Optoelektronisches Bauelement Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement.

In organischen Leuchtdioden (Organic Light Emitting Diode, OLED) wird das erzeugte Licht nur teilweise direkt

ausgekoppelt .

Das restliche Licht verteilt sich in verschiedene

Verlustkanäle, wie in einer Darstellung einer organischen Leuchtdiode 100 in Fig.l dargestellt ist. Fig.l zeigt eine organische Leuchtdiode 100 mit einem Glassubstrat 102 und einer darauf angeordneten transparenten ersten

Elektrodenschicht 104, beispielsweise aus Indium-Zinn-Oxid (ITO) . Auf der ersten Elektrodenschicht 104 ist eine erste organische Schicht 106 angeordnet, auf welcher eine

Emitterschicht 108 angeordnet ist. Auf der Emitterschicht 108 ist eine zweite organische Schicht 110 angeordnet. Weiterhin ist auf der zweiten organischen Schicht 110 eine zweite

Elektrodenschicht 112, beispielsweise aus einem Metall angeordnet. Eine elektrische Stromversorgung 114 ist an die erste Elektrodenschicht 104 und an die zweite

Elektrodenschicht 112 gekoppelt, so dass ein elektrischer Strom zum Erzeugen von Licht durch die zwischen den

Elektrodenschichten 104, 112 angeordnete Schichtenstruktur geführt wird. Ein erster Pfeil 116 symbolisiert einen

Transfer von elektrischer Energie in Oberflächenplasmonen für den Fall, dass wenigstens eine Elektrode 112, 104 aus Metall besteht. Ein weiterer Verlustkanal kann in

Absorptionsverlusten in dem Lichtemissionspfad gesehen werden (symbolisiert mittels eines zweiten Pfeils 118) . Aus der organischen Leuchtdiode 100 nicht in gewünschter Weise ausgekoppeltes Licht ist beispielsweise ein Teil des Lichts, das entsteht aufgrund einer Reflexion eines Teils des

erzeugten Lichts an der Grenzfläche des Glassubstrats 102 zur Luft (symbolisiert mittels eines dritten Pfeils 122) sowie aufgrund einer Reflexion eines Teils des erzeugten Lichts an der Grenzfläche zwischen der ersten Elektrodenschicht 104 und dem Glassubstrat 102 (symbolisiert mittels eines vierten Pfeils 124) . Der aus dem Glassubstrat 102 ausgekoppelte Teil des erzeugten Lichts ist in Fig.l mittels eines fünften

Pfeils 120 symbolisiert. Anschaulich sind somit

beispielsweise folgende Verlustkanäle vorhanden: Lichtverlust in dem Glassubstrat 102, Lichtverlust in den organischen Schichten und der transparenten Elektrode 104, 106, 108, 110 sowie an der metallischen Kathode (zweite Elektrodenschicht 112) erzeugte Oberflächenplasmonen . Diese Lichtanteile können nicht ohne weiteres aus der organischen Leuchtdiode 100 ausgekoppelt werden.

Bisher gibt es zwei Ansätze zur Erhöhung der

Lichtauskopplung :

(1) Externe Auskopplung; und

(2) interne Auskopplung.

Unter einer externen Auskopplung kann verstanden werden, dass eine Vorrichtung derart eingerichtet ist, dass sie das Licht aus dem Substrat in abgestrahltes Licht auskoppelt.

Beispiele einer solchen Vorrichtung können sein:

(a) Folien mit Streupartikeln auf der Substrataußenseite;

(b) Folien mit Oberflächenstrukturen (beispielsweise

Mikrolinsen) ;

(c) direkte Strukturierung der Substrataußenseite; und

(d) Einbringen von Streupartikeln in das Glas.

Einige von diesen Ansätzen (beispielsweise Streufolien) sind bereits in OLED-Beleuchtungsmodulen eingesetzt bzw. deren Hochskalierbarkeit ist gezeigt worden.

Unter anderem haben diese Ansätze zur externen

Lichtauskopplung die folgenden zwei Nachteile: (1) die Auskoppeleffizienz ist begrenzt auf ungefähr 60 bis 70 % des in dem Substrat geleiteten Lichts.

(2) Das Erscheinungsbild der OLED wird wesentlich

beeinflusst. Durch die aufgebrachten Schichten oder Filme ergibt sich eine milchige/diffus reflektierende

Oberfläche .

Unter einer internen Auskopplung kann verstanden werden, dass eine Vorrichtung derart eingerichtet ist, dass sie das Licht auskoppelt, welches in der Organik und der transparenten Elektrode geführt wird. Hierfür gibt es mehrere bekannte technologische Ansätze, die jedoch noch nicht auf dem Markt in OLED-Produkten verfügbar sind.

Solche Ansätze sind beispielsweise:

(1) So genannte Low-Index-Grids (wie sie beispielweise

beschrieben sind in Sun und Forrest, Nature Photonics, Seite 483 ff, 2008; diese bestehen aus strukturierten Bereichen mit einem Material mit niedrigem

Brechungsindex, die auf der ITO-Elektrode aufgebracht werden) .

(2) Hochbrechende Streuer unter einer ITO-Anode in einer

polymeren Matrix (wie beispielsweise beschrieben in US 2007/0257608 AI) . Hierbei hat die polymere Matrix in der Regel einen Brechungsindex in einem Bereich von n = 1,5 (beispielsweise bei einer Wellenlänge von

633 nm) und wird üblicherweise nasschemisch aufgebracht.

(3) So genannte Bragg-Gitter oder photonische Kristalle mit periodischen Beugungsstrukturen mit Strukturgrößen im Wellenlängenbereich des Lichts (wie sie beispielsweise beschrieben sind in Ziebarth et al . , Adv. Funct .

Mat. 14, Seite 451 ff, 2004; und Do et al . , Adv.

Mat. 15, Seite 1214 ff, 2003). Weiterhin ist in T. Georgiou et al . , Graphene bubbles with controllable curvature, Applied Physical Letters, Vol. 99, 2011 ein Verfahren zum Erzeugen von Graphenblasen

beschrieben .

In verschiedenen Ausführungsformen wird anschaulich ein optoelektronisches Bauelement bereitgestellt, welches

aufgrund der Verwendung von Graphen-basierten lichtbrechenden Strukturen eine verbesserte Lichtauskopplung oder

Lichteinkopplung ermöglicht. In verschiedenen Ausführungsformen wird ein

optoelektronisches Bauelement bereitgestellt, aufweisend einen elektrisch aktiven Bereich, der aufweist eine erste Elektrode; eine zweite Elektrode; und eine organische

funktionelle Schichtenstruktur zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode. Ferner kann das optoelektronische Bauelement eine lichtbrechende Struktur aufweisen, die mindestens eine Graphenschicht aufweist, in der zumindest eine linsenförmige Struktur gebildet ist. Aufgrund der linsenförmigen Struktur in der mindestens einen Graphenschicht kann die Lichteinkopplung (beispielsweise bei einer Solarzelle als optoelektronisches Bauelement) oder die Lichtauskopplung (beispielsweise bei einem lichtemittierenden Bauelement wie beispielsweise einer Leuchtdiode wie

beispielsweise einer organischen Leuchtdiode (OLED) )

erheblich verbessert werden, ohne den Herstellungsprozess des optoelektronischen Bauelements erheblich komplexer gestalten zu müssen. Auch ist eine Graphenschicht sehr kostengünstig und einfach in den Herstellungsprozess integrierbar.

In einer Ausgestaltung kann die Graphenschicht mehrere linsenförmige Strukturen aufweisen.

In noch einer Ausgestaltung kann die Graphenschicht einen Teil der ersten Elektrode und/oder der zweiten Elektrode bilden . In noch einer Ausgestaltung kann das optoelektronische

Bauelement ferner aufweisen einen Träger; wobei die

Graphenschicht als Teil der ersten Elektrode auf oder über dem Träger angeordnet sein kann.

In noch einer Ausgestaltung kann die zweite Elektrode

transluzent oder reflektierend ausgestaltet sein.

In noch einer Ausgestaltung kann die Graphenschicht außerhalb des elektrisch aktiven Bereichs angeordnet sein.

In noch einer Ausgestaltung kann das optoelektronische

Bauelement ferner aufweisen einen Träger, wobei die

Graphenschicht auf oder über dem Träger angeordnet ist.

Weiterhin kann das optoelektronische Bauelement eine

Planarisierungsschicht auf der Graphenschicht aufweisen, wobei der elektrisch aktive Bereich auf oder über der

Planarisierungsschicht angeordnet sein kann. In noch einer Ausgestaltung kann das optoelektronische

Bauelement ferner aufweisen eine Verkapselung, die zwischen dem elektrisch aktiven Bereich und dem Träger angeordnet sein kann . In noch einer Ausgestaltung kann die Verkapselung zwischen dem elektrisch aktiven Bereich und der Graphenschicht oder zwischen dem elektrisch aktiven Bereich und der

Planarisierungsschicht angeordnet sein. In noch einer Ausgestaltung kann die Planarisierungsschicht einen Brechungsindex aufweisen, der im Wesentlichen gleich ist dem Brechungsindex der organischen funktionellen

Schichtenstruktur . In noch einer Ausgestaltung kann die erste Elektrode auf oder über der Planarisierungsschicht angeordnet sein, wobei die erste Elektrode transluzent ausgestaltet sein kann, und wobei die zweite Elektrode transluzent oder reflektierend

ausgestaltet sein kann.

In noch einer Ausgestaltung kann die erste Elektrode

reflektierend ausgestaltet sein, und die zweite Elektrode kann transluzent ausgestaltet sein, wobei die Graphenschicht auf oder über der zweiten Elektrode angeordnet sein kann.

In noch einer Ausgestaltung kann das optoelektronische

Bauelement ferner aufweisen einen Träger, wobei die die erste Elektrode auf oder über dem Träger angeordnet sein kann.

In noch einer Ausgestaltung kann das optoelektronische

Bauelement ferner aufweisen eine Verkapselung auf oder über der zweiten Elektrode.

In noch einer Ausgestaltung kann die Graphenschicht auf oder über der Verkapselung angeordnet sein. In noch einer Ausgestaltung kann das optoelektronische

Bauelement ferner aufweisen eine Abdeckungsschicht auf oder über der Graphenschicht.

In noch einer Ausgestaltung kann die mindestens eine

linsenförmige Struktur mit einer Flüssigkeit und/oder einem Feststoff zumindest teilweise gefüllt sein.

In noch einer Ausgestaltung kann die Flüssigkeit und/oder der Feststoff einen Brechungsindex aufweisen, der im Wesentlichen gleich ist dem Brechungsindex der organischen funktionellen Schichtenstruktur .

In noch einer Ausgestaltung kann die Abdeckungsschicht einen Brechungsindex aufweisen der kleiner ist als der

Brechungsindex der Flüssigkeit und/oder des Feststoffs. Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.

Es zeigen

Figur 1 eine Querschnittansicht eines herkömmlichen

lichtemittierenden Bauelements;

Figur 2 eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden

Bauelements gemäß verschiedenen

Ausführungsbeispielen;

Figur 3 eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden

Bauelements gemäß verschiedenen

Ausführungsbeispielen; und

Figur 4 eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden

Bauelements gemäß verschiedenen

Ausführungsbeispielen .

In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische

Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird

Richtungsterminologie wie etwa „oben", „unten", „vorne", „hinten", „vorderes", „hinteres", usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur (en) verwendet. Da

Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl

verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der

Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.

Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe

"verbunden", "angeschlossen" sowie "gekoppelt" verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist. Auch wenn der in den folgenden Ausführungsbeispielen

verschiedenen Ausführungsformen an verschiedenen konkreten Ausführungsbeispielen beschrieben wird, bei denen das

optoelektronische Bauelement in Form einer organischen

Leuchtdiode (Organic Light Emitting Diode, OLED) realisiert ist, so ist darauf hinzuweisen, dass alternative

Ausführungsbeispiele vorgesehen sein können für andere optoelektronische Bauelemente wie beispielsweise für eine Solarzelle oder für andere lichtemittierende Bauelemente wie beispielsweise eine Leuchtdiode (Light Emitting Diode, LED) , oder beispielsweise für eine Fotodiode oder einen

Fototransistor, der beispielsweise als Lichtsensor

eingerichtet sein kann.

Das optoelektronische Bauelement, beispielsweise das

lichtemittierende Bauelement, kann in verschiedenen

Ausführungsbeispielen Teil einer integrierten Schaltung sein. Weiterhin kann eine Mehrzahl von lichtemittierenden

Bauelementen vorgesehen sein, beispielsweise untergebracht in einem gemeinsamen Gehäuse.

Anschaulich ist es in verschiedenen Ausführungsbeispielen vorgesehen, zur Erhöhung der Lichtauskopplung bzw. Lichteinkopplung eine oder mehrere Graphenschichten mit jeweils einer linsenförmigen Struktur, beispielsweise in Form von einer oder mehreren Blasen (Graphen-Blasen) in der

Struktur des optoelektronischen Bauelements vorzusehen. Solch eine linsenförmige Struktur kann beispielsweise gebildet werden, indem eine periodische Anordnung oder eine nicht ^¬ periodische Anordnung von Graphen-Blasen (im Folgenden auch bezeichnet als Graphen-Linsen) innerhalb eines

optoelektronischen Bauelements, beispielsweise innerhalb eines lichtemittierenden Bauelements, beispielsweise

innerhalb einer OLED, beispielsweise auf einem Substrat oder auf einer OLED aufgebracht wird und dadurch beispielsweise die Lichtauskopplung gesteigert wird. So ergeben sich in verschiedenen Ausführungsbeispielen neue Möglichkeiten der Herstellung von strukturierten Substraten für

lichtemittierende Bauelemente, allgemein für

optoelektronischen Bauelemente, beispielsweise für OLEDs .

In verschiedenen Ausführungsbeispielen können die sphärischen Graphen-Blasen mithilfe von Graphen-Monolagen gebildet werden, beispielsweise in einer Weise hergestellt, wie in T. Georgiou et al . , Graphene bubbles with controllable curvature, Applied Physical Letters, Vol. 99, 2011,

beschrieben. Die Graphen-Blasen werden in Kombination mit einem optoelektronischen Bauelement, beispielsweise einem lichtemittierenden Bauelement wie beispielsweise einer OLED, genutzt, um Linsenstrukturen auf oder in dem

optoelektronischen Bauelements (auf oder in der OLED) zu erzeugen, durch welche sich die Lichtauskopplung (oder

Lichteinkopplung) steigern lässt. Diese Linsenstrukturen weisen eine Größe auf in der Größenordnung von beispielsweise bis zu 10 ym und sind dadurch vergleichbar mit den Größen von kommerziell erhältlichen Mikrolinsen. Da sich die Graphen- Blasen von selbst bilden, wird in verschiedenen

Ausführungsbeispielen ein sehr günstiger Herstellungsprozess bereitgestellt. Ferner ergeben sich dadurch neue Möglichkeiten, solche Linsen (allgemein solche linsenförmigen Strukturen) innerhalb der OLED anzuordnen.

Fig.2 zeigt eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden Bauelements 200, beispielsweise in Form einer OLED 200, gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen .

In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann das

lichtemittierende Bauelement 200 in Form einer organischen Leuchtdiode 200 (OLED 200) einen Träger, beispielsweise ein

Substrat 202, aufweisen. Das Substrat 202 kann beispielsweise als ein Trägerelement für elektronische Elemente oder

Schichten, beispielsweise lichtemittierende Elemente, dienen. Beispielsweise kann das Substrat 202 Glas, Quarz, und/oder ein Halbleitermaterial oder irgendein anderes geeignetes

Material aufweisen oder daraus gebildet sein. Ferner kann das Substrat 202 eine Kunststofffolie oder ein Laminat mit einer oder mit mehreren Kunststofffolien aufweisen oder daraus gebildet sein. Der Kunststoff kann ein oder mehrere

Polyolefine (beispielsweise Polyethylen (PE) mit hoher oder niedriger Dichte oder Polypropylen (PP) ) aufweisen oder daraus gebildet sein. Ferner kann der Kunststoff

Polyvinylchlorid (PVC) , Polystyrol (PS), Polyester und/oder Polycarbonat (PC), Polyethylenterephthalat (PET),

Polyethersulfon (PES) und/oder Polyethylennaphthalat (PEN) aufweisen oder daraus gebildet sein. Das Substrat 202 kann eines oder mehrere der oben genannten Materialien aufweisen. Das Substrat 202 kann transluzent oder sogar transparent ausgeführt sein.

Unter dem Begriff „transluzent" bzw. „transluzente Schicht" kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen verstanden werden, dass eine Schicht für Licht durchlässig ist,

beispielsweise für das von dem Lichtemittierenden Bauelement erzeugte Licht, beispielsweise einer oder mehrerer

Wellenlängenbereiche, beispielsweise für Licht in einem

Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichts (beispielsweise zumindest in einem Teilbereich des Wellenlängenbereichs von 380 nm bis 780 nm) . Beispielsweise ist unter dem Begriff „transluzente Schicht" in verschiedenen Ausführungsbeispielen zu verstehen, dass im Wesentlichen die gesamte in eine

Struktur (beispielsweise eine Schicht) eingekoppelte

Lichtmenge auch aus der Struktur (beispielsweise Schicht) ausgekoppelt wird, wobei ein Teil des Licht hierbei gestreut werden kann Unter dem Begriff „transparent" oder „transparente Schicht" kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen verstanden werden, dass eine Schicht für Licht durchlässig ist

(beispielsweise zumindest in einem Teilbereich des

Wellenlängenbereichs von 380 nm bis 780 nm) , wobei in eine Struktur (beispielsweise eine Schicht) eingekoppeltes Licht im Wesentlichen ohne Streuung oder Lichtkonversion auch aus der Struktur (beispielsweise Schicht) ausgekoppelt wird.

Somit ist „transparent" in verschiedenen

Ausführungsbeispielen als ein Spezialfall von „transluzent" anzusehen.

Für den Fall, dass beispielsweise ein lichtemittierendes monochromes oder im Emissionsspektrum begrenztes

elektronisches Bauelement bereitgestellt werden soll, ist es ausreichend, dass die optisch transluzente Schichtenstruktur zumindest in einem Teilbereich des Wellenlängenbereichs des gewünschten monochromen Lichts oder für das begrenzte

Emissionsspektrum transluzent ist. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die organische

Leuchtdiode 200 (oder auch die lichtemittierenden Bauelemente gemäß den oben oder noch im Folgenden beschriebenen

Ausführungsbeispielen) als ein so genannter Top- und Bottom- Emitter eingerichtet sein. Ein Top- und Bottom-Emitter kann auch als optisch transparentes Bauelement, beispielsweise eine transparente organische Leuchtdiode, bezeichnet werden. Auf oder über dem Substrat 202 kann in verschiedenen

Ausführungsbeispielen optional eine Barriereschicht (nicht dargestellt) angeordnet sein. Die Barriereschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus bestehen: Aluminiumoxid, Zinkoxid, Zirkoniumoxid, Titanoxid, Hafniumoxid, Tantaloxid, Lanthaniumoxid, Siliziumoxid,

Siliziumnitrid, Siliziumoxinitrid, sowie Mischungen und

Legierungen derselben. Ferner kann die optionale

Barriereschicht in verschiedenen Ausführungsbeispielen eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 0,1 nm (eine Atomlage) bis ungefähr 5000 nm, beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 200 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von ungefähr 40 nm.

Auf oder über der Barriereschicht (bzw. auf oder über dem Träger 202) kann ein elektrisch aktiver Bereich 204 des lichtemittierenden Bauelements 200 angeordnet sein. Der elektrisch aktive Bereich 204 kann als der Bereich des lichtemittierenden Bauelements 200 verstanden werden, in dem ein elektrischer Strom zum Betrieb des lichtemittierenden Bauelements 200 fließt. In verschiedenen

Ausführungsbeispielen kann der elektrisch aktive Bereich 204 eine erste Elektrode 206, eine zweite Elektrode 210 und eine organische funktionelle Schichtenstruktur 208 aufweisen, wie sie im Folgenden noch näher erläutert werden.

So kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen auf oder über der Barriereschicht (oder, wenn die Barriereschicht nicht vorhanden ist, auf oder über dem Substrat 202) die erste Elektrode 206 (beispielsweise in Form einer ersten

Elektrodenschicht 206) aufgebracht sein. Die erste Elektrode 206 (im Folgenden auch als untere Elektrode 206 bezeichnet) kann aus einem elektrisch leitfähigen Material gebildet werden oder sein, wie beispielsweise aus einem Metall oder einem leitfähigen transparenten Oxid (transparent conductive oxide, TCO) oder einem Schichtenstapel mehrerer Schichten desselben Metalls oder unterschiedlicher Metalle und/oder desselben TCO oder unterschiedlicher TCOs . Transparente leitfähige Oxide sind transparente, leitfähige Materialien, beispielsweise Metalloxide, wie beispielsweise Zinkoxid, Zinnoxid, Cadmiumoxid, Titanoxid, Indiumoxid, oder Indium- Zinn-Oxid (ITO). Neben binären Metallsauerstoff erbindungen, wie beispielsweise ZnO, Sn02, oder Ιη2θ3 gehören auch ternäre MetallsauerstoffVerbindungen, wie beispielsweise AlZnO, Zn2Sn04, CdSn03, ZnSn03, Mgln204, Galn03, Zn2ln20s oder

In4Sn30]_2 oder Mischungen unterschiedlicher transparenter leitfähiger Oxide zu der Gruppe der TCOs und können in verschiedenen Ausführungsbeispielen eingesetzt werden.

Weiterhin entsprechen die TCOs nicht zwingend einer

stöchiometrischen Zusammensetzung und können ferner p-dotiert oder n-dotiert sein.

In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die erste

Elektrode 206 ein Metall aufweisen; beispielsweise Ag, Pt, Au, Mg, AI, Ba, In, Ag, Au, Mg, Ca, Sm oder Li, sowie

Verbindungen, Kombinationen oder Legierungen dieser

Materialien.

In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die erste

Elektrode 206 gebildet werden von einem Schichtenstapel einer Kombination einer Schicht eines Metalls auf einer Schicht eines TCOs, oder umgekehrt. Ein Beispiel ist eine

Silberschicht, die auf einer Indium-Zinn-Oxid-Schicht (ITO) aufgebracht ist (Ag auf ITO) oder ITO-Ag-ITO Multischichten .

In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die erste

Elektrode 206 eines oder mehrere der folgenden Materialien vorsehen alternativ oder zusätzlich zu den oben genannten Materialien: Netzwerke aus metallischen Nanodrähten und - teilchen, beispielsweise aus Ag; Netzwerke aus

Kohlenstoff-Nanoröhren; Graphen-Teilchen und -Schichten; Netzwerke aus halbleitenden Nanodrähten. Ferner kann die erste Elektrode 206 elektrisch leitfähige Polymere oder Übergangsmetalloxide oder elektrisch

leitfähige transparente Oxide aufweisen. In verschiedenen Ausführungsbeispielen können die erste

Elektrode 206 und das Substrat 202 transluzent oder

transparent ausgebildet sein. In dem Fall, dass die erste Elektrode 206 aus einem Metall gebildet wird, kann die erste Elektrode 206 beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen von kleiner oder gleich ungefähr 25 nm, beispielsweise eine

Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 20 nm,

beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 18 nm. Weiterhin kann die erste Elektrode 206 beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen von größer oder gleich ungefähr 10 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von größer oder gleich ungefähr 15 nm. In verschiedenen

Ausführungsbeispielen kann die erste Elektrode 206 eine

Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 25 nm, beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 18 nm, beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 15 nm bis ungefähr 18 nm.

Weiterhin kann für den Fall, dass die erste Elektrode 206 aus einem leitfähigen transparenten Oxid (TCO) gebildet wird, die erste Elektrode 206 beispielsweise eine Schichtdicke

aufweisen in einem Bereich von ungefähr 50 nm bis ungefähr 500 nm, beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 75 nm bis ungefähr 250 nm, beispielsweise eine

Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 100 nm bis

ungefähr 150 nm.

Ferner kann für den Fall, dass die erste Elektrode 206 aus beispielsweise einem Netzwerk aus metallischen Nanodrähten, beispielsweise aus Ag, die mit leitfähigen Polymeren kombiniert sein können, einem Netzwerk aus Kohlenstoff- Nanoröhren, die mit leitfähigen Polymeren kombiniert sein können, oder von Graphen-Schichten und Kompositen gebildet wird, die erste Elektrode 206 beispielsweise eine

Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 1 nm bis ungefähr 500 nm, beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 400 nm,

beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von

ungefähr 40 nm bis ungefähr 250 nm.

Die erste Elektrode 206 kann als Anode, also als

löcherinjizierende Elektrode ausgebildet sein oder als

Kathode, also als eine elektroneninjizierende Elektrode.

Die erste Elektrode 206 kann einen ersten elektrischen

Anschluss aufweisen, an den ein erstes elektrisches Potential (bereitgestellt von einer Energiequelle (nicht dargestellt) , beispielsweise einer Stromquelle oder einer Spannungsquelle) anlegbar ist. Alternativ kann das erste elektrische Potential an das Substrat 202 angelegt werden oder sein und darüber dann mittelbar der ersten Elektrode 206 zugeführt werden oder sein. Das erste elektrische Potential kann beispielsweise das Massepotential oder ein anderes vorgegebenes Bezugspotential sein .

Weiterhin kann der elektrisch aktive Bereich 204 des

lichtemittierenden Bauelements 200 eine organische

elektrolumineszente Schichtenstruktur 208 aufweisen, die auf oder über der ersten Elektrode 206 aufgebracht ist oder wird.

Die organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 208 kann eine oder mehrere Emitterschichten (nicht dargestellt) , beispielsweise mit fluoreszierenden und/oder

phosphoreszierenden Emittern, enthalten, sowie eine oder mehrere Lochleitungsschichten (auch bezeichnet als

Lochtransportschicht (en) ) . In verschiedenen

Ausführungsbeispielen können alternativ oder zusätzlich eine oder mehrere Elektronenleitungsschichten (auch bezeichnet als Elektronentransportschicht (en) ) vorgesehen sein. Beispiele für Emittermaterialien, die in dem

lichtemittierenden Bauelement 200 gemäß verschiedenen

Ausführungsbeispielen für die Emitterschicht (en) eingesetzt werden können, schließen organische oder organometallische Verbindungen, wie Derivate von Polyfluoren, Polythiophen und Polyphenylen (z.B. 2- oder 2 , 5-substituiertes Poly-p- phenylenvinylen) sowie Metallkomplexe, beispielsweise

Iridium-Komplexe wie blau phosphoreszierendes FIrPic

(Bis(3,5-difluoro-2- (2-pyridyl) phenyl- (2-carboxypyridyl) - iridium III), grün phosphoreszierendes Ir (ppy) 3 (Tris (2- phenylpyridin) iridium III), rot phosphoreszierendes Ru (dtb- bpy) 3*2 (PF ₆ ) (Tris [ 4 , 4 ' -di-tert-butyl- (2,2')- bipyridin] ruthenium (III) komplex) sowie blau fluoreszierendes DPAVBi (4, 4-Bis [4- (di-p-tolylamino) styryl] biphenyl) , grün fluoreszierendes TTPA ( 9, 10-Bis [N, -di- (p-tolyl) - amino ] anthracen) und rot fluoreszierendes DCM2 (4- Dicyanomethylen) -2-methyl-6-j ulolidyl- 9-enyl-4H-pyran) als nichtpolymere Emitter ein. Solche nichtpolymeren Emitter sind beispielsweise mittels thermischen Verdampfens abscheidbar. Ferner können Polymeremitter eingesetzt werden, welche insbesondere mittels eines nasschemischen Verfahrens, wie beispielsweise einem Aufschleuderverfahren (auch bezeichnet als Spin Coating) , abscheidbar sind.

Die Emittermaterialien können in geeigneter Weise in einem Matrixmaterial eingebettet sein.

Es ist darauf hinzuweisen, dass andere geeignete

Emittermaterialien in anderen Ausführungsbeispielen ebenfalls vorgesehen sind.

Die Emittermaterialien der Emitterschicht (en) des

lichtemittierenden Bauelements 200 können beispielsweise so ausgewählt sein, dass das lichtemittierende Bauelement 200 Weißlicht emittiert. Die Emitterschicht (en) kann/können mehrere verschiedenfarbig (zum Beispiel blau und gelb oder blau, grün und rot) emittierende Emittermaterialien

aufweisen, alternativ kann/können die Emitterschicht (en) auch aus mehreren Teilschichten aufgebaut sein, wie einer blau fluoreszierenden Emitterschicht oder blau phosphoreszierenden Emitterschicht, einer grün phosphoreszierenden Emitterschicht und einer rot phosphoreszierenden Emitterschicht. Durch die Mischung der verschiedenen Farben kann die Emission von Licht mit einem weißen Farbeindruck resultieren. Alternativ kann auch vorgesehen sein, im Strahlengang der durch diese

Schichten erzeugten Primäremission ein Konvertermaterial anzuordnen, das die Primärstrahlung zumindest teilweise absorbiert und eine Sekundärstrahlung anderer Wellenlänge emittiert, so dass sich aus einer (noch nicht weißen)

Primärstrahlung durch die Kombination von primärer Strahlung und sekundärer Strahlung ein weißer Farbeindruck ergibt.

Die organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 208 kann allgemein eine oder mehrere elektrolumineszente Schichten aufweisen. Die eine oder mehreren elektrolumineszenten

Schichten kann oder können organische Polymere, organische Oligomere, organische Monomere, organische kleine, nicht- polymere Moleküle („small molecules") oder eine Kombination dieser Materialien aufweisen. Beispielsweise kann die

organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 208 eine oder mehrere elektrolumineszente Schichten aufweisen, die als Lochtransportschicht ausgeführt ist oder sind, so dass beispielsweise in dem Fall einer OLED eine effektive

Löcherinjektion in eine elektrolumineszierende Schicht oder einen elektrolumineszierenden Bereich ermöglicht wird.

Alternativ kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen die organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 208 eine oder mehrere funktionelle Schichten aufweisen, die als

Elektronentransportschicht ausgeführt ist oder sind, so dass beispielsweise in einer OLED eine effektive

Elektroneninjektion in eine elektrolumineszierende Schicht oder einen elektrolumineszierenden Bereich ermöglicht wird. Als Material für die Lochtransportschicht können beispielsweise tertiäre Amine, Carbazoderivate, leitendes Polyanilin oder Polythylendioxythiophen verwendet werden. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann oder können die eine oder die mehreren elektrolumineszenten Schichten als

elektrolumineszierende Schicht ausgeführt sein.

In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die

Lochtransportschicht auf oder über der ersten Elektrode 206 aufgebracht, beispielsweise abgeschieden, sein, und die

Emitterschicht kann auf oder über der Lochtransportschicht aufgebracht, beispielsweise abgeschieden, sein. In

verschiedenen Ausführungsbeispielen kann eine

Elektronentransportschicht auf oder über der Emitterschicht aufgebracht, beispielsweise abgeschieden, sein.

In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 208 (also

beispielsweise die Summe der Dicken von

Lochtransportschicht (en) und Emitterschicht (en) und

Elektronentransportschicht (en) ) eine Schichtdicke aufweisen von maximal ungefähr 1,5 ym, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 1,2 ym, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 1 ym, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 800 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 500 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 400 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 300 nm. In verschiedenen

Ausführungsbeispielen kann die organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 208 beispielsweise einen Stapel von

mehreren direkt übereinander angeordneten organischen

Leuchtdioden (OLEDs) aufweisen, wobei jede OLED

beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen kann von maximal ungefähr 1,5 ym, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 1,2 ym, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 1 ym, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 800 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 500 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 400 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 300 nm. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 208 beispielsweise einen Stapel von zwei, drei oder vier direkt übereinander angeordneten OLEDs aufweisen, in welchem Fall beispielsweise die organische elektrolumineszente

Schichtenstruktur 208 eine Schichtdicke aufweisen kann von maximal ungefähr 3 ym. Das lichtemittierende Bauelement 200 kann optional allgemein weitere organische Funktionsschichten, beispielsweise

angeordnet auf oder über der einen oder mehreren

Emitterschichten oder auf oder über der oder den

Elektronentransportschicht (en) , aufweisen, die dazu dienen, die Funktionalität und damit die Effizienz des

lichtemittierenden Bauelements 200 weiter zu verbessern.

Auf oder über der organischen elektrolumineszenten

Schichtenstruktur 208 oder gegebenenfalls auf oder über der einen oder den mehreren weiteren organischen

Funktionsschichten kann die zweite Elektrode 210

(beispielsweise in Form einer zweiten Elektrodenschicht 210) aufgebracht sein. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die zweite

Elektrode 210 die gleichen Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein wie die erste Elektrode 206, wobei in

verschiedenen Ausführungsbeispielen Metalle besonders

geeignet sind.

In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die zweite

Elektrode 210 (beispielsweise für den Fall einer metallischen zweiten Elektrode 210) beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen von kleiner oder gleich ungefähr 50 nm,

beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 45 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 40 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 35 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 30 nm,

beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 25 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 20 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 15 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 10 nm.

Die zweite Elektrode 210 kann allgemein in ähnlicher Weise ausgebildet werden oder sein wie die erste Elektrode 206, oder unterschiedlich zu dieser. Die zweite Elektrode 210 kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen aus einem oder mehreren der Materialien und mit der jeweiligen Schichtdicke ausgebildet sein oder werden, wie oben im Zusammenhang mit der ersten Elektrode 206 beschrieben. In verschiedenen

Ausführungsbeispielen sind die erste Elektrode 206 und die zweite Elektrode 210 beide transluzent oder transparent ausgebildet. Somit kann das in Fig.2 dargestellte

lichtemittierende Bauelement 200 als Top- und Bottom-Emitter (anders ausgedrückt als transparentes lichtemittierendes Bauelement 200) eingerichtet sein.

Alternativ kann das in Fig.2 dargestellte lichtemittierende Bauelement 200 als Top-Emitter eingerichtet sein, in welchem Fall die erste Elektrode 206 als eine reflektierende

Elektrode 206 eingerichtet ist und die zweite Elektrode 210 als eine transluzente Elektrode 210 oder als eine

transparente Elektrode 210 eingerichtet ist. Die zweite Elektrode 210 kann als Anode, also als

löcherinjizierende Elektrode ausgebildet sein oder als

Kathode, also als eine elektroneninjizierende Elektrode.

Die zweite Elektrode 210 kann einen zweiten elektrischen Anschluss aufweisen, an den ein zweites elektrisches

Potential (welches unterschiedlich ist zu dem ersten

elektrischen Potential) , bereitgestellt von der Energiequelle, anlegbar ist. Das zweite elektrische Potential kann beispielsweise einen Wert aufweisen derart, dass die Differenz zu dem ersten elektrischen Potential einen Wert in einem Bereich von ungefähr 1,5 V bis ungefähr 20 V aufweist, beispielsweise einen Wert in einem Bereich von ungefähr 2,5 V bis ungefähr 15 V, beispielsweise einen Wert in einem Bereich von ungefähr 3 V bis ungefähr 12 V.

Auf oder über der zweiten Elektrode 210 und damit auf oder über dem elektrisch aktiven Bereich 204 kann optional noch eine Verkapselung 212, beispielsweise in Form einer

Barrieredünnschicht/Dünnschichtverkapselung 212 gebildet werden oder sein. Unter einer „Barrieredünnschicht" bzw. einem „Barriere- Dünnfilm" 212 kann im Rahmen dieser Anmeldung beispielsweise eine Schicht oder eine Schichtenstruktur verstanden werden, die dazu geeignet ist, eine Barriere gegenüber chemischen Verunreinigungen bzw. atmosphärischen Stoffen, insbesondere gegenüber Wasser (Feuchtigkeit) und Sauerstoff, zu bilden. Mit anderen Worten ist die Barrieredünnschicht 212 derart ausgebildet, dass sie von OLED-schädigenden Stoffen wie

Wasser, Sauerstoff oder Lösemittel nicht oder höchstens zu sehr geringen Anteilen durchdrungen werden kann.

Gemäß einer Ausgestaltung kann die Barrieredünnschicht 212 als eine einzelne Schicht (anders ausgedrückt, als

Einzelschicht) ausgebildet sein. Gemäß einer alternativen Ausgestaltung kann die Barrieredünnschicht 212 eine Mehrzahl von aufeinander ausgebildeten Teilschichten aufweisen. Mit anderen Worten kann gemäß einer Ausgestaltung die

Barrieredünnschicht 212 als Schichtstapel (Stack) ausgebildet sein. Die Barrieredünnschicht 212 oder eine oder mehrere Teilschichten der Barrieredünnschicht 212 können

beispielsweise mittels eines geeigneten Abscheideverfahrens gebildet werden, z.B. mittels eines

Atomlagenabscheideverfahrens (Atomic Layer Deposition (ALD) ) gemäß einer Ausgestaltung, z.B. eines plasmaunterstützten Atomlagenabscheideverfahrens (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) ) oder eines plasmalosen

Atomlageabscheideverfahrens (Plasma-less Atomic Layer

Deposition (PLALD) ) , oder mittels eines chemischen

Gasphasenabscheideverfahrens (Chemical Vapor Deposition

(CVD) ) gemäß einer anderen Ausgestaltung, z.B. eines

plasmaunterstützten Gasphasenabscheideverfahrens (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) ) oder eines plasmalosen Gasphasenabscheideverfahrens (Plasma-less

Chemical Vapor Deposition (PLCVD) ) , oder alternativ mittels anderer geeigneter Abscheideverfahren.

Durch Verwendung eines Atomlagenabscheideverfahrens (ALD) können sehr dünne Schichten abgeschieden werden. Insbesondere können Schichten abgeschieden werden, deren Schichtdicken im Atomlagenbereich liegen.

Gemäß einer Ausgestaltung können bei einer

Barrieredünnschicht 212, die mehrere Teilschichten aufweist, alle Teilschichten mittels eines Atomlagenabscheideverfahrens gebildet werden. Eine Schichtenfolge, die nur ALD-Schichten aufweist, kann auch als „Nanolaminat" bezeichnet werden. Gemäß einer alternativen Ausgestaltung können bei einer

Barrieredünnschicht 212, die mehrere Teilschichten aufweist, eine oder mehrere Teilschichten der Barrieredünnschicht 212 mittels eines anderen Abscheideverfahrens als einem

Atomlagenabscheideverfahren abgeschieden werden,

beispielsweise mittels eines Gasphasenabscheideverfahrens .

Die Barrieredünnschicht 212 kann gemäß einer Ausgestaltung eine Schichtdicke von ungefähr 0.1 nm (eine Atomlage) bis ungefähr 1000 nm aufweisen, beispielsweise eine Schichtdicke von ungefähr 10 nm bis ungefähr 100 nm gemäß einer

Ausgestaltung, beispielsweise ungefähr 40 nm gemäß einer Ausgestaltung . Gemäß einer Ausgestaltung, bei der die Barrieredünnschicht 212 mehrere Teilschichten aufweist, können alle Teilschichten dieselbe Schichtdicke aufweisen. Gemäß einer anderen

Ausgestaltung können die einzelnen Teilschichten der

Barrieredünnschicht 212 unterschiedliche Schichtdicken aufweisen. Mit anderen Worten kann mindestens eine der

Teilschichten eine andere Schichtdicke aufweisen als eine oder mehrere andere der Teilschichten.

Die Barrieredünnschicht 212 oder die einzelnen Teilschichten der Barrieredünnschicht 212 können gemäß einer Ausgestaltung als transluzente oder transparente Schicht ausgebildet sein. Mit anderen Worten kann die Barrieredünnschicht 212 (oder die einzelnen Teilschichten der Barrieredünnschicht 212) aus einem transluzenten oder transparenten Material (oder einer Materialkombination, die transluzent oder transparent ist) bestehen . Gemäß einer Ausgestaltung kann die Barrieredünnschicht 212 oder (im Falle eines Schichtenstapels mit einer Mehrzahl von Teilschichten) eine oder mehrere der Teilschichten der

Barrieredünnschicht 212 eines der nachfolgenden Materialien aufweisen oder daraus bestehen: Aluminiumoxid, Zinkoxid, Zirkoniumoxid, Titanoxid, Hafniumoxid, Tantaloxid

Lanthaniumoxid, Siliziumoxid, Siliziumnitrid,

Siliziumoxinitrid, sowie Mischungen und Legierungen

derselben. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die Barrieredünnschicht 212 oder (im Falle eines Schichtenstapels mit einer Mehrzahl von Teilschichten) eine oder mehrere der Teilschichten der Barrieredünnschicht 212 ein oder mehrere hochbrechende Materialien aufweisen, anders ausgedrückt ein oder mehrere Materialien mit einem hohen Brechungsindex, beispielsweise mit einem Brechungsindex von mindestens 1.8.

In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann auf oder über der Verkapselung 212 eine lichtbrechende Struktur 214 angeordnet sein. Die lichtbrechende Struktur 214 kann eine Graphen- Schichtstruktur mit einer oder mehreren Graphenschichten aufweisen, in der oder in denen zumindest eine linsenförmige Struktur gebildet ist, anders ausgedrückt, die eine oder mehrere linsenförmige Strukturen aufweist oder aufweisen.

Die eine oder mehreren Graphenschichten können gemäß dem in T. Georgiou et al . , Graphene bubbles with controllable curvature, Applied Physical Letters, Vol. 99, 2011,

beschriebenen Verfahren gebildet und prozessiert werden derart, dass die eine oder mehreren Graphenschichten eine oder mehrere linsenförmige Strukturen 216 aufweist oder aufweisen. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann somit die mindestens eine Graphenschicht aus einer Monolage Graphen gebildet werden. Weiterhin können in verschiedenen

Ausführungsbeispielen mehrere Graphenschichten (jeweils aus einer Monolage Graphen gebildet) übereinander gestapelt angeordnet sein oder werden, wobei gegebenenfalls mehrere linsenförmige Strukturen übereinander ausgebildet werden können .

Wie in T. Georgiou et al . , Graphene bubbles with controllable curvature, Applied Physical Letters, Vol. 99, 2011,

beschrieben lässt sich die Krümmung der Linsen der

linsenförmige Struktur 216 mithilfe einer elektrischen

Spannung anpassen bzw. in gewünschter Weise bilden. Damit wird in verschiedenen Ausführungsbeispielen die Möglichkeit bereitgestellt, einerseits den Krümmungsradius an die

gewünschte Anwendung anzupassen und andererseits eine

Prozesssicherheit einzuführen. Beispielsweise kann während des Aufbringens einer optionalen Planarisierungsschicht, einer optionalen Schutzschicht, und/oder einer oder mehrerer optionaler Hochindexschichten eine Spannung an der

Graphenschicht angelegt werden, um den Prozess stärker reproduzierbar zu gestalten. Nach dem Aushärten der

zusätzlichen oben genannten optionalen Schichten sind diese stabil genug, um die linsenförmige Struktur zu stabilisieren, so dass das Anlegen einer elektrischen Spannung nicht mehr erforderlich ist.

Somit wird anschaulich in den in Fig.2 dargestellten

Ausführungsbeispielen auf oder über der zweiten Elektrode 210, die beispielsweise transluzent oder transparent

eingerichtet ist, eine Monolage Graphen aufgebracht, in welcher sich die Graphen-Blasen bilden. Innerhalb der

Graphen-Blasen, anders ausgedrückt in dem Raum zwischen den Graphen-Blasen und der zweiten Elektrode 210 oder der

Verkapselung 212, kann Luft enthalten sein, alternativ oder zusätzlich eine Flüssigkeit und/oder ein Festkörper, wobei die Flüssigkeit und/oder der Festkörper in verschiedenen Ausführungsbeispielen einen Brechungsindex von mindestens n = 1,8 (beispielsweise bei einer Wellenlänge von 633 nm) aufweist, also anders ausgedrückt hochbrechend ist, so dass ein Linseneffekt erreicht wird, wodurch die Totalreflexion an der Grenzfläche zur Luft zumindest teilweise aufgehoben oder zumindest reduziert wird. Je höher der Brechungsindex der Flüssigkeit und/oder des Festkörpers in der oder den Graphen- Blasen gewählt ist, beispielsweise für den Fall, dass die Flüssigkeit und/oder der Festkörper in der oder den Graphen- Blasen einen Brechungsindex in einem Bereich von ungefähr n = 1,8 bis ungefähr n = 1, 9 (beispielsweise bei einer

Wellenlänge von 633 nm) aufweist, desto besser ist die

Lichtauskopplung (oder gegebenenfalls Lichteinkopplung) des optoelektronischen Bauelements 200, beispielsweise der

OLED 200. Es ist darauf hinzuweisen, dass in alternativen

Ausführungsbeispielen die Graphen-Blasen nicht

notwendigerweise auf einer festen Verkapselung 212 oder einer festen zweiten Elektrode 210 aufgebracht werden müssen, sondern die Blasenbildung während des Bildens der

Graphenschicht kann auch auf einer Flüssigkeitsschicht erfolgen, die beispielsweise zuvor auf die Verkapselung 212 oder die zweite Elektrode 210 aufgebracht werden kann, wobei die Flüssigkeitsschicht beispielsweise die Flüssigkeit enthalten kann oder von der Flüssigkeit gebildet werden, die innerhalb der Graphen-Blasen als Hochindex-Material enthalten sein soll. Die Graphen-Blasen bilden sich an die Oberfläche der Verkapselung 212 oder der zweiten Elektrode 210 derart, dass die Flüssigkeit innerhalb der Graphen-Blasen zwischen dem Graphen und der Verkapselung 212 oder der zweiten

Elektrode 210 eingeschlossen wird.

Ferner kann in weiteren alternativen Ausführungsbeispielen vorgesehen sein, die Graphen-Schicht zunächst unabhängig von dem optoelektronischen Bauelement 200 zu bilden inklusive der Graphen-Blasen, wobei dann Flüssigkeit (die später das

Hochindex-Material bildet) in die gebildeten „Wannen" der Graphen-Blasen gefüllt wird und anschließend das Bauelement mit der freiliegenden Oberfläche der Verkapselung 212 oder der zweiten Elektrode 210 auf die (anschaulich nach oben offene) linsenförmige Struktur 216 gelegt wird, so dass die Flüssigkeit eingeschlossen wird, und anschließend ein

Erhitzen durchgeführt wird, womit eine feste Bindung zwischen der Graphenschicht und der Oberfläche der Verkapselung 212 oder der zweiten Elektrode 210 erfolgt.

Anschließend kann auf die nunmehr gebildete Struktur auf oder über der Graphenschicht eine Schutzschicht 218 aufgebracht, beispielsweise abgeschieden werden. Die Schutzschicht 218 kann einen Klebstoff und/oder einen Schutzlack aufweisen, mittels dessen beispielsweise eine Abdeckung (nicht

dargestellt) (beispielsweise eine Glasabdeckung) auf der linsenförmigen Struktur befestigt, beispielsweise aufgeklebt ist. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die optisch transluzente Schicht aus Klebstoff und/oder Schutzlack

(beispielsweise allgemein die Schutzschicht 218) eine

Schichtdicke von größer als 1 ym aufweisen, beispielsweise eine Schichtdicke von mehreren ym. In verschiedenen

Ausführungsbeispielen kann der Klebstoff einen Laminations- Klebstoff aufweisen oder ein solcher sein. In die Schicht des Klebstoffs (auch bezeichnet als

Kleberschicht) können in verschiedenen Ausführungsbeispielen noch lichtstreuende Partikel eingebettet sein, die zu einer weiteren Verbesserung des Farbwinkelverzugs und der

Auskoppeleffizienz führen können. In verschiedenen

Ausführungsbeispielen können als lichtstreuende Partikel beispielsweise dielektrische Streupartikel vorgesehen sein wie beispielsweise Metalloxide wie z.B. Siliziumoxid (Si02), Zinkoxid (ZnO) , Zirkoniumoxid (Zr02), Indium-Zinn-Oxid (ITO) oder Indium-Zink-Oxid (IZO), Galliumoxid (Ga20a)

Aluminiumoxid, oder Titanoxid. Auch andere Partikel können geeignet sein, sofern sie einen Brechungsindex haben, der von dem effektiven Brechungsindex der Matrix der transluzenten Schichtenstruktur verschieden ist, beispielsweise Luftblasen, Acrylat, oder Glashohlkugeln. Ferner können beispielsweise metallische Nanopartikel , Metalle wie Gold, Silber, Eisen- Nanopartikel , oder dergleichen als lichtstreuende Partikel vorgesehen sein.

Ferner ist darauf hinzuweisen, dass in verschiedenen

Ausführungsbeispielen auch ganz auf einen Klebstoff

verzichtet werden kann, beispielsweise in Ausführungsformen, in denen die Abdeckung, beispielsweise aus Glas, mittels beispielsweise Plasmaspritzens beispielsweise auf die

Schutzschicht 218 aufgebracht wird.

In verschiedenen Ausführungsbeispielen können/kann die

Abdeckung und/oder die Schutzschicht 218 einen Brechungsindex (beispielsweise bei einer Wellenlänge von 633 nm) von 1,55 aufweisen. Die Abdeckung oder Abdeckungsschicht und/oder die Schutzschicht 218 kann einen Brechungsindex aufweisen, der kleiner ist als der Brechungsindex der Flüssigkeit und/oder des Feststoffs.

Ferner können in verschiedenen Ausführungsbeispielen

zusätzlich eine oder mehrere Entspiegelungsschichten (beispielsweise kombiniert mit der Verkapselung 212,

beispielsweise der Dünnschichtverkapselung 212) in dem lichtemittierenden Bauelement 200 vorgesehen sein. Fig.3 zeigt eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden Bauelements 300 gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen.

Das lichtemittierende Bauelement 300 gemäß Fig.3 ist dem lichtemittierenden Bauelement 200 gemäß Fig.2 sehr ähnlich, weshalb im Folgenden lediglich die Unterschiede des

lichtemittierenden Bauelements 300 gemäß Fig.3 zu dem

lichtemittierenden Bauelement 200 gemäß Fig.2 geschrieben werden. Hinsichtlich der gleichen Elemente, die auch mit den gleichen Bezugszeichen bezeichnet sind wie bei dem

lichtemittierenden Bauelement 200 gemäß Fig.2, wird auf die obigen Ausführungen hinsichtlich des lichtemittierenden Bauelements 200 gemäß Fig.2 verwiesen.

Wie in Fig.3 dargestellt ist, ist bei dem lichtemittierenden Bauelement 300 die Graphenschicht 214 mit der linsenförmigen Struktur 216 anschaulich außerhalb des elektrisch aktiven Bereichs 204 angeordnet, beispielsweise auf oder über dem Träger 202, beispielsweise dem Substrat 202, welcher

transluzent oder transparent ausgebildet sein kann.

Der Raum zwischen den Graphen-Blasen 216 und dem Träger 202 kann, wie oben beschrieben, mit Luft gefüllt sein, alternativ mit einer Flüssigkeit und/oder einem Feststoff, die und/oder der möglichst hochbrechend ausgebildet ist.

In verschiedenen Ausführungsbeispielen ist das

lichtemittierende Bauelement 300, beispielsweise die OLED 300, als ein Bottom-Emitter eingerichtet, das heißt

anschaulich, dass die erste Elektrode 206 transluzent oder transparent ausgebildet sein kann und dass die zweite

Elektrode 210 reflektierend ausgebildet sein kann. Wie in Fig.3 dargestellt ist, ist auf oder über der

mindestens einen Graphenschicht 214 eine

Planarisierungsschicht 302 angeordnet und der elektrisch aktive Bereich 204 ist derart auf oder über der

Planarisierungsschicht 302 angeordnet, dass die erste

Elektrode 206 auf oder über der Planarisierungsschicht 302 angeordnet ist und beispielsweise mit der

Planarisierungsschicht 302 in körperlichem Kontakt sein kann. Optional, wenn auch in Fig.3 nicht dargestellt, kann eine

Verkapselung zwischen dem elektrisch aktiven Bereich 204 und dem Träger 202 angeordnet sein, beispielsweise eine

Verkapselung, wie sie oben beschrieben worden ist.

Beispielsweise kann die Verkapselung zwischen dem elektrisch aktiven Bereich 204 und der Graphenschicht 214 oder zwischen dem elektrisch aktiven Bereich 204 und der

Planarisierungsschicht 302 angeordnet sein.

In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die

Planarisierungsschicht 302 einen Brechungsindex aufweisen, der im Wesentlichen gleich ist dem Brechungsindex der

organischen funktionellen Schichtenstruktur. So kann das Material der Planarisierungsschicht 302 einen Brechungsindex in einem Bereich von ungefähr n = 1,8 bis ungefähr n = 1,9 (beispielsweise bei einer Wellenlänge von 633 nm) aufweisen.

Anschaulich wird gemäß diesen Ausführungsbeispielen auf dem transluzenten oder transparenten Träger 202 die

Graphenschicht 214 mit den Graphen-Blasen 216 ausgebildet und anschließend kann eine (möglichst hoch brechende)

Planarisierung (beispielsweise in Form der

Planarisierungsschicht 302) aufgebracht werden, auf welcher anschließend die erste ( transluzente oder transparente)

Elektrode 206 aufgebracht werden kann. Darauf wird dann die Organik 208 der OLED 300, d.h. die organische funktionelle Schichtenstruktur 208 aufgebracht, beispielsweise

abgeschieden . Fig.4 zeigt eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden Bauelements 400 gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen. Das lichtemittierende Bauelement 400 gemäß Fig.4 ist dem lichtemittierenden Bauelement 200 gemäß Fig.2 sehr ähnlich, weshalb im Folgenden lediglich die Unterschiede des

lichtemittierenden Bauelements 400 gemäß Fig.4 zu dem

lichtemittierenden Bauelement 200 gemäß Fig.2 geschrieben werden. Hinsichtlich der gleichen Elemente, die auch mit den gleichen Bezugszeichen bezeichnet sind wie bei dem

lichtemittierenden Bauelement 200 gemäß Fig.2, wird auf die obigen Ausführungen hinsichtlich des lichtemittierenden

Bauelements 200 gemäß Fig.2 verwiesen.

Wie in Fig.4 dargestellt ist, ist bei dem lichtemittierenden Bauelement 400 die Graphenschicht 214 mit der linsenförmigen Struktur 216 Teil der ersten Elektrode 206 (alternativ oder zusätzlich Teil der zweiten Elektrode 210) . Somit kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen die Graphenschicht 214 auf oder über dem Träger 202 angeordnet sein und

beispielsweise in körperlichem Kontakt mit diesem sein.

In diesen Ausführungsbeispielen kann die zweite Elektrode 210 transluzent (beispielsweise transparent) oder reflektierend ausgestaltet sein.

Anschaulich wird gemäß diesen Ausführungsbeispielen auf dem transluzenten oder transparenten Träger 202 die

Graphenschicht 214 mit den Graphen-Blasen 216 ausgebildet. Die Graphen-Blasen 216 können nun einerseits mit einer hochbrechenden Schicht (die beispielsweise einen

Brechungsindex in einem Bereich von ungefähr n = 1,8 bis 1,9 aufweist) überdeckt werden (z.B. eine oder mehrere dünne Schichten aus SiN, T1O2, ZrC>2, AI2O3) oder direkt in

körperlichem Kontakt mit einer nasschemisch abgeschiedenen Elektrode (beispielsweise der ersten Elektrode 206) (beispielsweise auf Basis von Silber-Nanodrähten) sein. Je nach Güte einer ebenfalls vorgesehenen Planarisierung ergibt sich nun entweder eine komplett durchstrukturierte OLED oder eine OLED, an welcher die Grenzfläche zu den Graphen-Blasen 216 einen Brechungsindexsprung aufweist, wodurch eine

auskopplungssteigernde Linsenwirkung erreicht werden kann.

In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird die Effizienz von organischen Leuchtdioden, allgemein von optoelektronischen Bauelementen, beispielsweise von lichtemittierenden

Bauelementen, gesteigert.