図1は本発明の具体的な一実施例に係るプ ラズマ発生装置100の構成を示す断面図である 。図2は、図1のプラズマ発生装置100のプラズ� ��化領域Pの長手方向に垂直な断面図(部分図)� ��ある。

 図1のプラズマ発生装置100は、アルミナ(Al ₂ O ₃ )を原料とする焼結体から成る筐体10を有する 。筐体10の内部には、長手方向に直線状に伸� ��た(以下、この方向をx軸方向という)プラズ� ��化領域Pが設けられている。筐体10は、直径8 mmの孔15と、直径5mmの2つの孔13と、その孔13の 形成された拡散板14と、案内部16とを含むガ� �導入部12を有している。孔13は、x軸方向に長 辺を有する長方形状、スリット状であっても 良い。ガスは、孔15から導入されて拡散板14� �よりx軸方向に2分されて、孔13から、プラズ� ��化領域P領域の方に案内される。案内部16は� ��プラズマ化領域Pのx軸方向に一様に、x軸方� ��に垂直な方向(以下、この方向でガスが流れ る向きをy軸方向という)にガスを流すための� ��径1.5mmの多数の孔を有する。案内部16は、多 数の孔が格子状に配設されたものの壁面であ り、多数の孔とこの壁面とで、拡散部18が構� ��される。プラズマ化領域Pの下流側には、第 1排出部21と第2排出部22とから成る排出部20が� ��成されている。第1排出部21は、y軸方向に軸 方向を有する孔23が、x軸方向に沿って多数配 設されている。また、第2排出部22は、y軸方� �に軸方向を有する孔24がx軸方向に沿って多� �配設されている。孔23、24の直径は、0.5mm、� �23の長さは4mm、孔24の長さは16mmである。孔23� ��24のx軸方向の間隔は2.5mmで、それぞれ、16個 、設けられている。

 プラズマ化領域Pは、x軸方向に垂直な断面� �短辺を2mm、長辺を5mmの長方形とし、長辺をy� ��方向と、x軸方向の長さを4cmとした。電極2a� ��び2bは、図1のガス流に平行な断面(図1のy軸� ��平行な断面)は、図3に示すように長方形状� �している。また、電極2a及び2bのx軸方向に垂 直な断面は、プラズマ化領域Pのx軸方向に垂� ��な断面の形状に相似の長方形をしている。� ��極2a及び2bは図3に示す通り、互いに対向す� �面が深さ0.5mm程度の凹部(ホロー)Hを多数有し た凹凸面となっている。電源は、60Hz、100Vの� ��用交流電源を用いている。電極2a及び2bの印 加電圧は、この商用電源電圧を約9kVに昇圧し 、電極2a、2b間の給電電流は、20mAとした。ア� ��ゴンをガス導入部12から、x軸方向に導入す� ��と、電極2a及び2b間を4cm迄離間しても、プラ ズマ化が確認された。
 プラズマ発生装置110は、液晶表示器のガラ� ��基板において、異方性導電フィルム(ACF)を� �付する部分を、ACFを貼付する前に洗浄する� �とで、ACFの基板に対する接着度を向上させ� �ことができる。
 また、電極2a及び電極2b間(x軸方向の間隔)を 長さ4cmとして、プラズマ化領域Pのx軸に垂直� ��断面を正方形として、一辺の長さを変化さ� ��たところ、5mm以下で安定して放電した。ま� ��、プラズマ化領域Pの断面の一辺の長さを5mm として、電極2a及び2b間の長さを変化させた� �ころ、距離4cm以下で安定して放電した。

 次に、この装置を用いて、液晶表示器のガ� ��ス基板の表面を、アルゴンガスのプラズマ� ��より親水処理を行った。処理を行う前の接� ��角は50度であったが、処理後の接触角は7度� ��あった。また、図1において、第2排出部22を 設けなかった装置の場合には、ガラス基板と 孔23の先端との間に放電が見られた。しかし� ��図1の本実施例の装置によると、このような 放電は見られなかった。このことから、本装 置においては、対象物に損傷を与えることな く、プラズマ処理を実行することができる。 また、図1において、第2排出部22を設けなか� �た装置と、第2排出部22を設けた図1の装置に� ��いてについて、酸素をアルゴンガスと共に� ��ラズマ発生ガスとして供給して、孔の先端� ��ら5mmの位置での、酸素ラジカル濃度を測定� ��た。酸素の混合比率は0%~4%の範囲で変化さ� �て、それぞれの場合において、真空紫外吸� �分光法を用いて酸素ラジカル密度を測定し� �。第2排出部22を設けても、酸素ラジカル密� �は、3×10 ¹⁴ /cm ³  ~7×10 ¹⁴ /cm ³  が得られ、第2排出部22を設けない装置では、 3×10 ¹⁴ /cm ³  ~2.4×10 ¹⁵ /cm ³  であった。第2排出部22を設けても、特に、親 水処理の効果が劣化するものではない。また 、プラズマ化領域Pでの電子密度は、酸素の� �合比率が3%、ガス流量が3L/min の時、2×10 ¹⁶ /cm ³  であった。

 次に、本第2実施例の装置について、図4� �参照して説明する。本実施例は、実施例1の� ��2排出部22を、y軸方向に対して傾斜した孔26� ��有する傾斜排出部27と、y軸方向に沿った直� ��排出部25とで構成した。他の構成は、実施� �1と同一である。傾斜排出部22は、y軸に対し� ��、10度傾斜させた。傾斜範囲は3度~30度の範� ��が望ましい。さらに望ましくは、5度~20度の 範囲が良い。要は、孔24の開口から、孔23の� �口が見通せない、一軸上にない状態とする� �とが良い。y軸への射影の長さは、12mm、直線 排出部25の長さは4mmである。このような構成� ��より、排出部20において、確実に電子を孔� �壁面に吸収して、ラジカルだけを孔24の先端 から放射することができる。この実施例2の� �置では、プラズマを照射して親水処理を行� �た後の接触角は、9.5度と、実施例1の装置に� ��べて若干、大きくなったが、対象物に対す� ��放電の防止を確実に行うことができた。ま� ��、傾斜排出部27を設けることにより、孔24の 開口から、プラズマ化領域Pを見通すことが� �きなくなる。このため、プラズマ化領域Pで� ��光した紫外線が、孔26の壁面で遮られ、紫� �線が、対象物に照射されなくなった。この� �果、対象物が紫外線により損傷を受けるこ� �が防止された。

 上記全実施例において、これらのプラズ� ��発生装置を長手方向であるx軸方向に、又は 、x軸に平行に多数段もうけて、大面積の処� �が可能となるようにしても良い。軸方向にn� ��設けると、上記の例では、4ncmの幅で、対象 物を処理することができる。このとき、物は 、軸に垂直な方向(x軸、及びy軸に垂直な方向 に)搬送することで、さらに、大面積の処理� �可能となる。また、軸に平行に多数設けて� �x軸、及びy軸に垂直な方向に対象物を搬送し た場合には、プラズマ照射処理を確実に行う ことができる。また、孔23、24、26のガス流に 対して垂直な断面形状は、円形の他、長円で あっても良いし、図1、4のx軸及びy軸に垂直� �方向(紙面に垂直な方向)に長手方向を有する 長方形、スリットなどであっても良い。

 上記の全実施例において、プラズマ化領域P のx軸に垂直な断面を長方形とする場合には� �一辺の長さは2mm以上5mm以下の範囲が望まし� �。また、断面積は3mm ²  以上25mm ²  以下が望ましい。