Die Erfingung betrifft ein Verfahren zur Stabilisierung der Entladung bei Niederdruck-Glirπrrprozessen, insbesondere zur

Vermeidung von Bogenentladungen und damit verbundenen Störungen des Gesamtprozesses, insbesondere bei Verwendung von Reaktivga¬ sen. Das Verfahren findet Anwendung auf dem Gebiet der Plasmabe- handlung von Oberflachen, der Abscheidung von Schichten aus dem Plasma und der plasmagestutzten Oberflachenreimgung. Derartige Prozesse dienen vorzugsweise zur Oberflächenveredlung von Bautei¬ len, Werkzeugen, Halbzeugen und Fertigteilen in der Optik, im Maschinenbau, m der Verpackungs- und Glasindustrie und Elektro ^¬ industrie.

Es sind eine Vielzahl von Verfahren und Einrichtungen für die Plasmadiffusion, die plasmagestutzte chemische Dampfphasenab- scheidung (PECVD) und die plasmagestutzte physikalische Dampfab¬ scheidung (PVD) , die Plasmapolymerisation und das Plasmaatzen bekannt. Bei all diesen Prozessen werden Elektroden eingesetzt, zwischen denen eine Glimmentladung gezündet wird. Die Energie wird dabei m Form von Gleichspannung (DC, DC gepulst) oder Wechεelspannung (AC, HF) dem Niederdruckprozeß zugeführt. Sowohl beim Einsatz von DC- als auch gepulsten DC-Stromversorgungen zur Speisung des Plasmas tritt prozeßbedingt das Umschlagen der

Glimmentladung in eine Bogenentladung auf. Solche Bogenentladun¬ gen fuhren zu Instabilitäten bei der gesamten Prozeßfuhrung wie auch zu lokalen Zerstörungen an den betreffenden Oberflachen der Elektroden und Substrate.

Es ist bekannt, zur Reduzierung der Schädigung der betreffenden Oberflachen durch die Bogenentladungen verschiedene Verfahren und Einrichtungen einzusetzen. Eine dazu in der Plasmatechnik weit verbreitete Losung ist die automatische Überwachung der Bogenen - ladung durch die Kontrolle der elektrischen Entladungsparameter. Werden Abweichungen der Parameter einer Niederdruckglimmentladung durch die Ausbildung einer Bogenentladung erkannt, erfolgt eine Abschaltung der Energiezufuhr. Nach einer Mindestzeit, die zur

Loschung des Bogens notwendig ist, wird die Energie erneut zugeschaltet (DD 122 160 A 1) .

Eine weitere Losung zur Reduzierung der Schaden durch ungewollte Bogenentladungen und zur Erhöhung der Prozeßstabilitat besteht darin, die Energie mit periodisch wiederholten Gleichstromimpul- sen zuzuführen (DE 37 00 633 C 1) . Damit wird jedoch die Bogenausbildung nicht verhindert, sondern nur der Energieeintrag in den Bogen auf eine Periode begrenzt. Besonders bei großen Entladungsleistungen ist der Energieinhalt innerhalb einer Periode noch so groß, daß es unweigerlich im Falle einer

Bogenen ladung zu Instabilitäten des Gesamtprozesses und zu Oberflachenschädigungen kommt. Deshalb ist es auch für diese Losung mit gepulster Energiezufuhr unumgänglich, automatisch die Bogenentladung mit den oben genannten Mitteln oder mittels einer speziellen Lichtbogensensorschaltung zu erkennen und die Energie¬ zufuhr zu unterbrechen.

Es ist darüber hinaus bekannt, z. B. für das Zerstauben nach dem Magnetron-Prinzip über einem Magnetsystem mindestens zwei Elek- troden anzuordnen, die aus dem zu zerstaubenden Material beste¬ hen. Diese Elektroden werden so geschaltet, daß sie wechselweise Katode und Anode der Niederdruckentladung sind, oder sie werden an eine Wechselspannung angeschlossen (DD 252 205 A I) . Auch diese Losung verhindert nicht prinzipiell das Umschlagen der Glimmentladung in eine Bogenentladung, sondern der Energieeintrag in den Bogen wird auf eine Periode begrenzt.

Mit all diesen Losungen wird nur ein sich ausbildender bzw. schon vorhandener Bogen detektiert, d. h. der Bogen wird nicht vermie- den, sondern es wird versucht, die entstehenden schädlichen

Auswirkungen zu minimieren. Die Energie, die im Plasma gespei¬ chert ist, wird grundsätzlich beim Übergang von der Glimm- in die Bogenentladung über den Bogen auf die Elektroden oder Substrate abgeführt. Für die Minimierung der Zeit zwischen Bogenausbildung und dessen Erkennung und für die Reaktionszeit bis zur Fortschal¬ tung der Energie gibt es physikalische Grenzen, die nicht unter¬ schritten werden können.

Der weiterhin bekannte Einsatz von HF-Generatoren umgeht die obengenannten Probleme des Umschlagens der Glimmentladung m eine Bogenentladung vom Prinzip her, aber er hat den Nachteil der hohen Kosten, des hohen apparativen Aufwandes und des Problems der Impedanzanpassung zwischen dem Prozeß und dem HF-Generator

Daher ist diese Art der Energiezufuhr auf spezielle Anwendungsge¬ biete beschrankt.

Es ist weiterhin bekannt, das Plasma bei der Niederdruck-Glimm- entladung mittels Analyse der optischen Emission zu detektieren und damit bei der reaktiven Beschichtung die Steuerung der Schichtzusammensetzung vorzunehmen (U.S.Patent 4,166,784; U.S.Pa¬ tent 4,407,709) . Dabei wird die Intensität der optischen Emission des Plasmas als Stellgroße für den Reaktivgasfluß bzw. für die Stromversorgung genutzt. Diese Verfahren bewirken eine Stabili¬ sierung der reaktiven Prozeßfuhrung beim Abscheiden von Schichten mit definierter Schichtzusammensetzung. Auch diese Verfahren schaffen keine Möglichkeit, die Ausbildung von Bogenentladungen zu erkennen und darauf zu reagieren, sondern benotigen zusätzlich eine oben beschriebene Bogenfortschaltung mit den genannten

Nachteilen. Doch gerade bei diesen Prozessen ist die Neigung zum Umschlagen in eine Bogenentladung besonders stark, bedingt durch die Unterschiede in der elektrischen Leitfähigkeit zwischen dem zu zerstäubenden Material und der abgeschiedenen Schicht

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Durchfuhrung von stabilen Niederdruck-Glimmentladungen zu schaf¬ fen, das die Entstehung von Bogen bereits im Vorfeld verhindert und den Glimmprozeß über lange Zeit stabil halt . Der Aufwand soll relativ gering sein. Das Verfahren soll für alle Glimmprozesse wie das plasmagestutzte Beschichten und die Plasmabehandlung von Oberflachen, insbesondere die plasmagestutzte Oberflachenreini- gung, anwendbar sein.

Erfmdungsgemaß wird die Aufgabe nach den Merkmalen des Anspru¬ ches 1 gelost. Vorteilhafte Ausgestaltungen des Verfahrens sind m den Ansprüchen 2 bis 14 beschrieben

Ein besonderer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, daß durch die Detektierung des Plasmazustandes der Zeit¬ punkt vor dem Übergang der Glimmentladung in eine Bogenentladung bzw. vor dem Auftreten von Instabilitäten der Glimmentladung erkannt wird. Eine physikalische Ursache für die Instabilitäten können lokale Aufladungen von isolierten Bereichen innerhalb des Plasmaraumes sein. Beim Überschreiten einer bestimmten Ladungs¬ dichte in diesen Bereichen kommt es ohne das erfindungsgemäße Verfahren zu einem elektrischen Durchbruch, der Ausgangspunkt einer Bogenentladung wäre. Durch die erfindungsgemäße Lösung wird eine Regenerierungsphase eingeleitet, die die Ursachen für das Entstehen eines Bogens beseitigt.

Maßgebend für die Einleitung einer Regenerierungsphase ist die Höhe des Aufladungspotentials. Dieses wird von der Energie, die in das Plasma eingebracht wird, der Charakteristik der Isolation und der örtlichen Plasmadichte bestimmt. Überraschenderweise kann durch die Überwachung einer oder mehrerer dieser Parameter eine charakteristische Größe gewonnen werden, die diesen Zustand erkennen läßt und die Möglichkeit gibt, vorausschauend in den Niederdruck-Glimmprozeß einzugreifen. Die Bestimmung dieser Parameter ist auch unter Bedingungen einer stabilen Nieder¬ druckglimmentladung möglich. Es wird nicht erst der Übergang von der Glimm- zur Bogenentladung abgewartet und aus der Analyse der Strom-Spannungskennlinie der kritische instabile Entladungszu¬ stand detektiert, wie das bei herkömmlichen Verfahren geschieht. Dieser Umschlag von der Glimm- in die Bogenentladung tritt bei dem erfindungsgemäßen Verfahren nicht mehr auf . Wird die eingebrachte Energie in das Plasma zur Charakterisierung des Plasmas verwendet, ist es günstig, die elektrischen Entla¬ dungsparameter durch Intergration über der Zeit zu bestimmen.

Eine bekannte Methode, die örtliche Plasmadichte zu überwachen, beruht auf der Analyse der optischen Emission des Plasmas und kann auch für dieses erfindungsgemäße Verfahren effektiv einge¬ setzt werden.

Überraschenderweise hat sich weiterhin gezeigt, daß es Möglich-

keiten gibt, den Plasmaraum schnell zu regenerieren und dadurch den Ausgangszustand für die Ausbildung eines stabilen Glimmplas- mas wiederherzustellen, d. h. den Glimmprozeß wieder zu starten. Eine Variante der Regenerierung besteht darin, die Energiezufuhr m das Plasma für die Zeit zu unterbrechen, in der eine Selbst- entladung der isolierten Bereiche erfolgt, und danach den Glimm¬ prozeß erneut zu starten. Eine andere Möglichkeit zur Herstellung des Ausgangszustandes besteht darin, für die Zeit der Regenerie¬ rungsphase einen zusatzlichen Verbraucher mit der Gleichstromver- sorgung zu verbinden und darüber die Regenerierung zu bewirken. Als zweiter Verbraucher kann auch eine elektrisch leitende Verbindung zwischen den Glimmelek roden verwendet werden. Eine weitere vorteilhafte Ausgestaltung des Verfahrens besteht darin, daß die Regenerierungsphase durch Vertauschen der Pola- πtat an den Glimmelektroden bewirkt wird und damit über ein entgegengesetzt polarisiertes Plasma eine Regenerierung erfolgt . Diese Verfahrensweise ist besonders für Zerstaubungsverfahren mit zwei abstaubbaren Elektroden geeignet, die wechselweise als Kathode und Anode geschaltet werden. Die Effektivität der in den Unteransprüchen beschriebenen Ausge¬ staltungen des Verfahrens ist abhangig von dem speziellen Nieder- druck-Glimmprozeß und dem Anwendungsfall, wobei an sich bekannte Mittel hierfür eingesetzt werden können. Es hat sich gezeigt, daß für diese Formen der Regenerierung Zeiten von mindestens 1 μs notwendig sind.

An zwei Ausfuhrungsbeispielen wird die Erfindung naher erläutert. In der zugehörigen Zeichnung zeigen:

Fig. 1: eine Einrichtung zur Substratreinigung mittels Plasmaatz- prozeß,

Fig. 2: eine Einrichtung zum reaktiven Zerstäuben.

Gemäß Fig. 1 befindet sich in einer Vakuumkammer 1 die Elektrode 2 der Plasmaatzanordnung. Oberhalb der Elektrode 2 befindet sich ein Substrat 3 auf Massepotential. An der Vakuumkammer 1 ist ein Gaseinlaßventil 4 zur Zufuhrung von Argon als Prozeßgaε angeord¬ net. Die Plasmaatzanordnung wird von einer DC-Stromversorgung 5 über eine Schaltemheit 6 gespeist. Mittels eines optischen

Sensors 7 zur Bestimmung der Intensität einer Emissionslinie wird der Plasmazustand m-situ gemessen und über eine Lichtleitfaser 8 einer an sich bekannten Elektronikemheit 9 zugeführt. Zusätzlich wird in die Elektronikemheit 9 ein experimentell ermittelter Vergleichswert über die Referenzeingabe 10 eingegeben. Die

DC-Stromversorgung 5 arbeitet im Konstant-Leistungsbetrieb bei einer elektrischen Leistung von 2 kW und einer Spannung von ca. 3,6 kV. Der Totaldruck in der Vakuumkammer 1 betragt 2,4 Pa. In der Elektronikemheit 9 wird die Intensität der Argonlinie bei 420 nm in ein äquivalentes elektrisches SpannungsSignal im

Bereich zwischen 0 und 10 V umgewandelt und über die Zeit inte¬ griert. Durch den Vergleich mit dem Sollwert an der Referenzein¬ gabe 10 wird der Zeitpunkt ermittelt, nach dem mittels der Schaltemheit der Regenerierungsprozeß gestartet wird. Für diese Anordnung wurde der Vergleichswert von 0,2 mVs ermittelt, mit dem ein stabiler bogenfreier Plasmaätzprozeß über 5 Stunden störungs¬ frei arbeitete.

In den Regenerierungsphasen wurde hierbei die Piasmaatzein ich- tung über eine Dauer von 30 μs mit Massepotential verbunden. Die Lange der Atzphasen andern sich dabei von anfänglich 20 μs auf ca. 50 μs gegen Ende der Bearbeitungszeit.

In Fig. 2 ist eine Einrichtung dargestellt, mit deren Hilfe eine Beschichtung mittels stabilisiertem Glimmprozeß für das reaktive Zerstäuben unter Verwendung einer bekannten Zerstäubungseinrich¬ tung für Alummiumoxid erfolgt.

In einer Vakuumkammer 1 befindet sich die Zerstaubungseinnch- tung, bestehend aus den zwei Elektroden 11a; 11b aus Aluminium. Oberhalb der Zerstaubungsemrichtung befindet sich in einem Abstand von 100 mm das Substrat 3, welches auf Massepotential gelegt ist. An der Vakuumkammer 1 befindet sich ein Gasemlaßven- til 4 zur Zufuhrung eines Argon/Sauerstoff-Gemisches mit einem Mischungsverhältnis von 50/50 bei konstantem Fluß. Die Zerstau¬ bungsemrichtung wird von einer DC-Stromversorgung 5 über eine Schaltemheit 12 gespeist. Mittels der optischen Sensoren 7 wird der Plasmazustand m-situ in einem Abstand von 5 mm von den zugehörigen Elektroden 11a; 11 b gemessen und über e ne Licht¬ leitfaser 8 einer an sich bekannten Elektronikemheit 9

zugeführt. Zusätzlich erhalt die Elektronikemheit 9 einen experimentell ermittelten Vergleichswert von der Referenzeingabe 10. Die DC-Stromversorgung 5 arbeitet im Konstant-Leistungsbe- trieb bei einer elektrischen Leistung von 12 kW und einer Span- nung von ca. 600 V. Der Totaldruck in der Vakuumkammer 1 betragt 0.4 Pa. In der Elektronikemheit 9 wird die Intensität der Alummiumlmie bei 396 nm in ein äquivalentes elektrisches Spannungssignal im Bereich zwischen 0 und 10 V umgewandelt, über die Zeit integriert und daraus der Meßwert gebildet. Durch den Vergleich des Meßwertes für die Elektrode 11a mit dem Wert aus der Referenzeingabe wird der Zeitpunkt ermittelt, nach dem die Elektrode 11a von Kathodenpotential auf Anodenpotential bzw. die Elektrode 11b von Anodenpotential auf Kathodenpotential umge¬ schaltet wird. Arbeitet die Elektrode 11a als Anode, werden die Potentialflachen des Plasmaraumes und die Elektrode selbst mit zusätzlicher Unterstützung des umgepolten Plasmas regeneriert. Durch den Vergleich des Meßwertes des Sensors 7 an der Elektrode 11b mit dem Wert aus der Referenzeingabe wird der Zeitpunkt ermittelt, nach dem die Elektrode 11b von Kathodenpotential auf Anodenpotential bzw. die Aluminiumelektrode 11a von Anodenpoten¬ tial auf Kathodenpotential umgeschaltet werden. Dabei lauft d e Regenerierung des Plasmaraumes der Elektrodenumgebung der Elek¬ trode 11b analog ab. Mit dieser Prozeßfuhrung wird parallel zur Regenerierung einer Elektrodenumgebung mittels einer zweiten Elektrode ein Plasma erzeugt, so daß praktisch keine Unterbre¬ chung des Beschichtungεprozesses auftrit . Für diese Anordnung wurde der Vergleichswert von' 0,18 mVs ermittelt, mit dem ein stabiler bogenfreier Beschichtungsprozeß auch nach 72 Stunden noch störungsfrei arbeitete. Die Lange der Regeneπerungsphase für die Elektrode 11a änderte sich dabei von anfanglich 30 μs auf 25 μs nach einer Beschichtungszeit von 72 Stunden und die der Elektrode 11b im selben Zeitraum von 28 μs auf 26 μs Die sich bei dem Verfahren durch die Prozeßfuhrung ergebenden unterschiedlichen Beschichtungszeiten mit den Elektroden 11a; 11b, die zu Inhomogenitäten der auf dem Substrat 3 aufgebrachten Schichten fuhren wurden, werden dadurch ausgeschlossen, daß entweder das Substrat 3 einer Relativbewegung unterliegt oder die beiden Elektroden 11a; 11b im Verh ltnis zum Substrat 3 so

angeordnet sind, daß sich jeweils eine Dampfwolke bildet, die sich über das gesamte Substrat 3 ausbreitet.