすることが可能となる。
 上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、特� �限定されるものではなく、通常、ヒドロキ� �ル基を含有する化合物と、ポリイソシアネ� �トと、ヒドロキシル基を含有する(メタ)アク リレートとを反応させて得られる。

 本発明においては特に、上記ウレタン(メタ )アクリレート(A)が、ポリイソシアネート(a1)� ��分子量400未満のジオール(a2)、分子量が400以 上のポリオール(a3)、及び水酸基含有(メタ)ア クリレート(a4)を含む組成物を反応させた反� �生成物であることが好ましい。
 更に、分子量が400以上のポリオール(a3)は、 分子量が400以上、1500未満のポリオール(a3-1)� �及び分子量が1500以上のポリオール(a3-1)を含� ��するのが好ましい。
 なお、本発明における分子量とは、特に断� ��ない限り数平均分子量を指す。

 〔ポリイソシアネート(a1)〕
 ポリイソシアネートとは、分子中に2個以上 のイソシアネート基を有する化合物である。 本発明に用いられるポリイソシアネートは特 に限定されるものではなく、例えば、テトラ メチレンジイソシアネート、ヘキサメチレン ジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレ ンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネ ート;ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサ ン、シクロヘキサンジイソシアネート、ビス (イソシアナトシクロヘキシル)メタン、イソ� ��ロンジイソシアネート等の脂環式ジイソシ� ��ネート;トリレンジイソシアネート、キシリ レンジイソシアネート、ジフェニルメタンジ イソシアネート、m-フェニレンジイソシアネ� ��ト、ナフタレンジイソシアネート等の芳香� ��ジイソシアネートが挙げられ、これらの1種 を単独で用いてもよく、また2種以上を任意� �比率及び組み合わせで用いることができる� �これらの中でも、得られるウレタン(メタ)ア クリレート(A)の色相が良好である点で、ビス (イソシアナトメチル)シクロヘキサン、シク� ��ヘキサンジイソシアネート、ビス(イソシア ナトシクロヘキシル)メタン、イソホロンジ� �ソシアネート等の脂環式ジイソシアネート� �好ましい。

 なお、ポリイソシアネート(a1)の分子量と しては、保護層の強度と弾性率とのバランス の面から、通常100以上であり、好ましくは150 以上である。また通常1000以下であり、好ま� �くは500以下である。

 上記ポリイソシアネート(a1)は、上記ウレタ ン(メタ)アクリレート(A)と上記ウレタン(メタ )アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化 合物(B)との総和において、通常2×10 ^-4 mol/g以上、好ましくは6×10 ^-4 mol/g以上用いられ、また通常22×10 ^-4 mol/g以下、好ましくは16×10 ^-4 mol/g以下用いられる。

 〔分子量400未満のジオール(a2)〕
 分子量400未満のジオールとは、2個のヒドロ キシル基を含有する分子量400未満の化合物を 意味する。本発明に用いられる分子量400未満 のジオールは特に限定されるものではないが 、特に2個の水酸基が炭素で連結されたジオ� �ルが好ましい。
 その具体例としては、例えば、エチレング� ��コール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパ� �ジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、1 ,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-� ��ンタンジオール、2-メチル-1,5-ペンタンジオ ール、ネオペンチルグリコール、3-メチル-1,5 -ペンタンジオール、2,3,5-トリメチル-1,5-ペン タンジオール、1,6-ヘキサンジオール、2-エチ ル-1,6-ヘキサンジオール、2,2,4-トリメチル-1,6 -ヘキサンジオール、1,8-オクタンジオール、1 ,9-ノナンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジ� �ール、1,2-ジメチロールシクロヘキサン、1,3- ジメチロールシクロヘキサン、1,4-ジメチロ� �ルシクロヘキサン、ジシクロペンタジエニ� �ジメタノール等のアルキレンジオール類が� �げられ、これらを1種又は2種以上、任意の比 率及び組み合わせで用いることができる。
 上記の中でも、炭素数4~10の脂肪族ジオール が好ましく、具体的には1,4-ブタンジオール� �1,5-ペンタンジオール、2-メチル-1,5-ペンタン ジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,8-オクタ� ��ジオール、1,9-ノナンジオール、2-メチル-1,8 -オクタンジオール等が、光記録媒体の変形� �生じにくいものとすることができ、かつ光� �録媒体の表面硬度が高くなる傾向があるた� �、特に好ましい。

 なお、分子量400未満のジオール(a2)の分子 量としては、硬化収縮に由来する樹脂基板の 変形と表面硬度のバランスの面から好ましく は250以下、より好ましくは150以下であり、ま た通常80以上、好ましくは100以上である。

 また上記分子量400未満のジオール(a2)は、上 記ウレタン(メタ)アクリレート(A)と上記ウレ� ��ン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリ レート化合物(B)との総和において、通常1×10 ^-4 mol/g以上、好ましくは3×10 ^-4 mol/g以上用いられ、また通常10×10 ^-4 mol/g以下、好ましくは8×10 ^-4 mol/g以下用いられる。

 〔分子量が400以上のポリオール(a3)〕
 本発明の分子量が400以上のポリオール(a3)は 、分子量が400以上、1500未満のポリオール(a3-1 )、及び分子量が1500以上のポリオール(a3-1)を� ��有するのが好ましい。
 〔分子量が400以上1500未満のポリオール(a3-1) 〕
 分子量が400以上1500未満のポリオールとは、 分子量が400以上1500未満であり、かつ分子中� �2個以上の水酸基を有する化合物である。
 上記分子量が400以上1500未満のポリオールと しては、例えば上記分子量400未満のジオール (a2)(以下、適宜単に「ジオール」という場合� ��ある。)の多量体であるポリエーテルポリオ ール;上記ジオールと多塩基酸との反応によ� �エステル結合、或いは環状エステルの開環� �合によるエステル結合を有するポリエステ� �ポリオール;上記ジオールとカーボネートと� ��反応によるカーボネート結合を有するポリ� ��ーボネートポリオール等が挙げられる。

 上記ポリエーテルポリオールの具体例と� ��ては、上記ジオールの多量体;テトラヒドロ フラン等の環状エーテルの開環重合体として のポリテトラメチレングリコール;上記ジオ� �ルのエチレンオキサイド、プロピレンオキ� �イド、1,2-ブチレンオキサイド、1,3-ブチレン オキサイド、2,3-ブチレンオキサイド、テト� �ヒドロフラン、エピクロルヒドリン等のア� �キレンオキサイドの付加物;等が挙げられる� ��

 上記ポリエステルポリオールの具体的と� ��ては、上記ジオールと、マレイン酸、フマ� ��ル酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸� ��の多塩基酸との反応物;カプロラクトン等の 環状エステルの開環重合体としてのポリカプ ロラクトン等が挙げられる。

 またポリカーボネートポリオールの具体� ��としては、上記ジオールと、エチレンカー� ��ネート、1,2-プロピレンカーボネート、1,2-� �チレンカーボネート等のアルキレンカーボ� �ート、又は、ジフェニルカーボネート、4-メ チルジフェニルカーボネート、4-エチルジフ� ��ニルカーボネート、4-プロピルジフェニル� �ーボネート、4,4’-ジメチルジフェニルカー� ��ネート、2-トリル-4-トリルカーボネート、4, 4’-ジエチルジフェニルカーボネート、4,4’- ジプロピルジフェニルカーボネート、フェニ ルトルイルカーボネート、ビスクロロフェニ ルカーボネート、フェニルクロロフェニルカ ーボネート、フェニルナフチルカーボネート 、ジナフチルカーボネート等のジアリールカ ーボネート、又は、ジメチルカーボネート、 ジエチルカーボネート、ジ-n-プロピルカーボ ネート、ジイソプロピルカーボネート、ジ-n- ブチルカーボネート、ジイソブチルカーボネ ート、ジ-t-ブチルカーボネート、ジ-n-アミル カーボネート、ジイソアミルカーボネート等 のジアルキルカーボネート等との反応物等が 挙げられる。

 これらのポリオール類は、1種を単独で用 いてもよく、又は、2種以上を任意の比率及� �組み合わせで用いてもよい。上記ポリオー� �類の中でも、ポリエーテルポリオールが好� �しく、中でもポリアルキレングリコールが� �ましく、ポリテトラメチレングリコールが� �に好ましい。

 上記分子量が400以上1500未満のポリオール (a3-1)の分子量の上限は、表面硬度が向上する 点で、より好ましくは1100以下、更に好まし� �は900以下、特に好ましくは800以下である。

 上記分子量が400以上1500未満のポリオール(a3 -1)は、上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)と� ��記ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メ� ��)アクリレート化合物(B)との総和において、 通常0.1×10 ^-4 mol/g以上、好ましくは0.5×10 ^-4 mol/g以上用いられ、また通常2.0×10 ^-4 mol/g以下、好ましくは1.3×10 ^-4 mol/g以下用いられる。

 〔分子量が1500以上のポリオール(a3-1)〕
 分子量が1500以上のポリオールとは、数平均 分子量が1500以上であり、かつ分子中に2個以� ��の水酸基を有する化合物である。
 このような分子量が1500以上のポリオールと しては、特に限定されるものではなく、例え ば、上記分子量が400以上1500未満のポリオー� �(a3-1)の欄で例示したポリオール等が挙げら� �る。上記の中でもポリエーテルポリオール� �好ましく、ポリアルキレングリコールがよ� �好ましく、ポリテトラメチレングリコール� �特に好ましい。また上記分子量が1500以上の� ��リオール(a3-2)は、1種を単独で用いてもよく 、又は、2種以上を任意の比率及び組み合わ� �で用いてもよい。

 上記分子量が1500以上のポリオール(a3-2)の分 子量の下限は、保護層の吸水時の弾性率低下 が小さくなる点で、好ましくは1900以上であ� �。
 また上記分子量が1500以上のポリオール(a3-2) は、上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)と上� ��ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ) アクリレート化合物(B)との総和において、通 常0.05×10 ^-4 mol/g以上、好ましくは0.1×10 ^-4 mol/g以上用いられ、また通常1×10 ^-4 mol/g以下、好ましくは0.5×10 ^-4 mol/g以下用いられる。

 〔水酸基含有(メタ)アクリレート(a4)〕
 水酸基含有(メタ)アクリレートとは、ヒド� �キシル基と(メタ)アクリロイル基とを併せ持 つ化合物である。水酸基含有(メタ)アクリレ� ��トは特に限定されるものではなく、例えば� ��ドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒド� �キシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキ シブチル(メタ)アクリレート、グリシジルエ� ��テルと(メタ)アクリル酸との付加反応物、� �リコールのモノ(メタ)アクリレート体等が挙 げられ、これらの1種を単独で用いてもよく� �又は、2種以上を任意の比率及び組み合わせ� ��用いてもよい。

 なお、水酸基含有(メタ)アクリレート(a4)� ��分子量としては、40以上、更には80以上であ ることが好ましく、また800以下、更には400以 下であることが好ましい。

 上記水酸基含有(メタ)アクリレート(a4)は、� ��記ウレタン(メタ)アクリレート(A)と上記ウ� �タン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アク� ��レート化合物(B)との総和において、通常2×1 0 ^-4 mol/g以上、好ましくは6×10 ^-4 mol/g以上用いられ、また通常21×10 ^-4 mol/g以下、好ましくは17×10 ^-4 mol/g以下用いられる。

 〔ウレタン(メタ)アクリレート(A)の製造方� �〕
 上記ポリイソシアネート(a1)、分子量400未満 のジオール(a2)、分子量が400以上1500未満のポ� ��オール(a3-1)、分子量が1500以上のポリオール (a3-2)、及び水酸基含有(メタ)アクリレート(a4) を含む組成物を付加反応させることにより、 ウレタン(メタ)アクリレート(A)を製造するこ� ��ができる。
 上記付加反応の際、上記(a1)、(a2)、(a3-1)、(a 3-2)、及び(a4)を含む組成物中のイソシアネー� ��基及びヒドロキシル基が化学量論量になる� ��うに調整することが好ましい。

 また、ウレタン(メタ)アクリレート(A)を� �造する際、使用する上記(a3-1)分子量が400以� �1500未満のポリオールに対する分子量が1500以 上のポリオール(a3-2)の重量比、すなわち{(a3-2 )の重量}/{(a3-1)の重量}は、通常0.05以上、好ま しくは0.1以上であり、また通常10以下、好ま� ��くは7以下である。この比が小さすぎると保 護層の吸水時における弾性率が低下する傾向 がある。逆に大きすぎると表面硬度が低下す る。

 また、ウレタン(メタ)アクリレート(A)を� �造する際に使用する上記水酸基含有(メタ)ア クリレート(a4)のヒドロキシル基の量は、上� �分子量400未満のジオール(a2)、分子量が400以� ��1500未満のポリオール(a3-1)、分子量が1500以� �のポリオール(a3-2)、及び水酸基含有(メタ)ア クリレート(a4)中に含有される全ヒドロキシ� �基の量に対して、通常20モル%以上であり、� �ましくは40モル%以上であり、通常80モル%以� �であり、好ましくは60モル%以下である。上� �割合に応じて、得られるウレタン(メタ)アク リレート(A)の分子量を制御することが可能と なる。

 上記ポリイソシアネート(a1)、分子量400未 満のジオール(a2)、分子量が400以上1500未満の� ��リオール(a3-1)、分子量が1500以上のポリオー ル(a3-2)、及び水酸基含有(メタ)アクリレート( a4)を含む組成物の付加反応は、公知の何れの 方法でも行うことができる。例えば、ポリイ ソシアネート(a1)と、(a2)、(a3-1)、(a3-2)、及び( a4)を含む組成物(以下、水酸基含有組成物と� �いう。)と、及び付加反応触媒を含む混合物� ��を、通常40℃以上、好ましくは50℃以上、ま た通常90℃以下、好ましくは75℃以下の条件� �で混合する。その際の混合の方法としては� �ポリイソシアネート(a1)の存在下に、上記水� ��基含有組成物と付加反応触媒とを含む混合� ��を同時に、又は順次滴下する方法とするこ� ��ができる。

 この際、用いられる付加反応触媒として� ��、例えば、ジブチルスズラウレート、ジブ� ��ルスズジオクトエート、ジオクチルスズジ� ��ウレート、ジオクチルスズジオクトエート� ��が好ましく、これらの1種を単独で用いても よく、また、2種以上を任意の比率及び組み� �わせて用いてもよい。

 なお、ウレタン(メタ)アクリレート(A)を� �造する際、上述したように、(a1)、(a2)、(a3-1) 、(a3-2)、及び(a4)以外の成分を1種又は2種以上 、任意の比率及び組み合わせで含有させても よい。また、ウレタン(メタ)アクリレート(A)� ��通常粘度が高く、作業性が低くなることが� ��るので、作業性を向上させるために、後述� ��(メタ)アクリレート等の低粘度液状の化合� �を混合して粘度を低下させることができる� �

 〔ウレタン(メタ)アクリレート(A)の特性〕
 ウレタン(メタ)アクリレート(A)としては、� �明性が高いものが好ましく、例えば、芳香� �を有していない化合物であることが好まし� �。ウレタン(メタ)アクリレート(A)が芳香環を 有する場合、芳香環を有する放射線硬化性組 成物及びその硬化物は、得られるものが着色 物であったり、最初は着色していなくても保 存中に着色したり着色が強まること(いわゆ� �黄変)がある。これは芳香環を形成する二重� ��合部分が、エネルギー線によってその構造� ��不可逆的に変化させることが原因であると� ��えられている。このため、ウレタン(メタ)� �クリレート(A)は、芳香環を有しない構造を� �つことで、色相の悪化がなく、かつ光線透� �率が低下することがないものとすることが� �きる。芳香環を有しないウレタン(メタ)アク リレート(A)は、上記(a1)、(a2)、(a3-1)、(a3-2)、� ��び(a4)として、それぞれ芳香環を有しないも のを選択することにより製造できる。
 なお、本発明においては、放射線硬化性組� ��物としての表面硬化性に優れ、タック(べた つき)が残りにくい面から、上記ウレタン(メ� ��)アクリレート(A)が、ウレタンアクリレート であることが特に好ましい。

 また上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)� �重量平均分子量は、粘度と機械特性とのバ� �ンスの面から通常1,000以上であり、更には1,5 00以上であることが好ましく、また通常10,000� ��下であり、更には5,000以下であることが好� �しい。

 なお、好ましくは上記ウレタン(メタ)ア� �リレート(A)には、2種以上の分子量の異なる� ��リオールが使用されているが、2種以上の分 子量の異なるポリオールがウレタン(メタ)ア� ��リレート(A)中に含有されているか否かは、� ��レタン(メタ)アクリレート(A)を、熱分解GC-MS 又はアルカリメチル化熱分解GC-MS等の方法を� ��み合わせて用い、ポリオールの分子量を分� ��することにより判断可能である。また、ゲ� ��パーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分� �を実施し、得られた分子量分布のプロファ� �ルが2つの極大点を持つかどうかによっても� ��定することができる。

 <ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メ タ)アクリレート化合物(B)>
 保護層の形成に用いられる放射線硬化性組� ��物中には、上記ウレタン(メタ)アクリレー� �(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B)(以下� �適宜「(メタ)アクリレート化合物(B)ともいう 。」)が含有される。(メタ)アクリレート化合 物(B)はウレタン(メタ)アクリレート(A)の粘度� ��低下させる希釈剤の役割を果たし、平滑か� ��均質な保護層形成を可能とすると同時に、� ��い表面硬度の発現を助ける働きを持つ。

 上記(メタ)アクリレート化合物(B)として� �、単官能(メタ)アクリレート(b1)及び/又は多� ��能(メタ)アクリレート(b2)が挙げられる。上� ��単官能(メタ)アクリレート(b1)及び多官能(メ タ)アクリレート(b2)は、1種単独で用いられて もよく、また2種以上を任意の比率及び組み� �わせで用いてもよい。

 単官能(メタ)アクリレート(b1)としては、例� ��ば、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド等の( メタ)アクリルアミド類;ヒドロキシエチル(メ タ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ) アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アク� ��レート等のヒドロキシアルキル(メタ)アク� �レート類;(メタ)アクリロイルモルフォリン� �テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート 、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロ� ��キシル(メタ)アクリレート、トリシクロデ� �ン骨格を有する(メタ)アクリレート等の脂環 式(メタ)アクリレート類等が挙げられ、これ� ��の中で、脂環式(メタ)アクリレート類が好� �しい。また例えば、炭素数5以上、好ましく� ��炭素数5以上、7以下の脂環式炭化水素環の1� ��以上の炭素原子が窒素原子、酸素原子、又� ��硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている� ��基を1つ以上有する複素脂環式(メタ)アクリ� ��ートを好ましく用いることもできる。
 複素脂環式(メタ)アクリレートとしては、� �えば、(メタ)アクリロイルモルフォリン、テ トラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、� ��プロラクトン変性テトラヒドロフルフリル( メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキ� ��ルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられ� �。

 本発明においては、上記の中でも(メタ)� �クリロイルモルフォリン、テトラヒドロフ� �フリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(� �タ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)ア� �リレート、トリシクロデカン骨格を有する(� ��タ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリレ� ��ト類が特に好ましく、イソボルニル(メタ)� �クリレート、トリシクロデカン骨格を有す� �(メタ)アクリレートであるジシクロペンタジ エニル(メタ)アクリレートが吸水時の弾性率� ��下が小さいため、特に好ましい。

 また、多官能(メタ)アクリレート化合物(b2)� ��しては、脂肪族ポリ(メタ)アクリレート類� �脂環式ポリ(メタ)アクリレート類、芳香族ポ リ(メタ)アクリレート類等が挙げられ、具体� ��としては、ポリエチレングリコールジ(メタ )アクリレート、1,2-ポリプロピレングリコー� ��ジ(メタ)アクリレート、1,3-ポリプロピレン� ��リコールジ(メタ)アクリレート、ポリテト� �メチレングリコールジ(メタ)アクリレート、 1,2-ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレ ート、ポリイソブチレングリコールジ(メタ)� ��クリレート、ビスフェノールA、ビスフェノ ールF、或いはビスフェノールS等のビスフェ� ��ールのエチレンオキサイド、プロピレンオ� ��サイド、或いはブチレンオキサイド等のア� ��キレンオキサイド付加物のジ(メタ)アクリ� �ート、ビスフェノールA、ビスフェノールF、 或いはビスフェノールS等のビスフェノール� �水添誘導体のジ(メタ)アクリレート、各種ポ リエーテルポリオール化合物と他の化合物と のブロック、或いはランダム共重合体のジ(� �タ)アクリレート等のポリエーテル骨格を有� ��る(メタ)アクリレート類、及び、ヘキサン� �オールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチル グリコールジ(メタ)アクリレート、ノナンジ� ��ールジ(メタ)アクリレート、メチルオクタ� �ジオールジ(メタ)アクリレート、デカンジオ ールジ(メタ)アクリレート、2,2-ビス[4-(メタ)� ��クリロイルオキシフェニル]プロパン、2,2-� �ス[4-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)� �ェニル]プロパン、ビス(ヒドロキシメチル)� �リシクロ[5.2.1.0 ^2,6 ]デカン=ジ(メタ)アクリレート、p-ビス[β-(メ� ��)アクリロイルオキシエチルチオ]キシリレ� �、4,4’-ビス[β-(メタ)アクリロイルオキシエ� ��ルチオ]ジフェニルスルホン等の2官能の(メ� ��)アクリレート類、トリメチロールプロパン トリス(メタ)アクリレート、グリセリントリ� ��(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトー� �トリス(メタ)アクリレート等の3官能の(メタ) アクリレート類、ペンタエリスリトールテト ラキス(メタ)アクリレート等の4官能の(メタ)� ��クリレート類、ジペンタエリスリトールヘ� ��サ(メタ)アクリレート等の5官能以上の(メタ )アクリレート類等の不定多官能の(メタ)アク リレート類等が挙げられる。

 上記の中でも、架橋生成反応の制御性から2 官能の(メタ)アクリレート類が好ましい。2官 能の(メタ)アクリレート類としては、脂肪族� ��リ(メタ)アクリレート又は脂環式ポリ(メタ) アクリレートが好ましく、さらには、ヘキサ ンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジ� ��ールジ(メタ)アクリレート、メチルオクタ� �ジオールジ(メタ)アクリレートが特に好まし い。また保護層の環境温度変化に伴う変形の 抑制、及び表面硬度の向上等を目的として、 3官能以上の(メタ)アクリレート類を好ましく 用いることもできる。3官能以上の(メタ)アク リレート類としては、上記に例示されたトリ メチロールプロパントリス(メタ)アクリレー� ��、ペンタエリスリトールトリス(メタ)アク� �レート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ� ��)アクリレート等、及び、イソシアヌレート 骨格を有する3官能の(メタ)アクリレート等が 挙げられる。
 上記の中でも特に、ビス(ヒドロキシメチル )トリシクロ[5.2.1.0 ^2,6 ]デカン=ジ(メタ)アクリレート等の脂環式多� �能(メタ)アクリレートが保護層の吸水時の弾 性率低下が小さいため好ましい。

 本発明の保護層の形成に用いられる放射� ��硬化性組成物中におけるウレタン(メタ)ア� �リレート(A)の好ましい含有量の下限は放射� �硬化性組成物の全量に対して、10重量%、好� �しくは15重量%、より好ましくは30重量%であ� �。また上限は85重量%、好ましくは80重量%、� �り好ましくは70重量%である。少なすぎると� �硬化時の収縮が大きくなって樹脂基板のソ� �変形が大きくなる傾向があるため好ましく� �い。逆に多すぎると、組成物の粘度が著し� �増大するため、好ましくない。

 本発明の保護層の形成に用いられる放射� ��硬化性組成物中における、単官能(メタ)ア� �リレート(b1)の好ましい含有量の下限は放射� ��硬化性組成物の全量に対して、10重量%、好� ��しくは15重量%、より好ましくは30重量%であ� ��。また上限は80重量%、好ましくは60重量%、� ��り好ましくは40重量%である。少なすぎると� ��組成物の粘度が大きくなりすぎるため好ま� ��くない。逆に多すぎると、硬化物の表面硬� ��性が低下するため、好ましくない。

 本発明の保護層の形成に用いられる放射� ��硬化性組成物中における、多官能(メタ)ア� �リレート(b2)の好ましい含有量の下限は放射� ��硬化性組成物の全量に対して、0重量%、好� �しくは3重量%、より好ましくは6重量%である� ��また上限は30重量%、好ましくは20重量%、よ� ��好ましくは15重量%である。少なすぎると、� ��成物の表面硬度が低くなりやすいため好ま� ��くない。逆に多すぎると、硬化時の収縮が� ��きくなって樹脂基板のソリ変形が大きくな� ��傾向があるため好ましくない。

 上記多官能(メタ)アクリレート(b2)の分子� ��は、硬化性及び表面硬度を向上させる点か� ��通常300以下であることが好ましく、より好� ��しくは280以下である。逆に、硬化収縮が小� ��くなる点から好ましくは200以上、より好ま� ��くは250以上である。

 なお、保護層の形成に用いられる放射線硬� ��性組成物においては、上記ウレタン(メタ)� �クリレート(A)、及びそれ以外の(メタ)アクリ レート化合物(B)の合計重量に対する、上記分 子量が400以上1500未満のポリオール(a3-1)及び(a 3-2)分子量が1500以上のポリオールの合計重量� ��割合、すなわち、
 {(a3-1)の重量+(a3-2)の重量}/{(A)の重量+(B)の重� ��}
が所定の範囲内であることが好ましい。具体 的には下限が通常0.03以上、より好ましくは0. 08以上であり、上限が通常0.3以下、より好ま� ��くは0.1以下である。この割合が小さすぎる� ��、放射線硬化性組成物を硬化させたときに� ��その硬化収縮率が大きくなり過ぎ、光記録� ��体を変形させることがある。逆に割合が大� ��すぎると、表面硬度が低下することがある� ��

 保護層の形成に用いられる放射線硬化性� ��成物は、その他の成分として、さらに、放� ��線(例えば、活性エネルギー線、紫外線、電 子線等)によって進行する重合反応を開始す� �ための、重合開始剤や補助成分等を含有し� �もよい。

 〔重合開始剤〕
 重合開始剤としては、光によりラジカルを� ��生する性質を有する化合物であるラジカル� ��生剤が一般的であり、本発明の効果を著し� ��損なわない限り、公知の何れのラジカル発� ��剤でも使用可能であり、さらにラジカル発� ��剤と増感剤との併用系であってもよい。

 このようなラジカル発生剤の具体例とし� ��は、ベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベン� ��フェノン、4,4-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ� ��ェノン、4-フェニルベンゾフェノン、メチ� �オルトベンゾイルベンゾエート、チオキサ� �トン、ジエチルチオキサントン、イソプロ� �ルチオキサントン、クロロチオキサントン� �2-エチルアントラキノン、t-ブチルアントラ� ��ノン、ジエトキシアセトフェノン、2-ヒド� �キシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、� �ンジルジメチルケタール、1-ヒドロキシシク ロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインメチ ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン イソブチルエーテル、メチルベンゾイルフォ ルメート、2-メチル-1-〔4-(メチルチオ)フェニ ル〕-2-モルホリノプロパン-1-オン、2,6-ジメ� �ルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ� �、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホ� �フィンオキシド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾ イル)-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオ� ��シド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フ� �ニルホスフィンオキシド、2-ヒドロキシ-1-〔 4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベ� ��ジル]-フェニル〕-2-メチル-プロパン-1-オン� ��が挙げられる。

 これらの中でも、硬化速度が速く架橋密� ��を十分に上げることができることから、ベ� ��ゾフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェ� �ルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキ シルフェニルケトン、2,4,6-トリメチルベンゾ イルジフェニルフォスフィンオキシド、2-ヒ� ��ロキシ-1-〔4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロ� ��オニル)-ベンジル]-フェニル〕-2-メチル-プ� �パン-1-オンが好ましく、1-ヒドロキシシクロ ヘキシルフェニルケトン、2,4,6-トリメチルベ ンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2-� ��ドロキシ-1-〔4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プ� ��ピオニル)-ベンジル]-フェニル〕-2-メチル-� �ロパン-1-オンがさらに好ましい。

 なお、本発明の光記録媒体が、波長380~800 nmのレーザーを光源とする装置に用いられる� ��のである場合には、読み取りに必要なレー� ��ー光が十分に上記保護層を通過するように� ��ラジカル発生剤の種類及び使用量を選択し� ��用いることが好ましい。この場合、放射線� ��化性組成物にレーザー光を吸収し難い短波� ��感光型のラジカル発生剤を使用することが� ��に好ましい。

 上記のラジカル発生剤のうち、このよう� ��短波長感光型のラジカル発生剤としては、� ��ンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェ� ��ン、4-フェニルベンゾフェノン、メチルオ� �トベンゾイルベンゾエート、ジエトキシア� �トフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニ ルプロパン-1-オン、ベンジルジメチルケター ル、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ� ��ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ� ��エチルエーテル、ベンゾインイソプロピル� ��ーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、� ��チルベンゾイルフォルメート等が挙げられ� ��中でも、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェ� �ルケトン等の水酸基を有するものが特に好� �しい。

 これらのラジカル発生剤は、1種を単独で 用いてもよく、また、2種以上を任意の比率� �び組み合わせで用いてもよい。また、ラジ� �ル発生剤の使用量は、上記ウレタン(メタ)ア クリレート(A)、及びそれ以外の(メタ)アクリ� ��ート化合物(B)の合計100重量部に対し、通常0 .1重量部以上、好ましくは1重量部以上、さら に好ましくは2重量部以上、また、通常10重量 部以下、好ましくは7重量部以下、さらに好� �しくは5重量部以下、最も好ましくは4重量部 以下である。使用量が少なすぎると、放射線 硬化性組成物を十分に硬化させることができ なくなる傾向となり、一方、多すぎると、重 合反応が急激に進行して、光学歪みの増大を もたらすだけでなく色相も悪化する傾向があ る。

 また、これらのラジカル発生剤と共に、� ��えば、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4- ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチル� ��ミノ安息香酸アミル、4-ジメチルアミノア� �トフェノン等の公知の増感剤を併用しても� �い。増感剤は1種を単独で用いてもよく、ま� ��、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用 いてもよい。

 また特に重合開始剤としてベンゾフェノ� ��系重合開始剤を用いる場合、上記ウレタン( メタ)アクリレート(A)、及びそれ以外の(メタ) アクリレート化合物(B)の総和100重量部に対し て、ベンゾフェノン系重合開始剤は好ましく は2重量部以下、より好ましくは1重量部以下� ��また、通常0.5重量部以上用いる。ベンゾフ� ��ノン系重合開始剤量が多いと、保護層中の� ��発成分が多くなり、高温、高湿環境下での� ��厚が減少する場合があるためである。

 なお、放射線として、電子線によって重� ��反応を開始させる場合には、上記ラジカル� ��生剤を用いることも出来るが、ラジカル発� ��剤やその他の開始剤を使用しない方が好ま� ��い。重合開始剤を使用しなくても十分硬化� ��るためである。また、上述したラジカル発� ��剤以外の重合開始剤としては、酸化剤等が� ��げられる。

 これらの重合開始剤は、1種類を単独で用 いてもよく、また2種類以上を任意の組み合� �せ、及び比率で用いてもよい。

 〔補助成分〕
 また保護層の形成に用いられる放射線硬化� ��組成物には、本発明の効果を著しく損なわ� ��い限りにおいて、必要に応じて添加剤等の� ��助成分が含有されていてもよい。その補助� ��分の具体例としては、酸化防止剤、熱安定� ��、或いは光吸収剤等の安定剤類;ガラス繊維 、ガラスビーズ、シリカ、アルミナ、酸化亜 鉛、酸化チタン、マイカ、タルク、カオリン 、金属繊維、金属粉等のフィラー類;炭素繊� �、カーボンブラック、黒鉛、カーボンナノ� �ューブ、C ₆₀ 等のフラーレン類等の炭素材料類(フィラー� �、炭素材料類を総称して無機成分と称する� �);帯電防止剤、可塑剤、離型剤、消泡剤、レ ベリング剤、沈降防止剤、界面活性剤、チク ソトロピー付与剤等の改質剤類;顔料、染料� �色相調整剤等の着色剤類;モノマー及び/又は そのオリゴマー;前記無機成分の合成に必要� �硬化剤、触媒、硬化促進剤類等が挙げられ� �これらの補助成分は、1種を単独で用いても� ��く、また、2種以上を任意の比率及び組み合 わせで用いてもよい。これら補助成分の含有 量は、放射線硬化性組成物の全量に対して、 通常20重量%以下、好ましくは10重量%以下、さ らに好ましくは5重量%以下である。

 これらの中で、フィラー類としてのシリ� ��について詳述する。上記放射線硬化性組成� ��に用いるシリカとは、珪素酸化物一般を指� ��、珪素と酸素の比率や、結晶であるかアモ� ��ファスであるかは問わない。上記シリカ粒� ��としては、工業的に生産されている、溶媒� ��に分散されている状態のシリカ粒子、又は� ��体のシリカ粒子;アルコキシシラン等の原料 から誘導、合成されたシリカ粒子等を挙げる ことができる。中でも、上記放射線硬化性組 成物に用いる場合、混合や分散のしやすさか ら、溶媒中に分散されている状態のシリカ粒 子、又は、アルコキシシラン等の原料から誘 導、合成されたシリカ粒子が好ましい。

 上記シリカ粒子の粒径は任意であるが、T EM(透過型電子顕微鏡)等を用いた形態観察に� �って測定される数平均粒径としては、好ま� �くは0.5nm以上、さらに好ましくは1nm以上であ り、また、好ましくは50nm以下、より好まし� �は40nm以下、さらに好ましくは30nm以下、特に 好ましくは15nm以下、より好ましくは12nm以下� ��ある。シリカ粒子としては超微粒子である� ��とが好ましいが、小さすぎると、超微粒子� ��凝集性が極端に増大して、硬化物の透明性� ��機械的強度が極端に低下する傾向があり、� ��子効果による特性が顕著でなくなる傾向が� ��るためである。

 (保護層の形成方法)
 保護層の形成に用いられる放射線硬化性組� ��物は、上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)� �上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(� �タ)アクリレート化合物(B)、及び必要に応じ� ��用いられる上記重合開始剤若しくは上記補� ��成分等を、放射線を遮断した状態で、攪拌� ��均一に混合することにより調製される。そ� ��際の各成分の混合順序としては、特に限定� ��れるものではないが、低粘度の液体成分に� ��粘度の液体成分及び/又は固体成分を加え攪 拌することが好ましい。また重合開始剤は、 最後に加えることが好ましい。

 また、その際の攪拌条件は、特に限定さ� ��るものではない。攪拌温度としては、通常� ��温とするが、通常90℃以下、好ましくは70℃ 以下の温度に加熱してもよい。攪拌速度とし ては、通常100rpm以上、好ましくは300rpm以上、 また、通常1000rpm以下とし、攪拌時間として� �、通常10秒以上、好ましくは3時間以上、ま� �、通常24時間以下とする。

 また、上記保護層は、上記放射線硬化性� ��成物を後述する記録再生機能層上に塗布し� ��放射線(活性エネルギー線や電子線)を照射� �て重合反応を開始させる、いわゆる「放射� �硬化」することによって得られる。上記塗� �方法に制限はなく、例えばスピンコート法� �、一般的な方法とすることができるが、本� �明ではスピンコート法が好ましい。

 また上記放射線硬化性組成物の重合反応� ��形式に制限はなく、例えばラジカル重合、� ��ニオン重合、カチオン重合、配位重合等の� ��知の重合形式を用いることができる。これ� ��重合形式の例示のうち、特に好ましい重合� ��式はラジカル重合である。理由は定かでは� ��いが、重合反応の開始が重合系内で均質か� ��短時間に進行することによる生成物の均質� ��によるものと推定される。

 ここで、上記放射線とは、必要とする重� ��反応を開始する重合開始剤に作用して上記� ��合反応を開始する化学種を発生させる働き� ��有する電磁波(ガンマ線、エックス線、紫外 線、可視光線、赤外線、マイクロ波等)、又� �粒子線(電子線、α線、中性子線、各種原子� �等)である。本発明において好ましく用いら� ��る放射線の一例は、エネルギーと汎用光源� ��を使用可能であることから、紫外線、可視� ��線、電子線が好ましく、特に好ましくは紫� ��線、電子線である。

 放射線として紫外線を用いる場合、紫外� ��によりラジカルを発生する光ラジカル発生� ��を上記重合開始剤として使用することが好� ��しい。この時、必要に応じて増感剤を併用� ��てもよい。上記紫外線の波長は、通常200nm� �上、好ましくは240nm以上、また、通常400nm以� ��、好ましくは350nm以下の範囲である。

 紫外線を照射する装置としては、高圧水� ��ランプ、メタルハライドランプ、マイクロ� ��によって紫外線を発生させる構造の紫外線� ��ンプ等、公知の装置を好ましく用いること� ��できる。上記装置の出力は通常10W/cm以上、� ��ましくは30W/cm以上、また、通常200W/cm以下、 好ましくは180W/cm以下であり、上記装置は、� �照射体に対して通常5cm以上、好ましくは30cm� ��上、また、通常80cm以下、好ましくは60cm以� �の距離に設置するようにすると、被照射体� �光劣化や熱劣化、熱変形等が少なく、好ま� �い。

 上記放射線硬化性組成物は、電子線によ� ��ても好ましく硬化することができ、機械特� ��、特に引張伸び特性に優れた硬化物を得る� ��とができる。電子線を用いる場合、その光� ��及び照射装置は高価であるものの、重合開� ��剤の使用が省略可能であること、及び酸素� ��よる重合阻害を受けず、従って表面硬度が� ��好となるという利点がある。電子線照射に� ��いられる電子線照射装置としては、特にそ� ��方式に制限はないが、例えばカーテン型、� ��リアビーム型、ブロードビーム型、パルス� ��ーム型等が挙げられる。電子線照射の際の� ��速電圧は通常10kV以上、好ましくは100kV以上� ��また、通常1000kV以下、好ましくは200kV以下� �ある。

 これらの放射線は、照射強度を、通常0.1J/cm ² 以上、好ましくは0.2J/cm ² 以上、また、通常20J/cm ² 以下、好ましくは10J/cm ² 以下、より好ましくは5J/cm ² 以下、さらに好ましくは3J/cm ² 以下、特に好ましくは2J/cm ² 以下で照射する。照射強度がこの範囲内であ れば、放射線硬化性組成物の種類に合わせて 照射強度を適宜選択することが可能である。

 放射線の照射時間は通常1秒以上、好まし くは10秒以上、また、通常3時間以下、反応促 進と生産性の点で好ましくは1時間以下であ� �。放射線の照射エネルギーや照射時間が極� �に少ない場合、重合が不完全なため保護層� �耐熱性、機械特性が十分に発現されない場� �がある。また、逆に極端に過剰な場合は黄� �等光による色相悪化に代表される劣化を生� �る場合がある。

 上記放射線の照射は、一段階で照射して� ��よく、或いは複数段階で照射してもよい。� ��の線源としては、通常、放射線が全方向に� ��がる拡散線源を用いる。放射線の照射は、� ��常、放射線硬化性組成物が塗布されたディ� ��クを固定静置した状態、又はコンベアで搬� ��された状態で、放射線源を固定静置して行� ��う。

 [ハードコート層]
 本発明の光記録媒体は、保護層の上にハー� ��コート層が形成されている。ハードコート� ��は、表面硬度がB以上のものであれば、その 種類は特に限定されず、一般的な光記録媒体 におけるハードコート層として公知のものを 用いることができる。また本発明において上 記表面硬度はB以上、好ましくはHB以上、更に 好ましくはF以上、最も好ましくはH以上であ� ��。本発明でいうハードコート層の表面硬度� ��は、光記録媒体(樹脂基板、記録再生機能層 、保護層、及びハードコート層を積層した状 態)のハードコート層表面について、JIS K5400� ��準拠した鉛筆硬度試験により測定した表面� ��度をいうこととする。

 また上記ハードコート層は、波長550nmにお� �る光線透過率が80%以上であることが好まし� �、より好ましくは85%以上、さらに好ましく� �89%以上である。光線透過率の測定は、上述� �た保護層の光線透過率の測定方法と同様と� �れる。
 また水に対する接触角が90°以上であること が好ましく、より好ましくは100°以上である� ��これにより、光記録媒体の防汚性を高いも� ��とすることができる。水に対する接触角の� ��定は、接触角計等を用いた公知の方法で実� ��することができる。

 上記ハードコート層の膜厚は、通常0.5μm� ��上、好ましくは1μm以上、より好ましくは1.5 μm以上とされる。また通常5μm以下、好まし� �は3μm以下、より好ましくは2μm以下とされる 。

 本発明のハードコート層は、上述の水に� ��する接触角が高いこと等の防汚性を有して� ��ることが好ましい。防汚性を有するハード� ��ート材料としては、耐汚染性付与剤として� ��リコーン化合物やフッ素化合物を含有し、� ��つ多官能(メタ)アクリレートモノマーやエ� �キシ化合物、無機ナノ粒子等の無機成分を� �有する放射線硬化性組成物が好ましく用い� �れる。耐汚染性付与剤については具体的に� �、オルガノポリシロキサン骨格等のシリコ� �ン骨格を有する重合体、シリコーン骨格と� �クリル基とを有する放射線硬化性化合物、� �リコーン系界面活性剤等のシリコーン化合� �;フッ素原子を含有する重合体、フッ素原子� ��アクリル基とを有する放射線硬化性化合物� ��フッ素系界面活性剤等のフッ素化合物;が挙 げられる。

 ただし、青色レーザーを用いる光記録媒� ��等の高記録密度媒体の場合は、そのレーザ� ��スポット径が小さいため、指紋や塵、埃な� ��の汚れに敏感である。特に指紋のように有� ��物を含む汚れについては、汚れが光記録媒� ��のレーザー光入射側の表面に付着した場合� ��レーザーによる記録/再生エラー等の深刻な 影響を生じる場合があり、またその除去もし にくいことがあることから、これらの点に留 意することが好ましい。

 本発明において用いることのできる防汚ハ� ��ドコート層形成用材料としては、基本的に� ��ポリシロキサン又はフッ素含有基を含む耐� ��染性付与剤を含む活性エネルギー線硬化性� ��ードコート剤であれば特に制限されないが� ��耐汚染性付与剤に活性エネルギー線硬化性� ��付与されていることが好ましい。具体例と� ��ては、以下のような材料が挙げられる。
(1)末端に活性エネルギー線硬化性基を有する ポリシロキサン化合物及び/又はフッ素化合� �を含み、かつ無機成分を含まない活性エネ� �ギー線硬化性ハードコート剤。
(2)活性エネルギー線硬化性基、及びポリシロ キサンユニット及び/又は有機フッ素基ユニ� �トを含む重合体を含有する活性エネルギー� �硬化性ハードコート剤。
(3)側鎖に活性エネルギー線硬化性基を有する ポリシロキサン化合物及び/又はフッ素化合� �を含有する活性エネルギー線硬化性ハード� �ート剤。

 以下に、上記(1)~(3)を詳述する。
 (1)末端に活性エネルギー線硬化性基を有す� ��ポリシロキサン化合物及び/又はフッ素化合 物を含み、かつ無機成分を含まない活性エネ ルギー線硬化性ハードコート剤は、末端に活 性エネルギー線硬化性基を有するポリシロキ サン化合物及び/又はフッ素化合物を0.01重量� ��以上、10重量部以下、1分子内に3個以上の(� �タ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレ� �トを30重量%以上含有する(メタ)アクリレート 組成物を88重量部以上、99.5重量部以下、光重 合開始剤を0.1重量部以上、10重量部以下(合計 で100重量部)を必須成分として含むことが好� �しい。また、さらに必要に応じ、粘度や塗� �性などを調節するためにこれら必須成分を� �解しうる有機溶剤を加えてもよい。

 末端に活性エネルギー線硬化性基を有する� ��リシロキサン化合物としては、片末端ある� ��は両末端にアクリロイル基又はメタクリロ� ��ル基を有するポリシロキサンであれば、特� ��限定されず、1種類を単独で、又は2種類以� �を任意の比率及び組み合わせで用いること� �できる。上記の中でも、分子量500以上、10000 以下の、両末端に(メタ)アクリロイル基を有� ��るポリジメチルシロキサンが好ましい。
 また、末端に活性エネルギー線硬化性基を� ��するフッ素化合物としては、片末端あるい� ��両末端にアクリロイル基又はメタクリロイ� ��基を有するパーフルオロアルキル化合物、� ��ーフルオロアルキレン化合物、パーフルオ� ��アルキレンポリエーテル化合物等を例示す� ��ことができ、これらを1種単独で、又は2種� �以上を任意の比率及び組み合わせで用いる� �とができる。

 1分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を 有する(メタ)アクリレートを30重量%以上含有� ��る(メタ)アクリレート組成物は、他に1分子� ��に1個以上、2個以下の(メタ)アクリロイル基 を有する(メタ)アクリレートを含んでもよい� ��
 1分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を 有する(メタ)アクリレートを例示すると、ペ� ��タエリスリトールトリアクリレート、ペン� ��エリスリトールテトラアクリレート、ジペ� ��タエリスリトールペンタアクリレート、ジ� ��ンタエリスリトールヘキサアクリレート、� ��トリメチロールプロパンテトラアクリレー� ��、ポリエステルアクリレート類、多官能ウ� ��タンアクリレート類、ポリエポキシアクリ� ��ート類、イソシアヌレート環を有するトリ� ��トキシアクリレート(例えば、東亞合成社製 、アロニックスM315、M313等)等が挙げられ、こ れらを1種単独で、又は2種類以上を任意の比� ��及び組み合わせで用いることができる。も� ��ろんこれらに限定されるものではない。

 1分子中に1個の(メタ)アクリロイル基を有 する(メタ)アクリレート化合物としては、ブ� ��ルメタクリレートやステアリルアクリレー� ��等のアルキル(メタ)アクリレート;シクロヘ� ��シルアクリレートやイソボルニルメタクリ� ��ート等の脂環式(メタ)アクリレート;テトラ� ��ドロフルフリルアクリレートなどのヘテロ� ��子含有環状構造含有アクリレート;等を挙げ ることができるが、その他芳香環を有する(� �タ)アクリレート、ヒドロキシ基を有する(メ タ)アクリレート;ポリアルキレングリコール� ��を有する(メタ)アクリレート;等も好ましく� ��いることが可能である。これらは1種単独で 、又は2種類以上を任意の比率及び組み合わ� �で用いることができる。もちろんこれら以� �のものを排除するものではない。

 1分子中に2個の(メタ)アクリロイル基を有 する(メタ)アクリレート化合物としては、ヘ� ��サンジオールジアクリレート等の脂肪族又� ��脂環式ジオールのジ(メタ)アクリレート;ポ� ��エチレングリコールジアクリレート等のポ� ��アルキレングリコールジ(メタ)アクリレー� �;ポリエステルジアクリレート;ポリウレタン ジアクリレート;二官能のエポキシアクリレ� �ト;等が好ましく、これらを1種単独で、又は 2種類以上を任意の比率及び組み合わせで用� �ることができる。もちろんこれら以外のも� �を排除するものではない。

 光重合開始剤としては、公知のものを広� ��採用できるが、好ましくは、アルキルフェ� ��ン型化合物(α-ヒドロキシアセトフェノン系 、α-アミノアセトフェノン系、ベンジルケタ ール系)、アシルホスフィンオキシド型化合� �、オキシムエステル化合物、オキシフェニ� �酢酸エステル類、ベンゾインエ-テル類、フ� ��ニルギ酸エステル類、ケトン/アミン化合物 等である。具体的には、ベンゾインメチルエ ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ インプロピルエーテル、ベンゾインブチルエ ーテル、ジエトキシアセトフェノン、ベンジ ルジメチルケタール、2-ヒドロキシ-2-メチル� ��ロピオフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキ� �ルフェニルケトン、ベンゾフェノン、2,4,6-� �リメチルベンゾインジフェニルホスフィン� �キシド、2-メチル-[4-(メチルチオ)フェニル]-2 -モルフォリノ-1-プロパノン、2-ベンジル-2-ジ メチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブ� ��ン-1-オン、メチルベンゾイルフォルメート� ��ミヒラーズケトン、N,N-ジメチルアミノ安息 香酸イソアミル、2-クロロチオキサントン、2 ,4-ジエチルチオキサントン等が好ましい。こ れらの光重合開始剤は2種以上を適宜に併用� �ることもできる。

 前記必須成分を溶解する有機溶剤として� ��、アルコール類(エタノール、イソプロパノ ール、イソブタノール等)、ケトン類(アセト� ��、メチルエチルケトン、メチルイソブチル� ��トン等)、アルコキシ基を有するアルコール 類(メトキシエタノール、エチレングリコー� �モノエチルエーテル、プロピレングリコー� �モノメチルエーテル等)、エーテル類(エチレ ングリコールジメチルエーテル、ジエチレン グリコールジメチルエーテル等)、エーテル� �ステル類(プロピレングリコールモノメチル� ��ーテルアセテート、2-エトキシエチルアセ� �ート等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシ レン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロ� ��ル等)等、が好ましい例として挙げられ、ま た、これらを1種単独で、又は2種以上を任意� ��比率及び組み合わせで混合して使用するこ� ��ができる。なお、有機溶剤としては、他の� ��分との相溶性及び/又は均一分散性に優れる ものを適宜選択することが好ましい。

 (2)活性エネルギー線硬化性基及びポリシ� ��キサンユニット及び/又は有機フッ素基ユニ ットを含む重合体を含有する活性エネルギー 線硬化性ハードコート剤は、活性エネルギー 線硬化性基及びポリシロキサンユニット及び /又は有機フッ素基ユニットを含む重合体を0. 1重量部以上、20重量部以下、1分子内に3個以� ��の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アク リレートを30重量%以上含有する(メタ)アクリ� ��ート組成物を79.8重量部以上、99.5重量部以� �、及び光重合開始剤を0.1重量部以上、10重量 部以下(合計で100重量部)を必須成分として含� ��ことが好ましい。なお、(メタ)アクリレー� �組成物全体の50重量%を越えない範囲で、例� �ばシリカ等の無機(酸化物)微粒子を含むよう に、有機無機ハイブリッド型の(メタ)アクリ� ��ートを加えてもよい。また、さらに必要に� ��じ、粘度や塗布性などを調節するためにこ� ��ら必須成分を溶解しうる有機溶剤を加えて� ��よい。

 活性エネルギー線硬化性基及びポリシロ� ��サンユニット及び/又は有機フッ素基ユニッ トを含む重合体としては、特に限定されない が、例えばジメルカプトシリコン及び/又は� �ーフルオロアルキル(メタ)アクリレートとエ ポキシ基含有(メタ)アクリレートとを必須成� ��として共重合し、その共重合体のエポキシ� ��に(メタ)アクリロイル基を有するカルボン� �を付加させて得られる重合体等を好ましい� �として示すことができるが、もちろんこれ� �限定されるものではない。

 (3)側鎖に活性エネルギー線硬化性基を有� ��るポリシロキサン化合物及び/又はフッ素化 合物を含有する活性エネルギー線硬化性ハー ドコート剤は、側鎖に活性エネルギー線硬化 性基を有するポリシロキサン化合物及び/又� �フッ素化合物を0.01重量部以上、10重量部以� �、1分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基� ��有する(メタ)アクリレートを30重量%以上含� �する(メタ)アクリレート組成物を88重量部以� ��、99.5重量部以下、及び光重合開始剤を0.1重 量部以上、10重量部以下(合計で100重量部)を� �須成分として含むことが好ましい。なお、(� ��タ)アクリレート組成物全体の50重量%を越え ない範囲で、シリカなどの無機(酸化物)微粒� ��を含むように、有機無機ハイブリッド型の( メタ)アクリレートを加えてもよい。また、� �らに必要に応じ、粘度や塗布性などを調節� �るためにこれら必須成分を溶解しうる有機� �剤を加えてもよい。

 側鎖に活性エネルギー線硬化性基を有す� ��ポリシロキサン化合物及び/又はフッ素化合 物としては、特に限定はされないが、好まし い例をいくつか示すと、側鎖に1分子あたり2� ��以上の(メタ)アクリロイル基を有するポリ� �ロキサン化合物である、ポリ(ジメチルシロ� ��サン-メチル(メタ)アクリロイルオキシアル� ��ルシロキサン)、ポリ(ジメチルシロキサン-� ��チル(メタ)アクリロイルシロキサン)、ポリ( ジメチルシロキサン-メチル(メタ)アクリロイ ルオキシアルキルオキシシロキサン)や、側� �に1分子あたり2個以上の(メタ)アクリロイル� ��を有するフッ素化合物である、ポリパーフ� ��オロアルキレンポリエーテル、パーフルオ� ��アルキルメルカプタン末端封止ポリグリシ� ��ルメタクリレートオリゴマーの(メタ)アク� �ル酸変性物等を挙げることができる。これ� �は、1種単独で、又は2種以上を任意の比率及 び組み合わせで用いることができる。

 また上記ハードコート層を形成する際の� ��ードコート層形成用放射線硬化性組成物の� ��布方法は特に限定されるものではなく、例� ��ばスピンコート法等の一般的な塗布方法と� ��ることができ、スピンコート法が好ましい� ��また上記ハードコート層形成用放射線硬化� ��組成物の硬化に用いられる放射線について� ��特に限定されず、例えば上記保護層の形成� ��際に用いられる放射線と同様とすることが� ��きる。

 [樹脂基板]
 本発明に用いられる樹脂基板について制限� ��無く、光記録媒体の樹脂基板として公知の� ��のを任意に用いることができる。光記録媒� ��の樹脂基板の形状は任意であるが、通常は� ��板形状に形成される。

 また、樹脂基板の材料は光透過性材料で� ��れば他に制限は無い。即ち、光情報の記録� ��再生に用いる波長の光が透過しうる任意の� ��材で形成することができる。その具体例と� ��ては、ポリカーボネート樹脂、ポリメタク� ��レート樹脂、ポリオレフィン樹脂等の熱可� ��性樹脂等を用いることができる。中でもポ� ��カーボネート樹脂は、CD-ROM等においても特� ��広く用いられているものであり、安価であ� ��ので特に好ましい。なお、樹脂基板の材料� ��、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任� �の組み合わせ及び比率で併用してもよい。

 さらに、樹脂基板の寸法にも制限は無く任� ��である。ただし、樹脂基板の厚さは、通常0 .1mm以上、好ましくは0.3mm以上、より好ましく は0.5mm以上、また、通常20mm以下、好ましくは 15mm以下、より好ましくは3mm以下である。中� �も、1.2±0.2mm程度の厚さの樹脂基板がしばし� ��使用される。また、樹脂基板の外径は、一� ��的には120mm程度である。
 また、樹脂基板の製造方法に制限は無く任� ��であるが、例えば、光透過性樹脂の射出成� ��などによって製造することができる。

 [記録再生機能層]
 本発明に用いられる記録再生機能層は、本� ��明の光記録媒体が、再生専用の媒体(ROM媒体 )である場合と、一度の記録のみ可能な追記� �の媒体(Write Once媒体)である場合と、記録消� ��を繰り返し行える書き換え可能型の媒体(Rew ritable媒体)である場合とによって、それぞれ� ��目的に応じた層構成を採用することができ� ��。例えば、再生専用の媒体においては、記� ��再生機能層は、通常、Al、Ag、Au等の金属を� ��有する単層で構成される。また、追記型の� ��体や書き換え可能型の媒体においては、記� ��再生機能層は、通常、反射層、誘電体層及� ��記録層等から構成される。例えば書き換え� ��能型の光記録媒体における記録再生機能層� ��、樹脂基板上に直接設けられた金属材料か� ��形成された反射層と、相変化型材料により� ��成された記録層と、記録層を上下から挟む� ��うに設けられた2つの誘電体層とで構成され るもの等とすることができる。

 上記反射層としては、例えばAg、Ag合金、 Al、Al合金、Au、Au合金等種々の材料を用いる� ��とができ、これらの1種を単独で用いてもよ く、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で� �用してもよい。より好ましくは、純Ag;AgにTi� ��Mg、Au、Cu、Nd又はPd等の元素を含む合金;Alに Ta、Ti、Cr、Mo等の元素を含む合金;等が用いら れる。

 また誘電体層としては、SiO ₂ 、ZnO、Al ₂ O ₃ 、Ta ₂ O ₅ 、Nb ₂ O ₅ 等の酸化物;GeN、SiN、GeN、TaN等の窒化物;SiC等� ��炭化物;MgF ₂ 、CaF ₂ 等のフッ化物;ZnS、Y ₂ O ₂ S等の硫化物;等が好ましく用いられる。中で� ��ZnS-SiO ₂ 、SiN、Ta ₂ O ₅ 、Y ₂ O ₂ Sが成膜速度が大きく膜応力が小さい点で特� �好ましい。

 また記録層としては、無機元素で構成さ� ��た材料、有機色素等の有機化合物で構成さ� ��た材料等を用いることができる。無機元素� ��構成された材料としては、加熱して分解す� ��物質と熱的に安定な物質の両方を含有する� ��料が挙げられる。加熱して分解する物質の� ��体例としては、Cr、Mo、W、Fe、Ge、Sn及びSbか らなる群から選ばれる少なくとも1種の元素� �窒化物、Ir、Au、Ag及びPtからなる群から選ば れる少なくとも1種の元素の酸化物等が挙げ� �れる。熱的に安定な物質の具体例としては� �Ti、Zr、Hf、V,Nb、Ta、Al及びSiからなる群から� ��ばれる少なくとも1種の元素の窒化物、Zn、A l、Y、Zr、Ti、Nb、Ni、Mg、及びSiからなる群か� ��選ばれる少なくとも1種の元素の酸化物等が 挙げられる。記録層には、これらの1種を単� �で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わ� ��及び比率で併用してもよい。

 [光記録媒体]
 本発明の光記録媒体は、上記樹脂基板上に� ��録再生機能層、保護層、及びハードコート� ��を有するものであれば、その構成や用途等� ��特に限定されるものではなく、上述した各� ��以外に、適宜必要な層を有していてもよい� ��
 本発明においては、特に、上記光記録媒体� ��膜面入射型、又はブルーレーザーを用いる� ��世代高密度光記録媒体であることが好まし� ��。
 次世代高密度光記録媒体とは、波長380~800nm� ��レーザー光、好ましくは波長380~450nmのレー� ��ー光を用いる光記録媒体を意味する。

 なお、本発明の光記録媒体は単板で用いら� ��るものであってもよく、2枚以上を貼り合わ せて用いられるものであってもよい。また、 必要に応じてハブを付け、カートリッジへ組 み込んで用いられるものであってもよい。
 本発明の光記録媒体は、好ましくは、25℃� �環境下で一定時間静置後、5℃の環境下で1時 間静置した後の上記光記録媒体、及び25℃の� ��境下で一定時間静置後、55℃の環境下で1時� ��静置した後の上記光記録媒体について、垂� ��方向への変位量を測定した際、いずれも上� ��変位量が所定の範囲内に収まる。上記変位� ��を所定の範囲内とすることにより、環境温� ��が変化した場合であっても、光記録媒体を� ��定して使用することが可能である。

 以下、上記垂直方向への変位量の測定につ� ��て説明する。
 垂直方向への変位量の測定に供される対温� ��ディスク変形測定システムの概要を図1に示 す。なお図1では、恒温槽内に光記録媒体の� �形を検出する装置(以下、適宜「光記録媒体� ��形検出装置」ともいう。)が設置されている が、上記に限定されるものではなく、恒温槽 外に光記録媒体変形検出装置が形成されても よい。また図1は光記録媒体変形検出装置の� �ステムの概要を説明するために便宜的に用� �られるものであり、本発明の要旨を逸脱し� �い限り、いかなる変更を加えることも可能� �ある。
 光記録媒体変形検出装置における測定は、� ��記録媒体の中心部を、固定おもりにより固� ��して行う。光記録媒体の固定方法は特に限� ��されるものではなく、光記録媒体の形状に� ��り適宜選択される。通常、光記録媒体は平� ��円環形状に形成されていることから、例え� ��光記録媒体変形検出装置内に設けられた軸� ��光記録媒体の中央の穴を通し、固定おもり� ��より固定する方法等とすることができる。

 次いで、固定おもりにより固定された光記� ��媒体について、変位センサを用い、光記録� ��体の記録再生可能領域のうち、最も光記録� ��体の中心から遠い位置(以下、適宜「測定点 」ともいう。)のハードコート層表面の空間� �位置を測定する。なお、本発明でいう光記� �媒体の記録再生可能領域とは、光記録媒体� �各種記録再生装置に用いられる際に、記録� �生に供される領域をいうこととする。
 上記測定により得られたデータは、変位セ� ��サと接続された計算機に送信され、上記垂� ��方向への変位量は、基準時データと測定デ� ��タとの比較により算出される。上記基準時� ��ータとは、25℃での光記録媒体について、� �記測定点の空間的位置を測定したデータと� �る。また本発明でいう垂直方向とは、25℃の 環境下における光記録媒体のハードコート層 表面に対して垂直な方向とする。測定は通常 複数回実施し、その最大値を採用する。

 本発明において、上記光記録媒体変形検出� ��置を用いて垂直方向への変位量を測定する� ��体的な方法を以下説明する。
 まず、光記録媒体を25℃に設定された恒温� �中に通常1時間程度静置する。この際、恒温� ��内の湿度は通常45%RHとする。また静置方法� �しては、光記録媒体に荷重がかからない方� �であれば特に限定されない。
 その後、恒温槽内、又は恒温槽外に設置さ� ��た上記光記録媒体変形検出装置にて、上記� ��定点の空間的位置を測定する。この際、測� ��されたデータが基準値とされる。
 続いて、上記恒温槽の温度を55℃、又は5℃� ��変更し、上記光記録媒体を恒温槽中に静置� ��、1時間保存する。この際の恒温槽の湿度等 の条件は、25℃設定時と同様とされる。なお� ��25℃設定の恒温槽、及び55℃又は5℃設定の� �温槽は、同一のものであってもよく、また� �なるものであってもよい。
 上記温度で1時間保存後、通常5分以内に、� �記光記録媒体変形検出装置にて上記測定点� �空間的位置を測定し、得られたデータを、� �準データと比較し、上記測定点の垂直方向� �の変位量(絶対値)を算出する。
 なお、図1に示すように、光記録媒体が保護 層及びハードコート層側に凹変形した場合は 変形値をマイナスとし、光記録媒体が保護層 及びハードコート層側に凸変形した場合は変 形値をプラスとして区別することも可能であ る。上記プラス・マイナスは逆に設定するこ とも可能である。

 本発明においては上記測定により得られ� ��、55℃に一時間静置した後の上記垂直方向� �の変位量(絶対値)、及び5℃に一時間静置し� �後の上記垂直方向への変位量(絶対値)のいず れも、通常150μm以下であり、好ましくは130μm 以下であり、より好ましくは120μm以下である 。これにより、光記録媒体の環境温度が変化 した場合であっても、トラッキングのずれが 小さく、安定して使用することが可能となる からである。