<第1実施形態>
 以下に、本発明の第1実施形態であるポリカ ーボネート重合体(以下、「共重合PC」ともい う)、この共重合PCを用いた塗工液、およびそ の塗工液を用いた湿式成形体からなる電子写 真感光体について詳細に説明する。

[共重合PCの構造]
 本実施形態の共重合PCは、下記式(1A)で示さ� ��るモノマー単位と、下記式(2)で示されるモ� ��マー単位とを含んで構成される。

 前記の式(1A)において、RおよびR’は、各々� ��立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~12 のアルキル基または炭素数6~12の置換若しく� �無置換のアリール基を示す。n1は、2~4の整数 であり、n2は、25~700の整数である。

 前記の式(2)において、Arは、2価の芳香族基� ��示す。

 ここで、本実施形態の共重合PCとしては� �該共重合PCを、THF(テトラヒドロフラン)に10� �量%の濃度で溶解した溶液のヘーズ(JIS K7105� �準拠、光路長10mm)が5%以下である。また、該� ��重合PCを、THFに25質量%の濃度で溶解した溶� �のヘーズは10%以下であることが好ましい。

 前記したような所定の溶液においてヘー� ��の高い、すなわち、THFに溶解したときに白� ��を生じるような共重合PCとなるのは、例え� �、式(1A)に対応するモノマー(例えば、後述す る式(6A))と、式(2)に対応するモノマー(例えば 、後述する式(7))とが不均一に共重合した場� �が考えられる。あるいは、それらのモノマ� �同士が均一に共重合したものであっても、� �ロキサン部分がドメインを形成し、共重合� �全体として不均一になっている場合が考え� �れる。このような不均一な構造を有する共� �合PCでは、例えば、湿式成形して電子写真感 光体用のバインダー樹脂として用いた場合、 不均一部分が電荷移動時のトラップサイトと なるため、電子写真感光体としての電気特性 (帯電特性等)が悪化する。一方、前記した式( 1A)におけるn2が小さいと、すなわちシロキサ� ��鎖長が短くなると電子写真感光体の耐擦傷� ��が低下する。

 また、本実施形態の共重合PCにおいて、� �記式(2)におけるArとしては、下記式(3A)で示� �れる官能基の少なくとも一種を含むことが� �ましい。

 ここで、式(3A)において、R ¹ およびR ² は、それぞれ独立に、水素、トリフルオロメ チル基、ハロゲン原子、炭素数1~10のアルキ� �基、炭素数6~12のアリール基、炭素数3~12、好 ましくは炭素数1~6のアルキル基、炭素数6~12� �好ましくは炭素数6~10のアリ一ル基、炭素数3 ~12、好ましくは炭素数5~9のシクロアルキル基 、炭素数1~6のアルコキシ基および炭素数6~12� �好ましくは炭素数6~10のアリールオキシ基か� ��選ばれる官能基を示す。ハロゲン原子とし� ��は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙� ��られる。炭素数1~10のアルキル基としては、 メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプ� ��ピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブ� ��ル基、tert-ブチル基、各種ペンチル基、各� �ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチ� �基、2-メトキシエチル基などが挙げられる。 炭素数6~12のアリール基としては、フェニル� �、トリル基、キシリル基などが挙げられる� �炭素数3~12のシクロアルキル基としては、シ� ��ロプロピル基、シクロブチル基、シクロペ� ��チル基、シクロヘキシル基などが挙げられ� ��。炭素数1~6のアルコキシ基としては、メト� ��シ基、エトキシ基、n一プロポキシ基、イソ プロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ� ��、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、各種ペ� ��トキシ基などが挙げられる。炭素数6~12のア リールオキシ基としては、フェノキシ基、2,6 -ジメチルフェノキシ基、ナフチルオキシ基� �どが挙げられる。
 上記式(3A)において、Xは、単結合、-O-、-S-� �-SO-、-SO ₂ -、-CO-、-CR ³ R ⁴ -(ここで、R ³ およびR ⁴ は、それぞれ独立に、水素原子、トリフルオ ロメチル基、置換または無置換の炭素数1~10� �アルキル基、および置換または無置換の炭� �数6~12のアリール基から選ばれる官能基を示� ��。)、置換または無置換の炭素数5~11、好ま� �くは炭素数5~9のシクロアルキリデン基、置� �または無置換の炭素数2~12、好ましくは炭素� ��2~6のα,ω-アルキレン基、置換または無置換� ��9,9-フルオレニリデン基、置換または無置換 の炭素数6~12、好ましくは炭素数6~10のアリー� ��ン基、下記式(4A)

(式中、R ⁵ ~R ⁷ は、R ¹ およびR ² と同様の官能基を示す。)
で示されるテルペン類から誘導される二価の 官能基、ならびに下記式(5A)

(式中、R ⁸ ~R ¹¹ は、R ¹ およびR ² と同様の官能基を示す。)
で示される炭素数8~16、好ましくは炭素数12~16 のアルキリデンアリーレンアルキリデン基か ら選ばれる官能基を示す。

 また、上記式(3A)におけるXのうち、-CR ³ R ⁴ -におけるR ³ およびR ⁴ の置換または無置換の炭素数1~10のアルキル� �、置換または無置換の炭素数6~12のアリール� ��としては、式(3A)におけるR ¹ およびR ² と同様のものが挙げられる。R ³ とR ⁴ は同一でも異なっていてもよい。具体的には 、例えば、水素とメチル基、メチル基とメチ ル基、メチル基とエチル基、メチル基とフェ ニル基の組み合わせを挙げることができる。
 Xのうちの置換または無置換の炭素数5~11の� �クロアルキリデン基としては、シクロペン� �リデン基、シクロヘキシリデン基、シクロ� �プチリデン基などが挙げられる。置換また� �無置換の炭素数2~12のα,ω-アルキレン基とし� ��は、α,ω-エチレン基、α,ω-プロピレン基、� �,ω-ブチレン基などが挙げられる。置換また� ��無置換の炭素数6~12のアリーレン基としては 、フェニレン基、アルキル置換フェニレン基 、ナフチレン基、アルキル置換ナフチレン基 などが挙げられる。

 上記式(2)で示されるモノマー単位を構成� ��る組み合わせとしては、式(3A)で示される官 能基が、(A)Xが単結合である官能基と、Xが単� ��合以外である官能基との組み合わせ、(B)Xが 置換または無置換の炭素数5~11のシクロアル� �リデン基である官能基と、Xが置換または無� ��換の炭素数5~11のシクロアルキリデン基以外 である官能基との組み合わせ、(C)Xが置換ま� �は無置換の9,9-フルオレニリデン基である官� ��基と、Xが置換または無置換の9,9-フルオレ� �リデン基以外である官能基との組み合わせ� �(D)Xが炭素数8~16のアルキリデンアリーレンア ルキリデン基である官能基と、Xが炭素数8~16� ��アルキリデンアリーレンアルキリデン基以� ��である官能基との組み合わせであるものが� ��げられる。

 本実施形態の共重合PCを構成する式(1A)のモ� ��マー単位において、ジメチルシロキサン単� ��の繰り返し数であるシロキサン鎖長(n2)は、 25~700であり、好ましくは35~300、より好ましく は45~220、さらに好ましくは55~160である。
 このシロキサン鎖長が25未満であると、耐� �傷性が劣り、電子写真感光体用として好ま� �くない。一方、シロキサン鎖長が700を超え� �と、THF等の溶剤に溶解したときに白濁しや� �くなる。このような溶液を塗工液として塗� �して得られた成形品は、透明性に劣るだけ� �なく、電気特性(帯電特性等)にも劣るため電 子写真感光体用として好ましくない。

 本実施形態の共重合PCにおいて、式(1A)のモ� ��マー単位(ポリシロキサン単位)の含有量は� �特に制限はないが、例えば、電子写真感光� �用のバインダー樹脂としての物性、および� �最終的に電子写真感光体となったときの、� �気的特性(帯電特性)や耐擦傷性を考慮すると 、ポリカーボネート共重合体全体に占める割 合が、0.01~50質量%であることが好ましく、0.05 ~20質量%であることがより好ましく、0.1~10質� �%であることがさらに好ましく、0.5~5質量%で� ��ることが最も好ましい。
 モノマー単位の質量分率が0.01質量%未満で� �、電子写真感光体を構成したときに耐擦傷� �が十分得られず好ましくない。また、モノ� �ー単位の質量分率が50質量%を超えると電子� �真感光体の強度の低下を招き、耐擦傷性が� �下するので好ましくない。
 なお、シロキサン鎖長と式(1A)のモノマー単 位の質量分率は、ともに前記した範囲にある ことが好ましい。

 また、本実施形態の共重合PCは、塩化メチ� �ンを溶媒とする濃度0.5g/dl溶液の20℃におけ� �還元粘度[η _sp /C]が0.1~5dl/gであることが好ましく、より好ま しくは0.2~3dl/g、特に好ましくは0.3~2.5dl/gであ� ��。還元粘度[η _sp /C]が0.1dl/g未満であると、電子写真感光体の� �擦傷性が不十分となるおそれがある。また� �還元粘度[η _sp /C]が5dl/gを超えると、感光体製造時に、塗工� ��度が高くなりすぎて、電子写真感光体の生� ��性が低下するおそれがあり、好ましくない� ��

 また、共重合PCが特定のポリシロキサン単� �、ビフェノール単位およびビスフェノール� �位からなる3元共重合体であると、電子写真� ��光体形成用の塗工液に対する溶解度が高く� ��り、さらに、電子写真感光体の耐擦傷性も� ��上するので好ましい。
 例えば、式(2)のモノマー単位は、式(3A)に示 すXが単結合であるいわゆるビフェノール単� �と、Xが-CR ³ R ⁴ -あるいは炭素数5~11のシクロアルキリデン基� ��あるビスフェノール単位との組み合わせで� ��ることがより好ましい。
 なお、ビフェノール単位も広義のビスフェ� ��ール単位であるが、本願においては、Xが単 結合である場合を、特にビフェノール単位と して区別する。また、これらに対応するモノ マーをビフェノール化合物、ビスフェノール 化合物のように区別して記載することもある 。
 本実施形態のPC共重合体は、本発明の目的� �支障のない範囲で、式(1A)のモノマー単位と� ��(2)のモノマー単位以外の他のモノマー単位( 繰り返し単位)を有していてもよい。

〔共重合PCの製造方法〕
 本実施形態の共重合PCは、例えば、下記式(6 A)で示されるポリシロキサンモノマーと、下� ��式(7)で示されるモノマーとの混合モノマー� ��対して、炭酸エステル形成性化合物を反応� ��せることによって容易に製造することがで� ��る。

(式中、RおよびR’は、各々独立に、水素原子 、ハロゲン原子、炭素数1~12のアルキル基ま� �は炭素数6~12の置換若しくは無置換のアリー� ��基を示す。n1は、2~4の整数であり、n2は、25~ 700の整数である。)

(式中、Arは、2価の芳香族基を示す。)

 前記した式(6A)で示されるモノマーの具体例 としては、α,ω-ビス[3-(2-ヒドロキシフェニル )プロピル]ジメチルシリルポリジメチルシロ� ��サン、2-[2-ヒドロキシフェニル]エチル(ポリ ジメチルシロキシ)ジメチルシリルエチル-2-� �ドロキシベンゼン、3-[4-ヒドロキシフェニル ]プロピル(ポリジメチルシロキシ)ジメチルシ リルプロピル-4-ヒドロキシベンゼン、4-[4-ヒ� ��ロキシフェニル]ブチル(ポリジメチルシロ� �シ)ジメチルシリルブチル-4-ヒドロキシベン� ��ン等のポリシロキサン化合物を挙げること� ��できる。
 また、前記した式(7)のモノマー(二価フェノ ール)としては、ビフェノール化合物やビス� �ェノール化合物が挙げられる。具体的には� �ビフェノール化合物として、4,4’-ビフェノ� ��ル、3,3’-ジメチル-4,4’-ビフェノール、3,3� ��,5-トリメチル-4,4’-ビフェノール、3-プロピ ル-4,4’-ビフェノール、3,3’,5,5’-テトラメ� �ル-4,4’-ビフェノール、3,3’-ジフェニル-4,4� ��-ビフェノール、3,3’-ジブチル-4,4’-ビフェ ノール等が挙げられる。中でも、4,4’-ビフ� �ノールが着色の少ない共重合PCを与えるとい う点で好ましい。また、電子写真感光体用の 共重合PCとして適用した場合には、耐久性も� ��上する。これらは1種単独で用いてもよいし 、2種以上を併用してもよい。
 また、ビスフェノール類として、1,1-ビス(3- メチル-4-ヒドロキシフェニル)エタン、9,9-ビ� ��(3-フェニル-4-ヒドロキシフェニル)フルオレ ン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1-� ��ス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、1,2-ビス(4 -ヒドロキシフェニル)エタン、2,2-ビス(4-ヒド ロキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(3-メチル- 4-ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2-ビス(4-ヒ� �ロキシフェニル)ブタン、2,2-ビス(4-ヒドロキ シフェニル)オクタン、4,4-ビス(4-ヒドロキシ� ��ェニル)ヘプタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフ� �ニル)-1,1-ジフェニルメタン、1,1-ビス(4-ヒド� ��キシフェニル)-1-フェニルエタン、1,1-ビス(4 -ヒドロキシフェニル)-1-フェニルメタン、ビ� ��(4-ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4-ヒ ドロキシフェニル)スルフィド、ビス(4-ヒド� �キシフェニル)スルホン、1,1-ビス(4-ヒドロキ シフェニル)シクロペンタン、1,1-ビス(3-メチ� ��-4-ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1 -ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン� ��2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プ� �パン、2,2-ビス(3-フェニル-4-ヒドロキシフェ� ��ル)プロパン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニ� �)アダマンタン、2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキ シフェニル)アダマンタン、1,3-ビス(4-ヒドロ� ��シフェニル)アダマンタン、1,3-ビス(3-メチ� �-4-ヒドロキシフェニル)アダマンタン、2-(3-� �チル-4-ヒドロキシフェニル)-2-(4-ヒドロキシ� ��ェニル)-1-フェニルエタン、ビス(3-メチル-4- ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3-メ� �ル-4-ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(3-� ��チル-4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1-ビ� �(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキ� ��ン、2,7-ナフタレンジオール、2,6-ナフタレ� �ジオール、1,4-ナフタレンジオール、1,5-ナフ タレンジオール、2,2-ビス(2-メチル-4-ヒドロ� �シフェニル)プロパン、1,1-ビス(2-ブチル-4-ヒ ドロキシ-5-メチルフェニル)ブタン、1,1-ビス( 2-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)� ��タン、1,1-ビス(2-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-� ��チルフェニル)プロパン、1,1-ビス(2-tert-ブチ ル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)ブタン、1, 1-ビス(2-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフ� �ニル)イソブタン、1,1-ビス(2-tert-ブチル-4-ヒ� ��ロキシ-5-メチルフェニル)ヘプタン、1,1-ビ� �(2-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル )-1-フェニルメタン、1,1-ビス(2-tert-アミル-4-� �ドロキシ-5-メチルフェニル)ブタン、ビス(3-� ��ロロ-4-ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3, 5-ジブロモ-4-ヒドロキシフェニル)メタン、2,2 -ビス(3-クロロ-4-ヒドロキシフェニル)プロパ� ��、2,2-ビス(3-フルオロ-4-ヒドロキシフェニル )プロパン、2,2-ビス(3-ブロモ-4-ヒドロキシフ� ��ニル)プロパン、2,2-ビス(3,5-ジフルオロ-4-ヒ ドロキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(3,5-ジ� �ロロ-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2-ビ ス(3,5-ジブロモ-4-ヒドロキシフェニル)プロパ ン、2,2-ビス(3-ブロモ-4-ヒドロキシ-5-クロロ� �ェニル)プロパン、2,2-ビス(3,5-ジクロロ-4-ヒ� ��ロキシフェニル)ブタン、2,2-ビス(3,5-ジブロ モ-4-ヒドロキシフェニル)ブタン、1-フェニル -1,1-ビス(3-フルオロ-4-ヒドロキシフェニル)エ タン、ビス(3-フルオロ-4-ヒドロキシフェニル )エーテル、3,3’-ジフルオロ-4,4’-ジヒドロ� �シビフェニル、1,1-ビス(3-シクロヘキシル-4-� ��ドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2-ビ� �(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロ� ��ン、1,1-ビス(3-フェニル-4-ヒドロキシフェニ ル)シクロヘキサン、ビス(3-フェニル-4-ヒド� �キシフェニル)スルホン、4,4’-(3,3,5-トリメ� �ルシクロヘキシリデン)ジフェノール、4,4’- [1,4-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビ� �フェノール、4,4’-[1,3-フェニレンビス(1-メ� �ルエチリデン)]ビスフェノール、9,9-ビス(4-� �ドロキシフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-ヒ ドロキシ-3-メチルフェニル)フルオレン、末� �フェノールポリジメチルシロキサン、α-ト� �メチルシロキシ-ω-ビス{3-(2-ヒドロキシフェ� ��ル)プロピルジメチルシロキシ}-メチルシロ� ��シ-2-ジメチルシリルエチル-ポリジメチルシ ロキサン、およびα,ω-ビス(3-(4-ヒドロキシ-3- メトキシフェニル)プロピル)-ジメチルシロキ シ-ポリジメチルシロキサンなどが挙げられ� �。これらのビスフェノール化合物は1種を単� ��で用いても、2種以上を混合して用いてもよ い。また、三価以上のフェノールを用いて分 岐構造を持たせてもよい。

 これらのビスフェノール類の中で、1,1-ビ ス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、2,2-ビス(4-� ��ドロキシフェニル)ブタン、2,2-ビス(4-ヒド� �キシフェニル)プロパン、1,1-ビス(4-ヒドロキ シフェニル)-1,1-ジフェニルメタン、1,1-ビス(4 -ヒドロキシフェニル)-1-フェニルエタン、ビ� ��(4-ヒドロキシフェニル)スルホン、1,1-ビス(4 -ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2-ビ ス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン� �1,1-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)シク ロヘキサン、1,1-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシ� �ェニル)シクロペンタン、2,2-ビス(3-フェニル -4-ヒドロキシフェニル)プロパン、4,4’-(3,3,5- トリメチルシクロヘキシリデン)ジフェノー� �、4,4’-[1,4-フェニレンビス(1-メチルエチリ� �ン)]ビスフェノール、4,4’-[1,3-フェニレンビ ス(1-メチルエチリデン)]ビスフェノール、9,9- ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9-� ��ス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)フルオレ ン、末端フェノールポリジメチルシロキサン 、α-トリメチルシロキシ-ω-ビス{3-(2-ヒドロ� �シフェニル)プロピルジメチルシロキシ}-メ� �ルシロ・BR>Lシ-2-ジメチルシリルエチル-ポ リジメチルシロキサン、およびα,ω-ビス(3-(4- ヒドロキシ-3-メトキシフェニル)プロピル)-ジ メチルシロキシ-ポリジメチルシロキサンが� �ましい。

 さらに好ましくは、1,1-ビス(4-ヒドロキシフ ェニル)エタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニ� ��)ブタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プ� ��パン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-1-フ� �ニルエタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル) シクロヘキサン、2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロ� �シフェニル)プロパン、1,1-ビス(3-メチル-4-ヒ ドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1-ビス( 3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)シクロペンタ ン、2,2-ビス(3-フェニル-4-ヒドロキシフェニ� �)プロパン、4,4’-(3,3,5-トリメチルシクロヘ� �シリデン)ジフェノール、9,9-ビス(4-ヒドロキ シ-3-メチルフェニル)フルオレンである。
 このようなビスフェノール類をモノマーと� ��て製造された共重合PCを電子写真感光体に� �用すると、クリーニング工程などにおいて� �の部材との摩擦によっても摩耗しにくくな� �、結果として耐久性(耐擦傷性)が向上するた め好ましい。

 本実施形態の共重合PCは、式(6A)のモノマ� ��と式(7)のモノマーとを用いて界面重縮合を� ��うことで容易に得られる。例えば、ホスゲ� ��をはじめとする各種のジハロゲン化カルボ� ��ル、あるいはクロロフォルメート化合物等� ��ハロホルメート類、炭酸エステル化合物な� ��を用いて、酸結合剤の存在下に界面重縮合� ��行うことで好適に炭酸エステル結合を形成� ��ることができる。これらの反応は、必要に� ��じて末端停止剤および/または分岐剤の存在 下で行われる。また、本実施形態の共重合PC� ��製造においては、式(7)のモノマー(二価フェ ノール)として、前記したビフェノール化合� �およびビスフェノール類を併用して3元共重� ��体としてもよい。

 前記末端停止剤としては、一価のカルボン� ��とその誘導体や、一価のフェノールを用い� ��ことができる。例えば、p-tert-ブチル-フェ� �ール、p-フェニルフェノール、p-クミルフェ� ��ール、p-パーフルオロノニルフェノール、p- (パーフルオロノニルフェニル)フェノール、p -(パーフルオロキシルフェニル)フェノール、 p-tert-パーフルオロブチルフェノール、1-(p-ヒ ドロキシベンジル)パーフルオロデカン、p-〔 2-(1H,1H-パーフルオロトリドデシルオキシ)-1,1, 1,3,3,3-ヘキサフルオロプロピル〕フェノール� ��3,5-ビス(パーフルオロヘキシルオキシカル� �ニル)フェノール、p-ヒドロキシ安息香酸パ� �フルオロドデシル、p-(1H,1H-パーフルオロオ� �チルオキシ)フェノール、2H,2H,9H-パーフルオ� ��ノナン酸、1,1,1,3,3,3-テトラフロロ-2-プロパ� ��ール、p-(パーフルオロオクチル)フェノール あるいは、下記式で示されるアルコールなど が好適に用いられる。
 H(CF ₂ ) _n CH ₂ OH
 (nは、1~12の整数)
 F(CF ₂ ) _m CH ₂ OH
 (mは、1~12の整数)
 これら末端停止剤の添加割合は、共重合組� ��比として、0.05~30モル%、さらに好ましくは0. 1~10モル%であり、この割合が30モル%を超える� ��機械的強度の低下を招くことがあり、0.05モ ル%未満であると成形性の低下を招くことが� �る。

 また、分岐剤の具体例としては、フロログ� ��シン、ピロガロール、4,6-ジメチル-2,4,6-ト� �ス(4-ヒドロキシフェニル)-2-ヘプテン、2,6-ジ メチル-2,4,6-トリス(4-ヒドロキシフェニル)-3-� ��プテン、2,4-ジメチル-2,4,6-トリス(4-ヒドロ� �シフェニル)ヘプタン、1,3,5-トリス(2-ヒドロ� ��シフェニル)ベンゼン、1,3,5-トリス(4-ヒドロ キシフェニル)ベンゼン、1,1,1-トリス(4-ヒド� �キシフェニル)エタン、トリス(4-ヒドロキシ� ��ェニル)フェニルメタン、2,2-ビス〔4,4-ビス( 4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル〕プロ パン、2,4-ビス〔2-ビス(4-ヒドロキシフェニル )-2-プロピル〕フェノール、2,6-ビス(2-ヒドロ� ��シ-5-メチルベンジル)-4-メチルフェノール、 2-(4-ヒドロキシフェニル)-2-(2,4-ジヒドロキシ� ��ェニル)プロパン、テトラキス(4-ヒドロキシ フェニル)メタン、テトラキス〔4-(4-ヒドロキ シフェニルイソプロピル)フェノキシ〕メタ� �、2,4-ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸� ��シアヌル酸、3,3-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシ フェニル)-2-オキソ-2,3-ジヒドロインドール、 3,3-ビス(4-ヒドロキシアリール)オキシインド� ��ル、5-クロロイサチン、5,7-ジクロロイサチ� ��、5-ブロモイサチンなどが挙げられる。
 これら分岐剤の添加量は、共重合組成比で3 0モル%以下、好ましくは5モル%以下であり、� �れが30モル%を超えると成形性の低下を招く� �とがある。

 界面重縮合を行う場合、酸結合剤として� ��、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ� ��、水酸化リチウム、水酸化セシウムなどの� ��ルカリ金属水酸化物や、水酸化マグネシウ� ��、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属� ��酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムな� ��のアルカリ金属炭酸塩、ピリジンなどの有� ��塩基、あるいはこれらの混合物を用いるこ� ��ができる。この酸結合剤の使用割合も反応� ��化学量論比(当量)を考慮して適宜調整すれ� �よい。具体的には、原料の二価フェノール� �水酸基1モル当たり、1当量もしくはそれより 過剰量、好ましくは1~10当量の酸結合剤を使� �すればよい。

 ここで用いる溶媒としては、トルエン、� ��シレンなどの芳香族炭化水素や、塩化メチ� ��ン、クロロホルム、1,1-ジクロロエタン、1,2 -ジクロロエタン、1,1,1-トリクロロエタン、1, 1,2-トリクロロエタン、1,1,1,2-テトラクロロエ タン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、ペンタク� ��ロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン� ��炭化水素、アセトフェノンなどが好適なも� ��として挙げられる。これら溶媒は、1種単独 で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて� �いてもよい。さらに、互いに混ざり合わな� �2種の溶媒を用いて界面重縮合反応を行って� ��よい。

 また、触媒としては、トリメチルアミンや� ��トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N- ジメチルシクロヘキシルアミン、ピリジン、 ジメチルアニリンなどの三級アミン、トリメ チルベンジルアンモニウムクロライド、トリ エチルベンジルアンモニウムクロライド、ト リブチルベンジルアンモニウムクロライド、 トリオクチルメチルアンモニウムクロライド 、テトラブチルアンモニウムクロライド、テ トラブチルアンモニウムブロマイドなどの四 級アンモニウム塩、テトラブチルホスホニウ ムクロライド、テトラブチルホスホニウムブ ロマイドなどの四級ホスホニウム塩などが好 適である。
 さらに、必要に応じて、この反応系に亜硫� ��ナトリウムやハイドロサルファイト塩など� ��酸化防止剤を少量添加してもよい。

 この共重合PCの製造法は、具体的には様� �な態様で実施可能であり、例えば式(7)のビ� �フェノール化合物および/またはビフェノー� ��化合物とホスゲンなどを反応させて、ポリ� ��ーボネートオリゴマーを製造し、ついでこ� ��ポリカーボネートオリゴマーに、上記式(6A) のポリシロキサンモノマーを、前記溶媒およ び酸結合剤のアルカリ水溶液の混合液の存在 下に反応させる方法を採用してもよい。また 、前記の二価フェノールとホスゲンを、前記 溶媒とアルカリ水溶液との混合液中で反応さ せる方法を採用してもよい。通常は、前者の 、予めポリカーボネートオリゴマーを製造す る方法が効率的であることから好ましい。

 ポリカーボネートオリゴマーを製造するに� ��、まず、アルカリ水溶液に二価フェノール� ��溶解し、二価フェノールのアルカリ水溶液� ��調製する。ついで、このアルカリ水溶液と� ��化メチレンなどの有機溶媒との混合液に、� ��スゲンを導入して反応させ、二価フェノー� ��のポリカーボネートオリゴマーを合成する� ��ついで、反応溶液を水相と有機相とに分離� ��、ポリカーボネートオリゴマーを含む有機� ��を得る。この際、アルカリ水溶液のアルカ� ��濃度は、0.1~5規定の範囲が好ましく、また� �機相と水相との容積比は、10:1~1:10、好まし� �は5:1~1:5の範囲である。
 反応温度は、冷却下に通常0~70℃、好ましく は5~65℃であり、反応時間は15分間~4時間、好� ��しくは30分間~3時間程度である。このように して得られるポリカーボネートオリゴマーの 平均分子量は6000以下、重合度は,通常20以下� �好ましくは2~10量体のものである。

 このようにして得られたポリカーボネート� ��リゴマーを含む有機相に、式(6A)のポリシロ キサンモノマーを加えて反応させる。反応温 度は、0~150℃、好ましくは5~40℃、特に好まし くは5~25℃である。特に反応温度を25℃以下と することが、得られるポリマーの黄色度を低 減させる点で好ましい。
 反応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれで� ��よいが、通常は、常圧もしくは反応系の自� ��程度で好適に行い得る。反応時間は、反応� ��度によって左右されるが、通常0.5分間~10時� ��、好ましくは1分間~2時間程度である。
 ここで、ポリジメチルシロキサンの繰り返� ��単位数が多くなるほど、同じ重合条件では� ��得られた共重合PCがTHF溶液中で白濁しやす� �なる(ヘーズが上昇)。これを防止するために は、ポリジメチルシロキサンの繰り返し単位 数が多くなるほど、重合時の固形分濃度(溶� �中の重合活性成分量)を下げることが必要で� ��る。例えば、ポリカーボネートオリゴマー� ��固形分濃度をシロキサン鎖長(繰り返し単位 数)に応じて、下記のような範囲とすること� �好ましい。なお、溶媒は塩化メチレンが好� �しいが他の溶媒でも傾向は同じである。
  鎖長25~45:210g/L以下
  鎖長46~55:150g/L以下
  鎖長56~92:120g/L以下
  鎖長93~137:100g/L以下
  鎖長138~158:60g/L以下
  鎖長159~350:30g/L以下
 この反応においては、二価フェノールは、� ��機溶媒溶液および/またはアルカリ水溶液と して添加するのが望ましい。その添加順序に ついては、特に制限はない。なお、触媒、末 端停止剤および分岐剤などは、上記の製造法 において、必要に応じ、ポリカーボネートオ リゴマーの製造時、その後の高分子量化の反 応時のいずれか、またはその両方において添 加して用いることができる。

 このようにして得られる共重合PCは、前記� �般式(1A)で表される繰返し単位および一般式( 2)で表される繰返し単位とからなる共重合体� ��ある。
 また、この共重合PCには、本発明の目的達� �を阻害しない範囲で、式(1A)および式(2)以外� ��構造単位を有するポリカーボネート単位や� ��ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテ� ��構造を有する単位を含有しているものであ� ��てもよい。

 なお、得られる共重合PCの還元粘度[η _sp /C](粘度平均分子量と相関のある値)を前記の� ��囲にするには、例えば、前記反応条件の選� ��、分岐剤や分子量調節剤の使用量の調節な� ��各種の方法によってなすことができる。ま� ��、場合により、得られた共重合PCに適宜物� �的処理(混合、分画など)および/または化学� �処理(ポリマー反応、架橋処理、部分分解処� ��など)を施して所定の還元粘度[η _sp /C]の共重合PCとして取得することもできる。
 また、得られた反応生成物(粗生成物)は、� �知の分離精製法等の各種の後処理を施して� �所望の純度(精製度)のものを共重合PCとして� ��収することができる。

[塗工液]
 本実施形態の塗工液は、前記したポリカー� ��ネート共重合体、および溶媒を含有する。� ��述する電子写真感光体の感光層形成用とし� ��使用するには、塗工液の濃度として、0.1~40� ��量%が好ましく、より好ましくは1~35質量%で� ��り、更に好ましくは5~30質量%である。溶媒� �しては、前記の共重合PCの製造方法で記載し たものが挙げられる。また、テトラヒドロフ ラン、ジオキサン、ジオキソランなどの環状 エーテルを用いることもできる。このような ポリカーボネート共重合体と溶媒からなる塗 工液は、長期保存期間に亘って白化またはゲ ル化を起こさず、優れた安定性を示す。すな わち、この塗工液を電子写真感光体の感光層 形成に用いると、塗工時にバインダー樹脂の 結晶化を起こすこともなく、長期にわたって 優れた電子写真特性および優れた耐擦傷性を 示す電子写真感光体を得ることができる。

[電子写真感光体の構成]
 本実施形態の電子写真感光体は、上述の共� ��合PCを感光層中に用いる限り、公知の種々� �形式の電子写真感光体はもとより、どのよ� �なものとしてもよいが、感光層が、少なく� �も1層の電荷発生層と少なくとも1層の電荷輸 送層を有する有機電子写真感光体、または、 一層に電荷発生物質と電荷輸送物質を有する 有機電子写真感光体とすることが好ましい。

 共重合PCは、感光層中のどの部分にも使用� �てもよいが、本発明の効果を十分に発揮す� �ためには、電荷輸送層中において電荷移動� �質のバインダー樹脂として使用するか、単� �の感光層のバインダー樹脂として使用する� �、表面保護層として使用することが望まし� �。電荷輸送層を2層有する多層型の電子写真� ��光体の場合には、そのいずれかの電荷輸送� ��に使用することが好ましい。
 本実施形態の電子写真感光体において、前� ��した本実施形態の共重合PCは、1種単独で使� ��してもよいし、2種以上を組合せて用いても よい。また、所望に応じて本発明の目的を阻 害しない範囲で、他のポリカーボネート等の バインダー樹脂成分を含有させてもよい。さ らに、酸化防止剤等の添加物を含有させても よい。

 本実施形態の電子写真感光体は、感光層� ��導電性基板上に有するものである。感光層� ��電荷発生層と電荷輸送層とを有する場合、� ��荷発生層上に電荷輸送層が積層されていて� ��よく、また電荷輸送層上に電荷発生層が積� ��されていてもよい。また、一層中に電荷発� ��物質と電荷輸送物質を同時に含むものであ� ��てもよい。さらにまた、必要に応じて表面� ��に導電性又は絶縁性の保護膜が形成されて� ��てもよい。さらに、各層間の接着性を向上� ��せるための接着層あるいは電荷のブロッキ� ��グの役目を果すブロッキング層等の中間層� ��どが形成されているものであってもよい。

 本実施形態の電子写真感光体に用いられ� ��導電性基板材料としては、公知のものなど� ��種のものを使用することができ、具体的に� ��、アルミニウムやニッケル、クロム、パラ� ��ウム、チタン、モリブデン、インジウム、� ��、白金、銀、銅、亜鉛、真鍮、ステンレス� ��、酸化鉛、酸化錫、酸化インジウム、ITO(イ ンジウムチンオキサイド:錫ドープ酸化イン� �ウム)もしくはグラファイトからなる板やド� ��ム、シート、ならびに蒸着、スパッタリン� ��、塗布などによりコーティングするなどし� ��導電処理したガラス、布、紙もしくはプラ� ��チックのフィルム、シートおよびシームレ� ��シーベルト、ならびに電極酸化等により金� ��酸化処理した金属ドラムなどを使用するこ� ��ができる。

 前記電荷発生層は少なくとも電荷発生材� ��を有するものであり、この電荷発生層はそ� ��下地となる基板上に真空蒸着、スパッタ法� ��により電荷発生材料の層を形成せしめるか� ��又はその下地となる基板上に電荷発生材料� ��バインダー樹脂を用いて結着してなる層を� ��成せしめることによって得ることができる� ��バインダー樹脂を用いる電荷発生層の形成� ��法としては公知の方法等各種の方法を使用� ��ることができるが、通常、例えば、電荷発� ��材料をバインダー樹脂と共に適当な溶媒に� ��り分散若しくは溶解した塗工液を、所定の� ��地となる基板上に塗布し、乾燥せしめて湿� ��成形体として得る方法が好適である。

 前記電荷発生層における電荷発生材料とし� ��は、公知の各種のものを使用することがで� ��る。具体的な化合物としては、非晶質セレ� ��や、三方晶セレン等のセレン単体、セレン- テルル等のセレン合金、As ₂ Se ₃ 等のセレン化合物もしくはセレン含有組成物 、酸化亜鉛、CdS-Se等の周期律表第12族および� ��16族元素からなる無機材料、酸化チタン等� �酸化物系半導体、アモルファスシリコン等� �シリコン系材料、τ型無金属フタロシアニン 、χ型無金属フタロシアニン等の無金属フタ� ��シアニン顔料、α型銅フタロシアニン、β型 銅フタロシアニン、γ型銅フタロシアニン、� �型銅フタロシアニン、X型銅フタロシアニン� ��A型チタニルフタロシアニン、B型チタニル� �タロシアニン、C型チタニルフタロシアニン� ��D型チタニルフタロシアニン、E型チタニル� �タロシアニン、F型チタニルフタロシアニン� ��G型チタニルフタロシアニン、H型チタニル� �タロシアニン、K型チタニルフタロシアニン� ��L型チタニルフタロシアニン、M型チタニル� �タロシアニン、N型チタニルフタロシアニン� ��Y型チタニルフタロシアニン、オキソチタニ ルフタロシアニン、X線回折図におけるブラ� �ク角2θが27.3±0.2度に強い回折ピークを示す� �タニルフタロシアニン、ガリウムフタロシ� �ニン等の金属フタロシアニン顔料、シアニ� �染料、アントラセン顔料、ビスアゾ顔料、� �レン顔料、多環キノン顔料、キナクリドン� �料、インジゴ顔料、ペリレン顔料、ピリリ� �ム染料、スクェアリウム顔料、アントアン� �ロン顔料、ベンズイミダゾール顔料、アゾ� �料、チオインジゴ顔料、キノリン顔料、レ� �キ顔料、オキサジン顔料、ジオキサジン顔� �、トリフェニルメタン顔料、アズレニウム� �料、トリアリールメタン染料、キサンチン� �料、チアジン染料、チアピリリウム染料、� �リビニルカルバゾール、ビスベンゾイミダ� �ール顔料などが挙げられる。これら化合物� �、1種を単独であるいは2種以上のものを混合 して、電荷発生物質として用いることができ る。これら電荷発生物質の中でも、好適なも のとしては、特開平11-172003号公報に具体的に 記載のものが挙げられる。

 前記電荷輸送層は、下地となる基板上に、� ��荷輸送物質をバインダー樹脂で結着してな� ��層を形成することによって、湿式成形体と� ��て得ることができる。
 前記した電荷発生層や電荷輸送層のバイン� ��ー樹脂としては、特に制限はなく、公知の� ��種のものを使用することができる。具体的� ��は、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ� ��酸ビニル、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体 、ポリビニルアセタール、アルキッド樹脂、 アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリ カーボネート、ポリウレタン、エポキシ樹脂 、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリケトン 、ポリアクリルアミド、ブチラール樹脂、ポ リエステル樹脂、塩化ビニリデン-塩化ビニ� �共重合体、メタクリル樹脂、スチレン-ブタ� ��エン共重合体、塩化ビニリデン-アクリロニ トリル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル-無� ��マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シ� ��コーン-アルキッド樹脂、フェノール-ホル� �アルデヒド樹脂、スチレン-アルキッド樹脂� ��メラミン樹脂、ポリエーテル樹脂、ベンゾ� ��アナミン樹脂、エポキシアクリレート樹脂� ��ウレタンアクリレート樹脂、ポリ-N-ビニル� ��ルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリ� ��ニルホルマール、ポリスルホン、カゼイン� ��ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチル� ��ルロース、ニトロセルロース、カルボキシ- メチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマ ーラテックス、アクリロニトリル-ブタジエ� �共重合体、ビニルトルエン-スチレン共重合� ��、大豆油変性アルキッド樹脂、ニトロ化ポ� ��スチレン、ポリメチルスチレン、ポリイソ� ��レン、ポリチオカーボネート、ポリアリレ� ��ト、ポリハロアリレート、ポリアリルエー� ��ル、ポリビニルアクリレート、ポリエステ� ��アクリレートなどが挙げられる。
 これらは、1種を単独で用いることもできる し、また、2種以上を混合して用いることも� �きる。なお、電荷発生層や電荷輸送層にお� �るバインダー樹脂としては、前記した本実� �形態の共重合PCを使用することが好適である 。

 電荷輸送層の形成方法としては、公知の各� ��の方式を使用することができるが、電荷輸� ��物質を本実施形態の共重合PCとともに適当� �溶媒に分散若しくは溶解した塗工液を、所� �の下地となる基板上に塗布し、乾燥して湿� �成形体として得る方法が好適である。電荷� �送層形成に用いられる電荷輸送物質と共重� �PCとの配合割合は、好ましくは質量比で20:80~ 80:20、さらに好ましくは30:70~70:30である。
 この電荷輸送層において、本実施形態の共� ��合PCは1種単独で用いることもでき、また2種 以上混合して用いることもできる。また、本 発明の目的を阻害しない範囲で、他のバイン ダー樹脂を本実施形態の共重合PCと併用する� ��とも可能である。

 このようにして形成される電荷輸送層の厚� ��は、通常5~100μm程度、好ましくは10~30μmであ る。この厚さが5μm未満であると初期電位が� �くなるおそれがあり、100μmを超えると電子� �真特性の低下を招くおそれがある。
 本実施形態の共重合PCと共に使用できる電� �輸送物質としては、公知の各種の化合物を� �用することができる。このような化合物と� �ては、カルバゾール化合物、インドール化� �物、イミダゾール化合物、オキサゾール化� �物、ピラゾール化合物、オキサジアゾール� �合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール� �合物、アニリン化合物、ヒドラゾン化合物� �芳香族アミン化合物、脂肪族アミン化合物� �スチルベン化合物、フルオレノン化合物、� �タジエン化合物、キノン化合物、キノジメ� �ン化合物、チアゾール化合物、トリアゾー� �化合物、イミダゾロン化合物、イミダゾリ� �ン化合物、ビスイミダゾリジン化合物、オ� �サゾロン化合物、ベンゾチアゾール化合物� �ベンズイミダゾール化合物、キナゾリン化� �物、ベンゾフラン化合物、アクリジン化合� �、フェナジン化合物、ポリ-N-ビニルカルバ� �ール、ポリビニルピレン、ポリビニルアン� �ラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ-9-ビ� �ルフェニルアントラセン、ピレン-ホルムア� ��デヒド樹脂、エチルカルバゾール樹脂、あ� ��いはこれらの構造を主鎖や側鎖に有する重� ��体などが好適に用いられる。これら化合物� ��、1種を単独で使用してもよいし、2種以上� �組み合わせて使用してもよい。
 これら電荷輸送物質の中でも、特開平11-1720 03号公報において具体的に例示されている化� ��物が特に好適に用いられる。
 なお、本実施形態の電子写真感光体におい� ��は、電荷発生層か電荷輸送層の少なくとも� ��ずれかに本実施形態の共重合PCをバインダ� �樹脂として用いることが好適である。

 本実施形態の電子写真感光体においては� ��前記導電性基板と感光層との間に、通常使� ��されるような下引き層を設けることができ� ��。この下引き層としては、酸化チタンや酸� ��アルミニウム、ジルコニア、チタン酸、ジ� ��コン酸、ランタン鉛、チタンブラック、シ� ��カ、チタン酸鉛、チタン酸バリウム、酸化� ��、酸化インジウム、酸化珪素などの微粒子� ��ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、カゼイ� ��、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、� ��リウレタン樹脂、エポキシ樹脂、セルロー� ��、ニトロセルロース、ポリビニルアルコー� ��、ポリビニルブチラール樹脂などの成分を� ��用することができる。また、この下引き層� ��用いる樹脂として、前記バインダー樹脂を� ��いてもよいし、本実施形態の共重合PCを用� �てもよい。これら微粒子や樹脂は単独また� �種々混合して用いることができる。これら� �混合物として用いる場合には、無機質微粒� �と樹脂を併用すると、平滑性のよい皮膜が� �成されることから好適である。

 この下引き層の厚みは、0.01~10μm、好まし くは0.1~7μmである。この厚みが0.01μm未満であ ると、下引き層を均一に形成することが困難 であり、また10μmを超えると電子写真特性が� ��下することがある。また、前記導電性基体� ��感光層との間には、通常使用されるような� ��知のブロッキング層を設けることができる� ��このブロッキング層としては、前記のバイ� ��ダー樹脂と同種の樹脂を用いることができ� ��。また本実施形態のポリカーボネート樹脂� ��用いてもよい。このブロッキング層の厚み� ��、0.01~20μm、好ましくは0.1~10μmである。この 厚みが0.01μm未満であると、ブロッキング層� �均一に形成することが困難であり、また20μm を超えると電子写真特性が低下することがあ る。

 さらに、本実施形態の電子写真感光体に� ��、感光層の上に、保護層を積層してもよい� ��この保護層には、前記のバインダー樹脂と� ��種の樹脂を用いることができる。また、本� ��施形態のポリカーボネート樹脂を用いるこ� ��が特に好ましい。この保護層の厚みは、0.01 ~20μm、好ましくは0.1~10μmである。そして、こ の保護層には、前記電荷発生物質、電荷輸送 物質、添加剤、金属やその酸化物、窒化物、 塩、合金、カーボンブラック、有機導電性化 合物などの導電性材料を含有していてもよい 。

 さらに、この電子写真感光体の性能向上� ��ために、前記電荷発生層および電荷輸送層� ��は、結合剤、可塑剤、硬化触媒、流動性付� ��剤、ピンホール制御剤、分光感度増感剤(増 感染料)を添加してもよい。また、繰返し使� �に対しての残留電位の増加、帯電電位の低� �、感度の低下を防止する目的で種々の化学� �質、酸化防止剤、界面活性剤、カール防止� �、レベリング剤などの添加剤を添加するこ� �ができる。

 前記結合剤としては、シリコーン樹脂、� ��リアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエ� ��テル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂� ��ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂� ��ポリメタクリレート樹脂、ポリアクリルア� ��ド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリイソプ� ��ン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン� ��脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリアクリロ� ��トリル樹脂、エチルセルロース樹脂、ニト� ��セルロース樹脂、尿素樹脂、フェノール樹� ��、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール� ��脂、ホルマール樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢� ��ビニル/塩化ビニル共重合樹脂、ポリエステ ルカーボネート樹脂などが挙げられる。また 、熱および/または光硬化性樹脂も使用でき� �。いずれにしても、電気絶縁性で通常の状� �で皮膜を形成し得る樹脂であり、本発明の� �果を損なわない範囲であれば、特に制限は� �い。

 前記可塑剤の具体例としては、ビフェニ� ��、塩化ビフェニル、o-ターフェニル、ハロ� �ン化パラフィン、ジメチルナフタレン、ジ� �チルフタレート、ジブチルフタレート、ジ� �クチルフタレート、ジエチレングリコール� �タレート、トリフェニルフォスフェート、� �イソブチルアジペート、ジメチルセバケー� �、ジブチルセバケート、ラウリル酸ブチル� �メチルフタリールエチルグリコレート、ジ� �チルグリコールフタレート、メチルナフタ� �ン、ベンゾフェノン、ポリプロピレン、ポ� �スチレン、フルオロ炭化水素などが挙げら� �る。

 前記硬化触媒の具体例としては、メタン� ��ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、� ��ノニルナフタレンジスルホン酸などが挙げ� ��れ、流動性付与剤としては、モダフロー、� ��クロナール4Fなどが挙げられ、ピンホール� �御剤としては、ベンゾイン、ジメチルフタ� �ートが挙げられる。これら可塑剤や硬化触� �、流動付与剤、ピンホール制御剤は、前記� �荷輸送物質に対して、5質量%以下で用いるこ とが好ましい。

 また、分光感度増感剤としては、増感染� ��を用いる場合には,例えばメチルバイオレッ ト、クリスタルバイオレット、ナイトブルー 、ビクトリアブルーなどのトリフェニルメタ ン系染料、エリスロシン、ローダミンB、ロ� �ダミン3R、アクリジンオレンジ、フラペオシ ンなどのアクリジン染料、メチレンブルー、 メチレングリーンなどのチアジン染料、カプ リブルー、メルドラブルーなどのオキサジン 染料、シアニン染料、メロシアニン染料、ス チリル染料、ピリリュウム塩染料、チオピリ リュウム塩染料などが適している。

 感光層には、感度の向上、残留電位の減� ��、反復使用時の疲労低減などの目的で、電� ��受容性物質を添加することができる。その� ��体例としては、無水コハク酸、無水マレイ� ��酸、ジブロモ無水マレイン酸、無水フタル� ��、テトラクロロ無水フタル酸、テトラブロ� ��無水フタル酸、3-ニトロ無水フタル酸、4-ニ トロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無 水メリット酸、テトラシアノエチレン、テト ラシアノキノジメタン、o-ジニトロベンゼン� ��m-ジニトロベンゼン、1,3,5-トリニトロベン� �ン、p-ニトロベンゾニトリル、ピクリルクロ ライド、キノンクロルイミド、クロラニル、 ブロマニル、ベンゾキノン、2,3-ジクロロベ� �ゾキノン、ジクロロジシアノパラベンゾキ� �ン、ナフトキノン、ジフェノキノン、トロ� �キノン、アントラキノン、1-クロロアントラ キノン、ジニトロアントラキノン、4-ニトロ� ��ンゾフェノン、4,4’-ジニトロベンゾフェノ ン、4-ニトロベンザルマロンジニトリル、α-� ��アノ-β-(p-シアノフェニル)アクリル酸エチ� �、9-アントラセニルメチルマロンジニトリル 、1-シアノ-(p-ニトロフェニル)-2-(p-クロロフ� �ニル)エチレン、2,7-ジニトロフルオレノン、 2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,5,7-テトラ� ��トロフルオレノン、9-フルオレニリデン-(ジ シアノメチレンマロノニトリル)、ポリニト� �-9-フルオレニリデン-(ジシアノメチレンマロ ノジニトリル)、ピクリン酸、o-ニトロ安息香 酸、p-ニトロ安息香酸、3,5-ジニトロ安息香酸 、ペンタフルオロ安息香酸、5-ニトロサリチ� ��酸、3,5-ジニトロサリチル酸、フタル酸、メ リット酸などの電子親和力の大きい化合物が 好ましい。これら化合物は電荷発生層、電荷 輸送層のいずれに加えてもよく、その配合割 合は、電荷発生物質または電荷輸送物質の量 を100質量部としたときに、0.01~200質量部、好� ��しくは0.1~50質量部である。

また、表面性の改良のため、四フッ化エチ レン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フ ッ化エチレン六フッ化プロピレン樹脂、フッ 化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フ ッ化二塩化エチレン樹脂およびそれらの共重 合体、フッ素系グラフトポリマーを用いても よい。これら表面改質剤の配合割合は、前記 バインダー樹脂に対して、0.1~60質量%、好ま� �くは5~40質量%である。この配合割合が0.1質量 %より少ないと、表面耐久性、表面エネルギ� �低下などの表面改質が充分でなく、60質量%� �り多いと、電子写真特性の低下を招くこと� �ある。

 前記酸化防止剤としては、ヒンダードフェ� ��ール系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防� ��剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、スル� ��ィド系酸化防止剤、有機リン酸系酸化防止� ��などが好ましい。これら酸化防止剤の配合� ��合は、前記電荷輸送物質に対して、通常、0 .01~10質量%、好ましくは0.1~2質量%である。
 このような酸化防止剤の具体例としては、� ��開平11-172003号公報の明細書に記載された化� ��式([化94]~[化101])の化合物が好適である。
 これら酸化防止剤は、1種単独で用いてもよ く、2種以上を混合して用いてもよい、そし� �、これらは前記感光層のほか、表面保護層� �下引き層、ブロッキング層に添加してもよ� �。

 前記電荷発生層、電荷輸送層の形成の際� ��使用する前記溶媒の具体例としては、例え� ��、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ� ��ンゼン等の芳香族系溶媒、アセトン、メチ� ��エチルケトン、シクロヘキサノン等のケト� ��、メタノール、エタノール、イソプロパノ� ��ル等のアルコール、酢酸エチル、エチルセ� ��ソルブ等のエステル、四塩化炭素、四臭化� ��素、クロロホルム、ジクロロメタン、テト� ��クロロエタン等のハロゲン化炭化水素、テ� ��ラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサ� ��等のエーテル、ジメチルホルムアミド、ジ� ��チルスルホキシド、ジエチルホルムアミド� ��を挙げることができる。これらの溶媒は、1 種単独で使用してもよく、あるいは、2種以� �を混合溶媒として使用してもよい。

 単層型電子写真感光体の感光層は、前記の� ��荷発生物質、電荷輸送物質、添加剤を用い� ��、本実施形態のバインダー樹脂(共重合PC)を 適用することで容易に形成することができる 。また、電荷輸送物質としては前述したホー ル輸送性物質および/または電子輸送物質を� �加することが好ましい。電子輸送物質とし� �は、特開2005-139339号公報に例示されるものが 好ましく適用できる。
 各層の塗布は公知のものなど各種の塗布装� ��を用いて行なうことができ、具体的には、� ��えば、アプリケーター、スプレーコーター� ��ベーコーター、チップコーター、ロールコ� ��ター、ディップコーター、ドクタブレード� ��を用いて行なうことができる。

 電子写真感光体における感光層の厚さは� ��5~100μm、好ましくは8~50μmであり、これが5μm 未満であると初期電位が低くなりやすく、100 μmを超えると電子写真特性が低下することが ある。電子写真感光体の製造に用いられる電 荷発生物質:バインダー樹脂の比率は、質量� �で1:99~30:70、好ましくは3:97~15:85である。また 、電荷輸送物質:バインダー樹脂の比率は、� �量比で10:90~80:20、好ましくは30:70~70:30である� ��

 このようにして得られる本実施形態の電子� ��真感光体は、本実施形態の共重合PCを用い� �ため、感光層作製時に塗工液が白濁するこ� �がなく、ゲル化することもない。また、感� �層中に本実施形態の共重合PCからなる成形体 (バインダー樹脂)を有しているため、耐久性( 耐擦傷性)に優れるとともに、優れた電気特� �(帯電特性)をしており、長期間にわたって優 れた電子写真特性を維持する感光体であり、 複写機(モノクロ、マルチカラー、フルカラ� �;アナログ、デジタル)、プリンター(レーザ� �、LED、液晶シャッター)、ファクシミリ、製� ��機、およびこれら複数の機能を有する機器� ��ど各種の電子写真分野に好適
に用いられる。

 なお、本実施形態の電子写真感光体を使� ��するにあたっては、帯電には、コロナ放電( コロトロン、スコロトロン)、接触帯電(帯電� ��ール、帯電ブラシ)などが用いられる。また 、露光には、ハロゲンランプや蛍光ランプ、 レーザー(半導体、He-Ne)、LED、感光体内部露� �方式のいずれを採用してもよい。現像には� �カスケード現像、二成分磁気ブラシ現像、� �成分絶縁トナー現像、一成分導電トナー現� �などの乾式現像方式や湿式現像方式が用い� �れる。転写には、コロナ転写、ローラ転写� �ベルト転写などの静電転写法や、圧力転写� �、粘着転写法が用いられる。定着には、熱� �ーラ定着、ラジアントフラッシュ定着、オ� �プン定着、圧力定着などが用いられる。さ� �に、クリーニング・除電には、ブラシクリ� �ナー、磁気ブラシクリーナー、静電ブラシ� �リーナー、磁気ローラクリーナー、ブレー� �クリーナーおよびクリーナーを省略したも� �などが用いられる。また、トナー用の樹脂� �しては、スチレン系樹脂、スチレン-アクリ� ��系共重合樹脂、ポリエステル、エポキシ樹� ��、環状炭化水素の重合体などが適用できる� ��トナーの形状は、球形でも不定形でもよく� ��一定の形状(回転楕円体状、ポテト状等)に� �御したものでも適用できる。トナーは、粉� �型、懸濁重合トナー、乳化重合トナー、ケ� �カル造粒トナー、あるいはエステル伸長ト� �ーのいずれでもよい。

<第2実施形態>
 次に、本発明の第2実施形態であるポリカー ボネート重合体(以下、「共重合PC」ともいう )について詳細に説明する。
 なお、本実施形態においては、前述した第1 実施形態と同様の内容については、その説明 を省略または簡略化する。

[共重合PCの構造]
 本実施形態の共重合PCは、下記式(1B)で示さ� ��るモノマー単位と、下記式(2)で示されるモ� ��マー単位とを含んで構成される。

 前記の式(1B)において、Rは炭素数1~3のアル� �ル基を示す。n1は、2~4の整数であり、n2は、5 5~700の整数である。

 前記の式(2)において、Arは、2価の芳香族基� ��示す。

 ここで、本実施形態の共重合PCとしては� �該共重合PCを、THF(テトラヒドロフラン)に10� �量%の濃度で溶解した溶液のヘーズ(JIS K7105� �準拠、光路長10mm)が5%以下である。また、該� ��重合PCを、THFに25質量%の濃度で溶解した溶� �のヘーズは10%以下であることが好ましい。

 前記したような所定の溶液においてヘーズ� ��高い、すなわち、THFに溶解したときに白濁� ��生じるような共重合PCとなるのは、例
えば、式(1B)に対応するモノマー(例えば、後� ��する式(6B))と、式(2)に対応するモノマー(例� ��ば、後述する式(7))とが不均一に共重合した 場合が考えられる。あるいは、それらのモノ マー同士が均一に共重合したものであっても 、シロキサン部分がドメインを形成し、共重 合体全体として不均一になっている場合が考 えられる。このような不均一な構造を有する 共重合PCでは、例えば、湿式成形して電子写� ��感光体用のバインダー樹脂として用いた場� ��、不均一部分が電荷移動時のトラップサイ� ��となるため、電子写真感光体としての電気� ��性(帯電特性等)が悪化する。一方、前記し� �式(1B)におけるn2が小さいと、すなわちシロ� �サン鎖長が短くなると電子写真感光体の耐� �傷性が低下する。

 本実施形態の共重合PCを構成する式(1B)のモ� ��マー単位において、ジメチルシロキサン単� ��の繰り返し数であるシロキサン鎖長(n2)は、 55~700であり、好ましくは55~350、より好ましく は55~160である。
 このシロキサン鎖長が55未満であると、共� �合PCから形成された成形品の耐摩耗性(耐擦� �性)が劣り、電子写真感光体用として好まし� ��ない。一方、シロキサン鎖長が700を超える� ��、THF等の溶剤に溶解したときに白濁しやす� ��なる。このような溶液を塗工液として塗布� ��て得られた成形品は、透明性に劣るだけで� ��く、電気特性(帯電特性)にも劣るため電子� �真感光体用として好ましくない。

 本実施形態の共重合PCにおいて、式(1B)のモ� ��マー単位(ポリシロキサン単位)の含有量は� �例えば、電子写真感光体用のバインダー樹� �としての物性、および、最終的に電子写真� �光体となったときの、電気的特性(帯電特性) や耐擦傷性を考慮すると、ポリカーボネート 共重合体全体に占める割合が、0.01~50質量%で� ��ることが好ましく、0.05~20質量%であること� �より好ましく、0.1~10質量%であることがさら� ��好ましく、0.5~5質量%であることが最も好ま� ��い。
 モノマー単位の質量分率が0.01質量%未満で� �、電子写真感光体を構成したときに耐擦傷� �が十分得られず好ましくない。また、モノ� �ー単位の質量分率が50質量%を越えると電子� �真感光体の強度の低下を招き、耐擦傷性が� �下するので好ましくない。
 なお、シロキサン鎖長と式(1B)のモノマー単 位の質量分率は、ともに前記した範囲にある ことが好ましい。
 本実施形態のPC共重合体は、本発明の目的� �支障のない範囲で、式(1B)のモノマー単位と� ��(2)のモノマー単位以外の他のモノマー単位( 繰り返し単位)を有していてもよい。

〔共重合PCの製造方法〕
 本実施形態の共重合PCは、例えば、下記式(6 B)で示されるポリシロキサンモノマー(以下、 「PDMSモノマー」ともいう)と、下記式(7)で示� ��れるモノマーとの混合モノマーに対して、� ��酸エステル形成性化合物を反応させること� ��よって容易に製造することができる。

(式中、Rは炭素数1~3のアルキル基を示す。n1� �、2~4の整数であり、n2は、55~700の整数である 。)

(式中、Arは、2価の芳香族基を示す。)

 前記した式(6B)で示されるモノマーの具体例 としては、2-[4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニ� ��]エチル(ポリジメチルシロキシ)ジメチルシ� ��ルエチル]-3-メトキシ-4-ヒドロキシベンゼン 、3-[4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニル]プロピ ル(ポリジメチルシロキシ)ジメチルシリルプ� ��ピル]-3-メトキシ-4-ヒドロキシベンゼン、4-[ 4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニル]ブチル(ポ� �ジメチルシロキシ)ジメチルシリルブチル]-3- メトキシ-4-ヒドロキシベンゼン等のポリシロ キサン化合物を挙げることができる。
 また、前記した式(7)のモノマー(二価フェノ ール)としては、前述した第1実施形態と同様� ��化合物が挙げられる。

 本実施形態の共重合PCは、式(6B)のモノマ� ��と式(7)のモノマーとを用いて界面重縮合を� ��うことで容易に得られる。例えば、ホスゲ� ��をはじめとする各種のジハロゲン化カルボ� ��ル、あるいはクロロフォルメート化合物等� ��ハロホルメート類、炭酸エステル化合物な� ��を用いて、酸結合剤の存在下に界面重縮合� ��行うことで好適に炭酸エステル結合を形成� ��ることができる。これらの反応は、必要に� ��じて末端停止剤および/または分岐剤の存在 下で行われる。また、本実施形態の共重合PC� ��製造においては、式(7)のモノマー(二価フェ ノール)として、前記したビフェノール化合� �およびビスフェノール類を併用して3元共重� ��体としてもよい。

 この共重合PCの製造法は、具体的には様� �な態様で実施可能であり、例えば式(7)のビ� �フェノール化合物および/またはビフェノー� ��化合物とホスゲンなどを反応させて、ポリ� ��ーボネートオリゴマーを製造し、ついでこ� ��ポリカーボネートオリゴマーに、上記式(6B) のモノマーを、前記溶媒および酸結合剤のア ルカリ水溶液の混合液の存在下に反応させる 方法を採用してもよい。また、前記の二価フ ェノールとホスゲンを、前記溶媒とアルカリ 水溶液との混合液中で反応させる方法を採用 してもよい。通常は、前者の、予めポリカー ボネートオリゴマーを製造する方法が効率的 であることから好ましい。

 前述した第1実施形態と同様の製造方法で得 られたポリカーボネートオリゴマーを含む有 機相に、式(6B)のモノマーを加えて反応させ� �。反応温度は、0~150℃、好ましくは5~40℃、� �に好ましくは5~25℃である。特に反応温度を2 5℃以下とすることが得られるポリマーの黄� �度を低減させる点で好ましい。
 反応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれで� ��よいが、通常は、常圧もしくは反応系の自� ��程度で好適に行い得る。反応時間は、反応� ��度によって左右されるが、通常0.5分間~10時� ��、好ましくは1分間~2時間程度である。
 ここで、ポリジメチルシロキサンの繰り返� ��単位数が多くなるほど、同じ重合条件では� ��得られた共重合PCがTHF溶液中で白濁しやす� �なる(ヘーズが上昇)。これを防止するために は、ポリジメチルシロキサンの繰り返し単位 数が多くなるほど、重合時の固形分濃度(溶� �中の重合活性成分量)を下げることが必要で� ��る。例えば、ポリカーボネートオリゴマー� ��固形分濃度をシロキサン鎖長(繰り返し単位 数)に応じて、下記のような範囲とすること� �好ましい。なお、溶媒は塩化メチレンが好� �しいが他の溶媒でも傾向は同じである。
  鎖長55:150g/L以下
  鎖長92:120g/L以下
  鎖長137:100g/L以下
  鎖長158:60g/L以下
  鎖長300:30g/L以下
 この反応にあたって、二価フェノールは、� ��機溶媒溶液および/またはアルカリ水溶液と して添加するのが望ましい。その添加順序に ついては、特に制限はない。なお、触媒、末 端停止剤および分岐剤などは、上記の製造法 において、必要に応じ、ポリカーボネートオ リゴマーの製造時、その後の高分子量化の反 応時のいずれか、またはその両方において添 加して用いることができる。

 このようにして得られる共重合PCは、前記� �般式(1B)で表される繰返し単位および一般式( 2)で表される繰返し単位とからなる共重合体� ��ある。
 また、この共重合PCには、本発明の目的達� �を阻害しない範囲で、式(1B)および式(2)以外� ��構造単位を有するポリカーボネート単位や� ��ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテ� ��構造を有する単位を含有しているものであ� ��てもよい。

<第3実施形態>
 以下に、本発明の第3実施形態であるポリカ ーボネート重合体としてのポリカーボネート 樹脂(以下、単に「PC樹脂」ともいう)につい� �詳細に説明する。
 なお、本実施形態においては、前述した第1 実施形態および第2実施形態と同様の内容に� �いては、その説明を省略または簡略化する� �

[PC樹脂の構造]
 本実施形態のPC樹脂は、下記式(2)に示すモ� �マー単位を有するPC樹脂であって、少なくと も一端が下記式(1C)で示す末端基により封止� �れた構造を備えている。

 前記の式(2)において、Arは、2価の芳香族基� ��示す。

 前記の式(1C)において、Zは、炭素数2~6の脂� �族炭化水素基、好ましくはアルキレン基で� �り、特にメチレン鎖であることが好ましい� �R ¹ は、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基、R ² ~R ⁵ は各々独立に水素、炭素数1~30の脂肪族炭化� �素基、炭素数1~6のアルコキシ基または炭素� �6~12の芳香族炭化水素基を示す。nは40~700の整 数である。
 ここで、シロキサン単位の繰り返し数(シロ キサン鎖長)nが40未満であると、PC樹脂を電子 写真感光体のバインダー樹脂として用いた場 合に耐擦傷性が劣るので好ましくない。また 、nが700を超えると、電子写真感光体のバイ� �ダー樹脂塗工用としてTHF等に溶解した場合� �、その塗工液が白濁してしまい好ましくな� �。塗工液が白濁した状態で塗工すると、結� �的に帯電特性の劣った電子写真感光体が得� �れるからである。
 それ故、シロキサン鎖長nとしては、50~350で あることが好ましく、55~220であることがより 好ましく、60~160であることがさらに好ましい 。
 また、式(1C)の末端基は、PC樹脂の両末端を� ��止していてもよいし、もう一方を、アルキ� ��フェノールなど、他の末端停止剤で封止さ� ��た構造であってもよい。

 ここで、本実施形態のPC樹脂としては、該PC 樹脂を、THF(テトラヒドロフラン)に10質量%の� ��度で溶解した溶液のヘーズ(JIS K7105に準拠� �光路長10mm)が5%以下である。また、該PC樹脂� �、THFに25質量%の濃度で溶解した溶液のヘー� �は10%以下であることが好ましい。
 このようにTHF溶液のヘーズが高いと、すな� ��ち白濁を生じるようなPC樹脂では、例えば� �湿式成形して電子写真感光体用のバインダ� �樹脂として用いた場合、白濁した部分が電� �移動のトラップとなるため、電子写真特性(� ��度)が悪化する場合がある。

 前記したような所定の溶液においてヘー� ��の高い、すなわち、THFに溶解したときに白� ��を生じるようなPC樹脂となるのは、例えば� �式(1C)で示される末端基に対応するモノマー( 例えば、後述する式(6C))と、式(2)に対応する� ��ノマー(例えば、後述する式(7))とが不均一� �重合した場合が考えられる。あるいは、そ� �らのモノマー同士が均一に重合したもので� �っても、シロキサン部分がドメインを形成� �、PC樹脂全体として不均一になっている場合 が考えられる。このような不均一な構造を有 するPC樹脂では、例えば、湿式成形して電子� ��真感光体用のバインダー樹脂として用いた� ��合、不均一部分が電荷移動時のトラップサ� ��トとなるため、電子写真感光体としての電� ��特性(帯電特性等)が悪化すると推定される� �一方、前記した式(1C)におけるnが小さいと、 すなわちシロキサン鎖長が短くなると電子写 真感光体の耐擦傷性が低下する。

 また、本実施形態のPC樹脂において、前記� �(2)におけるArとしては、下記式(3B)で示され� �官能基の少なくとも一種を含むことが好ま� �い。

 ここで、式(3B)において、R ⁶ およびR ⁷ は、それぞれ独立に、水素、トリフルオロメ チル基、ハロゲン原子、炭素数1~10のアルキ� �基、炭素数6~12のアリール基、炭素数3~12、好 ましくは炭素数1~6のアルキル基、炭素数6~12� �好ましくは炭素数6~10のアリ一ル基、炭素数3 ~12、好ましくは炭素数5~9のシクロアルキル基 、炭素数1~6のアルコキシ基および炭素数6~12� �好ましくは炭素数6~10のアリールオキシ基か� ��選ばれる官能基を示す。ハロゲン原子とし� ��は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙� ��られる。炭素数1~10のアルキル基としては、 メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプ� ��ピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブ� ��ル基、tert-ブチル基、各種ペンチル基、各� �ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチ� �基、2-メトキシエチル基などが挙げられる。 炭素数6~12のアリール基としては、フェニル� �、トリル基、キシリル基などが挙げられる� �炭素数3~12のシクロアルキル基としては、シ� ��ロプロピル基、シクロブチル基、シクロペ� ��チル基、シクロヘキシル基などが挙げられ� ��。炭素数1~6のアルコキシ基としては、メト� ��シ基、エトキシ基、n一プロポキシ基、イソ プロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ� ��、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、各種ペ� ��トキシ基などが挙げられる。炭素数6~12のア リールオキシ基としては、フェノキシ基、2,6 -ジメチルフェノキシ基、ナフチルオキシ基� �どが挙げられる。
 上記式(3B)において、Xは、単結合、-O-、-S-� �-SO-、-SO ₂ -、-CO-、-CX ¹ X ² -(ここで、X ¹ およびX ² は、それぞれ独立に、水素原子、トリフルオ ロメチル基、置換または無置換の炭素数1~10� �アルキル基、および置換または無置換の炭� �数6~12のアリール基から選ばれる官能基を示� ��。)、置換または無置換の炭素数5~11、好ま� �くは炭素数5~9のシクロアルキリデン基、置� �または無置換の炭素数2~12、好ましくは炭素� ��2~6のα,ω-アルキレン基、置換または無置換� ��,9-フルオレニリデン基、置換または無置換� ��炭素数6~12、好ましくは炭素数6~10のアリー� �ン基、下記式(4B)で示されるテルペン類から� ��導される二価の官能基、ならびに下記式(5B) で示される炭素数8~16のアルキリデンアリー� �ンアルキリデン基から選ばれる官能基を示� �。ただし、X ¹ とX ² がともにメチル基の場合は、Xは-CX ¹ X ² -単独であることはない。例えば、一般式(2)� �該当するモノマーとして、ビスフェノールA� ��採用し、一般式(1C)に該当するモノマー(末� �封止剤)との2元共重合体を製造した場合、ポ リマーの結晶性が高いために溶解性に影響が 現れ、塗工液を製造する際に使用する溶媒が 限定される。このため、X ¹ とX ² がともにメチル基の場合は、例えば、Xが単� �合のような構造単位をも含む共重合PC樹脂と することが好ましい。

(式中、R ⁸ ~R ¹⁰ は、R ⁶ およびR ⁷ と同様の官能基を示す。)

(式中、R ¹¹ ~R ¹³ は、R ⁶ およびR ⁷ と同様の官能基を示す。)

 また、上記式(3B)におけるXのうち、-CX ¹ X ² -におけるX ¹ およびX ² としては、水素とメチル基、あるいはメチル 基とエチル基の組み合わせが好ましい。この 場合、一般式(1C)のシロキサン鎖長nも影響す� ��が、耐擦傷性に優れるポリカーボネート樹� ��が得られる。
 Xのうちの置換または無置換の炭素数5~11の� �クロアルキリデン基としては、シクロペン� �リデン基、シクロヘキシリデン基、シクロ� �プチリデン基などが挙げられる。置換また� �無置換の炭素数2~12のα,ω-アルキレン基とし� ��は、α,ω-エチレン基、α,ω-プロピレン基、� �,ω-ブチレン基などが挙げられる。置換また� ��無置換の炭素数6~12のアリーレン基としては 、フェニレン基、アルキル置換フェニレン基 、ナフチレン基、アルキル置換ナフチレン基 などが挙げられる。

 上記式(2)で示されるモノマー単位を構成� ��る組み合わせとしては、式(3B)で示される官 能基が、(A)Xが単結合である官能基と、Xが単� ��合以外である官能基との組み合わせ、(B)Xが 置換または無置換の炭素数5~11のシクロアル� �リデン基である官能基と、Xが置換または無� ��換の炭素数5~11のシクロアルキリデン基以外 である官能基との組み合わせ、(C)Xが置換ま� �は無置換の9,9-フルオレニリデン基である官� ��基と、Xが置換または無置換の9,9-フルオレ� �リデン基以外である官能基との組み合わせ� �(D)Xが炭素数8~16のアルキリデンアリーレンア ルキリデン基である官能基と、Xが炭素数8~16� ��アルキリデンアリーレンアルキリデン基以� ��である官能基との組み合わせであるものが� ��げられる。

 本実施形態のPC樹脂において、式(1C)で示す� ��端基(以下、「ポリシロキサン」ともいう。 )の含有量は、特に制限はないが、例えば、� �子写真感光体用のバインダー樹脂としての� �性、および、最終的に電子写真感光体とな� �たときの、電気的特性(帯電特性)や耐擦傷性 を考慮すると、ポリカーボネート樹脂全体に 占める割合が、0.01~50質量%であることが好ま� ��く、0.05~20質量%であることがより好ましく� �0.1~10質量%であることがさらに好ましく、0.5~ 5質量%であることが最も好ましい。ポリシロ� ��サンの質量分率が0.01質量%未満では、電子� �真感光体を構成したときに耐擦傷性が十分� �られず好ましくない。また、ポリシロキサ� �の室量分率が50質量%を超えると電子写真感� �体の強度の低下を招き、耐擦傷性が低下す� �ので好ましくない。
 なお、シロキサン鎖長とポリシロキサンの� ��量分率は、ともに前記した範囲にあること� ��好ましい。

 また、本実施形態のPC樹脂は、塩化メチレ� �を溶媒とする濃度0.5g/dl溶液の20℃における� �元粘度[η _sp /C]が0.1~5dl/gであることが好ましく、より好ま しくは0.2~3dl/g、特に好ましくは0.3~2.5dl/gであ� ��。還元粘度[η _sp /C]が0.1dl/g未満であると、電子写真感光体を� �成したときの耐傷性が不十分となるおそれ� �ある。また、還元粘度[η _sp /C]が5dl/gを超えると、感光体製造時に、塗工� ��度が高くなりすぎて、電子写真感光体の生� ��性が低下するおそれがあり好ましくない。

 また、PC樹脂が前記した特定のポリシロキ� �ン(末端基)、ビフェノール単位およびビスフ ェノール単位からなるいわば3元共重合体の� �うな構造であると、電子写真感光体形成用� �塗工液に対する溶解度が高くなり、さらに� �電子写真感光体の耐擦傷性も向上するので� �ましい。
 例えば、式(2)のモノマー単位は、式(3B)に示 すXが単結合であるいわゆるビフェノール単� �と、Xが-CX ¹ X ² -および/またはシクロアルキリデン基である� ��スフェノール単位との組み合わせであるこ� ��がより好ましい。
 なお、ビフェノール単位も広義のビスフェ� ��ール単位であるが、本願においては、Xが単 結合である場合を、特にビフェノール単位と して区別する。また、これらに対応するモノ マーをビフェノール化合物、ビスフェノール 化合物のように区別して記載することもある 。
 本実施形態のPC樹脂は、本発明の目的に支� �のない範囲で、式(2)のモノマー単位以外の� �のモノマー単位(繰り返し単位)を有していて もよい。

〔PC樹脂の製造方法〕
 本実施形態のPC樹脂は、その主鎖について� �、例えば、下記式(7)で示されるモノマーを� �いて界面重縮合することにより容易に製造� �ることができる。ここで、下記式(7)のArの具 体的構造は、前記式(2)のArと同じである。

 また、本実施形態のPC樹脂は、末端基と� �て特定のポリシロキサン構造(式(1C)参照)を� �むが、このような構造を付与するには、例� �ば、下記式(6C)で示す一官能性フェノールを� ��端封止剤として重合時に共存させる方法を� ��用すればよい。このような一官能性フェノ� ��ルは、ポリシロキサンが結合したものを単� ��で重合系に共存させても良いし、他の一官� ��性フェノール例えば、p-tert-ブチルフェノー ル、フェノール、クミルフェノール、オクチ ルフェノール、ノニルフェノール等と共に用 いても良い。あるいは、他の製造方法として 炭素-炭素二重結合を末端に有するポリカー� �ネートへの片末端Si-H構造のポリシロキサン� ��ヒドロシリル化反応によっても製造するこ� ��ができる。

 ここで、式(6C)の具体的構造(Z、R ¹ ~R ⁵ 、n)は、式(1C)のそれと同じである。

 また、前記した式(7)のモノマー(二価フェ ノール)としては、前述した第1実施形態と同� ��の化合物が挙げられる。

 本実施形態のPC樹脂は、式(7)のモノマーを� �いて界面重縮合を行うことで容易に得られ� �。例えば、ホスゲンをはじめとする各種の� �ハロゲン化カルボニル、あるいはクロロフ� �ルメート化合物等のハロホルメート類、炭� �エステル化合物などを用いて、酸結合剤の� �在下に界面重縮合を行うことで好適に炭酸� �ステル結合を形成することができる。この� �応の際に、末端停止剤として、前記式(6C)の� ��官能性フェノールを存在させればよい。ま� ��、重合時には、分岐剤を存在させてもよい� ��
 ここで、本実施形態のPC樹脂の製造におい� �は、式(7)のモノマー(二価フェノール)として 、前記したビフェノール化合物およびビスフ ェノール化合物を併用して共重合体としても よい。

 なお、前記式(6C)以外の末端停止剤として 、前述した第1実施形態のものをさらに加え� �もよい。

 このPC樹脂の製造法は、具体的には様々� �態様で実施可能であり、例えば式(7)のビス� �ェノール化合物および/またはビフェノール� ��合物とホスゲンなどを反応させて、ポリカ� ��ボネートオリゴマーを製造し、ついでこの� ��リカーボネートオリゴマーに、上記式(6C)の 一官能性フェノール(ポリシロキサン)を、前� ��溶媒および酸結合剤のアルカリ水溶液の混� ��液の存在下に反応させる方法を採用しても� ��い。また、前記の二価フェノールとホスゲ� ��を、前記溶媒とアルカリ水溶液との混合液� ��で反応させる方法を採用してもよい。通常� ��、前者の、予めポリカーボネートオリゴマ� ��を製造する方法が効率的であることから好� ��しい。

 前述した第1実施形態と同様の製造方法で得 られたポリカーボネートオリゴマーを含む有 機相に、式(6C)のポリシロキサンを加えて反� �させる。反応温度は、0~150℃、好ましくは5~4 0℃、特に好ましくは5~20℃である。特に反応� ��度を20℃以下とすることで、生成するPC樹脂 の黄色度を抑制することができる。
 反応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれで� ��よいが、通常は、常圧もしくは反応系の自� ��程度で好適に行い得る。反応時間は、反応� ��度によって左右されるが、通常0.5分間~10時� ��、好ましくは1分間~2時間程度である。
 ここで、ポリシロキサンの繰り返し単位数� ��多くなるほど、同じ重合条件では、得られ� ��PC樹脂がTHF溶液中で白濁しやすくなる(ヘー� ��が上昇)。これを防止するためには、ポリシ ロキサンの繰り返し単位数が多くなるほど、 重合時の上記オリゴマー固形分濃度(溶媒中� �重合活性成分量)を下げることが必要である� ��例えば、ポリカーボネートオリゴマーの固� ��分濃度をシロキサン鎖長(繰り返し単位数)� �応じて、下記のような範囲とすることが好� �しい。なお、溶媒は塩化メチレンが好まし� �が他の溶媒でも傾向は同じである。
  鎖長40~58:150g/L以下
  鎖長59~92:120g/L以下
  鎖長93~137:100g/L以下
  鎖長138~158:60g/L以下
  鎖長159~350:30g/L以下
  鎖長351~700:10g/L以下
 この反応にあたって、二価フェノールは、� ��機溶媒溶液および/またはアルカリ水溶液と して添加するのが望ましい。その添加順序に ついては、特に制限はない。なお、触媒、末 端停止剤および分岐剤などは、上記の製造法 において、必要に応じ、ポリカーボネートオ リゴマーの製造時、その後の高分子量化の反 応時のいずれか、またはその両方において添 加して用いることができる。

 このようにして得られるPC樹脂は、前記式(2 )で示される繰返し単位からなり、少なくと� �一端が前記式(1C)で示される末端構造を有す� ��重合体である。
 このPC樹脂には、本発明の目的達成を阻害� �ない範囲で、式(2)以外の構造単位を有する� �リカーボネート単位や、ポリエステル、ポ� �ウレタン、ポリエーテル構造を有する単位� �含有しているものであってもよい。

 なお、得られるPC樹脂の還元粘度[η _sp /C](粘度平均分子量と相関のある値)を前記の� ��囲にするには、例えば、前記反応条件の選� ��、分岐剤や分子量調節剤の使用量の調節な� ��各種の方法によってなすことができる。ま� ��、場合により、得られたPC樹脂に適宜物理� �処理(混合、分画など)および/または化学的� �理(ポリマー反応、架橋処理、部分分解処理� ��ど)を施して所定の還元粘度[η _sp /C]のPC樹脂として取得することもできる。
 また、得られた反応生成物(粗生成物)は、� �知の分離精製法等の各種の後処理を施して� �所望の純度(精製度)のものをPC樹脂として回� ��することができる。