以下に図面を参照して本発明の実施の形� ��を詳細に説明する。

 図1は本発明で使用される光硬化性転写シ ート10の実施形態の一例を示す断面図である� ��光硬化性転写層11は、両面に剥離シート12a,1 2bを有する。剥離シートは一方のみでも、無� ��ても良い。使い方により適宜設定される。

 光硬化性転写層11は、スタンパの凹凸表� �を押圧することにより精確に転写できるよ� �に、加圧により変形し易い層であるととも� �、硬化後において銀合金等の反射層との接� �性が良好で、スタンパの剥離性にも優れた� �である。即ち、光硬化性転写層11は、光硬化 性組成物から構成され、この光硬化性組成物 が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応 性希釈剤とを含み、且つ反応性希釈剤が少な くとも1個のヒドロキシル基と、少なくとも2� ��のアクリロイル基及び/又はメタクリロイル 基(即ち、少なくとも2個のアクリロイル基、� ��なくとも2個のメタクリロイル基、或いは少 なくとも1個のアクリロイル基及び少なくと� �1個のメタクリロイル基の両方)とを有する化 合物を含むものである。この特定の化合物を 用いることにより、スタンパが密着した光硬 化性転写シートの光硬化した転写層が、銀合 金(AgX(好ましくはAg・Cu・Pd(97.4:0.9:1.7(質量比)) [例えばフルヤ金属(株)製のAPC]又はAg・Cu・Nd(9 8.4:0.7:0.9(質量比))[例えばコベルコ科研(株)製� ��ANC]))等の反射層に対して優れた接着性を示� ��と共に、硬化した転写層の表面がスタンパ( 一般にニッケル製)と剥離しやすい状態とな� �。これは、特に硬化後の転写層の反射層と� �接着性が、スタンパ表面との接着性より格� �に優れており、且つスタンパとの親和性が� �さいものと考えられる。或いはスタンパ表� �との親和性が硬化により低減されることも� �えられる。

 本発明では、光硬化性組成物は、ポリマ� ��として、ガラス転移温度が80℃以上のポリ� �ーを含むことが好ましい。これにより、ス� �ンパ或いは基板上の凹凸形状が容易に転写� �き、その後の硬化も高速で行うことができ� �。また硬化された形状も高いTg有するのでそ の形状が変わることなく長期に維持され得る 。ガラス転移温度が80℃以上のポリマーとし� ��は、重合性官能基を有することが、反応性� ��釈剤と反応が可能となり硬化の高速化に有� ��である。またヒドロキシル基を有すること� ��より、転写層11にジイソシアネートを含ま� �ることで、ポリマーを僅かに架橋させるこ� �が可能となり、転写層のしみ出し、層厚変� �が大きく抑えられた層とするのに特に有利� �ある。ジイソシアネートは、ヒドロキシル� �の無いポリマーでもある程度有効である。

 上記光硬化性転写シートは、情報の高密� ��化のため、再生レーザにより読み取りが容� ��なように380~420nmの波長領域の光透過率が70%� ��上であることが好ましい。特に、380~420nmの� ��長領域の光透過率が80%以上であることが好� ��しい。従って、この転写シート用いて作製� ��れる本発明の光情報記録媒体は380~420nmの波� ��のレーザを用いてピット信号を再生する方� ��に有利に使用することができる。

 上記光硬化性転写シート10を用いて、本� �明の光情報記録媒体を、例えば下記の図2に� ��すように製造することができる。

 光硬化性転写シート10は、先ず円盤状に� �ち抜かれる。この際、光硬化性転写層11と両 面の剥離シート12a,12b全てを打ち抜く場合(一� ��にフルエッジの場合)と、光硬化性転写層11� ��一方の剥離シート12bを円盤状に打ち抜き、� ��う一方の剥離シート12aをそのまま残す場合( 一般にドライエッジの場合)があり、適宜選� �して行われる(1)。このように予めの打ち抜� �作業は、本発明の光硬化性転写シートを用� �ることにより、転写層のしみ出し、はみ出� �無く、作業性良く行うことができる。

 次いで、光硬化性転写シート10から剥離� �ート12aを除去し、剥離シート12b付き光硬化� �転写層を用意する(2)。表面に記録ピットと� �ての凹凸を有する基板21の該凹凸表面の半透 明反射層23a(一般にAgX等の反射率の比較的低� �反射層)上に、剥離シートの無い側を対向さ� ��て光硬化性転写シート10を押圧する(3)。こ� �により光硬化性転写シートの表面が基板の� �凸表面に沿って密着された積層体(11,23a,21か� ��なる)を形成する。この構成で光情報記録媒 体として使用する場合は、光硬化性転写シー ト11を紫外線照射により硬化させ、剥離シー� ��12bを除去する(4)。

 次いで、表面に記録ピットとしての凹凸を� ��するスタンパ24を、積層体から剥離シート12 bを除去して未硬化状態の光硬化性転写層11の 表面(基板と接触していない側の表面)に押圧� ��る(5)。光硬化性転写層11の表面がスタンパ24 の凹凸表面に沿って密着した積層体(21,23a,11,2 4からなる)を形成し、そして積層体の光硬化� ��転写シートを紫外線照射(一般に300mJ/cm ² 以上)により硬化させた(6)のちスタンパ24を除 去することにより、硬化シートの表面に記録 ピット等の凹凸を設ける。これにより、基板 11、反射層23a及び硬化した光硬化性転写層11a� ��ら成る積層体(光情報記録媒体)を得る。本� �明では、このスタンパ除去の際、硬化した� �写層がスタンパに付着することなく、反射� �上に残存し、その転写層表面にはスタンパ� �凹凸に対応する凹凸形状が精確に形成され� �。通常、この凹凸上(硬化シートの表面)に、 反射層(一般にAl等の高反射率の反射層)23bを� �け(7)、さらにその上に有機ポリマーフィル� �(カバー層)26を接着剤層を介して貼付する(8)� ��これにより図3に示す光情報記録媒体を得る 。記録ピットを有する硬化シートの表面に、 さらに光硬化性転写シートを押圧し、紫外線 照射(一般に300mJ/cm ² 以上)により硬化させても良い。或いは、硬� �シートの表面に紫外線硬化性樹脂を塗布、� �化させても良い。半透明反射層は、通常のAl 等の反射層でも良い(両面読み出し用)。また� ��透明反射層23aを高反射率反射層、高反射率� ��射層23bを半透明反射層としても良い。さら� ��スタンパは、凹凸を有する基板であっても� ��い。

 また、(7)の工程で高反射層の代わりに半� ��明反射層を設け、同様に(2)~(7)の工程を繰り 返すことにより、記録ピットを三層以上形成 することもできる。例えば、図4に示すよう� �4層構成の光情報記録媒体を形成することが� ��きる。この構成は、次世代のブル-レイ・デ ィスクとして特に注目されている構成である 。即ち、表面に凹凸を有する基板21、その上� ��設けられた表面に凹凸を有する反射層23a、� ��面に凹凸を有する反射層23a上に硬化した光� ��化性転写層11a、この凹凸上に設けられた反� ��層(一般に前の反射層13aより反射率の高い反 射層)23b、反射層23b上に設けられた表面に凹� �を有する硬化した光硬化性転写層11b、その� �に形成された反射層13c(前の反射層23bより反� ��率の高い反射層)、反射層23c上に設けられた 表面に凹凸を有する硬化した光硬化性転写層 11c、その上に形成された反射層23d(前の反射� �23cより反射率の高い反射層)から構成されて� ��る。反射層23d上には、前記と同様有機ポリ� ��ーフィルム(カバー層)26等が貼付される。反 射層23a~24dの反射率の大きさの関係は、反対� �あっても良い。

 尚、上記方法においては、再生専用の光� ��報記録媒体について説明したが、記録可能� ��光情報記録媒体についても同様に行うこと� ��できる。記録可能媒体の場合、グルーブ或� ��はグルーブ及びプレピットを有しており、� ��の場合反射層及び半透明反射層の代わりに� ��属記録層(色素記録層の場合や金属記録層の 反射率が低い場合は、記録層及び反射層)が� �般に設けられる。それ以外は上記と同様に� �情報記録媒体を製造することができる。

 本発明では、記録ピット及び/又はグルー ブである凹凸形状を、光硬化性転写層11と基� ��21とを100℃以下の比較的低い温度(好ましく� ��常温)で押圧する(好ましくは減圧下)ことに� ��り精確に転写されるように光硬化性転写シ� ��トが設計されている。基板21と、光硬化性� �写層11との重ね合わせは、一般に圧着ロール や簡易プレスで行われる(好ましくは減圧下)� ��また、光硬化性転写層11の硬化後の層は、� �板21の表面の反射層に用いられる金属との接 着力が良好で剥離することはない。必要によ り反射層上に接着促進層を設けても良い。

 また本発明では、記録ピット及び/又はグ ルーブである凹凸形状を、光硬化性転写層11� ��スタンパ24とを100℃以下の低温(好ましくは� ��温)で押圧する(好ましくは減圧下)ことによ� ��精確に転写されるように光硬化性転写シー� ��が設計されている。スタンパ21と、光硬化� �転写シート11との重ね合わせは、一般に圧着 ロールや簡易プレスで行われる(好ましくは� �圧下)。また、光硬化性転写層11の硬化後の� �は、一般にTgが65℃以上(特に80℃以上)の層で あり、スタンパに用いられるニッケルなどの 金属との接着力が極めて弱く、光硬化性転写 シートをスタンパから容易に剥離することが できる。

 基板21は、一般に厚板(通常0.3~1.5mm、特に1 .1mm程度)であるので、従来の射出成形法で作� ��することが一般的である。しかし光硬化性� ��写シートとスタンパを用いて製造しても良� ��。本発明の光硬化性転写シートは300μm以下( 好ましくは150μm以下)に薄くすることができ� �ので、もう一方の基板を従来法で作製し、� �板の厚さを大きくすることができるのでピ� �ト形状の転写精度を上げることができる。

 上記工程において、光硬化性転写層を基� ��に押圧する際、或いはスタンパを光硬化性� ��写層に押圧する際に、減圧下に押圧を行う� ��とが好ましい。これにより、気泡の除去等� ��円滑に行われる。

 上記減圧下の押圧は、例えば、減圧下に2 個のロール間に、光硬化性転写シートとスタ ンパを通過させる方法、あるいは真空成形機 を用い、スタンパを型内に裁置し、減圧しな がら光硬化性転写シートをスタンパに圧着さ せる方法を挙げることができる。

 また、二重真空室方式の装置を用いて減� ��下の押圧を行うことができる。図5を参照し ながら説明する。図5には二重真空室方式の� �ミネータの一例が示されている。ラミネー� �は下室54、上室52、シリコーンゴムシート53� �ヒータ55を備えている。ラミネータ内の下室 54に、凹凸を有する基板と光硬化性転写シー� ��との積層体59、又は基板と光硬化性転写シ� �トとスタンパとの積層体59を置く。上室52及� ��下室54共に排気する(減圧する)。積層体59を� ��ータ55で加熱し、その後、下室54を排気した まま上室52を大気圧に戻し、積層体を圧着す� ��。冷却して積層体を取り出し、次工程に移� ��。これにより排気時に脱泡が十分に行われ� ��気泡の無い状態で、スタンパ又は基板と光� ��化性転写シートとを圧着することができる� ��

 本発明で使用される光硬化性転写シートは� ��ポリマー(好ましくはガラス転移温度が80℃� ��上のポリマー)及び光重合性官能基を有する 反応性希釈剤(重合性モノマー、オリゴマー)� ��含み、加圧により変形可能な光硬化性組成� ��からなる光硬化性転写層を有するものであ� ��。
  本発明の上記光硬化性組成物は、一般に� �上記ガラス転移温度(Tg)が80℃以上のポリマ� �、光重合性官能基(一般に炭素炭素2重結合、 好ましくは(メタ)アクリロイル基)を有する反 応性希釈剤(モノマー及びオリゴマー)、光重� ��性開始剤及び、所望により他の添加剤から� ��成される。

 本発明の特徴的要件は、反応性希釈剤と� ��て、少なくとも1個のヒドロキシル基と、少 なくとも2個のアクリロイル基及び/又はメタ� ��リロイル基とを有する化合物を含んでいる� ��とにある。これにより硬化した転写層が、� ��射層に対して優れた接着性を示し、且つス� ��ンパからの剥離性も優れたものとなってい� ��。

 本発明のヒドロキシル基とアクリロイル� ��及び/又はメタクリロイル基とを有する化合 物は、1個以上のヒドロキシル基と2個以上の� ��クリロイル基及び/又はメタクリロイル基(� �ち、1個以上のアクリロイル基及び1個以上の メタクリロイル基、2個以上のアクリロイル� �、又は2個以上のメタクリロイル基のいずれ� ��)とを有する化合物であれば、どのような化 合物でも使用することができる。例えば、こ のような化合物としては、3個以上のヒドロ� �シル基を有する多価アルコール(例、グリセ� ��ン、トリメチロールプロパン、トリメチロ� ��ルエタン、ペンタエリスリトール等)に2個� �上の(メタ)アクリル酸を縮合させたものを挙 げることができる。

 本発明のヒドロキシル基とアクリロイル� ��及び/又はメタクリロイル基とを有する化合 物は、下記式(I):

[但し、R ¹ が、水素原子又は炭素原子数1~5個のアルキル 基を表し、相互に同一でも異なっていても良 く、
 R ² が水素原子、炭素原子数1~5個のアルキル基又 は炭素原子数1~5個のヒドロキシアルキル基を 表し、
 R ³ が、水素原子又は炭素原子数1~5個のアルキル 基を表し、相互に同一でも異なっていても良 く、
 R ⁴ が炭素原子数1~5個のアルキレン基を表し、
 X及びYが、それぞれ独立してアクリロイル� �キシ基又はメタクリロイルオキシ基を表し� �そして
nが0又は1を表す。]
で表される化合物であることが好ましい。

 前記一般式(I)において、R ¹ が、水素原子を表し、R ² が水素原子、メチル、エチル又はヒドロキシ メチル基を表し、R ³ が、水素原子を表し、R ⁴ がメチレン基を表し、X及びYが、それぞれ独� ��してアクリロイルオキシ基又はメタクリロ� ��ルオキシ基を表し、そしてnが0又は1を表す� ��とが好ましい。特に、前記一般式(I)におい� ��、R ¹ が、水素原子を表し、R ² が水素を表し、R ⁴ が、水素を表し、X及びYが、それぞれ独立し� ��アクリロイルオキシ基又はメタクリロイル� ��キシ基を表し、そしてnが0を表すことが好� �しい。

 一般式(I)の化合物の好ましい例としては� ��グリセリンジアクリレート(特に1,3-ジアク� �ロイル-プロパントリオール)、グリセリンア クリレートメタクリレート(特に、1-アクリロ イル-3-メタクリロイル-プロパントリオール(� ��品名G-201P;共栄社化学(株)製))、グリセリン� �メタクリレート(特に、1,3-ジメタクリロイル -プロパントリオール(商品名G-101P;共栄社化学 (株)製))、トリメチロールプロパンジアクリ� �ート、トリメチロールプロパンアクリレー� �メタクリレート、トリメチロールプロパン� �メタクリレートを挙げることができ、特に� �グリセリンアクリレートメタクリレート、� �リセリンジメタクリレートが好ましい。本� �明では、多価アルコールにアクリレートと� �タクリレートの両方を有するものが好まし� �。

 このような特定の化合物を、反応性希釈� ��に対して、一般に5~70質量%、好ましくは5~50� ��量%、特にこのましくは5~30質量%の割合で含� ��している。これにより上記良好な接着性、� ��タンパ剥離性を保持することができる。

 このような化合物を含む光硬化性組成物� ��用いた光硬化性転写シートの転写層を、ス� ��ンパと密着させた後、硬化させてスタンパ� ��らその硬化層を剥離する際、硬化層が反射� ��(特に銀合金層)と優れた接着性を示し、硬� �層からスタンパを容易に剥離することがで� �、その時硬化層の一部がスタンパに付着す� �ことがほとんど無い。従って、記録面であ� �硬化転写層の表面の凹凸部分は、スタンパ� �形状が精確に転写されたまま残るため、記� �面(凹凸部分)をレーザ光で読みとった場合、 信号の読み取りエラーの発生がほとんど無い 。

 本発明の光硬化性組成物の構成要件である� ��重合性官能基を有する反応性希釈剤として� ��、上記特定の化合物の他に、
 例えば、(メタ)アクリルモノマーとしては� �2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-� �ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒ� ��ロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロ キシ-3-フェニルオキシプロピル(メタ)アクリ� ��ート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート 、2-エチルヘキシルポリエトキシ(メタ)アク� �レート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソ ボルニル(メタ)アクリレート、フェニルオキ� ��エチル(メタ)アクリレート、トリシクロデ� �ンモノ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテ ニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テト� ��ヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ア� �リロイルモルホリン、N-ビニルカプロラクタ ム、o-フェニルフェニルオキシエチル(メタ)� �クリレート、ネオペンチルグリコールジ(メ� ��)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ プロポキシジ(メタ)アクリレート、ヒドロキ� ��ピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ )アクリレート、トリシクロデカンジメチロ� �ルジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオ� �ルジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ (メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ� ��トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ� �ールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス リトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス� ��(メタ)アクリロキシエチル〕イソシアヌレ� �ト、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ) アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマ� ��類;
 ポリオール化合物(例えば、エチレングリコ ール、プロピレングリコール、ネオペンチル グリコール、1,6-ヘキサンジオール、3-メチル -1,5-ペンタンジオール、1,9-ノナンジオール、 2-エチル-2-ブチル-1,3-プロパンジオール、ト� �メチロールプロパン、ジエチレングリコー� �、ジプロピレングリコール、ポリプロピレ� �グリコール、1,4-ジメチロールシクロヘキサ� ��、ビスフェノールAポリエトキシジオール、 ポリテトラメチレングリコール等のポリオー ル類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイ ン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマ ー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル 酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との 反応物であるポリエステルポリオール類、前 記ポリオール類とε-カプロラクトンとの反応 物であるポリカプロラクトンポリオール類、 前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれ らの酸無水物類のε-カプロラクトンとの反応 物、ポリカーボネートポリオール、ポリマー ポリオール等)と有機ポリイソシアネート(例� ��ば、トリレンジイソシアネート、イソホロ� ��ジイソシアネート、キシリレンジイソシア� ��ート、ジフェニルメタン-4,4'-ジイソシアネ� ��ト、ジシクロペンタニルジイソシアネート� ��ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4'-ト リメチルヘキサメチレンジイソシアネート、 2,2',4-トリメチルヘキサメチレンジイソシア� �ート等)と水酸基含有(メタ)アクリレート(例� ��ば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート 、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート� �4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-� �ドロキシ-3-フェニルオキシプロピル(メタ)ア クリレート、シクロヘキサン-1,4-ジメチロー� ��モノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ� �ールトリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ (メタ)アクリレート等)の反応物であるポリウ レタン(メタ)アクリレート、ビスフェノールA 型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキ� �樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と(� ��タ)アクリル酸の反応物であるビスフェノー ル型エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)� �クリレートオリゴマー類等を挙げることが� �きる。これら光重合可能な官能基を有する� �合物は1種又は2種以上、混合して使用するこ とができる。

 この反応性希釈剤の量は光硬化性組成物� ��総量に対して不揮発分で20~80質量%、特に30~7 0質量%、とりわけ40~60質量%含むことが好まし� ��。またポリマーと反応性希釈剤との質量比� ��、100:40~160が一般的で、100:60~140、特に100:80~1 20であることが好ましい。このように設定す� ��ことにより、300mJの紫外線照射後のガラス� �移温度を65℃以上とすることが容易となる。

 ポリマー(好ましくはガラス転移温度が80� ��以上)としては、アクリル樹脂、ポリ酢酸ビ ニル、ビニルアセテート/(メタ)アクリレート 共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、� �リスチレン及びその共重合体、ポリ塩化ビ� �ル及びその共重合体、ブタジエン/アクリロ� ��トリル共重合体、アクリロニトリル/ブタジ エン/スチレン共重合体、メタクリレート/ア� ��リロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合� �、2-クロロブタジエン-1,3-ポリマー、塩素化� ��ム、スチレン/ブタジエン/スチレン共重合� �、スチレン/イソプレン/スチレンブロック共 重合体、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリエ ステル、ポリウレタン、セルロースエステル 、セルロースエーテル、ポリカーボネート、 ポリビニルアセタール等を挙げることができ る。

 本発明では、良好な転写性及び優れた硬� ��性の点から、アクリル樹脂が好ましい。ア� ��リル樹脂は、前述したように、重合性官能� ��を有するアクリル樹脂又はヒドロキシル基� ��有するアクリル樹脂であることが特に好ま� ��い。またアクリル樹脂は、メチルメタクリ� ��ートの繰り返し単位を少なくとも50質量%(特 に60~90質量%)含むことが、Tg80℃以上のアクリ� ��樹脂を得られやすく、また良好な転写性、� ��速硬化性も得られやすく好ましい。

 上記重合性官能基を有するアクリル樹脂� ��、一般に重合性官能基を有するアクリル樹� ��が、メチルメタクリレートと、アルコール� ��基が炭素原子数2~10個のアルキルの(メタ)ア� ��リル酸エステルの少なくとも1種と、グリシ ジル(メタ)アクリレートとの共重合体で、且� ��該グリシジル基に重合性官能基を有するカ� ��ボン酸が反応したもの、或いはメチルメタ� ��リレートと、アルコール残基が炭素原子数2 ~10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステル� ��少なくとも1種と、重合性官能基を有するカ ルボン酸との共重合体で、且つ該カルボン酸 基にグリシジル(メタ)アクリレートが反応し� ��ものである。

 メチルメタクリレートと、アルコール残� ��が炭素原子数2~10個のアルキルの(メタ)アク� ��ル酸エステルの少なくとも1種と、グリシジ ル(メタ)アクリレートとの共重合体である。� ��チルメタクリレートは、その繰り返し単位� ��して、ポリマー中に50質量%以上(特に60~90質� ��%)含まれることが好ましい。反応性希釈剤� �の適当な組合せにより、良好な転写性と優� �た硬化性の両立が容易となる。アルコール� �基が炭素原子数2~10個(特に3~5個)のアルキル� �(メタ)アクリル酸エステルとしては、エチル (メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリ レート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n -ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メ� �)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アク リレート等を挙げることができる。n-ブチル( メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリ レート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレー� �が好ましい。またこのような(メタ)アクリル 酸エステルは、その繰り返し単位として、ポ リマー中に、一般に5~30質量%、特に10~30質量%� ��まれることが好ましい。グリシジル(メタ)� �クリレート又は重合性官能基を有するカル� �ン酸は、その繰り返し単位として、ポリマ� �中に、一般に5~25質量%、特に5~20質量%含まれ� ��ことが好ましい。得られた共重合体のグリ� ��ジル基又はカルボン酸基に、それぞれ重合� ��官能基を有するカルボン酸又はグリシジル( メタ)アクリレートを反応させる。

 上記ヒドロキシル基を有するアクリル樹� ��は、一般にメチルメタクリレートと、アル� ��ール残基が炭素原子数2~10個(特に3~5個)のア� ��キルの(メタ)アクリル酸エステルの少なく� �も1種と、アルコール残基がヒドロキシル基� ��有する炭素原子数2~4個のアルキルの(メタ)� �クリル酸エステルの少なくとも1種との共重� ��体である。メチルメタクリレートは、その� ��り返し単位として、ポリマー中に50質量%以� ��(特に60~90質量%)含まれることが好ましい。� �応性希釈剤との適当な組合せにより、良好� �転写性と優れた硬化性の両立が容易となる� �アルコール残基が炭素原子数2~10個(特に3~5個 )のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルとし ては、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピ� �(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)ア� ��リレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イ ソブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキ� �ル(メタ)アクリレート等を挙げることができ る。n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチ� �(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ )アクリレートが好ましい。またこのような(� ��タ)アクリル酸エステルは、その繰り返し単 位として、ポリマー中に、一般に5~30質量%、� ��に10~30質量%含まれることが好ましい。アル� ��ール残基がヒドロキシル基を有する炭素原� ��数2~4個のアルキルの(メタ)アクリル酸エス� �ルとしては、例えば2-ヒドロキシエチルメタ クリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレ ートを挙げることができ、その繰り返し単位 として、ポリマー中に、一般に5~25質量%、特� ��5~20質量%含まれることが好ましい。

 前記重合性官能基を有するアクリル樹脂� ��、例えば、以下のように製造することがで� ��る。

 1種又は複数種の(メタ)アクリルモノマー( 好ましくは上述の、メチルメタクリレートと 、アルコール残基が炭素原子数2~10個のアル� �ルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも 1種と、グリシジル基を1個かつ重合性官能基� ��1個有する化合物(好ましくはグリシジル(メ� ��)アクリレート)或いは重合性官能基を有す� �カルボン酸とを、ラジカル重合開始剤と有� �溶剤の存在下で溶液重合法などの公知の方� �にて反応させて共重合体であるグリシジル� �含有アクリル樹脂(a)又はカルボキシル基含� �アクリル樹脂(b)を得る。(メタ)アクリルモノ マー等のモノマー類の配合割合はグリシジル 基含有アクリル樹脂(a)又はカルボキシル基含 有アクリル樹脂(b)の固形分換算合計量に対し て10~45質量%とすることが好ましい。

 次いで得られたグリシジル基含有アクリ� ��樹脂(a)に重合性官能基を有するカルボン酸� ��加え、或いは得られたカルボキシル基含有� ��クリル樹脂(b)にグリシジル基を1個かつ重合 性官能基を1個有する化合物(好ましくはグリ� ��ジルメタクリレート)を加え、必要に応じ加 熱することによりアクリル系光硬化型樹脂(A) 又はアクリル系光硬化型樹脂(B)を得る。この 配合比は、グリシジル基とカルボキシル基の モル比が1/0.9~1/1となるように配合するのが好 ましく、より好ましくは1/1である。グリシジ ル基過剰では長期安定性において増粘、ゲル 化のおそれがあり、カルボキシル基過剰では 皮膚刺激性が上がり作業性が低下する。さら に1/1の場合は残存グリシジル基がなくなり、 貯蔵安定性が顕著に良好になる。反応は塩基 性触媒、リン系触媒などの存在下で公知の方 法にて行うことができる。

 上記OH又は重合性官能基を有するアクリ� �樹脂を含み、本発明で用いることができる� �クリル樹脂を構成する主成分として使用す� �ことができる(メタ)アクリル系モノマーとし ては、アクリル酸又はメタクリル酸の各種エ ステルを挙げることができる。アクリル酸又 はメタクリル酸の各種エステルの例として、 メチル(メタ)アクリレート((メタ)アクリレー� ��とはアクリレート及びメタクリレートを示� ��。以下同様)、エチル(メタ)アクリレート、n -プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ )アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレー ト、t-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘ キシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ )アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート 、トリデシル(メタ)アクリレート等のアルキ� ��(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ) アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリ� ��ート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリ� �ート、2-メトキシエトキシエチル(メタ)アク� ��レート、2-エトキシエトキシエチル(メタ)ア クリレート等のアルコキシアルコキシアルキ ル(メタ)アクリレート、メトキシジエチレン� ��リコール(メタ)アクリレート、エトキシジ� �チレングリコール(メタ)アクリレート、メト キシトリエチレングリコール(メタ)アクリレ� ��ト、ブトキシトリエチレングリコール(メタ )アクリレート、メトキシジプロピレングリ� �ール(メタ)アクリレート等のアルコキシ(ポ� �)アルキレングリコール(メタ)アクリレート� �ピレノキシド付加物(メタ)アクリレート、N,N -ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、 N,N-ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート 等のジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリ� ��ート等を挙げることができる。さらに不飽� ��基を含有する芳香族化合物(例、スチレン)� �使用しても良い。

 本発明では、前述のように、アクリル系� ��ノマーの主成分としては、メチルメタクリ� ��ートと、アルコール残基が炭素原子数2~10個 のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少� ��くとも1種を使用することが好ましい。

 本発明のポリマー(好ましくはガラス転移 温度が80℃以上)は、数平均分子量が100000以上 、特に100000~300000、そして重量平均分子量が10 0000で以上、特に100000~300000であることが好ま� ��い。

 さらに本発明では、ポリマー(好ましくは ガラス転移温度が80℃以上)として、ヒドロキ シル基等の活性水素を有する官能基及び光重 合性官能基の両方を有するポリマーも使用す ることができる。このような反応性ポリマー としては、例えば、主として前記アクリル系 モノマーから得られる単独重合体又は共重合 体(即ちアクリル樹脂)で、且つ、主鎖又は側� ��に光重合性官能基及び活性水素を有する官� ��基を有するものである。従って、このよう� ��反応性ポリマーは、例えば、メチルメタク� ��レートと、前記1種以上の(メタ)アクリレー� ��と、ヒドロキシル基等の官能基を有する(メ タ)アクリレート(例、2-ヒドロキシエチル(メ� ��)アクリレート)とを共重合させ、得られた� �合体とイソシアナトアルキル(メタ)アクリレ ートなどの、重合体の官能基と反応し且つ光 重合性基を有する化合物と反応させることに より得ることができる。その際、ヒドロキシ ル基が残るようにイソシアナトアルキル(メ� �)アクリレートの量を調節して使用すること� ��より、活性水素を有する官能基としてヒド� ��キシル基及び光重合性官能基を有するポリ� ��ーが得られる。

 或いは上記において、ヒドロキシル基の� ��わりにアミノ基を有する(メタ)アクリレー� �(例、2-アミノエチル(メタ)アクリレート)を� �いることにより活性水素を有する官能基と� �てアミノ基を有する、光重合性官能基含有� �リマーを得ることができる。同様に、活性� �素を有する官能基としてカルボキシル基等� �有する、光重合性官能基含有ポリマーも得� �ことができる。

 本発明では、前記光重合性官能基をウレ� ��ン結合を介して有するアクリル樹脂も好ま� ��い。

 上記光重合性官能基及び活性水素を有す� ��官能基を有するポリマーは、光重合性官能� ��を一般に1~50モル%、特に5~30モル%含むことが 好ましい。この光重合性官能基としては、ア クリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基 が好ましく、特にアクリロイル基、メタクリ ロイル基が好ましい。

 本発明の光硬化性組成物中に添加され得� ��ジイソシアネートとしては、トリレンジイ� ��シアネート(TDI)、イソホロンジイソシアネ� �ト、キシリレンジイソシアネート、ジフェ� �ルメタン-4,4-ジイソシアネート、ジシクロペ ンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレン ジイソシアネート、2,4,4’-トリメチルヘキサ メチレンジイソシアネート、2,2’,4-トリメチ ルヘキサメチレンジイソシアネートを挙げる ことができる。またトリメチロールプロパン のTDI付加体等の3官能以上のイソシアネート� �合物等のポリイソシアネートシアネートも� �用することができる。これらの中でトリメ� �ロールプロパンのヘキサメチレンジイソシ� �ネート付加体が好ましい。

 本発明のジイソシアネートは、光硬化性組� ��物中に0.2~4質量%、特に0.2~2質量%の範囲で含� ��れていることが好ましい。転写層のしみ出� ��を防止するために適当な架橋がもたらされ� ��と共に、基板やスタンパの凹凸の良好な転� ��性も維持される。上記化合物とポリマーと� ��反応は、転写層形成後、徐々に進行し、常� ��(一般に25℃)、24時間でかなり反応している� ��転写層形成用の塗布液を調製した後、塗布� ��るまでの間にも反応は進行するものと考え� ��れる。転写層を形成後、ロール状態で巻き� ��る前にある程度硬化させることが好ましい� ��で、必要に応じて、転写層を形成時、或い� ��その後、ロール状態で巻き取る前の間に加� ��して反応を促進させても良い。
  本発明の光硬化性組成物は、上述のよう� �、一般にガラス転移温度が80℃以上のポリマ ー、本発明の特定のモノマーを含む光重合性 官能基(好ましくは(メタ)アクリロイル基)を� �する反応性希釈剤(モノマー及びオリゴマー) 、光重合性開始剤及び、所望により他の添加 剤から構成される。

 本発明の光硬化性転写層の周波数1Hzにおけ� ��貯蔵弾性率は、25℃において1×10 ⁷ Pa以下であることが好ましく、特に1×10 ⁴ ~6×10 ⁵ Paの範囲であることが好ましい。また80℃に� �いて8×10 ⁴ Pa以下であることが好ましく、特に1×10 ⁴ ~5×10 ⁵ Paの範囲であることが好ましい。これにより� ��精確で迅速な転写が可能となる。さらに、� ��発明の光硬化性転写層は、ガラス転移温度� ��20℃以下であることが好ましい。これによ� �、得られる光硬化性転写層がスタンパの凹� �面に圧着されたとき、常温においてもその� �凸面に緊密に追随できる可撓性を有するこ� �ができる。特に、ガラス転移温度が15℃~-50� �、特に15℃~-10℃の範囲にすることにより追� �性がたものとなる。ガラス転移温度が高す� �ると、貼り付け時に高圧力及び高圧力が必� �となり作業性の低下につながり、また低す� �ると、硬化後の十分な高度が得られなくな� �。

 また上記光硬化性組成物からなる光硬化性� ��写層は、300mJ/cm ² の紫外線照射後のガラス転移温度が65℃以上� ��なるように設計されていることが好ましい� ��短時間の紫外線照射により、転写での残留� ��力から発生しやすいピット形状等のダレ発� ��を防止することが容易で、転写されたピッ� ��形状等を保持することができる。本発明の� ��硬化性組成物からなる光硬化性転写層は、� ��として、上記好ましいポリマー、以下の反� ��性希釈剤を使用することにより有利に得る� ��とができる。

 光重合開始剤としては、公知のどのよう� ��光重合開始剤でも使用することができるが� ��配合後の貯蔵安定性の良いものが望ましい� ��このような光重合開始剤としては、例えば� ��アセトフェノン系、ベンジルジメチルケタ� ��ルなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン系� ��イソプロピルチオキサントン、2-4-ジエチル チオキサントンなどのチオキサントン系、そ の他特殊なものとしては、メチルフェニルグ リオキシレートなどが使用できる。特に好ま しくは、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプ� ��パン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシル� �ェニルケトン、2-メチル-1-(4-(メチルチオ)フ� ��ニル)-2-モルホリノプロパン-1、ベンゾフェ� ��ン等が挙げられる。これら光重合開始剤は� ��必要に応じて、4-ジメチルアミノ安息香酸� �ごとき安息香酸系又は、第3級アミン系など� ��公知慣用の光重合促進剤の1種または2種以� �を任意の割合で混合して使用することがで� �る。また、光重合開始剤のみの1種または2種 以上の混合で使用することができる。光硬化 性組成物中に、光重合開始剤を一般に0.1~20質 量%、特に1~10質量%含むことが好ましい。

 光重合開始剤のうち、アセトフェノン系� ��合開始剤としては、例えば、4-フェノキシ� �クロロアセトフェノン、4-t-ブチル-ジクロロ アセトフェノン、4-t-ブチル-トリクロロアセ� ��フェノン、ジエトキシアセトフェノン、2-� �ドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オ� �、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2 -メチルプロパン-1-オン、1-(4-ドデシルフェニ ル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、4- (2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル(2-ヒドロキ� ��-2-プロピル)ケトン、1-ヒドロキシシクロヘ� ��シルフェニルケトン、2-メチル-1-(4-(メチル� ��オ)フェニル)-2-モルホリノプロパン-1など、 ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベン ゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイ ル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノ� ��、ヒドロキシベンゾフェノン、4-ベンッゾ� �ル-4’-メチルジフェニルサルファイド、3,3� �-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノンなどが� ��用できる。

 アセトフェノン系重合開始剤としては、� ��に、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロ� �ン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェ ニルケトン、2-メチル-1-(4-(メチルチオ)フェ� �ル)-2-モルホリノプロパン-1が好ましい。ベ� �ゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾ� �ェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル� �息香酸メチルが好ましい。また、第3級アミ� ��系の光重合促進剤としては、トリエタノー� ��アミン、メチルジエタノールアミン、トリ� ��ソプロパノールアミン、4,4’-ジメチルアミ ノベンゾフェノン、4,4’-ジエチルアミノベ� �ゾフェノン、2-ジメチルアミノ安息香酸エチ ル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジ� �チルアミノ安息香酸(n-ブトキシ)エチル、4-� �メチルアミノ安息香酸イソアミル、4-ジメチ ルアミノ安息香酸2-エチルヘキシルなどが使� ��できる。特に好ましくは、光重合促進剤と� ��ては、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4- ジメチルアミノ安息香酸(n-ブトキシ)エチル� �4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4-ジ� ��チルアミノ安息香酸2-エチルヘキシルなど� �挙げられる。

 本発明では、上記光重合性官能基を有す� ��反応性希釈剤及び光重合開始剤に加えて、� ��望により下記の熱可塑性樹脂及び他の添加� ��を添加することが好ましい。

 他の添加剤として、シランカップリング� ��(接着促進剤)を添加することができる。こ� �シランカップリング剤としてはビニルトリ� �トキシシラン、ビニルトリス(β-メトキシエ� ��キシ)シラン、γ-メタクリロキシプロピルト リメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシ ラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシ シラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキ シシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エ チルトリメトキシシラン、γ-クロロプロピル メトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、 γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、 γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β(� ��ミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキ� �シランなどがあり、これらの1種を単独で又� ��2種以上を混合して用いることができる。こ れらシランカップリング剤の添加量は、上記 反応性ポリマー100質量部に対し通常0.01~5質量 部で十分である。

 また同様に接着性を向上させる目的でエ� ��キシ基含有化合物を添加することができる� ��エポキシ基含有化合物としては、トリグリ� ��ジルトリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌ レート;ネオペンチルグリコールジグリシジ� �エーテル;1,6-ヘキサンジオールジグリシジル エーテル;アクリルグリシジルエーテル;2-エ� �ルヘキシルグリシジルエーテル;フェニルグ� ��シジルエーテル;フェノールグリシジルエー テル;p-t-ブチルフェニルグリシジルエーテル; アジピン酸ジグリシジルエステル;o-フタル酸 ジグリシジルエステル;グリシジルメタクリ� �ート;ブチルグリシジルエーテル等が挙げら� ��る。また、エポキシ基を含有した分子量が� ��百から数千のオリゴマーや重量平均分子量� ��数千から数十万のポリマーを添加すること� ��よっても同様の効果が得られる。これらエ� ��キシ基含有化合物の添加量は上記反応性ポ� ��マー100質量部に対し0.1~20質量部で十分で、� ��記エポキシ基含有化合物の少なくとも1種を 単独で又は混合して添加することができる。

 さらに他の添加剤として、加工性や貼り� ��わせ等の加工性向上の目的で炭化水素樹脂� ��添加することができる。この場合、添加さ� ��る炭化水素樹脂は天然樹脂系、合成樹脂系� ��いずれでも差支えない。天然樹脂系ではロ� ��ン、ロジン誘導体、テルペン系樹脂が好適� ��用いられる。ロジンではガム系樹脂、トー� ��油系樹脂、ウッド系樹脂を用いることがで� ��る。ロジン誘導体としてはロジンをそれぞ� ��水素化、不均一化、重合、エステル化、金� ��塩化したものを用いることができる。テル� ��ン系樹脂ではα-ピネン、β-ピネンなどのテ� ��ペン系樹脂のほか、テルペンフェノール樹� ��を用いることができる。また、その他の天� ��樹脂としてダンマル、コーバル、シェラッ� ��を用いても差支えない。一方、合成樹脂系� ��は石油系樹脂、フェノール系樹脂、キシレ� ��系樹脂が好適に用いられる。石油系樹脂で� ��脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂� ��族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、水素化� ��油樹脂、純モノマー系石油樹脂、クマロン� ��ンデン樹脂を用いることができる。フェノ� ��ル系樹脂ではアルキルフェノール樹脂、変� ��フェノール樹脂を用いることができる。キ� ��レン系樹脂ではキシレン樹脂、変性キシレ� ��樹脂を用いることができる。

 上記炭化水素樹脂等のポリマーの添加量� ��適宜選択されるが、上記本発明のポリマー1 00質量部に対して1~20質量部が好ましく、より 好ましくは5~15質量部である。

 以上の添加剤の他、本発明の光硬化性組� ��物は紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加� ��助剤等を少量含んでいてもよい。また、場� ��によってはシリカゲル、炭酸カルシウム、� ��リコーン共重合体の微粒子等の添加剤を少� ��含んでもよい。

 本発明の光硬化性組成物からなる光硬化� ��転写シートは、ポリマー(好ましくはTg80℃� �上)、光重合性官能基を有する反応性希釈剤( モノマー及びオリゴマー)、所望によりジイ� �シアネートシアネート及び、所望により他� �添加剤とを均一に混合し、押出機、ロール� �で混練した後、カレンダー、ロール、Tダイ� ��出、インフレーション等の製膜法により所� ��の形状に製膜して用いることができる。支� ��体を用いる場合は、支持体上に製膜する必� ��がある。より好ましい本発明の光硬化性接� ��剤の製膜方法は、各構成成分を良溶媒に均� ��に混合溶解し、この溶液をシリコーンやフ� ��素樹脂を精密にコートしたセパレーターに� ��ローコート法、ロールコート法、グラビア� ��ール法、マイヤバー法、リップダイコート� ��等により支持体上に塗工し、溶媒を乾燥す� ��ことにより製膜する方法である。

 また、光硬化性転写シートの厚さは1~1200� �m、特に5~500μmとすることが好ましい。特に5~ 300μm(好ましくは150μm以下)が好ましい。1μmよ り薄いと封止性が劣り、透明樹脂基板の凸凹 を埋め切れない場合が生じる。一方、1000μm� �り厚いと記録媒体の厚みが増し、記録媒体� �収納、アッセンブリー等に問題が生じるお� �れがあり、更に光線透過に影響を与えるお� �れもある。

 上記光硬化性転写シートの両側には剥離� ��ートが貼り付けられていることが好ましい� ��

 剥離シートの材料としては、ガラス転移� ��度が50℃以上の透明の有機樹脂が好ましく� �このような材料としては、ポリエチレンテ� �フタレート、ポリシクロヘキシレンテレフ� �レート、ポリエチレンナフタレート等のポ� �エステル系樹脂、ナイロン46、変性ナイロン 6T、ナイロンMXD6、ポリフタルアミド等のポリ アミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、 ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹 脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォ ン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテ ルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテル イミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネー ト、ポリメチルメタクリレート、トリアセチ ルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルク ロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹 脂基板を用いることができる。これら中で、 ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレ ート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン 、ポリエチレンテレフタレートが好適に用い ることができる。厚さは10~200μmが好ましく、 特に30~100μmが好ましい。

 表面に凹凸を有する基板21の材料として� �としては、ガラス転移温度が50℃以上の透明 の有機樹脂が好ましく、このような支持体と しては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ シクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチ レンナフタレート等のポリエステル系樹脂、 ナイロン46、変性ナイロン6T、ナイロンMXD6、� ��リフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポ� ��フェニレンスルフィド、ポリチオエーテル� ��ルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォ� ��、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン� ��樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリ� ��リレート、ポリエーテルイミド、ポリアミ� ��イミド、ポリカーボネート、ポリメチルメ� ��クリレート、トリアセチルセルロース、ポ� ��スチレン、ポリビニルクロライド等の有機� ��脂を主成分とする透明樹脂基板を用いるこ� ��ができる。これら中で、ポリカーボネート� ��ポリメチルメタアクリレート、ポリビニル� ��ロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテ� ��フタレートが転写性、複屈折の点で優れて� ��り、好適に用いることができる。厚さは200~ 2000μmが好ましく、特に500~1500μmが好ましい。

 有機ポリマーフィルムの材料26としては� �ガラス転移温度が50℃以上の透明の有機樹脂 が好ましく、このような支持体としては、ポ リエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキ シレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ レート等のポリエステル系樹脂、ナイロン46� ��変性ナイロン6T、ナイロンMXD6、ポリフタル� ��ミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレ� ��スルフィド、ポリチオエーテルサルフォン� ��のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエ� ��テルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他� ��、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート� ��ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、� ��リカーボネート、ポリメチルメタクリレー� ��、トリアセチルセルロース、ポリスチレン� ��ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成� ��とする透明樹脂基板を用いることができる� ��これら中で、ポリカーボネート、ポリメチ� ��メタアクリレート、ポリビニルクロライド� ��ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレー� ��が転写性、複屈折の点で優れており、好適� ��用いることができる。厚さは10~200μmが好ま� ��く、特に50~100μmが好ましい。

 こうして得られる本発明に光硬化性転写� ��ートでは、さらに光硬化性転写層の380~420nm� ��波長領域の光透過率が70%以上であることが� ��ましい。

 光硬化性転写シートは380~420nm(好ましくは 380~800nm)の波長領域の光透過率が70%以上であ� �、これはレーザによる読み取り信号の強度� �下を防止するためである。さらに380~420nmの� �長領域の光透過率が80%以上であることが好� �しい。

 本発明に光硬化性転写シートは、膜厚精� ��を精密に制御したフィルム状で提供するこ� ��ができるため、基板及びスタンパとの貼り� ��わせを容易にかつ精度良くおこなうことが� ��能である。また、この貼り合わせは、圧着� ��ールや簡易プレスなどの簡便な方法で20~100� ��で仮圧着した後、光により常温、1~数十秒� �硬化できる上、本接着剤特有の自着力によ� �その積層体にズレや剥離が起き難いため、� �硬化まで自由にハンドリングができるとい� �特徴を有している。

 本発明の光硬化性転写シートを硬化する場� ��は、光源として紫外~可視領域に発光する多 くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、 低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンラン プ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲン ランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザ 光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種 類、光源の強さによって一概には決められな いが、0.1秒~数十秒程度、好ましくは0.5~数秒� ��ある。紫外線照射量は、300mJ/cm ² 以上が好ましい。

 また、硬化促進のために、予め積層体を3 0~80℃に加温し、これに紫外線を照射しても� �い。

 得られた本発明の基板の凹凸表面の反射� ��は、基板に反射層を金属蒸着(例えばスパッ タリング、真空蒸着、イオンプレーティング 等)することにより形成する。金属としては� �アルミニウム、金、銀、これらの合金等を� �げることができる。銀合金が好ましく、特� �AgX(XはCu・Pd又はCu・Ndが好ましい)が好ましい 。一般に、基板上の半透明反射層は、金属と して銀等を用いて形成される。即ち、転写層 の硬化層上には、上記反射層より高い反射率 の反射層にする必要があり、成分、層厚等が 変更される。例えば、銀合金の反射層を層厚 を変えることにより反射率を変更することが できるので、複数の反射層(低反射層から高� �射層まで)を銀合金の反射層の厚さを変えて� ��けることができる。

 硬化シートの反射層上に有機ポリマーフィ� ��ムを貼り付ける場合、一方に接着剤を塗布� ��、その上に他方を重ね、硬化させる。接着� ��がUV硬化性樹脂の場合はUV照射により、ホッ トメルト接着剤の場合は、加熱下に塗布し、 冷却することにより得られる。 
 本発明の光情報記録媒体の製造は、通常、� ��記のように円盤状で処理されるが、シート� ��で連続的に作成し、最後に円盤状にしても� ��い。

 以下に実施例を示し、本発明についてさ� ��に詳述する。