Title:
POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2010/073948
Kind Code:
A1
Abstract:
Disclosed is a positive-type photosensitive resin composition comprising an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxy group, a compound capable of generating an acid upon irradiation with light, a thermally cross-linking agent, and an acrylic resin. The positive-type photosensitive resin composition can be developed with an aqueous alkaline solution, and can be formed into a resist pattern having excellent adhesion properties and excellent thermal shock resistance with satisfactorily high sensitivity and satisfactorily high resolution.
Inventors:
MATSUTANI Hiroshi (13-1, Higashi-cho 4-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 55, 〒3178555, JP)
松谷 寛 (〒55 茨城県日立市東町四丁目１３番１号 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 〒3178555, JP)
UENO Takumi (13-1, Higashi-cho 4-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 55, 〒3178555, JP)
上野 巧 (〒55 茨城県日立市東町四丁目１３番１号 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 〒3178555, JP)
NICOLAS Alexandre (13-1, Higashi-cho 4-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 55, 〒3178555, JP)
ニコラ アレクサンドロ (〒55 茨城県日立市東町四丁目１３番１号 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 〒3178555, JP)
松谷 寛 (〒55 茨城県日立市東町四丁目１３番１号 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 〒3178555, JP)
UENO Takumi (13-1, Higashi-cho 4-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 55, 〒3178555, JP)
上野 巧 (〒55 茨城県日立市東町四丁目１３番１号 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 〒3178555, JP)
NICOLAS Alexandre (13-1, Higashi-cho 4-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 55, 〒3178555, JP)
ニコラ アレクサンドロ (〒55 茨城県日立市東町四丁目１３番１号 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 〒3178555, JP)
Application Number:
JP2009/070987
Publication Date:
July 01, 2010
Filing Date:
December 16, 2009
Export Citation:
Assignee:
HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. (1-1 Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku Tokyo, 49, 〒1630449, JP)
日立化成工業株式会社 (〒49 東京都新宿区西新宿二丁目１番１号 Tokyo, 〒1630449, JP)
MATSUTANI Hiroshi (13-1, Higashi-cho 4-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 55, 〒3178555, JP)
松谷 寛 (〒55 茨城県日立市東町四丁目１３番１号 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 〒3178555, JP)
UENO Takumi (13-1, Higashi-cho 4-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 55, 〒3178555, JP)
上野 巧 (〒55 茨城県日立市東町四丁目１３番１号 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 〒3178555, JP)
NICOLAS Alexandre (13-1, Higashi-cho 4-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 55, 〒3178555, JP)
日立化成工業株式会社 (〒49 東京都新宿区西新宿二丁目１番１号 Tokyo, 〒1630449, JP)
MATSUTANI Hiroshi (13-1, Higashi-cho 4-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 55, 〒3178555, JP)
松谷 寛 (〒55 茨城県日立市東町四丁目１３番１号 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 〒3178555, JP)
UENO Takumi (13-1, Higashi-cho 4-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 55, 〒3178555, JP)
上野 巧 (〒55 茨城県日立市東町四丁目１３番１号 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 〒3178555, JP)
NICOLAS Alexandre (13-1, Higashi-cho 4-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 55, 〒3178555, JP)
International Classes:
G03F7/023; G03F7/004; G03F7/40; H01L21/027
Attorney, Agent or Firm:
HASEGAWA Yoshiki et al. (SOEI PATENT AND LAW FIRM, Ginza First Bldg. 10-6, Ginza 1-chome, Chuo-k, Tokyo 61, 〒1040061, JP)
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