後藤 奈美子 (〒45 東京都中央区築地五丁目６番１０号 ＪＳＲ株式会社内 Tokyo, 1040045, JP)
MASUKO, Hideaki (6-10 Tsukiji 5-chome, Chuo-k, Tokyo 45, 1040045, JP)
増子 英明 (〒45 東京都中央区築地五丁目６番１０号 ＪＳＲ株式会社内 Tokyo, 1040045, JP)
ＪＳＲ株式会社 (〒45 東京都中央区築地五丁目６番１０号 Tokyo, 1040045, JP)
GOTOU, Namiko (6-10 Tsukiji 5-chome, Chuo-k, Tokyo 45, 1040045, JP)
後藤 奈美子 (〒45 東京都中央区築地五丁目６番１０号 ＪＳＲ株式会社内 Tokyo, 1040045, JP)
MASUKO, Hideaki (6-10 Tsukiji 5-chome, Chuo-k, Tokyo 45, 1040045, JP)
| (A)無機粒子、 (B)アルカリ可溶性樹脂、 (C)下記式(1)で表される化合物を含有し、HLB値が2~8の添加剤、 (D)エチレン性不飽和基含有化合物、および (E)光重合開始剤 を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 |
| 前記無機粒子(A)が400~600℃の軟化点を有するガラス粉末であることを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。 |
| 前記添加剤(C)が、前記アルカリ可溶性樹脂(B)100重量部に対して0.5~5重量部の量で含まれることを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。 |
| 前記エチレン性不飽和基含有化合物(D)が、多官能(メタ)アクリレートであることを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。 |
| 請求項1~4のいずれかに記載の感光性樹脂組成物から得られる感光性樹脂層を有することを特徴とする転写フィルム。 |
| 請求項1~4のいずれかに記載の感光性樹脂組成物から得られる感光性樹脂層を基板上に形成する工程と、 該樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程と、 該樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程と、 該パターンを焼成処理する工程と を含むことを特徴とするパターン形成方法。 |
| 請求項5に記載の転写フィルムを用いて、該転写フィルムを構成する感光性樹脂層を基板上に転写する工程と、 該樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程と、 該樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程と、 該パターンを焼成処理する工程と を含むことを特徴とするパターン形成方法。 |
| 請求項6または7に記載のパターン形成方法により、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、誘電体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる部材を形成することを特徴とするフラットパネルディスプレイ用部材の製造方法。 |
本発明は、感光性樹脂組成物、転写フィ ムおよびパターン形成方法に関する。より 細には、フラットパネルディスプレイなど ディスプレイパネルや、電子部品の高度実 材料に用いられる微細な回路パターンを有 る回路基板の製造において、精度の高いパ ーンを形成する場合に好適に使用すること できる感光性樹脂組成物、該組成物からな 感光性樹脂層を有する転写フィルム、該組 物もしくは転写フィルムを用いたパターン 成方法、ならびに該パターン形成方法によ フラットパネルディスプレイ用部材を製造 る方法に関する。
近年、回路基板やディスプレイパネルに けるパターン加工に対して、高密度化およ 高精細化の要求が高まっている。このよう 要求が高まっているディスプレイパネルの でも、特にプラズマディスプレイパネル(以 下「PDP」ともいう。)やフィールドエミッシ ンディスプレイ(以下「FED」ともいう。)など のフラットパネルディスプレイ(以下「FPD」 もいう。)が注目されている。
図1は交流型のPDPの断面形状を示す模式図 である。図1において、101および102は互いに 向するよう配置されたガラス基板、103は隔 であり、ガラス基板101、ガラス基板102、隔 103によりセルが区画形成されている。104は ラス基板101に固定された透明電極であり、10 5は透明電極104の抵抗を下げる目的で該透明 極104上に形成されたバス電極であり、106は ラス基板102に固定されたアドレス電極であ 。107はセル内に保持された蛍光物質であり 108は透明電極104およびバス電極105を被覆す ようガラス基板101の内面に形成された誘電 層であり、109はアドレス電極106を被覆する うガラス基板102の内面に形成された誘電体 であり、110は、例えば酸化マグネシウムよ なる保護膜である。また、カラーPDPにおい は、コントラストの高い画像を得るため、 ラス基板と誘電体層との間に、カラーフィ ター(赤色・緑色・青色)やブラックマトリッ クスなどを設けたり、発光輝度を高めるため に前面隔壁を設けたりすることがある。
このようなPDPにおいて、隔壁103、誘電体 108および109はガラス焼結体により形成され 隔壁は、例えば幅30~60μm、高さ100~150μmであ 。
FPD部材である隔壁、電極、抵抗体、蛍光 、誘電体、カラーフィルターおよびブラッ マトリックス等の形成方法としては、(1)基 上に、非感光性樹脂を所望のパターンとな ようにスクリーン印刷し、これを焼成する クリーン印刷法、(2)基板上に感光性樹脂層 形成し、所望のパターンが描かれたフォト スクを介して、前記感光性樹脂層に赤外線 たは紫外線を照射した上で現像することに り、基板上に所望のパターンを残存させ、 れを焼成するフォトリソグラフィー法など 知られている(たとえば、特許文献1参照)。
これらの製造方法において、基板上に無 粒子含有樹脂層を形成する方法としては、 無機粒子含有樹脂層を予め可撓性を有する 持フィルム上に形成した転写フィルムを作 し、該転写フィルムにおける無機粒子含有 脂層を基板に加熱圧着することにより、基 上に無機粒子含有樹脂層を形成する方法(以 下「フィルム法」ともいう。)が、膜厚均一 および表面平滑性に優れた無機粒子含有樹 層を形成する観点から、好ましく用いられ いる。
しかしながら、このフィルム法に感光性 料を適用する場合、構成成分として低分子 体や親水性基を多く含む組成を設計する必 があるため、以下の問題が障害となる。
第一に、重剥離性の支持フィルム(剥離力 30~100g/25mm)を用いて転写する場合、支持フィ ムを一部剥した状態で保持すると、支持フ ルムの剥離部分と非剥離部分との境界線に いて無機粒子含有感光性樹脂層表面に待機 ジと呼ばれるスジ状の凹みや突起が形成さ てしまうという問題が生じることがある。 のような問題を解決するために、無機粒子 有感光性樹脂層中の樹脂含有量を少なくし り、高分子量の樹脂を用いることが考えら る。しかしながら、樹脂の分子量を高くす と、パターン形成時の現像性が悪化するこ がある。また、樹脂量を少なくすると、転 フィルムの転写性が悪化することがある。
第二に、軽剥離性の支持フィルム(剥離力1~1
0g/25mm)を用いる場合、塗布ムラやはじきが生
、表面平滑性に優れた無機粒子含有感光性
脂層が得られないという問題が生じること
ある。また、上記のような塗布ムラやはじ
といった問題は感光性ペーストをガラス基
に塗布する際にも発生することが多い。
本発明は、待機スジや、塗布ムラやはじ が発生せず、表面平滑性に優れた無機粒子 有感光性樹脂層を形成することが可能な無 粒子含有感光性樹脂組成物、該樹脂層を有 る転写フィルム、およびこれらを用いて精 の高いパターンを形成する方法を提供する とを課題とする。
また、本発明は、アスペクト比およびパ ーン形状に優れた部材を、簡単な工程によ 形成することができるFPD用部材の製造方法 提供することも課題とする。
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意 討を行った。その結果、特定の添加剤を含 無機粒子含有感光性樹脂組成物を用いるこ により、待機スジや塗布ムラ等が発生せず 表面平滑性に優れた感光性樹脂層を有する 写フィルムが得られ、これを用いて精度の いパターンを形成することができることを 出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明に係る感光性樹脂組成 は、(A)無機粒子、(B)アルカリ可溶性樹脂、( C)下記式(1)で表される化合物からなり、HLB値 2~8の添加剤(以下「特定添加剤」ともいう。 )、(D)エチレン性不飽和基含有化合物および(E )光重合開始剤を含有することを特徴とする
[式(1)中、R 1 は単結合または二価の有機基を示し、Rは炭 数2~8のアルキレン基を示し、R 2 は水素原子または一価の有機基を示し、x、y よびnは整数を示す。]
本発明の無機粒子含有感光性樹脂組成物 用いることにより、待機スジや塗布ムラが く、表面平滑性に優れた感光性樹脂層を有 る転写フィルムが得られ、精度の高いパタ ンを形成することができる。したがって、 発明の転写フィルムは、フラットパネルデ スプレイの各表示セルを構成する部材の形 ならびに電子部品の高度実装材料の部材の 成に好適に使用することができる。
101 ガラス基板
102 ガラス基板
103 背面隔壁
104 透明電極
105 バス電極
106 アドレス電極
107 蛍光物質
108 誘電体層
109 誘電体層
110 保護層
以下、本発明に係る感光性樹脂組成物、 写フィルムおよびパターン形成方法につい 、詳細に説明する。
〔感光性樹脂組成物〕
本発明の感光性樹脂組成物は、(A)無機粒子
(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)特定添加剤、(D)
チレン性不飽和基含有化合物および(E)光重
開始剤を含有する。
<無機粒子(A)>
本発明の組成物に用いられる無機粒子(A)は
形成材料の種類によって異なる。特にFPDを
成する誘電体および隔壁形成材料に使用さ
る無機粒子としては、ガラス粉末などが挙
られる。
本発明の組成物に用いられるガラス粉末 しては、軟化点が400~600℃の低融点ガラス粉 末を挙げることができる。ガラス粉末の軟化 点が上記範囲よりも低いと、上記組成物から 形成された感光性樹脂層の焼成工程において 、樹脂などの有機物質が完全に分解除去され ない段階でガラス粉末が溶融してしまうこと がある。そのため、形成される部材中に有機 物質の一部が残留し、その結果、誘電体層や 隔壁などの部材が着色されて、その光透過率 が低下するおそれがある。一方、ガラス粉末 の熱軟化点が上記範囲を超えると、高温で焼 成する必要があるために、ガラス基板に歪み などが発生しやすい。
上記ガラス粉末としては、たとえば、(1)Bi 2 O 3 -ZnO-B 2 O 3 系、(2)Bi 2 O 3 -SiO 2 -B 2 O 3 系、(3)Bi 2 O 3 -SiO 2 -Na 2 O系、(4)SiO 2 -B 2 O 3 -Al 2 O 3 系、(5)SiO 2 -B 2 O 3 -Na 2 O系、(6)SiO 2 -B 2 O 3 -K 2 O系、(7)SiO 2 -B 2 O 3 -ZrO 2 -MgO系、(8)SiO 2 -B 2 O 3 -ZrO 2 -CaO系、(9)SiO 2 -B 2 O 3 -ZrO 2 -MaO系、(10)SiO 2 -B 2 O 3 -ZrO 2 -SrO系などのガラス粉末を挙げることができ 。
上記ガラス粉末の平均粒子径は、作製しよ とするパターンの形状を考慮して選ばれる 、パターン形成上、好ましくは0.01~10μm、よ り好ましくは0.1~8μmである。また、ガラス粉 の比表面積は、パターン形成上、0.1~300m 2 /gであることが好ましい。
また、焼成後のパターンの形状を維持する めに、ガラス粉末と、Al 2 O 3 、BaO、CaO、MgO、ZnO、SiO 2 等のフィラーとを併用してもよい。しかし、 熱軟化点、熱膨張係数および屈折率の制御の 観点から、前記フィラーは、ガラス粉末100重 量部に対して1~40重量部、より好ましくは5~30 量部の範囲の量で用いることが望ましい。
上記ガラス粉末は、FPDの誘電体および隔 以外の構成要素(例えば、電極、抵抗体、蛍 光体、カラーフィルター、ブラックマトリス ク等)を形成するための組成物中に含有され いてもよい。この場合のガラス粉末の含有 は、用途によって異なるが、ガラス粉末を む無機粒子全量100重量部に対して、通常90重 量部以下、好ましくは80重量部以下である。
FPD、LCD、有機EL、プリント回路基板、多 回路基板、モジュール、インダクタおよびLS Iなどの電極形成材料に使用される無機粒子 しては、Al、Ag、Ag-Pd合金、Au、Ni、Cr、Cuなど を挙げることができる。これらの中では、大 気中で焼成した場合においても酸化による導 電性の低下が生じず、比較的安価なAgを用い ことが好ましい。
電極形成材料に使用される無機粒子の形 としては、特に限定されず、たとえば、粒 、球状、フレーク状などが挙げられ、同じ 状の無機粒子を用いても、異なる2種以上の 形状の無機粒子を混合して用いてもよい。ま た、平均粒径としては、好ましくは0.01~10μm より好ましくは0.05~8μmであり、異なる平均 径を有する無機粒子を混合して使用するこ もできる。
FPD、LCD、有機EL素子などの透明電極形成材 に使用される無機粒子としては、酸化イン ウム、酸化錫、錫含有酸化インジウム(ITO)、 アンチモン含有酸化錫(ATO)、フッ素添加酸化 ンジウム(FIO)、フッ素添加酸化錫(FTO)、フッ 素添加酸化亜鉛(FZO)、ならびに、Al、Co、Fe、I n、SnおよびTiから選ばれた1種もしくは2種以 の金属を含有する酸化亜鉛微粒子などを挙 ることができる。PDPの抵抗体形成材料に使 される無機粒子としては、RuO 2 などからなる粒子を挙げることができる。
PDPの蛍光体形成材料に使用される無機粒子
、
赤色用としては、Y 2
O 3
:Eu 3+
、Y 2
SiO 5
:Eu 3+
、Y 3
Al 5
O 12
:Eu 3+
、YVO 4
:Eu 3+
、(Y,Gd)BO 3
:Eu 3+
、Zn 3
(PO 4
) 2
:Mnなどが挙げられ、
緑色用としては、Zn 2
SiO 4
:Mn、BaAl 12
O 19
:Mn、BaMgAl 14
O 23
:Mn、LaPO 4
:(Ce,Tb)、Y 3
(Al,Ga) 5
O 12
:Tbなどが挙げられ、
青色用としては、Y 2
SiO 5
:Ce、BaMgAl 10
O 17
:Eu 2+
、BaMgAl 14
O 23
:Eu 2+
、(Ca,Sr,Ba) 10
(PO 4
) 6
Cl 2
:Eu 2+
、(Zn,Cd)S:Agなどが挙げられる。
PDP、LCD、有機EL素子などのカラーフィルタ 形成材料に使用される無機粒子は、赤色用 してはFe 2 O 3 など、緑色用としてはCr 2 O 3 など、青色用としてはCoO・Al 2 O 3 などを挙げることができる。
PDP、LCD、有機EL素子などのブラックスト イプ(マトリックス)形成材料に使用される無 機粒子としては、例えば、Co、Cr、Cu、Fe、Mn Ni、Ti、Znなどの金属およびその酸化物、複 酸化物、炭化物、窒化物、硫化物、けい化 、ほう化物や、カーボンブラック、グラフ イトなどが挙げられる。これらは、1種単独 用いても、2種以上を混合して用いてもよい 。これらの中では、Co、Cr、Cu、Fe、Mn、Niおよ びTiの群から選ばれた金属粒子、金属酸化物 子および複合酸化物粒子が好ましい。また 上記無機粒子の平均粒径は、好ましくは0.01 ~10μm、より好ましくは0.05~5μm、特に好ましく は0.1~2μmである。
本発明の組成物における無機粒子(A)の含 量は、アルカリ可溶性樹脂(B)100重量部に対 て、100~2000重量部、好ましくは130~1000重量部 の範囲である。無機粒子(A)の含有量が前記範 囲内であることにより、形状が良好なパター ンを形成することができる。
<アルカリ可溶性樹脂(B)>
本発明の感光性樹脂組成物に用いられるア
カリ可溶性樹脂(B)としては、種々の樹脂を
いることができる。本発明において「アル
リ可溶性」とは、目的とする現像処理が可
な程度に、アルカリ性の現像液に溶解する
質をいう。
上記アルカリ可溶性樹脂(B)としては、後 するアルカリ可溶性官能基含有モノマー(B1) と(メタ)アクリル酸誘導体(B2)との共重合体が 好ましい。また、SH基を有するアルカリ可溶 樹脂(以下「SH基含有樹脂」ともいう。)も好 適に用いることができる。前記SH基含有樹脂 、光照射により、後述するエチレン性不飽 基含有化合物(D)とエン-チオール反応して樹 脂自体がさらに重合するため、SH基を有しな 樹脂に比べて高感度であり、さらに、この 合により樹脂の分子量が大きくなるため、 像後のパターン形状が良好となる。
上記SH基含有樹脂は、少なくとも1つのSH を有し、アルカリ可溶性であれば特に限定 れないが、例えば、SH基を有する(メタ)アク ル樹脂が好ましい。前記SH基を有する(メタ) アクリル樹脂は、たとえば、1分子中に少な とも2つのSH基を有する化合物(以下「SH基含 化合物(B3)」ともいう)の存在下で、アルカリ 可溶性官能基含有モノマー(B1)と(メタ)アクリ ル酸誘導体(B2)とを共重合することにより製 することができる。
上記アルカリ可溶性官能基含有モノマー(B1)
としては、たとえば、
(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、
ロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メ
コン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ(2-(メタ)
クリロイロキシエチル)、2-メタクリロイロ
シエチルフタル酸、2-アクリロイルオキシエ
チルハイドロゲンフタレート、2-アクリロイ
オキシプロピルハイドロゲンフタレート、2
-アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロ
イドロゲンフタレート、2-アクリロイルオキ
シプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレ
ート、ω-カルボキシ-ポリカプロラクトンモ
(メタ)アクリレート等のカルボキシル基含有
モノマー類;
(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)
アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)ア
リル酸3-ヒドロキシプロピル、(α-ヒドロキ
メチル)アクリレート等の水酸基含有モノマ
類;
o-ヒドロキシスチレン、m-ヒドロキシスチレ
、p-ヒドロキシスチレン等のフェノール性水
酸基含有モノマー類
などのアルカリ可溶性官能基と不飽和結合を
有するモノマーが挙げられる。これらの中で
は、(メタ)アクリル酸、2-メタクリロイロキ
エチルフタル酸、2-アクリロイルオキシエチ
ルハイドロゲンフタレート、2-アクリロイル
キシプロピルハイドロゲンフタレート、2-
クリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハ
ドロゲンフタレート、2-アクリロイルオキシ
プロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレー
ト、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチルが
ましい。
上記アルカリ可溶性官能基含有モノマー( B1)を共重合させることにより、樹脂(B)にアル カリ可溶性を付与することができる。このア ルカリ可溶性官能基含有モノマー(B1)由来の 成単位の含有量は、樹脂(B)の全構成単位中 通常、5~90重量%、好ましくは10~80重量%、特に 好ましくは15~70重量%である。
上記(メタ)アクリル酸誘導体(B2)としては 上記アルカリ可溶性官能基含有モノマー(B1) と共重合可能な(メタ)アクリル酸誘導体であ ば特に限定されないが、たとえば、メチル( メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレー ト、n-ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル( タ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレ ト、フェノキシエチル(メタ)アクリレート トチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル (-メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)ア リレート、グリシジル(メタ)アクリレート ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等の 上記モノマー(B1)以外の(メタ)アクリレート類 などが挙げられる。
また、本発明では、上記(メタ)アクリル 誘導体(B2)の代わりに、あるいは上記(メタ) クリル酸誘導体(B2)に加えて、たとえば、ス レン、メチル(メタ)アクリレート、エチル( タ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレ ト等から得られるポリマーの一方の鎖末端 、(メタ)アクリロイル基、アリル基、ビニ 基などの重合性不飽和基を有するマクロモ マーなどを用いてもよい。
上記SH基含有化合物(B3)としては、SH基含 カルボン酸と多価アルコールとのエステル 挙げられる。SH基含有カルボン酸としては、 チオグリコール酸または3-メルカプトプロピ ン酸などが挙げられる。多価アルコールと ては、エチレングリコール、テトラエチレ グリコール、ブタンジオール、トリメチロ ルプロパン、ペンタエリスリトール、ジペ タエリスリトール、トリペンタエリスリト ル、ソルビトールなどが挙げられる。
上記SH基含有化合物(B3)は上記共重合反応 おいて、連鎖移動剤として作用し、得られ アルカリ可溶性樹脂(B)には、好ましくは、 にその末端にSH基が形成されると考えられ 。また、作業上の臭気という観点からも上 化合物(B3)を使用することが好ましい。
上記SH基含有化合物(B3)は、1種単独で用い てもよく、2種以上を併用してもよい。上記 合物(B3)の使用量は、上記共重合に使用する モノマー100重量部に対して0.5~10重量程度で る。
上記共重合の際、ラジカル重合開始剤を 用することが好ましい。ラジカル重合開始 としては、ビニル単量体の重合に用いられ ラジカル重合開始剤を使用できる。例えば 2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’- ゾビス(2-メチルブチルニトリル)、2,2’-アゾ ビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、1,1’-ア ビス(1-シクロヘキサンカルボニトリル)、ジ チルー2,2’-アゾビスイソブチレート、4,4’ -アゾビス(4-シアノバレリック酸)等のアゾ化 物;t-ブチルパーオキシビバレート、t-ブチ パーオキシ2-エチルヘキサノエート、クミル パーオキシ2-エチルヘキサノエート等のパー キシエステル類の有機過酸化物等を挙げる とができる。これらのラジカル重合開始剤 、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用 てもよい。これらのラジカル重合開始剤の 用量は、上記共重合に使用する全モノマー10 0重量部に対して0.1~10重量程度である。
このようにして得られたアルカリ可溶性 脂(B)の重量平均分子量(以下「Mw」ともいう )は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ ィー(GPC)により測定したポリスチレン換算値 、好ましくは5,000~100,000、より好ましくは10, 000~50,000である。Mwが前記範囲よりも低いと、 現像後の膜荒れが発生しやすくなり、また、 Mwが前記範囲を超えると、未露光部の現像液 対する溶解性が低下し、解像度が低下する 合がある。Mwは、上記モノマーの共重合割 、組成、連鎖移動剤、重合温度などの条件 適宜選択することにより制御することがで る。
連鎖移動剤としては、例えば、α-メチレ スチレンダイマー、t-ドデシルメルカプタ 、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メル プトプロピオン酸)、ペンタエリスリトール トラキス(3-メルカプトブチレート)、1,4-ビ (3-メルカプトブチリルオキシ)ブタンなどが げられる。
上記アルカリ可溶性樹脂(B)のガラス転移 度(Tg)は、0~120℃、好ましくは10~100℃である ガラス転移温度が前記範囲よりも低いと、 膜にタックを生じやすく、ハンドリングが にくい傾向にある。また、ガラス転移温度 前記範囲を超えると、支持体であるガラス 板との密着性が悪くなり、転写できないこ がある。なお、前記ガラス転移温度は、上 モノマー(B1)、(メタ)アクリル酸誘導体(B2)の 量を変更することによって適宜調節すること がでる。
上記アルカリ可溶性樹脂(B)の酸価は、好 しくは20~200mgKOH/g、より好ましくは30~160mgKOH/ gの範囲である。酸価が20mgKOH/g以下では露光 の未露光部分が速やかにアルカリ現像液で 去しにくく、高精細なパターン形成が困難 なる傾向にある。また、酸価が200mgKOH/g以上 なると、露光光によって硬化した部分もア カリ現像液に浸食されやすくなり、高精細 パターン形成が困難となる傾向にある。
本発明の組成物における上記アルカリ可 性樹脂(B)の含有量は、上記無機粒子(A)100重 部に対して5~100重量部、好ましくは10~75重量 部の範囲である。アルカリ可溶性樹脂(B)の含 有量が前記範囲内であることにより、形状が 良好なパターンを形成することができる。
<特定添加剤(C)>
本発明の感光性樹脂組成物で用いられる特
添加剤(C)は、下記式(1)で表される化合物か
なり、HLB(Hydrophile-Lypophile Balance;親水親油バ
ランス)値が2~8、好ましくは4~8、さらに好ま
くは5~7である。なお、HLB値は、親水基の式
を基に、計算式:HLB値=20×(親水基の重量%)
により求めることができる(グリフィン法)。
式(1)中、R 1 は単結合または二価の有機基を示し、Rは炭 数2~8のアルキレン基を示し、R 2 は水素原子または一価の有機基を示し、x、y よびnは整数を示す。
上記式(1)中の複数のRは、それぞれ同一で も、異なっていてもよく、炭素数2~8の直鎖状 または分岐状のアルキレン基であり、該アル キレン基は置換されていてもよい。具体的な Rとしては、下記の構造式で示されるものが げられる。
xとyの比率は、(80/20)<(x/y)<(99/1)、好ま しくは(90/10)<(x/y)<(95/5)、さらに好ましく (92/8)<(x/y)<(94/6)である。
上記式(1)で表される化合物は、2,000~30,000 重量平均分子量(ポリスチレン換算)を有す ことが好ましい。重量平均分子量が2,000未満 だと感光性樹脂組成物を塗布する際に塗布ム ラやはじきが発生したり、塗布後に乾燥させ る際に昇華したりするおそれがある。昇華し た添加剤が乾燥炉内壁に析出すると、乾燥炉 内を汚染するおそれがある。さらに析出した 添加剤が、乾燥炉壁面から落下しサンプル表 面に付着することにより歩留まりの低下を引 き起こすおそれもある。また、重量平均分子 量が30,000を超えるとパターン形成時の現像性 が悪下することがある。
上記特定添加剤(C)を用いることにより、 型剤付き支持フィルム上に無機粒子含有感 性樹脂組成物を塗布する際に発生する可能 がある塗布ムラやはじきを防止したり、待 スジを抑制し、表面平滑性に優れた無機粒 含有感光性樹脂層を形成することができる
上記特定添加剤(C)としては、好ましくは リコーン系界面活性剤、より好ましくはポ エーテル基を側鎖に導入したポリエーテル 性シリコーンオイルが挙げられる。
上記ポリエーテル変性シリコーンオイルと
ては、たとえば、
東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製「F
Z-2101(7)」「FZ-2104(8)」、「FZ-7001(5)」、「FZ-7002
(8)」、「SH3749(6)」、「SH3773M(8)」、「SH8400(7)
;
信越化学工業(株)社製「KF-352A(7)」、「KF-945(4)
」、「KF-6012(7)」、「KF-6015(5)」、「KF-6017(5)」
、「KF-6020(4)」、「X-22-4515(5)」、「X-22-6191(2)
などが挙げられる(かっこ内の数字はHLB値を
す。)。
上記特定添加剤(C)は、1種単独で用いても 、2種以上を組み合わせて用いてもよい。ま 、本発明の組成物における特定添加剤(C)の 有量は、アルカリ可溶性樹脂(B)100重量部に して、0.5~5重量部、好ましくは1~4重量部、よ り好ましくは1.5~3重量部の範囲である。前記 囲の量で添加することにより、表面平滑性 優れた感光性樹脂層を形成することができ 。特定添加剤(C)の量が5重量部よりも多すぎ るとペースト感度の低下やパターン特性が劣 化することがある。また、特定添加剤の量が 0.5重量部よりも少な過ぎると塗布ムラやはじ きが生じ、表面平滑性に優れた感光性樹脂層 が得られず、感光性樹脂層表面に待機スジと 呼ばれるスジ状の凹みや突起が形成されてし まう。
<エチレン性不飽和基含有化合物(D)>
本発明の感光性樹脂組成物に用いられるエ
レン性不飽和基含有化合物(D)としては、エ
レン性不飽和基を含有し、後述する光重合
始剤(E)により、ラジカル重合反応し得る化
物であれば特に限定はされないが、一般的
、(メタ)アクリレート化合物が用いられる
このような(メタ)アクリレート化合物とし
は、たとえば、
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)ア
リレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、
ソプロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(
タ)アクリレート、sec-ブチル(メタ)アクリレ
ト、sec-ブチル(メタ)アクリレート、イソ-ブ
チル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)ア
クリレート、n-ペンチル(メタ)アクリレート
アリル(メタ)アクリレート、ベンジルアクリ
レート、ブトキシエチルアクリレート、ブト
キシトリエチレングリコールリレート、シク
ロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペ
タニル(メタ)アクリレート、ジシクロペン
ニル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(
メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アク
リレート、グリシジル(メタ)アクリレート、
プタデカフロロデシル(メタ)アクリレート
2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、イ
ボニル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、イソデキシル(メ
タ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリ
レート、ラウリル(メタ)アクリレート、2-メ
キシエチル(メタ)アクリレート、2-(メタ)ア
リロイロキシエチル2-ヒドロキシプロピルフ
タレート、メトキシエチレングリコール(メ
)アクリレート、メトキシジエチレングリコ
ル(メタ)アクリレート、オクタフロロペン
ル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(
タ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリ
ート、トリフロロエチル(メタ)アクリレート
、アミノエチル(メタ)アクリレート、フェニ
(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メ
)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレー
、1-ナフチル(メタ)アクリレート、2-ナフチ
(メタ)アクリレート、チオフェノール(メタ)
アクリレート等の(メタ)アクリレート類;
アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレー
、2,5-ヘキサンジ(メタ)アクリレート、1,4-ブ
タンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3-ブチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、エチ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、トリ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
リエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
、グリセロールジ(メタ)アクリレート、メト
キシ化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレ
ト、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)ア
リレート、トリグリセロールジ(メタ)アク
レート等のジ(メタ)タクリレート類;
ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
、トリメチロールプロパン(メタ)アクリレ
ト、トリメチロールプロパンPO変性トリ(メ
)アクリレート、トリメチロールプロパンEO
性トリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペン
エリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ
)アクリレート、ジトリメチロールプロパン
トラ(メタ)アクリレート、トリメチロールプ
ロパントリ(メタ)アクリレート、ベンジルメ
カプタン(メタ)アクリレート、下記式(2)で
される基を少なくとも1つ有する化合物等の
官能(メタ)アクリレート類
などが挙げられる。
上記の中では多官能(メタ)アクリレート が好ましく、より好ましくは下記式(2)で表 れる基を少なくとも1つ有する化合物であり さらに好ましくは下記式(2)で表される基を なくとも3つ有する化合物であり、特に好ま しくは下記式(3)で表される化合物である。
式(2)中、R 3 は水素原子またはメチル基を表し、R 4 は2価の有機基を表し、R 5 は1価の有機基を表す。
ZOCH(CH 2
OZ) 2
(3)
式(3)中、Zは下記式(4)で表される。
式(4)中、nは1~10の実数を表す。nが前記範 にある化合物を用いることによって、現像 焼成による寸法変化の少ないパターンを形 することができる。
エチレン性不飽和基含有化合物(D)として 記化合物を用いることにより、パターン焼 後に大幅な収縮が生じず、高精細のパター を形成することができるとともに、熱分解 に優れた感光性樹脂組成物が得られる。
上記式(3)で表される化合物は、下記式(5) 示されるように、トリス(ポリオキシプロピ レン)グリセリルエーテルとメタクリル酸2-( ニロキシエトキシ)エチルとを付加反応させ ことによって得られる。
上記式(5)中、Zは上記式(4)で表され、Rは 記式(6)で表される。
式(6)中、nは1~10の実数である。
なお、上記式(4)中のnは、上記式(3)で表さ れる化合物のゲルパーミエーションクロマト グラフィー(GPC)により測定したポリスチレン 算の重量平均分子量(Mw)から、下記式により 求めたポリオキシプロピレンの平均重合度で ある。
式(4)の平均重合度(n)={(Mw-ポリオキシプロ
レン以外の部位の分子量(=201))/オキシプロピ
レン部位の分子量(=58)}í3
また、式(6)中のnは、トリス(ポリオキシプ
ピレン)グリセリルエーテルのGPCにより測定
たポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)か
ら、下記式により求めたポリオキシプロピレ
ンの平均重合度である。
式(6)の平均重合度(n)={(Mw-ポリオキシプロ
レン以外の部位の分子量(=92))/オキシプロピ
ン部位の分子量(=58)}í3
上記トリス(ポリオキシプロピレン)グリセ
ルエーテルの重量平均分子量(Mw)は270~1800が
ましい。トリス(ポリオキシプロピレン)グリ
セリルエーテルの重量平均分子量が前記範囲
にあると、現像や焼成による寸法変化の少な
いパターンを形成することができる。
上記付加反応に用いられる触媒としては 酸が好適である。酸としては、例えば、ギ 、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、トリク ロ酢酸、ジクロロ酢酸、ピルビン酸、グリ ール酸等の脂肪族モノカルボン酸;シュウ酸 、マレイン酸、オキサロ酢酸、マロン酸、フ マル酸、酒石酸、クエン酸等の脂肪族多価カ ルボン酸;安息香酸、テレフタル酸等の芳香 カルボン酸;ベンゼンスルホン酸、p-トルエ スルホン酸、p-トルエンスルホン酸ピリジニ ウム塩、p-トルエンスルホン酸キノリニウム 等の芳香族スルホン酸またはその塩;硫酸ナ トリウム、硫酸カリウム、硫酸マグネシウム 、硫酸カルシウム、硫酸ニッケル、硫酸銅、 硫酸ジルコニウム等の硫酸塩;硫酸水素ナト ウム、硫酸水素カリウム等の硫酸水素塩;硫 、塩酸、リン酸、ポリリン酸等の鉱酸;リン バ等のモリブデン酸、リンタングストモリブ デン酸、ケイタングストモリブデン酸等のヘ テロポリ酸;酸性ゼオライト;ベースレジンが ェノール系樹脂またはスチレン系樹脂であ 、ゲル型、ポーラス型またはマクロポーラ 型の何れかの形態を示し、かつ、スルホン 基およびアルキルスルホン酸基からなる群 り選ばれる少なくとも一種のイオン交換基 有する酸性イオン交換樹脂などが挙げられ 。
上記触媒は1種単独で用いてもよく、2種 上を併用してもよい。上記の中でも、シュ 酸、マレイン酸、硫酸水素カリウム、塩酸 硫酸、リン酸が好ましい。他の酸触媒の場 、付加反応の触媒として作用するほか、ビ ルエーテルのカチオン重合開始剤として作 することがある。したがって、温度コント ールを厳密に行う必要があるが、なかでも 酸の場合、カチオン重合開始剤としては作 せず、付加反応にのみ選択的に効くため、 度コントロール幅が広く、製造面で非常に 利であり、特に好ましい触媒である。
上記触媒の使用量としては、付加反応に いるトリス(ポリオキシプロピレン)グリセ ルエーテルおよびメタクリル酸2-(ビニロキ エトキシ)エチルの使用量や、トリス(ポリオ キシプロピレン)グリセリルエーテルの種類 応じて適宜設定すればよい。なお、収率、 媒の安定性、生産性および経済性を考慮す ば、触媒の使用量は、例えば、メタクリル 2-(ビニロキシエトキシ)エチル100重量部に対 て、好ましくは0.0005重量部以上、より好ま くは0.001重量部以上である。また、好まし は3重量部以下、より好ましくは1重量部以下 である。
上記エチレン性不飽和基含有化合物(D)は 1種単独で用いても、2種以上を組み合わせ 用いてもよい。本発明の組成物における上 エチレン性不飽和基含有化合物(D)の含有量 、上記アルカリ可溶性樹脂(B)100重量部に対 て、通常20~200重量部、好ましくは30~100重量 の範囲である。エチレン性不飽和基含有化 物(D)の含有量が少なすぎると、露光部が現 液によって浸食されやすくなり、パターン 形成することができない。含有量が多すぎ と、長時間の現像工程となり生産上好まし ない。さらに、焼成時に収縮が大きくなり 剥れの原因となる。
<光重合開始剤(E)>
本発明の感光性樹脂組成物に用いられる光
合開始剤(E)としては、たとえば、
ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、ビ
ス(N、N―ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、
ス(N、N―ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、
ンファーキノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-
ェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、2,2-ジメトキシ-2-
ェニルアセトフェノン、2-メチル-〔4’-(メ
ルチオ)フェニル〕-2-モルフォリノ-1-プロパ
-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-
ルフォリノフェニル)-ブタン-1-オンなどのカ
ルボニル化合物;
アゾイソブチロニトリル、4-アジドベンズア
デヒドなどのアゾ化合物もしくはアジド化
物;
メルカプタンジスルフィド、メルカプトベン
ゾチアゾールなどの有機硫黄化合物;
ベンゾイルパーオキシド、ジ-tert-ブチルパー
オキシド、tert-ブチルハイドロパーオキシド
クメンハイドロパーオキシド、パラメタン
イドロパーオキシドなどの有機パーオキシ
;
1,3-ビス(トリクロロメチル)-5-(2’-クロロフェ
ニル)-1,3,5-トリアジン、2-〔2-(2-フラニル)エ
レニル〕-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3,5-ト
リアジンなどのトリハロメタン類;
2,2’-ビス(2-クロロフェニル)-4,5,4’,5’-テト
フェニル-1,2’-ビイミダゾールなどのイミ
ゾール二量体
などを挙げることができる。
これらは1種単独で用いても、2種以上を み合わせて用いてもよい。上記光重合開始 (E)を用いることにより、精度の高いパター を形成することができる。本発明の組成物 おける上記光重合開始剤(E)の含有量は、上 アルカリ可溶性樹脂(B)100重量部に対して、0. 5~20重量部、好ましくは1~10重量部の範囲であ 。
<増感剤>
本発明の感光性樹脂組成物には、感度を向
させるために、増感剤を添加してもよい。
感剤としては、たとえば、2-メチルチオキ
ントン、2-クロロチオキサントン、2-イソプ
ピルチオキサントン、4-イソプロピルチオ
サントン、1-クロロ-4-プロピルチオキサント
ン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,3-ビス(4-
エチルアミノベンザル)シクロペンタノン、
2,6-ビス(4-ジメチルアミニベンザル)シクロヘ
サノン、2,6-ビス(4-ジメチルアミノベンザル
)-4-メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケト
、4,4-ビス(ジエチルアミノ)-ベンゾフェノン
4,4-ビス(ジメチルアミノ)カルコン、4,4-ビス
(ジエチルアミノ)カルコン、p-ジメチルアミ
シンナミリデンインダノン、p-ジメチルアミ
ノベンジリデンインダノン、2-(p-ジメチルア
ノフェニルビニレン)-イソナフトチアゾー
、1,3-ビス(4-ジメチルアミノベンザル)アセト
ン、1,3-カルボニル-ビス(4-ジエチルアミノベ
ザル)アセトン、3,3-カルボニル-ビス(7-ジエ
ルアミノクマリン)、N-フェニル-N-エチルエ
ノールアミン、N-フェニルエタノールアミ
、N-トリルジエタノールアミン、N-フェニル
タノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸
ソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソア
ル、3-フェニル-5-ベンゾイルチオテトラゾ
ル、1-フェニル-5-エトキシカルボニルチオテ
トラゾールなどが挙げられる。
上記増感剤は、1種単独で用いても、2種 上を組み合わせて用いてもよい。なお、増 剤の中には光重合開始剤としても使用でき ものがある。上記増感剤は、上記エチレン 不飽和基含有化合物(D)100重量部に対して、 常0.01~10重量部、より好ましくは0.05~5重量部 範囲となる量で添加することができる。増 剤の量が少なすぎると、光感度を向上させ 効果が発揮されないことがあり、増感剤の が多すぎると、露光部の残存率が小さくな すぎることがある。
<溶媒>
本発明の感光性樹脂組成物には、溶液の粘
を調整するために、有機溶媒を加えてもよ
。有機溶媒としては、例えば、エチレング
コールモノメチルエーテル、エチレングリ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ルモノブチルエーテル、プロピレングリコ
ルモノメチルエーテルアセテート、エチル-
3-エトキシプロピオネート、プロピレングリ
ールモノメチルエーテル、プロピレングリ
ールモノエチルエーテル、メチルセロソル
、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、
トキシプロピルアセテート、ジエチルケト
、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン
メチルエチルケトン、ジオキサン、アセト
、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、n
-ペンタノール、ジアセトンアルコール、4-メ
チル-2-ペンタノール、シクロヘキサノール、
イソブチルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、テルピネオール、ブチルカルビトール
アセテート、ブチルカルビトール、テトラヒ
ドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ-ブ
チロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベン
ゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン
、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸、酢酸-n-
ブチル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳酸-n-ブ
チルなどが挙げられる。上記有機溶媒は、1
単独で用いても、2種以上を混合して用いて
よい。
<その他>
本発明の感光性樹脂組成物は、任意成分と
て、密着助剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤
溶解促進剤などの各種添加剤を含有しても
い。
<感光性樹脂組成物の調製>
本発明の感光性樹脂組成物は、上記無機粒
(A)、アルカリ可溶性樹脂(B)、特定添加剤(C)
エチレン性不飽和基含有化合物(D)および光
合開始剤(E)、ならびに必要に応じて溶媒や
種添加剤を所定の組成比となるように調合
た後、3本ロールや混練機で均質に混合分散
して調製される。
上記組成物の粘度は、無機粒子、増粘剤 有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの 加量によって適宜調整することができるが その範囲は100~200,000m・Pasであることが好ま い。
〔転写フィルム〕
本発明の感光性フィルムは、支持フィルム
、その上に形成された、上記感光性樹脂組
物から得られる感光性樹脂層とを有し、該
光性樹脂層の表面に保護フィルムが設けら
ていてもよい。
<支持フィルム>
上記転写フィルムを構成する支持フィルム
、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに
撓性を有する樹脂フィルムであることが好
しい。支持フィルムが可撓性を有すること
より、ロールコータによってペースト状組
物を塗布することができ、感光性フィルム
ロール状に巻回した状態で保存および供給
ることができる。なお、支持フィルムの厚
としては、使用に適した範囲であればよく
たとえば20~100μmである。
支持フィルムを形成する樹脂としては、 とえば、ポリエチレンテレフタレート、ポ エステル、ポリエチレン、ポリプロピレン ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルア コール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチ ンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロ スなどが挙げられる。
上記支持フィルムにおける無機粒子含有 光性樹脂層が形成される面は、ジメチルシ キサン化合物などの離型剤を用いた離型処 が施されていることが好ましい。これによ 、ディスプレイパネル用部材および電子部 用部材を形成する際に、支持フィルムの剥 操作を容易に行うことができる。
さらに、無機粒子含有感光性樹脂層の表 に設けられていてもよい保護フィルム層と ては、上記支持フィルムと同様の可撓性を する樹脂フィルムを用いることができ、そ 表面(感光性樹脂層と接する面)は離型処理 施されていることが好ましい。
<転写フィルムの製造方法>
上記転写フィルムは、支持フィルム上に本
明の感光性樹脂組成物を塗布して塗膜を形
し、該塗膜を乾燥させて感光性樹脂層を形
することにより得られる。乾燥後は、ロー
状に巻くか、保護フィルムをラミネートす
。また、上記転写フィルムは、支持フィル
および保護フィルムのそれぞれに感光性樹
組成物を塗布して感光性樹脂層を形成し、
いの樹脂層面を重ね合わせて圧着する方法
よっても、好適に形成することができる。
上記組成物を支持フィルム上に塗布する 法としては、膜厚が大きく(例えば10μm以上) 、かつ、均一性に優れた塗膜を効率よく形成 することができる方法であれば特に限定され ない。例えば、ナイフコータによる塗布方法 、ロールコータによる塗布方法、ドクターブ レードによる塗布方法、カーテンコータによ る塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワ イヤーコータによる塗布方法などが挙げられ る。
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤 残存割合が2重量%以内となるように適宜調 すればよく、例えば、50~150℃の乾燥温度で0. 5~60分間程度である。
上記のようにして形成された無機粒子含 感光性樹脂層の厚みは、30~300μm、好ましく 50~200μmである。
〔パターン形成方法〕
本発明のパターン形成方法は、上記感光性
脂組成物からなる感光性樹脂層を基板上に
成する工程(樹脂層形成工程)、該樹脂層を
光処理してパターンの潜像を形成する工程(
光工程)、該樹脂層を現像処理してパターン
を形成する工程(現像工程)、および該パター
を焼成処理する工程(焼成工程)を含む。
<樹脂層形成工程>
この工程では、本発明の感光性樹脂組成物
らなる感光性樹脂層を基板上に形成する。
光性樹脂層の形成方法としては、たとえば
上記感光性樹脂組成物を基板上に塗布して
膜を形成し、該塗膜を乾燥させて形成する
法や、上記転写フィルムを用いて、該転写
ィルムを構成する感光性樹脂層を基板上に
写して形成する方法などが挙げられる。
上記組成物を基板上に塗布する方法とし は、膜厚が大きく(例えば10μm以上)、かつ、 均一性に優れた塗膜を効率よく形成すること ができる方法であれば特に限定されない。例 えば、ナイフコーターによる塗布方法、ロー ルコータによる塗布方法、ドクターブレード による塗布方法、カーテンコータによる塗布 方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤー コータによる塗布方法などが挙げられる。
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤 残存割合が2重量%以内となるように適宜調 すればよく、例えば、50~150℃の乾燥温度で0. 5~60分間程度である。
上記のようにして形成された感光性樹脂 の厚みは、30~300μm、好ましくは50~200μmであ 。なお、組成物を塗布をn回繰り返すことで 、n層(nは2以上の整数を示す)の樹脂層を有す 積層体を形成してもよい。
一方、上記転写フィルムを基板上にラミ ートして、感光性樹脂層を基板上に転写す ことにより、基板上に膜厚均一性に優れた 脂層を容易に形成することができ、形成さ るパターンの膜厚均一化を図ることができ 。感光性樹脂層を転写する際、上記転写フ ルムを用いてn回転写を繰り返すことにより 、n層(nは2以上の整数を示す)の樹脂層を有す 積層体を形成してもよい。あるいは、n層の 樹脂層からなる積層体が支持フィルム上に形 成された転写フィルムを用いて基板上に一括 転写することにより、前記積層体を形成して もよい。
転写フィルムを用いた転写工程の一例を せば以下のとおりである。必要に応じて用 られる転写フィルムの保護フィルム層を剥 した後、基板の表面に感光性樹脂層の表面 当接するように転写フィルムを重ね合わせ この転写フィルムを加熱ローラなどにより 圧着した後、樹脂層から支持フィルムを剥 除去する。これにより、基板の表面に感光 樹脂層が転写されて密着した状態となる。
転写条件としては、例えば、加熱ローラの 面温度が40~140℃、加熱ローラによるロール が0.1~10kg/cm 2 、加熱ローラの移動速度が0.1~10m/分である。 た、基板は予熱されていてもよく、予熱温 は、例えば40~140℃である。
本発明で用いられる基板材料としては、 えば、ガラス、シリコーン、ポリカーボネ ト、ポリエステル、芳香族アミド、ポリア ドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料か なる板状部材が挙げられる。この板状部材 表面には、必要に応じて、シランカップリ グ剤などによる薬品処理;プラズマ処理;イ ンプレーティング法、スパッタリング法、 相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成 理などの前処理が施されていてもよい。本 明においては、基板として、耐熱性を有す ガラス基板を用いることが好ましい。この うなガラス基板としては、例えば、旭硝子( )製「PD200」などが挙げられる。
<露光工程>
上記樹脂層形成工程により基板上に感光性
脂層を形成後、露光装置を用いて露光を行
。露光は通常のフォトリソグラフィーで行
れるように、フォトマスクを用いてマスク
光する方法を採用することができる。用い
マスクは、感光性樹脂層の有機成分の種類
よって、ネガ型もしくはポジ型のどちらか
選定する。露光用マスクの露光パターンは
目的によって異なるが、たとえば、10~500μm
のストライプもしくは格子である。また、
ォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視
レーザー光、Arイオンレーザーなどで直接
画する方法を用いてもよい。
露光装置としては、平行光露光機、散乱 露光機、ステッパー露光機、プロキシミテ 露光機等を用いることができる。また、大 積の露光を行う場合は、ガラス基板などの 板上に感光性樹脂組成物を塗布した後に、 送しながら露光を行うことによって、小さ 露光面積の露光機で、大きな面積を露光す ことができる。
露光の際に使用される活性光源は、たと ば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線 X線、レーザー光などが挙げられるが、これ らの中で紫外線が好ましく、その光源として は、たとえば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超 高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが使用でき る。これらの中では超高圧水銀灯が好適であ る。
露光条件は、塗布厚みによって異なるが、1 ~100mW/cm 2 の出力の超高圧水銀灯を用いて0.05~1分間露光 を行なう。この場合、波長フィルターを用い て露光光の波長領域を狭くすることによって 、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上 させることができる。
上記のようにして露光することにより、 脂層にパターンの潜像を形成する。なお、 脂層上に被覆されている支持フィルムを剥 しない状態で露光を行うことが好ましい。
<現像工程>
上記露光後、感光部分と非感光部分の現像
に対する溶解度差を利用して、樹脂層を現
して樹脂層のパターンを形成する。現像方
(例えば、浸漬法、揺動法、シャワー法、ス
プレー法、パドル法、ブラシ法など)および
像処理条件(例えば、現像液の種類・組成・
度、現像時間、現像温度など)などは、樹脂
層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい
。
現像工程で用いられる現像液としては、 脂層中の有機成分を溶解可能な有機溶媒を 用できる。また、前記有機溶媒にその溶解 が失われない範囲で水を添加してもよい。 脂層中にカルボキシル基等の酸性基を持つ 合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現 できる。
上記アルカリ水溶液としては、たとえば 水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸 カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸 素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素ア モニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸 水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸 トリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチ ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ 、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ ウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液、テト メチルアンモニウムヒドロキシド、トリメ ルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキ ド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、 リメチルアミン、モノエチルアミン、ジエ ルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ ピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタ ールアミン、ジエタノールアミン、トリエ ノールアミンなどが挙げられる。
上記アルカリ水溶液の濃度は、通常0.01~10 重量%、より好ましくは0.1~5重量%である。ア カリ濃度が低すぎると可溶部が除去されな ことがあり、一方、アルカリ濃度が高すぎ と、パターン部を剥離させるおそれや、非 溶部を腐食させるおそれがある。また、現 時の現像温度は、20~50℃で行うことが工程管 理上好ましい。
上記アルカリ水溶液には、ノニオン系界 活性剤や有機溶剤などの添加剤が含有され いてもよい。なお、アルカリ現像液による 像処理がなされた後は、通常、水洗処理が される。
<焼成工程>
上記現像後の樹脂層残留部(樹脂層のパター
ン)における有機物質を焼失させるために、
成炉にて樹脂層のパターンを焼成処理する
焼成雰囲気は、組成物や基板の種類によ て異なるが、空気、オゾン、窒素、水素等 雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バ チ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を いることができる。
焼成処理条件は、樹脂層残留部中の有機 質が焼失されることが必要であるため、通 、焼成温度が300~1000℃、焼成時間が10~90分間 である。例えば、ガラス基板上にパターン形 成する場合は、350~600℃の温度で10~60分間保持 して焼成を行う。
<加熱工程>
上記転写、露光、現像、焼成の各工程中に
必要に応じて、乾燥または予備反応の目的
、50~300℃の加熱工程を導入してもよい。
〔FPD部材等の製造方法〕
上記工程を含む本発明のパターン形成方法
より、誘電体、電極、抵抗体、蛍光体、隔
、カラーフィルター、ブラックマトリック
等のFPD用部材や、電子部品の回路パターン
を形成することができる。このような本発
のFPD用部材の製造方法は、PDPの製造方法に
している。
以下、実施例に基づいて本発明をより具 的に説明するが、本発明は、これらの実施 により何ら限定されるものではない。
なお、以下において、「部」および「%」 は、特に断りのない限り、それぞれ「重量部 」および「重量%」を示す。
また、以下において、重量平均分子量(Mw) は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ ー(GPC)(東ソー株式会社製「HLC-8220GPC」)により 測定したポリスチレン換算の値である。GPC測 定は、GPCカラムとして東ソー株式会社製「TSK guardcolumn SuperHZM-M」を用い、溶媒としてテト ヒドロフラン(THF)を用い、測定温度40℃の条 件で行った。
以下の実施例等における各種評価は下記 ようにして行った。
<分散性評価>
混練りすることにより調製したペースト状
感光性樹脂組成物の分散性を、グラインド
ージ(ガードナー株式会社製、スケール0~25μ
m)を用いて評価した。分散後の感光性樹脂組
物のグラインドメーター値が3μm以内であれ
ば○、3~5μm以内であれば△、5μmを超えるも
は×とした(表1および2参照)。
<塗布性評価>
作製した転写フィルムの塗布性を膜厚測定
より評価した。転写フィルムの膜厚分布が1
80±3μm以下であれば○、180±3~10μm以内であれ
△、180±10μmを超えるものは×とした(表1お
び2参照)。
<待機スジ評価>
支持フィルムを一部剥した状態で10分間保
した後、支持フィルムの剥離部分と非剥離
分との境界線を非接触三次元形状測定装置(
番:NH-3 三鷹光器(株))で測定した。待機スジ
が2μm以下のものは剥離強度も小さかった。
<焼成後のパターンの評価>
パネルを切断して小片にし、パターン断面
走査型電子顕微鏡(日立製作所製「S4200」)で
観察し、パターンの幅および高さを計測した
。幅および高さが所望の規格±5μm以内であれ
ば○、規格から一部外れるもの;規格±5μmを
えて10μm以内であれば△、規格±10μmを超え
ものは×とした(表1および2参照)。なお、ピ
チ幅200μm、一辺150μmの格子状パターンを有
るマスクを用いて評価した。
<合成例1>
ベンジルメタクリレート50g、2-メタクリロ
ロキシエチルフタル酸50g、アゾビスイソブ
ロニトリル(AIBN)1gおよびペンタエリスリトー
ルテトラキス(3-メルカプトプロピオン酸)(堺
学工業(株)製)5gを、攪拌機付きオートクレ
ブに仕込み、窒素雰囲気下において、プロ
レングリコールモノメチルエーテル150部中
均一になるまで攪拌した。次いで、70℃で4
間重合させ、さらに100℃で1時間重合反応を
続させた後、室温まで冷却してメタクリル
脂(以下「アルカリ可溶性樹脂(B1)」という)
得た。このアルカリ可溶性樹脂(B1)の重合率
は98%であり、アルカリ可溶性樹脂(B1)のMwは17,
000であり、Tgは64℃であった。
<合成例2>
攪拌装置、温度計、コンデンサーおよび窒
ガス導入管を備えた1リットルのフラスコに
、トリス(ポリオキシプロピレン)グリセリル
ーテル(Mw300、和光純薬工業(株)製)300g(水酸
=3mol)および塩酸1.56g(35%水溶液、HCl成分とし
0.015mol)を入れて攪拌し、メタクリル酸2-(ビ
ロキシエトキシ)エチル600g(3mol)を発熱に注意
しながらゆっくり滴下した。発熱が緩やかに
なったところで60℃に昇温し、4時間反応を行
った。このようにして得られた反応物をIRに
り分析したところ、水酸基に起因する3500cm-
1付近のピークはほぼ消失しており、目的と
るエチレン性不飽和基含有化合物(以下「多
能メタクリレート(D1)」という)を得た。
<調製例1>
ガラス粉末としてB 2
O 3
-SiO 2
-Al 2
O 3
系ガラス粉末(軟化点560℃)90部、フィラーと
てSiO 2
10部、アルカリ可溶性樹脂(B1)25部、特定添加
(C1)として信越化学工業(株)社製「X-22-6191」(
HLB値:2)0.5部、多官能メタクリレート(D1)10部、
光重合開始剤として2-メチル-1-[4-(メチルチオ
)フェニル]-2-モルフォリノ-1-プロパン-1-オン0
.5部、増感剤として2,4-ジエチルチオキサント
ン0.1部、1-クロロ-4-プロポキシチオキサント
0.05部、密着剤として3-メタクリロキシプロ
ルトリメトキシシラン0.2部、溶剤としてプ
ピレングリコールモノメチルエーテル30部
混練りすることにより、感光性樹脂組成物(
下「組成物(a1)」という。)を調製した。
<調製例2~14>
調製例1と同様にして、表1の実施例2~8およ
表2の比較例1~6に示す組成を有する感光性樹
組成物(以下「組成物(a2)~(a14)」という。)を
製した。
〔実施例1〕
<転写フィルムの作製>
調製例1で得られた組成物(a1)を、予め離型
理したPETフィルム(剥離力4.5g/25mm、ピューレ
クスA43:帝人デュポンフィルム(株)製)よりな
る支持フィルム(幅200mm、長さ30m、厚さ50μm)上
に、ロールコーターを用いて塗布して塗膜を
形成した。形成された塗膜を100℃で10分間乾
することにより溶剤を除去して、厚さ90μm
感光性樹脂層を形成した。乾燥後のフィル
を目視で観察したところ、塗りむらはなく
均一に形成できていた。次いで、同様のフ
ルムをもう1枚作成し、2枚のフィルムの感光
性樹脂層を互いに貼り合せて、加熱ローラに
より熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの
表面温度を90℃、ロール圧を4kg/cm 2
、加熱ローラの移動速度を速度0.5m/分とした
このようにして、感光性樹脂層(厚さ180μm)
有する転写フィルム(以下「転写フィルム(1)
という)を作製した。
<転写工程>
得られた転写フィルム(1)の一方の支持フィ
ムを剥離して、6インチパネル用のガラス基
板の表面に感光性樹脂層を重ね合わせ、感光
性樹脂層を加熱ローラにより熱圧着した。圧
着条件は、加熱ローラの表面温度を90℃、ロ
ル圧を4kg/cm 2
、加熱ローラの移動速度を0.5m/分とした。こ
により、ガラス基板の表面に感光性樹脂層
転写されて密着した状態となった。転写さ
た感光性樹脂層の厚みを測定したところ、1
80μm±2μmの範囲にあった。
<露光工程>
基板上に形成された感光性樹脂層に対して
露光用マスク(線幅70μm、ピッチ200μmのネガ
ストライプパターン)を介して、超高圧水銀
灯によりi線(波長365nmの紫外線)を照射した。
射量は100mJ/cm 2
とした。露光後、感光性樹脂層より支持フィ
ルムを剥離除去した。
<現像工程>
露光処理された感光性樹脂層に対して、0.5
量%の炭酸ナトリウム水溶液(23℃)を現像液
するシャワー法により現像処理を行った。
れにより、紫外線が照射されていない未硬
の感光性樹脂層の部分を除去した。次いで
超純水による水洗処理および乾燥処理を行
た。これにより、隔壁パターンを形成した
<焼成工程>
隔壁パターンが形成されたガラス基板を、
成炉内で600℃の温度雰囲気下で30分間にわ
り焼成処理した。これにより、ガラス基板
表面に隔壁が形成されてなるパネル材料が
られた。
得られたパネル材料における隔壁の断面 状を走査型電子顕微鏡により観察し、断面 状の底面の幅および高さを測定した。その 果、底面の幅が70μm±3μm、高さが120μm±2μm あり、寸法精度がきわめて高いものであり かつ隔壁のエッヂがシャープなパターンが 成できたことがわかった。また、残さやパ ーンの剥がれ、変形は観察されなかった。 のように、特定添加剤(C1)を添加した組成物( a1)を用いて作製した転写フィルムは、転写フ ィルムの作製時に組成物(a1)を支持フィルム に均一に塗布することが可能なため、優れ パターンを形成できることがわかった。
〔実施例2~4〕
実施例1と同様に、調製例2~4で得られた組成
物(a2)~(a4)を用いて感光性樹脂層(厚さ180μm)を
する転写フィルム(以下「転写フィルム(2)~(4
)」という)を作製した。実施例1と同様の工程
で転写し、露光、現像、焼成した感光性樹脂
層の評価結果を表1に示した。
〔実施例5〕
<転写フィルムの作製>
調製例5で得られた組成物(a5)を、予め離型
理したPETフィルム(剥離力4.5g/25mm、ピューレ
クスA43:帝人デュポンフィルム(株)製)よりな
る支持フィルム(幅200mm、長さ30m、厚さ50μm)上
に、ロールコーターを用いて塗布して塗膜を
形成した。形成された塗膜を100℃で20分間乾
することにより溶剤を除去して、厚さ180μm
感光性樹脂層を形成した。乾燥後のフィル
を目視で観察したところ、塗りむらはなく
均一に形成できていた。さらに、この感光
樹脂層上に予め離型処理したPETフィルムよ
なる保護フィルム(幅200mm、長さ30m、厚さ38μ
m)を積層し、厚さ180±2μmの感光性樹脂層を有
る転写フィルム(以下「転写フィルム(5)」と
いう)を作製した。
転写フィルム(1)のかわりに転写フィルム( 5)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、 ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパ ネル材料を作製した。得られたパネル材料に おける隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡に より観察し、断面形状の底面の幅および高さ を測定した。その結果、底面の幅が70μm±3μm 高さが120μm±2μmであり、寸法精度がきわめ 高いものであり、かつ隔壁のエッヂがシャ プなパターンが形成できたことがわかった また、残さやパターンの剥がれ、変形は観 されなかった。このように、特定添加剤(C4) を添加した組成物(a5)を用いて作製したフィ ムは、転写フィルムの作製時に組成物(a5)を 持フィルム上に均一に塗布することが可能 ため、優れたパターンを形成できることが かった。
〔実施例6~8〕
実施例5と同様に、調製例6~8で得られた組成
物(a6)~(a8)を用いて感光性樹脂層(厚さ180μm)を
する転写フィルム(以下「転写フィルム(6)~(8
)」という)を作製した。転写フィルム(1)のか
りに転写フィルム(6)~(8)を用いたこと以外は
実施例1と同様にして、ガラス基板の表面に
壁が形成されてなるパネル材料を作製した
評価結果を表1に示す。
表1中、MTPMPは2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェ
ニル]-2-モルフォリノ-1-プロパン-1-オン、DETX
2,4-ジエチルチオキサントン、PGMEはプロピ
ングリコールモノメチルエーテルを示す。
た、特定添加剤については、
C1: X-22-6191[信越化学工業(株)社製]
C2: KF-945 [信越化学工業(株)社製]
C3: FZ-7001 [東レ・ダウコーニング・シリコ
ン(株)社製]
C4: SH3749 [東レ・ダウコーニング・シリコ
ーン(株)社製]
C5: SH8400 [東レ・ダウコーニング・シリコ
ーン(株)社製]
C6: FZ-7002 [東レ・ダウコーニング・シリコ
ン(株)社製]
を示す。
〔比較例1〕
<転写フィルムの作製>
調製例9で得られた組成物(a9)を、予め離型
理したPETフィルム(剥離力4.5g/25mm、ピューレ
クスA43:帝人デュポンフィルム(株)製)よりな
る支持フィルム(幅200mm、長さ30m、厚さ50μm)上
に、ロールコーターを用いて塗布して塗膜を
形成した。形成された塗膜を100℃で10分間乾
することにより溶剤を除去して、厚さ180μm
感光性樹脂層を形成した。乾燥後のフィル
を目視で観察したところ、塗りむらがあり
均一に形成できていなかった。さらに、こ
感光性樹脂層上に予め離型処理したPETフィ
ムよりなる保護フィルム(幅200mm、長さ30m、
さ38μm)を積層し、厚さ180±10μmの感光性樹脂
層を有する転写フィルム(以下「転写フィル
(9)」という)を作製した。
転写フィルム(1)のかわりに転写フィルム( 9)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、 ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパ ネル材料を作製した。得られたパネル材料に おける隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡に より観察し、断面形状の底面の幅および高さ を測定した。その結果、底面の幅が100μm±5μm 、高さが120μm±5μmであり、寸法精度が低く、 かつ隔壁の中央部でエグレが生じたパターン しか得られなかった。このように、本発明の 特定添加剤の要件であるHLB値2~8を満たさない レベリング剤を添加した組成物(a9)を用いて 製したフィルムは、転写フィルムの作製時 組成物(a9)を支持フィルム上に均一に塗布す ことができず、優れたパターンを形成する とができなかった。
〔比較例2~6〕
比較例1と同様に、調製例10~14で得られた組
物(a10)~(a14)を用いて感光性樹脂層(厚さ180μm)
を有する転写フィルム(以下「転写フィルム(1
0)~(14)」という)を作製した。転写フィルム(9)
かわりに転写フィルム(10)~(14)を用いたこと
外は比較例1と同様にして、ガラス基板の表
面に隔壁が形成されてなるパネル材料を作製
した。評価結果を表2に示す。
表2中、MTPMPは2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェ
ニル]-2-モルフォリノ-1-プロパン-1-オン、DETX
2,4-ジエチルチオキサントン、PGMEはプロピ
ングリコールモノメチルエーテルを示す。
た、レベリング剤については、
C7: SF8428 [東レ・ダウコーニング・シリ
ーン(株)社製]
C8: KF-615A [信越化学工業(株)社製]
C9: KF-642 [信越化学工業(株)社製]
C10:FZ-2162 [東レ・ダウコーニング・シリコ
ーン(株)社製]
C11:レオドールMS-60[花王(株)社製、C 17
H 35
CO-O-CH 2
CH(OH)CH 2
OH]
を示す。
<調製例15>
無機粒子としてB 2
O 3
-SiO 2
-Al 2
O 3
系ガラス粉末(熱軟化点550℃)90部、アルカリ
溶性樹脂(A1)30部、多官能メタアクリレート(B
1)10部、光重合開始剤として2-メチル-1-[4-(メ
ルチオ)フェニル]-2-モルフォリノ-1-プロパン
-1-オン0.5部、2,4-ジエチルチオキサントン0.1
、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン0.05
、密着助剤として3-メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン0.2部、特定添加剤として
SH8400(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)
製)0.1部およびFZ-7001(東レ・ダウコーニング・
シリコーン(株)製)0.3部、溶剤としてテルピネ
オール30部を混練りすることにより、組成物(
以下「組成物(a15)」という。)を調製した。
<調製例16>
無機粒子としてB 2
O 3
-SiO 2
-Al 2
O 3
系ガラス粉末(熱軟化点550℃)90部、アルカリ
溶性樹脂(A1)30部、多官能メタアクリレート(B
1)10部、光重合開始剤として2-メチル-1-[4-(メ
ルチオ)フェニル]-2-モルフォリノ-1-プロパン
-1-オン0.5部、2,4-ジエチルチオキサントン0.1
、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン0.05
、密着助剤として3-メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン0.2部、溶剤としてテルピ
ネオール30部を混練りすることにより、組成
(以下「組成物(a16)」という。)を調製した。
〔実施例9〕
調製例15で得られた組成物(a15)をガラス基板
上にスクリーン印刷により塗布した後、100℃
のクリーンオーブンで30分間乾燥して、厚さ9
0μmの無機粉体含有樹脂層を形成した。この
脂層上に組成物(a15)をスクリーン印刷にて再
度塗布した後、100℃のクリーンオーブンで30
間乾燥して、厚さ180μmの無機粉体含有樹脂
を形成した。この無機粒子含有樹脂層の厚
を測定したところ、180μm±2μmの範囲にあっ
。露光工程以降は、実施例1と同様にして、
ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパ
ネル材料を作製した。
得られたパネル材料における隔壁の断面 状を走査型電子顕微鏡により観察し、断面 状の底面の幅および高さを測定した。その 果、底面の幅が70μm±3μm、高さが120μm±2μm あり、寸法精度がきわめて高いものであり かつ隔壁のエッヂがシャープなパターンが 成できたことがわかった。また、残さやパ ーンの剥がれ、変形は観察されなかった。 のように、特定添加剤を添加した組成物(a15) は、スクリーン印刷によりガラス基板上に均 一に塗布することが可能なため、優れたパタ ーンを形成できることがわかった。
〔比較例7〕
調製例16で得られた組成物(a16)をガラス基板
上にスクリーン印刷により塗布した後、100℃
のクリーンオーブンで30分間乾燥して、厚さ9
0μmの無機粉体含有樹脂層を形成した。この
脂層上に組成物(a16)をスクリーン印刷にて再
度塗布した後、100℃のクリーンオーブンで30
間乾燥して、厚さ180μmの無機粉体含有樹脂
を形成した。この無機粒子含有樹脂層の厚
を測定したところ、180μm±10μmの範囲にあっ
た。露光工程以降は、実施例1と同様にして
ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなる
ネル材料を作製した。
得られたパネル材料における隔壁の断面 状を走査型電子顕微鏡により観察し、断面 状の底面の幅および高さを測定した。その 果、底面の幅が100μm±5μm、高さが120μm±7μm あり、寸法精度が低く、かつ隔壁の中央部 エグレが生じたパターンしか得られなかっ 。このように、特定添加剤を添加していな 組成物(a16)は、スクリーン印刷によりガラ 基板上に均一に塗布することができず、優 たパターンを形成することができなかった