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Patent Searching and Data


Title:
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PARTITION WALL, AND BLACK MATRIX
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2008/146855
Kind Code:
A1
Abstract:
Disclosed is a photosensitive composition which enables to form a partition wall (a black matrix) excellent in light shielding property and liquid repellency. Specifically disclosed is a photosensitive composition containing a polymer (A) having, in a molecule, a side chain containing a fluorine atom-containing group or a silicon atom-containing group and a side chain containing an ethylenic double bond, a black coloring agent (B), a photopolymerization initiator (C) composed of an O-acyloxime compound, and a photosensitive resin (D) having an acidic group and an ethylenic double bond in a molecule. This photosensitive composition is characterized in that the ratio of the black coloring agent (B) to the total solid content of the composition is within the range of 15-60% by mass.

Inventors:
TAKAHASHI, Hideyuki (Limited 12-1, Yurakucho1-chome, Chiyoda-k, Tokyo 05, 1008405, JP)
高橋 秀幸 (〒05 東京都千代田区有楽町一丁目12番1号 旭硝子株式会社内 Tokyo, 1008405, JP)
Application Number:
JP2008/059835
Publication Date:
December 04, 2008
Filing Date:
May 28, 2008
Export Citation:
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Assignee:
ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED (12-1, Yurakucho 1-chome Chiyoda-k, Tokyo 05, 1008405, JP)
旭硝子株式会社 (〒05 東京都千代田区有楽町一丁目12番1号 Tokyo, 1008405, JP)
TAKAHASHI, Hideyuki (Limited 12-1, Yurakucho1-chome, Chiyoda-k, Tokyo 05, 1008405, JP)
International Classes:
G03F7/004; C08F2/50; C08F299/02; G02B5/20; G03F7/027; G03F7/031; G03F7/032; G03F7/038; H01L51/50; H05B33/12; H05B33/22
Domestic Patent References:
WO2007007800A1
Foreign References:
JP2007033467A
US20050191580A1
JP2005315986A
JPH11281815A
JP2007056221A
Attorney, Agent or Firm:
SENMYO, Kenji et al. (4th Floor, SIA Kanda Square17, Kanda-konyach, Chiyoda-ku Tokyo 35, 1010035, JP)
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Claims:
 1分子内に下記式(1)で表される基または下記式(2)で表される基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖と、を有する重合体(A)、黒色着色剤(B)、下記式(3)で表される化合物である光重合開始剤(C)、1分子内に酸性基とエチレン性二重結合とを有する感光性樹脂(D)を含む感光性組成物であって、組成物の全固形分に対する黒色着色剤(B)の割合が15~60質量%であることを特徴とする感光性組成物。
 -CFXR f  (1)
 式(1)中、Xは水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を示し、R f はエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数20以下の水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換されたアルキル基、またはフッ素原子を示す。
 -(SiR 1 R 2 O) n -SiR 1 R 2 R 3  (2)
 式(2)中、R 1 、R 2 は独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、R 3 は水素原子または炭素数1~10の有機基を示し、nは1~200の整数を示す。
 式(3)中、R 1 は、水素原子、炭素数1~12のアルキル基、炭素数3~8のシクロアルキル基、炭素数2~5のアルケニル基、炭素数6~20のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素数6~20のフェノキシ基を示し、
 R 2 は、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素数6~20のフェニル基、炭素数2~20のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素数7~20のベンゾイル基、炭素数2~12のアルコキシカルボニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素数7~20のフェノキシカルボニル基を示し、
 R 3 は、炭素数1~12のアルキル基を示し、
 R 4 、R 5 、R 6 およびR 7 は、互いに独立して、水素原子、炭素数1~12のアルキル基、シクロヘキサン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素数3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素数6~20のフェニル基、炭素数2~20のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素数7~20のベンゾイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素数7~20のベンジルカルボニル基、炭素数2~12のアルコキシカルボニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素数7~20のフェノキシカルボニル基、炭素数1~20のアミド基またはニトロ基を示す。
 前記重合体(A)は側鎖1つにつきエチレン性二重結合を2つ以上有する側鎖を有する、請求項1に記載の感光性組成物。
 前記重合体(A)はさらに酸性基を有する側鎖を有する、請求項1または2に記載の感光性組成物。
 前記重合体(A)の酸価が100(mgKOH/g)以下である、請求項3に記載の感光性組成物。
 前記重合体(A)中のエチレン性二重結合の量が、1.0×10 -3 ~5.0×10 -3 mol/gである、請求項1~4のいずれかに記載の感光性組成物。
 前記黒色着色剤(B)がカーボンブラックである、請求項1~5のいずれかに記載の感光性組成物。
 感光性組成物の全固形分における前記光重合開始剤(C)の割合が、1~10質量%である、請求項1~6のいずれかに記載の感光性組成物。
 2つ以上のエチレン性二重結合を有し、酸性基を有しないラジカル架橋剤(E)をさらに含む、請求項1~7のいずれかに記載の感光性組成物。
 請求項1~8のいずれかに記載の感光性組成物の硬化物を有する隔壁。
 前記硬化物の、水の接触角が90度以上であり、かつPGMEAの接触角が20度以上である、請求項9に記載の隔壁。
 請求項9または10に記載の隔壁から構成されるブラックマトリックス。
 基板と、基板上の複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを有し、該隔壁が請求項1~8のいずれかに記載の感光性組成物の硬化物からなることを特徴とするカラーフィルタ。
 基板と、基板上の複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを有し、該隔壁が請求項1~8のいずれかに記載の感光性組成物の硬化物からなることを特徴とする有機EL素子。
Description:
感光性組成物、隔壁、ブラック トリックス

 本発明は、カラーフィルタや有機EL表示 子をインクジェット記録技術法を用いて作 するときに用いられるブラックマトリック 、ブラックマトリックスの形成に用いられ 感光性組成物に関する。

 近年、カラーフィルタや有機EL表示素子の 造方法としてインクジェット法を利用した コスト化プロセスが提案されている。
 例えば、カラーフィルタの製造においては ブラックマトリックスを構成する隔壁をフ トリソグラフィにより形成した後に、隔壁 囲まれた開口部(ドット)にR(レッド)、G(グリ ーン)、B(ブルー)のインクをインクジェット により噴射、塗布し、画素が形成される。
 有機EL表示素子の製造においては、ブラッ マトリックスを構成する隔壁をフォトリソ ラフィにより形成した後に、隔壁で囲まれ 開口部(ドット)に正孔輸送材料、発光材料の 溶液をインクジェット法により噴射、塗布し 、正孔輸送層、発光層等を有する画素が形成 される。

 近年、カラーフィルタや有機EL表示素子の のコントラストを向上させるため、ブラッ マトリックスにはさらなる遮光性が求めら ている。
 また、コスト低減、生産性向上のために、 ラックマトリックス形成材料には少ない露 量でパターニング可能な高い感度が求めら ている。
 また、インクジェット法において、隣り合 画素間におけるインクの混色の発生を防ぐ 要がある。したがって、隔壁には、インク ェットの塗出液である水や有機溶剤等をは く性質、いわゆる撥液性が要求されている 一方、インクジェット法で画素に形成され インク層は高い膜厚均一性を有することが 求されているため、隔壁で囲まれた開口部( ドット)は吐出液に対して濡れる性質、いわ る親液性を有することが要求されている。

 特許文献1には、撥インク剤として2-(パー フルオロヘキシル)エチルメタクリレートと2- ヒドロキシエチルメタクリレートとメタクリ ル酸の共重合体に2-メタクリロイルオキシエ ルイソシアネートを反応させた化合物と、 色着色剤としてカーボンブラックと、光重 開始剤として2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェ ニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オンと、感 性樹脂としてエポキシアクリレート樹脂と ラジカル架橋剤としてジペンタエリスリト ルペンタアクリレートと、を含む感光性樹 組成物が開示されている。当該感光性樹脂 成物の全固形分中に占めるカーボンブラッ の割合は、13.7質量%である。

国際公開第2004/042474号パンフレット(表4 例16)

 上記従来の組成物から得られる隔壁は撥液 を有するが、黒色度、すなわち光学濃度(OD )が不足しており、より高い光学濃度とする ためには黒色着色剤の量を大幅に増やす必要 があった。しかし、黒色着色剤の量を増やす ことにより、撥液性が不足するという問題が あった。さらに、露光量を減らすと、撥液性 の不足はより顕著になった。
 そこで本発明は、露光量を減らした場合に いても、優れた遮光性と撥液性を有する隔 を形成することを可能とする感光性組成物 提供することを課題とする。

 本発明者らは、感光性組成物に特定の光 合開始剤を含有させることにより、露光時 露光量を減らした場合においても、高い遮 性を示し、撥液性にも優れる隔壁を形成で ることを見出し、本発明に至った。

 本発明は、1分子内に下記式(1)で表される基 または下記式(2)で表される基を有する側鎖と 、エチレン性二重結合を有する側鎖と、を有 する重合体(A)、黒色着色剤(B)、下記式(3)で表 される化合物である光重合開始剤(C)、1分子 に酸性基とエチレン性二重結合とを有する 光性樹脂(D)を含む感光性組成物であって、 成物の全固形分に対する黒色着色剤(B)の割 が15~60質量%であることを特徴とする感光性 成物を提供する。
 -CFXR f  (1)
 式(1)中、Xは水素原子、フッ素原子、または トリフルオロメチル基を示し、R f はエーテル性酸素原子を有していてもよい炭 素数20以下の水素原子の少なくとも1つがフッ 素原子に置換されたアルキル基、またはフッ 素原子を示す。
 -(SiR 1 R 2 O) n -SiR 1 R 2 R 3  (2)
 式(2)中、R 1 、R 2 は独立に水素原子、アルキル基、シクロアル キル基、またはアリール基を示し、R 3 は水素原子または炭素数1~10の有機基を示し nは1~200の整数を示す。

 

 式(3)中、R 1 は、水素原子、炭素数1~12のアルキル基、炭 数3~8のシクロアルキル基、炭素数2~5のアル ニル基、炭素数6~20のフェニル基またはベン ン環中の水素原子がアルキル基に置換され いてもよい炭素数6~20のフェノキシ基を示し 、
 R 2 は、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭 数3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の 素原子がアルキル基に置換されていてもよ 炭素数6~20のフェニル基、炭素数2~20のアルカ ノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキ ル基に置換されていてもよい炭素数7~20のベ ゾイル基、炭素数2~12のアルコキシカルボニ 基またはベンゼン環中の水素原子がアルキ 基に置換されていてもよい炭素数7~20のフェ ノキシカルボニル基を示し、
 R 3 は、炭素数1~12のアルキル基を示し、
 R 4 、R 5 、R 6 およびR 7 は、互いに独立して、水素原子、炭素数1~12 アルキル基、シクロヘキサン環中の水素原 がアルキル基に置換されていてもよい炭素 3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水 原子がアルキル基に置換されていてもよい 素数6~20のフェニル基、炭素数2~20のアルカノ イル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル 基に置換されていてもよい炭素数7~20のベン イル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキ 基に置換されていてもよい炭素数7~20のベン ルカルボニル基、炭素数2~12のアルコキシカ ルボニル基、ベンゼン環中の水素原子がアル キル基に置換されていてもよい炭素数7~20の ェノキシカルボニル基、炭素数1~20のアミド またはニトロ基を示す。

 上記重合体(A)は側鎖1つにつきエチレン性二 重結合を2つ以上有する側鎖を有することが ましい。
 上記重合体(A)はさらに酸性基を有する側鎖 有することが好ましい。
 上記重合体(A)の酸価が100(mgKOH/g)以下である とが好ましい。
 上記重合体(A)中のエチレン性二重結合の量 、1.0×10 -3 ~5.0×10 -3 mol/gであることが好ましい。
 上記黒色着色剤(B)がカーボンブラックであ ことが好ましい。
 感光性組成物の全固形分における上記光重 開始剤(C)の割合が、1~10質量%であることが ましい。
 上記組成物は、2つ以上のエチレン性二重結 合を有し、酸性基を有しないラジカル架橋剤 (E)をさらに含むことが好ましい。

 また、本発明は、上記の感光性組成物の硬 物を有する隔壁を提供する。
 また、本発明は、上記の硬化物の、水の接 角が90度以上であり、かつPGMEAの接触角が20 以上である隔壁を提供する。
 また、本発明は、上記の隔壁から構成され ブラックマトリックスを提供する。
 また、本発明は、基板と、基板上の複数の 素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを し、該隔壁が上記の感光性組成物の硬化物 らなることを特徴とするカラーフィルタを 供する。
 また、本発明は、基板と、基板上の複数の 素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを し、該隔壁が上記の感光性組成物の硬化物 らなることを特徴とする有機EL素子を提供 る。

 本発明の感光性組成物は、高い遮光性と れた撥液性を有する隔壁を形成することが きる。特に、露光工程において露光量を減 した場合にも、優れた撥液性を有する隔壁 形成することができる。よって本発明の隔 を有するカラーフィルタや有機EL表示素子 おいては、インクの混色が抑えられる。

 以下、本発明を更に詳細に説明する。なお 本明細書において特に説明のない場合、%は 質量%を表す。(メタ)アクリロイル基とはアク リロイル基とメタクリロイル基の両者を意味 する総称として使用する。(メタ)アクリレー とはアクリレートとメタクリレートの両者 意味する総称として使用する。(メタ)アク ル酸とはアクリル酸とメタクリル酸の両者 意味する総称として使用する。(メタ)アクリ ルアミドとはアクリルアミドとメタクリルア ミドの両者を意味する総称として使用する。 メタ(アリル)とはアリルとメタリルの両者を 味する総称として使用する。
 本明細書において式(1)で表される基を、基( 1)という。他の基も同様である。
 本明細書において式(11)で表される単量体を 、単量体(11)という。他の単量体も同様であ 。

 重合体(A)は、基(1)または基(2)を有する側鎖 、エチレン性二重結合を有する側鎖とを有 る。
 -CFXR f  (1)
 式(1)中、Xは水素原子、フッ素原子、または トリフルオロメチル基を示し、R f はエーテル性酸素原子を有していてもよい炭 素数20以下の水素原子の少なくとも1つがフッ 素原子に置換されたアルキル基、またはフッ 素原子を示す。
 -(SiR 1 R 2 -O) n -SiR 1 R 2 R 3  (2)
 式(2)中、R 1 、R 2 は独立に水素原子、アルキル基、シクロアル キル基、またはアリール基を示し、R 3 は水素原子または炭素数1~10の有機基を示し nは1~200の整数を示す。

 本発明の感光性組成物に含まれる重合体( A)は、基(1)または基(2)を有する側鎖を有する め表面移行性を有し、組成物の塗膜を加熱 燥するときに塗膜表面近傍に移行する。よ て、塗膜硬化物からなる隔壁の上面は撥液 を発現し、インクジェット法で注入される ンクはドット(画素となる箇所)からあふれ ることがなく、隣接画素間での混色が起き くい。また、重合体(A)はエチレン性二重結 を有する側鎖を有しているため、露光時に 合体(A)の硬化反応が行われ、隔壁上面に固 化されやすい。よって、露光・現像後のポ トベーク時に未反応の残存分子がドットに イグレートしてドットを汚染することが起 りにくい。

 基(1)または基(2)を有する側鎖は、重合反 によって直接形成しても、重合反応後の化 変換によって形成してもよい。また、エチ ン性二重結合を有する側鎖は重合反応後の 学変換によって形成できる。

 上記式(1)中のR f が、エーテル性酸素原子を有していてもよい 炭素数20以下の水素原子の少なくとも1つがフ ッ素原子に置換されたアルキル基である場合 、前記アルキル基中の水素原子はフッ素原子 以外の他のハロゲン原子に置換されていても よい。他のハロゲン原子としては、塩素原子 が好ましい。また、エーテル性酸素原子は、 該アルキル基の炭素-炭素結合間に存在して よく、該アルキル基の末端に存在してもよ 。また該アルキル基の構造は、直鎖構造、 岐構造、環構造、または部分的に環を有す 構造が挙げられ、直鎖構造が好ましい。

 上記基(1)の具体例としては、以下が挙げら る。
-CF 3 、-CF 2 CF 3 、-CF 2 CHF 2 、-(CF 2 ) 2 CF 3 、-(CF 2 ) 3 CF 3 、-(CF 2 ) 4 CF 3 、-(CF 2 ) 5 CF 3 、-(CF 2 ) 6 CF 3 、-(CF 2 ) 7 CF 3 、-(CF 2 ) 8 CF 3 、-(CF 2 ) 9 CF 3 、-(CF 2 ) 11 CF 3 、-(CF 2 ) 15 CF 3
-CF(CF 3 )O(CF 2 ) 5 CF 3
-CF 2 O(CF 2 CF 2 O) p CF 3 (pは1~8の整数)、
-CF(CF 3 )O(CF 2 CF(CF 3 )O) q C 6 F 13 (qは1~4の整数)、
-CF(CF 3 )O(CF 2 CF(CF 3 )O) r C 3 F 7 (rは1~5の整数)。

 上記基(1)としては、パーフルオロアルキ 基または水素原子1個を含むポリフルオロア ルキル基であることが好ましく、パーフルオ ロアルキル基が特に好ましい(ただし、前記 ルキル基は、エーテル性酸素原子を有する のを含む。)。これによって、感光性組成物 ら形成される隔壁は撥液性が良好となる。 た、上記基(1)の全炭素数は4~6が好ましい。 の場合、隔壁に充分な撥液性が付与される ともに、重合体(A)と感光性組成物を構成す 他の成分との相溶性が良好であり、感光性 成物を塗布し塗膜を形成したときに重合体( A)同士が凝集することがなく、外観の良好な 壁が形成できる。

 上記式(2)において、R 1 、R 2 はシロキサン単位毎に同一でも異なっていて もよい。感光性組成物から形成される隔壁が 優れた撥液性を示すことから、R 1 、R 2 は水素原子、炭素数1~10のアルキル基、シク アルキル基、またはアリール基であること 好ましく、水素原子、メチル基、またはフ ニル基であることがより好ましく、すべて シロキサン単位のR 1 、R 2 がメチル基であることが特に好ましい。また 、R 3 が有機基である場合、窒素原子、酸素原子等 が含まれていてもよく、R 3 は水素原子または炭素数1~5のアルキル基であ ることが好ましい。nは1~200の整数が好ましく 、2~100の整数がより好ましい。

 エチレン性二重結合としては、例えば、( メタ)アクリロイル基、アリル基、ビニル基 ビニルエーテル基等の付加重合性の不飽和 等が挙げられる。それらの基の水素原子の 部またはすべてが、炭化水素基により置換 れていてもよい。炭化水素基としては、メ ル基が好ましい。

 重合体(A)は、さらに酸性基を有する側鎖 有する重合体であることが好ましい。露光 程で硬化反応しなかった重合体(A)の一部の 子は、それらが酸性基を有する側鎖を有す ことにより、現像時に隔壁上面から洗い流 れ、隔壁内には固定化されなかった残存分 が残りにくい。したがってポストベーク工 の前段階でドットにマイグレートする可能 のある分子をより減らすことができ、ドッ の親液性をより高くすることができる。

 酸性基としては、カルボキシ基、フェノー 性水酸基およびスルホン酸基からなる群か 選ばれる1以上の酸性基が好ましい。
 酸性基を有する側鎖は、酸性基を有する単 体の重合反応によって形成してもよいし、 合反応後の化学変換によって形成してもよ 。

 本発明の重合体(A)は、基(1)を有する単量 (a1)または基(2)を有する単量体(a2)と反応性 を有する単量体(a3)とを含む2種以上の単量体 を共重合し、次いで得られた共重合体と前記 反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二 重結合とを有する化合物(z1)とを反応させる とにより製造できる。

 基(1)を有する単量体(a1)としては、下記単量 体(11)が好ましい。
 CH 2 =CR 4 COO-Y-CFXR f  (11)
 式(11)中、R 4 は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原 子、ヨウ素原子、メチル基、またはトリフル オロメチル基を示し、Yは単結合または炭素 1~6のフッ素原子を含まない2価有機基を示し R f はエーテル性酸素原子を有していてもよい炭 素数20以下の水素原子の少なくとも1つがフッ 素原子に置換されたアルキル基、またはフッ 素原子を示す。
 単量体(11)において-CFXR f の好ましい態様は、基(1)に関して説明したの と同様である。単量体(11)において、Yは、入 の容易さから、炭素数2~4のアルキレン基で ることが好ましい。

 単量体(11)の例としては、以下が挙げられる 。
 CH 2 =CR 4 COOR 5 CFXR f
 CH 2 =CR 4 COOR 5 NR 6 SO 2 CFXR f
 CH 2 =CR 4 COOR 5 NR 6 COCFXR f
 CH 2 =CR 4 COOCH 2 CH(OH)R 7 CFXR f
 ここで、R 4 は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原 子、ヨウ素原子、メチル基、またはトリフル オロメチル基を示し、R 5 は炭素数1~6のアルキレン基を示し、R 6 は水素原子またはメチル基を示し、R 7 は単結合または炭素数1~4のアルキレン基を示 し、R f は上記と同じ意味を示す。

 R 5 の具体例としては、-CH 2 -、-CH 2 CH 2 -、-CH(CH 3 )-、
-CH 2 CH 2 CH 2 -、-C(CH 3 ) 2 -、-CH(CH 2 CH 3 )-、
-CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -、-CH(CH 2 CH 2 CH 3 )-、-CH 2 (CH 2 ) 3 CH 2 -、-CH(CH 2 CH(CH 3 ) 2 )-、等が挙げられる。

 R 7 の具体例としては、-CH 2 -、-CH 2 CH 2 -、-CH(CH 3 )-、-CH 2 CH 2 CH 2 -、-C(CH 3 ) 2 -、-CH(CH 2 CH 3 )-、-CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -、-CH(CH 2 CH 2 CH 3 )-、等が挙げられる。

 単量体(11)の具体例としては、2-(パーフル オロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2-( パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレー ト等が挙げられる。単量体(11)は1種を用いて よく、2種以上を併用してもよい。

 基(2)を有する単量体(a2)としては、下記単量 体(21)が好ましい。
 CH 2 =CR 8 COO-Z-(SiR 1 R 2 O) n -SiR 1 R 2 R 3  (21)
式(21)中、R 8 は水素原子またはメチル基を示し、Zは単結 または炭素数1~6の2価有機基を示し、R 1 、R 2 は独立に水素原子、アルキル基、シクロアル キル基、またはアリール基を示し、R 3 は水素原子または炭素数1~10の有機基を示し nは1~200の整数を示す。
 単量体(a21)においてR 1 、R 2 、R 3 、nの好ましい態様は、上記基(2)に関して説 したのと同様である。

 Zは炭素数1~6の2価炭化水素基が好ましい。 体例としては下記が挙げられる。
-CH 2 -、-CH 2 CH 2 -、-CH(CH 3 )-、
-CH 2 CH 2 CH 2 -、-C(CH 3 ) 2 -、-CH(CH 2 CH 3 )-、
-CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -、-CH(CH 2 CH 2 CH 3 )-、
-CH 2 (CH 2 ) 3 CH 2 -、-CH(CH 2 CH(CH 3 ) 2 )-等。
 上記単量体(21)は1種を用いてもよく、2種以 を併用してもよい。

 反応性基を有する単量体(a3)としては、水 酸基を有する単量体、エチレン性二重結合を 有する酸無水物単量体、カルボキシ基を有す る単量体、エポキシ基を有する単量体等が挙 げられる。なお、単量体(a3)は、基(1)および (2)を実質的に含まないことが好ましい。

 共重合した後の単量体(a3)の有する反応性 基が、当該反応性基と結合し得る官能基とエ チレン性二重結合とを有する化合物(z1)と反 することにより、エチレン性二重結合を有 る側鎖を有する重合体(A)が形成されること なる。

 水酸基を有する単量体の具体例としては 2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2- ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒ ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒ ロキシブチル(メタ)アクリレート、5-ヒドロ シペンチル(メタ)アクリレート、6-ヒドロキ シヘキシル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキ シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ネオペ ンチルグリコールモノ(メタ)アクリレート、3 -クロロ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ ート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、2 -ヒドロキシエチルビニルエーテル、4-ヒドロ キシブチルビニルエーテル、シクロヘキサン ジオールモノビニルエーテル、2-ヒドロキシ チルアリルエーテル、N-ヒドロキシメチル( タ)アクリルアミド、N,N-ビス(ヒドロキシメ ル)(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。

 さらに、水酸基を有する単量体としては、 端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖 有する単量体であってもよい。例えば、CH 2 =CHOCH 2 C 6 H 10 CH 2 O(C 2 H 4 O) k H(ここで、kは1~100の整数、以下同じ。)、CH 2 =CHOC 4 H 8 O(C 2 H 4 O) k H、CH 2 =CHCOOC 2 H 4 O(C 2 H 4 O) k H、CH 2 =C(CH 3 )COOC 2 H 4 O(C 2 H 4 O) k H、CH 2 =CHCOOC 2 H 4 O(C 2 H 4 O) m (C 3 H 6 O) j H(ここで、mは0~100の整数であり、jは1~100の整 であり、m+jは1~100である。以下同じ。)、CH 2 =C(CH 3 )COOC 2 H 4 O(C 2 H 4 O) m (C 3 H 6 O) j H等が挙げられる。

 エチレン性二重結合を有する酸無水物単量 の具体例としては、無水マレイン酸、無水 タコン酸、無水シトラコン酸、無水メチル- 5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸、無水3,4,5,6- テトラヒドロフタル酸、無水cis-1,2,3,6-テトラ ヒドロフタル酸、2-ブテン-1-イルサクシニッ アンハイドライド等が挙げられる。
 カルボキシ基を有する単量体の具体例とし は、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢 、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、 マル酸、ケイ皮酸、もしくはそれらの塩が げられる。
 エポキシ基を有する単量体の具体例として 、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4-エポ シシクロヘキシルメチルアクリレートが挙 られる。

 重合体(A)が酸性基を有する側鎖を有する場 は、単量体(a1)~(a3)とともに酸性基を有する 量体(a4)を共重合させることが好ましい。
 酸性基を有する単量体(a4)としては、カルボ キシ基を有する単量体、フェノール性水酸基 を有する単量体、スルホン酸基を有する単量 体等が挙げられる。酸性基を有する単量体(a4 )としてカルボキシ基を有する単量体を用い 上記反応性基を有する単量体(a3)としてもカ ボキシ基を有する単量体を用いるときは、 終的にエチレン性二重結合が導入されず、 ルボキシ基として残るものを単量体(a4)とみ なすこととする。

 フェノール性水酸基を有する単量体とし は、o-ヒドロキシスチレン、m-ヒドロキシス チレン、p-ヒドロキシスチレン等が挙げられ 。またこれらのベンゼン環の1個以上の水素 原子が、メチル基、エチル基、n-ブチル基等 アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、n- トキシ基等のアルコキシ基、ハロゲン原子 アルキル基の1個以上の水素原子がハロゲン 子に置換されたハロアルキル基、ニトロ基 シアノ基、アミド基に置換された化合物等 挙げられる。

 スルホン酸基を有する単量体としては、 ニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、(メ タ)アリルスルホン酸、2-ヒドロキシ-3-(メタ) リルオキシプロパンスルホン酸、(メタ)ア リル酸-2-スルホエチル、(メタ)アクリル酸-2- スルホプロピル、2-ヒドロキシ-3-(メタ)アク ロキシプロパンスルホン酸、2-(メタ)アクリ アミド-2-メチルプロパンスルホン酸が挙げ れる。

 本発明における重合に用いる単量体には 基(1)を有する単量体(a1)、基(2)を有する単量 体(a2)、反応性基を有する単量体(a3)、および 性基を有する単量体(a4)以外のその他の単量 体(a5)が含まれていてもよい。

 その他の単量体(a5)としては、炭化水素系 オレフィン類、ビニルエーテル類、イソプロ ペニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニ ルエステル類、アリルエステル類、(メタ)ア リル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド 、芳香族ビニル化合物、クロロオレフィン 、共役ジエン類が挙げられる。これらの化 物には、官能基が含まれていても良く、官 基としては、例えば、カルボニル基、アル キシ基等が挙げられる。特に、隔壁の耐熱 に優れることから、(メタ)アクリル酸エステ ル類または(メタ)アクリルアミド類が好まし 。

 重合体(A)は、例えば、以下の方法によっ 合成できる。まず、単量体を溶媒に溶解し 加熱し、重合開始剤を加えて共重合させる 共重合反応においては、必要に応じて連鎖 動剤を存在させるのが好ましい。単量体、 合開始剤、溶媒および連鎖移動剤は連続し 添加しても良い。

 前記溶媒としては、例えばエタノール、1 -プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノー 、エチレングリコール等のアルコール類;ア セトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ キサノン等のケトン類;2-メトキシエタノール 、2-エトキシエタノール、2-ブトキシエタノ ル等のセルソルブ類;2-(2-メトキシエトキシ) タノール、2-(2-エトキシエトキシ)エタノー 、2-(2-ブトキシエトキシ)エタノール等のカ ビトール類;メチルアセテート、エチルアセ テート、n-ブチルアセテート、エチルラクテ ト、n-ブチルラクテート、エチレングリコ ルモノメチルエーテルアセテート、エチレ グリコールモノエチルエーテルアセテート エチレングリコールモノブチルエーテルア テート、ジエチレングリコールモノメチル ーテルアセテート、ジエチレングリコール ノエチルエーテルアセテート、ジエチレン リコールモノブチルエーテルアセテート、 ロピレングリコールモノメチルエーテルア テート、エチレングリコールジアセテート プロピレングリコールジアセテート、エチ -3-エトキシプロピオネート、シクロヘキサ ールアセテート、乳酸ブチル、γ-ブチロラ トン、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート 、乳酸エチル、乳酸n-ブチル、γ-ブチロラク ン、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル -3-メトキシブチルアセテート、グリセリント リアセテート等のエステル類;ジエチレング コールジメチルエーテル、ジエチレングリ ールジエチルエーテル、ジエチレングリコ ルジブチルエーテル、トリエチレングリコ ルジメチルエーテル、テトラエチレングリ ールジメチルエーテル、プロピレングリコ ルジメチルエーテル、ジプロピレングリコ ルジメチルエーテル、ジブチルエーテル、 エチレングリコールメチルエチルエーテル が挙げられる。

 重合開始剤としては、公知の有機過酸化 、無機過酸化物、アゾ化合物等が挙げられ 。有機過酸化物、無機過酸化物は、還元剤 組み合わせて、レドックス系触媒として使 することもできる。

 有機過酸化物としては、ベンゾイルパー キシド、ラウロイルパーオキシド、イソブ リルパーオキシド、t-ブチルヒドロパーオ シド、t-ブチル-α-クミルパーオキシド等が げられる。無機過酸化物としては、過硫酸 ンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カ ウム、過酸化水素、過炭酸塩等が挙げられ 。アゾ化合物としては、2,2’-アゾビスイソ チロニトリル、1,1’-アゾビス(シクロヘキ ン-1-カルボニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジ チルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(4-メ キシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-ア ビスイソ酪酸ジメチル、2,2’-アゾビス(2-ア ミジノプロパン)二塩酸塩等が挙げられる。

 連鎖移動剤としては、n-ブチルメルカプ ン、n-ドデシルメルカプタン、t-ブチルメル プタン、チオグリコール酸エチル、チオグ コール酸2-エチルヘキシル、2-メルカプトエ タノール等のメルカプタン類;クロロホルム 四塩化炭素、四臭化炭素等のハロゲン化ア キルが挙げられる。

 上記のようにして得られた共重合体と、 応性基と結合し得る官能基とエチレン性二 結合とを有する化合物(z1)とを反応させるこ とにより重合体(A)が得られる。

 反応性基に対する、当該反応性基と結合し る官能基とエチレン性二重結合とを有する 合物(z1)との組み合わせとして、例えば以下 の組み合わせが挙げられる。
(1)水酸基に対し、エチレン性二重結合を有す る酸無水物、
(2)水酸基に対し、イソシアネート基とエチレ ン性二重結合を有する化合物、
(3)水酸基に対し、塩化アシル基とエチレン性 二重結合を有する化合物、
(4)酸無水物に対し、水酸基とエチレン性二重 結合を有する化合物、
(5)カルボキシ基に対し、エポキシ基とエチレ ン性二重結合を有する化合物、
(6)エポキシ基に対し、カルボキシ基とエチレ ン性二重結合を有する化合物。

 エチレン性二重結合を有する酸無水物の具 例としては、上記した例が挙げられる。イ シアネート基とエチレン性二重結合を有す 化合物の具体例としては、2-(メタ)アクリロ イルオキシエチルイソシアネート、1,1-ビス(( メタ)アクリロイルオキシメチル)エチルイソ アネートが挙げられる。塩化アシル基とエ レン性二重結合を有する化合物の具体例と ては、(メタ)アクリロイルクロライドが挙 られる。水酸基とエチレン性二重結合を有 る化合物の具体例としては、上記した水酸 を有する単量体の例が挙げられる。エポキ 基とエチレン性二重結合を有する化合物の 体例としては、上記したエポキシ基を有す 単量体の例が挙げられる。カルボキシ基と チレン性二重結合を有する化合物の具体例 しては、上記したカルボキシ基を有する単 体の例が挙げられる。
 上記の組み合わせとしては、水酸基に対し 1,1-ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル) チルイソシアネートを用いることが特に好 しい。重合体(A)は側鎖1つにつきエチレン性 重結合を2つ以上有する側鎖を有することと なり、重合体(A)の隔壁表面への固定化が優れ 、撥液性に優れた隔壁が得られるからである 。

 共重合体と、反応性基と結合し得る官能基 エチレン性二重結合とを有する化合物(z1)を 反応させる際は、反応に用いる溶媒としては 、上記共重合体の合成において例示した溶媒 を使用できる。
 また、重合禁止剤を配合することが好まし 。重合禁止剤としては、例えば、2,6-ジ-t-ブ チル-p-クレゾールが挙げられる。
 また、触媒や中和剤を加えてもよい。例え 、水酸基を有する共重合体と、イソシアネ ト基とエチレン性二重結合を有する化合物 反応させる場合、錫化合物等を用いること できる。水酸基を有する共重合体と、塩化 シル基とエチレン性二重結合を有する化合 を反応させる場合、塩基性触媒を用いるこ ができる。

 共重合させる単量体全質量に対する各単 体の好ましい割合は以下のとおりである。 (1)を有する単量体(a1)または基(2)を有する単 量体(a2)の割合は20~80質量%が好ましく、30~60質 量%がより好ましい。該割合が高いほど、本 明の重合体(A)は形成される塗膜硬化物から る隔壁の表面張力を下げる効果に優れ、隔 に高い撥液性を付与する。一方、該割合が すぎると、隔壁と基材との密着性が低くな おそれがある。反応性基を有する単量体(a3) 割合は20~70質量%が好ましく、30~50質量%がよ 好ましい。この範囲であると重合体(A)の隔 への固定化および現像性が良好となる。酸 基を有する単量体(a4)の割合は2~20質量%が好 しく、4~12質量%がより好ましい。この範囲 あると露光工程で固定化されなかった残存 子が現像工程において隔壁から洗い流され すい。その他の単量体(a5)の割合は70質量%以 が好ましく、50質量%以下がより好ましい。 の範囲であるとアルカリ溶解性、現像性が 好である。

 共重合体と化合物(z1)とは、[化合物(z1)の 能基]/[共重合体の反応性基]の当量比の値が 0.5~2.0となるように仕込むことが好ましい。 量比が高いほど、重合体(A)の隔壁への固定 が良好となる。一方、当量比が高すぎると 未反応の化合物(z1)である不純物が多くなり 塗膜外観が悪化する。より好ましくは、0.8~ 1.5である。なお、反応性基を有する単量体(a3 )と酸性基を有する単量体(a4)の両方としてカ ボキシ基を有する単量体を使用する場合は 重合体(A)の酸価が所定の値となるように、 重合体と化合物(z1)の仕込み量を調節すれば よい。

 重合体(A)が基(1)を有する場合、重合体(A) フッ素原子の含有率は5~35質量%が好ましい 含有率が高いほど、重合体(A)は隔壁の表面 力を下げる効果に優れ、撥液性に優れた隔 が得られる。一方、含有率が高すぎると、 壁と基材との密着性が低くなるおそれがあ 。重合体(A)におけるフッ素原子の含有率は 下限は10質量%がより好ましく、上限は30質量 %であることがより好ましい。

 重合体(A)が基(2)を有する場合、重合体(A) ケイ素原子の含有率は0.1~25質量%が好ましい 。含有率が高いほど、重合体(A)は形成される 隔壁の表面張力を下げる効果およびインク転 落性を上げる効果を付与する。一方、含有率 が高すぎると、隔壁と基材との密着性が低く なるおそれがある。重合体(A)におけるケイ素 原子の含有率は、下限は0.5質量%がより好ま く、上限は10質量%がより好ましい。

 重合体(A)中のエチレン性二重結合の量は、1 .0×10 -3 ~5.0×10 -3 mol/gが好ましい。より好ましくは2.5×10 -3 ~4.5×10 -3 mol/gである。この範囲であると重合体(A)の隔 への固定化および現像性が良好となる。

 重合体(A)の酸価は100(mgKOH/g)以下が好まし 、10~50(mgKOH/g)がより好ましい。この範囲で ると露光工程で固定化されなかった残存分 が現像工程において隔壁から洗い流されや い。なお、酸価は樹脂1gを中和するのに必要 な水酸化カリウムの質量(単位mg)であり、本 細書においては単位をmgKOH/gと記載する。

 重合体(A)の数平均分子量は、1500以上50000 満が好ましく、3000以上30000未満がより好ま い。この範囲であるとアルカリ溶解性、現 性が良好である。

 本発明の感光性組成物の全固形分におけ 重合体(A)の割合は0.01~30質量%が好ましい。 割合が高いと、形成される隔壁の表面張力 下げる効果に優れ、撥液性に優れた隔壁が られる。一方、該割合が高すぎると、隔壁 基材との密着性が低くなるおそれがある。 成物の全固形分における重合体(A)の割合は 下限は0.05質量%がより好ましく、上限は20質 %がより好ましい。

 本発明における重合体(A)は、基(1)を有す 側鎖と基(2)を有する側鎖の両方を1分子内に 有していてもよい。また本発明の感光性組成 物は、基(1)を有する側鎖を有する重合体(A)と 、基(2)を有する側鎖を有する重合体(A)の両方 を含んでいてもよい。これらの場合、感光性 組成物は、高い撥液性とインク転落性を発現 できる。

 本発明の感光性組成物は黒色着色剤(B)を む。組成物の全固形分に対する黒色着色剤( B)の割合は15~60質量%である。15質量%未満であ と、得られる隔壁は光学濃度が不足する。6 0質量%超であると硬化性が悪化し、塗膜の外 も悪化し、撥液性も低下する。好ましくは2 0~50質量%であり、より好ましくは25~40質量%で る。

 黒色着色剤(B)は、例えばカーボンブラッ 、アニリンブラック、アントラキノン系黒 顔料、ペリレン系黒色顔料、具体的には、C .I.ピグメントブラック1、6、7、12、20、31等が 挙げられる。黒色着色剤(B)としては、赤色顔 料、青色顔料、緑色顔料等の有機顔料や無機 顔料の混合物を用いることもできる。黒色着 色剤(B)は、価格、遮光性の大きさからカーボ ンブラックであるのが好ましい。カーボンブ ラックは樹脂などで表面処理されていてもよ い。また、色調を調整するため、青色顔料や 紫色顔料を併用することができる。

 カーボンブラックとしては、ブラックマト ックスの形状の観点から、BET法による比表 積が50~200m 2 /gであるものが好ましい。比表面積が50m 2 /g未満のカーボンブラックを用いる場合には ブラックマトリックス形状の劣化を引き起 し、200m 2 /gより大きいカーボンブラックを用いる場合 は、カーボンブラックに分散助剤が過度に 着してしまい、諸物性を発現させるために 多量の分散助剤を配合する必要が生じるた である。

 また、カーボンブラックとしては、感度の から、フタル酸ジブチルの吸油量が120cc/100g 以下のものが好ましく、少ないものほどより 好ましい。
 さらに、カーボンブラックの透過型電子顕 鏡観察による平均1次粒子径は、20~50nmであ ことが好ましい。平均1次粒子径が小さすぎ と、高濃度に分散させることが困難になる それがあり、経時安定性の良好な感光性黒 組成物が得られ難く、平均1次粒子径が大き すぎると、ブラックマトリックス形状の劣化 を招くことがあるためである。好ましい平均 2次粒子径の範囲は、80~200nmである。

 黒色着色剤(B)の感光性組成物における分散 を向上するために、高分子分散剤を含有さ ることが好ましい。高分子分散剤は、黒色 色剤(B)への親和性の点から、塩基性官能基 有することが好ましい。塩基性官能基とし 、1級、2級もしくは3級アミノ基を有すると 特に分散性に優れる。高分子の種類として 、ウレタン系、ポリイミド系、アルキッド 、エポキシ系、ポリエステル系、メラミン 、フェノール系、アクリル系、ポリエーテ 系、塩化ビニル系、塩化ビニル酢酸ビニル 共重合体系、ポリアミド系、ポリカーボネ ト系等が挙げられる。これらの中でも特に レタン系またはポリエステル系が好ましい また分子中にエチレンオキサイドまたはプ ピレンオキサイドから誘導される重合単位 含んでいてもよい。
 塩基性官能基を有する高分子分散剤の市販 としては、ディスパロンDA-7301(楠本化成社 );BYK161、BYK162、BYK163、BYK182(BYK-Chemie社製);ソ スパーズ5000、ソルスパーズ17000(ゼネカ社製) 等が挙げられる。
 塩基性官能基を有する高分子分散剤の添加 は、黒色着色剤(B)に対して5~30重量%が好ま く、10~25重量%がより好ましい。添加量が少 すぎると分散能力が低下する傾向があり、 た、添加量が多すぎると現像性が低下しや くなる。

 本発明の感光性組成物は下記式(3)で表さ る化合物である光重合開始剤(C)を含む。た し、式中の記号は前記した意味と同じ意味 ある。

 上記化合物において、好ましい置換基を以 に示す。
R 1 :炭素数1~10のアルキル基、または、ベンゼン 中の水素原子がアルキル基に置換されてい もよい炭素数6~12のフェニル基が好ましく、 例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ チル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル 基、オクチル基、ノニル基、デシル基、フェ ニル基等が挙げられる。炭素数1~4の基がより 好ましく、炭素数1~2の基がさらに好ましく、 メチル基が特に好ましい。
R 2 :炭素数1~10のアルキル基、または、炭素数2~5 アルコキシカルボニル基が好ましく、例え メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル 、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、 クチル基、ノニル基、デシル基、メトキシ ルボニル基、エトキシカルボニル基、プロ キシカルボニル基等が挙げられる。炭素数1 ~6の基がより好ましく、炭素数1~3の基がさら 好ましく、メチル基が特に好ましい。
R 3 :炭素数1~8のアルキル基が好ましく、例えば チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基 ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オ チル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル 、ドデシル基等が挙げられる。炭素数2~6の がより好ましく、エチル基が特に好ましい
R 4 、R 6 、R 7 :水素原子が好ましい。
R 5 :ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置 されていてもよい炭素数7~20のベンゾイル基 たはベンゼン環中の水素原子がアルキル基 置換されていてもよい炭素数7~20のベンジル カルボニル基が好ましく、2-メチルベンゾイ 基、ベンジルカルボニル基または1,3,5トリ チルベンジルカルボニル基がより好ましい

 上記式(3)で表される化合物である、O-アシ オキシム系化合物の具体例としては、
R 1 :フェニル基、R 2 :オクチル基、R 3 :エチル基、R 4 、R 6 、R 7 :水素原子、R 5 :ベンゾイル基である式(3)で表される化合物
R 1 :メチル基、R 2 :オクチル基、R 3 :エチル基、R 4 、R 6 、R 7 :水素原子、R 5 :ベンゾイル基である式(3)で表される化合物
R 1 :メチル基、R 2 :ブチル基、R 3 :エチル基、R 4 、R 6 、R 7 :水素原子、R 5 :ベンゾイル基である式(3)で表される化合物
R 1 :メチル基、R 2 :ヘプチル基、R 3 :エチル基、R 4 、R 6 、R 7 :水素原子、R 5 :ベンゾイル基である式(3)で表される化合物
R 1 :フェニル基、R 2 :オクチル基、R 3 :エチル基、R 4 、R 6 、R 7 :水素原子、R 5 :2-メチルベンゾイル基である式(3)で表される 化合物、
R 1 :メチル基、R 2 :オクチル基、R 3 :エチル基、R 4 、R 6 、R 7 :水素原子、R 5 :2-メチルベンゾイル基である式(3)で表される 化合物、
R 1 :メチル基、R 2 :メチル基、R 3 :エチル基、R 4 、R 6 、R 7 :水素原子、R 5 :2-メチルベンゾイル基である式(3)で表される 化合物、
R 1 :メチル基、R 2 :メチル基、R 3 :エチル基、R 4 、R 6 、R 7 :水素原子、R 5 :2-メチル-4-テトラヒドロピラニルメトキシベ ンゾイル基である式(3)で表される化合物、
R 1 :メチル基、R 2 :メチル基、R 3 :エチル基、R 4 、R 6 、R 7 :水素原子、R 5 :2-メチル-5-テトラヒドロフラニルメトキシベ ンゾイル基である式(3)で表される化合物、
R 1 :メチル基、R 2 :メチル基、R 3 :エチル基、R 4 、R 6 、R 7 :水素原子、R 5 :2-メチル-5-テトラヒドロピラニルメトキシベ ンゾイル基である式(3)で表される化合物、等 を挙げることができる。

 2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メル カプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベ ゾチアゾール、1,4-ブタノールビス(3-メルカ プトブチレート)、トリス(2-メルカプトプロ ノイルオキシエチル)イソシアヌレート、ペ タエリスリトールテトラキス(3-メルカプト チレート)などのチオール化合物はラジカル 開始剤と共に用いられて、増感効果を発現す ることがある。

 感光性組成物の全固形分における光重合 始剤(C)の割合は、1~10質量%が好ましく、2~5 量%がより好ましい。当該範囲であると硬化 が良好で、露光工程、現像工程でマスクパ ーンに近いパターンや線幅を形成すること できる。

 本発明の感光性組成物は、1分子内に酸性 基とエチレン性二重結合とを有する感光性樹 脂(D)を含むことが好ましい。感光性樹脂(D)が 酸性基を有することにより未露光部はアルカ リ現像液にて除去される。また、エチレン性 二重結合を有することにより、露光部はアル カリ現像液にて除去されない。したがって隔 壁を形成することができる。感光性樹脂(D)は 実質的に基(1)または基(2)を含有しないことが 好ましい。

 酸性基としては、カルボキシ基、フェノ ル性水酸基、スルホン酸基およびリン酸基 らなる群から選ばれる1以上の酸性基が挙げ られる。エチレン性二重結合としては、例え ば、(メタ)アクリロイル基、アリル基、ビニ 基、ビニルエーテル基等の付加重合性の不 和基等が挙げられる。それらの基の水素原 の一部またはすべてが、炭化水素基により 換されていてもよい。炭化水素基としては メチル基が好ましい。

 感光性樹脂(D)の例としては、エチレン性 重結合を有する単量体の共重合体であって 酸性基を有する側鎖とエチレン性二重結合 有する側鎖とを有する重合体(D1)、エポキシ 樹脂にエチレン性二重結合と酸性基とを導入 した樹脂(D2)が挙げられる。

 上記重合体(D1)は、基(1)を有する単量体(a1 )や基(2)を有する単量体(a2)を使用しない以外 、上記重合体(A)と同様の方法で製造するこ ができる。リン酸基を有するエチレン性不 和単量体としては、2-(メタ)アクリロイルオ キシエタンリン酸が挙げられる。

 上記樹脂(D2)としては、エポキシ樹脂と、 カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する 化合物との反応物に、さらに多塩基性カルボ ン酸またはその無水物を反応させて得られる 化合物が好ましい。

 樹脂(D2)の製造に用いられるエポキシ樹脂と しては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、 スフェノールF型エポキシ樹脂、フェノール ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボ ック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメ ン型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有す エポキシ樹脂、下記式(D21)で表されるビフ ニル骨格を有するエポキシ樹脂(ただし、sは 1~50を示し、2~10が好ましい。)、下記式(D22)で されるエポキシ樹脂(ただし、R 7 、R 8 、R 9 、R 10 は独立に水素原子、塩素原子または炭素数1~5 のアルキル基のいずれかを示し、tは0~10を示 。)が挙げられる。

 エポキシ樹脂に、カルボキシ基とエチレ 性二重結合を有する化合物を反応させるこ により、エポキシ樹脂にエチレン性二重結 が導入される。ついで、これに多塩基性カ ボン酸またはその無水物を反応させること より、酸性基としてカルボキシ基を導入す ことができる。特に式(D22)で表されるエポ シ樹脂にカルボキシ基とエチレン性二重結 を有する化合物を反応させた後に、多塩基 カルボン酸無水物を反応させる場合は、ジ ルボン酸無水物およびテトラカルボン酸二 水物の混合物を反応させるのが好ましい。 カルボン酸無水物とテトラカルボン酸二無 物の比率を変化させることにより分子量を 御できるからである。

 エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重 合を導入した樹脂(D2)の市販品としては、KAY ARAD PCR-1069、K-48C、CCR-1105、CCR-1115、CCR-1163H、C CR-1166H、CCR-1159H、TCR-1025、TCR-1064H、TCR-1286H、ZA R-1535H、ZFR-1122H、ZFR-1124H、ZFR-1185H、ZFR-1492H、ZC R-1571H、ZCR1569H、ZCR-1580H、ZCR1581H、ZCR1588H(以上 日本化薬社製)等が挙げられる。

 感光性樹脂(D)は、1分子内に3個以上のエチ ン性二重結合を有することが好ましく、1分 内に6個以上のエチレン性二重結合を有する ことがより好ましい。これにより、露光部分 と未露光部分とのアルカリ溶解度に差がつき やすく、より少ない露光量での微細なパター ン形成が可能となる。
 感光性樹脂(D)の酸価は、10~300mgKOH/gが好まし く、30~150mgKOH/gがより好ましい。当該範囲で ると感光性組成物の現像性が良好である。
 感光性樹脂(D)の数平均分子量は、500以上2000 0未満が好ましく、2000以上15000未満がより好 しい。この範囲であるとアルカリ溶解性、 像性が良好である。
 感光性組成物の全固形分に対する感光性樹 (D)の割合は、5~80質量%が好ましく、10~60質量 %がより好ましい。当該範囲であると感光性 成物の現像性が良好である。

 感光性組成物は、2個以上のエチレン性二 重結合を有し、かつ酸性基を有しないラジカ ル架橋剤(E)を含むことが好ましい。これによ り、さらに感光性組成物の光硬化性が向上し 、低露光量での隔壁形成が促進される。

 ラジカル架橋剤(E)の具体例としては、ジ チレングリコールジ(メタ)アクリレート、 トラエチレングリコールジ(メタ)アクリレー ト、トリプロピレングリコールジ(メタ)アク レート、ネオペンチルグリコールジ(メタ) クリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)ア リレート、トリメチロールプロパントリ(メ )アクリレート、ペンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール トラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロー プロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペン タエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレー 、ウレタンアクリレート等が挙げられる。 れらは1種を用いてもよく、2種以上を併用 てもよい。

 感光性組成物の全固形分におけるラジカ 架橋剤(E)の割合は、10~60質量%が好ましく、1 5~50質量%がより好ましい。当該範囲であると 光性組成物のアルカリ現像性が良好となる

 本発明の感光性組成物は、必要に応じて 粒子を含んでいてもよい。微粒子としては 各種無機系、有機系の微粒子が使用可能で るが、塩基性高分子分散剤を吸着能の点か 、マイナスに帯電しているものが好ましく いられる。また、感度の点から、露光工程 おいて照射される光の波長に対して吸収を たないものが好ましく、特に超高圧水銀灯 主発光波長であるi線(365nm)、h線(405nm)、g線(4 36nm)に吸収を持たないものがより好ましく用 られる。

 無機系微粒子としては、シリカ、ジルコニ 、フッ化マグネシウム、ITO、ATO等を用いる とができる。有機系微粒子としては、ポリ チレン、PMMA等を用いることができる。
 微粒子としては、耐熱性の観点から無機系 粒子が好ましく、更に入手しやすさや分散 定性の観点からシリカまたはジルコニアが ましい。これらの平均粒子径は形成された 壁表面の平滑性の点から1μm以下であること が好ましく、より好ましくは200nm以下である

 感光性組成物の全固形分における微粒子 割合は、3~20質量%が好ましく、5~15質量%がよ り好ましい。更に好ましくは、7質量%以上10 量%未満である。含有量が少なすぎるとポス ベークによる撥液性の低下抑制効果が少な 、含有量が多すぎると組成物の液の安定性 低下するため好ましくない。

 本発明の感光性組成物は、必要に応じてシ ンカップリング剤を含んでいてもよい。シ ンカップリング剤を使用すると組成物から 成される塗膜硬化物の基材密着性が向上す 。
 シランカップリング剤の具体例としては、 トラエトキシシラン、3-グリシドキシプロ ルトリメトキシシラン、メチルトリメトキ シラン、ビニルトリメトキシシラン、3-メタ クリロイルオキシプロピルトリメトキシシラ ン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3 -メルカプトプロピルトリメトキシシラン、 プタデカフルオロオクチルエチルトリメト シシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリ メトキシシラン、ポリオキシアルキレン鎖含 有トリエトキシシラン、イミダゾールシラン 等が挙げられる。これらは1種を用いてもよ 、2種以上を併用してもよい。

 本発明の感光性組成物は、必要に応じ熱硬 剤を含んでいてもよい。これにより、隔壁 耐熱性、耐透水性を向上しうる。
 熱硬化剤としては、例えば、アミノ樹脂、2 個以上のエポキシ基を有する化合物、2個以 のヒドラジノ基を有する化合物、ポリカル ジイミド化合物、2個以上のオキサゾリン基 有する化合物、2個以上のアジリジン基を有 する化合物、多価金属類、2個以上のメルカ ト基を有する化合物、ポリイソシアネート 合物等が挙げられる。
 上記の熱硬化剤のうち、アミノ樹脂、2個以 上のエポキシ基を有する化合物または2個以 のオキサゾリン基を有する化合物が特に好 しい。形成された隔壁の耐薬品性が向上す からである。

 本発明の感光性組成物においては、必要 応じて硬化促進剤、増粘剤、可塑剤、消泡 、レベリング剤、ハジキ防止剤、紫外線吸 剤等を使用することができる。

 本発明の感光性組成物は、希釈剤を添加し 基材に塗布することが好ましい。
 希釈剤としては、重合体(A)の説明で例示し 各種の単量体を反応性希釈性として用いる とができる。また、重合体(A)を合成すると に使用する溶媒の説明で例示した溶媒を用 ることができる。その他には、n-ブタン、n- ヘキサン等の鎖式炭化水素、シクロヘキサン 等の環式飽和炭化水素、トルエン、キシレン 、ベンジルアルコール等の芳香族炭化水素等 が挙げられる。これらは1種を用いてもよい 、2種以上を併用してもよい。

 以下、本発明の感光性組成物を使用したフ トリソグラフィ工程を述べる。
 (塗布工程)まず、基材に本発明の組成物を 布する。基材としては、その材質は特に限 されるものではないが、例えば、各種ガラ 板;SiC基板、シリコン等の無機基板;ITO等の無 機酸化物基板、ポリエステル(ポリエチレン レフタレート等)、ポリオレフィン(ポリエチ レン、ポリプロピレン等)、ポリカーボネー 、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホ 、ポリイミド、ポリ(メタ)アクリル樹脂等の 熱可塑性プラスチックシート;エポキシ樹脂 不飽和ポリエステル等の熱硬化性樹脂の硬 シート等を挙げることができる。ガラス板 に有機膜またはTFT、ITO、SiO 2 等の無機酸化物膜が単独で形成された基板ま たはパターニングされた基板、それらの基板 を積層した基板でもよい。特に、耐熱性の点 からガラス板、ポリイミド等の耐熱性プラス チックが好ましく用いられる。またポスト露 光を、隔壁が形成されていない裏面(基材側) ら行うこともあるため、透明基板であるこ が好ましい。
 塗膜の形成方法としては、スピンコート法 スプレー法、スリットコート法、ロールコ ト法、回転塗布法、バー塗布法などが挙げ れる。
 塗膜の厚さは、基材の材質、用途にもよる 、好ましくは0.3~300μm、より好ましくは1~60μ mである。

 (乾燥工程)次に、塗膜を乾燥する。乾燥 ることによって、希釈剤が揮発し、粘着性 ない塗膜が得られる。真空乾燥や加熱乾燥 行うことが好ましい。また塗膜外観のムラ 発生させず、効率よく乾燥させるために、 空乾燥と加熱乾燥を併用することがより好 しい。乾燥条件は、各成分の種類、配合割 などによっても異なるが、好ましくは真空 燥は10~500Pa(絶対圧)、10~300秒間程度、加熱乾 は50~120℃、10~2000秒間程度の幅広い範囲で使 用できる。

 (露光工程)次に、乾燥した塗膜の一部に所 パターンのマスクを介して露光を行う。照 する光としては、可視光、紫外線、遠紫外 、KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザ 、F 2 エキシマレーザー、Kr 2 エキシマレーザー、KrArエキシマレーザー、Ar 2 エキシマレーザー等のエキシマレーザー、X 、電子線等が挙げられる。波長100~600nmの光 が好ましく、300~500nmの範囲に分布を有する 磁波がより好ましく、300~500nmの範囲に分布 有する電磁波がより好ましく、i線(365nm)、h (405nm)、g線(436nm)が特に好ましい。
 照射装置として、公知の超高圧水銀灯等を いることができる。露光量は、フィルタ等 より350nm以下の電磁波をカットした場合のi 基準で、好ましくは5~1000mJ/cm 2 の範囲であり、より好ましくは10~400mJ/cm 2 であり、さらに好ましくは20~200mJ/cm 2 であり、特に好ましくは50~100mJ/cm 2 である。露光量が低すぎると、隔壁の硬化が 不十分で、その後の現像で溶解や剥離が起こ るおそれがある。露光量が高すぎると高い解 像度が得られなくなる傾向にある。

 (現像工程)露光工程の後、現像液により現 し、未露光部分を除去する。現像液として 、例えば無機アルカリ類、アミン類、アル ールアミン類、第4級アンモニウム塩等のア カリ類を含むアルカリ水溶液を用いること できる。
 現像時間(現像液に接触させる時間)は、5~180 秒間が好ましい。また現像方法は液盛り法、 ディッピング法、シャワー法などのいずれで もよい。現像後、流水洗浄を行い、圧縮空気 や圧縮窒素で風乾させることによって、基材 上の水分を除去できる。

 (ポスト露光工程)次に必要に応じポスト露 を行ってもよい。ポスト露光は隔壁が形成 れている表面、または隔壁が形成されてい い裏面(基材側)のいずれから行ってもよい。 また、表裏両面から露光してもよい。好まし い露光量としては、50mJ/cm 2 以上であり、より好ましくは200mJ/cm 2 以上であり、さらに好ましくは1000mJ/cm 2 以上であり、特に好ましくは2000mJ/cm 2 以上である。

 照射する光としては、紫外線が好ましく 光源として、公知の超高圧水銀灯または高 水銀灯等を用いることができる。これらの 源は隔壁の硬化に寄与する600nm以下の光を 光し、かつ、隔壁の酸化分解の原因となる20 0nm以下の光の発光が少ないため、好ましく用 いられる。さらに水銀灯に用いられている石 英管ガラスが200nm以下の光をカットする光学 ィルター機能を有することが好ましい。

 また光源として低圧水銀灯を用いることも きる。ただし、低圧水銀灯は200nm以下の波 の発光強度も高く、オゾンの生成により隔 の酸化分解が起こり易いため、多量の露光 行うことは好ましくない。露光量は500mJ/cm 2 以下であることが好ましく、300mJ/cm 2 以下がさらに好ましい。

 (ポストベーク工程)続いて、隔壁を加熱す ことが好ましい。ホットプレート、オーブ などの加熱装置により、好ましくは150~250℃ 、5~90分間加熱処理をすることによって、隔 壁および隔壁で区分された領域(ドット)とか なるパターンが形成される。加熱温度は180 以上がより好ましい。加熱温度が低すぎる 隔壁の硬化が不十分であるために、充分な 薬品性が得られず、その後のインクジェッ 塗布工程でインクを塗布した場合に、その ンクに含まれる溶媒により隔壁が膨潤した 、インクが滲んでしまうおそれがある。一 、加熱温度が高すぎると、隔壁の熱分解が こるおそれがある。
 上記のようなフォトリソグラフィ工程を経 ことによって、隔壁が得られる。本発明の 成物の硬化物からなる隔壁は黒色を呈する め、本発明の隔壁はブラックマトリックス 構成することができる。すなわち、隔壁を 成することにより、ブラックマトリックス 形成されることとなる。

 本発明の感光性組成物は、隔壁の幅の平 が、好ましくは100μm以下、より好ましくは2 0μm以下のパターン形成に用いることができ 。また、隣接する隔壁間の距離(ドットの幅) の平均が、好ましくは300μm以下、より好まし くは100μm以下のパターン形成に用いることが できる。また、隔壁の高さの平均が、好まし くは0.05~50μm、より好ましくは0.2~10μm、特に ましくは0.5~3μmのパターン形成に用いること ができる。

 感光性組成物から形成される塗膜硬化物 撥水撥油性は、水およびプロピレングリコ ル1-モノメチルエーテル2-アセテート(以下 PGMEAともいう。)の接触角で見積もることが き、水の接触角は90度以上が好ましく、95度 上がより好ましい。また、PGMEAの接触角は20 度以上が好ましく、25度以上がより好ましい 塗膜硬化物の撥水撥油性は、水の接触角が9 0度以上であり、かつPGMEAの接触角が20度以上 あるのが特に好ましい。

 [カラーフィルタの製造]
 上記のようにブラックマトリックスを形成 た後、ブラックマトリックスで区分された 域内に、インクジェット法によりインクを 入して画素を形成し、カラーフィルタを製 できる。

 このような画素の形成に用いられるインク ェット装置としては、特に限定されるもの はないが、帯電したインクを連続的に噴射 磁場によって制御する方法、圧電素子を用 て間欠的にインクを噴射する方法、インク 加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射す 方法等の各種の方法を用いたインクジェッ 装置を用いることができる。
 画素の形状は、ストライプ型、モザイク型 トライアングル型、4画素配置型等の公知の いずれの配列とすることも可能である。

 画素の形成に用いられるインクは、主に着 成分とバインダー樹脂成分と溶剤とを含む 着色成分としては、耐熱性、耐光性などに れた顔料および染料を用いることが好まし 。バインダー樹脂成分としては、透明で耐 性に優れた樹脂が好ましく、アクリル樹脂 メラミン樹脂、ウレタン樹脂などが挙げら る。水性のインクは、溶剤として水および 要に応じて水溶性有機溶媒を含み、バイン ー樹脂成分として水溶性樹脂または水分散 樹脂を含み、必要に応じて各種助剤を含む また、油性のインクは、溶剤として有機溶 を含み、バインダー樹脂成分として有機溶 に可溶な樹脂を含みし、必要に応じて各種 剤を含む。
 またインクジェット法によりインクを注入 た後、必要により、乾燥、加熱硬化、紫外 硬化を行うことが好ましい。

 画素形成後、必要に応じて、保護膜層を形 する。保護膜層は表面平坦性を上げる目的 ブラックマトリックスや画素部のインクか の溶出物が液晶層に到達するのを遮断する 的で形成される。保護膜層を形成する場合 、事前にブラックマトリックスの撥液性を 去することが好ましい。撥液性を除去しな 場合、オーバーコート用塗布液をはじき、 一な膜厚が得られないため好ましくない。 ラックマトリックスの撥液性を除去する方 としては、プラズマアッシング処理や光ア シング処理等が挙げられる。
 さらに必要に応じて、カラーフィルタを用 て製造される液晶パネルの高品位化のため フォトスペーサーをブラックマトリックス に形成することが好ましい。

 [有機EL表示素子の製造]
 上記のようにブラックマトリックスを形成 た後、ブラックマトリックスで区分された 域内に、インクジェット法によりインクを 入して画素を形成し、有機EL表示素子を製 できる。
 ブラックマトリックスを形成する前に、ガ ス等の透明基材に酸化インジウム錫(ITO)等 透明電極をスパッタ法等によって製膜し、 要に応じて所望のパターンに透明電極をエ チングする。次に、本発明のブラックマト ックスを形成する。その後、インクジェッ 法を用いてドットに正孔輸送材料、発光材 の溶液を順次塗布、乾燥して、正孔輸送層 発光層を形成する。その後アルミニウム等 電極を蒸着法等によって形成することによ て、有機EL表示素子の画素が得られる。

 以下に、実施例(例5~10)および比較例(例11、1 2)に基づき、本発明について説明するが、本 明はこれらに限定されない。以下において 特に断らない限り、部は質量基準である。
 数平均分子量は、ゲルパーミエーションク マトグラフィー法により、ポリスチレンを 準物質として測定した。
 含フッ素重合体(A)中のフッ素原子の含有量 、1,4-ジトリフルオロメチルベンゼンを標準 物質として、 19 F NMR測定により算出した。含フッ素重合体(A) 中のエチレン性二重結合の量は、1,4-ジトリ ルオロメチルベンゼンを標準物質として、 1 H NMR測定により算出した。
 酸価(mgKOH/g)および1分子中のエチレン性二重 結合の数は、原料である単量体の配合割合か ら算出した理論値である。

 以下の各例において用いた化合物の略号を に示す。
 X-174DX:ジメチルシリコーン鎖含有メタクリ ート(信越化学工業社製、商品名X-22-174DX)、
 X-8201:ジメチルシリコーン鎖含有メタクリレ ート(信越化学工業社製、商品名X-24-8201)、
 C6FMA:CH 2 =C(CH 3 )COOCH 2 CH 2 (CF 2 ) 6 F、
 AA:アクリル酸、
 MAA:メタクリル酸、
 2-HEMA:2-ヒドロキシエチルメタクリレート、
 IBMA:イソボルニルメタクリレート、
 V-70:2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチル レロニトリル)(和光純薬社製、商品名V-70)、
 2-ME:2-メルカプトエタノール、
 AOI:2-アクリロイルオキシエチルイソシアネ ト(昭和電工社製、商品名カレンズAOI)、
 BEI:1,1-ビス(アクリロイルオキシメチル)エチ ルイソシアネート(昭和電工社製、商品名カ ンズBEI)、
 DBTDL:ジブチル錫ジラウレート、
 BHT:2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール、
 MEK:2-ブタノン、
 OXE02:エタノン 1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾ イル)-9H-カルバゾイル-3-イル]-1-(O-アセチルオ キシム)(式(3)で表される化合物において、R 1 :メチル基、R 2 :メチル基、R 3 :エチル基、R 4 、R 6 、R 7 :水素原子、R 5 :2-メチルベンゾイル基で示される。チバスペ シャルティケミカルズ社製、商品名OXE02)、
 BD1:1,4-ブタノールビス(3-メルカプトブチレ ト)(昭和電工社製、商品名カレンズMT BD1)、
 BOT:2-メルカプトベンゾオキサゾール、
 IR369:2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モル ォリノフェニル)-ブタノン-1(チバ-ガイギー 製、商品名IRGACURE-369)、
 DETX-S:イソプロピルチオキサンソン(日本化 社製、商品名DETX-S)。

 EX1010:上記式(D22)で表されるエポキシ樹脂に チレン性二重結合と酸性基とを導入した樹 (ナガセケムテックス社製、商品名EX-1010、 形分70質量%)、
 ZCR1569:上記式(D21)で表されるビフェニル骨格 を有するエポキシ樹脂にエチレン性二重結合 と酸性基とを導入した樹脂(日本化薬社製、 品名ZCR-1569、固形分70質量%)、
 ZCR1588:ナフタレン骨格を有するエポキシ樹 にエチレン性二重結合と酸性基とを導入し 樹脂(日本化薬社製、商品名ZCR-1588、固形分70 質量%)、
 R565:アクリル重合体系、エチレン性二重結 と酸性基とを導入した樹脂(大阪有機化学工 社製、商品名ビスコートR-565、固形分70質量 %)、
 A9300:エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリ ート(新中村化学工業社製、商品名NKエステ  A-9300)、
 UX5001:多官能ウレタンアクリレートオリゴマ ー(日本化薬社製、商品名KAYARAD UX-5001T)、
 PGMEA:プロピレングリコール1-モノメチルエ テル2-アセテート、
 CB:カーボンブラック分散液(平均2次粒径=120n m、プロピレングリコールモノメチルエーテ アセテート溶液、カーボンブラック分20質量 %、アミン価18mgKOH/gのポリウレタン系高分子 散剤5質量%)、
 シリカ:シリカ分散液(平均粒径=20nm、プロピ レングリコールモノメチルエーテルアセテー ト溶液、シリカ分30質量%、マイナス帯電)。

 [例1]重合体(A-1)の合成
 (共重合) 撹拌機を備えた内容積1Lのオート レーブに、MEK(420.0g)、X-174DX(5.4g)、AA(18.0g)、2 -HEMA(99.0g)、IBMA(57.6g)、連鎖移動剤2-ME(2.5g)およ び重合開始剤V-70(7.9g)を仕込み、窒素雰囲気 に撹拌しながら、30℃で24時間重合させ、共 合体1の溶液を得た。得られた共重合体1のME K溶液にヘプタンを加え再沈精製し、真空乾 し、共重合体1の152.0gを得た。数平均分子量 4000であった。

 (エチレン性二重結合の導入) 温度計、撹拌 機、加熱装置を備えた内容量300mLのガラス製 ラスコに、共重合体1(40.0g)、BEI(42.0g)、DBTDL(0 .17g)、BHT(2.1g)およびMEK(115.4g)を仕込み、撹拌 ながら、40℃で48時間反応させ、重合体(A-1) 溶液を得た。得られた重合体(A-1)のMEK溶液に ヘプタンを加え再沈精製し、真空乾燥し、重 合体(A-1)の65.6gを得た。数平均分子量は6400で った。重合体(A-1)の赤外分光分析を行った ころ、アクリロイル基のC=C伸縮振動に由来 る吸収帯(1635cm -1 )、アクリロイル基のCH 2 面内変角振動に由来する吸収帯(1409cm -1 )、およびアクリロイル基のCH 2 面外変角振動に由来する吸収帯(810cm -1 )が存在すること、またBEIのNCO伸縮振動に由 する吸収帯(2274cm -1 )が消失していたことから、重合体(A-1)中にア クリロイル基が存在することが確認された。

 [例2~4]重合体(A-2)~(A-4)の合成
 共重合体1の合成において、原料の配合を表 1のように変更した他は同様の共重合反応に り、共重合体2、3を得た。次に、重合体(A-1) 合成において、原料の配合を表2のように変 更した他は同様の反応により、重合体(A-2)~(A- 4)を得た。得られた重合体の数平均分子量、 合体におけるケイ素原子の含有量、フッ素 子の含有量、エチレン性二重結合の量(C=C量 、×10 -3 mol/g)、酸価(mgKOH/g)を表2に示した。

 [例5~12]感光性組成物の調製、隔壁の形成と 価
 表3および表4に示す割合(質量部)で、重合体 (A)、黒色着色剤(B)、光重合開始剤(C)、感光性 樹脂(D)、ラジカル架橋剤(E)、微粒子、希釈剤 を配合して感光性組成物を得た。
 ガラス基板上にスピンナーを用いて、感光 組成物を塗布した後、100℃で2分間ホットプ レート上で乾燥させ、膜厚2.0μmの塗膜を形成 した。次に、マスク(光透過部100μm×200μm、遮 光部20μmの格子状パターン)を通して、塗膜に 超高圧水銀灯により表3および表4に示す所定 光量を照射した。

 次いで、未露光部分を無機アルカリタイプ 像液(横浜油脂工業社製、商品名セミクリー ンDL-A4の10倍希釈水溶液)に浸漬して現像し、 露光部を水により洗い流し、乾燥させた。
 次いで、ホットプレート上、220℃で1時間加 熱することにより、パターンが形成されたガ ラス基板(1)を得た。また、上記のマスクを用 いずに露光した以外は上記と同様にして、塗 膜硬化物が形成されたガラス基板(2)を得た。 これらについて、現像性、基材密着性、撥水 撥油性、隔壁インク残渣を以下に示す方法で 測定、評価した。評価結果を表3および表4に す。

 [現像性]
 上記ガラス基板(1)について、完全に現像で たものを○、現像されない部分があったも を×と記載した。
 [基材密着性]
 上記ガラス基板(2)について、JIS K 5400記載 碁盤目テープ法により評価した。塗膜硬化 をカッターにて、2mm間隔でます目の数が25 となるように、碁盤目状に傷を付けた。次 粘着テープを貼り、剥がした。目視により ます目が剥がれなかったものを○、ます目 殆ど剥がれたものを×として塗膜硬化物の付 着状態を評価した。

 [撥水撥油性]
 撥水撥油性は、上記ガラス基板(2)の塗膜硬 物表面の水およびPGMEAの接触角(度)により評 価した。接触角とは、固体と液体が接触する 点における液体表面に対する接線と固体表面 がなす角で、液体を含む方の角度で定義した 。この角度が大きいほど塗膜硬化物の撥水撥 油性が優れることを意味する。水の接触角95 以上を○、90度以上95度未満を△、90度未満 ×と表記した。PGMEAの接触角25度以上を○、2 0度以上25度未満を△、20度未満を×と表記し 。なお、表3および表4では、(水の接触角)/(PG MEAの接触角)=○/○のように表記した。

 [隔壁インク残渣]
 上記ガラス基板(1)について、インクジェッ にてポリ3,4-エチレンジオキシチオフェンと ポリスチレンスルホン酸塩の1%溶液(水/エタ ール=75/25)を、隔壁である格子部分(20μm)に約 70pL滴下し、格子部分に残留するインク残渣 関して評価した。超深度形状測定顕微鏡VK-85 00(キーエンス社製)による写真を見て、格子 分に残留するインク残渣がなかった場合を 、格子部分に残留するインク残渣があった 合を×と評価した。

 例11、12は、式(3)で表される化合物である光 重合開始剤を有していないため、露光量が100 mJ/cm 2 、200mJ/cm 2 では撥液性が劣り、隔壁インク残渣が多い。

 本発明の感光性組成物から、低露光量の露 であっても、高い光学濃度を有し、撥液性 有する隔壁が得られる。例えば、インクジ ット記録技術法を利用したカラーフィルタ 造用、有機EL表示素子製造用として、隔壁 形成に好適に用いられる。
 
 なお、2007年5月29日に出願された日本特許出 願2007-142104号の明細書、特許請求の範囲及び 約書の全内容をここに引用し、本発明の明 書の開示として、取り入れるものである。