本発明の有機EL素子用正孔注入材料は、 上記一般式(1)で表わされるカルボン酸誘導体 である。

 本発明の有機EL素子は、対向する陽極と� �極の間に、少なくとも1層の発光層と正孔注� ��層を有しており、上記一般式(1)で表わされ� ��カルボン酸誘導体を含有する正孔注入層を� ��する。

 まず、上記一般式(1)で表わされるカルボ� ��酸誘導体又は有機EL素子用正孔注入材料に� �いて説明する。

 一般式(1)において、XはO又はN-Rを示す。� �こで、Rは窒素原子と結合する水素又は1価の 置換基を示すが、好ましい置換基を次に例示 する。

  炭素数1~20、好ましくは1~6のアルキル基( 例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、 イソプロピル基、ターシャルブチル基、ペン チル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル 基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタ デシル基等)、炭素数3~20、好ましくは5~10のシ クロアルキル基(例えば、シクロペンチル基� �シクロヘキシル基等)、炭素数2~20、好ましく は2~6のアルケニル基(例えば、ビニル基、ア� �ル基等)、炭素数2~20、好ましくは2~6のアルキ ニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル� �等)、炭素数6~20、好ましくは6~10のアリール� �(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、炭素 数3~20、好ましくは5~10の芳香族複素環基(例え ば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピ リダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル 基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラ ゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、 フタラジニル基等)、炭素数3~20、好ましくは5 ~10の複素環基(例えば、ピロリジル基、イミ� �ゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジ� �基等)、炭素数1~20、好ましくは1~6のフッ化炭 化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリ� �ルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基� �ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、� ��トロ基、シリル基(例えば、トリメチルシリ ル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェ ニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等 )等がある。

  これらの置換基は、上記の置換基又は� �ロゲン等によって更に置換されていてもよ� �。例えば、アリール基、芳香族複素環基、� �素環基は、更にアルキル基やハロゲン等に� �って更に置換されていてもよく、置換基が� �に置換されている場合は炭素数の計算には� �換基に置換する置換基の炭素数を含める。� �た、これらの置換基は複数が互いに結合し� �環を形成していてもよい。

 好ましいXは、O、NHの他、Rが上記の置換� �であるNRである。より好ましいXは、O、NHの� �、Rが次の置換基であるNRである。このRは、� ��素数1~6のアルキル基、炭素数5~10のシクロア ルキル基、炭素数6~10のアリール基、炭素数5~ 10の芳香族複素環基、炭素数1~6のフッ化炭化� ��素基又はシアノ基である。そして、シクロ� ��ルキル基、アリール基又は芳香族複素環基� ��、炭素数1~6のアルキル基又はハロゲンで置� ��されていてもよい。

  以下に、一般式(1)で表される化合物の� �体例を示すが、本発明はこれらに限定され� �ものではない。

  本発明の有機EL素子の正孔注入層には、 上記一般式(1)で表される化合物から選ばれる 少なくとも1種の化合物を含む材料が含まれ� �。この正孔注入層は、一般式(1)の化合物の� �又はその混合物から形成されてもよく、他� �正孔注入材料と混合されたものであっても� �い。混合する場合、一般式(1)で表される化� �物が0.1wt%以上、有利には1wt%以上となるよう� ��使用すればよいが、本発明の効果を十分に� ��揮するためには50wt%以上、より好ましくは80 wt%以上となるように使用することがよい。

 本発明でいう正孔注入層は、発光層に対� ��陽極側に配置された層であって、正孔注入� ��料又は正孔注入材料と正孔輸送性材料を主� ��る有効成分として含み、正孔を注入する機� ��を有する層をいう。したがって、正孔注入� ��には正孔注入材料の他に正孔輸送性材料を� ��むこともできる。正孔輸送性材料を含む場� ��、正孔注入輸送層とも称されることがある� ��、本明細書では正孔注入層の一形態である� ��理解される。また、本発明でいう正孔注入� ��料は、上記正孔注入層に使用される材料を� ��味する。

 正孔注入層に正孔輸送性材料を含む場合� ��正孔輸送性材料としてはイオン化ポテンシ� ��ル(IP)が6.0eV以下である正孔輸送性材料であ� ��ことが好ましい。IPが6.0eV以下である正孔輸 送性材料としては、アリールアミン系正孔輸 送性材料が好ましく例示される。

 また、正孔注入層が正孔輸送性材料を含� ��場合であっても、含まない場合であっても� ��正孔注入層に隣接する層にIPが6.0eV以下であ る正孔輸送性材料を含むことが好ましい。正 孔注入層が正孔輸送性材料を含まない場合に 、より有効である。この正孔注入層に隣接す る層としては、正孔輸送層又は発光層である ことが好ましい。発光層である場合は、正孔 輸送層は省略される。

 正孔注入層に、正孔輸送性材料を含む場� ��、正孔注入材料と正孔輸送性材料の割合は� ��く変化することができるが、重量比で1:9~9:1 、好ましくは3:7~7:3の範囲とすることがよい� �そして、この場合の正孔注入層には、一般� �(1)で表される化合物が0.1wt%以上、有利には1w t%以上含むことがよいが、本発明の効果を十� ��に発揮するためには10wt%以上、より好まし� �は30wt%以上となるように使用することがよい 。

  以下、本発明を、図面を参照して説明� �る。図1~2は本発明の有機EL素子の一例を示す 模式断面図である。

 符号の説明:1 基板、2 陽極、3 正孔注入 層、4 正孔輸送層、5  発光層、6  電子輸� �層、7  電子注入層、8  陰極 

 まず、有機EL素子の構成について、説明� �る。

  図1に本発明の有機EL素子の基本構成例� �示す。基板1の上に陽極2、正孔注入層3、正� �輸送層4、発光層5、電子輸送層6、電子注入� �7、陰極8で構成されるが、正孔輸送性材料を 正孔注入層又は発光層の少なくともいずれか の層に含有する場合、正孔輸送層は無くても よい。電子輸送性材料を発光層又は電子注入 層の少なくともいずれかの層に含有する場合 、電子輸送層は無くてもよい。また、必要に より他の層を設けてもよい。他の層とは、例 えば電子阻止層や正孔阻止層が挙げられるが 、これらに限定されるものではない。

 そして、本発明の有機EL素子は、正孔注� �層と一層以上の発光層を必須の層として有� �る。発光層は1層であっても、複数の発光層� ��積層した多層構造の発光層あってもよい。

 図2に本発明の有機EL素子の別の態様を示� ��。図2は、図1の基本素子構成をタンデム型� �積層した素子構成の1例を示す。基板1の上に 陽極2、正孔注入層3、正孔輸送層4、発光層5� �電子輸送層6、電子注入層7、陰極8が積層さ� �るが、この内、正孔注入層3~電子注入層7が� �層されたユニットが両極間に複数積層され� �。このユニットの積層数は必要に応じてそ� �層数を変化させることができる。また、隣� �する電子注入層と正孔注入層の間に金属薄� �を挟持させてもよい。各層の詳細について� �、図1の基本構成と同様である。

  本発明の有機EL素子の好ましい構成例を以 下に示すが、これに限定されない。
A.単層構成例
1)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸 送層/電子注入層/陰極
2)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/発光層 /電子輸送層/電子注入層/陰極
3)陽極/正孔注入層/発光層/電子輸送層/電子注 入層/陰極
B.多層構成例
1)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸 送層/電子注入層/正孔注入層/正孔輸送層/発� �層/電子輸送層/電子注入層/陰極
2)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸 送層/電子注入層/金属薄膜/正孔注入層/正孔� �送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
3)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/発光層 /電子輸送層/電子注入層/金属薄膜/正孔注入� �/正孔輸送層/発光層/発光層/電子輸送層/電子 注入層/陰極

  上記のように、本発明の素子構成は、� �1で示される基本素子構成が単層の単層構造� ��も、これが多層化された多層構造であって� ��よい。多層構造の場合、正孔注入層は複数� ��在するが、その少なくとも1つ、好ましくは 全部の正孔注入層が一般式(1)の化合物を含む 正孔注入層とする。このような正孔注入層を 設けることにより、単層構造であっても多層 構造であっても、素子の性能を向上させる。 多層構造に適用するとその効果が大きい。

 以下、各層について詳細に説明する。

(1)基板
  基板1は有機電界発光素子の支持体となる� ��のであり、石英やガラスの板、金属板や金� ��箔、プラスチックフィルムやシートなどが� ��いられる。特にガラス板や、ポリエステル� ��ポリメタクリレート、ポリカーボネート、� ��リスルホンなどの透明な合成樹脂の板が好� ��しい。合成樹脂基板を使用する場合にはガ� ��バリア性に留意する必要がある。基板のガ� ��バリア性が小さすぎると、基板を通過した� ��気により有機電界発光素子が劣化すること� ��あるので好ましくない。このため、合成樹� ��基板の少なくとも片面に緻密なシリコン酸� ��膜等を設けてガスバリア性を確保する方法� ��好ましい方法の一つである。

(2)陽極
  基板1上には陽極2が設けられる。この陽極 は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル 、パラジウム、白金等の金属、インジウム及 び/又はスズの酸化物、亜鉛及び/又はスズの� ��化物、タングステン及び/又はスズの酸化物 などの金属酸化物、ヨウ化銅などのハロゲン 化金属、カーボンブラック、あるいは、ポリ (3-メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリ� �ニリン等の導電性高分子などにより構成さ� �る。陽極の形成は通常、スパッタリング法� �真空蒸着法などにより行われることが多い� �また、銀などの金属微粒子、ヨウ化銅など� �微粒子、カーボンブラック、導電性の金属� �化物微粒子、導電性高分子微粉末などの場� �には、適当なバインダー樹脂溶液に分散し� �基板上に塗布することにより陽極を形成す� �こともできる。更に、導電性高分子の場合� �電解重合により直接基板上に薄膜を形成し� �り、基板上に導電性高分子を塗布して陽極� �形成することもできる。陽極は異なる物質� �積層して形成することも可能である。陽極2� ��厚みは、必要とする透明性により異なる。� ��明性が必要とされる場合は、可視光の透過� ��を、通常、60%以上、好ましくは80%以上とす� ��ことがよい。陽極2の膜厚については、通常 、1~1000nm、好ましくは10~500nmである。なお不� �明でよい場合、陽極は基板と同一でもよい� �また、更には上記の陽極の上に異なる導電� �料を積層することも可能である。

(3)正孔注入層
 陽極2の上に正孔注入層3が設けられる。正� �注入層には、上記一般式(1)で表される化合� �から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む� ��料が使用される。この正孔注入層は、一般� ��(1)の化合物のみ又はその混合物から形成さ� ��てもよく、他の正孔注入材料と混合された� ��のであってもよい。また、上記したように� ��正孔注入層3は正孔輸送材料を含むことも可 能である。一般式(1)で表される化合物の配合 量は前記のとおりであるが、この化合物をn� �材料と共に使用する場合で、ドーパントと� �て使用する場合は、0.1wt%以上であっても一� �の効果を奏するが、他の正孔注入材料と混� �使用する場合は、本発明の効果を十分に発� �するためには50wt%以上が好ましい。

 他の正孔注入材料としては、銅フタロシ� ��ニン等のフタロシアニン化合物、ポリアニ� ��ン、ポリチオフェン等の有機化合物や、バ� ��ジウム酸化物、ルテニウム酸化物、モリブ� ��ン酸化物等の金属酸化物が挙げられる。

 正孔注入層は、上記正孔注入材料を、例� ��ば真空蒸着法、スピンコート法、キャスト� ��、インクジェット法を含む印刷法、LB法等� �公知の方法により、薄膜化することにより� �成することができる。

 正孔注入層の膜厚については、一般式(1)� ��化合物のみから形成される場合、30nm以下、 好ましくは20nm以下である。更に好ましくは5~ 15nmである。これ以上の厚さになると、正孔� �入特性の低下による、有機EL素子の高電圧化 や低効率化、ひいては駆動安定性の低下を引 き起こす。また、正孔注入層が、一般式(1)の 化合物と他の正孔注入材料の混合層から形成 される場合、通常、1~300nm、好ましくは5~100nm� ��ある。

 また、正孔注入層に、正孔輸送性材料を� ��有させることもできるが、この場合も、膜� ��としては通常、1~300nm、好ましくは5~100nmで� �る。正孔注入層に正孔輸送性材料を含有さ� �る場合は、正孔注入層に隣接する正孔輸送� �を設けなくても良い。

(4)正孔輸送層
 正孔注入層3の上に正孔輸送層4が設けられ� �。正孔輸送層は、陽極から発光層へ効率良� �正孔を輸送する役割を担う。正孔輸送層に� �有される正孔輸送性材料は正孔輸送性を有� �る化合物であれば特に限定されるものでは� �いが、IPが6.0eV以下である化合物が好ましく� ��より好ましくは5.8eV以下である。これより� �きくなると、正孔注入層から正孔輸送層へ� �正孔移動がスムーズに行えず、有機EL素子の 高電圧化や低効率化、ひいては駆動安定性の 低下を引き起こす。

 正孔輸送性材料としては、トリアゾール� ��導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾ� ��ル誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、� ��ラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フ� ��ニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘� ��体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾ� ��ル誘導体、スチリルアントラセン誘導体、� ��ルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、ス� ��ルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン� ��共重合体、また、導電性高分子オリゴマー� ��特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる� ��

  具体的には、以下に示すアリールアミ� �系正孔輸送性材料を用いることが好ましい� �

  アリールアミン系正孔輸送性材料の代� �例としては、N,N,N’,N’-テトラフェニル-4,4� �-ジアミノフェニル;N,N’-ジフェニル-N,N’-ビ ス(3-メチルフェニル)-〔1,1’-ビフェニル〕-4, 4’-ジアミン(TPD);2,2-ビス(4-ジ-p-トリルアミノ フェニル)プロパン;1,1-ビス(4-ジ-p-トリルアミ ノフェニル)シクロヘキサン;N,N,N’,N’-テト� �-p-トリル-4,4’-ジアミノビフェニル;1,1-ビス( 4-ジ-p-トリルアミノフェニル)-4-フェニルシク ロヘキサン;ビス(4-ジメチルアミノ-2-メチル� �ェニル)フェニルメタン;ビス(4-ジ-p-トリルア ミノフェニル)フェニルメタン;N,N’-ジフェニ ル-N,N’-ジ(4-メトキシフェニル)-4,4’-ジアミ� ��ビフェニル;N,N,N’,N’-テトラフェニル-4,4’ -ジアミノジフェニルエーテル;4,4’-ビス(ジ� �ェニルアミノ)クオードリフェニル;N,N,N-トリ (p-トリル)アミン;4-(ジ-p-トリルアミノ)-4’-〔 4-(ジ-p-トリルアミノ)スチリル〕スチルベン;4 -N,N-ジフェニルアミノ-(2-ジフェニルビニル)� �ンゼン;3-メトキシ-4’-N,N-ジフェニルアミノ� ��チルベンゼン;N-フェニルカルバゾール、更� ��は、2個の縮合芳香族環を分子内に有する4,4 ’-ビス〔N-(1-ナフチル)-N-フェニルアミノ〕� �フェニル(α-NPD)等、トリフェニルアミンユニ ットが3つスターバースト型に連結された4,4� �,4''-トリス〔N-(3-メチルフェニル)-N-フェニル アミノ〕トリフェニルアミン(MTDATA)等が挙げ� ��れる。

  正孔輸送層の膜厚については、通常、1~ 300nm、好ましくは5~100nmであり、正孔注入層と 同様の方法にて正孔注入層上に薄膜形成され る。この正孔輸送層は、上記材料の1種又は2� ��以上からなる一層構造であってもよい。

 (5)発光層
  正孔輸送層4の上には発光層5が設けられる 。発光層は正孔及び電子を再結合させ、発光 する機能を有する。

  発光層は、単一の発光層から形成され� �いてもよいし、複数の発光層を隣接して積� �して構成されていてもよい。なお発光層は� �ホスト材料と蛍光性発光材料又は燐光性発� �材料から構成され、従来これらの層の形成� �用いられた任意の材料を用いることができ� �。また、発光層に正孔輸送性材料を含有す� �場合は、正孔注入層と発光層の間に正孔輸� �層を設けなくても良い。

 ホスト材料としては、以前から発光体と� ��て知られていたアントラセンやピレンなど� ��縮合環誘導体、トリス(8-キノリノラト)アル ミニウムを始めとする金属キレート化オキシ ノイド化合物、ビススチリルアントラセン誘 導体やジスチリルベンゼン誘導体などのビス スチリル誘導体、テトラフェニルブタジエン 誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾール 誘導体、ピロロピリジン誘導体、ペリノン誘 導体、シクロペンタジエン誘導体、オキサジ アゾール誘導体、チアジアゾロピリジン誘導 体、ポリマー系では、ポリフェニレンビニレ ン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、そし て、ポリチオフェン誘導体などが使用できる 。

 ホスト材料に添加する蛍光性発光材料と� ��ては、ペリレン、ルブレンなどの縮合環誘� ��体、キナクリドン誘導体、フェノキサゾン6 60、DCM1、ペリノン、クマリン誘導体、ピロメ テン(ジアザインダセン)誘導体、シアニン色� ��などが使用できる。

 ホスト材料に添加する燐光性発光材料と� ��ては、ルテニウム、ロジウム、パラジウム� ��銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、� ��金及び金などから選ばれる少なくとも一つ� ��金属を含む有機金属錯体を含有するものが� ��い。

  好ましい燐光発光ドーパントとしては� �Ir等の貴金属元素を中心金属として有するIr( ppy)3等の錯体類、Ir(bt)2・acac3等の錯体類、PtOE t3等の錯体類が挙げられる。

  発光層の膜厚については、通常、1~300nm� ��好ましくは5~100nmであり、正孔輸送層上に正 孔注入層と同様の方法にて薄膜形成される。 複数の発光層材料を順次積層して多層構造の 発光層とすることも好ましいが、この場合の 発光層の厚みも上記の範囲とすることがよい 。

(6)電子輸送層
  発光層5の上には電子輸送層6が設けられる が、発光層中に電子輸送性材料を含有する場 合は、設けなくても良い。電子輸送層は、電 界を与えられた電極間において陰極から注入 された電子を効率よく発光層の方向に輸送す ることができる化合物より形成される。電子 輸送層に用いられる電子輸送性化合物として は、陰極からの電子輸送効率が高く、かつ、 高い電子移動度を有し注入された電子を効率 よく輸送することができる化合物であること が必要である。

  このような条件を満たす電子輸送材料� �しては、Alq3などの金属錯体、10-ヒドロキシ� ��ンゾ[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾ� ��ル誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、� ��ロール誘導体、3-又は5-ヒドロキシフラボン 金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベ ンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミ ダゾリルベンゼンキノキサリン化合物、フェ ナントロリン誘導体、2-t-ブチル-9,10-N,N'-ジシ アノアントラキノンジイミン、n型水素化非� �質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化 亜鉛などが挙げられる。

  電子輸送層の膜厚については、通常、1~ 300nm、好ましくは5~100nmであり、正孔注入層と 同様の方法にて発光層上に薄膜形成される。 この電子輸送層は、上記材料の1種又は2種以� ��からなる一層構造であってもよい。

(7)電子注入層
  更に、電子輸送層6の上には電子注入層7を 設けることも素子の効率を向上させる有効な 方法である。電子注入層は、発光層に電子を 注入する役割を果たす。
 電子注入材料の具体例としては、LiF、MgF ₂ 、Li ₂ O等のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩� �アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属塩� �Liq等のアルカリ金属錯体及びLi、Cs、Ca等の� �ルカリ金属、アルカリ土類金属等があげら� �る。

  電子注入層の膜厚については、通常、0. 1~300nm、好ましくは0.5~50nmであり、正孔注入層 と同様の方法にて発光層又は電子輸送層上に 薄膜形成される。

 電子注入層は、上記材料単体のみで形成� ��てもよいし、電子注入材料と電子輸送層材� ��を任意の割合で混合した層を形成してもよ� ��。この場合、電子注入層又は電子輸送のい� ��れかを省略してもよい。

(8)陰極
  陰極8は、電子注入層に電子を注入する役� ��を果たす。陰極として用いられる材料は、� ��記陽極に使用される材料を用いることが可� ��であるが、効率よく電子注入を行なうには� ��仕事関数の低い金属が好ましく、スズ、マ� ��ネシウム、インジウム、カルシウム、アル� ��ニウム、リチウム、銀等の適当な金属又は� ��れらの合金が用いられる。具体例としては� ��マグネシウム-銀合金、マグネシウム-イン� �ウム合金、アルミニウム-リチウム合金等の� ��仕事関数合金電極が挙げられる。

  また、低仕事関数金属からなる陰極を� �護する目的で、この上に更に、仕事関数が� �く大気に対して安定な金属層を積層するこ� �は素子の安定性を増す。この目的のために� �アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム� �金、白金等の金属が使われる。

  陰極の膜厚については、通常、1~1000nm、 好ましくは10~500nmであり、正孔注入層と同様� ��方法にて電子注入層又は発光ユニット上に� ��膜形成される。この陰極は、上記材料の1種 又は2種以上からなる一層構造であってもよ� �。

  また、陰極に上記金属を1nm~20nmの膜厚で 作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透 明材料をその上に作製することで、透明又は 半透明の陰極を作製することができ、これを 応用することで陽極と陰極の両方が透過性を 有する素子を作製することも可能である。

 図2に示す多層構造の有機EL素子の場合に� ��いても、各層は上記の説明のようにして形� ��することができる。例えば、陽極2状に正孔 注入層3~電子注入層7を順次設けて第1のユニ� �ト(I)とする。次に、ユニット(I)の最上部の� �である電子注入層7の上に、正孔注入層3~電� �注入層7を順次設けて第2のユニット(II)とす� �。更に、同様にして第Nのユニット(N)までを� ��様に設けることができる。ユニット(N)の電� ��注入層7の上には陰極8を設ける。なお、上� �ユニットは発光層を中心とするので発光ユ� �ットともいう。また、図2中、図1と同じ記号 は同じものをさす。

  なお、図1とは逆の構造、すなわち、基� ��1上に陰極8、電子注入層7、電子輸送層6、発 光層5、正孔輸送層4、正孔注入層3、陽極2の� �に積層することも可能であり、既述したよ� �に少なくとも一方が透明性の高い2枚の基板� ��間に本発明の有機EL素子を設けることも可� �である。この場合も、必要により層を追加� �たり、省略したりすることが可能である。� �2に示す多層構造の場合も同様である。

 また、本発明では、有機EL素子が、単一� �素子、アレイ状に配置された構造からなる� �子、陽極と陰極がX-Yマトリックス状に配置� �れた構造のいずれにおいても適用すること� �できる。本発明の有機EL素子によれば、正孔 注入層に一般式(1)の化合物を用いることで、 従来より低い電圧で発光効率が高くかつ駆動 安定性においても大きく改善された素子が得 られ、フルカラーあるいはマルチカラーのパ ネルへの応用において優れた性能を発揮でき る。そして、正孔輸送層にトリアリールアミ ン系化合物を用いると、その効果がより増大 する。