本発明の感光性樹脂を構成する高分子化合� ��は、下記一般式(1)で表される化合物および� ��述する一般式(2)で表される化合物を反応さ� ��て得られるものである。

 式中、Yは-CO-、-SO ₂ -、-C(CF ₃ ) ₂ -、-Si(CH ₃ ) ₂ -、-CH ₂ -、-C(CH ₃ ) ₂ -、-O-、シクロヘキシル基、9,9-フルオレニル� ��又は直結合を示し、R ¹ 、R ² は独立に水素原子又はメチル基を示し、n、m� ��独立に0~4の数を示す。

 上記一般式(1)で表される化合物(以下、「 化合物(1)」ということがある)として、具体� �には、ビスフェノールA、エトキシ化ビスフ� ��ノールA、ビスフェノールF、エトキシ化ビ� �フェノールF、4,4’-ビフェノール、3,3’-ビ� �ェノール、エトキシ化4,4’-ビフェノール、� ��トキシ化3,3’-ビフェノール、1,1-ビス(4-ヒ� �ロキシフェニル)シクロヘキサン、エトキシ� ��1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキ� �ン、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン、エ� ��キシ化4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン、 ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン、エト� �シ化ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン、2 ,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオ� �プロパン、エトキシ化2,2-ビス(4-ヒドロキシ� ��ェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4-ヒ ドロキシフェニル)ジメチルシラン、エトキ� �化ビス(4-ヒドロキシフェニル)ジメチルシラ� ��、4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテル、 エトキシ化4,4’-ジヒドロキシジフェニル エ ーテル、9,9-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フル� ��レン、9,9-ビス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニ ル)フルオレン、9,9-ビス[4-(2-ヒドロキシエト� ��シ)フェニル]フルオレン等が例示でき、こ� �らの1種または2種以上を用いることができる 。これらの中でも一般式(1)中のYが9,9-フルオ� ��ニル基であるものが好ましい。具体的には9 ,9-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレン、9, 9-ビス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)フルオ レン、9,9-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェ� ��ル]フルオレンが好ましく、9,9-ビス[4-(2-ヒ� �ロキシエトキシ)フェニル]フルオレンが最も 好ましい。

 化合物(1)のうち、エトキシ化した化合物� ��合成法としては特に限定されるものでは無� ��、フェノール化合物にエチレンオキサイド� ��付加させて合成しても、該当するケトン類� ��るいはカルボン酸類にフェノキシエタノー� ��をフリーデル-クラフツ反応で付加させても 良いが、フェノキシエタノールを付加させる 方法がエチレングリコールの鎖長に分布が無 く、物性の設計がしやすいので好ましい。

 上記化合物(1)と反応させる化合物として、� ��記一般式(2)で表される化合物(以下、「化合 物(2)」ということがある)が用いられる。
(式中、Xは4価のカルボン酸残基を示す。)

 化合物(2)は酸二無水物であり、具体的に� ��、ブタンテトラカルボン酸二無水物、ペン� ��ンテトラカルボン酸二無水物、ヘキサンテ� ��ラカルボン酸二無水物、シクロブタンテト� ��カルボン酸二無水物、シクロペンタンテト� ��カルボン酸二無水物、シクロヘキサンテト� ��カルボン酸二無水物、シクロへプタンテト� ��カルボン酸二無水物、ノルボルナンテトラ� ��ルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水� ��、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水� ��、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、� ��フェニルエーテルテトラカルボン酸二無水� ��、5-(2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-フラニル)-3 -メチルー3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸� ��水物、4-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3- イル)-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1,2-ジカ ルボン酸無水物、ナフタレン-1,4,5,8-テトラカ ルボン酸二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイ� ��プロピリデン)ジフタル酸無水物、3,4,9,10-ペ リレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4� �-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無� ��物等が例示でき、これらの1種または2種以� �が用いられる。

 上化合物(1)に、化合物(2)を付加反応させ� ��本発明の感光性樹脂を構成する高分子化合� ��が得られる。この付加反応における、化合� ��(1)100モル部に対する化合物(2)の割合は110~200 モル部の範囲であることが好ましく、さらに 120~160モル部であることが好ましい。110モル� �未満の場合、感光性能に寄与するエチレン� �不飽和基を有するカルボン酸反応性化合物� �付加量を上げられず、十分な感光性能が得� �れない場合がある。一方、200モル部を超え� �場合、原料の溶解性が低いため合成が難し� �、かつ塗膜を形成するために必要な分子量� �得られない場合がある。

 上記化合物(1)と化合物(2)の付加反応にあ� ��っては触媒を使用しても良い。使用する触� ��は、反応を促進するものなら特に制限は無� ��が、一例として、ピリジン、キノリン、イ� ��ダゾール、N,N-ジメチルシクロヘキシルアミ ン、トリエチルアミン、N-メチルモルホリン� ��N-エチルモルホリン、トリエチレンジアミ� �、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジメチルベンジ ルアミン、トリス(N,N-ジメチルアミノメチル) フェノール、4-ジメチルアミノピリジン、1,8- ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデセン、1,5-ジア� ��ビシクロ[4,3,0]ノネン-5、等のアミン類、テ� ��ラメチルアンモニウムクロライド、テトラ� ��チルアンモニウムブロマイド、トリメチル� ��ンジルアンモニウムクロライド、テトラメ� ��ルアンモニウムヒドロキシド等の第4級アン モニウム化合物、トリブチルホスフィン、ト リフェニルホスフィン等およびそれらの混合 物が挙げられる。また、使用する触媒の量に も特に制限はないが、化合物(1)100質量部に対 して0.1~2.0質量部の範囲が好ましい。触媒の� �が2.0質量部よりも多すぎると感光性樹脂の� �気特性や保存安定性に悪影響が出る場合が� �る。

 また付加反応に際しては、反応原料の溶� ��、粘度低減等の目的で溶剤を使用しても良� ��。溶剤の種類は反応を阻害しないものなら� ��に制限は無いが、一例としては、エチレン� ��リコールジエチルエーテル、ジエチレング� ��コールジメチルエーテル等のグリコールエ� ��テル類、エチレングリコールモノエチルエ� ��テルアセテート、ジエチレングリコールモ� ��エチルエーテルアセテート、ジエチレング� ��コールモノブチルエーテルアセテート等の� ��リコールエーテルアセテート類、ジプロピ� ��ングリコールモノエチルエーテル、プロピ� ��ングリコールジメチルエーテル、ジプロピ� ��ングリコールジメチルエーテル、プロピレ� ��グリコールジエチルエーテル、ジプロピレ� ��グリコールジエチルエーテル等のプロピレ� ��グリコールエーテル類、プロピレングリコ� ��ルモノメチルエーテルアセテート、プロピ� ��ングリコールモノエチルエーテルアセテー� ��、ジプロピレングリコールモノメチルエー� ��ルアセテート、ジプロピレングリコールモ� ��エチルエーテルアセテート等のプロピレン� ��リコールエーテルアセテート類、アセトン� ��メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ� ��ン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸� ��チル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、ジ� ��チルスルホキシド、N-メチルピロリドン、� �メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ� �、およびそれらの混合物が挙げられる。

 使用する溶剤の量にも特に制限は無いが� ��化合物(1)および化合物(2)の合計100質量部に� ��し、25~150質量部の範囲が好ましい。25質量� �未満では粘度が十分に低減されない場合が� �る。一方、150質量部を超える場合、反応物� �濃度が下がりすぎ反応速度が低下する場合� �ある。

 上記化合物(1)および化合物(2)に、必要に� ��じ溶剤や触媒を添加して付加反応させるが� ��反応にあたっては加熱することが好ましく� ��加熱によって原料が溶解し、反応速度も加� ��される。加熱温度は化合物(1)および化合物( 2)の種類や使用する装置に応じて適宜設定す� ��ことができるが、おおむね60~220℃の範囲が� ��ましい。より好ましくは90~160℃の範囲であ� ��。反応温度が60℃よりも低いと、反応終了� �でに時間がかかることがある。一方、反応� �度が220℃よりも高いと、着色等の副反応が� �生したり、酸無水物が閉環する平衡により� �応率が低下する場合がある。

 以上のようにして得られる高分子化合物� ��、エチレン性不飽和基を有するカルボン酸� ��応性化合物を反応させることによって本発� ��の感光性樹脂が得られる。このエチレン性� ��飽和基を有するカルボン酸反応性化合物(以 下、単に「カルボン酸反応性化合物」という ことがある)としては、エチレン性不飽和基� �有し、カルボン酸と容易に反応するもので� �れば、特に制限無く使用できるが、具体的� �は、エチレン性不飽和基を有するエポキシ� �合物、イソシアネート化合物、ビニルエー� �ル化合物、メチロール化合物等が挙げられ� �。

 エポキシ化合物の具体例としては、グリ� ��ジル(メタ)アクリレート、3、4-エポキシシ� �ロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、ビニ ルベンジルグリシジルエーテル、アリルグリ シジルエーテル、下記一般式(4)で表される化 合物等が挙げられる。

(式中、R ³ は水素原子又はメチル基を示し、R ⁴ は下記一般式(5)で表される基を示す)
(式中、r、s、tはそれぞれ独立に0~9の整数を� �す。但し、r、s、tが同時に0となることはな� ��。)

 上記一般式(4)で表される化合物としては� ��4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリ シジルエーテル、ポリエチレングリコール-� �リプロピレングリコール(メタ)アクリレート グリシジルエーテル等が例示できる。

 イソシアネート化合物の具体例としては� ��2-(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシア ナート等が、ビニルエーテル化合物の具体例 としては、(メタ)アクリル酸2-(2-ビニロキシ� �トキシ)エチル等が、メチロール化合物とし� ��は、N-メチロール(メタ)アクリルアミド等が 挙げられる。

 これらの中でもエポキシ化合物が好ましく� ��特にビニルベンジルグリシジルエーテルお� ��び4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグ リシジルエーテルが好ましい。ビニルベンジ ルグリシジルエーテルは、下記一般式(3)で表 される化合物であり、耐熱性および耐薬品性 を向上させることができる。

 一方、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレ ートグリシジルエーテルは感度が高くなるた めに好ましく用いられる。

 このようなカルボン酸反応性化合物を上� ��高分子化合物に付加反応させる。本発明の� ��光性樹脂におけるカルボン酸反応性化合物� ��割合は、用途によっても異なるので一概に� ��言えないが、アルカリ現像性の用途に適用� ��る場合には、樹脂固形分の酸価が30~150mgKOH/g の範囲にあるよう調整することが好ましい。 酸価が30KOH/gよりも低すぎると現像速度が低� �して必要なパターンが得られなくなる場合� �ある。一方、150mgKOH/gよりも酸価が高い場合� ��、現像過剰となってパターンが剥離しやす� ��なり電気特性等も低下する場合がある。な� ��、本明細書において、樹脂固形分の酸価はJ IS-K0070に基づく測定値である。

 上記高分子化合物とカルボン酸反応性化� ��物との反応においては、反応促進の目的で� ��媒を用いてもよい。触媒の種類は、カルボ� ��酸反応性化合物の種類により異なるので一� ��には言えないが、一例として、ピリジン、� ��ノリン、イミダゾール、N,N-ジメチルシクロ ヘキシルアミン、トリエチルアミン、N-メチ� ��モルホリン、N-エチルモルホリン、トリエ� �レンジアミン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジ メチルベンジルアミン、トリス(N,N-ジメチル� ��ミノメチル)フェノール、4-ジメチルアミノ� ��リジン、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデ� �ン、1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]ノネン-5、等の� ��ミン類、テトラメチルアンモニウムクロラ� ��ド、テトラメチルアンモニウムブロマイド� ��トリメチルベンジルアンモニウムクロライ� ��、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド� ��の第4級アンモニウム化合物、トリブチルホ スフィン、トリフェニルホスフィン等および それらの混合物が挙げられる。

 また、使用する触媒の量にも特に制限は� ��いが、化合物(1)100質量部に対して0.1~2.0質量 部の範囲が好ましい。触媒の量が多すぎると 感光性樹脂の電気特性や保存安定性に悪影響 が出る場合がある。

 また、カルボン酸反応性化合物を反応さ� ��るにあたっては、重合禁止剤を加えること� ��好ましい。不飽和結合の反応を抑制するも� ��であれば重合禁止剤の種類に特に制限は無� ��が、一例として、ハイドロキノン、ハイド� ��キノンモノメチルエーテル、t-ブチルハイ� �ロキノン、t-ブチルカテコール、N-メチル-N-� ��トロソアニリンまたはN-ニトロソフェニル� �ドロキシルアミン・アンモニウム塩(和光純� ��工業株式会社製:Q-1300)、N-ニトロソフェニル ヒドロキシルアミン・アルミニウム塩(和光� �薬工業株式会社製:Q-1301)、2,2,6,6-テトラメチ� ��ピペリジン-1-オキシル、4-ヒドロキシ-2,2,6,6 -テトラメチルピペリジン-1-オキシル等が挙� �られる。特に、N-ニトロソフェニルヒドロキ シルアミン・アルミニウム塩、4-ヒドロキシ- 2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシルが� ��ましい。重合禁止剤の量は、その種類およ� ��反応条件によって異なるので一概には言え� ��いが、感光性樹脂全体に対して5~2000ppmの範� ��が好ましい。この範囲よりも少ないと、製� ��中に不飽和結合が反応しゲル化が起こる場� ��があり、この範囲よりも多いと、感度が低� ��する場合があるため好ましくない。

 カルボン酸反応性化合物を付加する際は� ��反応速度の向上を目的として加熱すること� ��好ましい。加熱温度はカルボン酸反応性化� ��物の種類や装置によって適宜設定すること� ��できるが、おおむね60~150℃の範囲が好まし� ��。反応温度が60℃よりも低いと、反応終了� �でに時間がかかることがある。一方、反応� �度が150℃よりも高いと、着色等の副反応が� �生したり、不飽和結合が反応してゲル化が� �こる場合がある。

 上記化合物(1)と化合物(2)を反応して得られ� ��高分子化合物は、前記した混合割合の場合� ��化合物(1)に対し化合物(2)が過剰であるため� ��高分子末端は酸無水物の構造となっている� ��ここにカルボン酸反応性化合物としてエチ� ��ン性不飽和基を有するエポキシ化合物を適� ��した場合、エポキシ環の開環によって生成� ��た-OH基に酸無水物が反応し、分子量の増加� ��起こす場合がある。この反応による分子量� ��加を抑制したい場合には、高分子末端の酸� ��水物構造部位に下記一般式(6)で表される水� ��基を有する化合物または水を反応させるこ� ��が好ましい。
(式中、R ⁵ は水素原子またはメチル基を示し、R ⁶ は下記一般式(7)で表される基を示す。)
(式中、l、p、qはそれぞれ独立に0~9の整数を� �す。但し、l、p、qが同時に0となることはな� ��。)

 この反応はエチレン性不飽和基を有する� ��ポキシ化合物の付加に先立って行っても、� ��時に行っても良いが、反応の再現性を考慮� ��るとエチレン性不飽和基を有するエポキシ� ��合物の反応に先立って行った方がより好ま� ��い。

 上記一般式(6)で表される化合物(以下、「 化合物(6)」ということがある)として、具体� �には、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー� ��、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート 、3-ヒドロキプロピル(メタ)アクリレート、4- ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、6-ヒ� �ロキシヘキシル(メタ)アクリレート、9-ヒド� ��キシノニル(メタ)アクリレート等が例示で� �、これらの中でも架橋反応性およびコスト� �点から、2-ヒドロキシエチルアクリレート、 2-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒド� �キシブチルアクリレートが好ましく用いら� �る。

 化合物(6)または水を反応させる際に触媒� ��用いても良い。触媒の種類は、上記化合物( 1)と化合物(2)の反応時に使用できるものと同� ��であり、この反応時に用いたものをそのま� ��使用しても良いし、同一のものを追加、あ� ��いは別の種類の触媒を別途追加しても良い� ��また、反応温度は60~150℃の範囲が好ましい� ��反応温度が低すぎれば、反応終了までに時� ��がかかることがある。反応温度が高すぎれ� ��、着色等の副反応が発生したり、不飽和結� ��が反応してゲル化が起こる場合がある。

 上記のようにして調製された感光性樹脂� ��、精製、保存、溶剤変更などの目的で、ス� ��レー乾燥、フィルム乾燥、貧溶媒への滴下� ��再沈等を行い、固体として取り出すことも� ��きる。 

 また、本発明の感光性樹脂の分子量は特� ��限定されるものではないが、1,500~100,000が好 ましく、さらに2,000~20,000が好ましい。この範 囲であると塗膜強度と現像性のバランスが良 く好ましい。なお、本明細書において感光性 樹脂の分子量は、実施例に記載された条件の GPCによるスチレン換算重量平均分子量である 。

 本発明の感光性樹脂組成物は、上記感光� ��樹脂と、光重合開始剤および/または光増感 剤とを必須成分として含有するものである。 この光重合開始剤および/または光増感剤は� �剤に溶解、もしくは分散した状態で混合す� �か、感光性樹脂に対し化学的に結合させて� �よい。

 本発明に用いられる光重合開始剤および/ または光増感剤としては、特に制限されるも のではないが、例えば、ベンゾフェノン、4-� ��ドロキシベンゾフェノン、ビス-N,N-ジメチ� �アミノベンゾフェノン、ビス-N,N-ジエチルア ミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4″-ジメチ� ��アミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン� ��、チオキサントン、2,4-ジエチルチオキサン トン、イソプロピルチオキサントン、クロロ チオキサントン、イソプロポキシクロロチオ キサントン等のチオキサントン類、エチルア ントラキノン、ベンズアントラキノン、アミ ノアントラキノン、クロロアントラキノン、 アントラキノン-2-スルホン酸塩、アントラキ ノン-2,6-ジスルホン酸塩、等のアントラキノ� ��類、アセトフェノン類、ベンゾインメチル� ��ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン� ��インフェニルエーテル等のベンゾインエー� ��ル類、2,4,6-トリハロメチルトリアジン類、1 -ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン� �2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾ ール二量体、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジ(m-メ� ��キシフェニル)イミダゾール二量体、2-(o-フ� ��オロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール� ��量体、2-(o-メトキシフェニル)-4,5-ジフェニ� �イミダゾール二量体、2-(p-メトキシフェニル )-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体、2,4-ジ(p -メトキシフェニル)-5-フェニルイミダゾール� ��量体、2-(2,4-ジメトキシフェニル)-4,5-ジフェ ニルイミダゾール二量体等の、2,4,5-トリアリ ールイミダゾール二量体類、ベンジルジメチ ルケタール、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-( 4-モルホリノフェニル)-ブタン-1-オン、2-メチ ル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノ-1- プロパノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニ� ��-プロパン-1-オン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキ� ��)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパ� ��-1-オン、1,2-オクタンジオン,1-[4-(フェニル� �オ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)]、フェナント� ��ンキノン、9,10-フェナンスレンキノン、メ� �ルベンゾイン、エチルベンゾイン等ベンゾ� �ン類、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス(9,9″- アクリジニル)ヘプタン等、アクリジン誘導� �、ビスアシルフォスフィンオキサイドが挙� �られ、これらの1種または2種以上を用いるこ とができる。

 本発明の感光性樹脂には、さらに促進剤� ��添加することも出来る。促進剤の例として� ��p-ジメチルアミノ安息香酸エチル、p-ジメチ ルアミノ安息香酸イソアミル、N,N-ジメチル� �タノールアミン、N-メチルジエタノールアミ ン、トリエタノールアミン等が挙げられる。

 本発明の感光性樹脂組成物には、さらに� ��子中に1個以上の不飽和基を持つ重合性モノ マー(以下、単に「重合性モノマー」という� �とがある)を用いることができ、これによっ� ��感度、耐薬品性、耐熱性および機械的強度� ��向上させることができる。また、流動特性� ��節等の目的で重合性モノマーを添加するこ� ��も可能である。この重合性モノマーとして� ��、分子内に不飽和結合を1個以上持つもので あれば、特に制限無く使用でき、適用する用 途、目的によって適切なものを選択すれば良 い。例えば、ポリエチレングリコールジ(メ� �)アクリレート(エチレン基の数が2~14のもの)� ��トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレ� �ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アク リレート、トリメチロールプロパンエトキシ トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプ� ��パンプロポキシトリ(メタ)アクリレート、� �トラメチロールメタントリ(メタ)アクリレー ト、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)ア� ��リレート、ポリプロピレングリコールジ(メ タ)アクリレート(プロピレン基の数が2~14のも の)、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)ア クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ (メタ)アクリレート、ビスフェノールAポリオ キシエチレンジ(メタ)アクリレート、ビスフ� ��ノールAジオキシエチレンジ(メタ)アクリレ� ��ト、ビスフェノールAトリオキシエチレンジ (メタ)アクリレート、ビスフェノールAデカオ キシエチレンジ(メタ)アクリレート、多価カ� ��ボン酸(無水フタル酸等)と水酸基及びエチ� �ン性不飽和基を有する化合物(β-ヒドロキシ� ��チル(メタ)アクリレート等)とのエステル化� ��、(メタ)アクリル酸メチルエステル、(メタ) アクリル酸エチルエステル、(メタ)アクリル� ��ブチルエステル、(メタ)アクリル酸2-エチル ヘキシルエステル等の(メタ)アクリル酸アル� ��ルエステル、エチレングリコールジグリシ� ��ルエーテル、ジエチレングリコールジグリ� ��ジルエーテル、トリエチレングリコールジ� ��リシジルエーテル、テトラエチレングリコ� ��ルジグリシジルエーテル、ポリエチレング� ��コールジグリシジルエーテル、プロピレン� ��リコールジグリシジルエーテル、ジプロピ� ��ングリコールジグリシジルエーテル、トリ� ��ロピレングリコールジグリシジルエーテル� ��テトラプロピレングリコールジグリシジル� ��ーテル、ポリプロピレングリコールジグリ� ��ジルエーテル、ソルビトールトリグリシジ� ��エーテル、グリセリントリグリシジルエー� ��ル等のエポキシ化合物の(メタ)アクリル酸� �加物、マレイン酸等の不飽和有機酸および� �れらの無水物、N-メチルアクリルアミド、N-� ��チルアクリルアミド、N-イソプロピルアク� �ルアミド、N-メチロールアクリルアミド、N-� ��チルメタクリルアミド、N-エチルメタクリ� �アミド、N-イソプロピルメタクリルアミド、 N-メチロールメタクリルアミド、N,N-ジメチル アクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミ� �、N,N-ジメチルメタクリルアミド、N,N-ジエチ ルメタクリルアミド等のアクリルアミド類、 スチレン、ヒドロキシスチレン等のスチレン 類、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムア� �ド、N-ビニルアセトアミド、N-ビニルイミダ� ��ール等が例示でき、これらの1種または2種� �上を用いることができる。

 本発明の感光性樹脂組成物には、デザイ� ��性、視認性、およびフォトレジストのハレ� ��ション防止等の目的で着色剤を添加するこ� ��も可能である。添加する着色剤の種類は、� ��色の目的によって適宜選択することができ� ��例えば、フタロシアニン系染料、アントラ� ��ノン系染料、アゾ系染料、インジゴ系染料� ��クマリン系染料、トリフェニルメタン系染� ��、フタロシアニン系顔料、アントラキノン� ��顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、� ��マリン系顔料、トリフェニルメタン系顔料� ��どが例示でき、これらの1種または2種以上� �用いることができる。

 本発明の感光性樹脂組成物は、溶液又は� ��ーストの形態とすることができ、そのため� ��溶剤を含有することも可能である。用いら� ��る溶剤の種類に特に制限はないが、一例と� ��て、水、エチレングリコール、ジエチレン� ��リコール、トリエチレングリコール、テト� ��エチレングリコール等のエチレングリコー� ��類、エチレングリコールモノメチルエーテ� ��、ジエチレングリコールモノメチルエーテ� ��、エチレングリコールジエチルエーテル、� ��エチレングリコールジメチルエーテル等の� ��リコールエーテル類、エチレングリコール� ��ノエチルエーテルアセテート、ジエチレン� ��リコールモノエチルエーテルアセテート、� ��エチレングリコールモノブチルエーテルア� ��テート等のグリコールエーテルアセテート� ��、プロピレングリコール、ジプロピレング� ��コール、トリプロピレングリコール等のプ� ��ピレングリコール類、プロピレングリコー� ��モノメチルエーテル、プロピレングリコー� ��モノエチルエーテル、ジプロピレングリコ� ��ルモノメチルエーテル、ジプロピレングリ� ��ールモノエチルエーテル、プロピレングリ� ��ールジメチルエーテル、ジプロピレングリ� ��ールジメチルエーテル、プロピレングリコ� ��ルジエチルエーテル、ジプロピレングリコ� ��ルジエチルエーテル等のプロピレングリコ� ��ルエーテル類、プロピレングリコールモノ� ��チルエーテルアセテート、プロピレングリ� ��ールモノエチルエーテルアセテート、ジプ� ��ピレングリコールモノメチルエーテルアセ� ��ート、ジプロピレングリコールモノエチル� ��ーテルアセテート等のプロピレングリコー� ��エーテルアセテート類、アセトン、メチル� ��チルケトン、メチルイソブチルケトン、シ� ��ロヘキサノン等のケトン類、乳酸メチル、� ��酸エチル等の乳酸エステル類、酢酸エチル� ��酢酸ブチル等の酢酸エステル類、ジメチル� ��ルホキシド、N-メチルピロリドン、ジメチ� �ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、お� �びそれらの混合物が挙げられる。

 本発明の感光性樹脂組成物には、さらに� ��合禁止剤、可塑剤、消泡剤、カップリング� ��等、従来公知の成分を必要に応じて配合で� ��る。

 本発明の感光性樹脂組成物は、上記必須� ��分および必要に応じて溶剤やその他の任意� ��分を常法に従って混合することにより得る� ��とができる。

 以上のようにして得られた本発明の感光� ��樹脂組成物は、液晶カラーフィルター、ブ� ��ックマトリックス、ソルダーレジストなど� ��フォトレジストの用途等に使用することが� ��きる。フォトレジストとして使用する場合� ��、本発明の感光性樹脂組成物は溶液または� ��ーストとして基板上に塗布される。塗布方� ��は特に制限されないが、スクリーン印刷、� ��ーテンコート、ブレードコート、スピンコ� ��ト、スプレーコート、ディップコート、ス� ��ットコート等が適用される。塗布された溶� ��またはペーストは、所定のマスクを介し、U V、もしくは電子線で露光が行われる。溶剤� �使用して塗布する場合、乾燥工程を経由し� �も良い。露光した塗膜を湿式で現像するこ� �により、パターンを形成することができる� �現像方法は、スプレー式、パドル式、浸漬� �等、いずれも可能であるが、残渣の少ない� �プレー式が好ましい。必要に応じて、超音� �等を照射することもできる。現像液として� �、弱アルカリ性水を用いることが好ましい� �現像性補助の目的で有機溶剤、界面活性剤� �消泡剤等を添加することも可能である。