1.(A)成分
 (A)成分は、エポキシ化合物に由来する骨格� ��有しカルボキシル基およびラジカル重合性� ��を備える化合物である。
 (A)成分としては、種々の化合物が使用でき� ��好ましい具体例としては、例えばエポキシ� ��合物(エポキシ樹脂)と不飽和モノカルボン� �を反応させ水酸基を有する化合物を製造し� �この水酸基を有する化合物の水酸基の一部� �は全部に、飽和又は不飽和多塩基酸無水物(� ��下単に多塩基酸無水物という)を付加させた 反応物等が挙げられる。

 その場合に用いられるエポキシ樹脂の例と� ��ては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビ スフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノ� �ルS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック� ��エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エ� ��キシ樹脂およびポリフェノール型エポキシ� ��脂等が挙げられる。
 不飽和モノカルボン酸の例としては、アク� ��ル酸、メタクリル酸、クロトン酸およびケ� ��皮酸等がある。
 多塩基酸無水物としては、無水マレイン酸� ��無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタ� ��酸、テトラヒドロ無水フタル酸および無水� ��リメリット酸等がある。

 水酸基を有する化合物に対する多塩基酸無� ��物の反応割合は特に限定されるものではな� ��が、水酸基を有する化合物の水酸基1モルに 対し、多塩基酸無水物を好ましくは0.1~1.0モ� �、更に好ましくは0.2~0.9モルである。この割� ��が0.1モル未満の場合はアルカリ液への溶解� ��が不十分となるため、感光性組成物のアル� ��リ現像性が低下することがある。一方、こ� ��割合が1.0モルを越えると、未反応の多塩基� ��無水物が残ることになり、未反応の多塩基� ��無水物が結晶化する恐れがあり、或いは多� ��の場合、残留する水酸基と未反応の多塩基� ��無水物の反応が保存中に起こるため、組成� ��の保存安定性が低下する恐れがある。
 (A)成分は、上記した中でも、解像性と硬化� ��の柔軟性が優れるものとなるため、カルボ� ��シル基を有するビスフェノール型のエポキ� ��(メタ)アクリレートであることが好ましい� �エポキシ(メタ)アクリレートとは、エポキシ 化合物に(メタ)アクリル酸が付加反応されて� ��られる構造を有する化合物である。

2.(B)成分
 (B)成分は、ウレタン(メタ)アクリレート化� �物である。
 (B)成分としては各種市販品も使用できるし� ��例えばポリオールと多価イソシアネートと� ��酸基含有(メタ)アクリレートとの反応物等� �挙げられる。
 (B)成分は、上記した中でも、硬化物の絶縁� ��頼性に優れるものとなるため、ポリカーボ� ��ートポリオール骨格を有するウレタン(メタ )アクリレートであることが好ましい。

 ポリカーボネートポリオール骨格を有する� ��レタン(メタ)アクリレートとしては各種市� �品も使用できるし、例えばポリカーボネー� �ポリオールと多価イソシアネートと水酸基� �有(メタ)アクリレートとの反応物等も使用で きる。
 ポリカーボネートポリオールの例としては� ��アルキレン基、アルキル基、芳香族系炭化� ��素基、シクロパラフィン系炭化水素基等を� ��する炭酸エステルとアルキレン基、アルキ� ��基、芳香族系炭化水素基、シクロパラフィ� ��系炭化水素基等を有するポリオールを反応� ��せることによって得られるポリカーボネー� ��ポリオールが挙げられる。
 炭酸エステルの好ましい具体例は、ジメチ� ��カーボネート,ジエチルカーボネート,ジフ� �ニルカーボネート,エチレンカーボネート,プ ロピレンカーボネートおよびジシクロヘキシ ルカーボネート等である。
 また、ポリオールの好ましい具体例は、1,6- ヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジメ� �ノール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、1,5- ペンタンジオール、ポリオキシエチレンジオ ール、ポリオキシプロピレンジオール、ポリ オキシブチレンジオール、ポリカプロラクト ンジオール、トリメチルヘキサンジオール、 および1,4-ブタンジオール等である。
 これら、炭酸エステルおよびポリオールと� ��て、1種、或いは分子量又は組成の異なる2� �以上を併用しても良い。
 好ましい多価イソシアネートとしては、ト� ��レンジイソシアネート、ジフェニルメタン� ��イソシアネート、イソホロンジイソシアネ� ��ト、ヘキサメチレンジイソシアネートおよ� ��水添ジフェニルメタンジイソシアネート等� ��ある。
 好ましい水酸基含有(メタ)アクリレートと� �ては、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート およびヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー� ��等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレー� �がある。

 (B)成分としては、上記した中でも、硬化物� ��耐水性および絶縁信頼性に優れるものとな� ��ため、カルボキシル基を有しないウレタン( メタ)アクリレートが好ましい。
 好ましい(B)成分、すなわちカルボキシル基� ��有しないウレタン(メタ)アクリレートにお� �て、質量平均分子量は、好ましくは2,000~50,00 0であり、より好ましくは5,000~20,000である。� �量平均分子量が2,000未満であると、硬化物の 柔軟性が不十分となる場合があり、一方、50, 000を越えると解像度が低下するため好ましく ない。

 (A)成分、(B)成分の好ましい配合割合は、( A)成分と(B)成分の合計を100質量部として、(A)� ��分が20~90質量部となる範囲である。20質量部 未満の場合はアルカリ水溶液による現像性が 十分ではなく、90質量部を越える場合は硬化� ��の柔軟性が十分でなく好ましくない。更に� ��ましい範囲は、40~80質量部である。

3.(C)成分
 (C)成分は、ラジカル重合性基を有する(A)お� ��び(B)以外の重合性化合物である。
 (C)成分が有するラジカル重合性基としては� ��ジカル重合性の炭素-炭素二重結合が好まし いものであり、アクリロイル基、メタクリロ イル基、アリル基またはビニル基等が特に好 ましいものとして挙げられる。
 ラジカル重合性基を1個有する重合性化合物 (C)の具体例としては、メチル(メタ)アクリレ� ��ト、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘ キシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチ� ��(メタ)アクリレートおよびヒドロキシプロ� �ル(メタ)アクリレート等の単官能(メタ)アク� ��レート;スチレン等のビニル基を有する化合 物;並びにアリルフェノール等のアリル基を� �する化合物等が挙げられる。

 ラジカル重合性基を2個有する重合性化合 物(C)の具体例としては、1,3-ブタンジオール� �(メタ)アクリレート、ジエチレングリコール ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ� ��ルジ(メタ)アクリレートおよびポリプロピ� �ングリコールジ(メタ)アクリレート等のジ(� �タ)アクリレート;ジビニルベンゼン等のビニ ル化合物;並びにジアリルフタレート等のア� �ル化合物等が挙げられる。

 ラジカル重合性基を3個以上有する重合性 化合物(C)の具体例としては、トリメチロール プロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエ� ��スルトールトリ(メタ)アクリレート、ジペ� �タエリスルトールヘキサ(メタ)アクリレート およびトリアリルイソシアヌーレート等が挙 げられる。

 (C)成分としては、硬化物が高い絶縁信頼� ��を有するものとなるため、ラジカル重合性� ��を3個以上有する化合物を使用することが好 ましい。(メタ)アクリロイル基を1分子中に3� �以上有する化合物がより好ましい。

 (C)成分の好ましい配合割合は、(A)成分お� ��び(B)成分の合計100質量部に対して5~50質量部 、特に5~20質量部となる範囲である。この割� �が5質量部未満の場合は、硬化物の架橋密度� ��不十分となりはんだ耐熱性や絶縁信頼性が� ��下することがあり、50質量部を越える場合� �硬化物の柔軟性が低下することがある。

4.(D)成分
 (D)成分は、リン原子を含むフィラーである� ��本発明においてフィラーとは感光性組成物� ��で溶解することなく分散される、常温(10~30� ��)で固体のものを意味する。成分(D)は組成物 に難燃性を付与するための成分である。
 難燃成分としてリン原子を含むフィラーの� ��うに組成物中の樹脂成分、有機溶剤等に相� ��しない微粒子を用いる事により、樹脂[成分 (A)、(B)、(C)]に由来する組成物または硬化物� �物性、特に感光性や現像液に対する溶解性� �の悪影響を小さくでき、レジストとして用� �たときに高い解像性を発現可能となる。さ� �にリン原子を含むことで無機水酸化物のよ� �なフィラーと比較して低配合量で高い難燃� �が得られる。
 リン原子を含むフィラーの具体例としては� ��ホスフィン酸塩化合物、ジエチルホスフィ� ��酸塩化合物、ジブチルホスフィン酸塩化合� ��、ジヒドロキシメチル酸塩化合物、ポリリ� ��酸アンモニウム、ポリリン酸メラミン、リ� ��酸グアニジン等が挙げられる。

 (D)成分としては、感光性組成物が高い解像� ��を有し、硬化物が高い難燃性および絶縁信� ��性を有するものとなるため、リンのオキソ� ��の金属塩が好ましく、ホスフィン酸類の金� ��塩がより好ましい。本発明においてホスフ� ��ン酸類とは、ホスフィン酸およびホスフィ� ��酸のリン原子に結合する水素原子の1個また は2個がアルキル基、アリール基またはハロ� �ン原子により置換された化合物を合わせた� �合物群を意味する。上記アルキル基および� �リール基は水酸基、アルコキシル基などの� �換基を有していてもよい。
 ホスフィン酸類の例としては、ホスフィン� ��、フェニルホスフィン酸、ジフェニルホス� ��ィン酸、メチルホスフィン酸、ジメチルホ� ��フィン酸、エチルホスフィン酸、ジエチル� ��スフィン酸、ブチルホスフィン酸、ジブチ� ��ホスフィン酸、フェニルクロロホスフィン� ��、ジヒドロキシメチルホスフィン酸などが� ��げられる。
 リンのオキソ酸の例としては、上記ホスフ� ��ン酸類のほか、ホスホン酸、ジホスホン酸� ��リン酸、ピロリン酸、メタリン酸、ペルオ� ��ソ一リン酸、ペルオキソ二リン酸、二リン� ��、ジチオリン酸、フェニルホスホン酸、メ� ��ルホスホン酸、エチルホスホン酸、ヒドロ� ��シメチルホスホン酸等が挙げられる。
 また、金属塩を構成する元素としてはナト� ��ウム等のアルカリ金属、マグネシウム等の� ��ルカリ土類金属、周期表13族に属するアル� �ニウム等の金属元素、および周期表8族に属� ��る鉄等の遷移金属元素などが挙げられ、金� ��塩としては特にアルミニウム塩が高い解像� ��を有する組成物、および高い難燃性、絶縁� ��頼性を有する硬化物となりやすいため好ま� ��い。ホスフィン酸アルミニウム塩は最も好� ��しいものである。

 (D)成分としては、平均粒子径が0.5~15μm、� ��に1~5μmであるものが好ましい。平均粒子径� ��15μmを越えると柔軟性等を悪化させる場合� �ある。また、特に膜厚が50μm以下の薄膜の感 光性ドライフィルムとして用いたときにフィ ルムの表面状態を悪化させる場合がある。一 方、平均粒子径が0.5μm未満であるとリン原子 を含むフィラーの嵩比重が小さくなることか ら、リン原子を含むフィラーを他の成分に分 散させることが困難になる場合がある。

 (D)成分の配合量は、(A)成分、(B)成分およ� ��(C)成分の合計100質量部を基準として1~150質� �部が好ましく、10~100質量部がより好ましい� �1質量部未満であると難燃性向上効果が不十� ��となる場合があり、一方、150質量部を越え� ��と硬化物の柔軟性や絶縁信頼性等の物性を� ��下させることがある。

5.(E)成分
 (E)成分は、光重合開始剤である。
 (E)成分は、紫外線等の照射によりラジカル� ��合を開始させることが出来るものであり、� ��体的には、ベンゾイン、ベンゾインメチル� ��ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン� ��インイソプロピルエーテル等のベンゾイン� ��よびベンゾインアルキルエーテル類;アセト フェノン、2,2-ジメトキシ-2-アセトフェノン� �2,2-ジエトキシ-2-アセトフェノン、1,1-ジクロ ロアセトフェノン等のアセトフェノン類;2-メ チルアントラキノン、2-エチルアントラキノ� ��、2-ターシャリーブチルアントラキノン、1- クロロアントラキノン、2-アミルアントラキ� ��ン等のアントラキノン類;チオキサントン、 2-クロルチオキサントン、2-アルキルチオチ� �キサントン、2,4-ジアルキルチオキサントン� ��のチオキサントン類;ベンゾフェノン、4-ク� ��ルベンゾフェノン、4,4'-ジクロルベンゾフ� �ノン、4,4'-ビスジメチルアミノベンゾフェノ ン等のベンゾフェノン類等が挙げられる。
 (E)成分の配合量は、(A)成分、(B)成分および( C)成分の合計を100質量部として、0.5~10質量部� ��特に1~5質量部が好ましい。0.5質量部未満で� ��反応が十分開始されず、露光により得られ� ��塗膜の機械的強度が弱くなり、現像工程に� ��いて硬化塗膜が剥離したりパターンが蛇行� ��ることがある。一方、10質量部を越えると� �光時に使われなかった光重合開始剤が多量� �塗膜中に残り、硬化塗膜の耐熱性等の物性� �低下させることがある。

 本発明においては、上記の(E)成分と共に増� ��剤を併用するのが好ましい。
 増感剤としては、N,N-ジメチルアミノ安息香 酸エチルエステル、N,N-ジメチルアミノ安息� �酸イソアミルエステル、トリエチルアミン� �ジエチルチオキサントンおよびトリエタノ� �ルアミン等が挙げられる。増感剤は市販さ� �ており、例えば、新日曹化工社製の商品名� �ニッソキュアEPA、EMA、IAMA」等、日本化薬社� ��の商品名「カヤキュアEPA、DETX、DMBI」等、� �阪有機社製の商品名「DABA」等がある。
 これら増感剤の配合量は、(A)成分、(B)成分� ��よび(C)成分の合計を100質量部として、0.5~10� ��量部が好ましい。0.5質量部未満では紫外線� ��による硬化の反応速度が十分に向上しない� ��とがあり、10質量部を越えると反応が速く� �り感光性組成物の保存安定性を悪化させる� �とがある。

6.(F)成分
 本発明の感光性組成物は、リン原子を含む� ��ィラー(D)以外のリン化合物(F)が添加された� ��のであってもよい。当該化合物は、リン原� ��を含むフィラー(D)と異なり、組成物中に溶� ��して存在するリン化合物である。
 (F)成分も難燃性向上を目的として配合され� ��難燃性付与を担う必須成分である(D)成分と� ��相乗作用により、より効果的に組成物の難� ��性を高める働きをする。
 (F)成分の例としては、トリフェニルフォス� ��ェート、トリクレジルフォスフェート、ト� ��キシレニルフォスフェート、トリエチルフ� ��スフェート、クレジルフェニルフォスフェ� ��ト、キシリルジフェニルフォスフェート等� ��リン酸エステル類、レゾルシノールビス(ジ フェニル)フォスフェート、ビスフェノールA� ��ス(ジフェニル)フォスフェート、ビスフェ� �ールAビス(ジクレジル)フォスフェート、レ� �ルシノールビス(ジ2,6キシレニル)フォスフェ ート等の縮合型リン酸エステル類、およびプ ロポキシフォスファゼン、フェノキシフォス ファゼン、アミノフォスファゼン等のフォス ファゼン化合物等が挙げられる。

 特に好ましい(F)成分は、縮合型リン酸エ� ��テル類、フォスファゼン化合物である。

 (F)成分を添加する場合の配合量は、(A)成分� ��(B)成分および(C)成分の合計100質量部を基準� ��して、1~50質量部が好ましく、1~30質量部で� �ることがより好ましく、1~25質量部であるこ� ��が更に好ましい。1質量部未満であると添加 による難燃性向上効果が不十分であり、一方 、50質量部を越えると塗膜を露光現像により� ��ターン形成するときの解像性や硬化塗膜の� ��縁信頼性等の物性を低下させることがある� ��
 上記解像性や絶縁信頼性への悪影響を抑え� ��ため、(F)成分の配合量は、(D)成分の配合量� ��同量以下であることが好ましく、2/3以下で� ��ることがより好ましく、1/2以下であること� ��更に好ましい。

7.(G)成分
 本発明の感光性組成物は、加熱によりラジ� ��ルを発生する熱重合開始剤(G)が添加された� ��のであってもよい。
 (G)成分としては、例えば、有機過酸化物、� ��ゾビス構造を有する開始剤などが挙げられ� ��。分解開始温度が高いために保存安定性が� ��い点と、分解した時に低分子量の揮発成分� ��発生が少ない点から、ジアルキルパーオキ� ��イドが好ましく、具体的にはジクミルパー� ��キサイド、t-ブチルクミルパーオキサイド� �2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキ� ��ンおよび2,5-ジメチル-2,5-(t-ブチルパーオキ� ��)ヘキシン等が挙げられる。
 また、(G)成分を添加する場合の配合量は、( A)成分、(B)成分および(C)成分の合計100質量部� ��基準として0.5~10質量部が好ましい。0.5質量� ��未満では添加効果が不十分となり、10質量� �を越えると組成物の保存安定性が悪化しや� �くなると共に開始剤の分解物の量が多く発� �するために硬化物の耐熱性が損なわれる恐� �がある。

 本発明の感光性組成物は、エポキシ基を� ��する化合物(以下、エポキシ化合物という)� �実質的に含まないものであることが好まし� �。組成物がエポキシ化合物を含有すると組� �物の保存安定性が悪くなる場合があり、使� �が制限される。

 但し、高度な保存安定性が要求されず、硬� ��物の耐熱性および耐薬品性をさらに向上さ� ��る必要がある場合には、必要に応じて感光� ��組成物にエポキシ化合物が添加されてもよ� ��。この場合は、使用前に混合する二液型の� ��成物としての利用が推奨される。
 エポキシ化合物の具体例としては、クレゾ� ��ルノボラックエポキシ樹脂、フェノールノ� ��ラックエポキシ樹脂、イソシアヌール酸骨� ��を有するエポキシ樹脂およびビスフェノー� ��A型エポキシ樹脂等が挙げられる。
 エポキシ化合物としては、2個以上のエポキ シ基を有する化合物が好ましい。
 エポキシ化合物を使用する場合には、通常� ��アミン系硬化剤、酸系硬化剤および酸無水� ��系硬化剤等を併用することが好ましい。

8.感光性組成物
 本発明の感光性組成物は、前記必須成分(A)~ (E)成分、および必要に応じて(F)、(G)成分、そ の他の成分を、常法に従い撹拌・混合するこ とにより製造することができる。

 本発明の感光性組成物の使用方法として� ��、コーティング剤、接着剤またはレジスト� ��として使用する場合は、例えば、基材に組� ��物を塗布した後、活性エネルギー線を照射� ��、その後、加熱する方法等が挙げられる。

 基材としてはポリカーボネート、ポリメ� ��ルメタクリレートおよびポリ塩化ビニル等� ��成形樹脂加工品(プラスチック)、金属、ガ� �ス、セラミックス、コンクリート、自然の� �材および合成木材等の木材、石材並びに紙� �が挙げられる。

 活性エネルギーとしては、電子線、紫外線� ��よび可視光線が挙げられる。可視光線およ� ��紫外線を照射する場合の光源としては、使� ��する光重合開始剤に応じて適宜選択すれば� ��く、高圧水銀ランプおよびメタルハライド� ��ンプ等を挙げることができる。活性エネル� ��ー照射条件等は、使用する成分および目的� ��応じて適宜設定すれば良い。
 前記加熱における、加熱方法および条件は� ��法に従えば良い。

 本発明の感光性組成物は種々の用途に使用� ��能である。具体的には、塗料等のコーティ� ��グ剤、インキ、レジストおよび成形材等が� ��げられ、レジストとして好ましく使用でき� ��特にソルダーレジストとしてより好ましく� ��用できる。
 以下、本発明の組成物をレジストとして使� ��する場合について説明する。

 本発明の感光性組成物をレジストとして� ��いる場合、レジストに通常配合される、無� ��充填剤、レベリング剤、消泡剤、顔料およ� ��イオン捕捉剤等の添加剤が必要に応じて添� ��されてもよい。無機充填剤としては、タル� ��、クレー、無機水酸化物およびシリカ等が� ��げられる。顔料としては、フタロシアニン� ��ルー、フタロシアニングリーンおよびカー� ��ンブラック等が挙げられる。これらの配合� ��は、組成物の解像性および保存安定性、硬� ��物の耐熱性、柔軟性および電気絶縁性など� ��性能を損なわない範囲で調整される。

 本発明の感光性組成物をレジストとして� ��用する場合、液状レジストの形態でもドラ� ��フィルムレジストの形態でも使用すること� ��できる。

 液状レジストとして使用する場合には、� ��要に応じて本発明の感光性組成物に高沸点� ��剤を添加すると良い。その場合に用いられ� ��高沸点溶剤の例としては、エチルセロソル� ��、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール� ��エチルセロソルブアセテート、ブチルセロ� ��ルブアセテート、エチルカルビトールアセ� ��ートおよびブチルカルビトールアセテート� ��が挙げられる。

 本発明の感光性組成物を液状レジストと� ��て使用する場合の使用方法としては、基材� ��組成物を塗布又は印刷し、加熱により塗膜� ��乾燥させ、これに紫外線などの活性エネル� ��ー線を照射し、さらに加熱する方法等が挙� ��られる。

 基材に組成物を塗布する場合の塗布装置と� ��ては、スピンコーター、ロールコーターお� ��びカーテンコーター等が挙げられる。膜厚� ��しては、目的に応じて適宜設定すれば良い� ��、1~100μm、特に5~50μmが好ましい。
 基材としては、シリコン、アルミニウム、� ��、ニッケルおよび銅等の金属;ガラス;ポリ� �チレンテレフタレート、ポリイミドおよび� �リカーボネート等のプラスチックなどの基� �;並びにガラスエポキシ基板等の複合基材な� ��が挙げられる。

 レジストをプリント配線板上に形成する� ��には、銅表面を研磨後、銅箔表面に酸化皮� ��が形成されない内に、レジストを形成する� ��、より高い密着性が得られるので好ましい� ��また、銅表面酸化処理や粗面処理を行ない� ��凸を形成した後にレジストを形成すれば更� ��密着性が良くなる。

 感光性組成物が溶剤を含む場合、組成物� ��塗布又は印刷した後、加熱により組成物中� ��溶剤を蒸発させる。この場合の加熱装置と� ��ては、オーブンおよびホットプレート等が� ��げられる。加熱条件としては、使用する組� ��物の種類および目的に応じて適宜設定すれ� ��良く、好ましい加熱温度としては、70℃~120� ��、好ましい加熱時間としては、5~30分である 。

 前記で得られた塗膜上に、特定パターンを� ��成したフォトマスク等を通じて活性エネル� ��ー線を照射する。
 組成物の硬化に使用する活性エネルギー線� ��しては、電子線および紫外線等が挙げられ� ��安価な装置を使用できることから、紫外線� ��使用することが好ましい。
 活性エネルギー線の照射条件としては、常� ��に従えば良い。照射条件としては、使用す� ��感光性組成物の種類および目的に応じて適� ��設定すれば良く、好ましくは10~5,000mJ/cm ² 、より好ましくは50~500mJ/cm ² である。

 前記活性エネルギー線の照射の後、未硬化� ��分をアルカリ現像する。
 現像で使用する希アルカリ水溶液としては� ��使用する感光性組成物の種類および目的に� ��じて適宜選択すれば良い。例えば、0.5~2%炭� ��ソーダ水溶液等が挙げられる。
 現像条件としては、使用する感光性組成物� ��種類および目的に応じて適宜設定すれば良� ��、現像温度としては、15~50℃、特に20~40℃が 好ましく、現像時間としては、15~180秒、特に 30~120秒が好ましい。

 本発明の感光性組成物は、ソルダーレジス� ��として、特にアルカリ現像タイプの写真法� ��ルダーレジストとして好ましく使用できる� ��
 この場合、活性エネルギー線を照射し、現� ��した後、更に諸物性向上のために、加熱又� ��活性エネルギー線照射により十分な硬化を� ��う事ができる。この加熱方法および条件と� ��ては、使用する組成物の種類および目的に� ��じて適宜設定すれば良く、加熱温度として� ��、100~250℃、特に130~230℃が好ましく、加熱� �間としては、5分~5時間、特に30分~2時間が好� ��しい。活性エネルギー線の照射条件として� ��、常法に従えば良い。照射条件としては、� ��用する組成物の種類および目的に応じて適� ��設定すれば良く、好ましくは10~5,000mJ/cm ² 、より好ましくは500~3,000mJ/cm ² である。

 本発明の感光性組成物をドライフィルムの� ��光層として使用する場合、ドライフィルム� ��製造方法としては、ポリエチレンテレフタ� ��ート等の支持フィルムに、本発明の組成物� ��塗布し、溶剤を加熱乾燥により除去した後� ��ポリプロピレン等のポリオレフィンフィル� ��などをカバーフィルムとして重ね合わせる� ��法等が挙げられる。組成物塗膜(レジスト層 )の厚さとしては、1~200μm、特に5~50μmが好ま� �い。
 この場合、使用する支持フィルムの塗工に� ��した溶剤を添加しても良い。組成物中の溶� ��は、フィルム塗工後に該組成物が重合しな� ��程度の加熱の温度と時間で揮発させる必要� ��ある。そのための溶剤例としては、メチル� ��チルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メ� ��ノールおよびエタノール等の比較的低沸点� ��ものが挙げられる。