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Title:
PROCESS FOR IRRADIATION CROSS-LINKING OF STRAND-SHAPED MATERIALS
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/1996/027887
Kind Code:
A1
Abstract:
In order to carry out electron beam cross-linking of the insulating sheath of an electrical cable (12), two beams are produced by an electron accelerator (1). The two beams are each directed at the cable via a beam guide element (41, 42) from two directions which form an angle of 90�. Irradiation can take place in the same diametral plane or zone of the cable (12) and using the same beam intensity, without any overheating of the cable core. The facility used for carrying out the electron beam cross-linking process can be provided with a beam chopper.

Inventors:
Gielenz, Gerhard
Application Number:
PCT/CH1996/000052
Publication Date:
September 12, 1996
Filing Date:
February 15, 1996
Export Citation:
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Assignee:
HUBER + SUHNER AG GIELENZ, Gerhard.
International Classes:
B29C35/10; H01B13/00; H01B13/14; (IPC1-7): H01B13/00
Foreign References:
EP0037869A1
FR2076148A1
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Claims:
Patentansprüche
1. Verfahren zur Elektronenstrahlvernetzung von strangförmigem Gut mit Hilfe eines Elektronenbeschleunigers und einer Bestrahlungsfeldeinrichtung (Produkt handling), dadurch gekennzeichnet, dass zwei oder mehrere vom Elektronenbe¬ schleuniger erzeugte Strahlströme über mindestens zwei Strahlführungseinheiten (41; 42) mit je einer Scannereinheit (61; 62) dem strangförmigen Gut (12) unter verschiedenen Winkeln zugeführt werden.
2. Strangförmiges Gut, wie z.B. Leiterisolationen, Kabelmäntel, Schläuche, Rohre und dergleichen, strahlenchemisch vernetzt nach Anspruch 1.
3. Anlage zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 , dadurch ge¬ kennzeichnet, dass der Elektronenbeschleuniger (1) mit einer Abzweigvorrichtung (3) verbunden ist, an die zwei Strahlführungseinheiten (41 , 42) angeschlossen sind, die je eine Scannereinheit (61, 62) umfassen.
4. Anlage zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 , dadurch ge¬ kennzeichnet, dass der Elektronenbeschleuniger ein Hochspannungsteil (22) umfasst, das mit einer Abzweigvorrichtung (24; 24') verbunden ist, an die minde¬ stens zwei Beschleunigerröhren (151; 152) mit je einer Elektronenquelle (141 ; 142) angeschlossen sind, und dass an die Beschleunigerröhren (151; 152) Strahlführungseinheiten (41 ; 42) derart angeschlossen und geometrisch angeord¬ net sind, dass ein zu vernetzendes sich in einer Bestrahlungsfeldeinrichtung be¬ findendes strangförmiges Gut (12) pro Durchgang durch das Elektronenstrahlfeld von mindestens zwei Seiten bestrahlt wird.
5. Anlage nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass diese Strahlführungseinheiten (41 ; 42) je eine Umlenkeinheit (51 ; 52) und eine Scan¬ nereinheit (61; 62) umfassen.
6. Anlage nach einem der Ansprüche 3, 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahlführungseinheiten (41 ; 42) derart geometrisch angeordnet sind, dass die Bestrahlung in derselben diametralen Ebene (S) oder Zone des strang förmigen Guts (12) und zumindest angenähert mit der gleichen Strahlstärke durchgeführt werden kann.
7. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Abzweigvorrichtung (3) einen StrahlChopper (20) umfasst, um dem strang förmigen Gut (12) die besagten mindestens zwei Elektronenstrahlströme ab¬ wechslungsweise oder zeitlich verschachtelt zuzuführen, wobei vorzugsweise die Frequenz fc des StrahlChoppers (20) deutlich kleiner oder grösser als die Fre¬ quenz fs der Scannereinheit (61 ; 62) ist, und wobei vorzugsweise für die Fre¬ quenz fc die Beziehungen 1 Hz < fc < 100 Hz oder fc > 200 Hz gelten.
8. Anlage nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass eine auf die Elek¬ tronenquelle (141) wirkende Steuereinheit (19') über galvanisch trennende Mittel (19") mit einer auf die Abzweigvorrichtung (3) wirkenden Wechselspannungsein¬ heit (19) verbunden ist, um die Elektronen paketweise synchronisiert abwechs¬ lungsweise jeweils auf eine der Strahlführungseinheiten (41 ; 42) zu leiten.
9. Anlage nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Abzweigvorrichtung (24; 24") mindestens zwei Beschleunigerröhren (151; 152) in ein und demselben Druckgehäuse umfasst, das mit einem Isoliermedium (27) ausgefüllt ist.
10. Einrichtung für eine Anlage nach einem der Ansprüche 3 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass sie mindestens zwei Strahlführungseinheiten (41; 42) um¬ fasst, die je eine magnetische Umlenkeinrichtung (51 ; 52) und eine Scannerein¬ heit (71, 81, 91 ; 72, 82, 92) aufweisen.
Description:
Verfahren zur Strahlenvernetzung von Stranggütern

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Elektronenstrahlvernetzung von Stranggütern gemäss dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.

Zur Verbesserung der thermischen und mechanischen Beständigkeit von Isolier¬ hüllen elektrischer Kabel oder Leitungen werden diese u.a. mit energiereichen Elektronen bestrahIL Zu diesem Zweck wird beispielsweise das isolierte Kabel in einem einzigen Durchgang, axial rotierend, durch das Strahlfeld eines Elektro¬ nenbeschleunigers von beispielsweise 1 bis 3 MeV Energie hindurchgeführt. Ein solches Verfahren ergibt zwar durch die Rotation eine ideale Energieverteilung über dem Umfang des Kabels, erweist sich jedoch als nachteilig im Hinblick auf die Notwendigkeit, die sehr grossen Auf- und Abwickel spulen drehen zu müssen. Wegen der dabei grossen zu bewegenden Massen sind die erzielbaren Produkti¬ onsgeschwindigkeiten limitiert.

Bei Verwendung von einem stärkeren Beschleuniger bis ca. 5 MeV und durch Mehrfachumlenkung mit Führungsrädern oder Walzen kann die axiale Rotation des Kabels entfallen, indem das Kabel mindestens zweimal durch das Strahlfeld des Beschleunigers hindurchgeführt wird, und zwar beispielsweise das erste Mal mit einer vorbestimmten Mantellinie nach oben und das zweite Mal mit dieser Mantellinie des Kabels nach unten gerichtet. Durch die verbesserte Strahlfeld¬ ausnutzung ergibt sich damit auch eine zusätzliche Erhöhung der Produktionsge¬ schwindigkeit.

Ein solches Verfahren hat zwar an sich den grossen Vorteil, dass es durchgeführt werden kann, ohne die grossen Auf- und Abwickelspulen des Kabels drehen zu müssen, es ist jedoch mit dem Nachteil verbunden, dass wegen der verwendeten höheren Beschleunigerspannung der metallische Kabelkern wesentlich stärker bestrahlt wird, was zu höheren Leitertemperaturen führt und gegebenenfalls durch aufwendige Kühlsysteme kompensiert werden muss.

Zudem ergibt sich bei diesem Verfahren eine ungleiche Verteilung der Strahlen¬ dosis über dem Kabelumfang mit zwei ausgeprägten Maxima an den beiden äusseren Kreissegmenten der Isolation oder des Kabelmantels, die von beiden Seiten bestrahlt werden, wobei mit zunehmendem Gesamtdurchmesser und grösseren Wanddicken diese Inhomogenität in der Energieverteilung über dem Umfang der Kabelhülle immer grösser wird.

Es ist daher Zweck der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Elektronen- strahlvernetzung von Stranggütern zu schaffen, das zu einer relativ guten Homo¬ genität der Dosis über dem Umfang führt und mittels einer relativ einfachen An¬ lage realisiert werden kann.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäss durch ein Verfahren mit den im kenn¬ zeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 angegebenen Merkmalen gelöst.

Vorteilhafte Ausführungen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen an¬ gegeben.

Nachfolgend wird die Erfindung beispielsweise anhand von Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 eine schematische Darstellung einer ersten Variante einer Anlage zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens,

Fig. 2 eine schematische Darstellung zur Erläuterung der Arbeitsweise ei¬ ner gepulsten Abzweigvorrichtung nach der Erfindung,

Fig. 3 eine schematische Darstellung einer zweiten Variante einer Anlage zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens, und

Fig. 4 und 5 schematische Darstellungen zur Erläuterung der Arbeitsweise einer erfindungsgemässen Anlage.

Die Anlagen nach den Figuren 1 und 3 dienen zur Bestrahlung der Isolierhüllen von Kabeln 12 oder anderer strangförmiger Güter, und bewirken eine sogenannte strahlenchemische Vernetzung der verwendeten Werkstoffe, die beispielsweise Polyolefine, Elastomere oder andere strahlenvernetzbare Polymerwerkstoffe oder Blends solcher Werkstoffe sein können, die zur Herstellung von Kabelisolationen und -mänteln, Schläuchen, Rohren und dergleichen verwendet werden.

Die Anlage nach Figur 1 umfasst einen an sich bekannten Elektronenbeschleu¬ niger 1, dessen Strahlaustrittsrohr 2 mit einer Abzweigvorrichtung 3 verbunden ist, an die zwei einzelne Strahlführungseinheiten 41 , 42 angeschlossen sind, wo¬ bei auch mehrere solche Einheiten an die Vorrichtung 3 angeschlossen sein kön¬ nen. Die Einheiten 41 , 42 umfassen jeweils eine Umlenkeinrichtung 51 bzw. 52 und eine Scannereinheit 61 bzw. 62, die je eine Ablenkeinrichtung 71 bzw. 72 zur Aufweitung des Elektronenstrahls und einen nachfolgenden Scanner 81 bzw. 82 aufweisen. Die Einheiten 41 und 42 sind derart gegeneinander angeordnet, dass die Richtungen der zwei Elektronenstrahlen, die durch das Elektronenaustritts¬ fenster 91 bzw. 92 der Scanner 81, 82 auf die Produktebene gelangen, einen Winkel zwischen 60° und 120° bilden. Im Bereich zwischen den Austrittsfenstern 91 und 92 an den Enden der Einheiten 41 und 42 befindet sich eine Elektronen- prallplatte 10 unterhalb der Produktebene 11, in der sich das zu vernetzende Produkt 12 befindet. Die Umlenkeinrichtungen 51, 52 sind je über einen Tubusab¬ schnitt 121, 122 mit der Abzweigvorrichtung 3 verbunden. Die Strahlführungsein¬ heiten 41 und 42 weisen auch je einen Tubusabschnitt 131 bzw. 132 auf, die in der aus Figur 1 ersichtlichen Weise zwischen den Bauteilen 51 und 71 bzw. 52 und 72 eingefügt sind. Die Austrittsfenster 91 bzw. 92 befinden sich an den En¬ den der Scanner 81 bzw. 82.

Die Anlage nach Figur 1 funktioniert nun folgendermassen:

Der Elektronenbeschleuniger 1 zusammen mit der Abzweigvorrichtung 3 erzeugt zwei Strahlströme, vorzugsweise im Energiebereich zwischen 0,5 MeV und 5 MeV. Gegebenenfalls können jedoch auch mehrere gleich starke Ströme nach demselben Prinzip mit angepasster Abzweigvorrichtung 3 erzeugt werden Durch die Strahlführungseinheiten 41 und 42 werden die Ströme auf zwei, gegebenen¬ falls jedoch auch mehrere Scanner 81 bzw. 82 geleitet. Die Elektronen laufen von der Elektronenquelle 141 durch die Beschleunigerröhre 151 bis zu ihrem Austritt

aus den Fenstern 91 , 92 im Hochvakuum und werden durch die Strahlführungs¬ einheiten 41, 42 geführt.

Erfindungsgemäss sind die Scanner 81, 82 derart geometrisch angeordnet, dass die emittierten Elektronenstrahlen das umlaufende Produkt von verschiedenen Seiten bestrahlen, vorzugsweise in derselben Ebene und mit der gleichen Strahl¬ stärke, indem durch Mehrfachumlenkung mit einer an sich bekannten Bestrah¬ lungsfeldeinrichtung (Produkthandling) mit geeigneten Rollen- und/oder Walzen¬ systemen das Produkt mindestens zweimal unter verschiedenen Winkeln durch die Bestrahlungszone geführt wird.

Beim Zwei-Scanner-System nach Figur 1 befinden sich die Hauptaustrittsachsen der zwei Elektronenaustrittsfenster 91, 92 vorzugsweise in ein und derselben Ebene und in einem Winkel von 90° zueinander versetzt. Grundsätzlich können die beiden Scanner 81 , 82 aber auch in zwei verschiedenen Ebenen S, S" (Figur 5) und in einem Winkel zwischen 60° und 120° zueinander stehen.

Versuche im Zusammenhang mit der vorliegenden Erfindung haben gezeigt, dass in vielen Fällen die Bestrahlung von mehreren Seiten aus in ein und derselben Zone des Produkts erfolgen kann, ohne eine übermässige Erhitzung des Kabel¬ kerns oder eine übermässige Ionisierung der Luft im Innern eines Schlauches oder Rohres zu verursachen, wie man sonst befürchten muss, da die notwendi¬ gerweise zu durchdringende Strecke H (Figur 4) insbesondere bei grösseren Wanddicken kleiner ist als bei herkömmlichen Verfahren mit nur einem Scanner, und somit eine geringere Beschleunigerspannung erfordert.

Die Abzweigvorrichtung 3 nach Figur 2 umfasst eine Hochvakuumkammer mit ei¬ nem zentralen Eintritts- (16) und zwei Austrittsflanschen (171 ; 172), die umge¬ kehrt Y-förmig angeordnet sind. Zwei entsprechend gestaltete und von aussen

gegenüberliegend angebrachte Magnetspulen 181 , 182, die über eine entspre¬ chend leistungsmässig angepasste Wechselspannungseinheit 19 gespeist wer¬ den, bilden dabei einen Strahl-Chopper 20, der die räumliche und zeitliche Ver¬ schiebung des einfallenden Elektronenstrahls in Richtung der beiden oder mehre¬ rer Austrittsflansche bewirkt. Gegebenenfalls können direkt nachgeschaltete Um¬ lenkeinrichtungen analog 51 , 52 (Figur 1 ) eine weitere Winkelaufweitung bewir¬ ken, bevor die beiden oder mehrere Teilströme zentrisch in die Strahlführungs¬ einheiten 41 , 42 gelenkt und alternierend bzw. abwechslungsweise auf die Pro¬ duktebene 11 geführt werden.

Vorzugsweise wird der Strahl-Chopper 20 gemäss Fig. 2 über eine Wechsel¬ spannungseinheit 19, die über galvanisch trennende Mittel 19" mit der Steuerein¬ heit 19' einer gepulsten Elektronenquelle 141 synchronisiert ist, angesteuert. Die dabei erzeugten Elektronen werden paketweise in der Beschleunigerröhre 151 beschleunigt und über die Abzweigvorrichtung mit dem Strahl-Chopper 20 ab¬ wechselnd in die Strahlführungseinheiten 41 oder 42 gelenkt. In Figur 2 sind vier solche aufeinander folgende Elektronenpakete auf ihrem Weg vor (E1 , E2, E3, E4) und nach (E1' ( E2', E3', E4') Passieren der Abzweigvorrichtung 3 dargestellt.

Dabei kann die Frequenz des Strahl-Choppers entweder in einem tiefen Bereich, beispielsweise von 1 bis 50 Hz, oder in einem hohen Bereich, beispielsweise von 500 Hz bis 100 kHz, liegen, um Interferenzen bzw. Resonanzeffekte mit der Ab¬ lenkfrequenz der Einheiten 71, 72 (Figur 1), die beispielsweise mit einer Frequenz im Bereich zwischen 100 und 200 Hz arbeiten, zu vermeiden.

Grundsätzlich lässt sich diese Abzweigvorrichtung aber auch mit einem nicht ge¬ pulsten kontinuierlichen Elektronenstrahl betreiben, wobei dann die Ablenkfunk¬ tion der Wechselspannungseinheit 19 derart zu gestalten ist, dass die Zeit zwi¬ schen den beiden Umkehrpunkten des gescannten Strahls, die der Mittelpunkts-

läge der beiden Aust ttsflansche 171, 172 der Hochvakuumkammer entsprechen, minimiert wird. Die Verlustenergie, die zwischen den beiden Austrittsöffnungen dabei zwangsläufig auf die Vakuumkammer gelenkt wird, muss durch entspre¬ chende Gestaltung der Wandung 21 mit einer Kühleinrichtung abgeführt werden. Für diesen Fall entfallen die beiden Einheiten 19' und 19".

Die Anlage nach Figur 3 umfasst ein an sich bekanntes Hochspannungsteil 22 eines Elektronenbeschleunigers im Spannungsbereich von 0,5 MV bis 5 MV, das entweder vertikal oder wie in der Figur ebenfalls angedeutet ist, auch horizontal (22 * ) angeordnet sein kann, und an dessen Hochspannungsanschluss 23 eine Abzweigvorrichtung 24 mit zwei Beschleunigerröhren 151, 152 angeschlossen ist, die je eine Elektronenquelle 141 bzw. 142 im oberen Endbereich aufweisen. Das Gehäuse der Abzweigvorrichtung 24' ist mit einem geeigneten Isoliermedium 27, wie zum Beispiel SF5 - Gas (Schwefelhexafluorid) ausgefüllt.

Die Anlage nach Figur 3 weist zwei Strahlführungseinheiten 41, 42 auf, die ähn¬ lich wie die Einheiten 41 , 42 nach Figur 1 aufgebaut sind, so dass ähnliche Ele¬ mente in beiden Figuren mit denselben Bezugszeichen angegeben sind. Dies gilt insbesondere für die Elemente 51, 61, 71, 81, 91, 121, 131 bzw. 52, 62, 72, 82, 92, 122, 132.

An die Beschleunigerröhren 151, 152 ist jeweils über eine Elektronenfokus- siereinrichtung 251 , 252 je eine der Strahlführungseinheiten 41 und 42 ange¬ schlossen, die jeweils eine Umlenkeinrichtung 51 bzw. 52 und eine Scannerein¬ heit 61 bzw. 62 aufweisen. Die Einheiten 41 und 42 sind derart gegeneinander angeordnet, dass die Richtungen der zwei Elektronenstrahlen, die durch die Elektronenaustrittsfenster 91 bzw. 92 austreten, einen Winkel zwischen 60° und 120° bilden. Im Bereich zwischen den Austrittsfenstern 91 und 92 an den Enden der Einheiten 41 und 42 befindet sich eine Elektronenprallplatte 10 unterhalb der

Produktebene 11, beispielsweise mit dem zu vernetzenden Kabel 12. Die Fokus- siereinrichtungen 251 , 252 sind je über einen Tubusabschnitt 261 , 262 mit den Beschleunigerröhren 151 bzw. 152 verbunden. Die Elektronenaustrittsfenster 91 bzw. 92 befinden sich an den Enden der Scanner 81 bzw. 82.

Die Anlage nach Figur 3 funktioniert nun folgendermassen:

Das Hochspannungsteil 22 zusammen mit den Elektronenquellen 141, 142 und den Beschleunigerröhren 151, 152 erzeugt zwei Strahlströme, vorzugsweise im Energiebereich zwischen 0,5 MeV und 5 MeV. Gegebenenfalls können jedoch auch mehrere in etwa gleich starke Ströme nach demselben Prinzip mit ange- passter Abzweigvorrichtung 24, 24' und entsprechender Anzahl Elektronenquellen und Beschleunigerrδhren erzeugt werden. Durch die Strahlführungseinheiten 41 , 42 werden die Ströme auf zwei, gegebenenfalls jedoch auch mehrere Scanner 81 , 82 geleitet. Die Elektronen laufen von den Elektronenquellen 141 , 142 durch die Beschleunigerröhren 151, 152 bis zu ihrem Austritt aus den Fenstern 91, 92 im Hochvakuum und werden durch die Strahlführungseinheiten geführt. Die Fenster 91 , 92 weisen dünnste Folien auf, beispielsweise aus Aluminium oder Titan, ge¬ mäss dem Stand der Technik-

Erfindungsgemäss sind diese Scanner 81 , 82 (Figur 3) derart geometrisch ange¬ ordnet, dass ähnlich wie bei der Ausführung nach Figur 1 die emittierten Elektro¬ nenstrahlen das umlaufende Produkt von verschiedenen Seiten bestrahlen, und zwar gleichzeitig, vorzugsweise in derselben Ebene und mit etwa gleicher Strahl¬ stärke, indem durch Mehrfachumlenkung das Produkt mindestens zweimal unter verschiedenen Winkeln durch die Bestrahlungszone oder Produktebene 11 ge¬ führt wird.

Das Zwei-Scanner-System nach Figur 3, bei dem sich ebenfalls die Hauptaus¬ trittsachsen der zwei Fenster 91 , 92 vorzugsweise in ein und derselben Ebene und in einem Winkel von 90° zueinander versetzt befinden, bringt ähnliche Vor¬ teile mit sich wie die Ausführung nach Figur 1. Auch hier können aber grundsätz¬ lich die beiden Scanner 81, 82 in zwei verschiedenen Ebenen S, S' (Figur 5) und in einem Winkel zwischen 60° und 120° zueinander stehen.

Die Umlenkeinrichtungen 51, 52 (Figur 1 oder 3) weisen eine Hochvakuumkam¬ mer auf, bei der der Eintrittsflansch und der Austrittsflansch in einem Winkel ent¬ sprechend dem gewünschten Umlenkwinkel angeordnet sind, sowie zwei entspre¬ chend gestaltete und von aussen gegenüberliegend angebrachte elektromagneti¬ sche Spulen mit Kernen, die mittels Gleichspannung betrieben und derart um die Vakuumeinheit positioniert sind, dass der am Eintrittsflansch konzentrisch einfal¬ lende Elektronenstrahl entsprechend dem geometrischen Umlenkradius der Ein¬ heit gebogen wird und konzentrisch in das nachfolgende Hochvakuumbauteil 131 , 132 eintritt.

Figur 4 zeigt eine schematische Darstellung eines Kabels im Querschnitt, wobei die Isolierhülle 28 um einen Kabelkern 29 eine Dicke D aufweist, die nur wenig kleiner als die notwendige Durchdringungsstrecke H des durch den Scanner 81 (Figur 1 oder 3) gelenkten Elektronenstrahls E ist. Entsprechendes gilt für den durch den Scanner 82 (Figur 1 oder 3) gelenkten Elektronenstrahl E', dessen Einstrahlrichtung vorzugsweise einen Winkel um 90° mit der Einstrahlrichtung des Elektronenstrahls E bildet. Sinngemäss gilt diese Figur auch für Schläuche und Rohre.

Figur 5 zeigt, dass gemäss der Erfindung sich die Hauptachsen der Scannerein¬ heiten 61 und 62 in derselben Symmetrieebene S befinden können, die quer durch ein und dieselbe Zone der Produktebene 11 verläuft. Die Erfindung kann

jedoch auch Anwendung bei einer Anlage finden, bei welcher die Hauptachsen der Scannereinheiten 61, 62' sich in zwei parallelen Ebenen S bzw. S' befinden.

Durch die Erfindung kann beispielsweise eine hervorragende Homogenität der Vernetzung bei einem Kabel mit 30 mm Aussendurchmesser und 5 mm Wand¬ stärke durch Verwendung einer Hochspannung von ca. 1,5 MV erreicht werden.

Ein weiterer Vorteil der erfindungsgemässen Anlage ist, dass die Abmessungen des Bunkers, der zur Abschirmung der sich ergebenden unerwünschten elektro¬ magnetischen Strahlung notwendig ist, deutlich kleiner ist als bei Anlagen mit zwei Elektronenbeschleunigern und versetzten Scannern.

Die erfindungsgemässen Anlagen können in vorzüglicher Weise beispielsweise im Energiebereich von 0,5 MeV bis 3,0 MeV, mit Strömen in der Grössenordnung von 20 bis 100 mA und einer Strahleistung von 50 bis 250 kW, vorzugsweise um 100 bis 150 kW, betrieben werden.




 
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