OPTISCHES SYSTEM, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches System für eine Projektionsbe- lichtungsanlage, eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen opti- schen System und ein Verfahren zum Betreiben eines derartigen optischen Sys- tems. Der Inhalt der Prioritätsanmeldung DE 102021212971.4 wird durch Bezug- nahme vollumfänglich miteinbezogen. Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithogra- phieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Be- leuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Sub- strat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstel- lung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwi- ckelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, ins- besondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellen- länge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - bre- chenden Optiken, das heißt, Linsen, eingesetzt werden. Ferner kann ein wie zuvor erwähntes Projektionssystem neben den Spiegeln auch Blenden umfassen, die einen Strahlengang des Projektionssystems zumin- dest abschnittsweise abschatten können. Diese Blenden dienen in der Form von Apertur- sowie Obskurationsblenden der Formung einer Austrittspupille und als Falschlichtblenden dem Entfernen unerwünschten Lichts aus dem Bild oder von Orten, an denen es zu störender Erwärmung führen kann. Die Geometrie der Blenden hat einen erheblichen Einfluss auf die Abbildungsqualität. Ein wie zuvor erläutertes Beleuchtungssystem arbeitet oftmals mit facettierten Spiegeln oder anderen Komponenten, die eine Pupillenfacettierung bewirken, wie etwa Mischstäbe oder Wabenkondensatoren. Die resultierende diskontinu- ierliche Lichtverteilung in der Austrittspupille führt zu einer hohen Sensitivität auf den Pupillenbeschnitt durch die jeweilige Blende, weil die Energie im Win- kelraum stärker lokalisiert ist und es einen Unterschied ergibt, ob beispielsweise ein EUV-"Stern" (Engl.: Illumination Spot) abgeschnitten wird oder durchgelas- sen und ob das Licht entsprechend interferierend zur Abbildung beiträgt. Die Blenden werden üblicherweise als dünne Metallteile, insbesondere als Ble- che, mit definierter Form gefertigt. Weil die Formgenauigkeit wichtig ist, kosten sie deutlich mehr, als der Materialeinsatz vermuten lässt. Fangen die Blenden nun aufgabengemäß Licht ab, so werden sie wenigstens einen Teil davon absor- bieren und sich dadurch erwärmen. Während Aperturblenden und Falschlichtblenden zumeist am Rand des opti- schen Strahlenganges stehen und folglich über Material großen Querschnitts thermal an die Außenwelt angebunden werden können, ist die Situation für eine mitten in dem Strahlengang stehende Obskurationsblende schwieriger. Eine derartige Obskurationsblende kann mit Hilfe von schneidenförmigen Hal- terungen oder Drähten in Position gehalten werden. Diese Halterung, beispiels- weise in Form der zuvor erwähnten Drähte blockiert Nutzlicht und wird deshalb so dünn wie möglich ausgeführt. Weil die Wärmeleitung zum Materialquer- schnitt proportional ist, wirkt die Kühlung der Obskurationsblende über diese Anbindung schwach. Speziell im Vakuum ist auch die Gaskühlung gering. Die Strahlungskühlung trägt gemäß dem Stefan-Boltzmann-Gesetz erst bei höheren Temperaturen zur Wärmeabfuhr bei. Wird beispielsweise davon ausgegangen, dass eine Größen- ordnung von etwa 1 W absorbierte Leistung auftreten kann, so kann sich die Obskurationsblende im statischen Zustand durchaus um mehrere 10 K erwär- men. Metallische Wärmeausdehnungskoeffizienten liegen in einer Größenordnung von relativ 1E-5/K. Die Ausdehnung einer Obskurationsblende liegt in der Größen- ordnung von 10 mm. Somit sind Formänderungen in der Größenordnung von Mikrometern oder umgerechnet auf Pupillenkoordinaten in der Größenordnung von 0,01 mσ bis 0,1 mσ (1 σ = volle Pupille) zu erwarten. Aufgrund der oben geschilderten diskontinuierlichen Lichtverteilung in der Aus- trittspupille kann bereits ein solch scheinbar kleiner Wert spürbar die Abbil- dung beeinflussen und in einem Beispielfall bei Strukturbreiten in der Größen- ordnung von 10 nm eine Strukturgrößenänderung in der Größenordnung von 5 pm bewirken. Wird davon ausgegangen, dass die Strukturgrößen und damit de- ren Toleranzen perspektivisch sinken, während gleichzeitig die Bestrahlleistun- gen steigen, so erwächst hier ein merklicher Budgetbeitrag. Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein verbessertes optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage bereit- zustellen. Demgemäß wird ein optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage vorgeschlagen. Das optische System umfasst eine Blende, insbesondere eine Obskurationsblende, eine Blende für die numerische Apertur oder eine Falsch- lichtblende, die zumindest abschnittsweise in einem Strahlengang des optischen Systems angeordnet ist, um den Strahlengang zumindest abschnittsweise abzu- schatten, und eine Heizeinrichtung zum Einbringen von Wärme in die Blende, wobei die Blende mit Hilfe des Einbringens der Wärme von einer Ausgangsgeo- metrie in eine Designgeometrie verformbar ist. Das optische System umfasst ferner einen Temperatursensor, ein Photoelement und/oder eine Infrarotkamera, wobei eine Steuer- und Regeleinrichtung des optischen Systems dazu eingerich- tet ist, basierend auf Messignalen des Temperatursensors, des Photoelements und/oder der Infrarotkamera und/oder auf Informationen betreffend eine Tempe- raturverteilung weiterer optischer Elemente, die an vergleichbarer Position wie die Blende in dem Strahlengang angeordnet sind, eine lokale Blendentempera- turverteilung der Blende zu bestimmen und die Heizeinrichtung derart anzu- steuern, dass eine Soll-Blendentemperaturverteilung der Blende erzielbar ist. Dadurch, dass die Heizeinrichtung vorgesehen ist, ist es möglich, Wechsel in der absorbierten Nutzleistung und damit Temperaturschwankungen auszugleichen. Strukturgrößenvariationen sowie Telezentriefehler aufgrund schwankender Blendengeometrie können hierdurch im Wesentlichen eliminiert werden. Hie- raus resultiert ein stabiles Abbildungsverhalten. Ferner ist es vorteilhafterweise auch möglich, mit Hilfe des gezielten Eintrags der Wärme in die Blende gezielt Einfluss auf Strukturgrößen oder -lagen zu nehmen, indem eine Temperatur der Blende als Manipulator genutzt wird und mit Hilfe der Heizeinrichtung die De- signgeometrie der Blende an eine gegebene Abbildungssituation angepasst wird. Das optische System ist vorzugsweise eine Projektionsoptik der Projektionsbe- lichtungsanlage. Demgemäß kann das optische System auch als Projektionsoptik bezeichnet werden. Das optische System kann mehrere optische Elemente, bei- spielsweise Spiegel, insbesondere EUV-Spiegel, umfassen. Beleuchtungsstrah- lung oder Arbeitslicht folgt dem Strahlengang des optischen Systems durch das optische System. Dabei wird die Beleuchtungsstrahlung oder das Arbeitslicht an den optischen Elementen reflektiert. Die Blende absorbiert die Beleuchtungs- strahlung teilweise. Dabei wird Wärme in die Blende eingebracht. Die Blende für die numerische Apertur kann auch als numerische Aperturblende bezeichnet werden. Das heißt insbesondere, dass die Begriffe "numerische Aperturblende" und "Blende für die numerische Apertur" beliebig gegeneinander getauscht wer- den können. Mit Hilfe der Blende ist es möglich, den Strahlengang zumindest teilweise abzu- schatten, um diesen dabei zu formen. Die Blende deckt den Strahlengang teil- weise ab, so dass die Beleuchtungsstrahlung auf die Blende trifft. Dass die Blen- de "zumindest abschnittsweise" in dem Strahlengang angeordnet ist, bedeutet vorliegend insbesondere, dass die Blende in den Strahlengang hineinragt. Dabei kann die Blende seitlich in den Strahlengang hineinragen und diesen seitlich beschneiden. Die Blende kann jedoch auch vollständig in dem Strahlengang an- geordnet sein. Die Blende kann eine Blende für die numerische Apertur, eine Obskurationsblende oder eine Falschlichtblende sein. Die Blende umfasst eine lichtbestimmende Kante. Die lichtbestimmende Kante kann geschlossen oder umlaufend sein. Die lichtbestimmende Kante kann jedoch auch offen sein. Die Blende ist in der Ausgangsgeometrie dabei derart geformt, dass die Blende bei einer maximal absorbierten Leistung unter Berücksichtigung der dabei auf- tretenden Wärmeausdehnung die Designgeometrie annimmt. Die Heizeinrich- tung ist dazu geeignet, die Wärme in die Blende einzubringen. Hierzu kann die Heizeinrichtung beispielsweise mit Hilfe von elektromagnetischer Strahlung, insbesondere von Infrarotstrahlung, die Blende erwärmen. Alternativ oder zu- sätzlich ist auch eine Widerstandsheizung möglich. Durch das Einbringen der Wärme verformt sich die Blende wärmebedingt. Ins- besondere dehnt sich die Blende wärmebedingt aus. Die Blende ist hierzu vor- zugsweise aus einem metallischen Werkstoff gefertigt. Unter der "Ausgangsgeo- metrie" oder "Ausgangsform" ist vorliegend eine Geometrie oder Form zu verste- hen, die die Blende, insbesondere die lichtbestimmende Kante der Blende, auf- weist, bevor Wärme in die Blende eingebracht wird. Unter der "Designgeomet- rie" oder "Designform" ist vorliegend eine Geometrie oder eine Form der Blende, insbesondere der lichtbestimmenden Kante der Blende, zu verstehen, die für ein stabiles und reproduzierbares Abbildungsverhalten erforderlich ist. Die Blende ist vorzugsweise plattenförmig oder blechförmig. Vorzugsweise ist die Blende aus einem metallischen Werkstoff gefertigt, der sich wärmebedingt aus- dehnen kann. Beispielsweise kann die Blende aus einem Stahlblech oder Alumi- niumblech gefertigt sein. Die Blende kann durchgehend aus demselben Material gefertigt sein. Alternativ ist es auch möglich, die Blende schichtweise aus meh- reren Elementen aufzubauen, die aus unterschiedlichen metallischen Werkstof- fen gefertigt sind. Hierdurch kann die Blende als Bimetallelement oder Bime- tallblende verwirklicht werden. Hierdurch ist es möglich, einen vergrößerten Ak- tuierungsbereich der Blende zu verwirklichen. Gemäß einer Ausführungsform weist die Heizeinrichtung einen Heizstrahler zum Bestrahlen der Blende mit elektromagnetischer Strahlung, insbesondere mit Infrarotstrahlung, auf. Beispielsweise kann die elektromagnetische Strahlung auf eine Vorderseite der Blende einfallen. Die Vorderseite ist dazu eingerichtet, die elektromagnetische Strahlung, insbesondere die Infrarotstrahlung, zu absorbieren. Alternativ kann die elektromagnetische Strahlung auch auf eine der Vorderseite abgewandte Rückseite der Blende einfallen. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Heizeinrichtung eine an der Blende angebrachte Heizstruktur auf. Die Heizstruktur ist insbesondere ein elektrischer Widerstand. Die Heizstruktur ist somit zum elektrischen Widerstandsheizen der Blende geeignet. Die Heizein- richtung kann nur den Heizstrahler, nur die Heizstruktur oder aber den Heiz- strahler und die Heizstruktur umfassen. Die Heizstruktur kann beispielsweise direkt in die Blende eingearbeitet sein. Die Heizstruktur ist vorzugsweise mit Hilfe eines geeigneten Isolators gegenüber der restlichen Blende isoliert. Gemäß einer weiteren Ausführungsform erfolgt eine Stromversorgung der Heiz- struktur über Halterungen der Blende. Für den Fall, dass die Blende eine Obskurationsblende ist, weist diese mehrere drahtförmige oder schneidenförmige Halterungen auf, welche durch den Strah- lengang verlaufen und welche für eine möglichst geringe Abschattung des Strah- lengangs möglichst schmal sind. Über diese Halterungen kann die Heizstruktur bestromt werden. Hierdurch kann auf eine zusätzliche elektrische Anbindung der Heizstruktur vorteilhafterweise verzichtet werden. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Heizeinrichtung dazu eingerich- tet, in unterschiedliche Bereiche der Blende unterschiedlich viel Wärme einzu- bringen. Beispielsweise ist die Heizstruktur lediglich einem der Bereiche zugeordnet. Dies ermöglicht es beispielsweise, denjenigen Bereich, dem die Heizstruktur zu- geordnet ist, stärker zu erwärmen als einen anderen Bereich ohne Heizstruktur. Der andere Bereich kann jedoch beispielsweise über den Heizstrahler erwärmt werden. Durch das ungleiche Erwärmen der unterschiedlichen Bereiche kann die Verformung der Blende gezielt angesteuert werden. Die Blende kann somit beliebig manipuliert werden. Das optische System umfasst ferner einen Temperatursensor, ein Fotoelement und/oder eine Infrarotkamera auf, wobei eine Steuer- und Regeleinrichtung des optischen Systems dazu eingerichtet ist, basierend auf Messsignalen des Tempe- ratursensors, des Fotoelements und/oder der Infrarotkamera und/oder auf In- formationen betreffend eine Temperaturverteilung weiterer optischer Elemente, die an vergleichbarer Position wie die Blende in dem Strahlengang angeordnet sind, eine lokale Blendentemperaturverteilung der Blende zu bestimmen und die Heizeinrichtung derart anzusteuern, dass eine Soll- Blendentemperaturverteilung der Blende erzielbar ist. Vorzugsweise sind der Temperatursensor und/oder das Fotoelement direkt an der Blende angebracht. Es kann eine beliebige Anzahl an Temperatursensoren oder Fotoelementen vorgesehen sein. Die Infrarotkamera ist insbesondere derart angeordnet, dass diese beispielsweise die Vorderseite der Blende erfassen kann, um dort beispielsweise die lokale Blendentemperaturverteilung der Blende zu bestimmen. Die "Soll-Blendentemperaturverteilung" ist vorliegend beispielswei- se diejenige Blendentemperaturverteilung, bei der die Designgeometrie ange- nommen wird. Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die Messsignale des Temperatur- sensors und/oder des Fotoelements über Halterungen der Blende übertragbar, und/oder die Messsignale des Temperatursensors und/oder des Fotoelements sind drahtlos übertragbar. Mit Hilfe des Übertragens der Messsignale über die zuvor schon erläuterten Halterungen kann auf eine zusätzliche Verdrahtung oder Verkabelung des Tem- peratursensors und/oder des Fotoelements verzichtet werden. Dies trifft auch für die drahtlose Übertragung zu. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Blende eine lichtabsorbieren- de Beschichtung auf. Die lichtabsorbierende Beschichtung kann beispielsweise eine mattschwarze La- ckierung oder dergleichen sein. Die Blende kann auch eine gezielte Oberflächen- rauigkeit oder Oberflächenstrukturierung aufweisen. Insbesondere ist die Be- schichtung dazu eingerichtet, elektromagnetische Strahlung, bevorzugt Infrarot- strahlung, zu absorbieren, um Wärme in die Blende einzubringen. Ferner wird eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen optischen System vorgeschlagen. Wie zuvor erwähnt, kann das optische System eine Projektionsoptik der Projek- tionsbelichtungsanlage sein. Die Projektionsbelichtungsanlage kann eine EUV- Lithographieanlage sein. EUV steht für "Extreme Ultraviolet" und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Die Projektions- belichtungsanlage kann auch eine DUV-Lithographieanlage sein. DUV steht für "Deep Ultraviolet" und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Weiterhin wird ein Verfahren zum Betreiben eines derartigen optischen Systems für eine Projektionsbelichtungsanlage vorgeschlagen. Das Verfahren umfasst die Schritte: a) Bereitstellen einer Blende, insbesondere einer Obskurationsblende, einer Blende für die numerische Apertur oder einer Falschlichtblende, die zu- mindest abschnittsweise in einem Strahlengang des optischen Systems angeord- net ist, so dass der Strahlengang von der Blende zumindest abschnittsweise ab- geschattet wird, b) Einbringen von Wärme in die Blende mit Hilfe einer Heizein- richtung, und c) Verformen der Blende mit Hilfe der Wärme von einer Aus- gangsgeometrie in eine Designgeometrie. Dabei wird in dem Schritt b) basierend auf Messsignalen eines Temperatursensors, eines Fotoelements und/oder einer Infrarotkamera und/oder auf Informationen betreffend eine Temperaturvertei- lung weiterer optischer Elemente, die an vergleichbarer Position wie die Blende in dem Strahlengang angeordnet sind, eine lokale Blendentemperaturverteilung der Blende bestimmt und die Heizeinrichtung derart angesteuert, dass eine Soll- Blendentemperaturverteilung der Blende erzielt wird. Insbesondere wird auch dadurch Wärme in die Blende eingebracht, dass diese zumindest abschnittsweise in dem Strahlengang angeordnet ist. Die Beleuch- tungsstrahlung oder das Arbeitslicht fällt dann auf die Blende und erwärmt die- se zumindest abschnittsweise. Mit Hilfe der Heizeinrichtung wird dann noch zu- sätzliche Wärme in die Blende eingebracht. Das Verformen der Blende in dem Schritt c) erfolgt dadurch, dass sich die Blende wärmebedingt ausdehnt und dadurch verformt. Das Bereitstellen der Blende kann ein Anordnen der Blende in dem Strahlengang umfassen. Gemäß einer Ausführungsform wird in dem Schritt b) in unterschiedliche Berei- che der Blende unterschiedlich viel Wärme eingebracht. Hierdurch besteht die Möglichkeit, die Blende lokal variabel zu heizen. Hier- durch kann die Blende beliebig manipuliert werden. Es können beliebig viele unterschiedliche oder sich voneinander unterscheidende Bereiche vorgesehen sein. Die Bereiche können sich zumindest abschnittsweise überschneiden. Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird in dem Schritt b) ein vorbestimm- tes Heizleistungsverhältnis der unterschiedlichen Bereiche eingestellt. Dies ermöglicht ein gezieltes und reproduzierbares Heizen der unterschiedlichen Bereiche. Unter dem "Heizleistungsverhältnis" ist vorliegend ein Verhältnis un- terschiedlicher Heizleistungen zu verstehen, mit denen die sich voneinander un- terscheidenden Bereiche geheizt werden. In dem Schritt b) wird basierend auf Messsignalen eines Temperatursensors, eines Fotoelements und/oder einer Infrarotkamera und/oder auf Informationen betreffend eine Temperaturverteilung weiterer optischer Elemente, die an ver- gleichbarer Position wie die Blende in dem Strahlengang angeordnet sind, eine lokale Blendentemperaturverteilung der Blende bestimmt und die Heizeinrich- tung derart angesteuert, dass eine Soll-Blendentemperaturverteilung der Blende erzielt wird. Hierdurch ist es basierend auf den Messsignalen und/oder den Informationen möglich, die Blende derart zu erwärmen, dass diese in dem Schritt c) ihre De- signgeometrie annimmt. Wenn die Soll-Blendentemperaturverteilung erreicht ist, hat die Blende ihre Designgeometrie oder Designform angenommen. Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird in dem Schritt b) mit Hilfe des Einbringens der Wärme eine Steuerung und/oder Regelung implementiert, die auch bei wechselnder Absorption von Beleuchtungsstrahlung im Betrieb des op- tischen Systems eine Blendentemperatur der Blende in einem Temperaturkorri- dor von 10 K, bevorzugt von 5 K, weiter bevorzugt von 2 K, hält. Unter einem "Temperaturkorridor" ist vorliegend ein Toleranzbereich oder ein Toleranzfeld zu verstehen, in dem die Blendentemperatur der Blende gehalten wird. Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird in dem Schritt b) die Blendentem- peratur als Strukturgrößenmanipulator anhand vorherbestimmter Sensitivitä- ten in ein Optimierverfahren des optischen Systems eingebunden und zur Ver- ringerung der Abweichung einer aktuell gefertigten Strukturgröße von einem Sollwert zeitabhängig angepasst. Es ist somit mit Hilfe der Veränderung der Blendentemperatur möglich, Struk- turgrößen, die auf einem zu belichtenden Wafer verwirklicht werden, gezielt zu beeinflussen. "Ein" ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genann- te Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichun- gen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Die für das optische System beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für die vorgeschlagene Projektionsbelichtungsanlage und das vorgeschla- gene Verfahren entsprechend und umgekehrt. Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht expli- zit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausfüh- rungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegen- stand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungs- beispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzug- ten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert. Fig.1 zeigt einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelich- tungsanlage für die EUV-Projektionslithographie; Fig.2 zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform eines optischen Systems für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß Fig.1; Fig.3 zeigt eine schematische Ansicht einer Austrittspupille für das optische System gemäß Fig.2; Fig.4 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren Ausführungsform eines optischen Systems für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß Fig.1; Fig.5 zeigt eine schematische Ansicht einer Austrittspupille für das optische System gemäß Fig.4; Fig.6 zeigt eine schematische Aufsicht einer Ausführungsform einer Blendenan- ordnung für das optische System gemäß Fig.2 oder Fig.4; Fig 7. zeigt eine schematische Schnittansicht der Blendenanordnung gemäß der Schnittline VII-VII der Fig.6; und Fig.8 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer Ausführungsform eines Ver- fahrens zum Betreiben des optischen Systems gemäß Fig.2 oder Fig.4. In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Be- zugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendi- gerweise maßstabsgerecht sind. Fig.1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Litho- graphieanlage), insbesondere einer EUV-Lithographieanlage. Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben ei- ner Licht- beziehungsweise Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Be- leuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssys- tem 2 separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuch- tungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht. Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverla- gerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar. In der Fig.1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer x-Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x- Richtung x verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y ver- läuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der Fig.1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Ob- jektebene 6. Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Pro- jektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in ei- ner Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alterna- tiv ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Wafer- verlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen. Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Licht- quelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwi- schen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Engl.: Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Engl.: Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Licht- quelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Engl.: Free-Electron- Laser, FEL) handeln. Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von ei- nem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollek- tor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexions- flächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Engl.: Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Ein- fallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt wer- den. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht struktu- riert und/oder beschichtet sein. Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen. Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strah- lengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spie- gel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungs- strahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 an- geordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 um- fasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche im auch als Feldfa- cetten bezeichnet werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in der Fig. 1 nur beispielhaft einige dargestellt. Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein. Wie beispielsweise aus der DE 102008009600 A1 bekannt ist, können die ers- ten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbe- sondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Fa- cettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System ĨMEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 102008009600 A1 verwiesen. Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuch- tungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y. Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1, der EP 1614 008 B1 und der US 6,573,978. Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet. Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facet- ten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein kön- nen, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 102008009600 A1 verwiesen. Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav ge- krümmte Reflexionsflächen aufweisen. Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Engl.: Fly‘s Eye Integra- tor) bezeichnet. Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 102017220586 A1 beschrieben ist. Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungs- strahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5. Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Ob- jektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbil- dung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufwei- sen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeord- net sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Gracing Incidence Spiegel) um- fassen. Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der Fig.1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22. Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22. Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 bezie- hungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Ob- jektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung. Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durch- nummeriert sind. Bei dem in der Fig.1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer an- deren Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuch- tungsstrahlung 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die bei- spielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann. Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotations- symmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Be- leuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer- Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Sili- zium, gestaltet sein. Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y- Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y- Richtung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebe- ne 6 und der Bildebene 12. Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y- Richtung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, /+- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaß- stab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr. Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung x, das heißt in Richtung senk- recht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1. Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu ei- ner Verkleinerung von 8:1. Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich. Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwi- schenbilder in x- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1. Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23. Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst ho- mogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuch- tungskanäle erreicht werden. Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuch- tung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Aus- wahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten Facetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet. Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuch- teter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden. Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objekt- feldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 be- schrieben. Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein. Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zwei- ten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projek- tionsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung. Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Ein- trittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bau- element der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden. Bei der in der Fig.1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuch- tungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 defi- niert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist. Fig.2 zeigt eine schematische Ansicht eines optischen Systems 100. Das optische System 100 ist Teil einer wie zuvor erläuterten Projektionsbelichtungsanlage 1. Das optische System 100 kann insbesondere eine wie zuvor erläuterte Projekti- onsoptik 10 oder Teil einer derartigen Projektionsoptik 10 sein. Das optische System 100 umfasst beispielsweise eine Objektebene 102, eine Pu- pillenebene 104 und eine Feldebene 106. Es können auch noch Bild- oder Zwi- schenbildebenen vorgesehen sein. In der Objektebene 102 ist ein Objektfeld oder Nutzfeld 108 mit einer Vielzahl an Objektpunkten O vorgesehen, von denen in der Fig.2 jedoch nur einer mit einem Bezugszeichen versehen ist. Die Objekt- punkte O werden mit Hilfe der Pupillenebene 104 auf Feldpunkte F in der Feld- ebene 106 abgebildet. Nachfolgend wird jedoch auf nur einen Objektpunkt O und einen Feldpunkt F Bezug genommen. In der Objektebene 102 ist ein nicht gezeigtes Objekt positioniert. Bei dem Ob- jekt kann es sich um das Retikel 7 handeln. An oder auf dem Objekt bezie- hungsweise an oder auf dem Retikel 7 ist das Nutzfeld 108 vorgesehen. In der Feldebene 106 ist beispielsweise der zu belichtende Wafer 13 angeordnet. Grundsätzlich kann es sich bei der Feldebene 106 auch um eine Bild- oder Zwi- schenbildebene handeln. Anstelle der Objektebene 102 kann auch eine Feldebene vorgesehen sein, wobei Bilder in dieser auf die Feldebene 106 abgebildet werden. Die Pupillenebene 104 ist bevorzugt zwischen der Objektebene 102 und der Feldebene 106 vorgesehen. Somit ist die Pupillenebene 104 weder objektseitig noch bildseitig angeordnet. Grundsätzlich ist die Anzahl der Ebenen 102, 104, 106 beliebig. Das abbildende optische System 100 bildet eine Kette umfassend die Objektebene 102, die, ins- besondere erste, Pupillenebene 104, optional eine erste Zwischenbildebene oder Feldebene, optional eine zweite Pupillenebene, optional eine (n-1)-te Zwischen- bildebene oder Feldebene, optional eine n-te Pupillenebene und die Bildebene oder Feldebene 106. "Optional" bedeutet dabei, dass diese zuvor genannten Ebe- nen auch fehlen können, jedoch nur paarweise. Nämlich beispielsweise eine Zwi- schenbildebene und die nachfolgende Pupillenebene. n beträgt also minimal 1. Der Begriff "Ebene" ist dabei nicht wörtlich zu nehmen. Es handelt sich bei den Ebenen 102, 104, 106 vielmehr um Flächen. Die Bildebene oder Feldebene 106 ist immer gut korrigiert. Das heißt, der Ob- jektpunkt O auf der Objektebene 102 wird aberrationsarm auf den Feldpunkt F in der Bildebene oder Feldebene 106 abgebildet. Die Zwischenbildebenen oder Zwischenfeldebenen können auch korrigiert sein, sind es jedoch meist nicht. Wollte man dort ein Bild auffangen, so wäre dieses zumeist stark aberriert und von entsprechend schlechterer Qualität. Die Qualität kann dabei so schlecht sein, dass das Bild unkenntlich ist, weil unterschiedliche Feldpunkte sehr weit entfernte beste Bildpositionen in Lichtrichtung haben können. Es kann ferner auch zu punktbildverschlechternden Bildfehlern, wie beispielsweise sphärische Aberration, Astigmatismus oder Koma, kommen. Falschlichtblenden werden bevorzugt in solchen (Teil-)Bereichen von Zwischen- feldebenen angeordnet, in denen eine ausreichend genaue Zuordnung von Ob- jektorten zu Punkten vorliegt. Dies ist ideal im Verlauf ohne Selbstüberschnei- dungen und ähnlichem. Ebenso kann eine wie zuvor erwähnte Pupillenebene 104 gut korrigiert sein. Dies ist jedoch nicht zwingend. "Gut korrigiert" bedeutet hierbei, dass von dem Objekt an unterschiedlichen Orten unter gleichem Winkel ausgesandtes Licht am selben Ort in der Pupillenebene 104 auftrifft. Wenn eine solche gut korrigierte Pupillenebene 104 vorliegt, eignet diese sich in besonde- rem Maße für die Platzierung von Apertur- oder Obskurationsblenden. In der Pupillenebene 104 sind ein oder mehrere Blenden angeordnet. Gemäß dem Ausführungsbeispiel sind eine Blende für die numerische Apertur 110 (NA- Blende) und eine Obskurationsblende 112 vorgesehen. Die Blenden 110, 112 de- finieren zusammen mit den Ebenen 102, 104, 106 einen Strahlengang 114, dem Arbeitslicht 116 durch das optische System 100 folgt. Das Arbeitslicht 116 kann die Beleuchtungsstrahlung 16 sein. Die Blende für die numerische Apertur 110 kann auch als numerische Aperturblende bezeichnet werden. Anstelle oder zusätzlich zu den Blenden 110, 112 können auch eine Streulicht- und/oder Falschlichtblende (nicht gezeigt) in der Pupillenebene 104 oder an an- deren Positionen, speziell in Zwischenbildebenen (nicht dargestellt) vorgesehen sein. Eine Lichtrichtung LR des Arbeitslichts 116 kann von der Objektebene 102 in Richtung der Pupillenebene 104 orientiert sein. Die NA-Blende 110 umfasst eine Blendenöffnung 118, die von einer lichtbestim- menden Kante 120 definiert ist. Die lichtbestimmende Kante 120 kann umlau- fend sein. Die Blendenöffnung 118 kann eine beliebige Geometrie aufweisen. Die NA-Blende 110 kann mehrteilig sein, so dass die Geometrie der Blendenöffnung 118 verstellbar ist. Auch die Obskurationsblende 112 umfasst eine lichtbestimmende Kante 122. Die lichtbestimmende Kante 122 ist umlaufend. Die Obskurationsblende 112 kann eine beliebige Geometrie aufweisen. Beispielsweise kann die Obskurationsblende 112 oval sein. Die Lichtrichtung LR kann senkrecht oder schräg zu den Blenden 110, 112 orientiert sein. Das Arbeitslicht 116 umfasst hier beispielhaft Lichtstrahlen S1, S2, welche die Abbildung des Objektpunkts O auf die Feldebene 106 beschreiben. Die Darstel- lung ist rein schematisch, so dass zwischen der Objektebene 102 und der Pupil- lenebene 104 sowie zwischen der Pupillenebene 104 und der Feldebene 106 eine Vielzahl optischer Elemente, beispielsweise Spiegel, Linsen, optische Gitter oder dergleichen angeordnet sein können. Die optischen Elemente können die Spiegel M1 bis M6 umfassen. Beispielhaft ist in der Fig.2 ein Spiegel 124 zwischen der Pupillenebene 104 und der Feldebene 106 gezeigt, auf welchen nachfolgend noch näher Bezug genom- men wird. Der Spiegel 124 kann dem Spiegel M6 entsprechen. Die NA-Blende 110 hat die Aufgabe, das Arbeitslicht 116 in einer radialen Rich- tung R bezogen auf den Strahlengang 114 von außen nach innen zu beschneiden und begrenzt dadurch einen maximalen hälftigen bildseitigen Öffnungswinkel ^max eines mit Licht gefüllten Winkelraums W, der dem Feldpunkt F zugeord- net ist. Der Öffnungswinkel ^max gibt wiederum die numerische Apertur des optischen Systems 100 vor. Bei einer großen numerischen Apertur ist der Öffnungswinkel ^max sehr groß und der Winkelraum W weist dementsprechend eine flache ke- gelförmige Geometrie auf. Bei einer kleinen numerischen Apertur ist der Öff- nungswinkel ^max sehr klein und der Winkelraum W weist dementsprechend eine spitze kegelförmige Geometrie auf. Dem Feldpunkt F ist eine Austrittspupille AP zugeordnet. Bei der Austrittspu- pille AP handelt sich um eine bildseitige Abbildung der NA-Blende 110 und der Obskurationsblende 112. Weiterhin ist in der Fig.2 für den Objektpunkt O eine Eintrittspupille EP gezeigt. Bei der Eintrittspupille EP handelt es sich um eine objektseitige Abbildung der NA-Blende 110 und der Obskurationsblende 112. Jedem Feldpunkt F ist eine Austrittspupille AP zugeordnet. Jedem Objektpunkt O ist eine Eintrittspupille EP zugeordnet. Die Obskurationsblende 112 hat die Aufgabe, eine Obskuration 126 im Strah- lengang 114 zu verdecken. Dazu schneidet sie in der Richtung R betrachtet einen - bezogen auf den Strahlengang 114 radial inneren - Teil des Arbeitslichts 116 heraus. Bei der Obskuration 126 kann es sich beispielsweise um einen Durch- bruch in dem Spiegel 124 handeln, so dass ein dem Feldpunkt F an sich zuge- ordneter Lichtstrahl S3 nicht zu diesem gelangt, also ein Schatten entsteht. Die Obskurationsblende 112 ist derart groß gewählt und angeordnet, dass der von der Obskuration 126 erzeugte Schatten in der Austrittspupille AP für jeden Feldpunkt F hinter dem Schatten der Obskurationsblende 112 liegt. Mit anderen Worten verhält sich die Obskuration 126 damit feldkonstant. Der Schatten der Obskurationsblende 112 überdeckt den Schatten der Obskuration 126 vollstän- dig. Die Austrittspupille AP spannt über dem Feldpunkt F den mit Licht gefüllten Winkelraum W auf. Der Winkelraum W wird begrenzt durch Rand(licht)strahlen S4, S5. Diese fallen jeweils unter dem hälftigen bildseitigen Öffnungswinkel ^max auf den Feldpunkt F. Der Öffnungswinkel ^max wird gemessen zwischen einem jeweiligen Lichtstrahl S4, S5 und einem Zentral(licht)strahl S6 auf den Feldpunkt F. Der Lichtstrahl S6 schneidet einen Mittelpunkt M der Aus- trittspupille AP. Der Lichtstrahl S6 kann auch in der Obskuration 126 liegen, sprich, stets dunkel sein. Gleichwohl dient er vorliegend als (gedachte) Referenz. Wie in der Fig.3 gezeigt, lässt sich jeder Punkt P in der Austrittspupille AP mit Hilfe eines Richtungsvektors V beschreiben. Der Richtungsvektor V weist einen Öffnungswinkel ^ zu dem Lichtstrahl S6 auf. Weiter weist der Richtungsvektor V einen Umfangswinkel φ in Umfangsrichtung um den Mittelpunkt M auf. Grundsätzlich gilt, dass jedem Lichtstrahl in der Austrittspupille AP - beschrie- ben durch die Winkel ^, φ - ein Ort in der Pupillenebene 104 zugeordnet ist. Mit anderen Worten sieht also jeder Feldpunkt F der Feldebene 106 alle Lichtpunkte in der Pupillenebene 104. Dies gilt auch umgekehrt: Dem Licht in einem Winkel- raum über der Pupillenebene 104 ist ein Ort in der Feldebene 106 zugeordnet. Die Austrittspupille AP ist somit feldkonstant. Das auf die Feldebene 106 einfal- lende Licht ist für jeden Feldpunkt F konstant. Sowohl für die NA-Blende 110 als auch für die Obskurationsblende 112 gelten enge Form- und Positionstoleranzen. Häufig werden die Blenden 110, 112 als dünne Platten ausgelegt. Beispielsweise können metallische Bleche eingesetzt werden. Bei der NA-Blende 110 weist das Blech dann die durch die lichtbestim- mende Kante 120 definierte Blendenöffnung 118 auf. Bei der Obskurationsblen- de 112 weist das Blech einen äußeren Rand in Form der lichtbestimmenden Kante 122 auf. Die NA-Blende 110 und die Obskurationsblende 112 werden nachfolgend auch allgemein als "Blenden" bezeichnet. Ein für die Abbildungswirkung wichtiger Aspekt ist die Größe des lichtdurchläs- sigen Bereichs. Diese Größe wird mit Hilfe der Blenden 110, 112 definiert. Be- reits kleine Abweichungen können dadurch, dass Beugungslicht ungewollt blo- ckiert oder zusätzlich durchgelassen wird, zu spürbaren Kontraständerungen führen. Bei EUV-Systemen verschärft sich dieser Effekt noch durch lokalisiert leuchtende Lichtpunkte ("Sternenhimmel") aufgrund fehlender Möglichkeit zur Lichtmischung. Zu den Spezifika aktueller EUV-Systeme gehört es nämlich, dass das Mischver- mögen der Beleuchtungsoptik 4 in dem Winkelraum gering ist, so dass typi- scherweise in der Pupillenebene 104 einzelne helle Beleuchtungsflecken im an- sonsten dunklen Gebiet liegen (Engl.: Illumination Spots). Zuweilen vergleicht man eine solche Intensitätsverteilung veranschaulichend mit einem Sternen- himmel. Gegenüber einer aus dem DUV bekannten geglätteten, gleichmäßigen Lichtverteilung im Winkelraum hat eine derartige Lichtverteilung die Eigen- schaft, dass bereits eine kleine Änderung im durchgelassenen Winkelbereich spürbaren Intensitätseinfluss hinterlässt, weil die Energie stärker konzentriert ist. Fig.4 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren Ausführungsform eines optischen Systems 200. Das optische System 200 ist Teil einer wie zuvor erläu- terten Projektionsbelichtungsanlage 1. Das optische System 200 kann insbeson- dere eine wie zuvor erläuterte Projektionsoptik 10 oder Teil einer derartigen Pro- jektionsoptik 10 sein. Das optische System 200 unterscheidet sich von dem optischen System 100 im Wesentlichen dadurch, dass das optische System 200 keine Obskurationsblende 112 aufweist. Grundsätzlich kann jedoch auch das optische System 200 eine Obskurationsblende 112 umfassen. Das optische System 200 umfasst eine Objektebene 202, eine Pupillenebene 204, eine Bild- oder Zwischenbildebene 206 und eine Feldebene 208. Zwischen der Zwischenbildebene 206 und der Feldebene 208 kann eine weitere Pupillenebene 204 vorgesehen sein, die jedoch in der Fig.4 nicht gezeigt ist. In der Objektebene 202 ist ein Objektfeld oder Nutzfeld 210 mit einer Vielzahl an Objektpunkten O vorgesehen, von denen in der Fig.4 jedoch nur einer mit einem Bezugszeichen versehen ist. Die Objektpunkte O werden mit Hilfe der Pupillenebene 204 beziehungsweise mit Hilfe der Pupillenebenen 204 auf Feld- punkte F1 in der Feldebene 208 und auf Feldpunkte F2 in der Zwischenbildebe- ne 206 abgebildet. In der Objektebene 202 ist ein nicht gezeigtes Objekt positioniert. Bei dem Ob- jekt kann es sich um das Retikel 7 handeln. An oder auf dem Objekt bezie- hungsweise an oder auf dem Retikel 7 ist das Nutzfeld 210 vorgesehen. In der Feldebene 208 ist beispielsweise der zu belichtende Wafer 13 angeordnet. Grundsätzlich kann es sich auch bei der Feldebene 208 um eine Bild- oder Zwi- schenbildebene handeln. Anstelle der Objektebene 202 kann auch eine Feldebene vorgesehen sein, wobei Bilder in dieser auf die Feldebene 208 und auf die Zwischenbildebene 206 abge- bildet werden. Die Pupillenebene 204 ist bevorzugt zwischen der Objektebene 202 und der Feldebene 208 vorgesehen. Somit ist die Pupillenebene 204 weder objektseitig noch bildseitig angeordnet. In der Pupillenebene 204 sind ein oder mehrere Blenden angeordnet. Gemäß dem Ausführungsbeispiel ist eine Blende für die numerische Apertur 212 (NA- Blende) vorgesehen. Ferner kann auch noch eine nicht gezeigte Obskurations- blende vorgesehen sein. Die Blende für die numerische Apertur 212 kann auch als numerische Aperturblende bezeichnet werden. Die NA-Blende 212 umfasst eine Blendenöffnung 214, die von einer lichtbestim- menden Kante 216 definiert ist. Die lichtbestimmende Kante 216 kann umlau- fend sein. Die Blendenöffnung 214 kann eine beliebige Geometrie aufweisen. Die NA-Blende 212 kann mehrteilig sein, so dass die Geometrie der Blendenöffnung 214 verstellbar ist. Die NA-Blende 212 definiert zusammen mit den Ebenen 202, 204, 206, 208 einen Strahlengang 218, dem Arbeitslicht 220 durch das optische System 200 folgt. Das Arbeitslicht 220 kann die Beleuchtungsstrahlung 16 sein. Anstelle oder zu- sätzlich zu der NA-Blende 212 könnten auch eine Streulicht- und/oder Falsch- lichtblende (nicht gezeigt) in der Pupillenebene 204 oder an anderen Positionen, speziell in der Zwischenbildebene 206, vorgesehen sein, wie nachfolgend noch mit Bezug auf die Zwischenbildebene 206 erläutert wird. Das Arbeitslicht 220 umfasst hier beispielhaft Lichtstrahlen S10, S20, welche die Abbildung der Objektpunkte O auf die Zwischenbildebene 206 und auf die Feldebene 208 beschreiben. Die Darstellung ist rein schematisch, so dass zwi- schen der Objektebene 202 und der Pupillenebene 204, zwischen der Pupillen- ebene 204 und der Zwischenbildebene 206 sowie zwischen der Zwischenbildebe- ne 206 und der Feldebene 208 eine Vielzahl optischer Elemente, beispielsweise Spiegel, Linsen, optische Gitter und/oder dergleichen angeordnet sein können. Die optischen Elemente können beispielsweise die Spiegel M1 bis M6 umfassen. Die NA-Blende 212 hat die Aufgabe, das Arbeitslicht 220 in einer radialen Rich- tung R bezogen auf den Strahlengang 218 von außen nach innen zu beschneiden und begrenzt dadurch einen maximalen hälftigen bildseitigen Öffnungswinkel ^max eines mit Licht gefüllten Winkelraums W1, der dem Feldpunkt F1 zuge- ordnet ist. Der Öffnungswinkel ^max gibt, wie zuvor mit Bezug auf die NA- Blende 110 bereits erläutert, wiederum die numerische Apertur des optischen Systems 200 vor. Dem Feldpunkt F1 ist eine Austrittspupille AP1 zugeordnet. Bei der Aus- trittspupille AP1 handelt sich um eine bildseitige Abbildung der NA-Blende 212. Weiterhin ist in der Fig.4 für den Objektpunkt O eine Eintrittspupille EP1 ge- zeigt. Bei der Eintrittspupille EP1 handelt es sich um eine objektseitige Abbil- dung der NA-Blende 212. Jedem Feldpunkt F1 ist eine Austrittspupille AP1 zu- geordnet. Jedem Objektpunkt O ist eine Eintrittspupille EP1 zugeordnet. Die Austrittspupille AP1 spannt über dem Feldpunkt F1 den mit Licht gefüllten Winkelraum W1 auf. Der Winkelraum W1 wird begrenzt durch Rand(licht)strahlen S30, S40. Diese fallen jeweils unter dem hälftigen bildseiti- gen maximalen Öffnungswinkel ^max auf den Feldpunkt F1. Der maximale Öff- nungswinkel ^max wird gemessen zwischen dem jeweiligen Lichtstrahl S30, S40 und einem Zentral(licht)strahl S50 auf den Feldpunkt F1. Der Lichtstrahl S50 schneidet einen Mittelpunkt M der Austrittspupille AP1. Dem Feldpunkt F2 ist eine Zwischenbildpupille AP2 zugeordnet, die einen Win- kelraum W2 aufspannt. Der Eintrittspupille EP1 ist ebenfalls ein derartiger Winkelraum W3 zugeordnet. Wie in der Fig.5 gezeigt und wie schon mit Bezug auf die Fig.3 erläutert, lässt sich jeder Punkt P der Austrittspupille AP1 mit Hilfe eines Richtungsvektors V beschreiben. Der Richtungsvektor V weist einen Öffnungswinkel ^ zu dem Licht- strahl S50 auf. Weiter weist der Richtungsvektor V einen Umfangswinkel φ in Umfangsrichtung um den Mittelpunkt M auf. Wie zuvor erwähnt, handelt es sich bei der Eintrittspupille EP1 um die objekt- seitige Abbildung der NA-Blende 212. Die Eintrittspupille EP1 kann auch als Nutzapertur bezeichnet werden oder mit dieser gleichgesetzt werden. An dem in der Objektebene 202 positionierten Retikel 7 wird im Betrieb des optischen Sys- tems 200 Licht auch in höhere Winkel als die Nutzapertur gebeugt. Das heißt, das Licht wird in einem höheren Winkel als der durch die NA-Blende 212 definierte maximale Öffnungswinkel ^max gebeugt. Dies ist in der Fig.4 anhand eines Lichtstrahls S60 gezeigt. Dies kann zum einen an regulär abgebil- deten Strukturen des Retikels 7 in höheren Beugungsordnungen und zum ande- ren an Hilfsstrukturen wie den sogenannten SRAFs (Engl.: Sub Resolution As- sist Features) geschehen. Diese SRAFs sollen Licht so umverteilen, dass Nutzstrukturen ohne Verdün- nung an den Enden oder anderen Fehlern abgebildet werden. Allerdings sollen diese selbst im Bild, das heißt, in der Feldebene 208 unsichtbar sein. Deshalb werden diese so klein gewählt, dass alle abbildungsfähigen Beugungsordnungen außerhalb der Eintrittspupille EP1 beziehungsweise außerhalb der Nutzapertur liegen und ideal an der NA-Blende 212 geblockt werden. Mit anderen Worten werden Lichtstrahlen, die einen größeren Öffnungswinkel ^ als der durch die NA-Blende 212 bestimmte maximale Öffnungswinkel ^max aufweisen, an der NA-Blende 212 geblockt. Konstruktiv ist es allerdings erforderlich, den Strahlengang 218 zumindest im Bereich des Retikels 7 mit einer Einhausung 222 zu versehen. Die Einhausung 222 dient der Aufrechterhaltung des Vakuums und dem Fernhalten von Konta- minationen. An dieser Einhausung 222 kann es jedoch zu Reflexionen im strei- fenden Einfall (Engl.: Grazing Incidence) kommen. Diese Reflexion ändert den Strahlwinkel für ausgewählte Winkelbereich so, dass nach der Reflexion das Licht wieder in der Eintrittspupille EP1 oder in der Nutzapertur liegt. Allerdings scheint das Licht nun von einem virtuellen Ob- jektpunkt OV außerhalb des Nutzfelds 210 zu kommen. Dem virtuellen Objekt- punkt OV ist eine virtuelle Eintrittspupille EP2 zugeordnet, die einen Winkel- raum W4 aufspannt. In der Fig.4 ist der Lichtstrahl S60 nach der Reflexion an der Einhausung 222 mit dem Bezugszeichen S60' versehen. Eine Verlängerung des Lichtstrahls S60' in Richtung der Objektebene 202 führt zu dem virtuellen Objektpunkt OV. Eine Verlängerung des Lichtstrahls S60 über die Einhausung 222 hinaus ist mit dem Bezugszeichen S60'' versehen. Die NA-Blende 212 kann nun das Falschlicht in Form des reflektierten Licht- strahl S60' nicht mehr abfangen, da der Öffnungswinkel ^ nach der Reflexion an der Einhausung 222 zu "stimmen" scheint. Das heißt der Öffnungswinkel ^ ist kleiner als der durch die NA-Blende 212 definierte maximale Öffnungswinkel ^max. Somit dringt durch die NA-Blende 212 nicht nur Licht L1 von den Objekt- punkten O des Nutzfelds 210, sondern auch Licht L2 von virtuellen Objektpunk- ten OV außerhalb des Nutzfelds 210. Das Licht L2 kann auch als Überapertur- licht oder Falschlicht bezeichnet werden. Es gilt nun zu verhindern, dass das Falschlicht L2 zu der Feldebene 208 gelangt. Das Falschlicht L2 trägt keine nützliche Abbildungsinformation bei und würde in der Feldebene 208 nur zu einem kontrastmindernden Untergrund führen. Daher ist das Falschlicht L2 vor der Feldebene 208 herauszufiltern. Hierzu wer- den die Objektpunkte O als Feldpunkte F2 und die virtuellen Objektpunkte OV als Feldpunkte F3 in der Zwischenbildebene 206 abgebildet. Dem Feldpunkt F3 ist eine Zwischenbildpupille AP3 zugeordnet, die einen Winkelraum W5 auf- spannt. In der Zwischenbildebene 206 ist nun eine Blende 224, insbesondere eine Falsch- lichtblende oder Streulichtblende, angeordnet, die das Falschlicht L2 aus dem Strahlengang 218 herausfiltert. Mit anderen Worten werden die virtuellen Ob- jektpunkte OV als Feldpunkte F3 auf der Blende 224 abgebildet. Das Falschlicht L2 kann somit nicht mehr zu der Feldebene 208 gelangen. Die Blende 224 um- fasst eine Blendenöffnung 226, die von einer lichtbestimmenden Kante 228 defi- niert ist. Die Blende 224 wird nachfolgend auch als Falschlichtblende bezeich- net. Auch das optische System 100 kann eine derartige Blende 224 aufweisen. Die Blenden 110, 112, 212, 224 des jeweiligen optischen Systems 100, 200 dienen als Apertur- sowie Obskurationsblenden der Formung der Austrittspupille AP, AP1 und als Falschlichtblenden dem Entfernen unerwünschten Lichts aus dem Bild oder von Orten, an denen es zu störender Erwärmung führen kann. Die Ge- ometrie der Blenden 110, 112, 212, 224 hat einen erheblichen Einfluss auf die Abbildungsqualität. In einem wie zuvor erwähnten optischen System 100, 200 werden NA-Blenden 110, 212 und in obskurierten optischen Systemen 100 Obskurationsblenden 112 in einer pupillennahen Position angebracht. Dabei wird im Designprozess eine Korrektur derart vorgenommen, dass eine Fourierbeziehung zu der jeweiligen Feldebene 106, 208 weitgehend gültig ist. Orte im Bild entsprechen dort Winkeln und umgekehrt. Dank dieser Korrektur sehen aller Feldpunkte F, F1 nahezu denselben Winkelraum bei der Abbildung. Eine wie zuvor erläuterte Beleuchtungsoptik 4 arbeitet zumeist mit facettierten Spiegeln oder anderen Komponenten, die eine Pupillenfacettierung bewirken, wie etwa Mischstäbe oder Wabenkondensatoren. Die resultierende diskontinu- ierliche Lichtverteilung in der Austrittspupille AP, AP1 führt zu einer hohen Sensitivität auf den Pupillenbeschnitt durch die jeweilige Blende 110, 112, 212, weil die Energie im Winkelraum stärker lokalisiert ist und es einen Unterschied ergibt, ob beispielsweise ein EUV-"Stern" (Engl.: Illumination Spot) abgeschnit- ten wird oder durchgelassen und ob das Licht entsprechend interferierend zur Abbildung beiträgt. Konkret hängen Eigenschaften wie beispielsweise die Strukturgrößentreue der Abbildung oder die Lagegenauigkeit von dieser Pupillenwirkung ab. In der Regel werden Strukturen auf dem Retikel 7 als lithographischer Vorlage auf systema- tische Abbildungsabweichungen in der Strukturgröße korrigiert. Dies erfolgt al- lerdings wegen des erheblichen Aufwands in feldkonstanter Weise. Ist nun ein solches Retikel 7 derart ausgelegt, wird das optische System 100, 200 unter Standardbedingungen am richtigen Bildort Strukturen der korrekten Grö- ße und Form ausbilden. Ändern jedoch die NA-Blende 110, 212 und/oder die Obskurationsblende 112 ihre Form, so ändert sich zum einen die Lichtmenge. Dies wäre, sofern es gemessen würde, noch über eine Dosisanpassung kompen- sierbar, da ja die Blenden 110, 112, 212 und auch ihre Formvariation feldkon- stant wirken. Jedoch werden in der Regel die Verhältnisse zwischen nullter und höheren Beu- gungsordnungen strukturabhängig verändert. Vergrößert sich beispielsweisen die NA-Blende 110, 212, so kann ein Teil der ersten Beugungsordnung einer ers- ten feinen Struktur, die in große Winkel beugt, diese nicht mehr passieren. Das äquivalente Beugungslicht einer nur wenig gröberen zweiten Struktur sieht je- doch diese Änderung nicht mehr oder in verringertem Maße. In der Folge wird sich die Größe der ersten Struktur im Bild beispielsweise ver- mindern, während jene der zweiten Struktur unverändert bleibt. Eine solche relative Größenänderung lässt sich mit herkömmlichen Mitteln im System schwer oder gar nicht ausgleichen und mindert daher die Abbildungsqualität. Nun zurückkehrend zu der Blende 224. Die Blende 224 soll verhindern, dass un- erwünschtes Falschlicht L2 ins Bild gelangt oder auf Komponenten trifft und diese nach Absorption erwärmt. Wie zuvor erwähnt, kann das Falschlicht L2 dadurch entstehen, dass Überaperturlicht an der Einhausung 222 reflektiert wird. Ohne diese Reflexion würde es an der NA-Blende 212 abgefangen, doch kann die Reflexion dazu führen, dass der neue Strahlwinkel in der Eintrittspu- pille EP1 beziehungsweise in der Nutzapertur liegt und eine virtuelle Quelle au- ßerhalb des Nutzfelds 210 entsteht. Auch durch eine Streuung an optischen Komponenten, beispielsweise aufgrund deren Rauheit oder Körnigkeit im Volumenmaterial von Linsen entsteht Streu- licht, welches sich auf falschen Pfaden ausbreitet und keine nützliche Abbildung bewirkt. Zur Falschlichtreduktion werden daher in Zwischenbildnähe Begren- zungen in Form der Blende 224 eingeführt. Ändert die Blende 224 ihre Geometrie oder Größe, so variiert beispielsweise die Restmenge des Falschlichts L2, die in das Bild gelangt. Das Falschlicht L2 weist typischerweise eine inhomogene Intensitätsverteilung im Bildraum auf, so dass auch die Variation feldvariabel erfolgen wird. Für langwellige Variationen dieser Intensität können Kompensatoren vorgesehen sein. Hochfrequente Verläufe je- doch können nicht angegriffen werden, so dass zumindest Restbeiträge verblei- ben. Sie bewirken eine ortsabhängige Variation der Strukturgrößen zur gleichen Maskenvorlage im Bild. Die Blenden 110, 112, 212, 224 werden üblich als dünne Metallteile, insbesonde- re als Bleche, mit definierter Form gefertigt. Weil die Formgenauigkeit wichtig ist, kosten sie deutlich mehr, als der Materialeinsatz vermuten lässt. Fangen die Blenden 110, 112, 212, 224 nun aufgabengemäß Licht L1, L2 ab, so werden sie wenigstens einen Teil davon absorbieren und sich dadurch erwärmen. Während NA-Blenden 110, 212 und Falschlichtblenden 224 zumeist am Rand des optischen Strahlenganges stehen und folglich über Material großen Quer- schnitts thermal an die Außenwelt angebunden werden können, ist die Situation für eine mitten in dem Strahlengang 114 stehende Obskurationsblende 112 schwieriger. Eine derartige Obskurationsblende 112 kann mit Hilfe von schneidenförmigen Halterungen oder Drähten in Position gehalten werden. Diese Halterungen, bei- spielsweise in Form der zuvor erwähnten Drähte, blockiert Nutzlicht und wer- den deshalb so dünn wie möglich ausgeführt. Weil die Wärmeleitung zum Mate- rialquerschnitt proportional ist, wirkt die Kühlung der Obskurationsblende 112 über diese Anbindung schwach. Speziell im Vakuum im Falle von optischen Systemen 100, 200 im EUV-Bereich ist auch die Gaskühlung gering. Die Strahlungskühlung trägt gemäß dem Ste- fan-Boltzmann-Gesetz erst bei höheren Temperaturen zur Wärmeabfuhr bei. Wird beispielsweise davon ausgegangen, dass eine Größenordnung von etwa 1 W absorbierte Leistung auftreten kann, so kann sich die Obskurationsblende 112 im statischen Zustand durchaus um mehrere 10 K erwärmen. Metallische Wärmeausdehnungskoeffizienten liegen in einer Größenordnung von relativ 1E-5/K. Die Ausdehnung der Obskurationsblende 112 liegt in der Grö- ßenordnung von 10 mm. Somit sind Formänderungen in der Größenordnung von Mikrometern oder umgerechnet auf Pupillenkoordinaten in der Größenordnung von 0,01 mσ bis 0,1 mσ (1 σ = volle Pupille) zu erwarten. Aufgrund der oben geschilderten diskontinuierlichen Lichtverteilung in der Aus- trittspupille AP, AP1 kann bereits ein solch scheinbar kleiner Wert spürbar die Abbildung beeinflussen und in einem Beispielfall bei Strukturbreiten in der Größenordnung von 10 nm eine Strukturgrößenänderung in der Größenordnung von 5 pm bewirken. Wird davon ausgegangen, dass die Strukturgrößen und da- mit deren Toleranzen perspektivisch sinken, während gleichzeitig die Bestrahl- leistungen steigen, so erwächst hier ein merklicher Budgetbeitrag. Fig.6 zeigt eine schematische Aufsicht einer Ausführungsform einer Blendenan- ordnung 300. Fig.7 zeigt eine schematische Schnittansicht der Blendenanord- nung 300 gemäß der Schnittlinie VII-VII der Fig.6. Nachfolgend wird auf die Fig.6 und 7 gleichzeitig Bezug genommen. Die Blendenanordnung 300 kann Teil eines der optischen Systeme 100, 200 sein. Die Blendenanordnung 300 umfasst eine Blende 302. Im vorliegenden Fall ist die Blende 302 eine wie zuvor erwähnte Obskurationsblende. Die nachfolgenden Ausführungen betreffend die Blende 302 sind entsprechend auch auf die Blen- den 110, 112, 212, 224 anwendbar. Die Blende 302 weist eine lichtbestimmende Kante 304 auf. Die lichtbestimmen- de Kante 304 weist vorliegend eine elliptische Geometrie auf. Die lichtbestim- mende Kante 304 kann jedoch jede beliebige Geometrie aufweisen. Die lichtbe- stimmende Kante 304 kann umlaufend geschlossen sein. Dies ist jedoch nicht zwingend erforderlich. Die Blende 302 umfasst mehrere Halterungen 306, 308, 310, 312 zum Positionie- ren der Blende 302 in dem Strahlengang 114, 218. Die Anzahl der Halterungen 306, 308, 310, 312 ist beliebig. Beispielsweise sind vier Halterungen 306, 308, 310, 312 vorgesehen. Die Halterungen 306, 308, 310, 312 sind schneidenförmig oder drahtförmig, so dass diese den Strahlengang 114, 218 möglichst wenig ab- schatten. Die Blende 302 umfasst eine Vorderseite 314 und eine der Vorderseite abge- wandte Rückseite 316. Beispielsweise fällt die Beleuchtungsstrahlung 16 auf die Vorderseite 314. Die Beleuchtungsstrahlung 16 kann jedoch auch auf die Rück- seite 316 einfallen. Die Ausrichtung der Blende 302 in dem Strahlengang 114, 218 ist grundsätzlich beliebig. Die Beleuchtungsstrahlung 16 bringt Wärme Q in die Blende 302 ein. Dadurch kann sich die Blende 302 ungleichmäßig erwärmen und auch wärmebedingt verformen. An der Vorderseite 314 kann eine Beschichtung 318 vorgesehen sein, die bei- spielsweise geeignet ist, Infrarotstrahlung IR zu absorbieren, um so gezielt Wärme Q in die Blende 302 einzubringen. Die Beschichtung 318 ist optional. Die Beschichtung 318 kann auch an der Rückseite 316 oder sowohl an der Vordersei- te 314 als auch an der Rückseite 316 vorgesehen sein. Die Blende 302 ist plattenförmig. Beispielsweise ist die Blende 302 ein Metall- blech. Die Blende 302 kann ein einstückiges, insbesondere ein materialeinstü- ckiges, Bauteil sein. "Einstückig" oder "einteilig" heißt vorliegend, dass die Blen- de 302 ein einziges Bauteil oder eine einzige Komponente bildet und nicht aus mehreren Bauteilen oder Komponenten zusammengesetzt ist. Dies ist jedoch nicht zwingend erforderlich. "Materialeinstückig" bedeutet vorliegend, dass die Blende 302 durchgehend aus demselben Material gefertigt ist. Alternativ kann die Blende 302 jedoch auch aus mehreren plattenförmigen oder blechförmigen Elementen 320, 322 aufgebaut sein, die aufeinandergelegt und fest miteinander verbunden sind. Beispielsweise sind die Elemente 320, 322 mit- einander vernietet, verschraubt oder verklebt. Die Elemente 320, 322 sind bei- spielsweise aus unterschiedlichen Metalllegierungen gefertigt, so dass diese sich aufgrund unterschiedlicher Wärmeausdehnungskoeffizienten der unterschiedli- chen Metalllegierungen bei einem Eintrag von Wärme Q unterschiedlich stark ausdehnen. Hierdurch ist eine gezielte Verformung der Blende 302 möglich. Die Blende 302 ist dann eine Bimetallblende. Die Elemente 320, 322 können, wie in der Fig.7 gezeigt, unterschiedliche Dicken oder identische Dicken (nicht gezeigt) aufweisen. Die Blendenanordnung 300 beziehungsweise die Blende 302 umfasst weiterhin eine Heizeinrichtung 324. Die Heizeinrichtung 324 weist beispielsweise einen Heizstrahler 326 auf, der Infrarotstrahlung IR emittiert, die beispielsweise auf die Vorderseite 314, insbesondere auf die Beschichtung 318, auftrifft, um gezielt Wärme Q in die Blende 302 einzubringen. Ferner kann die Heizeinrichtung 324 eine Heizstruktur 328 umfassen, die direkt an der Blende 302 vorgesehen ist. Die Heizstruktur 328 kann direkt an der Blende 302 vorgesehen sein. Die Heizstruktur 328 kann eine Widerstandshei- zung sein. Eine Stromversorgung der Heizstruktur 328 kann beispielsweise über die Halterungen 306, 308, 310, 312 verwirklicht werden. Die Heizstruktur 328 ist optional. Die Heizstruktur 328 kann zusätzlich zu dem Heizstrahler 326 oder alternativ zu dem Heizstrahler 326 vorgesehen sein. Mit Hilfe der Heizeinrichtung 324 ist es möglich, in unterschiedliche Bereiche 330, 332 der Blende 302 unterschiedlich viel Wärme Q einzubringen. Weiterhin weist die Blende 302 beispielsweise zumindest einen Temperatursensor 334 und zumindest eine Photozelle oder ein Photoelement 336 auf. Es können beliebig viele Temperatursensoren 334 und beliebig viele Photoelemente 336 vorgesehen sein. Ferner kann auch eine Infrarotkamera 338 vorgesehen sein. Mit Hilfe einer Steuer- und Regeleinrichtung 340 können Sensorsignale oder Messsignale des Temperatursensors 334, des Photoelements 336 und/oder der Infrarotkamera 338 ausgewertet und die Heizeinrichtung 324 in geeigneter Art und Weise angesteuert werden. Mit Hilfe des gezielten Einbringens von Wärme Q mittels der Heizeinrichtung 324 in die Blende 302 ist es möglich, die Blende 302 von einer Ausgangsform oder Ausgangsgeometrie Z1 in eine Designform oder Designgeometrie Z2 zu ver- formen. Die Ausgangsgeometrie Z1 und die Designgeometrie Z2 unterscheiden sich hinsichtlich der Form oder Geometrie der lichtbestimmenden Kante 304 voneinander. Dabei ist die lichtbestimmende Kante in der Designgeometrie Z2 in der Fig. 6 mit dem Bezugszeichen 304' versehen. Die lichtbestimmende Kante 304' kann in der Designgeometrie Z2 jede beliebige dreidimensionale Form an- nehmen. Wie zuvor erwähnt, absorbiert die Blende 302 zumindest einen Teil der Beleuch- tungsstrahlung 16. Bereits hierdurch wird Wärme Q in die Blende 302 einge- bracht. Mit Hilfe der Heizeinrichtung 324 kann für die Blende 302, insbesondere zumindest für die Obskurationsblende 112, optional aber auch für die NA-Blende 110, 212 oder die Falschlichtblende 224, eine Heizung implementiert werden, welche Wechsel in der absorbierten Nutzleistung und damit Temperatur- schwankungen ausgleichen kann. Strukturgrößenvariationen sowie Telezentriefehler aufgrund schwankender Blendenform oder Blendengeometrie können hierdurch im Wesentlichen elimi- niert werden. Daraus resultiert ein stabiles Abbildungsverhalten. Die Blende 302 wird dabei so geformt, dass sie gerade bei dieser maximalen absorbierten Leistung unter Berücksichtigung der dabei auftretenden Wärmeausdehnung die Designgeometrie Z2 annimmt. Darüber hinaus ist es aber auch möglich, mit Hilfe des gezielten Eintrags der Wärme Q in die Blende 302 gezielt Einfluss auf Strukturgrößen oder -lagen zu nehmen, indem die Blendentemperatur als Manipulator genutzt und mittels der Heizeinrichtung 324 eine Größe der Blende 302 an die gegebene Abbildungssitu- ation angepasst wird. Bei der Auslegung der Blende 302 als Bimetallelement oder Bimetallblende kann eine stärkere, potenziell nützliche Formänderung oder Geometrieänderung der Blende 302 gezielt induziert werden. Die Heizung der Blende 302 selbst kann über gezieltes Einstrahlen etwa mit Inf- rarotstrahlung IR erfolgen, wobei sich ein bestrahlter Bereich 330, 332 im Ideal- fall auf eine Blendenfläche beschränkt und dort die Beschichtung 318 aufge- bracht sein kann, welche ein hohes Absorptionsvermögen bei der gewählten Heizwellenlänge aufweist. Alternativ oder ergänzend kann aber auch eine elektrische Widerstandsheizung in Form der Heizstruktur 328 umgesetzt werden. Dazu wird der elektrische Wi- derstand der Blende 302 hoch gewählt, indem die Heizstruktur 328 beispielswei- se mittels eines Isolators gegenüber den übrigen Metallkörper der Blende 302 isoliert wird und nur die Heizstruktur 328 elektrisch angebunden wird. Die Stromzufuhr erfolgt dabei, wie zuvor erwähnt, über die Halterungen 306, 308, 310, 312. Das Heizen der Blende 302 kann weitgehend homogen erfolgen. Es besteht aber auch die Möglichkeit, die Blende 302 lokal variabel zu heizen. Beispielsweise können nur die Bereiche 330, 332 oder einer der Bereiche 330, 332 geheizt wer- den. So beugen horizontal orientierte Strukturen nach oben und unten, während vertikale Linien nach links und rechts beugen. Entsprechend resultiert eine thermische Belastung der Blende 302 nach der Absorption von Überaperturlicht solcher Strukturen in einem oberen/unteren oder seitlichen Teilbereich der Blende 302, während der jeweils komplementäre Bereich kein oder zumindest deutlich weniger Licht absorbiert. In der Folge bildet sich eine inhomogene Temperaturverteilung auf der Blende 302 heraus, welche ohne Gegenmaßnahme zu einer ungleichmäßigen Formände- rung aufgrund der thermischen Ausdehnung des Blendenmaterials führen kann. Während die Zurücknahme einer homogenen Vorheizleistung zwar die mittlere Temperatur der Blende 302 in den Sollbereich führt, kann diese homogene Heiz- leistung jedoch keinen Ausgleich für diese örtlichen Variationen bereitstellen. Mit Hilfe einer lokal variablen Vorheizleistung wird gerade diese Möglichkeit geschaffen. In den geschilderten Fällen würde bei Beugung an horizontalen Strukturen zwar die Vorheizleistung aus den oberen und unteren Blendenbereichen entfernt oder angepasst an die aus dem Überaperturlicht absorbierte Leistung reduziert, je- doch in den seitlichen Gebieten beibehalten. In Summe bleibt ein Temperatur- feld der Blende 302 weitgehend unverändert. Keine Blendenformänderung be- einträchtigt das Abbildungsverhalten des optischen Systems 100, 200. Völlig analog reagiert das optische System 100, 200 auf Beugung an vertikal orientier- ten Strukturen durch Zurücknahme der gesondert zugeführten Heizleistung in den seitlichen Arealen unter Beibehaltung der Heizleistung oben und unten. Während des Betriebs des optischen Systems 100, 200 kann weitgehend bekannt sein, welche Beugungsverteilung an dem Retikel 7 erzeugt wird. Auch wenn die Retikelstrukturen proprietär gehandhabt werden, lässt sich etwa anhand der Nutzung von x- oder y-Dipolstrukturen relativ verlässlich auf die Schwerpunkte im Beugungslicht schließen, weil die Beleuchtungen sorgfältig an die aktuellen Retikelstrukturen angepasst werden (Engl.: Source Mask Optimization, SMO). Zugleich treten aber auch Situationen auf, etwa mit gemischten Strukturen auf dem Retikel 7, bei der keine ausreichend genaue Vorhersage der Beugungswin- kelverteilung möglich ist, auf die ein lokales Heizen fußen kann. Für solche Situationen können, wie zuvor erwähnt, Temperatursensoren 334 in die Blende 302 integriert werden. Speziell bei einer Auslegung mit elektrischer Widerstandsheizung kann die Heizstruktur 328 auch anhand ihres temperatur- abhängigen Widerstands als Temperatursensor genutzt werden. Dies kann bei- spielsweise mit Hilfe von Brückenschaltungen umgesetzt werden. Alternativ oder ergänzend ist es aber auch bei besonders hohen Genauigkeitsan- forderungen möglich, die Blende 302 oder Bereiche davon mit der Infrarotkame- ra 338 zu beobachten und aus diesem Signal auf die optimale örtliche Vorheiz- leistung zu schließen. Weiterhin können mit Blick auf die ankommende Beleuch- tungsstrahlung 16 auf der Blende 302 selbst Photoelemente 336 angeordnet werden, welche direkt die Intensität der auftreffenden Beleuchtungsstrahlung 16 vermessen. Für den Fall, dass die Blende 302 eine Obskurationsblende ist, kann zwecks der Vermeidung vieler Strukturen in dem Strahlengang 114, 218 das Messsignal über Funk ausgelesen werden, oder die Signalleitung erfolgt über mindesten ei- ne der Halterungen 306, 308, 310, 312. Benötigt das Photoelement 336 eine Energieversorgung, so kann diese berührungslos induktiv, durch Bestrahlung mit Licht auf eine Photovoltaikstruktur oder bevorzugt wiederum über mindes- tens eine der Halterungen 306, 308, 310, 312 erfolgen. Wird die Temperaturverteilung auf pupillennahen optischen Elementen gemes- sen, so erlauben die Messergebnisse einen Rückschluss auf die lokal im Pupil- lenbereich absorbierte Nutzlichtleistung und damit auch über deren örtliche Verteilung. Auch solche Informationen können genutzt werden, um eine mög- lichst präzise Steuerung oder Regelung der lokal variablen Heizleistung auf der Blende 302 zu realisieren. Steht die Blende 302 feldnah oder intermediär, sind entsprechend Informationen vergleichbar im Strahlengang stehender optischer Elemente nützlich. Wenn die Blende 302 als Manipulator ausgelegt wird, kann sie bevorzugt in den allgemeinen Korrekturablauf eingebunden werden. Dazu werden in einem ers- ten Schritt Sensitivitäten ermittelt. Dies erfolgt bevorzugt anhand optischer Si- mulationen, welche ausgehend von der aufgenommenen Leistung und der ther- mischen Anbindung eine Temperaturänderung berechnen. Darauf basierend wird eine Formänderung, aus dieser eine Wirkung in der Austrittspupille AP, AP1 oder/und einen Feldintensitätsverlauf und daraus wiederum gegebenenfalls struktur- und beleuchtungsabhängig Strukturgrößenänderungen berechnet. Im Betrieb des optischen Systems 100, 200 können nun Informationen zur aktu- ellen Strukturgrößenabweichung von einem Sollwert gewonnen werden. Dies kann durch zeitnahe Vermessung einer kurz vorher gefertigten Halbleiterstruk- tur geschehen. Alternativ können Wellenfrontmessungen genutzt werden, um ausgehend von hierfür bestimmten Sensitivitäten, etwa basierend auf einer Zernike-Beschreibung, Strukturgrößenwirkungen zu ermitteln, die es zu kom- pensieren gilt. Gemeinsam mit den Sensitivitäten herkömmlicher Manipulatoren, beispielswei- se verschiebbarer, kippbarer oder/und deformierbarer optischer Elemente wer- den nun die Thermalsensitivitäten der Blende 302 in der Optimierung berück- sichtigt und es wird ein Manipulatorverfahrwegerezept bestimmt, welches eine hinsichtlich einer vorgegebenen Zielfunktion bevorzugte Manipulation der un- terschiedlichen Mittel vorschlägt, zu denen dann auch eine Temperaturände- rung der Blende 302 gehört. Dieses Manipulatorverfahrwegerezept wird ent- sprechend umgesetzt. Fig.8 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer Ausführungsform eines Ver- fahrens zum Betreiben des optischen Systems 100, 200. Bei dem Verfahren wird in einem Schritt S100 die Blende 110, 112, 212, 224, 302 bereitgestellt. Dabei ist die Blende 110, 112, 212, 224, 302 zumindest ab- schnittsweise in dem jeweiligen Strahlengang 114, 218 des optischen Systems 100, 200 angeordnet, so dass der Strahlengang 114, 218 von der Blende 110, 112, 212, 224, 302 zumindest abschnittsweise abgeschattet wird. In einem Schritt S200 wird mit Hilfe der Heizeinrichtung 324, beispielsweise mit Hilfe des Heizstrahlers 326 und/oder der Heizstruktur 328, Wärme Q in die Blende 110, 112, 212, 224, 302 eingebracht. In einem Schritt S300 verformt sich die Blende 110, 112, 212, 224, 302 durch das Einbringen der Wärme Q von der Ausgangsgeometrie Z1 in die Designgeometrie Z2. Das Verformen erfolgt auf- grund einer wärmebedingten Ausdehnung der Blende 110, 112, 212, 224, 302. Insbesondere kann in dem Schritt S200 in unterschiedliche Bereiche 330, 332 der Blende 110, 112, 212, 224, 302 unterschiedlich viel Wärme Q eingebracht werden. Ferner kann in dem Schritt S200 ein vorbestimmtes Heizleistungsver- hältnis der unterschiedlichen Bereiche 330, 332 eingestellt werden. Außerdem kann in dem Schritt S200 basierend auf Messignalen des Tempera- tursensors 334, des Photoelements 336 und/oder der Infrarotkamera 338 und/oder auf Informationen betreffend eine Temperaturverteilung weiterer opti- scher Elemente, insbesondere Spiegel 124, M1 bis M6, die an vergleichbarer Po- sition wie die Blende 110, 112, 212, 224, 302 in dem Strahlengang 114, 218 an- geordnet sind, eine lokale Blendentemperaturverteilung der Blende 110, 112, 212, 224, 302 bestimmt und die Heizeinrichtung 324 derart angesteuert werden, dass eine gewünschte Soll-Blendentemperaturverteilung der Blende 110, 112, 212, 224, 302 erzielt wird. Ferner kann in dem Schritt S200 mit Hilfe des Einbringens der Wärme Q eine Steuerung und/oder Regelung implementiert werden, die auch bei wechselnder Absorption von Beleuchtungsstrahlung 16 im Betrieb des optischen Systems 100, 200 eine Blendentemperatur der Blende 110, 112, 212, 224, 302 in einem Tempe- raturkorridor von 10 K, bevorzugt von 5 K, weiter bevorzugt von 2 K, hält. Hier- zu kann die Steuer- und Regeleinrichtung 340 Anwendung finden. Unter einem "Temperaturkorridor" ist vorliegend ein Toleranzfeld oder ein Toleranzbereich zu verstehen, in dem die Blendentemperatur gehalten wird. In dem Schritt S200 kann die Blendentemperatur als Strukturgrößenmanipula- tor anhand vorherbestimmter Sensitivitäten in ein Optimierverfahren des opti- schen Systems 100, 200 eingebunden und zur Verringerung einer aktuell gefer- tigten Strukturgröße von einem Sollwert zeitabhängig angepasst werden. Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrie- ben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar.

BEZUGSZEICHENLISTE 1 Projektionsbelichtungsanlage 2 Beleuchtungssystem 3 Lichtquelle 4 Beleuchtungsoptik 5 Objektfeld 6 Objektebene 7 Retikel 8 Retikelhalter 9 Retikelverlagerungsantrieb 10 Projektionsoptik 11 Bildfeld 12 Bildebene 13 Wafer 14 Waferhalter 15 Waferverlagerungsantrieb 16 Beleuchtungsstrahlung 17 Kollektor 18 Zwischenfokusebene 19 Umlenkspiegel 20 erster Facettenspiegel 21 erste Facette 22 zweiter Facettenspiegel 23 zweite Facette 100 optisches System 102 Objektebene 104 Pupillenebene 106 Feldebene 108 Nutzfeld 110 Blende/NA-Blende 112 Blende/Obskurationsblende 114 Strahlengang 116 Arbeitslicht 118 Blendenöffnung 120 lichtbestimmende Kante 122 lichtbestimmende Kante 124 Spiegel 126 Obskuration 200 optisches System 202 Objektebene 204 Pupillenebene 206 Zwischenbildebene 208 Feldebene 210 Nutzfeld 212 Blende/NA-Blende 214 Blendenöffnung 216 lichtbestimmende Kante 218 Strahlengang 220 Arbeitslicht 222 Einhausung 224 Blende/Falschlichtblende 226 Blendenöffnung 228 lichtbestimmende Kante 300 Blendenanordnung 302 Blende/Obskurationsblende 304 lichtbestimmende Kante 304' lichtbestimmende Kante 306 Halterung 308 Halterung 310 Halterung 312 Halterung 314 Vorderseite 316 Rückseite 318 Beschichtung 320 Element 322 Element 324 Heizeinrichtung 326 Heizstrahler 328 Heizstruktur 330 Bereich 332 Bereich 334 Temperatursensor 336 Photoelement 338 Infrarotkamera 340 Steuer- und Regeleinrichtung AP Austrittspupille AP1 Austrittspupille AP2 Zwischenbildpupille AP3 Zwischenbildpupille EP Eintrittspupille EP1 Eintrittspupille EP2 Eintrittspupille F Feldpunkt F1 Feldpunkt F2 Feldpunkt F3 Feldpunkt IR Infrarotstrahlung LR Lichtrichtung L1 Licht L2 Falschlicht M Mittelpunkt M1 Spiegel M2 Spiegel M3 Spiegel M4 Spiegel M5 Spiegel M6 Spiegel O Objektpunkt OV virtueller Objektpunkt P Punkt Q Wärme R Richtung S1 Lichtstrahl S2 Lichtstrahl S3 Lichtstrahl S4 Lichtstrahl S5 Lichtstrahl S6 Lichtstrahl S10 Lichtstrahl S20 Lichtstrahl S30 Lichtstrahl S40 Lichtstrahl S50 Lichtstrahl S60 Lichtstrahl S60' Lichtstrahl S60'' Lichtstrahl S100 Schritt S200 Schritt S300 Schritt V Richtungsvektor W Winkelraum W1 Winkelraum W2 Winkelraum W3 Winkelraum W4 Winkelraum W5 Winkelraum x x-Richtung y y-Richtung z z-Richtung Z1 Ausgangsgeometrie Z2 Designgeometrie ^ Öffnungswinkel ^max Öffnungswinkel φ Umfangswinkel