偽造防止のためには明瞭なホログラム像の� ��成が求められ、このためには、回折格子形� ��に関与しない希釈用重合性化合物を用いな� ��材料で透明な重合体を形成し得るという観� ��より、液体状の重合性化合物を用いるのが� ��ましい。また、一般に、用いられる重合性� ��合物と無機微粒子との屈折率差が小さすぎ� ��と、該微粒子の移動に伴い生じる露光部と� ��露光部との屈折率差が殆ど無いものとなり� ��ログラムそれ自体が形成されなくなる。逆� ��屈折率差が大きすぎると、透明な系の露光� ��と非露光部との屈折率差が相当大きなもの� ��なり、光散乱による偽造防止ホログラム層� ��白濁化が目立つようになり、明瞭なホログ� ��ムの形成の点で望ましくない。また、重合� ��化合物の粘度が低すぎると、感光性組成物� ��支持体に塗布するとき、ホログラム層の形� ��に必要な厚さの組成物層を均一に支持体上� ��形成することが難しくなる。逆に重合性化� ��物の粘度が高すぎると、感光性組成物を支� ��体上に円滑且つ均一に塗布することが難し� ��なり、またパターン露光の際に無機微粒子� ��移動が阻害され、高感度のホログラム記録� ��鮮明なホログラム像の形成が達成されなく� ��る。
 以上の観点より、本発明の偽造防止ホログ� ��ム用感光性組成物は、25℃において液状且� �粘度が5mPa・s以上10,000mPa・s以下という物性� �有する重合性化合物及び無機微粒子を含み� �且つ該重合性化合物と該無機微粒子の屈折� �差が0.005以上0.1以下であるという構成を備え るものとなっている。

 次に、本発明の感光性組成物の成分であ� ��、(a)重合性化合物、(b)光重合開始剤、(c)無� ��微粒子について説明する。

(a)重合性化合物
 本発明における重合性化合物は、25℃にお� �て粘度が5mPa・s以上10,000mPa・s以下の液状で� �って、光重合開始剤の作用によって重合す� �重合性の部位を分子内に一個以上、好まし� �は一個乃至六個有する化合物であれば特に� �限はない。重合性の部位としては、ラジカ� �重合性の部位とカチオン重合性の部位とが� �り、重合性化合物が双方の部位を有するも� �であってもよい。
 なお、本発明における重合性化合物の意味� ��るところは、所謂高分子物質でない化合物� ��ある。従って、狭義の単量体化合物だけで� ��く、二量体、三量体、オリゴマーや反応性� ��分子をも包含するものである。そのような� ��合性化合物としては、ラジカル重合性の部� ��、例えばエチレン性不飽和結合を有する重� ��性化合物、並びに、カチオン重合性の部位� ��例えばビニルエーテル構造、ビニルチオエ� ��テル構造、エポキシ環又はオキセタン環と� ��った環状エーテル構造を有する重合性化合� ��が挙げられる。

 ラジカル重合性の部位を有する重合性化合� ��としては、エチレン性不飽和結合を有する� ��合性化合物、例えば、不飽和カルボン酸、� ��肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボ� ��酸とのエステル化合物、脂環族ポリヒドロ� ��シ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル� ��合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽� ��カルボン酸とのエステル化合物、脂肪族ポ� ��ヒドロキシ化合物及び脂環族ポリヒドロキ� ��化合物と不飽和カルボン酸とのエステル化� ��物、脂肪族ポリヒドロキシ化合物及び芳香� ��ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ� ��合物と不飽和カルボン酸及び多価カルボン� ��とのエステル化合物、脂肪族ポリアミン化� ��物と不飽和カルボン酸とのアミド化合物等� ��挙げることができる。
 このうち、好ましくは、不飽和カルボン酸� ��脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル� ��ン酸とのエステル化合物、脂環族ポリヒド� ��キシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステ� ��化合物、及び芳香族ポリヒドロキシ化合物� ��不飽和カルボン酸とのエステル化合物が挙� ��られる。
 また、より好ましくは、エチレン性不飽和� ��合を有する重合性化合物であって、分子内� ��3個以上20個以下の炭素原子数2乃至6のオキ� �アルキレン基をさらに有する重合性化合物� �挙げられる。炭素原子数2乃至6のオキシアル キレン基としては、オキシエチレン基、オキ シプロピレン基、オキシブチレン基等が挙げ られ、それらは未置換であっても、またヒド ロキシ基、ハロゲン原子等で置換されていて も良い。

 上記の不飽和カルボン酸としては、アク� ��ル酸、メタクリル酸、2-アクリロイロキシ� �チルスクシネート、又は2-アクリロイロキシ エチルフタレート等が挙げられる。また、こ れらのアクリル酸エステル化合物のアクリレ ート部分をメタクリレートに代えたメタクリ ル酸エステル化合物、同様にイタコネートに 代えたイタコン酸エステル化合物、クロトネ ートに代えたクロトン酸エステル化合物、マ レエートに代えたマレイン酸エステル化合物 等も挙げられる。

 脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル� ��ン酸とのエステル化合物としては、トリプ� ��ピレングリコールジアクリレート、トリメ� ��ロールプロパントリアクリレート、トリメ� ��ロールエタントリアクリレート、ジトリメ� ��ロールプロパンテトラアクリレート、1,6-ヘ キサンジオールジアクリレート、ポリブタン ジオールジアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フ� ��ノキシプロピルアクリレート、3-クロロ-2-� �ドロキシプロピルアクリレート、ペンタエ� �スリトールジアクリレート、ペンタエリス� �トールトリアクリレート、ペンタエリスリ� �ールテトラアクリレート、グリセロールア� �リレート、ジペンタエリスリトールペンタ� �クリレート、ジペンタエリスリトールヘキ� �アクリレート、4,7-ジオキサ-5-メチル-1,2,9,10- デカンテトラオール-1,10-ジアクリレート等が 挙げられる。
 より好ましくは、これら脂肪族ポリヒドロ� ��シ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル� ��合物のアルコキシ変性物(1分子内のアルコ� �シ基の平均付加数は1乃至20、好ましくは3乃� ��20、より好ましくは3乃至10)を挙げることが� ��きる。このようなエステル化合物のアルコ� ��シ変性物として、例えば、エトキシ変性ペ� ��タエリスリトールテトラアクリレート(下記 の式(1)化合物)、プロポキシ変性ペンタエリ� �リトールテトラアクリレート(下記の式(2)化� ��物)、エトキシ変性トリメチロールプロパン トリアクリレート(下記の式(3)化合物)を挙げ� ��ことができる。また、これらのアクリル酸� ��ステル化合物のアクリレート部分をメタク� ��レートに代えたメタクリル酸エステル化合� ��、同様にイタコネートに代えたイタコン酸� ��ステル化合物、クロトネートに代えたクロ� ��ン酸エステル化合物、マレエートに代えた� ��レイン酸エステル化合物等も挙げられる。

 脂環族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル� ��ン酸とのエステル化合物としては、例えば� ��リシクロデカンジメタノールジアクリレー� ��が挙げられる。
 より好ましくは、これら脂環族ポリヒドロ� ��シ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル� ��合物のアルコキシ変性物(1分子内のアルコ� �シ基の平均付加数は1乃至20、好ましくは3乃� ��20、より好ましくは3乃至10)、例えば、エト� ��シ変性水添ビスフェノールAジアクリレート (下記の式(4)化合物)を挙げることができる。� ��た、これらのアクリル酸エステル化合物の� ��クリレート部分をメタクリレートに代えた� ��タクリル酸エステル化合物、同様にイタコ� ��ートに代えたイタコン酸エステル化合物、� ��ロトネートに代えたクロトン酸エステル化� ��物、マレエートに代えたマレイン酸エステ� ��化合物等も挙げられる。

 芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル� ��ン酸とのエステル化合物としては、ビスフ� ��ノールAジアクリレート、ビスフェノールF� �アクリレート、ヒドロキノンジアクリレー� �、レゾルシンジアクリレート、ピロガロー� �トリアクリレート等が挙げられる。
 より好ましくは、これら芳香族ポリヒドロ� ��シ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル� ��合物のアルコキシ変性物(1分子内のアルコ� �シ基の平均付加数は1乃至20、好ましくは4乃� ��20、より好ましくは6乃至20)を挙げることが� ��きる。このようなエステル化合物のアルコ� ��シ変性物として、例えば、エトキシ変性ビ� ��フェノールAジアクリレート(下記の式(5)化� �物)、プロポキシ変性ビスフェノールAジアク リレート(下記の式(6)化合物)、エトキシ-プロ ポキシ変性ビスフェノールAジアクリレート(� ��記の式(7)化合物)、エトキシ変性ビスフェノ ールFジアクリレート(下記の式(8)化合物)、プ ロポキシ変性ビスフェノールFジアクリレー� �(下記の式(9)化合物)、エトキシ-プロポキシ� �性ビスフェノールFジアクリレート(下記の式 (10)化合物)等が挙げられる。また、これらの� ��クリル酸エステル化合物のアクリレート部� ��をメタクリレートに代えたメタクリル酸エ� ��テル化合物、同様にイタコネートに代えた� ��タコン酸エステル化合物、クロトネートに� ��えたクロトン酸エステル化合物、マレエー� ��に代えたマレイン酸エステル化合物等も挙� ��られる。

 脂肪族ポリヒドロキシ化合物及び芳香族� ��リヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化� ��物と不飽和カルボン酸及び多価カルボン酸� ��のエステル化合物としては、必ずしも単一� ��では無いが代表的な具体例を挙げれば、ア� ��リル酸及びフタル酸とエチレングリコール� ��縮合物、アクリル酸及びマレイン酸とジエ� ��レングリコールの縮合物、アクリル酸及び� ��息香酸とトリメチロールプロパンの縮合物� ��アクリル酸及びテレフタル酸とペンタエリ� ��リトール及びジペンタエリスリトールの縮� ��物、アクリル酸及びアジピン酸とブタンジ� ��ール及びグリセリンの縮合物等が挙げられ� ��。

 エチレン性不飽和結合を有する重合性化合� ��のその他の例としては、多価イソシアネー� ��とヒドロキシアルキル不飽和カルボン酸エ� ��テルとの反応によって得ることができるウ� ��タン化合物、多価エポキシ化合物とヒドロ� ��シアルキル不飽和カルボン酸エステルとの� ��応によって得ることができる化合物、リン� ��基を有する多価アクリレート及びメタクリ� ��ートを挙げることができる。
 本発明に用いられるエチレン性不飽和結合� ��有する重合性化合物のさらに他の例として� ��、また、例えば、エチレンビスアクリルア� ��ド等のアクリルアミド化合物、フタル酸ジ� ��リル等のアリルエステル化合物、ジビニル� ��タレート等のビニル基含有化合物等が有用� ��ある。

 本発明においては、エチレン性不飽和結合� ��有する重合性化合物としては、アクリル酸� ��ステル化合物またはメタクリル酸エステル� ��合物が特に好ましい。
 これらのエチレン性不飽和結合を有する重� ��性化合物は単独で用いてもよいし、必要に� ��じて二種以上を混合して用いてもよい。

 以下、式中のacryloylはアクリロイル基を表� �、methacryloylはメタクリロイル基を表す。ま� �、式中のw、x、y及びzは、1分子内の各部分(� �)のオキシアルキレン基の付加モル数を表し� ��w+x+y+z、x+y+z、x+yの各数値は1分子内のオキシ アルキレン基の平均付加モル数を表す。

 一方、カチオン重合性の部位を有する化� ��物のうち、ビニルエーテル構造を有する化� ��物としては、例えば、ビニル-2-クロロエチ� ��エーテル、ビニル-n-ブチルエーテル、トリ� ��チレングリコールジビニルエーテル、1,4-シ クロヘキサンジメタノールジビニルエーテル 、トリメチロールエタントリビニルエーテル 、ビニルグリシジルエーテル等を挙げること ができる。

 エポキシ環を有する化合物としては、例� ��ば、ジグリセロールポリジグリシジルエー� ��ル、ペンタエリスリトールポリグリシジル� ��ーテル、1,4-ビス(2,3-エポキシプロポキシパ� ��フルオロイソプロピル)シクロヘキサン、ソ ルビトールポリグリシジルエーテル、トリメ チロールプロパンポリグリシジルエーテル、 レゾルシンジグリシジルエーテル、1,6-へキ� �ンジオールジグリシジルエーテル、ポリエ� �レングリコールジグリシジルエーテル、フ� �ニルグリシジルエーテル、p-tert-ブチルフェ� ��ルグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリ� ��ジルエーテル、o-フタル酸ジグリシジルエ� �テル、ジブロモフェニルグリシジルエーテ� �、1,2,7,8-ジエポキシオクタン、1,6-ジメチロ� �ルパーフルオロヘキサンジグリシジルエー� �ル、4,4’-ビス(2,3-エポキシプロポキシパー� �ルオロイソプロピル)ジフェニルエーテル、2 ,2-ビス(4-グリシジルオキシフェニル)プロパ� �、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’ -エポキシシクロヘキサンカルボキシレート� �3,4-エポキシシクロヘキシルオキシラン、2-(3 ,4-エポキシシクロヘキシル)-3’,4’-エポキシ -1,3-ジオキサン-5-スピロシクロヘキサン、1,2- エチレンジオキシビス(3,4-エポキシシクロヘ� ��シルメタン)、4’,5’-エポキシ-2’-メチル� �クロヘキシルメチル-4,5-エポキシ-2-メチルシ クロヘキサンカルボキシレート、エチレング リコールビス(3,4-エポキシシクロヘキサンカ� ��ボキシレート)、ビス(3,4-エポキシシクロヘ� ��シルメチル)アジペート、ジ-2,3-エポキシシ� ��ロペンチルエーテル等を挙げることができ� ��。

 オキセタン環を有する化合物としては、� ��えば、オキセタン環を一つ有する化合物、3 -エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3-エ チル-3-(フェノキシメチル)オキセタン、3,3-ジ エチルオキセタン、3-エチル-3-(2-エチルヘキ� ��ルオキシメチル)オキセタン、オキセタン環 を二つ以上有する化合物、1,4-ビス{[(3-エチル -3-オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン、 ジ(1-エチル(3-オキセタニル))メチルエーテル� ��ペンタエリスリトールテトラキス(3-エチル- 3-オキセタニルメチル)エーテル等を挙げるこ とができる。

 (b)光重合開始剤
 本発明における光重合開始剤としては、パ� ��ーン露光によって前記重合性化合物の重合� ��開始することができる機能を有する化合物� ��あれば特に限定はない。パターン露光の方� ��としては、フォトマスク露光、フェーズマ� ��ク露光、及び干渉露光等が挙げられる。こ� ��らのうち体積ホログラム記録を行う場合に� ��干渉露光が好ましい。干渉露光の光源とし� ��は、一般に干渉性の高いレーザー光であり� ��光重合開始剤に高感度であればよく、例え� ��アルゴンイオンレーザー(458nm、488nm、514.5nm) 、クリプトンイオンレーザー(647.1nm)、Nd:YAGレ ーザー(532nm)、Nd:YVO ₄ レーザー(532nm)、InGaNレーザー(405nm)、He-Cdレー ザー(325nm、442nm)等が使用される。

 重合性化合物として前記のエチレン性不飽� ��結合を有する重合性化合物が使用された場� ��、光重合開始剤としてはパターン露光時に� ��性ラジカルを生成する光ラジカル重合開始� ��が好ましい。
 重合性化合物として前記のカチオン重合性� ��部位を有する化合物、例えばビニルエーテ� ��構造、エポキシ環またはオキセタン環を有� ��る化合物が使用された場合、光重合開始剤� ��しては干渉露光時にルイス酸あるいはブレ� ��ステッド酸を生成する光酸発生剤が好まし� ��。

 光ラジカル重合開始剤としては、パター� ��露光時に活性ラジカルを生成する化合物で� ��れば特に限定されないが、例えば、ベンゾ� ��ン系化合物、α-アミノアルキルフェノン系� ��合物、チオキサントン系化合物、アゾ系化� ��物、アジド系化合物、ジアゾ系化合物、o-� �ノンジアジド系化合物、アシルホスフィン� �キサイド系化合物、オキシムエステル系化� �物、有機過酸化物、ベンゾフェノン類、ビ� �クマリン、ビスイミダゾール化合物、チタ� �セン化合物、チオール化合物、ハロゲン化� �化水素化合物、トリクロロメチルトリアジ� �化合物、あるいはヨードニウム塩化合物、� �ルホニウム塩化合物などのオニウム塩化合� �等が用いられる。これらのうち、チタノセ� �化合物が好ましい。光ラジカル重合開始剤� �単独で用いてもよいし、必要に応じて二種� �上を混合して用いてもよい。

 チタノセン化合物は、特に限定はされな� ��が、具体的には、ビス(シクロペンタジエニ ル)ジクロロチタニウム、ビス(シクロペンタ� ��エニル)ジフェニルチタニウム、ビス(シク� �ペンタジエニル)ビス(2,3,4,5,6-ペンタフルオ� �フェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジ エニル)ビス(2,3,5,6-テトラフルオロフェニル)� ��タニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビ� �(2,4,6-トリフルオロフェニル)チタニウム、ビ ス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6-ジフルオ� �フェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジ エニル)ビス(2,4-ジフルオロフェニル)チタニ� �ム、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス (2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニル)チタニウム 、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス(2,3 ,5,6-テトラフルオロフェニル)チタニウム、ビ ス(2,6-ジフルオロフェニル)ビス(メチルシク� �ペンタジエニル)チタニウム、ビス(シクロペ ンタジエニル)ビス(2,6-ジフルオロ-3-(1H-ピロ� �ル-1-イル)フェニル)チタニウム等を挙げるこ とができる。

 ベンゾイン系化合物としては、例えばベ� ��ゾインエチルエーテル、2,2-ジメトキシ-1,2-� ��フェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシシク� �ヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メ チル-1-フェニルプロパン-1-オン等を挙げるこ とができる。

 α-アミノアルキルフェノン系化合物とし� ��は、例えば2-メチル-1-(4-(メチルチオ)フェニ ル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジ ル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニ ル)ブタン-1-オン等を挙げることができる。

 チオキサントン系化合物としては、例え� ��チオキサントン、1-クロロチオキサントン� �2-クロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポ� ��シチオキサントン、2-メチルチオキサント� �、2-イソプロピルチオキサントン、2,4-ジエ� �ルチオキサントン等を挙げることができる� �

 アゾ系化合物としては、2,2’-アゾビス(2- アミノジプロパン)塩酸塩、4,4’-アゾビス(4-� ��アノ吉草酸)、2,2’-アゾビス〔N-(2-カルボキ シエチル)-2-メチルプロピオンアミジン〕、� �メチル2,2’-アゾビスイソブチレート、2,2’- アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビ� �(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビ� ��(2-メチルブチロニトリル)、1,1’-アゾビス(� ��クロヘキサン-1-カルボニトリル)、2,2’-ア� �ビス{2-メチル-N-〔2-(1-ヒドロキシブチル)〕� �ロピオンアミド}、2,2’-アゾビス〔2-メチル- N-(2-ヒドロキシエチル)-プロピオンアミド〕� �2,2’-アゾビス〔2-(5-メチル-2-イミダゾリン-2 -イル)プロパン〕塩酸塩、2,2’-アゾビス〔2-( 2-イミダゾリン-2-イル)プロパン〕塩酸塩、2,2 ’-アゾビス〔2-(2-イミダゾリン-2-イル)プロ� �ン〕硫酸塩、2,2’-アゾビス〔2-(3,4,5,6-テト� �ヒドロピリミジン-2-イル)プロパン〕塩酸塩� ��2,2’-アゾビス{2-〔1-(2-ヒドロキシエチル)-2- イミダゾリン-2-イル〕プロパン}塩酸塩、2,2� �-アゾビス〔2-(2-イミダゾリン-2-イル)プロパ� ��〕等を挙げることができる。

 アジド系化合物としては、例えばp-アジ� �ベンズアルデヒド、p-アジドアセトフェノン 、p-アジド安息香酸、p-アジドベンザルアセ� �フェノン、4,4’-ジアジドカルコン、4,4’-ジ アジドジフェニルスルフィド、2,6-ビス(4’-� �ジドベンザル)-4-メチルシクロヘキサノン、4 ,4’-ジアジドスチルベン等を挙げることがで きる。

 ジアゾ系化合物としては、例えば1-ジア� �-2,5-ジエトキシ-4-p-トリルメルカプトベンゼ� ��ボロフルオリド、1-ジアゾ-4-(ジメチルアミ� ��)ベンゼンクロリド、1-ジアゾ-4-(ジエチルア ミノ)ベンゼンボロフルオリド等を挙げるこ� �ができる。

 o-キノンジアジド系化合物としては、例� �ば1,2-ナフトキノンジアジド(2)-4-スルホン酸� ��トリウム塩、1,2-ナフトキノンジアジド(2)-5- スルホン酸エステル、1,2-ナフトキノンジア� �ド(2)-4-スルホニルクロリド等を挙げること� �できる。

 アシルホスフィンオキサイド系化合物と� ��ては、例えばビス(2,4,6-トリメチルベンゾイ ル)フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-ト� �メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ� �サイド等を挙げることができる。

 オキシムエステル系化合物としては、例� ��ば2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチ オ)フェニル]-1,2-オクタンジオン、1-(O-アセチ ルオキシム)-1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイ� �)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン等を挙げ� �ことが出来る。

 ベンゾフェノン類としては、例えばベン� ��フェノン、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベン� ��フェノン、1,4-ジベンゾイルベンゼン、10-ブ チル-2-クロロアクリドン、2-ベンゾイルナフ� ��レン、4-ベンゾイルビフェニル、4-ベンゾイ ルジフェニルエーテル、3,3’,4,4’-テトラ(t-� ��チルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン 等を挙げることができる。

 ビスクマリンとしては、例えば3,3’-カル ボニルビス(7-(ジエチルアミノ)-2H-クロメン-2- オン)等が挙げられ、これはみどり化学株式� �社でBC(CAS[63226-13-1])として市販されている。

 ビスイミダゾール化合物としては、例え� ��2,2’-ビス(o-クロロフェニル)-4,4’,5,5’-テ� �ラキス(3,4,5-トリメトキシフェニル)-1,2’-ビ� ��ミダゾール、2,2’-ビス(o-クロロフェニル)-4 ,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾー ル等を挙げることができる。

 光酸発生剤としては、パターン露光時に� ��イス酸あるいはブレンステッド酸を生成す� ��化合物であれば特に限定されないが、例え� ��、ジアリールヨードニウム塩化合物、トリ� ��リールスルホン酸塩化合物、ジアゾニウム� ��化合物などのオニウム塩化合物、及び鉄ア� ��ーン錯体化合物等を挙げることができる。

 ジアリールヨードニウム塩化合物として� ��、例えば、ジフェニルヨードニウム、4,4’- ジクロロジフェニルヨードニウム、4,4’-ジ� �トキシジフェニルヨードニウム、4,4’-ジ-ter t-ブチルジフェニルヨードニウム、(4-メチル� ��ェニル)[4-(2-メチルプロピル)フェニル]ヨー� ��ニウム、3,3’-ジニトロフェニルヨードニウ ム等のヨードニウムの、テトラフルオロボレ ート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサ フルオロアルセネート、ヘキサフルオロアン チモネート等が挙げられる。

 トリアリールスルホン酸塩化合物として� ��、例えば、トリフェニルスルホニウム、4-te rt-ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス (4-メチルフェニル)スルホニウム、トリス(4-� �トキシフェニル)スルホニウム、4-チオフェ� �ルトリフェニルスルホニウム等のスルホニ� �ムの、テトラフルオロボレート、ヘキサフ� �オロホスフェート、ヘキサフルオロアルセ� �ート、ヘキサフルオロアンチモネート等を� �げることができる。

 鉄アレーン錯体化合物としては、例えばビ� ��シクロペンタジエニル-(η ⁶ -イソプロピルベンゼン)-鉄(II)ヘキサフルオ� �ホスフェート等が挙げられる。光酸発生剤� �単独で用いてもよいし、必要に応じて二種� �上を混合して用いてもよい。

 本発明の感光性組成物において、重合性� ��合物としてラジカル重合性の部位であるエ� ��レン性不飽和結合を有する化合物が使用さ� ��た場合には、光重合開始剤としては、基本� ��には光ラジカル重合開始剤が用いられる。� ��合性化合物としてカチオン重合性の部位で� ��るビニルエーテル構造、エポキシ環または� ��キセタン環を有する化合物が使用された場� ��には、光重合開始剤としては、基本的には� ��酸発生剤が用いられる。光重合開始剤の含� ��量は、重合性化合物100質量部に対し0.01乃至 10質量部であり、好ましくは0.05乃至5質量部� �ある。

(c)無機微粒子
 用いる無機微粒子としては、本発明の目的� ��達成することができる粒子であれば特に限� ��されないが、光散乱損失を低減させる必要� ��あるため、平均粒径がなるべく小さなもの� ��好ましい。この点から、無機微粒子は、平� ��粒径が100nm以下である微粒子が望ましい。� �り好ましくは、平均粒径が3nm乃至20nmの無機� ��粒子である。具体的にはシリカ、ジルコニ� ��、チタニア等の無機酸化物微粒子が好まし� ��。

 また、無機微粒子の含有量は、多すぎても� ��なすぎても高い回折効率のホログラムを得� ��ことができない。また、高い脆弱性を有す� ��偽造防止ホログラム層を得るには、無機微� ��子の含有量がより多い方がよい。これらの� ��点から、無機微粒子の含有量は、用いられ� ��重合性化合物の種類にもよるが、重合性化� ��物(a)、光重合開始剤(b)及び無機微粒子(c)の� ��計体積に占める無機微粒子(c)の体積の割合� ��おおむね3乃至50体積%となる量が好ましく、 より好ましくは、回折効率と脆弱性のバラン スが最も良好な10乃至45体積%となる量である� ��
 また、重合性化合物(a)として、芳香族ポリ� ��ドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエ� ��テル化合物のアルコキシ変性物、例えばエ� ��キシ又はプロポキシ変性物を用いる場合に� ��、無機微粒子の含有量は重合性化合物(a)、� ��重合開始剤(b)及び無機微粒子(c)の合計体積� ��占める無機微粒子(c)の体積の割合が15乃至40 体積%となる量が好ましい。

 用いられる無機微粒子の形態としては粉� ��状のものでも、水または有機溶媒に分散し� ��ゾルでもよいが、本発明の感光性組成物へ� ��分散性、安定性の面から有機溶媒に分散し� ��ゾルで用いるのが好ましい。有機溶媒とし� ��は、例えばメタノール、イソプロパノール� ��ブタノール、エチレングリコール、エチレ� ��グリコールモノプロピルエーテル、メチル� ��チルケトン、メチルイソブチルケトン、キ� ��レン、ジメチルアセトアミド、トルエン等� ��あり、重合性モノマーに均一に分散可能な� ��のであれば、特に限定はされない。

 また、本発明の無機微粒子はカプセル化、� ��面処理、ハイブリッド化などの手法を用い� ��モノマーへの分散性を高めることが好まし� ��。中でも表面処理剤を用いた修飾が工業的� ��も簡便なため好ましい。
 表面処理剤としては無機微粒子表面と親和� ��があり、かつ重合性化合物中への分散性を� ��めるために表面官能基と疎水基を兼ね備え� ��ものが好ましい。

 表面反応性官能基としては、例えば、メ� ��ルシラン、エチルシランなどのアルキルシ� ��ン、メトキシシラン、エトキシシランなど� ��アルコキシシラン、クロロシランなどのハ� ��ゲン化シランに代表される反応性シラン化� ��物、メトキシチタン、エトキシチタンなど� ��アルコキシチタンや塩化チタンに代表され� ��反応性チタン化合物、カルボキシル基、リ� ��酸基、スルホン酸基、またはそのエステル� ��が挙げられる。

 本発明の偽造防止ホログラム媒体の偽造� ��止ホログラム層には、重合性化合物(a)、光� ��合開始剤(b)及び無機微粒子(c)の他、必要に� ��じて、増感剤、連鎖移動剤、可塑剤、着色� ��等の添加剤が加えられていても良い。また� ��膜厚の均一性を持たせ、光照射での重合で� ��成されたホログラムを安定に存在させるた� ��には結合材としてバインダー樹脂を加えて� ��良い。

 バインダー樹脂は重合性化合物と相溶性� ��良いものが好ましく、その具体例としては� ��素化ポリエチレン、ポリメチルメタクリレ� ��ト、メチルメタクリレートと他の(メタ)ア� �リル酸アルキルエステルの共重合体、ポリ� �チレン、塩化ビニルとアクリロニトリルの� �重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアル� �ール、ポリビニルホルマール、ポリビニル� �チラール、ポリビニルピロリドン、エチル� �ルロース、アセチルセルロース、セルロー� �アセテートブチレート等が挙げられる。こ� �で、(メタ)アクリル酸の表記は、アクリル酸 、メタアクリル酸の双方を表す。

 本発明の体積位相型の偽造防止ホログラム� ��感光性組成物から体積位相型の偽造防止ホ� ��グラム媒体を作るには、例えば以下のよう� ��行われる。重合性化合物、無機微粒子及び� ��重合開始剤を、必要に応じて溶剤、増感剤� ��バインダー樹脂又は添加剤とともに混合す� ��ことにより、偽造防止ホログラム用感光性� ��成物を得た後、該組成物を支持体上に塗布� ��、その後乾燥させることにより偽造防止ホ� ��グラム層を形成する。そしてさらに、必要� ��応じて偽造防止ホログラム層を保護材で覆� ��ことによって、偽造防止ホログラム媒体を� ��ることができる。
 偽造防止ホログラム層の厚さは、おおむね� ��1乃至1,000μmであり、好ましくは10乃至500μm� �あり、より好ましくは15乃至200μmである。
 また、用いられる支持体や保護層は、体積� ��ログラムを記録及び再生するために光を透� ��させる場合には、透明な物質である必要が� ��る。

 このような透明支持体としては、透明な� ��ラス板、アクリル板、ポリエチレンテレフ� ��レートフィルム、ポリエチレンフィルムな� ��が用いられる。透明な樹脂フィルムとして� ��ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポ� ��エチレンフィルムなどが用いられる。塗布� ��法としては、直接滴下する方法に加え、従� ��公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤー� ��ー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布� ��ロール塗布、ブレード塗布、及びカーテン� ��布等を用いることができる。

 保護層としては、酸素による感度低下や� ��存安定性の劣化等の悪影響を防止するため� ��公知技術、例えば、水溶性ポリマー等の塗� ��を用いることもできる。水溶性ポリマーと� ��ては、透明な樹脂フィルムを形成する水溶� ��ポリマー等が挙げられる。また、保護層と� ��て前記透明支持体を用いることもできる。

 そして、本発明の偽造防止ホログラム用感� ��性組成物よりパターンを形成するには、感� ��性組成物から上記のようにして得られた偽� ��防止ホログラム媒体のホログラム層に対し� ��、パターン露光することにより行われる。� ��ターン露光は、パターンを形成することの� ��きる露光方法であれば特に制限はない。パ� ��ーン露光としては、例えば干渉露光が挙げ� ��れる。また、パターン露光としては、適当� ��マスクを通して露光する方法(フォトマスク 露光及びフェーズマスク露光等)が挙げられ� �。
 本発明の感光性組成物は重合性化合物、光� ��合開始剤、無機微粒子を含んでいる。その� ��め、例えば、マスクを通して露光が行われ� ��と、露光された部分において重合性化合物� ��重合反応が起こり重合体となる。その結果� ��露光部分において重合性化合物の化学ポテ� ��シャルが減少し、それを補うように非露光� ��から露光部へ重合性化合物の移動が起こる� ��一方、露光部では重合性化合物の減少とと� ��に、光重合に関与しない無機微粒子の化学� ��テンシャルが増加するため、それを抑える� ��うに無機微粒子は露光部から非露光部へと� ��動をする。こうした各成分の移動は光重合� ��完了するまで本質的に継続する。結果とし� ��、無機微粒子の空間分布は固定され、露光� ��と非露光部での成分と屈折率差によってパ� ��ーンが形成される。すなわち、本発明の感� ��性組成物より形成されるパターンは、パタ� ��ン露光によって組成物中の各成分の相互拡� ��が起こった結果、生じた各成分の空間分布� ��差を利用したものである。