Title:
PATTERN FORMATION METHOD AND POLYMER ALLOY BASE MATERIAL
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2012/014700
Kind Code:
A1
Abstract:
[Problem] To provide: a pattern formation method which can form a pattern having a high orientation and a phase-separated structure on a polymer alloy within a short period; and a polymer alloy base material.
[Solution] Provided is a pattern formation method comprising laminating a self-assembled monolayer film and a polymer film on a substrate and irradiating the resulting laminate with an energy ray to chemically bond the polymer film to the self-assembled monolayer film, thereby forming a polymer surface layer on the self-assembled monolayer film, and then forming a polymer alloy having, formed thereon, a pattern having a phase-separated structure on the polymer surface layer.
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Inventors:
HATTORI Shigeki (Toshiba Corporation 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1058001, JP)
服部 繁樹 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝 知的財産部内 Tokyo, 〒1058001, JP)
ASAKAWA Koji (Toshiba Corporation 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1058001, JP)
浅川 鋼児 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝 知的財産部内 Tokyo, 〒1058001, JP)
NAKAMURA Hiroko (Toshiba Corporation 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1058001, JP)
中村 裕子 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝 知的財産部内 Tokyo, 〒1058001, JP)
KITAGAWA Ryota (Toshiba Corporation 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1058001, JP)
服部 繁樹 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝 知的財産部内 Tokyo, 〒1058001, JP)
ASAKAWA Koji (Toshiba Corporation 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1058001, JP)
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NAKAMURA Hiroko (Toshiba Corporation 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1058001, JP)
中村 裕子 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝 知的財産部内 Tokyo, 〒1058001, JP)
KITAGAWA Ryota (Toshiba Corporation 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1058001, JP)
Application Number:
JP2011/066222
Publication Date:
February 02, 2012
Filing Date:
July 15, 2011
Export Citation:
Assignee:
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA (1-1 Shibaura 1-chome, Minato-ku Tokyo, 01, 〒1058001, JP)
株式会社 東芝 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 Tokyo, 〒1058001, JP)
HATTORI Shigeki (Toshiba Corporation 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1058001, JP)
服部 繁樹 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝 知的財産部内 Tokyo, 〒1058001, JP)
ASAKAWA Koji (Toshiba Corporation 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1058001, JP)
浅川 鋼児 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝 知的財産部内 Tokyo, 〒1058001, JP)
NAKAMURA Hiroko (Toshiba Corporation 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1058001, JP)
中村 裕子 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝 知的財産部内 Tokyo, 〒1058001, JP)
株式会社 東芝 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 Tokyo, 〒1058001, JP)
HATTORI Shigeki (Toshiba Corporation 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1058001, JP)
服部 繁樹 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝 知的財産部内 Tokyo, 〒1058001, JP)
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浅川 鋼児 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝 知的財産部内 Tokyo, 〒1058001, JP)
NAKAMURA Hiroko (Toshiba Corporation 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1058001, JP)
中村 裕子 (〒01 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝 知的財産部内 Tokyo, 〒1058001, JP)
International Classes:
H01L21/027; B82B3/00; G03F7/26; G03F7/40; G03F7/42; H01L21/312
Attorney, Agent or Firm:
KATSUNUMA Hirohito et al. (Kyowa Patent & Law Office, Room 323 Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 05, 〒1000005, JP)
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