以下、本発明の実施の形態を具体的に説明� ��るが、本発明は、以下の実施の形態に限定� ��れるものではなく、その要旨の範囲内で種� ��に変更して実施することができる。
I.ホログラム記録層形成用組成物について
I-1.光反応性化合物
下記式(1)で示される光反応性化合物を含むこ とを特徴とする。

(式(1)において、Aは置換基を有していてもよ� ��環であり、
Arは置換基を有していてもよい、2以上の環が 縮合した(ヘテロ)アリール基であり、
nは1~7の整数であり、
nが2以上の場合、複数のArは同一であっても� �なっていてもよく、かつ、
Rは水素又はメチル基である。
但し、Aが芳香族複素環であり、かつ、Arが置 換基を有していてもよい、2以上の環が縮合� �たヘテロアリール基である場合に、AおよびA rの各々が連結している構造において、互い� �直接連結している、AおよびArの各々の構造� �の部分構造は、ヘテロ原子を含まない。)

{語句の説明}
 本発明において、「(ヘテロ)アリール」と� �「アリール」と「ヘテロアリール」の両方� �意味する。
 また、本発明において、「置換基を有して� ��ても良い」とは置換基を1以上有していても よいことを意味する。

I-1-1.A
 Aは置換基を有していてもよい環である。
 分子全体に占める大きさが小さく、高屈折� ��置換基Arを複数担持可能である構造が好ま� �い。
 Aとしての屈折率も高い方がよい。ここでA� �しての屈折率は、Lorentz-Lorenzの式で推算する ことができる。具体的な屈折率推算の方法に ついては、井出文雄 著・「オプトエレクト� ��ニクスと高分子材料」・第2章「2.2屈折率」 の項等に記載がある。これによると原子屈折 の和として表される分子屈折(モル屈折とも� �われる場合がある。) と比重より屈折率を� �算することができる。
 Aとしての屈折率は、1.43以上、好ましくは1. 47以上、更に好ましくは1.48以上、特に好まし くは1.50以上である。屈折率が過度に低いと� �子全体として屈折率が低くなってしまう。� �た、Aとしての屈折率は、通常1.95以下、好ま しくは1.90以下である。屈折率が過度に高い� �屈折の効果により光路がずれて散乱が大き� �なり入力値のクロストークなどの不具合が� �生するからである。
 Aの環としては、3~8員、好ましくは5~6員の、 芳香族炭化水素環、芳香族複素環、脂肪族炭 化水素環、脂肪族複素環が挙げられる。Aの� �は単環構造であっても縮合環構造であって� �よく、Aの環を構成する環の数は1~4、好まし� ��は1~3、更に好ましくは1~2である。Aの環に芳 香族性は必ずしも必要ないが、分子全体に占 める大きさを小さく保ちつつ、高い屈折率を 維持するためには不飽和結合が含まれること が好ましく、更に芳香族炭化水素環または芳 香族複素環であることが好ましい。また、ホ ログラム記録および再生時の光透過性を確保 するためには、着色が少ないことが好ましく 、この点から芳香族炭化水素環であることが より好ましい。

<芳香族炭化水素環>
 ベンゼン環、インデン環、ナフタレン環、� ��ズレン環、フルオレン環、アセナフチレン� ��、アントラセン環、フェナントレン環、ピ� ��ン環などの炭素数6~14、好ましくは6~12の芳� �族炭化水素環が挙げられる。着色回避、溶� �性確保の点から特に好ましくは炭素数6~10で� ��り、ベンゼン環、ナフタレン環である。

<芳香族複素環>
 ヘテロ原子としては特に限定されず、S、O� �N、Pなどの各原子を用いることができるが、 相溶性確保の点から、S,O,Nの各原子が好まし� ��、中でもSまたはOの各原子が好ましい。ま� �、着色回避、溶解性確保の点からヘテロ原� �の数は分子中に1~2であることが好ましい。
 具体的には、ベンゾフラン環、ベンゾチオ� ��ェン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオ� ��ェン環、チアンスレン環、ジベンゾチオキ� ��ン環、ジベンゾベンゾチオフェン環などの� ��素数8~18、好ましくは8~12の芳香族炭化水素� �が挙げられる。中でも相溶性と着色の点で� �ベンゾチオフェン環とチアンスレン環が好� �しい。

<脂肪族炭化水素環>
 シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ノ� ��ボルナン環、デカリン環、パーヒドロアン� ��ラセン環、パーヒドロピレン環などの炭素� ��5~14、好ましくは炭素数6~14のシクロアルカ� �;シクロペンテン環、シクロヘキセン環、ノ� ��ボルネン環、ドデカヒドロアントラセン環� ��どの炭素数5~14、好ましくは炭素数6~14のシ� �ロアルケン;シクロペンタジエン環、ノルボ� ��ナジエン環、シクロオクタジエン環、ジシ� ��ロペンタジエン環、などの炭素数5~10、好ま しくは7~10のシクロアルカジエンなどが挙げ� �れる。
 中でもデカリン環、パーヒドロアントラセ� ��環、ジシクロペンタジエン環などは、相溶� ��の点で好ましい。

<脂肪族複素環>
 ヘテロ原子としては特に限定されず、S,O,N,� �Pなどの各原子を用いることができるが、屈� ��率確保の点から、S,O,N各原子が好ましく、� �でもSまたはOの各原子が好ましい。着色回避 、溶解性確保の点からヘテロ原子の数は分子 中に1~2であることが好ましい。具体的には、 ジオキソラン環、ジチオラン環、テトラヒド ロフラン環、テトラヒドロチオフェン環、ジ チアン環、ジヒドロピラン環などの炭素数3~5 、好ましくは3~4の脂肪族複素環が挙げられる 。中でも屈折率の点でジチオラン環、ジチア ン環が好ましい。

<Aが有していてもよい置換基>
 Aは、Ar以外に更に置換基を有していてもよ� ��。例えば、さらに溶解性を向上させるため� ��、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ� ��ルキル基、アルコキシカルボニル基、アル� ��キシアルコキシ基、アルカノイルオキシ基� ��屈折率を上昇させるために、アリール基、� ��ルキルチオアルキル基、アリールオキシ基� ��アリールアルコキシル基を置換させても良� ��。但し、経済的な合成の達成のためには無� ��換であることが好ましい。

 ここでアルキル基とは、好ましくは炭素数1 ~4の鎖状アルキル基であり、具体的にはメチ� ��基、エチル基、プロピル基、イソプロピル� ��、ブチル基、イソブチル基、セカンダリー� ��チル基などが挙げられる。
 アルコキシ基とは、好ましくは炭素数1~4の� ��ルコキシ基であり、具体的にはメトキシ基� ��エトキシ基などが挙げられる。

 アルコキシアルキル基とは、好ましくは炭� ��数2~6のアルコキシアルキル基であり、具体� ��にはメトキシメチル基、エトキシメチル基� ��プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、� ��トキシエチル基、エトキシエチル基、プロ� ��キシエチル基、ブトキシエチル基などが挙� ��られる。
 アルコキシカルボニル基とは、好ましくは� ��素数2~5のアルコキシカルボニル基であり、� ��体的にはメトキシカルボニル基、エトキシ� ��ルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブ� ��キシカルボニル基などが挙げられる。

 アルコキシアルコキシ基とは、好ましくは� ��素数3~6のアルコキシアルコキシ基であり、� ��体的にはメトキシエトキシ基、エトキシエ� ��キシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシ� ��トキシ基などが挙げられる。
 アルカノイルオキシ基とは、好ましくは炭� ��数2~5のアルカノイルオキシ基であり、具体� ��にはアセトキシ基、プロピオノキシ基、ブ� ��ロキシ基、バレロキシ基などが挙げられる� ��

 アリール基とは、好ましくは炭素数6~14の単 環または縮合環からなるアリール基であり、 具体的にはフェニル基、ナフチル基、アント ラニル基などが挙げられる。
 アルキルチオアルキル基とは、好ましくは� ��素数2~4のアルキルチオアルキル基であり、� ��体的にはメチルチオメチル基、メチルチオ� ��チル基、エチルチオメチル基、エチルチオ� ��チル基などが挙げられる。

 アリールオキシ基とは、炭素数6~14の単環ま たは縮合環からなるアリールオキシ基であり 、具体的にはフェノキシ基などが挙げられる 。
 アリールアルコキシ基とは、炭素数7~5のア� ��ールアルコキシ基であり、具体的にはベン� ��ルオキシ基などが挙げられる。

I-1-2.Ar
 Arは置換基を有していてもよい、2以上の環� ��縮合した(ヘテロ)アリール基である。Arは式 (1)で表される分子を高屈折率化するための要 となる基であり、Arとしての屈折率が高い構� ��であることが好ましい。ここでArとしての� �折率は、上述のA同様、Lorentz-Lorenzの式で推� �することができる。
 Arとしての屈折率は、通常1.60以上、好まし� ��は1.65以上、更に好ましくは1.70以上、中で� �1.75以上である。また、Arとしての屈折率は� �通常1.95以下、好ましくは1.90以下である。屈 折率が過度に高いと屈折の効果により光路が ずれて散乱が大きくなり入力値のクロストー クなどの不具合が発生するからである。
 さらに、Arは、光照射時の架橋に伴う収縮� �低減の観点から、ある程度分子量が大きい� �とが好ましく、Ar部分の分子量は、通常50以� ��、好ましくは70以上である。また、光記録� �のモノマー移動性を確保する観点から、Ar部 分の分子量は、通常300以下、好ましくは250以 下である。
 Arの(ヘテロ)アリール基としては、3~8員、好 ましくは5~6員の、芳香族炭化水素環および/� �たは1以上の不飽和結合を有する複素環が2以 上縮合した基が挙げられる。Arの(ヘテロ)ア� �ール基を構成する環の数は通常2~5、好まし� �は2~3である。

<2以上の環が縮合したアリール基>
 具体的にはインデン環、ナフタレン環、ア� ��レン環、フルオレン環、アセナフチレン環� ��アントラセン環、フェナントレン環、ピレ� ��環などの炭素数6~14、好ましくは6~12の基な� �が挙げられる。中でも、 屈折率の点では環 の数は多いほど好ましいが、共役が長くつな がる構造は着色に結びつきやすいことから、 ねじった構造であることがより好ましい。

<2以上の環が縮合したヘテロアリール基>
 環中に1以上のヘテロ原子と1以上の不飽和� �合を有する複素環構造を少なくとも含み、� �らに芳香族炭化水素環および/または1以上の 不飽和結合を有する複素環が1以上縮合して� �る基である。π電子の非局在性は必ずしも高 い必要はなく、不飽和結合の数が多いこと、 およびヘテロ原子が含まれることが高屈折率 に大きく寄与すると考えられる。
 環中に含まれるヘテロ原子としては特に限� ��されず、S,O,N, Pなどの各原子を用いること� ��できるが、屈折率確保の点から、S,O,Nの各� �子が好ましく、中でもSまたはOの各原子が好 ましい。また、着色回避、溶解性確保の点か らヘテロ原子の数は分子中に1~2であることが 好ましい。
 Arの構造規則性が高いとスタッキングによ� �着色や溶解低下が起こる場合があることか� �、上記の中でも2以上の環が縮合したヘテロ� ��リール基であることがより好ましい。
 また、Arは、屈折率を下げるとの理由から� �スピロ炭素を含まないことが好ましい。
<Arの具体例>
 以下にArの具体例を例示するが、本発明は� �の要旨を超えない限りこれらに限定される� �のではない。

 この他、ベンゾチオキサン、ベンゾチオキ� ��ン、ジベンゾチオキシン、ベンゾジオキサ� ��、ベンゾジオキシン、ベンゾジオキシンな� ��がある。
 これらのうち、屈折率の点で好ましくはチ� ��ンスレン、ジベンゾチオフェン、ベンゾチ� ��フェンであり、更に好ましくはチアンスレ� ��、ジベンゾチオフェンである。

<Arが有していてもよい置換基>
 Arは更に置換基を有していてもよい。Arが有 していてもよい置換基としては、相溶性を低 下させないものや屈折率を低下させないもの であれば特に限定されない。具体的には、メ チルチオ基などの炭素数1~3のアルキルチオ基 や、メチルチオメチル基などの炭素数2~6のア ルキルチオアルキル基が挙げられる。

I-1-3.AとArの結合位置について
 なお、ArのAに対する好ましい置換位置は、1 つの場合はどこでもよく、2つ以上の場合は� �成収率が高いとの理由により互いに隣接し� �いことが好ましい。
 但し、Aがヘテロアリール環であり、かつ、 Arが置換基を有していてもよい、2以上の環が 縮合したヘテロアリール基である場合には、 AおよびArの各々が連結している構造において 、互いに直接連結している、AおよびArの各々 の構造中の部分構造は、ヘテロ原子を含まな い。言い換えると、AおよびArが連結している 構造において、AおよびArの構造中の、ヘテロ 原子を含む部分構造同士は直接連結していな い。AおよびArの構造中の、ヘテロ原子を含む 部分構造同士が直接連結している構造は、可 視光領域に吸収を持ちやすく、この着色によ って記録再生時の光透過を妨げる可能性が高 く、好ましくない。

I-1-4.n
 nは1~7の整数であり、nが2以上の場合、複数� ��Arは同一であっても異なっていてもよい。n� ��、溶剤やマトリックスとの良い溶解性を得� ��ためには、好ましくは1~5、更に好ましくは1 ~3、中でも1または2である。
I-1-5.好ましい形態
 一般式(1)で示される光反応性化合物は、好� ��しくは更に下記式(1-1)で示される。

(式(1-1)において、A ¹¹ は置換基を有していてもよい、ベンゼン環、 ナフタレン環およびジベンゾチオフェン環か らなる群から選ばれる環であり、
Ar ¹¹ は、置換基を有していてもよい、スピロ炭素 を含まない、2以上の環が縮合した(ヘテロ)ア リール基であり、
Rは水素又はメチル基であり、
n ¹¹ は1~7の整数であり、
n ¹¹ が2以上の場合、複数のAr ¹¹ は同一であっても異なっていてもよい。
但し、A ¹¹ がジベンゾチオフェン環であり、かつ、Ar ¹¹ が置換基を有していてもよい、2以上の環が� �合したヘテロアリール基である場合には、A ¹¹ およびAr ¹¹ の各々が連結している構造において、A ¹¹ の構造中のチオフェン環とAr ¹¹ の構造中のヘテロ原子を含む部分構造とが直 接連結していない。)

<A ¹¹ >
 式(1-1)において、A ¹¹ は置換基を有していてもよい、ベンゼン環、 ナフタレン環およびジベンゾチオフェン環か らなる群から選ばれる環であり、好ましくは ベンゼン環またはナフタレン環である。A ¹¹ は、Ar ¹¹ 以外に更に置換基を有していてもよい。A ¹¹ が有していてもよい置換基としては、相溶性 を低下させないものや屈折率を低下させない ものであれば特に限定されず、AがAr以外に有 していてもよい置換基の具体例として前述し たものなどが挙げられる。

<Ar ¹¹ >
 式(1-1)において、Ar ¹¹ は、置換基を有していてもよい、スピロ炭素 を含まない、2以上の環が縮合した(ヘテロ)ア リール基である。具体例としては、Arの具体� ��として前述した基のうち、スピロ炭素を含� ��ないものが挙げられる。好適例もArと同様� �ある。

<n ¹¹ >
 式(1-1)におけるn ¹¹ は1~7の整数であり、n ¹¹ が2以上の場合、複数のArは同一であっても異 なっていてもよい。n ¹¹ は、溶剤やマトリックスとの良い溶解性を得 るためには、好ましくは1~5、更に好ましくは 1~3、中でも1または2である。
 式(1-1)で示される光反応性化合物のより好� �しいものは、更に下記式(1-2)で示される。

(式(1-2)において、A ¹² は置換基を有していてもよい、ベンゼン環、 ナフタレン環およびジベンゾチオフェン環か らなる群から選ばれる環であり、
環B ¹ は6員環および/または5員環の、単環または2� �合環であり、さらにその骨格中に1以上のヘ� ��ロ原子を有し、該へテロ原子が酸素および/ または硫黄原子であるヘテロアリール基であ り、n ¹² は1~7の整数であり、n ¹² が2以上の場合、複数の環Bは同一であっても� ��なっていてもよく、かつRは水素又はメチル 基である。)

<A ¹² >
 式(1-2)において、A ¹² は置換基を有していてもよい、ベンゼン環、 ナフタレン環およびジベンゾチオフェン環か らなる群から選ばれる環であり、好ましくは ベンゼン環またはナフタレン環である。A ¹² は、環B ¹ を含むヘテロアリール基以外に更に置換基を 有していてもよい。A ¹² が有していてもよい置換基としては、相溶性 を低下させないものや屈折率を低下させない ものであれば特に限定されず、AがAr以外に有 していてもよい置換基の具体例として前述し たものなどが挙げられる。

<B ¹ >
 式(1-2)において、B ¹ は、6員環および/または5員環の、単環または 2縮合環であり、さらにその骨格中に1以上の� ��テロ原子を有し、該へテロ原子が酸素およ� ��/または硫黄原子であるヘテロアリール基で ある。具体例としては、Arの具体例として前� ��した基のB ¹ 該当部分などが挙げられる。好適例もArと同� ��である。

<n ¹² >
 式(1-2)におけるn ¹² は1~7の整数であり、n ¹² が2以上の場合、複数のB ¹ は同一であっても異なっていてもよい。n ¹² は、溶剤やマトリックスとの良い溶解性を得 るためには、好ましくは1~5、更に好ましくは 1~3、中でも1または2である。

I-1-6.分子量、水溶性
 以上に説明した式(1)、好ましくは式(1-1)、� �に好ましくは式(1-2)で表される光反応性化合 物は、光照射時の架橋に伴う収縮率低減の点 あるいは記録感度から、通常分子量1500以下� �好ましくは1000以下、更に好ましくは850以下� ��特に好ましくは750以下、中でも600以下であ� ��て、通常300以上、好ましくは350以上、中で� ��400以上であることが好ましい。

 また、式(1)で表される光反応性化合物は、� ��録媒体等の保存安定性を向上させる理由か� ��、通常水不溶性であることが好ましい。こ� ��で「水不溶性」とは、25℃、1気圧の条件下� ��おける水に対する溶解度が、通常0.1重量%以 下、好ましくは0.01重量%以下であることを言� ��。
 I-1-7.屈折率
 式(1)、好ましくは式(1-1)、更に好ましくは� �(1-2)で表される光反応性化合物は、照射光波 長(記録波長、等)における屈折率または見か� ��の屈折率が通常1.62以上、1.78以下、好まし� �は1.77以下の範囲である。 式(1)、好ましく� �式(1-1)、更に好ましくは式(1-2)で表される光� ��応性化合物をホログラム記録材料として用� ��る場合、屈折率が過度に小さいと回折効率� ��大きくなく、多重度が十分でない。また、� ��折率が過度に大きいとマトリックス樹脂と� ��屈折率の差が大きくなりすぎて散乱が大き� ��なることにより透過度が低下して記録や再� ��に際してより大きなエネルギーを要するこ� ��となる。

 なお、屈折率は短い波長で評価すると大き� ��値を示すが、短波長で相対的に大きい屈折� ��を示すサンプルは、長波長でも相対的に大� ��い屈折率を示し、その関係が逆転すること� ��ない。従って、記録波長以外の波長で屈折� ��または見かけの屈折率を評価し、記録波長� ��の屈折率を予測することも可能である。
 ここでは、589nmの記録波長での値を基準と� �た。

 ここで見かけの屈折率とは、当該化合物� ��固体である場合、そのままでは屈折率を測� ��できないため、後述の合成例1に記載したよ うに、適当な溶媒に化合物を溶解して溶液と し、この溶液の屈折率を測定し、化合物が100 %の場合の屈折率を外挿により求めた値をさ� �。

I-1-8.例示化合物
 上述の式(1)、式(1-1)および式(1-2)で表される 化合物の具体例を以下に例示するが、本発明 はその要旨をこえない限りこれらに限定され るものではない。

 2-(1-チアンスレニル)-1-フェニル アクリ� �ート、2-(2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル  アクリレート、2-(3-ベンゾチオフェニル)-1-フ ェニル アクリレート、2-(4-ジベンゾフラニ� �)-1-フェニル アクリレート、2-(4-ジベンゾチ オフェニル)-1-フェニル アクリレート、3-(1-� ��アンスレニル)-1-フェニル アクリレート、3 -(2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル アクリ� �ート、3-(3-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル  アクリレート、3-(4-ジベンゾフラニル)-1-フェ ニル アクリレート、3-(4-ジベンゾチオフェ� �ル)-1-フェニル アクリレート、4-(1-チアンス レニル)-1-フェニル アクリレート、4-(2-ベン� ��チオフェニル)-1-フェニル アクリレート、4 -(3-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル アクリ� �ート、4-(4-ジベンゾフラニル)-1-フェニル ア クリレート、4-(4-ジベンゾチオフェニル)-1-フ ェニル アクリレート、2、4-ビス(1-チアンス� ��ニル)-1-フェニル アクリレート、2、4-ビス( 2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル アクリレ� ��ト、2、4-ビス(3-ベンゾチオフェニル)-1-フェ ニル アクリレート、2、4-ビス(4-ジベンゾフ� ��ニル)-1-フェニル アクリレート、2、4-ビス( 4-ジベンゾチオフェニル)-1-フェニル アクリ� ��ート、4-メチル-2、6-ビス(1-チアンスレニル) -1-フェニル アクリレート、4-メチル-2、6-ビ� ��(2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル アクリ� ��ート、4-メチル-2、6-ビス(3-ベンゾチオフェ� ��ル)-1-フェニル アクリレート、4-メチル-2、 6-ビス(4-ジベンゾフラニル)-1-フェニル アク� ��レート、4-メチル-2、6-ビス(4-ジベンゾチオ� ��ェニル)-1-フェニル アクリレート、2-(1-チ� �ンスレニル)-1-フェニル メタクリレート、2- (2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル メタクリ レート、2-(3-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル  メタクリレート、2-(4-ジベンゾフラニル)-1-� ��ェニル メタクリレート、2-(4-ジベンゾチオ フェニル)-1-フェニル メタクリレート、3-(1-� ��アンスレニル)-1-フェニル メタクリレート� ��3-(2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル メタ� �リレート、3-(3-ベンゾチオフェニル)-1-フェ� �ル メタクリレート、3-(4-ジベンゾフラニル) -1-フェニル メタクリレート、3-(4-ジベンゾ� �オフェニル)-1-フェニル メタクリレート、4- (1-チアンスレニル)-1-フェニル メタクリレー ト、4-(2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル メ� ��クリレート、4-(3-ベンゾチオフェニル)-1-フ� ��ニル メタクリレート、4-(4-ジベンゾフラニ ル)-1-フェニル メタクリレート、4-(4-ジベン� ��チオフェニル)-1-フェニル メタクリレート� ��2、4-ビス(1-チアンスレニル)-1-フェニル メ� ��クリレート、2、4-ビス(2-ベンゾチオフェニ� ��)-1-フェニル メタクリレート、2、4-ビス(3-� ��ンゾチオフェニル)-1-フェニル メタクリレ� ��ト、2、4-ビス(4-ジベンゾフラニル)-1-フェニ ル メタクリレート、2、4-ビス(4-ジベンゾチ� ��フェニル)-1-フェニル メタクリレート、4-� �チル-2、6-ビス(1-チアンスレニル)-1-フェニル  メタクリレート、4-メチル-2、6-ビス(2-ベン� ��チオフェニル)-1-フェニル メタクリレート� ��4-メチル-2、6-ビス(3-ベンゾチオフェニル)-1- フェニル メタクリレート、4-メチル-2、6-ビ� ��(4-ジベンゾフラニル)-1-フェニル メタクリ� ��ート、4-メチル-2、6-ビス(4-ジベンゾチオフ� ��ニル)-1-フェニル メタクリレート、等。

I-1-9.合成方法
 式(1)、好ましくは式(1-1)、更に好ましくは� �(1-2)で示される化合物は、公知の種々の方法 を組み合わせることにより、合成することが できる。
 即ち、環Aの(メタ)アクリロイル基導入位置� ��水酸基、n個のAr基導入位置に各々Xを有する 化合物(a)と、導入したい位置で置換するホウ 酸化Ar化合物(b)とに対して適当なカップリン� ��反応を行い、前駆体(c)を合成することによ� ��て得られる。下記式において、Xはハロゲン 原子であり、臭素かヨウ素であることが好ま しいが、塩素でも構わない。
 また、A、Arおよびnはいずれも一般式(1)にお けるのと同義である。

 (1)ホウ酸化Ar化合物(b)は、Ar化合物をブチル リチウムでリチオ化し、ホウ酸エステルでト ラップした後、加水分解により合成すること が出来る。
 (2)得られたホウ酸化Ar化合物(b)と環Aの(メタ )アクリロイル基導入位置に水酸基、Ar基導入 位置にXを有する化合物(a)とを、適当な有機� �剤に溶かし適当な塩基と金属触媒によりカ� �プリング反応を行い、前駆体(c)を合成する� �とが出来る。

 なお、上記化合物(a)は市販品を購入する、� ��るいは水酸基を有する化合物をハロゲン化� ��せることにより得ることが出来る。ハロゲ� ��化は、例えば塩素、臭素、ヨウ素、N-ブロ� �コハク酸イミド、塩素化ヨウ素によってな� �れる。さらに、水酸基を有する化合物は、� �応するハロゲン化物、硫酸化物、硝酸化物� �ホウ酸化物から得ることが出来る。
 有機溶剤としてはジメトキシエタン、テト� ��ヒドロフラン、メタノール、エタノール、� ��ルエン、水などを単独に或いは組み合わせ� ��使用することが出来る。
 塩基としては、トリエチルアミン、ピリジ� ��、炭酸水素ナトリム、炭酸ナトリム、炭酸� ��リウムなどを単独に或いは組み合わせて使� ��することが出来る。
 金属触媒は、塩化パラジウム、酢酸パラジ� ��ム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)� �ラジウムなどを使うことが出来る。

 触媒の溶解性を改善して使用する量を減ら� ��ために3級アミン化合物であるジアザビシク ロオクタン、3級ホスフィン化合物であるト� �ブチルホスフィン、イミダゾール化合物で� �る1-メチルイミダゾールなどを一緒に使用し ても良い。
 また、上記前駆体(c)を再度ハロゲン化する� ��とにより、Arが置換した化合物(a)相当を得� �ことが出来るので、これに従えば異なるArを 有する前駆体(c)を得ることが可能である。ハ ロゲン化は上記と同様にして例えば塩素、臭 素、ヨウ素、N-ブロモコハク酸イミド、塩素� ��ヨウ素によってなされる。

 このようにして得られた前駆体(c)と、3級 アミン、ピリジンまたはイミダゾール等の塩 基を共存させたところに塩化アクリル(Rが水� ��の場合)または塩化メタクリル(Rがメチル基� ��場合)と作用させることにより、式(1)で示さ れる化合物を得ることができる。

I-1-10.含有量
 本発明のホログラム記録層形成用組成物は� ��述の式(1)で表される反応性化合物の何れか1 種を単独で含んでいてもよく、2種以上を任� �の組み合わせおよび比率で含んでいてもよ� �。
 本発明のホログラム記録層形成用組成物に� ��ける当該反応性化合物の含有量は、ホログ� ��ム記録層形成用組成物の全固形分に対する� ��率で、0.5重量%以上、15重量%以下、中でも、 1重量%以上、10重量%以下であることが好まし� ��。反応性化合物の含有量が過度に少な過ぎ� ��と、屈折率の変化が小さく、記録効率が低� ��なる場合がある。一方、反応性化合物の含� ��量が過度に多過ぎると、未反応の反応性化� ��物が多く残り、記録材料とした時にブリー� ��アウトの原因となる場合がある。2以上の反 応性化合物を併用する場合には、それらの合 計量が上記範囲を満たすようにする。
 本発明のホログラム記録層形成用組成物は� ��前述の式(1)で表される光反応性化合物を有� ��るものであるが、上述の光反応性化合物以� ��の重合性の化合物を含んでいてもよい。

 また、本発明のホログラム記録層形成用組� ��物は、更にマトリックス樹脂および光開始� ��を含むことが好ましい。
I-2.他の重合性の化合物
 本発明のホログラム記録層形成用組成物は� ��上記の反応性化合物の光学的な性能を著し� ��落とさない程度に、その他の重合性の化合� ��を含んでいてもよい。この重合性の化合物� ��例としては、カチオン重合性モノマー、ア� ��オン重合性モノマー、ラジカル重合性モノ� ��ー等が挙げられる。これら重合性の化合物� ��、何れか1種を単独で用いてもよく、2種以� �を任意の組み合わせおよび比率で併用して� �よい。
 該光反応性組成物が更に含有するその他の� ��合性の化合物の含有量は、該ホログラム記� ��層形成用組成物の全固形分に対する比率で� ��0.1重量%以上、10重量%以下、中でも0.3重量%� �上、5重量%以下であることが好ましい。
 更に、前記式(1)で表される反応性化合物の� ��有量との合計が前記I-1-10の項で述べた範囲� ��満たすようにする。

I-2-1.カチオン重合性モノマー
 カチオン重合性モノマーの例としては、オ� ��シラン環を有する化合物、スチレンおよび� ��の誘導体、ビニルナフタレンおよびその誘� ��体、ビニルエーテル類、N-ビニル化合物、� �キセタン環を有する化合物等を挙げること� �できる。
 中でも、少なくともオキセタン環を有する� ��合物を用いることが好ましく、さらには、� ��キセタン環を有する化合物と共にオキシラ� ��環を有する化合物を併用することが好まし� ��。

 オキシラン環を有する化合物としては、1分 子内に2個以上のオキシラン環を含有するプ� �ポリマーを挙げることができる。
 このようなプレポリマーの例としては、脂� ��式ポリエポキシ類、多塩基酸のポリグリシ� ��ルエステル類、多価アルコールのポリグリ� ��ジルエーテル類、ポリオキシアルキレング� ��コールのポリグリシジルエーテル類、芳香� ��ポリオールのポリグリシジルエテーテル類� ��芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテ� ��類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポ� ��シ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン� ��等が挙げられる。

 スチレンおよびその誘導体の例としては、� ��チレン、p-メチルスチレン、p-メトキシスチ レン、β-メチルスチレン、p-メチル-β-メチル スチレン、α-メチルスチレン、p-メトキシ-β- メチルスチレン、ジビニルベンゼン等が挙げ られる。
 ビニルナフタレンおよびその誘導体の例と� ��ては、1-ビニルナフタレン、α-メチル-1-ビ� �ルナフタレン、β-メチル-1-ビニルナフタレ� �、4-メチル-1-ビニルナフタレン、4-メトキシ- 1-ビニルナフタレン等が挙げられる。

 ビニルエーテル類の例としては、イソブチ� ��エーテル、エチルビニルエーテル、フェニ� ��ビニルエーテル、p-メチルフェニルビニル� �ーテル、p-メトキシフェニルビニルエーテル 等が挙げられる。
 N-ビニル化合物の例としては、N-ビニルカル バゾール、N-ビニルピロリドン、N-ビニルイ� �ドール、N-ビニルピロール、N-ビニルフェノ� ��アジン等が挙げられる。

 オキセタン環を有する化合物の例としては� ��特開2001-220526号公報、特開2001-310937号公報等 に記載されている、公知の各種のオキセタン 化合物が挙げられる。
 上記例示のカチオン重合性モノマーは、何� ��か1種を単独で使用してもよく、2種以上を� �意の組み合わせおよび比率で併用してもよ� �。

I-2-2.アニオン重合性モノマー
 アニオン重合性モノマーの例としては、炭� ��水素モノマー、極性モノマー等が挙げられ� ��。
 炭化水素モノマーの例としては、スチレン� ��α-メチルスチレン、ブタジエン、イソプレ� ��、ビニルピリジン、ビニルアントラセン、� ��よびこれらの誘導体等が挙げられる。

 極性モノマーの例としては、メタクリル� ��エステル類(例えば、メタクリル酸メチル、 メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソプロ ピル等);アクリル酸エステル類(例えば、アク リル酸メチル、アクリル酸エチル等);ビニル� ��トン類(例えば、メチルビニルケトン、イソ プロピルビニルケトン、シクロヘキシルビニ ルケトン、フェニルビニルケトン等);イソプ� ��ペニルケトン類(例えば、メチルイソプロペ ニルケトン、フェニルイソプロペニルケトン 等);その他の極性モノマー(例えば、アクリロ ニトリル、アクリルアミド、ニトロエチレン 、メチレンマロン酸エステル、シアノアクリ ル酸エステル、シアン化ビニリデン等)など� �挙げられる。

 上記例示のアニオン重合性モノマーは、何� ��か1種を単独で使用してもよく、2種以上を� �意の組み合わせおよび比率で併用してもよ� �。
I-2-3.ラジカル重合性モノマー
 ラジカル重合性モノマーとは、1分子中に1� �以上のエチレン性不飽和二重結合を有する� �合物であり、例としては、(メタ)アクリル酸 エステル類、(メタ)アクリルアミド類、ビニ� ��エステル類、スチレン類等が挙げられる。

 (メタ)アクリル酸エステル類の例として� �、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)� ��クリレート、(n-またはi-)プロピル(メタ)ア� �リレート、(n-、i-、sec-またはt-)ブチル(メタ) アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、( メタ)アクリル酸アダマンチル、クロロエチ� �(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メ タ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メ� �)アクリレート、2-ヒドロキシペンチル(メタ) アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリ� ��ート、アリル(メタ)アクリレート、トリメ� �ロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ペ ンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート� ��ベンジル(メタ)アクリレート、メトキシベ� �ジル(メタ)アクリレート、クロロベンジル(� �タ)アクリレート、ヒドロキシベンジル(メタ )アクリレート、ヒドロキシフェネチル(メタ) アクリレート、ジヒドロキシフェネチル(メ� �)アクリレート、フルフリル(メタ)アクリレ� �ト、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレ ート、フェニル(メタ)アクリレート、ヒドロ� ��シフェニル(メタ)アクリレート、クロロフ� �ニル(メタ)アクリレート、スルファモイルフ ェニル(メタ)アクリレート、2-フェノキシエ� �ル(メタ)アクリレート、2-(ヒドロキシフェニ ルカルボニルオキシ)エチル(メタ)アクリレー ト、フェノールEO変性(メタ)アクリレート、� �ラクミルフェノールEO変性(メタ)アクリレー� ��、ノニルフェノールEO変性(メタ)アクリレー ト、N-アクリロイルオキシエチルヘキサヒド� ��フタルイミド、ビスフェノールF EO変性ジ� �クリレート、ビスフェノールA EO変性ジアク リレート、ジブロモフェニル(メタ)アクリレ� ��ト、トリブロモフェニル(メタ)アクリレー� �、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)ア クリレート、ジシクロペンタニルアクリレー ト、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)� ��クリレート、ビスフェノキシエタノールフ� ��オレンジ(メタ)アクリレート等が挙げられ� �(尚、ここで「(メタ)アクリル酸」とは「ア� �リル酸」と「メタクリル酸」の総称であり� �「(メタ)アクリレート」についても同様であ る。また、「EO」は「エチレンオキシド」を� ��味する。)。

 (メタ)アクリルアミド類の例としては、(� ��タ)アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリ� �アミド、N-エチル(メタ)アクリルアミド、N-� �ロピル(メタ)アクリルアミド、N-ブチル(メタ )アクリルアミド、N-ベンジル(メタ)アクリル� ��ミド、N-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルア ミド、N-フェニル(メタ)アクリルアミド、N-ト リル(メタ)アクリルアミド、N-(ヒドロキシフ� ��ニル)(メタ)アクリルアミド、N-(スルファモ� ��ルフェニル)(メタ)アクリルアミド、N-(フェ� ��ルスルホニル)(メタ)アクリルアミド、N-(ト� ��ルスルホニル)(メタ)アクリルアミド、N,N-ジ メチル(メタ)アクリルアミド、N-メチル-N-フ� �ニル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシエ� ��ル-N-メチル(メタ)アクリルアミド等が挙げ� �れる。

 ビニルエステル類の例としては、ビニル� ��セテート、ビニルブチレート、ビニルベン� ��エート、安息香酸ビニル、t-ブチル安息香� �ビニル、クロロ安息香酸ビニル、4-エトキシ 安息香酸ビニル、4-エチル安息香酸ビニル、4 -メチル安息香酸ビニル、3-メチル安息香酸ビ ニル、2-メチル安息香酸ビニル、4-フェニル� �息香酸ビニル、ピバル酸ビニル等が挙げら� �る。

 スチレン類の例としては、スチレン、p-� �セチルスチレン、p-ベンゾイルスチレン、2-� ��トキシメチルスチレン、4-ブチルスチレン� �4-sec-ブチルスチレン、4-tert-ブチルスチレン� ��2-クロロスチレン、3-クロロスチレン、4-ク� ��ロスチレン、ジクロロスチレン、2,4-ジイソ プロピルスチレン、ジメチルスチレン、p-エ� ��キシスチレン、2-エチルスチレン、2-メトキ シスチレン、4-メトキシスチレン、2-メチル� �チレン、3-メチルスチレン、4-メチルスチレ� ��、p-メチルスチレン、p-フェノキシスチレン 、p-フェニルスチレン等が挙げられる。

 上記例示のラジカル重合性モノマーは、何� ��か1種を単独で使用してもよく、2種以上を� �意の組み合わせおよび比率で併用してもよ� �。
 上記例示したカチオン重合性モノマー、ア� ��オン重合性モノマー、ラジカル重合性モノ� ��ーは、何れを使用することもでき、また、2 種以上を併用してもよい。但し、樹脂マトリ ックスを形成する反応を阻害し難いという理 由から、ホログラム記録層形成用には、式(1) で表される化合物と併用するその他の重合性 の反応性化合物としては、ラジカル重合性モ ノマーを使用することが好ましい。
I-3.マトリックス樹脂
 本発明のホログラム記録層形成用組成物は� ��トリックス樹脂を含むことが好ましい。ホ� ��グラム記録媒体の記録層を構成するマトリ� ��クス樹脂は、光の照射によって化学的かつ� ��理的に大きく変化しない有機物であり、主� ��有機の重合物で構成される。

 マトリックス樹脂は、前述した重合性の� ��応性化合物と相溶性を有し、膜状に保ち、� ��録層を保護しかつ補強した上で平板状に形� ��を保つ基板との密着性を担う役割を有し、� ��合性の反応性化合物や光開始剤等との相溶� ��に優れることが強く求められる。マトリッ� ��ス樹脂とこれらの成分との相溶性が低いと� ��材料同士の間で界面を作り、界面で光が屈� ��したり反射することで必要でない部分に光� ��漏れるので干渉縞が歪んだり切れたりして� ��適当な部分に記録されることにより情報の� ��化を起す。マトリックス樹脂と他の成分と� ��相溶性は、例えば、特許第3737306号公報など に記載があるように、サンプルに対して、透 過する光と角度をもって検出器を設置するこ とにより得られる散乱光強度などに基づいて 評価することができる。

 本発明のホログラム記録層形成用組成物の� ��トリックス樹脂としては、溶剤に溶解可能� ��樹脂を用いても、三次元架橋させた樹脂を� ��いてもよく、例えば以下に説明する熱可塑� ��樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂が挙げ� ��れる。
 三次元架橋させた樹脂は溶剤不溶性であり� ��常温で液状である重合性化合物と重合性化� ��物に対し反応活性な化合物との反応硬化物� ��含む。三次元架橋させた樹脂は、物理的な� ��害となるため、記録時における体積変化を� ��制する。即ち、記録後の記録層では、明部� ��膨張し暗部は収縮し、体積ホログラム光記� ��媒体表面に凹凸が生じてしまう。この体積� ��化を抑制するために、記録層には三次元架� ��させた樹脂マトリックスを用いるのがより� ��ましい。

 この中で、相溶性や基板との密着性の観点� ��、マトリックス樹脂としては熱硬化性樹脂� ��好ましく、中でもイソシアネートとポリオ� ��ルとの反応で得られるポリウレタン樹脂が� ��ましい。
I-3-1.熱可塑性樹脂
 マトリックス樹脂として熱可塑性樹脂を用� ��る場合、ホログラム記録媒体の記録層は、� ��部の材料を混合して均一に分散した後、プ� ��スや射出成形など熱加工工程で形成するこ� ��ができる。この際、熱で樹脂を溶融させる� ��要があるので一般的には高温を必要とし、� ��合性の反応性化合物の劣化が懸念される。

 また、溶媒に溶かして基板の上に溶液を� ��給し、回転や機械的なならし作業で厚みを� ��え、溶剤を除去した後に別の基板を重ねて� ��り合わせることでホログラム記録媒体の記� ��層を形成することもできる。また、異なる� ��板の上で上記のように形成した後、一旦基� ��から剥がして別の基板の上に移して別の基� ��と挟んで張り合わせることもできる。何れ� ��しても溶剤を除く必要があり、一回の操作� ��厚い膜を作るのは困難であり、複数回の作� ��が必要になるので、経済的に懸念される。

 熱可塑性樹脂の具体的な材料の例として� ��塩素化ポリエチレン、ポリメタクリル酸メ� ��ル樹脂(PMMA)、塩メチルメタクリレートと他� ��アクリル酸アルキルエステルとの共重合体� ��塩化ビニルとアクリロニトリルとの共重合� ��、ポリ酢酸ビニル樹脂(PVAC)、ポリビニルア� ��コール、ポリビニルホルマール、ポリビニ� ��ピロリドン、エチルセルロールやニトロセ� ��ロールなどといったセルロース樹脂、ポリ� ��チレン樹脂、ポリカーボネート樹脂などを� ��げることができる。これらは1種を単独で用 いてもよく、2種以上を併用してもよい。

 これらの熱可塑性樹脂の溶剤としてはこ� ��らを溶かすものであれば特に制約はないが� ��アセトンやメチルエチルケトンといったケ� ��ン類、酢酸ブチルやプロピレングリコール� ��チルエーテルアセテートといったエステル� ��、トルエンやキシレンといった芳香族炭化� ��素、テトラヒドロフランや1,2-ジメトキシエ タンといったエーテル類、N,N-ジメチルアセ� �アミドやN-メチルピロリドンといったアミド 類などを挙げることができる。また、これら は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合し� ��使用してもよい。

I-3-2.熱硬化性樹脂
 マトリックス樹脂として熱硬化性樹脂を用� ��る場合、硬化温度は架橋剤や触媒の種類で� ��様性がある。
 室温で硬化する官能基の組み合わせの例と� ��ては、エポキシとアミン、エポキシとチオ� ��ル、イソシアネートとアミンが代表的であ� ��。また、触媒を使う例としてエポキシとフ� ��ノール、エポキシと酸無水物、イソシアネ� ��トとポリオールが代表的である。

 前者は、混合すると直ちに反応するので� ��便ではあるが、媒体のような成形を伴う場� ��、時間的な余裕がないために調整が難しい� ��一方、後者は、触媒の種類と使用量を適宜� ��ぶことで硬化温度や硬化時間を自由に選べ� ��ので光学媒体のような成形を伴いながらの� ��化には適当である。これらは低分子から高� ��子、様々な種類の樹脂原料が市販されてい� ��ので、重合性の反応性化合物や光開始剤と� ��相溶性や基板との密着性等を維持しつつ選� ��ことができる。

 以下に各原材料について、説明するが、い� ��れの原材料も、1種を単独で用いてもよく、 2種以上を併用してもよい。
 <エポキシ>
 エポキシとしては、(ポリ)エチレングリコ� �ル、(ポリ)プロピレングリコール、(ポリ)テ� ��ラメチレングリコール、トリメチロールプ� ��パン、グリセリン等のポリオールのポリグ� ��シジルエーテル化合物、3,4-エポキシシクロ ヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサン� ��ルボキシレート、3,4-エポキシ-1-メチルシク ロヘキシル-3,4-エポキシ-1-メチルヘキサンカ� ��ボキシレート等の4~7員環の環状脂肪族基を� ��する脂環式エポキシ化合物、ビスフェノー� ��A型エポキシ化合物、水添ビスフェノールA� �エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキ� ��化合物、フェノールまたはクレゾールノボ� ��ック型エポキシ化合物等が挙げられる。

 エポキシは、1分子中に2つ以上のエポキ� �基を有するものが好ましいが、その種類は� �に制限されない。エポキシ基の数が少ない� �、マトリックスとして必要な硬さが得られ� �くなる場合がある。1分子中のエポキシ基の� ��の上限は特に制限されないが、通常8以下、 中でも4以下が好ましい。エポキシ基の数が� �過ぎると、エポキシ基の消費に多大な時間� �要しマトリックス樹脂の形成に時間がかか� �過ぎる場合がある。

 <アミン>
 アミンとしては、第一級アミン基または第� ��級アミン基を含むものを用いることができ� ��。このようなアミン類の例としては、エチ� ��ンジアミン、ジエチレントリアミン等やそ� ��誘導体等の脂肪族ポリアミン、イソホロン� ��アミン、メンタンジアミン、N-アミノエチ� �ピペラジン等やその誘導体等の脂環族ポリ� �ミン、m-キシリレンジアミン、ジアミノジフ ェニルメタン等やその誘導体等の芳香族ポリ アミン、ダイマー酸等のジカルボン酸と上述 のポリアミンとの縮合物等のポリアミド、2-� ��チルイミダゾール等やその誘導体等のイミ� ��ゾール化合物、これら以外にジシアンジア� ��ド、アジピン酸ジヒドラジッド等を挙げら� ��ることができる。

 <チオール>
 チオールとしては、1,3-ブタンジチオール、 1,4-ブタンジチオール、2,3-ブタンジチオール� ��1,2-ベンゼンジチオール、1,3-ベンゼンジチ� �ール、1,4-ベンゼンジチオール、1,10-デカン� �チオール、1,2-エタンジチオール、1,6-ヘキサ ンジチオール、1,9-ノナンジチオール等や、� �ポメートQX10(ジャパンエポキシレジン社製)� �エポメートQX11(ジャパンエポキシレジン社製 )等のジチオール、チオコール(東レ・ファイ� ��ケミカル社製)、カップキュア3-800(ジャパン エポキシレジン社製)、エピキュアQX40(ジャパ ンエポキシレジン社製)等のポリチオール等� �チオール化合物が挙げられる。中でも、エ� �メートQX10、エポメートQX11、カップキュア3-8 00、エピキュアQX40等の市販の速硬化性ポリチ オールが好適に用いられる。

 <フェノール>
 フェノールとしてビスフェノールA、ノボラ ック型のフェノール樹脂、レゾール型のフェ ノール樹脂等が挙げられる。
 <酸無水物>
 酸無水物としては、一官能性の酸無水物と� ��て、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタ� ��酸等やその誘導体等、二官能性の酸無水物� ��として無水ピロメリット酸、無水ベンゾフ� ��ノンテトラカルボン酸やその誘導体等が挙� ��られる。

 <アミン、チオール、フェノール、酸無水 物の使用量>
 アミン、チオール、フェノール、酸無水物� ��使用量は、エポキシ基のモル数に対する割� ��で、通常0.1当量以上、中でも0.7当量以上、� ��た、通常2.0当量以下、中でも1.5当量以下の� ��囲が好ましい。アミン、チオール、フェノ� ��ル、酸無水物の使用量が少な過ぎても多過� ��ても、未反応の官能基数が多く、保存安定� ��を損なってしまう場合がある。

 <重合開始剤>
 触媒として、硬化温度や硬化時間に応じて� ��ニオン重合開始剤とカチオン重合開始剤を� ��用することができる。
 アニオン重合開始剤は、熱または活性エネ� ��ギー線照射によってアニオンを発生するも� ��であり、例としてはアミン類等が挙げられ� ��。アミン類の例としては、ジメチルベンジ� ��アミン、ジメチルアミノメチルフェノール� ��1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7等のア ミノ基含有化合物、およびこれらの誘導体;� �ミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチ� ��-4-メチルイミダゾール等のイミダゾール化� ��物、およびその誘導体等が挙げられる。硬� ��温度や硬化時間に応じて1種あるいは複数使 用しても良い。

 カチオン重合開始剤は、熱または活性エネ� ��ギー線照射によってカチオンを発生するも� ��であり、例としては芳香族オニウム塩等が� ��げられる。具体例としては、SbF ₆ ^- 、BF ₄ ^- 、AsF ₆ ^- 、PF ₆ ^- 、CF ₃ SO ₃ ^- 、B(C ₆ F ₅ ) ₄ ^- 等のアニオン成分と、ヨウ素、硫黄、窒素、 リン等の原子を含む芳香族カチオン成分とか らなる化合物が挙げられる。中でも、ジアリ ールヨードニウム塩、トリアリールスルフォ ニウム塩等が好ましい。硬化温度や硬化時間 に応じて1種あるいは複数使用しても良い。

 これらの開始剤の使用量は、マトリック� ��樹脂に対して、通常0.001重量%以上、中でも0 .01重量%以上、また、通常50重量%以下、中で� �10重量%以下の範囲が好ましい。これらの開� �剤の使用量が過度に少ないと、開始剤の濃� �が低過ぎるため、重合反応に時間がかかり� �ぎる場合がある。一方、開始剤の使用量が� �度に多いと、重合反応として、連続的な開� �反応を生じなくなる場合がある。

 <イソシアネート>
 イソシアネートとしては、1分子中に2つ以� �のイソシアネート基を有するものが好まし� �が、その種類は特に制限されない。1分子中� ��イソシアネート基の数が少ないと、マトリ� ��クス樹脂として必要な硬さが得られなくな� ��場合がある。1分子中のイソシアネート基の 数の上限は特に制限されないが、通常8以下� �中でも4以下が好ましい。1分子中のイソシア ネート基の数が多過ぎると、イソシアネート 基の消費に多大な時間を要しマトリックス樹 脂の形成に時間がかかり過ぎる場合がある。 1分子中に2つ以上のイソシアネート基を有す� ��ものであれば、その種類は特に制限されな� ��。1分子中のイソシアネート基の数の上限は 特に制限されないが、通常20以下程度である� ��

 本実施の形態で使用するイソシアネート� ��例としては、ヘキサメチレンジイソシアネ� ��ト、リジンメチルエステルジイソシアネー� ��、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシ� ��ネート等の脂肪族イソシアネート、イソホ� ��ンジイソシアネート、4,4’-メチレンビス(� �クロヘキシルイソシアネート)等の脂環族イ� ��シアネート;トリレンジイソシアネート、4,4 ’-ジフェニルメタンジイソシアネート、キ� �リレンジイソシアネート、ナフタレン-1,5’- ジイソシアネート等の芳香族イソシアネート ;およびこれらの多量体等が挙げられ、中で� �3~7量体が好ましい。

 また、この他に、水、トリメチロールエタ� ��、トリメチロールプロパン等の多価アルコ� ��ル類とこれら上記のイソシアネートとの反� ��物等やヘキサメチレンジイソシアネートの� ��量体、若しくはその誘導体を挙げることが� ��きる。
 本実施の形態で使用するイソシアネートの� ��子量は、数平均分子量で100以上50000以下が� �ましく、より好ましくは150以上10000以下、更 に好ましくは150以上5000以下である。数平均� �子量が過度に小さいと、架橋密度が上がる� �めにマトリックス樹脂の硬度が高くなりす� �、記録速度が低下する可能性がある。また� �数平均分子量が過度に大きいと、他成分と� �相溶性が低下したり架橋密度が下がったり� �るために、マトリックス樹脂の硬度が低く� �りすぎ記録内容が消失する場合がある。

 <ポリオール>
 ポリオールとしては、ポリプロピレンポリ� ��ール、ポリカプロラクトンポリオール、ポ� ��エステルポリオール、ポリカーボネートポ� ��オール等が挙げられる。
 (ポリプロピレンポリオール)
 ポリプロピレンポリオールは、プロピレン� ��キシドと、ジオールまたは多価アルコール� ��の反応によって得られる。ジオールまたは� ��価アルコールとしては、例えば、エチレン� ��リコール、プロピレングリコール、1,4-ブタ ンジオール、1,5-ペンタンジオール、3-メチル -1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール 、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリ コール、1,4-シクロヘキサンジオール、1,4-シ� ��ロヘキサンジメタノール、デカメチレング� ��コール、ポリエチレングリコール、ポリテ� ��ラメチレングリコール等が挙げられる。ポ� ��プロピレンポリオールとして市販されてい� ��ものでは、ニューポールGP400、GP1000(いずれ� ��三洋化成社製、商品名)、アデカポリエーテ ルG400、G700、G1500(いずれもアデカ社製、商品� ��)等がある。

 (ポリカプロラクトンポリオール)
 ポリカプロラクトンポリオールは、ラクト� ��と、ジオールまたは多価アルコールとの反� ��によって得られる。ラクトンとしては、例� ��ば、α-カプロラクトン、β-カプロラクトン� ��γ-カプロラクトン、ε-カプロラクトン、α-� ��チル-ε-カプロラクトン、β-メチル-ε-カプ� �ラクトン等が挙げられる。

 ジオールまたは多価アルコールとしては� ��例えば、エチレングリコール、プロピレン� ��リコール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタ� �ジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、1 ,6-ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコー ル、ジエチレングリコール、1,4-シクロヘキ� �ンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノー� ��、デカメチレングリコール、ポリエチレン� ��リコール、ポリテトラメチレングリコール� ��が挙げられる。

 ε-カプロラクトンの反応から得られるポ� ��カプロラクトンポリオールとして市販され� ��いるものでは、プラクセル205、プラクセル2 10、プラクセル220、プラクセル230、プラクセ� ��240、プラクセル303、プラクセル305、プラク� ��ル308、プラクセル312、プラクセル320(いずれ もダイセル化学工業株式会社製、商品名)等� �ある。

 (ポリエステルポリオール)
 ポリエステルポリオールとしては、ジカル� ��ン酸またはそれらの無水物とポリオールと� ��重縮合させて得られたものが挙げられる。
 ジカルボン酸としては、例えば、コハク酸� ��アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、� ��イマー酸、無水マレイン酸、イソフタル酸� ��テレフタル酸、トリメリット酸等が挙げら� ��る。

 ポリオールとしては、例えば、エチレン� ��リコール、プロピレングリコール、1,4-ブタ ンジオール、1,5-ペンタンジオール、3-メチル -1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール 、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリ コール、1,4-シクロヘキサンジオール、1,4-シ� ��ロヘキサンジメタノール、デカメチレング� ��コール、ポリエチレングリコール、ポリテ� ��ラメチレングリコール等が挙げられる。

 このようなポリエステルポリオールとし� ��は、例えば、ポリエチレンアジペート、ポ� ��ブチレンアジペート、ポリヘキサメチレン� ��ジペート等がある。ポリエステルポリオー� ��として市販されているものでは、アデカニ� ��ーエースFシリーズ、アデカニューエースY� �リーズ、アデカニューエースNSシリーズ(ア� �カ株式会社製、商品名)等、クラレポリオー� ��N-2010、P-4011、P-1020(いずれもクラレ株式会社 製、商品名)等、C-1000、C-1066、U-21、U-24、U-53� �U-253、U-502、U-118A(いずれも三井化学ポリウレ タン株式会社製、商品名)等がある。

 (ポリカーボネートポリオール)
 ポリカーボネートポリオールとしては、グ� ��コール類とジアルキルカーボネート(例えば 、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネ ート等)との脱アルコール縮合反応で得られ� �もの、グリコール類とジフェニルカーボネ� �ト類との脱フェノール縮合反応で得られる� �の、グリコール類とカーボネート類(例えば� ��エチレンカーボネート、ジエチルカーボネ� ��ト等)との脱グリコール縮合反応で得られる もの等が挙げられる。

 グリコール類としては、例えば、1,6-ヘキサ ンジオール、ジエチレングリコール、プロピ レングリコール、1,4-ブタンジオール、3-メチ ル-1,5ペンタンジオール、ネオペンチルグリ� �ール等の脂肪族ジオール、あるいは、1,4-シ� ��ロヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジ メタノール等の脂環ジオールが挙げられる。
 例えば、1,6-ヘキサンジオールとジエチルカ ーボネートとの縮合反応によって得られるポ リ(ヘキサメチレンカーボネート)ポリオール� ��ペンタンジオールとジエチルカーボネート� ��の縮合反応によって得られるポリ(ペンチレ ンカーボネート)、1,4-ブタンジオールとジエ� ��ルカーボネートとの縮合反応によって得ら� ��るポリ(ブチレンカーボネート)等がある。

 ポリカーボネートポリオールとして市販さ� ��ているものでは、プラクセルCD CD205、プラ� ��セルCD CD210、プラクセルCD CD220(いずれもダ イセル化学工業株式会社製、商品名)等、PCDL� �T5651,PCDL T5652、PCDL T5650J(いずれも旭化成株� �会社製、商品名)等がある。
 (ポリオールの分子量)
 以上に説明したポリオールの分子量は、数� ��均分子量で100以上50000以下が好ましく、よ� �好ましくは150以上10000以下、更に好ましくは 150以上5000以下である。数平均分子量が過度� �小さいと、架橋密度が上がるためにマトリ� �クス樹脂の硬度が高くなりすぎ、記録速度� �低下する可能性がある。また、数平均分子� �が過度に大きいと、他成分との相溶性が低� �したり架橋密度が下がったりすることによ� �マトリックス樹脂の硬度が低くなりすぎ記� �内容が消失する場合がある。

 <その他の成分>
 本実施の形態におけるマトリックス樹脂は� ��本発明の趣旨に反しない限りにおいて、上� ��の各成分以外に、他の成分を含有していて� ��よい。
 このような他の成分としては、例えば、マ� ��リックス樹脂の物性を変える目的で用いら� ��る、エチレングリコール、プロピレングリ� ��ール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジ� �ール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘ キサンジオール、ネオペンチルグリコール、 ジエチレングリコール、1,4-シクロヘキサン� �オール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、� ��カメチレングリコール、トリメチロールプ� ��パン、ポリエチレングリコール、ポリテト� ��メチレングリコール等のヒドロキシル基を� ��する化合物が挙げられる。

 さらに、その他の成分としては、例えば、� ��媒や添加剤を配合することができる。触媒� ��使うことにより室温で硬化させることがで� ��るが、温度をかけて硬化させても良い。こ� ��時の温度としては40℃から90℃の間が好まし い。
 触媒の例としては、通常のウレタン化反応� ��媒、例えば、ジブチルチンジラウレート、� ��オクチルチンジラウレート、ジブチルチン� ��オクトエート等のスズ系、トリエチルアミ� ��、トリエチレンジアミン等の三級アミン系� ��挙げられる。このうちスズ化合物は溶解性� ��媒体として性能の均衡がよく、特に、ジオ� ��チルスズジラウレートが好ましい。

 触媒の使用量は、マトリックス樹脂に対す� ��比率で、通常0.0001重量%以上、中でも0.001重� ��%以上、また、通常10重量%以下、中でも5重� �%以下の範囲が好ましい。触媒の使用量が過� ��に少ないと、硬化に時間がかかりすぎる場� ��がある。一方、使用量が過度に多いと、硬� ��反応の制御が困難になる場合がある。
I-3-3.光硬化性樹脂
 マトリックス樹脂として光硬化性樹脂を用� ��る場合、使う波長に応じた光開始剤を使用� ��て硬化させる必要がある。光照射する間に� ��化することで成形や接着に支障を生じる事� ��ら、主に作業する温度である室温付近では� ��定な硬化反応であることが望ましい。この� ��から考えると、開始剤による触媒的な硬化� ��望ましい選択であると言える。

 開始剤から光照射によって、ラジカル、プ� ��トン等のカチオン、アニオンの何れかの活� ��基質が生成する場合が一般的である。よっ� ��これらの活性基質により硬化を起こすもの� ��選んで硬化させてマトリックス樹脂とする� ��が良いと考えられる。
 ラジカルに対して反応する官能基として、� ��ニル基、スチリル基、アクリル基、メタク� ��ル基を挙げることができる。これらを有す� ��化合物として具体的には、ビニル基を有す� ��ものとしてビニルブチルエーテル、ビニル� ��クロヘキシルエーテルなど、スチリル基を� ��するものとしてスチレン、ジビニルベンゼ� ��など、アクリル基を有するものとしてイソ� ��ルニルアクリレート、1,4-ブタンジアクリレ ートなど、メタクリル基を有すものとしてメ チルメタクリレート、フェノキシエチルメタ クリレートなどを挙げることができる。

 プロトン等のカチオンに対して反応する官� ��基として、エポキシ基、オキセタニル基を� ��げることができる。これらを有する化合物� ��して具体的には、エポキシ基を有するもの� ��して(ポリ)エチレングリコール、(ポリ)プロ ピレングリコール、(ポリ)テトラメチレング� ��コール、トリメチロールプロパン、グリセ� ��ン等のポリオールのポリグリシジルエーテ� ��化合物、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル -3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレー� ��、3,4-エポキシ-1-メチルシクロヘキシル-3,4-� ��ポキシ-1-メチルヘキサンカルボキシレート� ��の4~7員環の環状脂肪族基を有する脂環式エ� ��キシ化合物、ビスフェノールA型エポキシ化 合物、水添ビスフェノールA型エポキシ化合� �、ビスフェノールF型エポキシ化合物、フェ� ��ールまたはクレゾールノボラック型エポキ� ��化合物等が挙げられる。オキセタニル基を� ��するものとしてビスフェノールAの2-エチル- 2-オキセタニルエーテル、1,6-ビス(2-エチル-2- オキセタニルオキシ)へキサン等を挙げるこ� �ができる。(尚、ここで「(ポリ)エチレング� �コール」等の記載は、「エチレングリコー� �」とその重合体の「ポリエチレングリコー� �」との両方をさす。)
 アニオンに対して反応する官能基として、� ��ポキシ基やエピスルフィド基を挙げること� ��できる。エピスルフィド基を有する化合物� ��して具体的には、フェニルエピスルフィド� ��ビスフェノールAのジエピスルフィドメチル エーテル等を挙げることができる。

 または、活性物質としてラジカルを生成す� ��開始剤として、tert-ブチルパーオキシドな� �の過酸化物やアゾイソブチロニトリルなど� �ジアゾ化合物を挙げることができる。
 上述したマトリックス樹脂を光硬化させる� ��合に使用される光開始剤の使用量は、重合� ��化合物に対する比率で、通常0.01重量%以上� �中でも0.1重量%以上、また、通常1重量%以下� �中でも30重量%以下の範囲が好ましい。開始� �の使用量が過度に少ないと、硬化に時間が� �かりすぎる場合がある。一方、使用量が過� �に多いと、硬化反応の制御が困難になる場� �がある。

 また、記録するときにも光を照射するので� ��化する時の波長と記録する時の波長が異な� ��ことが重要であり、波長の差としては小さ� ��とも10nm、好ましくは30nmである。開始剤の� �択は概ね開始剤の吸収波長から予想するこ� �ができる。
I-4.光開始剤
 光開始剤は、公知の光ラジカル重合開始剤� ��あれば、何れを用いることも可能である。� ��としては、アゾ系化合物、アジド系化合物� ��有機過酸化物、有機硼素酸塩、オニウム塩� ��、ビスイミダゾール誘導体、チタノセン化� ��物、ヨードニウム塩類、有機チオール化合� ��、ハロゲン化炭化水素誘導体等が用いられ� ��。これらは何れか1種を単独で用いてもよく 、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で� �用してもよい。中でも、光開始剤としては� �可視光領域で重合反応が生じるという理由� �ら、チタノセン化合物、アシルフォスフィ� �オキサイド化合物、オキシムエステル化合� �等が好ましい。

I-4-1.チタノセン化合物
 光開始剤としてチタノセン化合物を使用す� ��場合、その種類は特に限定はされないが、� ��えば、特開昭59-152396号公報、特開昭61-151197� ��公報等に記載されている各種のチタノセン� ��合物の中から、適宜選択して使用すること� ��できる。
 チタノセン化合物の具体例としては、ジ-シ クロペンタジエニル-Ti-ジ-クロライド、ジ-シ クロペンタジエニル-Ti-ビス-フェニル、ジ-シ クロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフ ルオロフェニ-1-イル、ジシクロペンタジエニ ル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イ� �、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4,6-ト� �フルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジ� ��ニル-Ti-ビス-2,6-ジ-フルオロフェニ-1-イル、 ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4-ジ-フル� ��ロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジ エニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ -1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-� ��ス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ- メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,6-ジフ ルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエ� �ル-Ti-ビス-2,6-ジフルオロ-3-(ピリ-1-イル)-フ� �ニ-1-イル等が挙げられる。

I-4-2.アシルフォスフィンオキサイド化合物
 アシルフォスフィンオキサイド化合物の具� ��例としては、1分子中に光による開烈点を1� �所しか持たない単官能開始剤、1分子中に光� ��よる開烈点を2ヵ所有する2官能性開始剤が� �げられる。
 このような単官能開始剤としては、例えば� ��トリフェニルフォスフィンオキサイド、2,4, 6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフ� ��ンオキサイド、2,6-ジクロルベンゾイルジフ ェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられ る。

 2官能性開始剤としては、例えば、ビス(2, 4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフ ィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾ� ��ル)-2,4,4-トリメチルペンチルフォスフィン� �キサイド、ビス(2,6ジクロルベンゾイル)-4-プ ロピルフェニルフォスフィンオイサイド、ビ ス(2,6ジクロルベンゾイル)-2,5ジメチルフェニ ルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。

I-4-3.オキシムエステル系化合物
 オキシムエステル系化合物の具体例として� ��、以下の構造を有するものが挙げられる。

 具体的には、1-[4-(フェニルチオ)-2-(O-ベンゾ イルオキシム)]-1,2-オクタンジオン、1-[9-エチ ル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-� ��ル]-1-(O-アセチルオキシム)エタノン等が挙� �られる。
I-4-4.光開始剤の使用量
 上記の各種の光開始剤は、何れか1種を単独 で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わ� �および比率で併用してもよい。

 本発明のホログラム記録層形成用組成物中� ��光開始剤の含有量は、ホログラム記録層形� ��用組成物の全固形分に対する比率で、通常0 .1重量%以上、中でも0.5重量%以上、また、通� �20重量%以下、中でも15重量%以下の範囲とす� �ことが好ましい。光開始剤の含有量が少な� �ぎると、ラジカルの発生量が少なくなるた� �、光重合の速度が遅くなり、ホログラム記� �感度が低くなる場合がある。一方、光開始� �の含有量が多過ぎると、光照射により発生� �たラジカル同士が再結合したり、不均化を� �じたりするため、光重合に対する寄与が少� �くなり、やはりホログラム記録感度が低下� �る場合がある。2以上の光開始剤を併用する� ��合には、それらの合計量が上記範囲を満た� ��ようにする。
II-5.その他の成分
 本発明のホログラム記録層形成用組成物は� ��本発明の主旨に反しない限りにおいて、上� ��の成分の他に、その他の成分を含有してい� ��もよい。
 例えば、増感体の励起波長や励起エネルギ� ��の制御、反応の制御、特性の改良等の必要� ��応じて、任意の添加剤を配合することがで� ��る。

 添加剤の例としては、以下の化合物が挙げ� ��れる。
 例えば、増感体の励起を制御する化合物を� ��加することができる。この場合の例として� ��増感剤、増感補助剤等が挙げられる。
 増感剤としては、公知の各種の増感剤の中� ��ら、任意のものを選択して用いることがで� ��るが、一般に増感剤としては、可視および� ��外のレーザ光を吸収するために、色素等の� ��色化合物が用いられる場合が多い。記録に� ��用するレーザー光の波長と使用する開始剤� ��種類にもよるが、緑色レーザーを用いる系� ��場合、好ましい増感剤の具体例としては、� ��開平5-241338号公報、特開平2-69号公報、特公� ��2-55446号公報等に記載されている化合物が、 青色レーザーを用いる系の場合は、特開2000-1 0277号公報、特開2004-198446号公報等に記載され ている化合物が挙げられる。上記例示の各種 の増感剤は、何れか1種を単独で用いてもよ� �、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で� ��用してもよい。

 尚、得られるホログラム記録媒体ないし� ��ログラム記録材料に無色透明性が要求され� ��場合には、増感剤としてシアニン系色素を� ��用することが好ましい。即ち、シアニン系� ��素は一般に光によって分解し易いため、後� ��光を行なう、即ち、室内光や太陽光の下に� ��時間から数日放置することで、ホログラム� ��録媒体ないしホログラム記録材料中のシア� ��ン系色素が分解されて可視域に吸収を持た� ��くなり、無色透明なホログラム記録媒体な� ��しホログラム記録材料が得られる。

 増感剤の量は、形成される記録層の厚さ� ��よって増減する必要があるが、II-4.光開始� �に対する比率で、通常0.01重量%以上、中でも 0.1重量%以上、また、通常10重量%以下、中で� �5重量%以下の範囲とすることが好ましい。増 感剤の使用量が少な過ぎると、開始効率が低 下し、記録に多大な時間を要する場合がある 。一方、増感剤の使用量が多過ぎると、記録 や再生に使用する光の吸収が大きくなり、深 さ方向へ光が届き難くなる場合がある。2以� �の増感剤を併用する場合には、それらの合� �量が上記範囲を満たすようにする。

 上記以外の添加剤として、反応効率の向上� ��記録層の物性調整のための可塑剤、記録層� ��吸水率制御のためなどの添加剤などを用い� ��ことができる。
 可塑剤の例としては、フタル酸ジオクチル� ��フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデ� ��ル、フタル酸ジウンデシルなどのフタル酸� ��ステル類、アジピン酸ビス(2-エチルヘキシ� ��)、アジピン酸ジイソノニル、アジピン酸ジ -n-ブチルなどのアジピン酸エステル類、セバ シン酸ジオクチル、セバシン酸ジブチルなど のセバシン酸エステル類、リン酸トリクレシ ルなどのリン酸エステル類、アセチルクエン 酸トリブチルなどのクエン酸エステル類、ト リメリット酸トリオクチルなどのトリメリッ ト酸エステル類、エポキシ化大豆油、塩素化 パラフィン、アセトキシメトキシプロパンな どのアルコキシ化(ポリ)アルキレングリコー� ��エステル、ジメトキシポリエチレングリコ� ��ルなどの末端アルコキシ化ポリアルキレン� ��リコールなどが挙げられる。

 これらの可塑剤はホログラム記録層形成� ��組成物の全固形分に対する比率で通常0.01重 量%以上50重量%以下、好ましくは0.05重量%以上 20重量%以下の範囲で用いられる。これらの可 塑剤の使用量がこれより少ないと、反応効率 の向上や物性の調整に対する効果が発揮され ず、これより多いと記録層の透明性が低下し たり、可塑剤のブリードアウトが顕著になっ たりして好ましくない。

 更に、反応の制御に使用する化合物を添加� ��ることもできる。この場合の例としては、� ��合開始剤、連鎖移動剤、重合停止剤、相溶� ��剤、反応補助剤等が挙げられる。
 その他、特性改良上必要とされ得る添加剤� ��例としては、分散剤、消泡剤、可塑剤、防� ��剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等� ��挙げられる。
 これらの添加剤は、何れか1種を単独で用い てもよく、2種以上を任意の組み合わせおよ� �比率で併用してもよい。

 これらの添加剤の使用量は、本実施の形態� ��ホログラム記録層形成用組成物の全固形分� ��対する比率で、通常0.001重量%以上、中でも0 .01重量%以上、また、通常30重量%以下、中で� �10重量%以下の範囲とすることが好ましい。2� ��上の添加剤を併用する場合には、それらの� ��計量が上記範囲を満たすようにする。
II.本発明のホログラム記録材料について
 本発明のホログラム記録材料は、上述の本� ��明のホログラム記録層形成用組成物を含有� ��ることを特徴とする。

 本発明のホログラム記録材料は、本発明の� ��ログラム記録層形成用組成物のみからなっ� ��いてもよく、その他の成分を含有していて� ��良い。また、本発明のホログラム記録層形� ��用組成物の1種を単独で用いても良く、2種� �上を任意の組合せおよび比率で併用しても� �い。本発明のホログラム記録材料がその他� �成分を含有する場合、本発明のホログラム� �録材料中における反応性化合物の含有量は� �ホログラム記録材料の全固形分に対する比� �で、0.5重量%以上、15重量%以下、中でも、1重 量%以上、10重量%以下とすることが好ましい� �2種以上のホログラム記録層形成用組成物を� ��用する場合、各々のホログラム記録層形成� ��組成物に含まれる反応性化合物の合計量が� ��記範囲内となるようにする。また、その他� ��成分に特に制限は無いが、例としては光分� ��剤、色材等の各種の添加剤が挙げられる。� ��の他の成分の含有量も、本実施の形態の効� ��を著しく損なわない限りにおいて任意であ� ��。
III.本発明のホログラム記録媒体について
 本発明のホログラム記録媒体は、前記式(1)� ��表される反応性化合物の1種又は2種以上を� �む記録層と、必要に応じて、更に支持体や� �の他の層を備え、記録層の一括露光による� �縮率が0.25%以下であることを特徴とする。
 また、このホログラム記録媒体の記録層は� ��M/#の値が10以上であることが好ましく、(M/#) /(一括露光による収縮率)の値が100以上である ことが好ましい。

 なお、後述の記録方法の項に詳述すると� ��り、該記録層中に含まれる本発明の前記式( 1)で表される反応性化合物は、ホログラム記� ��などによってその一部が重合等の化学的な� ��化を生じるものである。従って、記録後の� ��ログラム記録媒体においては、本発明の前� ��式(1)で表される反応性化合物の一部が消費� ��れ、重合体など反応後の化合物として存在� ��る。該反応性化合物の消費量は、記録情報� ��によっても変動すると考えられるが、デー� ��記録後に、記録部分に一様な光を当てて、� ��存する反応性化合物をあえて消費させる、� ��わゆる「後露光」のような工程を経る場合� ��は、該反応性化合物の大半が反応後の化合� ��に変化するものである。

 本発明のホログラム記録媒体の記録層は、� ��ましくは本発明のホログラム記録層形成用� ��成物ないしホログラム記録材料により形成� ��れる。
 通常、ホログラム記録媒体は支持体を有し� ��記録層やその他の層は、この支持体上に積� ��されてホログラム記録媒体を構成する。た� ��し、記録層またはその他の層が、媒体に必� ��な強度や耐久性を有する場合には、ホログ� ��ム記録媒体は支持体を有していなくてもよ� ��。

 その他の層の例としては、保護層、反射層� ��反射防止層(反射防止膜)等が挙げられる。
III-1.記録層
 本発明のホログラム記録媒体の記録層は、� ��ましくは本発明のホログラム記録層形成用� ��成物ないしホログラム記録材料により形成� ��れる。記録層は、情報が記録される層であ� ��。情報は通常、ホログラムとして記録され� ��。後述の記録方法の項に詳述するとおり、� ��記録層中に含まれる反応性化合物は、ホロ� ��ラム記録などによってその一部が重合等の� ��学的な変化を生じるものである。従って、� ��録後のホログラム記録媒体においては、反� ��性化合物の一部が消費され、重合体など反� ��後の化合物として存在する。従って、本発� ��のホログラム記録媒体の記録層には、前記� ��(1)で表される反応性化合物と、ホログラム� ��録後においては更に反応後の化合物とが、� ��の合計量で、通常0.5重量%以上、15重量%以下 、好ましくは、1重量%以上、10重量%以下含ま� ��る。本発明のホログラム記録媒体の記録層� ��、前記式(1)で表される反応性化合物以外の� ��応性化合物が含まれる場合には、前記式(1)� ��表される反応性化合物以外の反応性化合物� ��よびその反応後の化合物を含めた合計量が� ��記範囲を満たすようにする。

 記録層の厚みには特に制限は無く、記録方� ��等を考慮して適宜定めればよいが、一般的� ��は、通常1μm以上、好ましくは10μm以上、ま� ��、通常1cm以下、好ましくは2000μm以下の範囲 である。記録層が厚過ぎると、ホログラム記 録媒体における多重記録の際、各ホログラム の選択性が低くなり、多重記録の度合いが低 くなる場合がある。また、記録層が薄過ぎる と、記録層全体を均一に成形することが困難 であり、各ホログラムの回折効率が均一で且 つS/N比の高い多重記録が難しくなる場合があ る。
III-2.支持体
 支持体は、媒体に必要な強度および耐久性� ��有しているものであれば、その詳細に特に� ��限はなく、任意の支持体を使用することが� ��きる。また、支持体の形状にも制限は無い� ��、通常は平板状またはフィルム状に形成さ� ��る。
 また、支持体を構成する材料にも制限は無� ��、透明であっても不透明であってもよい。� ��持体の材料として透明なものを挙げると、� ��クリル、ポリエチレンテレフタレート、ポ� ��エチレンナフトエート、ポリカーボネート� ��ポリエチレン、ポリプロピレン、アモルフ� ��スポリオレフィン、ポリスチレン、酢酸セ� ��ロース等の有機材料;ガラス、シリコン、石 英等の無機材料が挙げられる。この中でも、 ポリカーボネート、アクリル、ポリエステル 、アモルファスポリオレフィン、ガラス等が 好ましく、特に、ポリカーボネート、アクリ ル、アモルファスポリオレフィン、ガラスが より好ましい。

 一方、支持体上の材料として不透明なもの� ��挙げると、アルミニウム等の金属;前記の透 明支持体上に金、銀、アルミニウム等の金属 、または、フッ化マグネシウム、酸化ジルコ ニウム等の誘電体をコーティングしたものな どが挙げられる。
 支持体の厚みにも特に制限は無いが、通常� ��0.1mm以上、1mm以下の範囲とすることが好ま� �い。支持体が薄過ぎるとホログラム記録媒� �の機械的強度が不足し、基板が反る場合が� �り、厚過ぎると光の透過量が減りさらにコ� �トが高くなる場合がある。

 また、支持体の表面に表面処理を施して� ��よい。この表面処理は、通常、支持体と記� ��層との接着性を向上させるためになされる� ��表面処理の例としては、支持体にコロナ放� ��処理を施したり、支持体上に予め下塗り層� ��形成したりすることが挙げられる。ここで� ��下塗り層の組成物としては、ハロゲン化フ� ��ノール、または部分的に加水分解された塩� ��ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン 樹脂等が挙げられる。

 更に、表面処理は、接着性の向上以外の目� ��で行なってもよい。その例としては、例え� ��、金、銀、アルミニウム等の金属を素材と� ��る反射コート層を形成する反射コート処理; フッ化マグネシウムや酸化ジルコニウム等の 誘電体層を形成する誘電体コート処理等が挙 げられる。また、これらの層は、単層で形成 してもよく、2層以上を形成してもよい。
 また、これらの表面処理は、基板の気体や� ��分の透過性を制御する目的で設けても良い� ��記録層を挟む支持体にも気体や水分の透過� ��を抑制する働きを持たせることによりより� ��層媒体の信頼性を向上させうる。

 また、支持体は、本実施形態のホログラム� ��録媒体の記録層の上側および下側の何れか� ��方にのみ設けてもよく、両方に設けてもよ� ��。但し、記録層の上下両側に支持体を設け� ��場合、支持体の少なくとも何れか一方は、� ��性エネルギー線(励起光、参照光、再生光な ど)を透過させるように、透明に構成する。
 記録層の片側または両側に支持体を有する� ��ログラム記録媒体の場合、透過型または反� ��型のホログラムが記録可能である。また、� ��録層の片側に反射特性を有する支持体を用� ��る場合は、反射型のホログラムが記録可能� ��ある。

 更に、支持体にデータアドレス用のパター� ��ングを設けてもよい。この場合のパターニ� ��グ方法に制限は無いが、例えば、支持体自� ��に凹凸を形成してもよく、反射層(後述する )にパターンを形成してもよく、これらを組� �合わせた方法により形成してもよい。
III-3.保護層
 保護層は、酸素や水分による感度低下や保� ��安定性の劣化等の悪影響を防止するための� ��である。保護層の具体的構成に制限は無く� ��公知のものを任意に適用することが可能で� ��る。例えば、水溶性ポリマー、有機/無機材 料等からなる層を保護層として形成すること ができる。
III-4.反射層
 反射層は、ホログラム記録媒体を反射型に� ��成する際に形成される。反射型のホログラ� �ム記録媒体の場合、反射層は支持体と記録� �との間に形成されていてもよく、支持体の� �側面に形成されていてもよいが、通常は、� �持体と記録層との間にあることが好ましい� �
III-5.反射防止膜
 透過型および反射型の何れのホログラム記� ��媒体についても、物体光および読み出し光� ��入射および出射する側や、あるいは記録層� ��支持体との間に、反射防止膜を設けてもよ� ��。反射防止膜は、光の利用効率を向上させ� ��かつゴースト像の発生を抑制する働きをす� ��。
III-6.製造方法
 本発明のホログラム記録媒体の製造方法に� ��限は無い。
 例えば、無溶剤で支持体上に本発明の光反� ��性組成物を塗布し、記録層を形成して製造� ��ることできる。この際、塗布方法としては� ��意の方法を使用することができる。具体例� ��挙げると、スプレー法、スピンコート法、� ��イヤーバー法、ディップ法、エアーナイフ� ��ート法、ロールコート法、及びブレードコ� ��ト法、ドクターロールコート法などが挙げ� ��れる。

 また、記録層の形成に際し、特に膜厚の厚� ��記録層を形成する場合、型に入れて成型す� ��方法や、離型フィルム上に塗工して型を打� ��抜く方法を用いることもできる。
 また、本発明の光反応性組成物と溶剤又は� ��加剤とを混合して塗布液を調製し、これを� ��持体上に塗布、乾燥して記録層を形成して� ��造しても良い。この場合も塗布方法として� ��任意の方法を使用することができ、例えば� ��上述したのと同様の方法を採用することが� ��きる。

 また、溶剤に制限はないが、通常は、使用� ��分に対して十分な溶解度を持ち、良好な塗� ��性を与え、樹脂基板等の支持体を侵さない� ��のを使用することが好ましい。
 溶剤の例を挙げると、アセトン、メチルエ� ��ルケトン、メチルイソブチルケトン、シク� ��ヘキサノン、メチルアミルケトン等のケト� ��系溶剤;トルエン、キシレン等の芳香族系溶 剤;メタノール、エタノール、プロパノール� �n-ブタノール、ヘプタノール、ヘキサノール 、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコ ール等のアルコール系溶剤;ジアセトンアル� �ール、3-ヒドロキシ-3-メチル-2-ブタノン等の ケトンアルコール系溶剤;テトラヒドロフラ� �、ジオキサン等のエーテル系溶剤;ジクロロ� ��タン、ジクロロエタン、クロロホルム等の� ��ロゲン系溶剤;メチルセロソルブ、エチルセ ロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソ ルブアセテート、エチルセロソルブアセテー ト等のセロソルブ系溶剤;プロピレングリコ� �ルモノメチルエーテル、プロピレングリコ� �ルモノエチルエーテル、プロピレングリコ� �ルモノブチルエーテル、プロピレングリコ� �ルモノメチルエーテルアセテート、プロピ� �ングリコールモノエチルエーテルアセテー� �、プロピレングリコールモノブチルエーテ� �アセテート、ジプロピレングリコールジメ� �ルエーテル等のプロピレングリコール系溶� �;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢� ��ブチル、エチレングリコールジアセテート� ��ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル� ��エチル-2-ヒドロキシブチレートエチルアセ� ��アセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、2-� �ドロキシイソ酪酸メチル、3-メトキシプロピ オン酸メチル等のエステル系溶剤;テトラフ� �オロプロパノール、オクタフルオロペンタ� �ール、ヘキサフルオロブタノール等のパー� �ルオロアルキルアルコール系溶剤;ジメチル� ��ルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メ� �ルピロリドン、ジメチルスルホキシド等の� �極性溶剤;n-ヘキサン、n-オクタン等の鎖状炭 化水素系溶剤;シクロヘキサン、メチルシク� �ヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチ� �シクロヘキサン、n-ブチルシクロヘキサン、 tert-ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン� ��の環状炭化水素系溶剤;或いはこれらの混合 溶剤などが挙げられる。

 なお、溶剤は、1種を単独で用いても良く、 2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用� �ても良い。
 また、溶剤の使用量に制限は無い。ただし� ��塗布効率、取り扱い性の面から、固形分濃� ��1%~1000重量%程度の塗布液を調製することが� �ましい。
 さらに、本発明の光反応組成物が熱可塑性� ��場合は、例えば射出成形法、シート成形法� ��ホットプレス法などによって本発明の光反� ��組成物を成形して、また、本発明の光反応� ��成物が揮発性成分の少ない(光)熱硬化性の� �合は、例えば反応射出成形法、液体射出成� �法によって本発明の光反応組成物を成形し� �、記録層を製造することができる。この場� �、成形体が十分な厚み、剛性、強度などを� �するならば、当該成形体をそのまま光記録� �体とすることができる。

 また、光記録媒体の製造方法としては、� ��えば、熱により融解した光反応性組成物を� ��持体に塗布し、冷却して固化させて記録層� ��形成して製造する方法、液状の光反応性組� ��物を支持体に塗布し、熱重合させることで� ��化させて記録層を形成して製造する方法、� ��状の光反応性組成物を支持体に塗布し、光� ��合させることで硬化させて記録層を形成し� ��製造する方法なども挙げられる。

 このようにして製造された光記録媒体は、� ��立型スラブまたはディスクの形態をとるこ� ��ができ、三次元画像表示装置や回折光学素� ��、及び大容量メモリ、その他に使用できる� ��
III-7.情報の記録・再生方法
 本実施形態のホログラム記録媒体に対する� ��報の書き込み(記録)および読み出し(再生)は 、何れも光の照射によって行なわれる。

 先ず、情報の記録時には、重合性の反応性� ��合物の化学変化、例えば、重合性のモノマ� ��の場合は、その重合および濃度変化を生じ� ��せることが可能な光を、物体光(記録光とも 呼ばれる。)として用いる。
 特に、本実施形態のホログラム記録媒体で� ��、情報を体積ホログラムとして記録するた� ��、物体光を参照光と共に記録層に対して照� ��し、記録層において物体光と参照光とを干� ��させるようにする。これによってその干渉� ��が、記録層内の重合性の反応性化合物に変� ��(例えば、重合性の反応性化合物の重合およ び濃度変化)を生じさせ、その結果、干渉縞� �記録層内に屈折率差を生じさせ、前記の記� �層内に記録された干渉縞により、記録層に� �ログラムとして記録される。

 一方、記録層に記録された体積ホログラム� ��再生する場合は、所定の再生光(通常は、参 照光)を記録層に照射する。照射された再生� �は前記干渉縞に応じて回折を生じる。この� �折光は前記記録層と同様の情報を含むもの� �あるので、前記回折光を適当な検出手段に� �って読み取ることにより、記録層に記録さ� �た情報の再生を行なうことができる。
 尚、物体光、再生光および参照光の波長領� ��はそれぞれの用途に応じて任意であり、可� ��光領域でも紫外領域でも構わない。これら� ��光の中でも好適なものとしては、例えば、� ��ビー、ガラス、Nd-YAG、Nd-YVO ₄ 等の固体レーザ;GaAs、InGaAs、GaN等のダイオー� ��レーザ;ヘリウム-ネオン、アルゴン、クリ� �トン、エキシマ、CO ₂ 等の気体レーザ;色素を有するダイレーザ等� �、単色性と指向性に優れたレーザ等が挙げ� �れる。

 また、物体光、再生光および参照光の照� ��量には何れも制限は無く、記録および再生� ��可能な範囲であればその照射量は任意であ� ��。但し、極端に少ない場合には重合性の反� ��性化合物の化学変化が不完全過ぎて記録層� ��耐熱性、機械特性が十分に発現されない虞� ��あり、逆に極端に多い場合は、記録層の成� ��(本発明の体積ホログラム記録材料)が劣化� �生じる虞がある。

 従って、物体光、再生光および参照光は、� ��録層の形成に用いた本発明の体積ホログラ� ��記録材料の組成や、光開始剤の種類、およ� ��配合量等に合わせて、通常0.1J/cm ² 以上、20J/cm ² 以下の範囲で照射する。
 また、ホログラム記録方式としては、偏光� ��リニアホログラム記録方式、参照光入射角� ��重型ホログラム記録方式等があるが、本実� ��の形態のホログラム記録媒体ないし体積ホ� ��グラム記録材料を記録媒体として使用する� ��合にはいずれの記録方式でも良好な記録品� ��を提供することが可能である。

III-8.性能
 本実施の形態のホログラム記録媒体は、回� ��効率および光透過率が高く、収縮率が小さ� ��という特徴を有する。
III-8-1.M/#(エムナンバー)
 ホログラム記録によって生じる記録部と未� ��録部の屈折率の差は、投入する露光エネル� ��ーごとの回折効率となって測定される。投� ��する露光エネルギーは多重に記録する手順� ��より測定される。多重の方法は、角度の固� ��された交差する光を入射角を変えながら行� ��角度多重、入射角度は変えずに場所を異動� ��せながら行うシフト多重、波長を変えなが� ��行う波長多重といった方法により行われる� ��、角度多重が簡便であり、これにより材料� ��各成分の性能を把握することができる。

 多重に記録することで回折効率の和であるM /#(エムナンバー)は、記録の容量の目安にな� �数値であるから、大きい方が媒体として良� �性能であるといえる。
 一般的に光反応性化合物の含有率が高いほ� ��回折効率は大きくなり、M/#も大きくなる。
 本実施の形態のホログラム記録媒体の記録� ��のM/#は、500μm厚の記録層として評価した場� ��、通常10以上、好ましくは12以上、特に好ま しくは15以上である。

 なお、上述の通り、M/#の値は大きいほど好� ��しく、明確な上限は存在しないが、例えば� ��録容量1TBを達成するためにはM/#100程度の値� ��必要となる。
 なお、上述の如く、本発明に係る記録層のM /#(エムナンバー)は、厚さ500μmの記録層につ� �て評価した値である。
 即ち、あるホログラム記録媒体について設� ��てある記録層を厚さ500μmとしたこと以外は� ��様にして後述の実施例の項に示す評価用の� ��体を作製し、この評価用の媒体がM/#(エムナ ンバー)10以上、特に12以上、中でも15以上と� �るものであれば、本発明に好適なホログラ� �記録媒体と言うことができる。

 このM/#(エムナンバー)は、後述の実施例の� �に示す方法で測定される。
 或いは、記録層膜厚が500μmではない記録媒� ��の場合、その媒体について同様の方法でM/#� ��評価し、記録層膜厚500μmでの値に換算した� ��果が、10以上、特に12以上、中でも15以上と� ��るものであれば、本発明に好適なホログラ� ��記録媒体と言うことができる。

 M/#は、一般に記録層膜厚が大きくなるにつ� ��、値が大きくなる傾向がある。
 記録層膜厚200~700μmにおいては記録層膜厚と M/#とはほぼ比例関係を示すので、この膜厚範 囲内の記録層を有する媒体について評価した 結果は、比例換算で膜厚補正することで対比 することが可能となる。
 一方、記録層膜厚が1000μmを超える範囲につ いては記録層膜厚に対するM/#の増加は緩やか となり、単純に比例計算で膜厚補正したので は、対比が難しい。この場合には、500μm厚に おいて上記数値範囲となることが予め判って いる記録層組成を選び、500μm厚と、評価対象 である実際の媒体の記録層厚みに相当する膜 厚とで媒体を作製し、この両者の相関に基づ いて、実際の媒体のM/#値を500μm厚でのM/#値に 換算することが可能となる。

 また、基板や保護層、反射層など、ホログ� ��ム記録媒体を構成する記録層以外の層は、M /#の値に大きく影響しないので、記録層以外� ��層構成が異なる媒体についても、M/#の直接� ��対比が可能である。
III-8-2.光透過率
 光透過率の測定は光による記録を行う上で� ��要な指標である。記録の前に高い光透過率� ��あることはより深い記録層まで記録して容� ��を向上させる上で、よい性能であるといえ� ��。同様に記録の後でも高い光透過率である� ��とは記録の再生において誤りを少なくでき� ��ので、よい性能であるといえる。

 この光透過率の測定に用いる光としては� ��記録する波長あるいはその近傍であること� ��望ましいが、記録前の記録層内の光開始剤� ��化学変化が顕著となり透過度が時間的に変� ��するため、十分に短い時間で測定しなけれ� ��ならない。その点を注意さえすれば、問題� ��く測定し信頼と再現性のある測定値を得る� ��とが出来る。十分に短い時間とは概ね1秒程  度以下である。記録後であれば、光開始剤� ��消費されて時間的な変化を引き起こすこと� ��ないので測定時間を気にすることはない。

 一般に、この光透過率は100%に近い程好ま しいが、概ね60%以上、特に80%以上であること が好ましい。本実施の形態のホログラム記録 媒体であれば、記録層膜厚500μmとして評価し た場合に、記録前光透過率として、通常60%以 上、好ましくは70%以上、記録後光透過率とし て通常60%以上、好ましくは70%以上を達成する ことができる。なお、この光透過率は、具体 的には後述の実施例の項に記載した方法で測 定される。

 また、記録層膜厚が500μmではない記録媒体� ��場合、その媒体について同様の方法で光透� ��率を評価し、記録層膜厚500μmでの値に換算� ��た結果が、光透過率60%以上、好ましくは70%� ��上となるものであれば、本発明に好適なホ� ��グラム記録媒体と言うことができる。
 光透過率は一般に記録層膜厚の影響を受け� ��光透過率100%である場合を除き、記録層膜厚 が厚くなるほど、光透過率は低下する傾向が ある。記録層膜厚200~700μmにおいては記録層� �厚と光透過率はほぼ反比例関係を示すので� �この膜厚範囲内の記録層を有する媒体につ� �て評価した結果は、反比例換算で膜厚補正� �ることで対比が可能となる。一方、記録層� �厚が1000μmを超える範囲については記録層膜� ��に対する光透過率の減少は100%である場合を 除き、記録層膜厚200~700μmにおける反比例関� �よりも急激に減少し、単純な換算は難しい� �

 なお、基板や保護層など、ホログラム記録� ��体を構成する記録層以外の透明層は、通常� ��録層に対して十分大きな光線透過率を有し� ��おり、媒体としての光線透過率の値は実質� ��録層の透過率と見なすことができる。反射� ��などの不透明層を有する記録媒体の場合に� ��、反射層の厚さは記録層や基板などに比べ� ��十分の一以下と十分に薄いので媒体への光� ��過率の影響は無視できる。このようにして� ��記録層以外の層構成が異なる媒体について� ��、光線透過率の直接の対比が可能である。
III-8-3.収縮率
 少ない角度多重記録を行った後で、残存す� ��反応性化合物を一括露光などの方法により� ��応させて消費させた時、角度を再度測定す� ��ことで一括露光による収縮率を測定するこ� ��ができる。角度の変化が少ない方が、即ち� ��縮率の小さい方が媒体として良い性能であ� ��といえる。

 本実施の形態のホログラム記録媒体に設� ��られた記録層は、例えば記録層膜厚500μmと� ��て評価した場合に、通常一括露光による収� ��率(以下、単に収縮率ということがある)が0. 25%以下、好ましくは0.20%以下、特に好ましく� ��0.15%以下である。また、収縮率は、モノマ� �のパッキング性が高く重合すると逆に膨れ� �ような場合、あるいは反応が開環反応の様� �膨張を伴うような場合、逆にマイナスの値� �示すことも予測されるが、この場合も収縮� �様媒体としての性能は良くないことが予想� �れる。よって、収縮率の値はゼロに近いほ� �よく、ゼロであることが最も好ましい。こ� �収縮率は、具体的には後述の実施例の項に� �載した方法で測定される。

 なお、一括露光による収縮率は一般に、記� ��層膜厚が厚くなっても変化しないはずであ� ��、記録層膜厚200~700μmにおいては、概ね同じ 値を示す。従って、この範囲内であれば、記 録層膜厚が500μmでない記録媒体についても、 収縮率を直接対比することができる。
 一方、光透過率と同様に1000μmを超える範囲 については、記録層膜厚に対する光透過率が 100%である場合を除き、記録層膜厚200~700μmに� ��ける収縮率よりも小さくなる。

 なお、基板や保護層、反射層など、ホログ� ��ム記録媒体を構成する記録層以外の層は、� ��記の方法で評価する限り、収縮率の値に大� ��く影響しないので、記録層以外の層構成が� ��なる媒体についても、収縮率の直接の対比� ��可能である。
III-8-4.(M/#)/収縮率
 上記収縮率は低い方がよいが、それは記録� ��後の変化の指標であるから露光しても未記� ��であれば変化はなくゼロとなり、この値の� ��小で記録性能の評価は十分ではない。

 前述の如く、M/#は光反応性化合物の添加� ��に強く依存するので、これとのバランスを� ��ることができれば高性能の媒体を得ること� ��できるといえる。但し、一般にM/#と収縮率� ��トレードオフの関係にあり、M/#を大きくす� ��ために光反応性化合物の添加量を多くする� ��、収縮率が大きくなる傾向がある。よってM /#を収縮率で割った値が性能の良し悪しを表� ��指標ということができる。

 以上のことからM/#を収縮率で割った値は大� ��い方が優れており小さい方が劣っていると� ��うことができる。
 本実施の形態のホログラム記録媒体は高いM /#を保持しながら低収縮率を実現するもので� ��り、記録層500μm厚の媒体で評価した場合、M /#の収縮率に対する比で、通常100以上、好ま� ��くは150以上、特に好ましくは200以上を達成� ��るものである。

 容量が大きく誤り率やノイズの少ない媒体� ��高性能ということができるが、媒体として� ��性能は材料だけによるものとは一般的に言� ��切れないため、材料としての性能に読み替� ��ることで効率的な材料開発を行うことが可� ��となる。このための指針としてM/#と収縮率� ��意味があるということができる。
IV.本発明に係る重合性の反応性化合物につい て
 本発明に係る重合性の反応性化合物のうち� ��下記式(2)で表される化合物は新規化合物で� ��る。 

(式(2)において、A ² は置換基を有していてもよい、ベンゼン環、 ナフタレン環およびジベンゾチオフェン環か らなる群から選ばれる環であり、
Ar ² は、置換基を有していてもよい、スピロ炭素 を含まない、2以上の環が縮合した(ヘテロ)ア リール基であり、
Rは水素又はメチル基であり、
n ² は1~7の整数であり、
n ² が2以上の場合、複数のAr ² は同一であっても異なっていてもよい。)
IV-1.式(2)の各成分について
 以下に、式2で表される反応性化合物につい て、詳細に説明する。

IV-1-1.A ²
 式(2)において、A ² は置換基を有していてもよい、ベンゼン環、 ナフタレン環およびジベンゾチオフェン環か らなる群から選ばれる環である。A ² は、Ar ² 以外に更に置換基を有していてもよい。A ² が有していてもよい置換基としては、相溶性 を低下させないものや屈折率を低下させない ものであれば特に限定されず、式(1)における AがAr以外に有していてもよい置換基の具体例 として前述したものなどが挙げられる。

IV-1-2.Ar ²
 式(2)において、Ar ² は、置換基を有していてもよい、スピロ炭素 を含まない、2以上の環が縮合した(ヘテロ)ア リール基である。具体例としては、式(1)にお けるArの具体例として前述した基のうち、ス� ��ロ炭素を含まないものが挙げられる。好適� ��もArと同様である。
IV-1-3.n ²
式(2)におけるn ² は1~7の整数であり、n ² が2以上の場合、複数のAr ² は同一であっても異なっていてもよい。n ² は、溶剤やマトリックスとの良い溶解性を得 るためには、好ましくは1~5、更に好ましくは 1~3、中でも1または2である。
 上記式(2)で表される化合物は、好ましくは� ��記式(2-1)で表される。

(式(2-1)において、Ar ²¹ は、6員環および/または5員環が2または3縮合� ��た縮合多環構造を有し、該縮合多環構造の� ��格中に1以上のヘテロ原子を有し、該ヘテロ 原子が酸素および/または硫黄である、ヘテ� �アリール基であり、Rは水素又はメチル基で� ��り、n ²¹ は1~5の整数であり、n ²¹ が2以上の場合、複数のAr ²¹ は同一であっても異なっていてもよい。なお 、Ar ²¹ を有するベンゼン環は、Ar ²¹ 以外に更に置換基を有していても良い。)
 以下に、式(2-1)で表される反応性化合物に� �いて、詳細に説明する。

IV-2.式(2-1)の各成分について
 <Ar ²¹ >
 式1において、Ar ²¹ は、6員環および/または5員環が2または3縮合� ��た縮合多環構造を有し、該縮合多環構造の� ��格中に1以上のヘテロ原子を有し、該ヘテロ 原子が酸素および/または硫黄である、ヘテ� �アリール基である。Ar ²¹ としては、前記条件を満たすヘテロアリール 基であれば、特に限定されないが、溶解性や 着色の理由により、前記縮合多環構造の骨格 中に有するヘテロ原子の数は1または2である� ��とが好ましく、ヘテロ原子は屈折率の観点� ��ら酸素及び/また硫黄が好ましい。また、Ar ²¹ の好ましい置換位置は、1つの場合はどこで� �よく、2つ以上の場合は合成収率が高いとの� ��由により互いに隣接しないことが好ましい� ��

 以下にAr ²¹ の具体例を以下に例示するが、本発明はその 要旨を超えない限りこれらに限定されるもの ではない。

 この他、ベンゾチオキサン、ベンゾチオキ� ��ン、ジベンゾチオキシン、ベンゾジオキサ� ��、ベンゾジオキシン、ベンゾジオキシンな� ��がある。
 これらのうち、屈折率の点で好ましくはチ� ��ンスレン、ジベンゾチオフェン、ベンゾチ� ��フェンであり、更に好ましくはチアンスレ� ��、ジベンゾチオフェンである。
<n ²¹ >
 式(2-1)において、n ²¹ は1~7の整数であり、nが2以上の場合、複数のA r ²¹ は同一であっても異なっていてもよい。n ²¹ は、溶剤や反応性モノマーとの良い溶解性を 得るためには、好ましくは1~5、更に好ましく は1~3、中でも1または2であることが好ましい� ��

 <Ar ²¹ 以外に更に有していても良い置換基>
 Ar ²¹ を有するベンゼン環は、Ar ²¹ 以外に更に置換基を有していても良い。例え ば、さらに溶解性を向上させるために、アル キル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル 基、アルコキシカルボニル基、アルコキシア ルコキシ基、アルカノイルオキシ基、屈折率 を上昇させるために、アリール基、アルキル チオアルキル基、アリールオキシ基、アリー ルアルコキシル基を置換させても良い。但し 、経済的な合成の達成のためには無置換であ ることが好ましい。

 ここでアルキル基とは、好ましくは炭素数1 ~4の鎖状アルキル基であり、具体的にはメチ� ��基、エチル基、プロピル基、イソプロピル� ��、ブチル基、イソブチル基、セカンダリー� ��チル基などが挙げられる。
 アルコキシ基とは、好ましくは炭素数1~4の� ��ルコキシ基であり、具体的にはメトキシ基� ��エトキシ基などが挙げられる。

 アルコキシアルキル基とは、好ましくは炭� ��数2~6のアルコキシアルキル基であり、具体� ��にはメトキシメチル基、エトキシメチル基� ��プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、� ��トキシエチル基、エトキシエチル基、プロ� ��キシエチル基、ブトキシエチル基などが挙� ��られる。
 アルコキシカルボニル基とは、好ましくは� ��素数2~5のアルコキシカルボニル基であり、� ��体的にはメトキシカルボニル基、エトキシ� ��ルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブ� ��キシカルボニル基などが挙げられる。

 アルコキシアルコキシ基とは、好ましくは� ��素数3~6のアルコキシアルコキシ基であり、� ��体的にはメトキシエトキシ基、エトキシエ� ��キシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシ� ��トキシ基などが挙げられる。
 アルカノイルオキシ基とは、好ましくは炭� ��数2~5のアルカノイルオキシ基であり、具体� ��にはアセトキシ基、プロピオノキシ基、ブ� ��ロキシ基、バレロキシ基などが挙げられる� ��

 アリール基とは、好ましくは炭素数6~14の単 環または縮合環からなるアリール基であり、 具体的にはフェニル基、ナフチル基、アント ラニル基などが挙げられる。
 アルキルチオアルキル基とは、好ましくは� ��素数2~4のアルキルチオアルキル基であり、� ��体的にはメチルチオメチル基、メチルチオ� ��チル基、エチルチオメチル基、エチルチオ� ��チル基などが挙げられる。

 アリールオキシ基とは、炭素数6~14の単環ま たは縮合環からなるアリールオキシ基であり 、具体的にはフェノキシ基などが挙げられる 。
 アリールアルコキシ基とは、炭素数7~5のア� ��ールアルコキシ基であり、具体的にはベン� ��ルオキシ基などが挙げられる。
 なお、式(2-1)で示される化合物の好ましい� �のは、さらに下記の式(2-2)で示される。

(式(2-2)において、B ² は6員環および/または5員環の、単環または2� �合環であり、さらにその骨格中に1以上のヘ� ��ロ原子を有し、該ヘテロ原子が酸素および/ または硫黄原子であるヘテロアリール基であ り、Rは水素又はメチル基であり、n ²² は1~5の整数であり、n ²² が2以上の場合、複数の環B ² は同一であっても異なっていてもよい。なお 、式(2-2)で示される化合物は環B ² を含むヘテロアリール基以外に更に置換基を 有していても良い。)
IV-3.式2の各成分について
 <環B ² >
 式(2-2)において、環B ² は6員環および/または5員環の、単環または2� �合環であり、さらにその骨格中に1以上のヘ� ��ロ原子を有し、該ヘテロ原子が酸素および/ または硫黄原子であるヘテロアリール基であ る。環B ² としては、前記条件を満たすヘテロアリール 基であれば、特に限定されないが、溶解性や 着色の理由により、環B ² 骨格中に有するヘテロ原子の数は1または2で� ��ることが好ましく、ヘテロ原子は屈折率の� ��点から酸素および/または硫黄が好ましい。 また、環B ² を含むヘテロアリール基、すなわち環B ² がベンゼン環とともに形成する縮合多環構造 を有するヘテロアリール基の好ましい置換位 置は、1つの場合はどこでもよく、2つ以上の� ��合は合成収率が高いとの理由により互いに� ��接しないことが好ましい。

 環B ² を含むヘテロアリール基としては、例えば、 式(1)のArとして例示したもののうち、式(2-2)� �構造に該当するものが挙げられる。ただし� �本発明はその要旨を超えない限りこれらに� �定されるものではない。
 <n ²² >
 式(2-2)におけるn ²² は式1におけるnと同義である。

<環B ² を含むヘテロアリール基以外に有していても 良い置換基>
 式(2-2)で示される化合物は、環B ² を含むヘテロアリール基以外に更に置換基を 有していても良い。式(2-2)における「環B ² を含むヘテロアリール基以外に更に有してい てもよい置換基」とは、式1における「Ar以外 に更に有していても良い置換基」と同義であ る。
IV-4.分子量、水溶性
 以上に説明した式(2)、好ましくは式(2-1)、� �に好ましくは式(2-2)で表される反応性化合物 は、光照射時の架橋に伴う収縮率低減の点か ら、通常分子量1500以下、好ましくは1000以下� ��更に好ましくは850以下、特に好ましくは750� ��下、中でも600以下であって、通常300以上、� ��ましくは350以上、中でも400以上であること� ��好ましい。

 また、式(2)で表される反応性化合物は、記� ��媒体等の保存安定性を向上させる理由から� ��通常水不溶性であることが好ましい。ここ� ��「水不溶性」とは、25℃、1気圧の条件下に� ��ける水に対する溶解度が、通常0.1重量%以下 、好ましくは0.01重量%以下であることを言う� ��
IV-5.屈折率
 式(2)、好ましくは式(2-1)、更に好ましくは� �(2-2)で表される反応性化合物は、照射光波長 (記録波長、等)における屈折率または見かけ� ��屈折率が通常1.600~1.780、好ましくは1.620~1.770 の範囲である。たとえば式1好ましくは式2で� ��される反応性化合物をホログラム記録材料� ��して用いる場合、屈折率が1.600より小さい� �回折効率が大きくなく、多重度が十分でな� �。また、屈折率が1.780より大きいとマトリッ クス樹脂との屈折率の差が大きくなりすぎて 散乱が大きくなることにより透過度が低下し て記録や再生に際してより大きなエネルギー を要することとなる。

 なお、屈折率は短い波長で評価すると大き� ��値を示すが、短波長で相対的に大きい屈折� ��を示すサンプルは、長波長でも相対的に大� ��い屈折率を示し、その関係が逆転すること� ��ない。従って、記録波長以外の波長で屈折� ��または見かけの屈折率を評価し、記録波長� ��の屈折率を予測することも可能である。
 ここでは、589nmの記録波長での値を基準と� �た。

 ここで見かけの屈折率とは、当該化合物が� ��体である場合、そのままでは屈折率を測定� ��きないため、後述の合成例1に記載したよう に、適当な溶媒に化合物を溶解して溶液とし 、この溶液の屈折率を測定し、化合物が100%� �場合の屈折率を外挿により求めた値をさす� �
IV-6.例示化合物
 式(2)、好ましくは式(2-1)、更に好ましくは� �(2-2)で表される反応性化合物の具体例を以下 に例示するが、本発明はその要旨を超えない 限りこれらに限定されるものではない。

 2-(1-チアンスレニル)-1-フェニル アクリ� �ート、2-(2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル  アクリレート、2-(3-ベンゾチオフェニル)-1-フ ェニル アクリレート、2-(4-ジベンゾフラニ� �)-1-フェニル アクリレート、2-(4-ジベンゾチ オフェニル)-1-フェニル アクリレート、3-(1-� ��アンスレニル)-1-フェニル アクリレート、3 -(2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル アクリ� �ート、3-(3-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル  アクリレート、3-(4-ジベンゾフラニル)-1-フェ ニル アクリレート、3-(4-ジベンゾチオフェ� �ル)-1-フェニル アクリレート、4-(1-チアンス レニル)-1-フェニル アクリレート、4-(2-ベン� ��チオフェニル)-1-フェニル アクリレート、4 -(3-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル アクリ� �ート、4-(4-ジベンゾフラニル)-1-フェニル ア クリレート、4-(4-ジベンゾチオフェニル)-1-フ ェニル アクリレート、2、4-ビス(1-チアンス� ��ニル)-1-フェニル アクリレート、2、4-ビス( 2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル アクリレ� ��ト、2、4-ビス(3-ベンゾチオフェニル)-1-フェ ニル アクリレート、2、4-ビス(4-ジベンゾフ� ��ニル)-1-フェニル アクリレート、2、4-ビス( 4-ジベンゾチオフェニル)-1-フェニル アクリ� ��ート、4-メチル-2、6-ビス(1-チアンスレニル) -1-フェニル アクリレート、4-メチル-2、6-ビ� ��(2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル アクリ� ��ート、4-メチル-2、6-ビス(3-ベンゾチオフェ� ��ル)-1-フェニル アクリレート、4-メチル-2、 6-ビス(4-ジベンゾフラニル)-1-フェニル アク� ��レート、4-メチル-2、6-ビス(4-ジベンゾチオ� ��ェニル)-1-フェニル アクリレート、2-(1-チ� �ンスレニル)-1-フェニル メタクリレート、2- (2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル メタクリ レート、2-(3-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル  メタクリレート、2-(4-ジベンゾフラニル)-1-� ��ェニル メタクリレート、2-(4-ジベンゾチオ フェニル)-1-フェニル メタクリレート、3-(1-� ��アンスレニル)-1-フェニル メタクリレート� ��3-(2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル メタ� �リレート、3-(3-ベンゾチオフェニル)-1-フェ� �ル メタクリレート、3-(4-ジベンゾフラニル) -1-フェニル メタクリレート、3-(4-ジベンゾ� �オフェニル)-1-フェニル メタクリレート、4- (1-チアンスレニル)-1-フェニル メタクリレー ト、4-(2-ベンゾチオフェニル)-1-フェニル メ� ��クリレート、4-(3-ベンゾチオフェニル)-1-フ� ��ニル メタクリレート、4-(4-ジベンゾフラニ ル)-1-フェニル メタクリレート、4-(4-ジベン� ��チオフェニル)-1-フェニル メタクリレート� ��2、4-ビス(1-チアンスレニル)-1-フェニル メ� ��クリレート、2、4-ビス(2-ベンゾチオフェニ� ��)-1-フェニル メタクリレート、2、4-ビス(3-� ��ンゾチオフェニル)-1-フェニル メタクリレ� ��ト、2、4-ビス(4-ジベンゾフラニル)-1-フェニ ル メタクリレート、2、4-ビス(4-ジベンゾチ� ��フェニル)-1-フェニル メタクリレート、4-� �チル-2、6-ビス(1-チアンスレニル)-1-フェニル  メタクリレート、4-メチル-2、6-ビス(2-ベン� ��チオフェニル)-1-フェニル メタクリレート� ��4-メチル-2、6-ビス(3-ベンゾチオフェニル)-1- フェニル メタクリレート、4-メチル-2、6-ビ� ��(4-ジベンゾフラニル)-1-フェニル メタクリ� ��ー ト、4-メチル-2、6-ビス(4-ジベンゾチオ� �ェニル)-1-フェニル メタクリレート、等。

IV-7.合成方法
 式(2)、好ましくは式(2-1)、更に好ましくは� �(2-2)で示される化合物は、公知の種々の方法 を組み合わせることにより、合成することが できる。
 即ち、環A ² の(メタ)アクリロイル基導入位置に水酸基、n ² 個のAr ² 基導入位置に各々Xを有する化合物(a ² )と、導入したい位置で置換するホウ酸化Ar ² 化合物(b ² )とに対して適当なカップリング反応を行い� �前駆体(c ² )を合成することによって得られる。下記式� �おいて、Xはハロゲン原子であり、臭素かヨ� ��素であることが好ましいが、塩素でも構わ� ��い。
 また、A ² 、Ar ² およびn ² はいずれも一般式(2)におけるのと同義である 。

 (1)ホウ酸化Ar ² 化合物(b ² )は、Ar ² 化合物をブチルリチウムでリチオ化し、ホウ 酸エステルでトラップした後、加水分解によ り合成することが出来る。
 (2)得られたホウ酸化Ar ² 化合物(b ² )と環A ² の(メタ)アクリロイル基導入位置に水酸基、A r ² 基導入位置にXを有する化合物(a ² )とは、適当な有機溶剤に溶かし適当な塩基� �金属触媒によりカップリング反応を行い、� �駆体(c ² )を合成することが出来る。
 なお、上記化合物(a ² )は市販品を購入する、あるいは水酸基を有� �る化合物をハロゲン化させることにより得� �ことが出来る。ハロゲン化は、例えば塩素� �臭素、ヨウ素、N-ブロモコハク酸イミド、塩 素化ヨウ素によってなされる。さらに、水酸 基を有する化合物は、対応するハロゲン化物 、硫酸化物、硝酸化物、ホウ酸化物から得る ことが出来る。
 有機溶剤としてはジメトキシエタン、テト� ��ヒドロフラン、メタノール、エタノール、� ��ルエン、水などを単独に或いは組み合わせ� ��使用することが出来る。
 塩基としては、トリエチルアミン、ピリジ� ��、炭酸水素ナトリム、炭酸ナトリム、炭酸� ��リウムなどを単独に或いは組み合わせて使� ��することが出来る。
 金属触媒は、塩化パラジウム、酢酸パラジ� ��ム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)� �ラジウムなどを使うことが出来る。

 触媒の溶解性を改善して使用する量を減ら� ��ために3級アミン化合物であるジアザビシク ロオクタン、3級ホスフィン化合物であるト� �ブチルホスフィン、イミダゾール化合物で� �る1-メチルイミダゾールなどを一緒に使用し ても良い。
 また、上記前駆体(c ² )を再度ハロゲン化することにより、Arが置換 した化合物(a ² )相当を得ることが出来るので、これに従え� �異なるArを有する前駆体(c ² )を得ることが可能である。ハロゲン化は上� �と同様にして例えば塩素、臭素、ヨウ素、N- ブロモコハク酸イミド、塩素化ヨウ素によっ てなされる。

 このようにして得られた前駆体(c ² )と、3級アミン、ピリジンまたはイミダゾー� ��等の塩基を共存させたところに塩化アクリ� ��(Rが水素の場合)または塩化メタクリル(Rが� �チル基の場合)と作用させることにより、式( 2)で示される化合物を得ることができる。

 V.本発明の光反応性組成物について
 本発明の光反応性組成物は、前述の式(2)で� ��される反応性化合物を有するものであるが� ��上述の反応性化合物以外の重合性の化合物� ��含んでいてもよい。
 本発明の反応性化合物、光反応性組成物お� ��びそれを用いた光学材料は、種々の光学製� ��に適用可能である。高い回折効率と低い収� ��率の点において優れた特性を有し、レンズ� ��光記録、光造形、光レリーフ印刷などに好� ��に用いることができる。中でもIII.に前述し たホログラム記録媒体における記録層形成等 の用途に特に好適に用いることが出来る。
 本発明の光反応性組成物をホログラム記録� ��形成用組成物として用いる場合の好ましい� ��様については、I.の項に前述したとおりで� �る。

 VI.本発明の光学材料について
 本発明の光学材料は、上述の本発明の光反� ��性組成物を含有することを特徴とする。
 本発明の光学材料は上記種々の用途に適用� ��能であり、特にホログラム記録媒体の記録� ��形成等の用途に好適である。本発明の光学� ��料をホログラム記録材料として用いる場合� ��好ましい態様については、II.の項に前述し� ��とおりである。
 また、本発明の反応性化合物、光反応性組� ��物およびそれを用いた光学材料をホログラ� ��記録材料として、ホログラム記録媒体の記� ��層形成の用途に適用する場合の詳細につい� ��は、III.の項に前述したとおりである。