本発明について説明する。
 本発明は、ガラス溶解炉から発生した硫黄� ��よび硼素を含む排ガスを、冷却用液体と接� ��させる冷却手段によって冷却し、冷却後排� ��スならびに硫黄および硼素を含む冷却排液� ��得る冷却工程と、前記冷却後排ガスと接触� ��液体とを接触手段によって接触させ、前記� ��却後排ガス中から硫黄および硼素を除去し� ��清浄ガスならびに硫黄および硼素を含む接� ��後排液を得る除去工程とを具備する、硼素� ��有ガラス製品の製造方法である。
 このような硼素含有ガラス製品の製造方法� ��、以下では「本発明の製造方法」ともいう� ��

 また、本発明は硼素含有ガラス製品の製� ��時発生排ガスの浄化方法でもあるが、本発� ��の製造方法における冷却工程と除去工程と� ��具備する浄化方法であるので、以下では本� ��明の製造方法についてのみ説明する。

<冷却工程>
 本発明の製造方法の冷却工程について説明� ��る。
 冷却工程では、ガラス溶解炉から発生した� ��黄および硼素を含む排ガスを、冷却用液体� ��接触させる冷却手段によって冷却する。

<排ガス>
 排ガスについて説明する。
 本発明の製造方法では、硫黄を含む脱泡剤� ��用いたり、ガラス溶解炉において重油等の� ��黄を含む燃料を燃焼したりすることを前提� ��する。また、硼素を実質的に含有するガラ� ��(硼素含有ガラス)製品を製造することを前� �とする。したがって前記排ガスは、硫黄お� �び硼素を含む。前記排ガス中において硫黄� �通常、酸化物(SO _X )の形態で存在し、硼素は通常、硼酸の形態� �存在する。排ガス中の硼酸は、溶解炉の燃� �方式で異なるが、ガラス原料中の硼素の15~25 質量%が気化した硼素または硼素化合物によ� �ものである。

 前記排ガス中の硫黄濃度は限定されず、� ��えば、ガラス原料中に硫黄を0.1質量%以上含 有するように硫黄含有の脱泡剤を用いた場合 や、溶解炉において重油等の硫黄を含む燃料 を燃焼した場合の硫黄濃度であってよい。ま た、例えば、前記排ガスの硫黄濃度は10ppm以� ��でもよく、30ppm以上であってもよい。

 なお、前記排ガス中の硫黄濃度は、後述� ��る冷却手段に供する直前での濃度を意味す� ��ものとする。前記排ガス中の他の成分(硼素 、フッ素、塩素等)および温度についても同� �とする。各成分の濃度はICP分析法、JIS K0105( 1998)及びJIS K0107(2002)を用いて測定した場合の 値を意味するものとする。温度は熱電対を用 いて測定した場合の値を意味するものとする 。

 前記排ガス中の硼素濃度についても同様で� ��り、特に限定されず、無アルカリガラスや� ��珪酸ガラスに代表される硼素含有ガラスを� ��造した場合の硼素濃度であってよい。無ア� ��カリガラスや硼珪酸ガラス中の硼素濃度は5 ~15質量%であってよく、5~10質量%であってよく 、7~9質量%であってよい。硼素含有ガラス中� �硼素濃度が15質量%程度の場合であっても、� �却工程や除去工程等での処理条件等を好ま� �いものにすることで、硼酸(B ₂ O ₃ )の濃度としては、好ましくは10mg/Nm ³ 以下、より好ましくは5mg/Nm ³ 以下、さらに好ましくは1mg/Nm ³ 以下とすることができる。なお、1Nm ³ (ノルマル立米)は、対象のガスを標準状態(0� �、760mmHg)に換算した場合における1m ³ のガス体積を表す。また、硼素含有ガラス中 の硼素濃度が15質量%程度の場合であっても、 前記排ガスの硼素濃度(質量%)に対する、前記 清浄ガスの硼素濃度(質量%)の比を、好ましく は0.2以下、より好ましくは0.1以下、さらに好 ましくは0.05以下とすることができる。

 前記排ガスは、さらにフッ素を含んでもよ� ��。この含有率は2.5mg/Nm ³ 以上であってよく、10mg/Nm ³ 以上であってよく、40mg/Nm ³ 以上であってもよい。
 また、さらに塩素を含んでもよい。この含� ��率は8mg/Nm ³ 以上であってよく、30mg/Nm ³ 以上であってよく、50mg/Nm ³ 以上であってもよい。
 前記排ガスが硫黄および硼素に加えて、フ� ��素および塩素を含む場合であっても、本発� ��のガラス製造方法によれば、硫黄、硼素、� ��ッ素および塩素が低減された清浄ガスを得� ��ことができる。
 なお、本発明において、硫黄、硼素、フッ� ��あるいは塩素を含むとは、それぞれの単体� ��含有する場合だけでなく、それぞれの単体� ��らなる化合物を含有する場合も含む。

 前記排ガスのその他の成分は特に限定さ� ��ない。無アルカリガラスや硼珪酸ガラスに� ��表される硼素含有ガラスを得るためのガラ� ��製造方法において、通常、溶解炉から排出� ��れる排ガス中に含まれる成分であってよい� ��

 前記排ガスの温度(冷却手段に供する直前 での排ガスの温度)は特に限定されない。例� �ば、通常のガラス製造方法において溶解炉� �ら排出され、配管等を流れていく過程で冷� �されバグフィルターを通過した後に至る温� �であってよい。前記排ガス温度は、130~160℃� ��あることが好ましく、135~155℃であることが より好ましく、145~150℃であることがさらに� �ましい。

<冷却用液体>
 冷却用液体について説明する。
 冷却用液体は後述する冷却手段によって前� ��排ガスと接触され、前記排ガスは冷却され� ��。
 冷却用液体の種類は特に限定されず、前記� ��ガスと接触することで前記排ガスを冷却で� ��るものであればよい。例えば水(工業用水、 蒸留水等の水を主成分とするものを含む。
)、海水が挙げられる。このような中でも前� �冷却用液体は水(以下、「冷却用水」ともい� ��。)であることが好ましい。理由は調達が容 易で安価であることと、主成分以外の溶解成 分が少ないことである。

 冷却用液体の温度は特に限定されず、前� ��排ガスよりも低い温度であればよく、より� ��いほうが好ましい。例えば常温であっても� ��い。

 なお、前記冷却用液体の温度は、後述す� ��冷却手段に供する直前での温度を意味する� ��のとする。前記冷却用液体中の成分(硫黄、 硼素、フッ素、塩素等)およびpHについても同 様とする。各成分の濃度はICP分析法、JIS K010 5(1998)、及び、JIS K0107(2002)を用いて測定した� ��合の値を意味するものとする。温度は熱電� ��を用いて測定した場合の値を意味するもの� ��する。pHはJIS Z8802(1984)を用いて測定した場� ��の値を意味するものとする。

 前記冷却用液体のpHは特に限定されない� �たとえば、冷却用液体が水の場合には、pHは 5~9であることが好ましく、6~8であることがよ り好ましく、7~8であることがさらに好ましい 。理由は、常温における硼素および硫黄が、 pH7~8で高い溶解性を示すためである。

 前記冷却用液体の硫黄濃度は特に限定さ� ��ない。たとえば、冷却用液体が水の場合に� ��、0~15000ppmであることが好ましく、0~5000ppmで あることがより好ましい。

 前記冷却用液体の硼素濃度は特に限定さ� ��ない。たとえば、冷却用液体が水の場合に� ��、0~10000mg/Lであることが好ましく、0~5000mg/L� ��あることがより好ましい。

<冷却手段>
 冷却手段について説明する。
 冷却手段は、本発明の製造方法の冷却工程� ��おいて、前記排ガスを前記冷却用液体と接� ��させて冷却する手段である。

 冷却手段は特に限定されず、例えば、スプ� ��ー、バブリングが挙げられる。中でも、前� ��排ガスへ前記冷却用液体をスプレーするこ� ��により前記排ガスを前記冷却用液体と接触� ��せる手段であることが好ましい。前記冷却� ��液体は、前記排ガスが好ましくは0.5~5Nm ³ /s、より好ましくは0.5~4Nm ³ /s、さらにより好ましくは0.5~3Nm ³ /sの速度で流れる中に連続的にスプレーされ� ��。理由は、この流速の前記排ガスにスプレ� ��することで前記排ガスと前記冷却用液体と� ��熱交換が効率よく行われるからである。

 ここで、スプレーの際の前記排ガスの量(Nm ³ )に対する前記冷却用液体の量(L)が0.5~1.0L/Nm ³ であることが好ましく、0.6~0.8L/Nm ³ であることがより好ましく、0.6~0.7L/Nm ³ であることがさらに好ましい。理由は前記排 ガスと前記冷却用液体との熱交換効率が最大 になるからである。

 前記冷却手段によって、前記排ガスを前記� ��ガス中の硼素の少なくとも一部が固体とし� ��析出する温度に冷却することが好ましい。� ��の温度は、90℃以下となっていることが好� �しく、70℃以上となっていることが好ましい 。また、70℃以上80℃以下となっていれば硼� �の多くが固体として析出していない点でよ� �好ましく、70℃以上75℃以下となっていれば� ��素の多くが固体として析出していない点お� ��び次工程での負荷を減らす意味でさらに好� ��しい。すなわち、後述する冷却後排ガスの� ��度がこのような温度となっていることが好� ��しい。
 このような温度に低下することで、通常、� ��記排ガス中の硼素の一部が固体(粉体)状で� �出するが、本発明の製造方法においては、� �ずしも前記排ガス中の硼素の多くの部分を� �出させる必要はない。従来法においては70℃ 以下、その多くは55℃以下にまで低下させ、� ��力多くの硼素を析出させていたが、本発明� ��製造方法では70℃以上でも、前記排ガス中� �硼素をほぼ分離することができる。これは� �前記排ガスが前記冷却用液体と接触するこ� �で、前記排ガス中の硫黄および硼素の一部� �前記冷却用液体へ溶解し、さらに、後述す� �除去工程によりガス状の硼素を接触用液体� �強制的に溶解することで除去することがで� �るからである。

<冷却後排ガスおよび冷却排液>
 このような冷却手段によって前記排ガスと� ��記冷却用液体とを接触させることで、前記� ��ガスの温度を低下させ、さらに、前記排ガ� ��に含まれる硫黄および硼素の少なくとも一� ��を前記排ガス中から分離する。
 このような冷却手段を適用することによっ� ��、冷却後排ガスおよび冷却排液が得られる� ��冷却後排ガスは、前記冷却手段に供される� ��とで温度を下げられ、硫黄および硼素の少� ��くとも一部が分離され、温度が低下した後� ��排ガスである。冷却排液は、前記冷却手段� ��供されることで前記排ガスの温度を低下さ� ��、前記排ガス中から分離した硫黄および硼� ��を含むこととなった冷却用液体である。

 前記冷却後排ガスの硫黄、硼素、フッ素お� ��び塩素濃度ならびに温度は前記排ガス中の� ��成分の濃度や前記冷却手段の処理条件等に� ��って変化するが、硫黄濃度は0~20ppmであるこ とが好ましく、0~10ppmであることがより好ま� �く、0~5ppmであることがさらに好ましい。硼� �濃度は0~200mg/Nm ³ であることが好ましく、0~100mg/Nm ³ であることがより好ましく、0~50mg/Nm ³ であることがさらに好ましい。フッ素濃度は 0~20mg/Nm ³ であることが好ましく、0~10mg/Nm ³ であることがより好ましく、0~5mg/Nm ³ であることがさらに好ましい。
 塩素濃度は0~20mg/Nm ³ であることが好ましく、0~10mg/Nm ³ であることがより好ましく、0~5mg/Nm ³ であることがさらに好ましい。温度は70~90℃� ��あることが好ましく、70~80℃であることが� �り好ましく、70~75℃であることがさらに好ま しい。理由は、後述する耐食性を有する材料 の耐熱性と次工程での除去負荷低減、除去能 力の温度依存性のためである。
 なお、冷却後排ガスの硫黄濃度、温度等は� ��記冷却手段に供した直後でのものを意味す� ��。各成分濃度の測定方法、温度の測定方法� ��、前記排ガスにおけるものと同様とする。

 前記冷却排液のpHは前記排ガス中の硫黄濃� �や処理条件等によって変化するが5~9である� �とが好ましく、6~8であることがより好まし� �、7~8であることがさらに好ましい。
 前記冷却排液のpHがこのような値であるの� �、前記冷却工程は耐食材料製の内壁を有す� �外囲器からなる装置で行うことが好ましい� �耐食材料としては、FRP、ステンレスなどが� �げられる。中でもFRPがより好ましい。
 なお、冷却排液のpH、硫黄等各成分濃度、� �度は前記冷却手段に供した直後でのものを� �味する。これらの測定方法は、前記冷却用� �体におけるものと同様とする。

 前記冷却排液の硫黄濃度は特に限定され� ��い。たとえば、冷却用液体が水の場合には� ��0~15000ppmであることが好ましく、0~5000ppmであ ることがより好ましい。

 前記冷却排液の硼素濃度は特に限定され� ��い。たとえば、冷却用液体が水の場合には� ��0~10000mg/Lであることが好ましく、0~5000mg/Lで� ��ることがより好ましい。

<冷却工程の具体的態様>
 このような冷却工程は、冷却塔にて行うこ� ��が好ましい。理由は前記排ガスの圧損を防� ��ためである。冷却塔内で前記排ガスに前記� ��却用液体をスプレーすることで、前記冷却� ��内で前記排ガスの冷却が行われ、冷却塔の� ��部に硫黄および硼素を含む冷却排液が貯留� ��る。よって、少なくとも冷却塔の外囲器の� ��面の底部がFRP製であることが好ましい。ま� ��、冷却塔の外囲器の内部の前記排ガス、前� ��冷却後ガスおよび前記冷却排液と接する部� ��がFRP製であることがより好ましい。

<除去工程>
 次に、本発明の製造方法の除去工程につい� ��説明する。
 除去工程では、前記冷却後排ガスと接触用� ��体とを接触手段によって接触させ、前記冷� ��後排ガス中から硫黄および硼素を除去し、� ��浄ガスならびに硫黄および硼素を含む接触� ��排液を得る。

<接触用液体>
 前記接触用液体は特に限定されず、後述す� ��接触手段によって前記冷却後排ガスと接触� ��せることで、前記冷却後排ガス中から硫黄� ��よび硼素を除去することができるものであ� ��ばよい。例えば水(工業用水、蒸留水等の水 を主成分とするものを含む。)、海水が挙げ� �れる。このような中でも前記接触用液体は� �(以下、「接触用水」ともいう。)であること が好ましい。理由は調達が容易で安価である ことと、主成分以外の溶解成分が少ないこと である。

 前記接触用液体の温度は特に限定されず、� ��記冷却後排ガスよりも低い温度であればよ� ��、より低いほうが好ましい。例えば常温で� ��ってよい。
 なお、前記接触用液体のpH、硫黄等各成分� �度、温度は接触手段に供する直前でのもの� �意味する。これらの測定方法は、前記冷却� �液体におけるものと同様とする。

 前記接触用液体のpHも特に限定されない� �たとえば、冷却用液体が水の場合には、pHは 5~9であることが好ましく、6~8であることがよ り好ましく、7~8であることがさらに好ましい 。理由は、常温における硼素および硫黄が、 pH7~8で高い溶解性を示すためである。

 前記接触用液体の硫黄濃度は特に限定さ� ��ない。たとえば、冷却用液体が水の場合に� ��、0~15000ppmであることが好ましく、0~5000ppmで あることがより好ましい。

 前記接触用液体の硼素濃度は特に限定さ� ��ない。たとえば、冷却用液体が水の場合に� ��、0~10000mg/Lであることが好ましく、0~5000mg/L� ��あることがより好ましい。

<接触手段>
 接触手段について説明する。
 接触手段は、本発明の製造方法の除去工程� ��おいて、前記冷却後排ガスと前記接触用液� ��と接触させる手段である。

 接触手段は特に限定されず、例えば、前記� ��却工程の場合と同様にスプレーする方法や� ��バブリング方法が挙げられる。中でも、前� ��冷却後排ガスへ前記接触用液体をスプレー� ��、その後、得られた前記冷却後排ガスと前� ��接触用液体との混合流体を、60~90m/sにおい� �50~300mmH ₂ Oの圧力損失を生じさせる高差圧部位を通過� �せる手段であることが好ましい。

 ここで、スプレーの際の前記冷却後排ガス� ��量(Nm ³ )に対する前記接触用液体の量(L)が0.5~2.5L/Nm ³ であることが好ましく、1.0~2.0L/Nm ³ であることがより好ましく、1.5~2.0L/Nm ³ であることがさらに好ましい。理由は前記冷 却後排ガスの前記接触用液体への溶解がよく 行なわれるからである。

 また、前記高差圧部位における圧力損失は6 0~90m/sにおいて50~300mmH ₂ Oであることが好ましく、50~250mmH ₂ Oであることがより好ましく、50~200mmH ₂ Oであることがさらに好ましい。このような� �囲の圧力損失であると、前記冷却後排ガス� �前記接触用液体との混合流体が乱流状態と� �り、前記冷却後排ガスと前記接触用液体と� �混合が十分に行われ、前記冷却後排ガス中� �ガス状の硫黄および硼素を、効率的に前記� �触用液体中へ移動させることができるから� �ある。この圧力損失の値が大きすぎると、� �プレーによって発生した前記接触用液体の� �滴が合体しすぎ、かえって混合流体の表面� �が減少し、前記冷却後排ガスと前記接触用� �体との接触時間が減少し、前記排ガスの処� �量が少なくなってしまう。

 60~90m/sにおいて50~300mmH ₂ Oの圧力損失を生じさせる高差圧部位とは、� �記冷却後排ガスと前記接触用液体との混合� �体の流路において、前記混合流体の流れを� �害し、圧力損失を生じさせる部位である。� �えば、前記混合流体の流路中に板や棒を設� �した部位、流路自体を狭くした部位が挙げ� �れる。流体の流れ方向に対する板の角度や� �の数等を調整することで、上記の圧力損失� �なるように調整することができる。

<清浄ガスおよび接触後排液>
 このような接触手段によって前記冷却後排� ��スと前記接触用液体とを接触させることで� ��前記冷却後排ガスに含まれる硫黄および硼� ��を前記冷却後排ガス中から分離する。
 このような接触手段を適用することによっ� ��、清浄ガスおよび接触後排液が得られる。
 清浄ガスは、前記接触手段に供された後の� ��硫黄および硼素の多くが分離された後の冷� ��後排ガスであり、接触後排液は、前記冷却� ��排ガスの温度を低下させ、前記冷却後排ガ� ��中から分離した硫黄および硼素を含むこと� ��なった接触用液体である。

 清浄ガスは浄化されたガスであり、硫黄お� ��び硼素の含有率は非常に低い。また、フッ� ��および塩素の含有率も非常に低い。
 清浄ガス中の硫黄濃度は、前記排ガスの硫� ��濃度が30ppm(O ₂ =15体積%換算)である場合、冷却工程や除去工� ��での処理条件等を好ましいものにすること� ��、1ppm以下とすることができる。
 清浄ガス中の硼素濃度は、前記排ガスの硼� ��濃度が50mg/Nm ³ である場合、冷却工程や除去工程での処理条 件等を好ましいものにすることで、1mg/Nm ³ 以下とすることができる。
 清浄ガス中のフッ素濃度は、前記排ガスの� ��ッ素濃度が40mg/Nm ³ である場合、冷却工程や除去工程での処理条 件等を好ましいものにすることで、0.2mg/Nm ³ 以下とすることができる。
 清浄ガス中の塩素濃度は、前記排ガスの塩� ��濃度が50mg/Nm ³ である場合、冷却工程や除去工程での処理条 件等を好ましいものにすることで、0.2mg/Nm ³ 以下とすることができる。

 清浄ガスの温度は、特に限定されず加熱も� ��要ないが、75℃以下となっていることが好� �しく、70℃以下となっていることがより好ま しく、60℃以下となっていることがさらに好� ��しい。理由は、排ガス中の水分を凝集させ� ��ためである。
 なお、清浄ガスの硫黄濃度、温度等は前記� ��触手段に供した直後でのものを意味する。
 各成分濃度の測定方法、温度の測定方法は� ��前記排ガスにおけるものと同様とする。

 前記接触後排液のpHは前記冷却後排ガス中� �硫黄濃度や処理条件等によって変化するが5~ 9であることが好ましく、6~8であることがよ� �好ましく、7~8であることがさらに好ましい� �
 前記接触後排液のpHがこのような値である� �で、前記除去工程は耐食材料製の内壁を有� �る外囲器からなる装置で行うことが好まし� �。耐食材料としては、FRP、ステンレスなど� �挙げられる。中でもFRPがより好ましい。
 なお、前記接触後排液のpH、硫黄等各成分� �度、温度は前記接触手段に供した直後での� �のを意味する。これらの測定方法は、前記� �却用液体におけるものと同様とする。

 接触後排液の硫黄濃度は特に限定されな� ��。たとえば、冷却用液体が水の場合には、0 ~15000ppmであることが好ましく、0~5000ppmである ことがより好ましい。

 接触後排液の硼素濃度は特に限定されな� ��。たとえば、冷却用液体が水の場合には、0 ~10000mg/Lであることが好ましく、0~5000mg/Lであ� ��ことがより好ましい。

<除去工程の具体的態様>
 このような除去工程は、ベンチュリースク� ��バー、サイクロンスクラバー、ジェットス� ��ラバー等にて行うことができる。中でもベ� ��チュリースクラバーにて行うことが好まし� ��。理由は構造が容易であることと、運転費� ��が安価で除去効率が高いためである。ベン� ��ュリースクラバー内で前記冷却後排ガスに� ��記接触用液体をスプレーし、前記高差圧部� ��を通過させることで、ベンチュリースクラ� ��ー内で前記冷却後排ガスから硫黄および硼� ��が分離、除去が行われ、ベンチュリースク� ��バーの底部に硫黄および硼素を含む接触後� ��液が貯留する。よって、少なくともベンチ� ��リースクラバーの内壁の底部がFRP製である� ��とが好ましい。また、ベンチュリースクラ� ��ーの内部の前記冷却後排ガスおよび前記接� ��後排液と接する部分がFRP製であることがよ� ��好ましい。

<分離工程>
 本発明の製造方法においては、前記冷却工� ��と前記除去工程との他に、さらに、前記清� ��ガス中に残存する液体を分離して、清浄後� ��液として回収する分離工程を具備すること� ��好ましい。前記清浄ガス中には液体が主に� ��スト状で残存している場合が多いが、前記� ��去工程の後であって煙突等から大気放散さ� ��る前の清浄ガス流路(排ガス管等)において� �スト状の液体が凝集し、前記流路を液体で� �封する可能性があるからである。

 前記清浄ガス中に残存する液体を分離す� ��手段は特に限定されないが、遠心力を用い� ��清浄ガス中からミスト状の液体を分離する� ��段、サイクロンなどが適用できる。中でも� ��遠心力集塵機を適用する方法が好ましい。� ��スト状の液体の分離を効率よく行うことが� ��きるからである。

 また、分離した液体は前記接触後排液と� ��程度にpHが比較的低い場合がある。よって� �分離工程は内壁がFRP製の外囲器からなる装� �にて行うことが好ましい。

<排液の再利用>
 このような本発明の製造方法において、前� ��冷却排液、前記接触後排液および前記清浄� ��排液の少なくとも1種類を回収し、pH、硫黄� ��度および硼素濃度を管理、調整し、前記冷� ��手段および/または前記接触手段において冷 却用液体および/または接触用液体として再� �用することが好ましい。
 再利用する際の冷却用液体および接触用液� ��のpH、硫黄濃度および硼素濃度は、上記に� �した各々の液体を使用する場合の好ましい� �であることが好ましい。pH、硫黄濃度および 硼素濃度の調整は通常の方法で行うことがで きる。pHが低すぎる場合は苛性ソーダを添加� ��て調整することができる。硫黄濃度または� ��素濃度が高すぎる場合は、水を添加するこ� ��で低くすることができる。

 また、前記冷却排液、前記接触後排液お� ��び前記清浄後排液の少なくとも1つから、硫 黄および/または硼素を分離して、ガラス原� �として再利用することが好ましい。

<清浄ガス排出方法>
 前記除去工程で得られる前記清浄ガスまた� ��前記分離工程で処理した後の清浄ガスは、� ��記のように浄化されているので、大気へ放� ��することができる。
 また、本発明の製造方法においては、放散� ��る際の清浄ガスの温度を70℃以下とするこ� �ができる。清浄ガス中の硫黄分が低いので� �酸露点以下の温度としても、配管等の清浄� �ス流路を腐食し難いからである。従来法の� �うに清浄ガス中の硫黄分が比較的高い場合� �、清浄ガス温度を150℃程度にまで加熱する� �要があるが、本発明の製造方法では、この� �うな加熱を行うための設備は必要ない。

 さらに、前記清浄ガスはファンを用いて� ��突から大気へ放散することが好ましい。理� ��は、大量の前記清浄ガスが出た場合、煙突� ��ドラフト効果だけでは、大気への放散が困� ��なためである。さらに、前記ファンは前記� ��去工程における前記高差圧部位に連動して� ��前記清浄ガスの放散量を制御できるもので� ��ることが好ましい。理由は、ガラスの品質� ��安定化させるために、ガラス溶解炉から出� ��くる前記排ガスの風量が一定になるよう制� ��しなければならないためである。これには� ��下の意味がある。前記高差圧部位の差圧を� ��めた場合、それに対するファンによる清浄� ��スの放散量が決まる。しかし、前記排ガス� ��に含まれる硫黄、硼酸、フッ素、塩素の濃� ��、温度が変動した場合、前記高差圧部位で� ��圧損以外に他場所での圧損条件が変化する� ��その結果、前記清浄ガスの放散量が変化し� ��しまう。このため、圧損に連動して制御で� ��ることが好ましい。

<他の工程>
 本発明の製造方法における他の工程は、通� ��のガラス製品の製造方法が具備する工程と� ��様であってよい。
 例えば、ガラス原料を溶融して前記排ガス� ��発生しつつ溶融ガラスを得る溶解工程、溶� ��ガラスを所定のガラス製品の形状に成形す� ��成形工程、ガラス製品の内部歪みを除去し� ��つ徐々に冷却する徐冷工程および切断工程� ��挙げられる。

 溶解工程は、珪砂、石灰石やソーダ灰等の� ��料をガラス製品の組成に合わせて調合、混� ��されたバッチをガラス溶解炉に投入し、ガ� ��スの種類に応じて約1400℃以上に加熱溶融し て溶融ガラスを得る工程である。例えば、公 知の溶解炉内に炉の一端からバッチを投入し 、重油を燃焼して得られる火炎をこの投入し たバッチに吹きつけて、また、天然ガスを空 気と混合して燃焼して得られる火炎を吹きつ けて、約1550℃以上に加熱してバッチを溶か� �ことによって溶融ガラスを得ることができ� �。本発明の製造方法は、この溶解炉で発生� �る排ガスから所定の成分を除去し、残った� �定濃度以下の清浄ガスを煙突から排出する� �のである。
 ガラス溶解炉で発生した前記排ガスを、バ� ��フィルター等の集塵機を通過させた後に、� ��記冷却工程に供することもできる。

 成形工程は、公知技術としてフロート法� ��ロールアウト法があるがいずれか、あるい� ��その他の方法であってもよい。以下、フロ� ��ト法を例に説明すると、成形工程では、溶� ��錫浴に溶融ガラスを溶解炉の下流部から導� ��し、溶融錫上に溶融ガラスを浮かせて進行� ��せガラスリボンに成形する。成形工程では� ��溶融ガラスの平衡厚みよりも薄いガラスリ� ��ンを成形するために、進行方向の直交する� ��方向の両端部に、トップロールと呼ばれる� ��転するロールを押圧し、幅方向に張力を印� ��して、溶融錫上のガラスリボンが縮幅する� ��を抑制しつつ進行方向にも引き伸ばすこと� ��できる。

 続く徐冷工程は、成形後にリフトアウトロ� ��ルによって、ガラスリボンを溶融錫から引� ��出した後の工程である。徐冷は、ガラスリ� ��ンの搬送機構としての金属ロールと、ガラ� ��リボンの温度を徐々に下げるための機構を� ��える徐冷炉ないし大気中で行う。徐々に温� ��を下げる機構は、燃焼ガスまたは電気ヒー� ��により、その出力が制御された熱量を、炉� ��の必要位置に供給してガラスリボンを常温� ��近い温度域までゆっくり冷却する。これに� ��って、ガラスリボンに内在する残留応力を� ��くすことができる。
 切断は、所望のサイズにガラス製品を採板� ��るために行う工程である。

 また、ガラス原料をガラス溶解炉で溶解� ��る工程において、ガラス溶解炉内を酸素雰� ��気とし、通常硫黄を含む重油を燃焼させた� ��ーナー炎によりガラス原料を加熱して溶融� ��ラスとする、いわゆる酸素燃焼の場合に、� ��発明の製造方法の効果が高い。これは、酸� ��燃焼の場合には、排ガス中の気化した硼素� ��たは硼素化合物の割合が空気燃焼に比べて1 .7倍程度高くなるからである。

 なお、本発明の製造方法では従来法のよ� ��に電気集塵機を用いる必要がない。理由は� ��前記冷却排液、前記接触後排液で煤塵も洗� ��流すからである。したがって、煤塵除去と� ��う効果も奏する。また、前述したように、� ��発明の製造方法においては、一連の工程に� ��いて析出した硼酸または排ガスを必ずしも� ��熱する必要がない。したがって、従来の再� ��熱が必要な方法に比べて稼動時のコストを� ��の分低くできる効果も奏する。