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Title:
POLISHING AGENT, FLEXIBLE SHEET-LIKE FORMATION WITH A POLISHING AGENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION AND USE THEREOF
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2019/001637
Kind Code:
A1
Abstract:
The present invention relates to a polishing agent suitable for use in the dried state, applied to a flexible sheet-like formation, to a sheet-like formation provided with the polishing agent and to a method for producing such a sheet-like formation with the polishing agent. The corresponding product is suitable for the individual treatment of different materials by surface polishing. These include precious or non-precious metals, glasses, acrylic, plastics, ornamental stones, etc. The polishing agent comprises a basic substance with polychloroprene in an organic solvent or a solvent mixture to which, inter alia, wax and lubricants, preferably on a nanoparticle basis, can be admixed. This polishing agent is applied to a sheet-like formation and dried.

Inventors:
RAFAINI PARENTE, Jéssica (Rua Humberto de Campos, 530-310 São Caetano do Sul, SP, 09581-310, BR)
RAFAINI PARENTE, Richard (Rua Nestor Moreira, 51 apto 01-800 São Caetano do Sul, SP, 09540-800, BR)
Application Number:
DE2018/100588
Publication Date:
January 03, 2019
Filing Date:
June 27, 2018
Export Citation:
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Assignee:
RAFAINI PARENTE, Jéssica (Rua Humberto de Campos, 530-310 São Caetano do Sul, SP, 09581-310, BR)
RAFAINI PARENTE, Richard (Rua Nestor Moreira, 51 apto 01-800 São Caetano do Sul, SP, 09540-800, BR)
International Classes:
C09G1/02; B24D3/22; B24D11/00; C09K3/14
Foreign References:
US20130283702A12013-10-31
GB1221739A1971-02-10
DE202004008513U12004-08-19
Other References:
DATABASE WPI Week 201756, Derwent World Patents Index; AN 2017-41486U, XP002784753
CHEMICAL ABSTRACTS, Columbus, Ohio, US; abstract no. 8006-61-9
CHEMICAL ABSTRACTS, Columbus, Ohio, US; abstract no. 9010-98-4
CHEMICAL ABSTRACTS, Columbus, Ohio, US; abstract no. 110-82-7
CHEMICAL ABSTRACTS, Columbus, Ohio, US; abstract no. 141-78-6
CHEMICAL ABSTRACTS, Columbus, Ohio, US; abstract no. 67-64-1
CHEMICAL ABSTRACTS, Columbus, Ohio, US; abstract no. 105-46-4
CHEMICAL ABSTRACTS, Columbus, Ohio, US; abstract no. 801-586-9
CHEMICAL ABSTRACTS, Columbus, Ohio, US; abstract no. 8006-44-8
CHEMICAL ABSTRACTS, Columbus, Ohio, US; abstract no. 1314-13-2
CHEMICAL ABSTRACTS, Columbus, Ohio, US; abstract no. 1309-48-4
CHEMICAL ABSTRACTS, Columbus, Ohio, US; abstract no. 9003-35-4
Attorney, Agent or Firm:
BONSMANN, Joachim (BONSMANN · BONSMANN · FRANK Patentanwälte, Kaldenkirchener Str. 35a, Mönchengladbach, 41063, DE)
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Claims:
Patentansprüche

1 . Poliermittel, das zur Anwendung im getrockneten Zustand aufgebracht auf ein flexibles Flächengebilde geeignet ist,

dadurch gekennzeichnet, dass

das Poliermittel ein Gemisch aus wenigstens einem Grundsubstrat und einem Schleifzusatz aufweist,

wobei das Grundsubstrat wenigstens die nachfolgend angegebenen Bestandteile aufweist, wobei sich die Prozentangaben auf die Gewichtsprozente in der feuchten Formulierung des Grundsubstrats beziehen, und die Summe aller Komponenten des Grundsubstrats 100% oder weniger beträgt, wobei der Rest mit einem Lösungsmittel aufgefüllt wird:

a) 5% bis 40% Polychloropren,

b) 5% bis 70% eines organischen Lösungsmittels oder eines Gemisches aus mehreren organischen Lösungsmitten,

und optional

c) 0 bis 30% eines Wachses oder eines Gemisches mehrerer Wachse, d) 0% bis 50% Raffinat (Rohölprodukt),

e) 0% bis 50% Essigsäure,

f) 0% bis 10% Zinkoxid,

g) 0% bis 10% Magnesiumoxid,

h) 0% bis 30% Phenolharz,

und wobei

(i) der Schleifzusatz wenigstens ein Schleifmittel oder mehrere Schleifmittel aufweist.

2. Poliermittel nach Anspruch 1 ,

dadurch gekennzeichnet, dass

das organische Lösungsmittel (b) ein organisches Lösungsmittel oder ein Gemisch mehrerer organischer Lösungsmittel aus der folgenden Gruppe ist:

b1 ) Cyclohexan,

b2) Ethylacetat,

b3) Aceton und/oder

b4) Essigsäure-n-Butylester.

3. Poliermittel nach Anspruch 1 oder 2,

dadurch gekennzeichnet, dass

das Wachs (e) ein Wachs oder ein Gemisch von Wachsen aus der folgenden Gruppe ist:

e1 ) Carnaubawachs und/oder

e2) Candelillawachs.

4. Poliermittel nach einem der Ansprüche 1 bis 3,

dadurch gekennzeichnet, dass

das Wachs mit einem Gewichtsanteil von wenigstens 0,5% im Grundsubstrat vorhanden ist.

5. Poliermittel nach einem der Ansprüche 1 bis 4,

dadurch gekennzeichnet, dass

der Schleifzusatz (i) ein Schleifmittel oder ein Gemisch von Schleifmitteln der folgenden Gruppe ist:

11 ) Aluminiumoxid,

12) Siliciumcarbid,

13) Siliciumdioxid,

14) Zirkonoxid,

15) Ceriumoxid und/oder

16) Diamantpulver.

6. Poliermittel nach einem der Ansprüche 1 bis 5,

dadurch gekennzeichnet, dass

jedes in dem Schleifzusatz enthaltene Schleifmittel eine mittlere Korngröße zwischen 30 nm und 400 μιη, vorzugsweise zwischen 30 nm und 900 nm, aufweist,

7. Poliermittel nach einem der Ansprüche 1 bis 6,

dadurch gekennzeichnet, dass

der Schleifzusatz Ceriumoxid enthält, wenn das Poliermittel besonders zum Polieren von Glas oder Steinen oder zur Lapidierung geeignet sein soll.

8. Flexibles Flächengebilde mit einem Poliermittel nach einem der Ansprüche 1 bis 7,

dadurch gekennzeichnet, dass

das Poliermittel auf ein Flächengebilde aus der nachfolgenden Gruppe auf- getragen ist:

j1 ) Now Woven,

J2) Mikrofaser,

J3) Viskose-Textilstoff,

J4) Baumwollgewebe,

J5) Synthetikstoff,

J6) Polyurethanschaum,

J7) Zellschaum,

J8) Polyester-Schaumstoff,

J9) Polyätherschaum,

j10) Spunlace-Vlies,

j1 1 ) Ethylen-Vinylacetat und/oder

j12) Nylon-Scheuerpads.

9. Verfahren zur Herstellung eines flexiblen Flächengebildes mit einem Poliermittel nach einem der Ansprüche 1 bis 7, insbesondere zur Herstellung eines Flächengebildes nach Anspruch 8,

dadurch gekennzeichnet, dass

das Verfahren wenigstens folgende Schritte aufweist:

i) Mischen der Komponenten des Grundsubstrats,

ii) Hinzufügen des Schleifzusatzes und Mischen,

iii) Auftragen der gemischten Substanz via Injektionsverfahren oder Walze auf dem flexiblen Flächengebilde, und

iv) Trocknen.

10. Verwendung eines flexiblen Flächengebildes nach Anspruch 8 als Poliermittel,

dadurch gekennzeichnet, dass

das flexible Flächengebilde und/oder die zu polierende Oberfläche in Zusammenhang mit der Verwendung des Flächengebildes zusätzlich mit Wasser oder einem Alkohol und/oder mit wenigen Tropfen einer wässrigen Detergenzienlösung benetzt werden.

Description:
Poliermittel, flexibles Flächengebilde mit einem Poliermittel sowie Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Poliermittel, das zur Anwendung im getrockneten Zustand aufgebracht auf ein flexibles Flächengebilde geeignet ist, ein mit dem Poliermittel versehenes Flächengebilde sowie ein Herstellungsverfahren für ein derartiges Flächengebilde mit dem Poliermittel.

Das entsprechende Produkt ist zur individuellen Aufbereitung unterschiedlicher Materialien durch oberflächenmäßiges Polieren geeignet. Hierzu gehören Edel- oder Nichtedelmetalle, Gläser, Acryl, Kunststoffe, Ziersteine, usw. Der Vorgang des Polierens bewirkt einen Oberflächenglättung mit einem gewissen Glanzgrad aufgrund verschiedener Mechanismen: Zum einen werden Rauig- keitsspitzen der Oberflächenstruktur eingeebnet. Zum anderen erfolgt - je nach Art der Politur - ein gewisser Werkstoffabtrag sowie schließlich ein Verfüllen von Vertiefungen.

Bei der herkömmlichen Politur geschieht das Abtragen und Glätten der Oberfläche mit feinen Poliermitteln wie Polierrotkuchen, Polierschiefer, Schlämmkreide, Zinnasche oder Ceroxid, die in der Regel in einer feuchten Paste oder Flüssigkeit, meist in einem sauren Milieu, gebunden sind. Die Mittel sind in einem Flächenge- bilde (Politurträger), etwa einer Tuch-, Filz-, Gummi, Pech- oder Lederscheibe für rotierende Verfahren oder einem Lappen für vibrierendes Arbeiten, gebunden oder oberflächlich aufgebracht.

Herkömmliche Poliermittel weisen allerdings den Nachteil auf, dass empfindliche und dünne Oberflächen (z.B. Kunststoffbeschichtungen, "Klavierlack") ggf. leicht versehentlich zu stark abgetragen werden können. Ferner bewirken die im Stand der Technik verwendeten feuchten Polierformulierungen zusammen mit dem Po- lierabrieb eine erhebliche Verschmutzung des Polierumfeldes und der Poliervorrichtung.

Ferner ist bei bekannten Polierverfahren die Zugabe von Additiven wie Wachsen, das Auftragen von Schleifpasten oder die Zugabe von Lösungsmitteln (wie Wasser) erforderlich, um die erforderlichen Poliereigenschaften und die Feuchte des Poliermittels individuell während des Poliervorgangs anzupassen, was den Aufwand für den Poliervorgang vergrößert. Feuchte Polierflächengebilde sind aufgrund der Verdunstung nur begrenzt lagerfähig oder müssen unter Luftabschluss Aufbewahrt werden.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Poliermittel sowie ein Flächengebilde mit einem derartigen Poliermittel zu schaffen, welche mit geringem Aufwand und bei geringem Materialabtrag und geringer Verschmutzung ein sehr gutes Polierergebnis ermöglichen.

Die Lösung der vorgenannten Aufgabe erfolgt mittels eines Poliermittels mit den Merkmalen des Patentanspruches 1 , mittels eines Flächengebildes mit einem derartigen Poliermittel mit den Merkmalen des Patentanspruches 8, mittels eines Herstellungsverfahrens für ein derartiges Flächengebilde mit den Verfahrensschritten des Patentanspruches 9, sowie mittels einer Verwendung eines derartigen Flächengebildes gemäß Patentanspruch 10.

Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung werden in den abhängigen Patentan- Sprüchen beschrieben.

Erfindungsgemäß weist ein Poliermittel, das zur Anwendung im getrockneten Zustand aufgebracht auf ein flexibles Flächengebilde geeignet ist, ein Gemisch aus wenigstens einem Grundsubstrat und einem Schleifzusatz auf, wobei das

Grundsubstrat wenigstens die nachfolgend aufgelisteten Bestandteile aufweist: a) 5% bis 40% Polychloropren, und b) 5% bis 70% eines organischen Lösungsmittels oder eines Gemisches aus mehreren organischen Lösungsmitten.

Außerdem weist der Schleifzusatz wenigstens ein Schleifmittel oder mehrere Schleifmittel auf.

Optional können dem Grundsubstrat noch folgende Bestandteile hinzugefügt werden:

c) 0% bis 30% eines Wachses oder eines Gemisches mehrerer Wachse, d) 0% bis 50% Raffinat (Rohölprodukt),

e) 0% bis 50% Essigsäure,

f) 0% bis 10% Zinkoxid,

g) 0% bis 10% Magnesiumoxid, und/oder

h) 0% bis 30% Phenolharz,

Dabei beziehen sich die Prozentangaben auf die Gewichtsprozente in der feuchten Formulierung des Grundsubstrats, und die Summe aller Komponenten des Grundsubstrats beträgt 100% oder weniger. Der fehlende Rest zu 100 Gewichts- Prozenten kann mit einem Lösungsmittel oder ggf. weiteren Komponenten (z.B. Füllstoffen) aufgefüllt werden.

Die spezifische Rezeptur wird dabei an die jeweilige Polieraufgabe angepasst. Bei "Raffinat" soll es sich um ein unter der CAS Nr. 8006-61 -9 bekannte Rohölprodukt handeln. Synonyme hierfür sind Naphtha, Leichtes Naphtha, Lösungs- Entfetter, "Cut C6 C8" , oder "Lösungsmittel No. 1 ".

Durch das Grundsubstrat, das als wesentlichen Bestandteil Polychloropren ent- hält, das in der feuchten Formulierung durch organische Lösungsmittel in einer Konsistenz gehalten wird, die eine gleichmäßige Aufbringung auf ein Flächengebilde erlaubt, zusammen mit den (auch bei konventionellen Poliermitteln) vorgese- henen Schleifmitteln, die vorzugsweise eine sehr feine Körnung bis hin zum Na- nopartikelbereich aufweisen, kann nach Aufbringen des Poliermittels auf ein Flächengebilde und nach einem Trocknen eine hervorragende Polierwirkung erzielt werden, denn das Polychloropren hält die Schleifmittel in einer flexiblen Matrix und erlaubt einen optimalen Kontakt mit den zu polierenden Oberflächen.

Durch diese Einbindung der Schleifmittel kann der Poliervorgang sehr genau gesteuert werden und die Gefahr des zu großen Oberflächenabtrags ist verringert. Ferner entsteht bei der trockenen Formulierung wesentlich weniger Schmutz, so dass aufwendige Reinigungsarbeiten nach dem Poliervorgang entfallen können.

In bevorzugter Ausgestaltung kann das organische Lösungsmittel (b) ein organisches Lösungsmittel oder ein Gemisch mehrerer organischer Lösungsmittel aus der folgenden Gruppe b1 ) Cyclohexan,

b2) Ethylacetat,

b3) Aceton und/oder

b4) Essigsäure-n-Butylester. sein. Diese Lösungsmittel erlauben es, das Polychloropren in der feuchten Phase verarbeitungsfähig zu halten und sollten vorzugsweise so gewählt werden, dass die zu polierenden Oberflächen durch nach der Trocknung evtl. noch vorhandene Lösungsmittelreste nicht angegriffen werden.

Wasser stellt kein bevorzugtes Lösungsmittel für die Erfindung dar, kann aber je nach den technischen Gegebenheiten (hygroskopische Tendenzen bestimmter Lösungsmittel) in gewissen Mengen ebenfalls vorhanden sein. Besonders bevorzugt enthält das Grundsubstrat ein Wachs oder ein Gemisch von Wachsen aus der folgenden Gruppe:

e1 ) Carnaubawachs und/oder

e2) Candelillawachs. Durch den Wachszusatz werden feine Vertiefungen beim Polieren geschlossen und ein gewünschter Glanzgrad der zu polierenden Oberfläche hergestellt. Neben den explizit genannten pflanzlichen Wachsen können auch andere Wachse tieri- sehen oder synthetischen Ursprungs Verwendung finden.

Als Definition für ein im Rahmen der Erfindung verwendbares Wachs soll in diesem Zusammenhang die Definition der Deutschen Gesellschaft für Fettwissenschaft herangezogen werden: Ein Stoff wird demnach als Wachs bezeichnet, wenn er bei 20 °C knetbar, fest bis brüchig-hart ist, eine grobe bis feinkristalline Struktur aufweist, farblich durchscheinend bis opak, aber nicht glasartig ist, über 40 °C ohne Zersetzung schmilzt, wenig oberhalb des Schmelzpunktes leicht flüssig (wenig viskos) ist, eine stark temperaturabhängige Konsistenz und Löslichkeit aufweist sowie unter leichtem Druck polierbar ist.

Das Wachs sollte bevorzugt mit einem Gewichtsanteil von wenigstens 0,5% vorhanden sein.

Es ist bevorzugt, dass das Wachs direkt in die Grundsubstanz eingearbeitet ist. Es kann aber auch initial nicht enthalten sein und erst beim Poliervorgang hinzugegeben werden, was natürlich andererseits den Aufwand für den Poliervorgang vergrößert.

Der Schleifzusatz stellt bevorzugt ein Schleifmittel oder ein Gemisch von Schleif- mittein der folgenden Gruppe dar:

11 ) Aluminiumoxid,

12) Siliciumcarbid,

13) Siliciumdioxid,

14) Zirkonoxid,

i5) Ceriumoxid und/oder

i6) Diamantpulver. Bevorzugt weist jedes in dem Schleifzusatz enthaltene Schleifmittel eine (mittlere) Korngröße zwischen 30 nm und 400 μιη, vorzugsweise zwischen 30 nm und 900 nm, auf. Im letzteren Falle liegt die Korngröße im Nanopartikelbereich oder etwas darüber. Dieser Korngrößenbereich ist besonders bevorzugt, da er zusam- men mit dem Polychloropren ein besonders gutes Polierergebnis bei geringem Oberflächenabtrag ermöglicht.

Wenn als Schleifzusatz Ceriumoxid vorgesehen ist, ist das Poliermittel besonders zum Polieren von Glas oder Steinen oder zur sog. Lapidierung geeignet. In die- sem Falle stellt das Poliermittel eine Alternative zum "Juwelierrouge", auch als "optisches Rouge" bekannt, dar.

Das vorstehend beschriebene Poliermittel wird bevorzugt auf ein flexibles Flächengebilde aufgetragen und ist dann nach Trocknung verwendungsfertig für die Polieraufgabe, bei gleichzeitig sehr guter Lagerfähigkeit auch ohne Luftabschluss. Bei dem Flächengebilde kann es sich um ein Flächengebilde aus der nachfolgenden Gruppe handeln, wobei selbstverständlich - soweit technisch möglich - auch Mischgewebe oder Mischvliese möglich sind:

j1 ) Now Woven,

j2) Mikrofaser,

j3) Viskose-Textilstoff,

j4) Baumwollgewebe,

j5) Synthetikstoff,

j6) Polyurethanschaum,

j7) Zellschaum,

j8) Polyester-Schaumstoff,

j9) Polyätherschaum,

j10) Spunlace-Vlies,

j1 1 ) Ethylen-Vinylacetat und/oder

j12) Nylon-Scheuerpads. Bei einem Verfahren zur Herstellung eines flexiblen Flächengebildes mit einem Poliermittel wie vorstehend beschrieben weist das Verfahren wenigstens folgende Schritte auf:

i) Mischen der Komponenten des Grundsubstrats,

5 ii) Hinzufügen des Schleifzusatzes und Mischen,

iii) Auftragen der gemischten Substanz via Injektionsverfahren oder Walze auf dem flexiblen Flächengebilde, und

iv) Trocknen. i o Das Auftragen erfolgt dabei selbstverständlich auf die Seite des Flächengebildes, mit der später der Poliervorgang erfolgen soll. Falls eine beidseitige Verwendbarkeit gewünscht sein sollte, so kann der Auftrag ggf. auch (dann bevorzugt in zwei Schritten) beidseitig erfolgen.

15 Die aufzutragende Schichtdicke beträgt bevorzugt 0,1 bis 5 mm.

Die Trocknung erfolgt bevorzugt unter moderater Heißlufteinwirkung und unter Absaugung und Aufbereitung der entstehenden Lösungsmitteldämpfe, bis das Endprodukt einen stationären Trocknungsgrad erreicht hat, d.h. zu nahezu 100% 20 trocken ist. I

Das so gewonnene Flächengebilde ist in diesem Zustand sehr gut lagerfähig und kann dann auf vielfältige Weise mittels bekannter Werkzeuge (z.B. Poliermaschinen mit rotierendem Polierteller) oder von Hand - beispielsweise auf einer Polier- 25 kelle - eingesetzt werden.

Bei einer Polierkelle kann es sich um eine rechteckige Platte mit einem Handgriff handeln, auf die das entsprechend konfektionierte und z.B. mit einem Gummizug versehene Flächengebilde aufgezogen werden kann.

30

Dabei werden keine Additive wie Wachse, Schleifpasten, Lösungsmittel (ein Benetzen des Flächengebildes mit Wasser und/oder einem Alkohol und/oder einer Detergens kann allerdings zu anderen Zwecken zweckmäßig sein, siehe unten) od. dgl. benötigt und der Poliervorgang wird beschleunigt.

Für viele Anwendungszwecke kann das erfindungsgemäße Flächengebilde vor- teilhaft in trockenem Zustand verwendet werden.

Für manche Zwecke, insbesondere, wenn gleichzeitig mit dem Polieren Rückstände auf den Oberflächen, wie z.B. Verschmutzungen, entfernt werden sollen, kann es jedoch auch vorteilhaft sein, wenn das Flächengebilde kurz vor der Verwen- dung entweder leicht angefeuchtet wird (mit Leitungswasser oder destilliertem Wasser), oder - insbesondere für die Bearbeitung von Oberflächen, bei denen verdunstendes Wasser zu Schlierenbildung führen würde, wie z.B. LCD-Bildschirmoberflächen - mit einem Alkohol, z.B. reinem Ethanol, Brennspiritus oder Isopropanol/Isopropylalkohol, benetzt wird. Auch ist der Zusatz weniger Tropfen einer Detergens (z.B. Spülmittel, Seife oder Universalreiniger) je nach Anwendungszweck sinnvoll, insbesondere, wenn Fette auf den zu polierenden Oberflächen entfernt werden sollen.

Die genannten zusetzbaren Substanzen sind jedoch für den eigentlichen Polier- Vorgang nicht essentiell, so dass die Dosierung des Wassers/Alkohols für das eigentliche Polierergebnis nicht kritisch ist.

Es kann weiterhin vorteilhaft sein, nach der Verwendung eines feuchten Flächengebildes wie vorstehend beschrieben mit einem trockenen erfindungsgemäßen Flächengebilde nachzuarbeiten, um eine Trocknung und eine gewisse Reinigung der Oberflächen von ggf. verschmierten Polierrückständen zu erreichen.

Somit umfasst die Erfindung eine Formulierung eines Grundsubstrates (Phase A), Einbringen eines produktabhängigen Schleifzusatzes (Phase B) (je nach Polier- Werkstück Metall, Kunststoff, Glas etc.), vorzugsweise bis in den Nanobereich, und Auftragen auf einem flexiblen Grundstoff. Ferner umfasst die Erfindung eine Verwendung eines flexiblen Flächengebildes als Poliermittel, bei der das flexible Flächengebilde und/oder die zu polierende Oberfläche im Rahmen der Verwendung optional zusätzlich mit Wasser oder einem Alkohol und/oder mit wenigen Tropfen einer wässrigen Detergenzienlosung benetzt werden.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand eines - nicht einschränkend aufzufassenden - Beispiels näher erläutert: Aufbau Grundsubstrat/Schleifzusatz/flexibler Grundstoff:

Grundsubstrat (Phase A) bestehend aus:

Polychloropren 5-40% (CAS 9010-98-4)

Cyclohexan 30.5% (CAS 1 10-82-7)

Ethylacetat 10% bis 30% (CAS 141 -78-6)

Aceton 10% bis 30% (CAS 67-64-1 )

Raffinat (Rohölprodukt) 30.5% (CAS 8006-61 -9)

Essigsäure-n-Butylester 30.5% (CAS 105-46-4)

Carnaubawachs 1 ,5% bis 15% (CAS 801 -586-9)

Candelillawachs 1 ,5% bis 15% (CAS 8006-44-8)

Zinkoxid von 0,1 bis 3,0% (CAS 1314-13-2)

Magnesiumoxid 0,1 bis 3,0% (CAS 1309-48-4)

Phenolharz 3 bis15% (CAS 9003-35-4) Schleifzusatz (Phase B) bestehend aus:

Aluminiumoxid 5%-50% (CAS 1344-28-1 ) Korngröße (30 nm - 400 pm)

Siliziumkarbid 5%-50% (CAS 409-21 -2) Korngröße (30 nm - 400 pm)

Siliciumdioxid 5%-50% (CAS 14808-60-7) Korngröße (30 nm - 400 pm)

Zirkonoxid 5%-50% (CAS 1314-23-4) Korngröße (30 nm - 400 pm)

Ceriumoxid 5%-50% (CAS 1306-38-3) Korngröße (30 nm - 400 pm)

Diamantpulver 5%-50% (CAS 7782-40-3) Korngröße (30 nm - 400 pm) Flexibler Grundstoff (Flächengebilde) bestehend aus:

Now Woven, Mikrofaser, Viskose-Textilstoff, Baumwollgewebe, Synthetikstoff, PU- Schaum, Zellschaum, Polyester-Schaumstoff, Polyätherschaum, Spunlace-Vlies, Ethyl Vinyl Acetat, Nylon-Scheuerpads (Mantas Acrylics) und/oder andere Mate- rialien oder synthetische Stoffe.

Eine verfeinerte Zusammensetzung der Phase A könnte lauten:

Polychloropren 7,5% (CAS 9010-98-4)

Cyclohexane 23% (CAS 1 10-82-7)

Ethylacetat 5,6% (CAS 141 -78-6)

Aceton 5,6% (CAS 67-64-1 )

Raffinat (Rohölprodukt) 2,8% (CAS 8006-61 -9)

Essigsäure-n-Butylester 2,8% (CAS 105-46-4)

Carnaubawachs 1 ,25% (CAS 801 -586-9)

Candelillawachs 1 ,25% (CAS 8006-44-8)

Zinkoxid 0,1 % (CAS 1314-13-2)

Magnesiumoxid 0,1 % (CAS 1309-48-4)

Phenolharz 5% (CAS 9003-35-4)

Mit einem so hergestellten Flächengebilde und verschiedenen, an die jeweilige Oberfläche angepassten Schleifzusätzen, konnten in Versuchen sehr gute Polierergebnisse beispielsweise an folgenden Objekten erzielt werden:

Oberflächen von Bildschirmen, LCDs, schwarze Pianolackoberflächen, Acrylfarbenbeschichtungen; - Stahl- und Edelstahloberflächen, auch gebürstete Edelstahloberflächen (wie sie häufig z.B. an Aufzugswänden oder Aufzugstüren oder in Großküchen verwendet werden), die fleckig oder angelaufen sein können, wobei durch die Bearbeitung mit dem erfindungsgemäßen Flächengebilde ein gleichmäßiger Glanz der Oberfläche wiederhergestellt und die Empfindlichkeit der Oberflächen gegenüber Fingerabdrücken od. dgl. reduziert wird, andere unedle oder edle Metalle oder Legierungen (Chromoberflächen, Edelmetalle oder Edelmetalllegierungen wie Kupfer, Bronze, Gold, Silber, Messing);

Poröse und/oder trübe Glasoberflächen, auch von Spiegeln.

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Je nach den verwendeten Schleifmitteln (insbesondere abhängig von der Korngröße) können erfindungsgemäß Poliermittel bzw. Flächengebilde hergestellt werden, die sich durch geringen Oberflächenabtrag für einen häufigen (z.B. täglichen) Einsatz auf den Oberflächen eignen, oder die eher für gelegentlichen Einsatz kon- i o zipiert sind, dabei aber einen stärkeren Poliereffekt aufweisen.