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Patent Searching and Data


Title:
PROCESS FOR PRODUCING CORRUGATED PLATE AND CORRUGATED PLATE
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2009/098946
Kind Code:
A1
Abstract:
Provided is a process for corrugated-plate production in which the shape of the corrugation to be formed on a surface can be controlled. Also provided is a corrugated plate obtained by the process. The process for producing a corrugated plate (1a) comprises: a step in which unhardened clay (5) having irregularities embossed therein on the upper side is superposed on the upper side of a rubber sheet (4) in a stretched state; a step in which the rubber sheet (4) is allowed to shrink to thereby form corrugation (2) on at least the surface of the clay (5); and a step in which the clay (5) is fired to harden the clay (5).

Inventors:
ITOU, Hirobumi (174-2, Shimomachi Ozumachi, Kikuchi-gu, Kumamoto 25, 86912, JP)
Application Number:
JP2009/050960
Publication Date:
August 13, 2009
Filing Date:
January 22, 2009
Export Citation:
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Assignee:
ITOU, Hirobumi (174-2, Shimomachi Ozumachi, Kikuchi-gu, Kumamoto 25, 86912, JP)
伊藤寛文 (〒25 熊本県菊池郡大津町下町174番地の2 Kumamoto, 86912, JP)
International Classes:
B28B1/00; B28B11/08; B29C33/40; B29C41/02
Attorney, Agent or Firm:
MATSUO, Kenichiro (7th Floor, Shinkumi Akasaka Bldg. 10-17, Akasaka 1-chome, Chuo-ku, Fukuoka-sh, Fukuoka 42, 81000, JP)
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Claims:
 表面に凹凸の型押しがなされた未硬化状態の支持基盤を、伸長させた状態の伸縮機能材上面に重ねて載置する工程と、前記伸縮機能材を収縮させることにより、前記支持基盤の少なくとも表面に皺を寄せる工程と、前記支持基盤を硬化させる工程と、よりなる皺寄せプレートの製造方法。
 前記凹凸の型押しは、未硬化状態の支持基盤上面に織布を張着することにより行うことを特徴とする請求項1に記載の皺寄せプレートの製造方法。
 前記凹凸の型押しは、未硬化状態の支持基盤上面に、予め凹凸を形成した型押し板を型押しすることにより形成することを特徴とする請求項1に記載の皺寄せプレートの製造方法。
 前記伸縮機能材を収縮させることにより、前記支持基盤の少なくとも表面に皺を寄せる工程は、前記未硬化状態の支持基盤を半硬化させる工程と、前記伸縮機能材を途中まで収縮させて、当該半硬化状態の支持基盤の上面に第1の皺を寄せる工程と、前記伸縮機能材を更に収縮させて、前記支持基盤の上面に、前記第1の皺よりも大きな第2の皺を寄せる工程と、よりなることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の皺寄せプレートの製造方法。
 予め凹凸を形成した凹凸シートを張着した未硬化状態の支持基盤を、伸長させた状態の伸縮機能材上面に重ねて載置する工程と、前記伸縮機能材を収縮させることにより、前記支持基盤の少なくとも表面に皺を寄せる工程と、前記支持基盤を硬化させる工程と、
よりなる皺寄せプレートの製造方法。
 前記支持基盤は、粘土よりなることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の皺寄せプレートの製造方法。
 伸長させた状態の伸縮シートと、この伸縮シート上面に重ねて載置される未硬化状態の支持基盤との間に、収縮自在で、後処理により除去可能であり、且つ、表面に前記支持基盤に向かって凹凸形状を有する中間層を介在させる工程と、
 前記伸縮シートを収縮させることにより、前記支持基盤の少なくとも表面に皺を寄せる工程と、
 前記支持基盤を硬化させる工程と、
よりなる皺寄せプレートの製造方法。
 前記支持基盤の表面を被覆材により被覆することを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載の皺寄せプレートの製造方法。
 伸長させた状態の伸縮機能材の上面に、収縮自在で、後処理により除去可能な中間層を載置する工程と、この中間層の上面に、シート状の可撓部材を張着する工程と、前記伸縮機能材を収縮させることにより、前記可撓部材に皺を寄せる工程と、前記可撓部材の上面を未硬化状態の裏打ち材で被覆する工程と、前記未硬化状態の裏打ち材を硬化させる工程と、よりなる皺寄せプレートの製造方法。
 少なくとも表面に隆起による不規則な皺を連続的に多数形成するとともに、各皺の表面には、多数の微細な凹凸を形成し、
 多数の隆起による皺の隣接する間隔を、前記皺の膨大部より前記皺の底部が大となるように形成したことを特徴とする皺寄せプレート。
Description:
皺寄せプレートの製造方法及び 寄せプレート

 本発明は、表面に複雑な皺形状を有する 寄せプレートの製造方法及び皺寄せプレー に関し、特に、表面に形成される皺の形状 制御することのできる皺寄せプレートの製 方法及び皺寄せプレートに関するものであ 。

 本出願人は、特許文献1において、表面に 複雑な皺形状を有するプレートの製造方法を 開示している。

 この特許文献1によれば、伸長した状態の ゴムシートの上面に粘土を載置し、さらに、 この粘土の上面を、燃焼により除去可能な表 面層で覆う。次に、ゴムシートを収縮させて 粘土上面及び表面層に皺を寄せ、その後、こ の粘土を焼成すると共に表面層を燃焼により 消滅させることにより、表面に複雑な皺形状 を有する皺寄せプレートを得ることが可能と なる。

 さらに、本出願人は、特許文献2において、 伸長した状態のゴムシート上に粘土を載置し た後、このゴムシートを途中まで収縮させて 、この粘土の上面に、比較的うねりが小さい 第1の皺を形成し、次に、この粘土を少し乾 させてから、ゴムシートを更に収縮させ、 の粘土の上面に、比較的うねりが大きい第2 皺を形成する皺寄せプレートの製造方法を 示している。かかる製造方法により、比較 うねりの大きい第2の皺の表面に比較的うね りの小さい第1の皺が形成されるため、表面 より複雑な皺形状を有する皺寄せプレート 得ることができる。

特開2004-261964号公報

特開2006-7475号公報

 しかしながら、特許文献2に記載の発明は 、比較的うねりの小さい第1の皺をゴムシー の収縮によって形成することとしているた 、皺と皺との間隔や皺のうねり具合など、 該第1の皺の形状を制御することが困難であ た。

 そこで、本発明は、表面に形成される皺 形状を制御することのできる皺寄せプレー の製造方法及び皺寄せプレートを提供する とを目的とするものである。

 上記目的を達成するために、請求項1に記 載の発明は、表面に凹凸の型押しがなされた 未硬化状態の支持基盤を、伸長させた状態の 伸縮機能材上面に重ねて載置する工程と、前 記伸縮機能材を収縮させることにより、前記 支持基盤の少なくとも表面に皺を寄せる工程 と、前記支持基盤を硬化させる工程と、より なる皺寄せプレートの製造方法とした。

 また、請求項2に記載の発明は、請求項1 記載の皺寄せプレートの製造方法において 前記凹凸の型押しは、未硬化状態の支持基 上面に織布を張着することにより行うこと 特徴とする。

 また、請求項3に記載の発明は、請求項1 記載の皺寄せプレートの製造方法において 前記凹凸の型押しは、未硬化状態の支持基 上面に、予め凹凸を形成した型押し板を型 しすることにより形成することを特徴とす 。

 また、請求項4に記載の発明は、請求項1~3 のいずれか1項に記載の皺寄せプレートの製 方法において、前記伸縮機能材を収縮させ ことにより、前記支持基盤の少なくとも表 に皺を寄せる工程は、前記未硬化状態の支 基盤を半硬化させる工程と、前記伸縮機能 を途中まで収縮させて、当該半硬化状態の 持基盤の上面に第1の皺を寄せる工程と、前 伸縮機能材を更に収縮させて、前記支持基 の上面に、前記第1の皺よりも大きな第2の を寄せる工程と、よりなることを特徴とす 。

 また、請求項5に記載の発明は、予め凹凸 を形成した凹凸シートを張着した未硬化状態 の支持基盤を、伸長させた状態の伸縮機能材 上面に重ねて載置する工程と、前記伸縮機能 材を収縮させることにより、前記支持基盤の 少なくとも表面に皺を寄せる工程と、前記支 持基盤を硬化させる工程と、よりなることを 特徴とする。

 また、請求項6に記載の発明は、請求項1~5 のいずれか1項に記載の皺寄せプレートの製 方法において、前記支持基盤は、粘土より ることを特徴とする。

 また、請求項7に記載の発明は、伸長させ た状態の伸縮シートと、この伸縮シート上面 に重ねて載置される未硬化状態の支持基盤と の間に、収縮自在で、後処理により除去可能 であり、且つ、表面に前記支持基盤に向かっ て凹凸形状を有する中間層を介在させる工程 と、前記伸縮シートを収縮させることにより 、前記支持基盤の少なくとも表面に皺を寄せ る工程と、前記支持基盤を硬化させる工程と 、よりなる皺寄せプレートの製造方法とした 。

 また、請求項8に記載の発明は、請求項1~7 のいずれか1項に記載の皺寄せプレートの製 方法において、前記支持基盤の表面を被覆 により被覆することを特徴とする。

 また、請求項9に記載の発明は、伸長させ た状態の伸縮機能材の上面に、収縮自在で、 後処理により除去可能な中間層を載置する工 程と、この中間層の上面に、シート状の可撓 部材を張着する工程と、前記伸縮機能材を収 縮させることにより、前記可撓部材に皺を寄 せる工程と、前記可撓部材の上面を未硬化状 態の裏打ち材で被覆する工程と、前記未硬化 状態の裏打ち材を硬化させる工程と、よりな る皺寄せプレートの製造方法とした。

 また、請求項10に記載の発明は、少なく も表面に隆起による不規則な皺を連続的に 数形成するとともに、各皺の表面には、多 の微細な凹凸を形成し、多数の隆起による の隣接する間隔を、前記皺の膨大部より前 皺の底部が大となるように形成したことを 徴とする皺寄せプレートとした。

 請求項1に記載の発明によれば、硬化した 支持基盤の表面には、伸縮機能材の収縮によ る複雑な皺が多数形成されるとともに、形成 された各皺の表面には、凹凸の型押しによる 細かい皺が形成されることとなる。したがっ て、未硬化状態の支持基盤上面に予め所望の 形状を有する凹凸の型押しを施すことにより 、所望の形状の皺を有する皺寄せプレートを 得ることができる。

 請求項2に記載の発明によれば、未硬化状 態の支持基盤上面には、織布表面の凹凸形状 が形成されることとなるため、所望の表面形 状を有する織布を未硬化状態の支持基盤上面 に張着することで、所望の形状の皺を有する 皺寄せプレートを得ることが可能となる。し かも、未硬化状態の支持基盤を収縮させる際 に、未硬化状態の支持基盤上面に張着された 織布も同様に収縮されるため、支持基盤の表 面に多数の皺を互いが当接することなく形成 することができる。

 請求項3に記載の発明によれば、未硬化状 態の支持基盤上面に、予め凹凸を形成した型 押し板を型押しすることとしたため、所望の 凹凸形状を有する型押し板で未硬化状態の支 持基盤上面を型押しすることで、所望の形状 の皺を有する皺寄せプレートを得ることが可 能となる。

 請求項4に記載の発明によれば、プレート表 面に形成される皺の形状を制御しつつも、
より複雑な形状の皺をその表面上に形成する ことが可能となる。

 請求項5に記載の発明によれば、未硬化状 態の支持基盤上面には、凹凸シート表面の凹 凸形状が形成されることとなるため、所望の 表面形状を有する凹凸シートを未硬化状態の 支持基盤上面に張着することで、所望の形状 の皺を有する皺寄せプレートを得ることが可 能となる。しかも、未硬化状態の支持基盤を 収縮させる際に、未硬化状態の支持基盤上面 に張着された凹凸シートも同様に収縮される ため、支持基盤の表面に多数の皺を互いが当 接することなく形成することができる。

 請求項6に記載の発明によれば、支持基盤 を粘土とすることにより、未硬化状態におい ては、伸縮機能材上面への載置及び当該伸縮 機能材の収縮に伴う表面への皺の形成が可能 であるとともに、乾燥或いは焼成により硬化 させることができる。また、未硬化状態の粘 土に織布を張着した場合、焼成することによ り織布が消滅するため、当該織布の除去が不 要となり、皺寄せプレートをより効率的に製 造することができる。

 請求項7に記載の発明によれば、未硬化状 態の支持基盤下面には、中間層表面の凹凸形 状が形成されることとなるため、所望の表面 形状を有する中間層を伸縮シートと未硬化状 態の支持基盤との間に介在させることで、所 望の形状の皺を有する皺寄せプレートを得る ことが可能となる。しかも、未硬化状態の支 持基盤を収縮させる際に、未硬化状態の支持 基盤の下面に載置された中間層も同様に収縮 されるため、支持基盤の表面に多数の皺を互 いが当接することなく形成することができる 。また、未硬化状態の支持基盤の上面に、収 縮自在で、後処理により除去可能であり、且 つ、表面に凹凸形状を有する表面層を張着す ることにより、両面に所望の形状の皺が形成 された皺寄せプレートを得ることができる。

 請求項8に記載の発明によれば、例えば、 硬化した支持基盤の表面を電波透過材で被覆 することにより、電波吸収特性を維持しつつ 、皺寄せプレート表面の形状を、当該プレー トに形成された皺に影響されない所望の形状 に形成することができる。すなわち、例えば 、電波透過材で被覆することにより皺寄せプ レートの表面を略平滑面とすれば、強度が増 大するとともに、汚れの付着を防ぐことがで きるため、医療器具が電波の影響によって誤 作動するのを防止する電波吸収遮蔽壁などに 有効に適用することが可能となる。また、硬 化した支持基盤の表面を発泡スチロールや発 泡ウレタン等の発泡樹脂材料で被覆すること により、一般家屋の応接室やオーディオルー ムの防音壁としても用いることができる。

 請求項9に記載の発明によれば、シート状 の可撓部材に皺を寄せた後に、裏打ち材によ り当該可撓部材を裏打ちすることにより、可 撓部材に形成された皺の形状を保持すること ができるとともに、所望の厚さの皺寄せプレ ートを製造段階で得る事ができ、事後的に不 要な部分を取り除く作業を行う必要がないた め、製造効率を高めるとともに製造コストを 抑えることができる。また、可撓部材は可撓 性を有するシート状の部材であればよいため 、材料の選択の自由度が高く、様々な用途に 合った皺寄せプレートを製造することができ る。しかも、中間層は、再利用することがで きるため、皺寄せプレートをより低コストで 製造することができる。

 請求項10に記載の発明によれば、電波吸 性能に優れ、しかも、皺の表面に形成され 多数の微細な凹凸の形状を制御することに り、所望の周波数の電磁波を吸収すること できる皺寄せプレートを提供することがで る。

実施形態1における皺寄せプレートの製 造工程を示す図である。 実施形態1における織布の構成を示す図 である。 図1(c)の段階における粘土の表面近傍の 拡大図である。 図1(d)の段階における皺寄せプレートの 表面近傍の拡大図である。 実施形態1における皺寄せプレートの外 観図である。 実施形態1における皺寄せプレートの電 波吸収特性についての測定結果を示したグラ フである。 実施形態2における型押し板の構成を示 す図である。 実施形態2における型押し板の構成のバ リエーションを示す図である。 実施形態4における皺寄せプレートの製 造工程を示す図である。 実施形態4における皺寄せプレートの 面拡大図である。 実施形態5における皺寄せプレートの 造工程を示す図である。 実施形態6における皺寄せプレートの 造工程を示す図である。 実施形態7における皺寄せプレートの 面拡大図である。 実施形態8における皺寄せプレートの 面拡大図である。

符号の説明

  1a、1d、1e、1f、1g、1h  皺寄せプレート
  2  皺
  3  凸部
  4  ゴムシート
  5  粘土
  6  織布
  7  繊維体
  10  型押し板
  18  第1の皺
  19  第2の皺

 (実施形態1について)
 [1.皺寄せプレートの製造方法について]
 以下に、本実施形態にかかる皺寄せプレー の製造方法について、図1~図4を参照して具 的に説明する。図1は本実施形態にかかる皺 寄せプレートの製造工程を示した図であり、 図2は本実施形態にかかる織布の構成を示す であり、図3は図1(c)の段階における粘土5の 面近傍の拡大図であり、図4は図1(d)の段階に おける皺寄せプレートの表面近傍の拡大図で ある。

 本実施形態にかかる皺寄せプレートを製 する際は、先ず、図1(a)に示すように、支持 基盤である粘土5を、伸縮性を有する伸縮機 材であるゴムシート4の上面に重ねて載置す 。

 粘土5は、乾燥することにより硬化するも のであり、図1(a)に示す段階においては、未 化状態となっている。

 また、この粘土5は、澱粉や小麦粉などの有 機物粉末と、無機物粉末として酸化鉄(Fe 2 O 3 )等の鉄化合物を含有している。これら有機 粉末及び無機物粉末は、還元焼成されて、 れぞれ炭素(C)及び鉄(Fe)となる。すなわち、 かる焼成により、炭素及び鉄を含有する陶 が形成されることとなる。

 ここで、炭素及び鉄は電波吸収材料とし 機能するものであるため、これらを含有す 皺寄せプレートの上面に入射した電波は、 該皺寄せプレートの内部を伝播する際に吸 されることとなり、当該皺寄せプレートの 波吸収特性を向上させることができる。な 、電波吸収性能を有する物質であれば他の のでもよく、炭素や鉄に代えて、例えばフ ライト粉末、酸化チタン等を用いてもよい

 未硬化状態の粘土5をゴムシート4の上面 載置する際は、ゴムシート4を伸長させた状 としておく。このゴムシート4の伸長方向を 一次元方向(直線方向)にするか二次元方向(面 方向)にするかは、製品の表面にどの様な皺 形成するかにより適宜選択する。上記ゴム ート4を一次元方向に伸長すれば、製品の表 に波形に近い皺を形成する事ができる。こ に対して、上記ゴムシート4を二次元方向に 伸長すれば、製品の表面にそれぞれが巾着状 に膨らんだ多数の凸部から成る、複雑な皺を 形成する事ができる。又、二次元方向に伸長 させる場合でも、所定方向の伸長量と、この 所定方向に対し直角方向の伸長量とは、必ず しも等しくする必要はない。これら両方向の 伸長量を互いに異ならせれば、その相違に応 じて得られる製品の表面に形成される皺の形 状が異なる。

 上述のようなゴムシート4の上面に上記粘 土5を載置し、この粘土5の厚さ寸法並びにそ 分布を、得ようとする製品の形状に応じて 切にする。この場合に、厚さ寸法に関して 得ようとする製品よりも薄くし、分布に関 ては任意であるが、一般的には均一にする この状態で、上記粘土5の下面と上記ゴムシ ート4の上面とが密着する。

 ここで、ゴムシート4の上面に載置された 粘土5の上面には凹凸の型押しがなされる。 実施形態において、この凹凸の型押しは、 1(b)に示すように、当該粘土5の上面にメッシ ュ状の網目を有する織布6を張着することに りなされる。本実施形態にかかる織布6は、 数の繊維体7で構成される繊維状物質であり 、図2に示すように、ガーゼのように比較的 目の粗く、縦糸と横糸とがそれぞれ略等間 で直行するように編み込まれている。また この織布6は、上記粘土5を焼成する際に燃焼 して消滅する材料であり、具体的には、ガー ゼ、布、織目模様を有する不織布、絹等を使 用することができる。

 かかる織布6を粘土5の上面に張着するこ によって、粘土5の上面には、当該繊維体7に よる微細な凹凸が型押しされることとなる。 すなわち、この織布6は、繊維体7の絡みによ て形成される凹凸或いは微空間に、粘土5が 侵入して微細な凹凸を形成する。

 このように、織布6の織り方、或いは、繊 維体7の太さ、縒り方によって、粘土5表面に 成される凹凸の形状、大きさ、深さ等を異 らせることができるため、織布6の選択によ って微細な凹凸を制御することが可能となる 。

 上述の様に、伸長したゴムシート4の上面 に上記粘土5を付着させ、更にこの粘土5の上 を上記織布6を張着したならば、その後、上 記ゴムシート4を収縮させる。

 ゴムシート4の上面と上記粘土5の下面と 、この粘土5の粘着力に基づいて付着してい 為、上記ゴムシート4を収縮させる事により 、このゴムシート4の上面に載置した上記粘 5の下面に、収縮方向の力が加わる。これに り、この粘土5には、面方向に亘って圧縮方 向の力が加わる。この状態においても当該粘 土5の下面は、上記ゴムシート4の上面に密着 張着状態のままである為、この粘土5がゴム シート4の収縮に伴って、平面形状が小さく り、厚さが大きくなる方向に塑性変形する この塑性変形の際、ゴムシート4により支持 れている下面と異なり、何ら支持されてい い、上記粘土5の上面及び上記織布6に、座 方向の応力が加わる。そして、この応力に づいて、図1(c)に示す様に、この粘土5の上面 及びこの粘土5の上面を覆った上記織布6に皺 寄る。

 この場合に、上記粘土5の上面には織布6 張着されている為、この皺を構成する多数 凸部の頂部で、この粘土5同士が直接当接す 事がなくなる。換言すれば、図3に示すよう に、これら各凸部3、3の頂部同士が当接した 合でも、その当接部には、上記織布6が存在 することとなる。

 次に、薄板を粘土5の下面とゴムシート4 上面との間に差し込む等により、上記粘土5 織布6ごとゴムシート4の上面から取り上げ 、別途十分な耐熱性を有する受板(図示しな が、一般的にはカーボンランダム製或は鉄 の平板。焼成前に移し替え作業を行なうの あれば、木製の平板であっても良い。)の上 面に移し替える。そして、上記粘土5及び織 6を、(必要に応じて十分な乾燥処理後に)上 受板ごと窯中に入れて加熱し、この粘土5を 成する。この加熱温度は、一般的に粘土瓦 陶磁器を焼く場合の温度と同様に、粘土5の 種類等に応じて任意に定めるが、例えば1000 程度とする。尚、加熱温度に関しては、使 する材料、必要とする強度等により、適宜 定する。例えば、粘土を焼成する場合には 600℃以上の温度が採用可能であるし、ファ ンセラミックを焼成する場合には1700℃程度 温度を採用する場合もある。

 かかる焼成によって、図1(d)に示すように 、粘土5が硬化して、皺寄せプレート1aが完成 する。この際、硬化した粘土5の表面には、 ムシート4の収縮による複雑な皺が形成され とともに、形成された各皺の表面には、織 6の凹凸による細かい皺が形成されることと なる。したがって、未硬化状態の粘土5の上 に所望の形状を有する凹凸の型押しを施す とで、所望の形状の皺を有する皺寄せプレ ト1aを得ることができる。

 また、粘土5を焼成する際、粘土5の上面 載置された織布6は燃焼して消滅することと る。従って、皺寄せプレート1aを完成させ 状態では、図4に示すように、上記各凸部3、 3の頂部同士の間に、確実に隙間が存在する 換言すれば、上記皺を構成する多数の凸部3 、上記皺寄せプレート1aの表面部分に確実 開口を有する状態となる。かかる構成とす ことにより、皺寄せプレート1aを、例えば、 電波吸収体として利用する場合には、上記各 凹部1の奥部にまで電波を進入させる事で電 の吸収をより効果的に行なわせ、電波吸収 性を向上させることができる。

 また、本実施形態では、支持基盤の材料 して粘土5を用いたため、未硬化状態におい ては、ゴムシート4上面への載置及び当該ゴ シート4の収縮に伴う表面への皺の形成を容 に行うことができる。さらに、この粘土5は 、乾燥、焼成することにより硬化する性質を 有するため、粘土5を焼成する工程において 当該粘土5を硬化させるとともに上面に張着 た織布6を焼成により消滅させることができ 、これにより、当該織布6の除去が不要とな 、皺寄せプレートをより効率的に製造する とが可能となる。

 なお、織布6の厚さを変えることにより、 得ようとする製品の上面に形成すべき凸部3 3の頂部同士の間隔を制御することもできる 具体的には、凸部3、3の頂部同士の間隔を きくする場合には、織布6の厚さを厚くする 尚、上記粘土5の上面に皺を寄せた場合に上 記織布6は、隣り合う凸部3、3の頂部同士の間 で多少なりとも押し潰される。従って、上記 織布6の厚さは、凸部3、3の頂部同士の間隔の 1/2よりも多少大きくする。

 また、上記皺寄せプレート1aを構成する 料となる支持基盤は、その用途によって、 ルタル(コンクリート)、ファインセラミック 、ガラス粉末、金属粉末、木材粉末(鋸屑)、 ム、生体材料等を適宜使用することができ 。このうち、ファインセラミック、ガラス 末、金属粉末、木材粉末に関しては、適宜 バインダ(接着剤)と混練する事によりゲル (糊状)の物質とした状態で表面に皺を形成し てから硬化させる。硬化の為の手段は、燒結 、焼成、乾燥、養生等、上記材料やバインダ の種類に応じて選択する。尚、上記金属粉末 は、適宜のバインダと共に燒結して燒結金属 とする事が考えられる。又、木材粉末は、適 切な合成樹脂と混合して皺を寄せてから固め る事により、優れた吸音性能を有する壁板と して利用できる。又、ゴムは、カーボン等の 導電材の粉末を含む導電性ゴムを使用する事 により、優れた電磁波の吸収特性を有する表 装材を得られる。更に、上記生体材料に関し ては、広い表面積を利用して、人工腎臓、人 工肺等の人工内蔵の実現に寄与できる。

 また、この支持基盤として、熱硬化性樹 、紫外線硬化性樹脂、赤外線硬化性樹脂等 後処理によって硬化する合成樹脂を用いる ともできる。

 支持基盤として合成樹脂を用いる場合も 粘土5を用いた場合と同様の工程により製造 することができる。すなわち、先ず、未硬化 状態の合成樹脂を、伸長させた状態のゴムシ ート4上面に重ねて載置し、さらに合成樹脂 上面に織布を張着させる。次に、ゴムシー 4を収縮させることにより、合成樹脂の上面 び織布に皺を寄せ、その後、合成樹脂を硬 させる。

 ここで、合成樹脂を硬化する際は、例え 、熱硬化性樹脂を用いた場合には加熱を行 、紫外線硬化性樹脂を用いた場合には紫外 の照射を行う。このようにして、合成樹脂 硬化させることにより、合成樹脂性の皺寄 プレートを形成することができる。

 また、かかる場合、織布は、皺寄せプレ トの表面に残存した状態となり、樹脂と繊 とが一体成型されているような意匠性の高 皺寄せプレートとすることができる。なお 合成樹脂としては、具体的に、アクリル樹 、シリコン樹脂、フェノール樹脂、エポキ 樹脂、ウレタン樹脂などを用いることがで る。

 なお、織布は、上記のように皺寄せプレ トの表面に残存させずに取り除くこととし もよい。織布を取り除く方法としては、合 樹脂の上面及び織布に皺を寄せた後に酵素 分解する方法、合成樹脂が完全に硬化する (半硬化時)に人の手などで物理的に取り除 方法、或いは、合成樹脂が硬化した後に水 溶剤、酸又はアルカリ等で洗って取り除く 法などを用いるとよい。これらの方法を用 ることにより、合成樹脂の上面に形成され 皺の形状を崩すことなく織布を取り除くこ ができる。

 [2.皺寄せプレートの構造について]
 以上のような製造方法により製造された皺 せプレートは、図5に示すように、表面(電 や音波が入射する入射面)に隆起による不規 な皺2が連続的に多数形成されるとともに、 各皺2の表面には、多数の微細な凹凸9が形成 れている。また、図4に示すように、多数の 隆起による皺2の隣接する間隔が、皺2の膨大 間の間隔d1よりも皺2の底部間の間隔d2が大 なるように形成されている。

 かかる構成とすることにより、電波吸収 能や吸音性能に優れ、しかも、各皺2の平均 的な間隔や各皺2の表面に形成される微細な 凸9の形状を制御することにより、所望の周 数の電磁波や音波を吸収することのできる 寄せプレートを提供することができる。

 [3.皺寄せプレートの電波吸収特性について]
 上記のように形成された皺寄せプレート1a 、特に、電波吸収性質に優れており、所謂 波吸収体として有用である。以下に、本実 形態にかかる皺寄せプレート1aの電波吸収特 性について図6を用いて説明する。図6は本実 形態にかかる皺寄せプレート1aの電波吸収 性についての測定結果を示したグラフであ 。

 本測定は、Agilent Technologies社製ネットワ ク・アナライザE8362Bを用い、皺寄せプレー 1aに対して6~18GHzの電波を垂直入射するとと に、当該皺寄せプレート1aによって反射さ た反射波を検出することにより、当該反射 の減衰特性を測定した。なお、本測定では 皺寄せプレート1aの表面(皺が形成されてい 面)だけでなく、裏面(皺が形成されていない 平面)についても同様の測定を行なった。

 また、図6に示すグラフの縦軸は、反射波の 減衰特性を示しており、かかる減衰特性は、 以下の公式により求められる。
10log{皺寄せプレートからの反射/皺寄せプレ トと同じ大きさのアルミ板からの反射} (dB)
ここで、例えば、減衰特性が-10dBとは、アル 板からの反射電波に比較して皺寄せプレー 1aからの反射電波のエネルギーが
{皺寄せプレートからの反射/アルミ板からの 射}=10 -1 =1/10
であることを、減衰特性が-20dBとは、アルミ からの反射電波に比較して皺寄せプレート1 aからの反射電波のエネルギーが
{皺寄せプレートからの反射/アルミ板からの 射}=10 -2 =1/100
であることを示している。

 図6に示すように、皺寄せプレート1aの表 側は、13GHz以上の帯域で20dB以上の減衰特性 示すことが確認された。また、表面と裏面 の反射減衰量の比較から明らかな通り、平 形状の裏面には減衰効果が見られず、本実 形態にかかる皺寄せプレート1aの反射減衰 果は、表面に形成された複雑な皺形状によ ものであることがわかる。

 さらに、本測定では、表面に形成された の平均的な間隔に相当する波長の電波に対 て良好な減衰特性が見られることもわかっ 。従って、本実施形態にかかる製造方法の うに、表面に形成される皺の形状を制御す ことで、所望の周波数を吸収することので る皺寄せプレート1aを製造することが可能 なる。

 ここで、一般的に、電波吸収体は、減衰 せたい電波の周波数に応じて適材を選択し 用いられているのが現状である。例えば、 上波テレビ放送のゴースト防止用の壁面パ ルには93~220MHzの周波数帯域に良好な電波吸 特性を持つパネルが選択、使用されること なる。ここで、本実施形態にかかる皺寄せ レートは、13GHz以上の周波数帯域において20 dB以上の良好な電波吸収特性を示しているこ 及び材質が陶器であり脆性を有しているこ 等を考慮すると、建築物等の固定施設への 用が最も有望であると考えられる。

 (実施形態2について)
 上記実施形態では、未硬化状態の粘土5上面 への凹凸の型押しを、当該粘土5の上面に織 6を張着することにより行ったが、これに代 て、未硬化状態の粘土5上面に、予め凹凸を 形成した型押し板を型押しすることにより形 成することとしてもよい。

 図7に示すように、この型押し板10は、シ コンで形成された板状部材であり、その表 には、所定深さの凹部11がメッシュ状に形 されている。

 本実施形態にかかる皺寄せプレートを製 する際は、この型押し板10を、ゴムシート4 載置した未硬化状態の粘土5の上面に押し当 て、当該粘土5の上面にメッシュ状の凹凸を 成する。そして、この型押し板10を粘土5の 面から取り去った後、上記実施形態と同様 ゴムシート4を収縮させて粘土5の表面に皺を 寄せ、焼成することにより、当該粘土5が硬 して、皺寄せプレートが完成する。また、 化した粘土5の表面には、上記実施形態と同 、ゴムシート4の収縮による複雑な皺が形成 されるとともに、形成された各皺の表面には 、型押し板10の凹部11による細かい多数の凹 が形成されることとなる。

 ここで、型押し板10は、図7に示すメッシ 状の凹部11が形成されたものの他、例えば 図8(a)に示すように表面に小孔12によるエン ス加工がなされたもの、図8(b)に示すように 線状の溝部13が形成されたもの、或いは、 8(c)に示すように波線状の溝部14が形成され もの等とすることもできる。

 このように、所望の凹凸形状を有する型 し板で未硬化状態の粘土5上面を型押しする ことにより、所望の形状の皺を有する皺寄せ プレートを得ることが可能となる。その結果 、所望の波長帯域の電波を吸収する皺寄せプ レートや、表面に所望の模様が施された意匠 性の高い皺寄せプレートを製造することが可 能となる。

 (実施形態3について)
 上記実施形態2では、支持基盤表面の凹凸の 型押しは、未硬化状態の支持基盤(粘土5)の上 面を型押し板10で型押しをすることにより行 こととしたが、これに代えて、未硬化状態 支持基盤の上面に、予め凹凸を形成した凹 シートを貼着することにより行うこととし もよい。

 かかる場合、先ず、この凹凸シートを、 ムシートに載置した未硬化状態の粘土の上 に張着する。この凹凸シートは、粘土の焼 により消滅する材料で形成され、その表面 は、メッシュ状、エンボス状、直線状或い 波線状の凹部が形成されている。また、凹 シートの厚さは、ゴムシートの収縮により 土と一体となって皺を寄せることができる 度に薄く形成されている。

 そして、上記実施形態と同様、ゴムシー を収縮させて粘土の表面及び凹凸シートに を寄せ、焼成することにより、当該粘土が 化して、皺寄せプレートが完成する。また 硬化した粘土の表面には、上記実施形態と 様、ゴムシートの収縮による多数の微細な 凸が形成されるとともに、形成された各皺 表面には、凹凸シートの凹部による多数の 細な凹凸が形成されることとなる。

 なお、凹凸シートは、必ずしも焼成によ て消滅する材料である必要はない。焼成に り消滅しない凹凸シートを用いる場合は、 の凹凸シートを、粘土がある程度硬化した に、人の手などで物理的に取り除くことと てもよいが、粘土の上面に残存させた状態 ままとしてもよい。かかる場合、得られる 寄せプレートは、その表面に凹凸シートの 部又は全部が残存した状態となり、意匠性 高いものとすることができる。

 (実施形態4について)
 上記各実施形態において説明した皺寄せプ ートの製造方法は、特に、支持基盤として 土5を用いた場合に有効な製造方法であり、 未硬化状態の支持基盤への凹凸の型押しは、 織布6、型押し板10、或いは凹凸シートによっ て、当該未硬化状態の支持基盤の上面になさ れることとしたが、支持基盤として合成樹脂 を用いる場合、かかる凹凸の型押しは、ゴム シート4と未硬化状態の支持基盤との間に、 縮自在で、後処理により除去可能であり、 つ、表面に凹凸形状を有する中間層を介在 せることにより行うことでより効率的に皺 せプレートを製造するとよい。

 すなわち、先ず、図9(a)に示すように、ゴ ムシート4の上面と、支持基盤としての合成 脂21の下面との間に、中間層20を介在させる 合成樹脂21としては、上述のように、熱硬 性樹脂、紫外線硬化性樹脂、赤外線硬化性 脂等、撥水性を有し、硬化の過程で粘度が 第に高くなるものを使用する。また、上記 間層20は、圧縮方向の力によって塑性変形し つつ収縮自在で、且つ、後処理により除去可 能な材料製とする。この中間層20の表面には 織布6や型押し板10と同様、メッシュ状の細 い凹部が形成されている。このような中間 20の材料として具体的には、澱粉糊等の各 水溶性の糊、寒天を煮て固めたもの等、水 性の各種ゲル状物質を使用することができ 。また、合成樹脂21の上面は、図9(b)に示す に、上記中間層20と同様の材料製の表面層22 より被覆する。なお、この表面層22は、必 しも中間層20と同様の材料製でなくてもよく 、例えば、織布6や型押し板10或いは凹凸シー ト等を用いることもできる。また、この表面 層22の表面に形成される凹凸形状は、中間層2 0における凹凸形状と同一である必要はない

 上述のように、ゴムシート4の上面に、中 間層20と合成樹脂21と表面層22を、このゴムシ ート4を伸長させた状態で載置したならば、 の合成樹脂21が硬化する以前に(半硬化状態 )、上記ゴムシート4を収縮させる。この結果 、図9(c)に示すように、上記中間層20が、上面 に皺を寄せつつ収縮し、この中間層20の上面 設けられた上記合成樹脂21及び表面層22が、 上下両面に皺を寄せつつ収縮する。このよう に合成樹脂21の上下両面に形成される皺を構 する凸部の先端部同士が直接当接しない事 、前述した各実施形態の場合と同様である そこで、このように上下両面に皺を寄せた 成樹脂21を、上記中間層20と上記表面層22に りサンドイッチ状に挟んだ状態のまま、硬 させる。

 このようにして、上下両面に多数の皺を せた状態のまま、上記合成樹脂21を硬化さ たならば、図9(d)に示すように、上記中間層2 0及び表面層22を除去する。この除去作業は、 上記合成樹脂21の上下両面に水を吹き付ける により、或はこの合成樹脂21を熱湯に漬け (上記中間層20及び表面層22が寒天製の場合) により行なう。このようにして、上記合成 脂21の上下両面から上記中間層20及び表面層2 2を除去すれば、図10に示すように、両面に多 数の皺23を寄せた、合成樹脂製の皺寄せプレ ト1eが得られる。

 かかる構成とすることにより、合成樹脂2 1の両面には、中間層20或いは表面層22による 凸24が形成されることとなるため、所望の 面形状を有する中間層20をゴムシート4と合 樹脂21との間に介在させることで、所望の形 状の皺を有する皺寄せプレートを得ることが 可能となる。また、合成樹脂21の上面に表面 22を張着することにより、両面に所望の形 の皺が形成された皺寄せプレートを得るこ もできる。かかる皺寄せプレート1eは、例え ば一般家屋の応接室やオーディオルームの内 壁面を覆うことにより、当該部屋の内面の意 匠を考慮しつつ、音響特性を良好にすること ができる。

 尚、単に表面に多数の皺を有する合成樹 製の皺寄せプレートは、射出成形によって 造る事ができる。但し、その場合には、多 の皺を有する凹部の断面形状を、開口部の (直径)が奥部の幅(直径)以上の形状とする必 要がある。言い換えれば、本例の様に、凹部 の断面形状が巾着状である多数の皺を有する 合成樹脂製の皺寄せプレートを、射出成形に より造る事はできない。本例の皺寄せプレー トの製造方法によれば、合成樹脂製製品の一 般的製造方法である射出成形によっては得ら れない形状を得ることができるのである。

 (実施形態5について)
 上記各実施形態では、支持基盤を用いて皺 せプレートを製造する方法について説明し が、支持基盤を用いた皺寄せプレートの製 方法には、製造効率、製造コストの面で課 があった。すなわち、支持基盤を用いた皺 せプレートの製造方法では、支持基盤を硬 させた後に、当該硬化した支持基盤を伸縮 能材から取り外す作業が必要となるが、支 基盤の硬化により当該支持基盤と収縮機能 とが密着した状態となるため、当該取り外 作業が困難であった。また、支持基盤の厚 をある程度厚くしておかなければならない め、薄い皺寄せプレートを得たい場合は、 記製造方法により得られた皺寄せプレート 底部を事後的に取り除く必要があり、しか 、取り除いた部分をもう一度皺寄せプレー の製造に用いることもできなかった。

 そこで、本実施形態では、皺寄せプレー をより効率的にかつ低コストで製造するた 、上記各実施形態にかかる皺寄せプレート 代えて、伸長させた状態の伸縮機能材の上 に、収縮自在で、後処理により除去可能な 間層を載置する工程と、この中間層の上面 、シート状の可撓部材を張着する工程と、 縮機能材を収縮させることにより、可撓部 に皺を寄せる工程と、可撓部材の上面を未 化状態の裏打ち材で被覆する工程と、未硬 状態の裏打ち材を硬化させる工程と、より る皺寄せプレートの製造方法とした。

 かかる場合、先ず、図11(a)に示すように ゴムシート4の上面に中間層40を載置する。 の中間層40は、実施形態4における中間層20と 同様、圧縮方向の力によって塑性変形しつつ 収縮自在で、且つ、後処理により除去可能な 材料製であり、具体的には、澱粉糊等の各種 水溶性の糊、寒天を煮て固めたもの等、水溶 性の各種ゲル状物質であるが、その表面には メッシュ状の細かい凹部は形成されていない 。次に、図11(b)に示すように、シート状の可 部材41を載置する。

 ここでシート状の可撓部材は、具体的に 、合成樹脂フィルム、金属箔、紙等を用い ことができる。

 上述のように、ゴムシート4の上面に、中 間層40及び可撓部材41を、このゴムシート4を 長させた状態で載置したならば、上記ゴム ート4を収縮させる。この結果、図11(c)に示 ように、上記中間層40が、上面に皺を寄せ つ収縮するとともに、この中間層40の上面に 設けられた可撓部材41も皺を寄せつつ収縮す 。この際、可撓部材41に形成される皺を構 する凸部の先端部同士が直接当接しない事 、前述した各実施形態の場合と同様である

 次に、可撓部材41に皺を寄せた後、図11(d) に示すように、当該可撓部材41の上面を裏打 材42により被覆する。

 この裏打ち材42は、熱硬化性樹脂、紫外 硬化性樹脂、赤外線硬化性樹脂或いは粘土 、硬化の過程で粘度が次第に高くなるもの 使用する。

 このようにして、可撓部材41に多数の皺 寄せた状態のまま、上記裏打ち材42を硬化さ せたならば、図11(e)に示すように、上記中間 40を除去する。この除去作業は、上記可撓 材41に水を吹き付ける事により、或は、この 可撓部材41を熱湯に漬ける(上記中間層40が寒 製の場合)事により行なう。このようにして 、上記可撓部材41の下面から上記中間層40を 去すれば、ゴムシート4の収縮による皺が形 された皺寄せプレート1hを得る事ができる この際、裏打ち材42を硬化させても、可撓部 材41と中間層40とは密着した状態とはならな ため、上記除去作業を容易に行うことがで る。また、形成される皺寄せプレート1hは、 裏打ち材42によって裏打ちされた状態となっ いるため、可撓部材に寄せられた皺の形状 維持することができるとともに、当該皺寄 プレート1hの強度を高めることができる。

 このように、本実施形態にかかる皺寄せ レートの製造方法によれば、シート状の可 部材41に皺を寄せた後に、裏打ち材42により 当該可撓部材41を裏打ちすることにより、所 の厚さの皺寄せプレートを製造段階で得る ができ、事後的に不要な部分を取り除く作 を行う必要がないため、製造効率を高める ともに製造コストを抑えることができる。 た、可撓部材41は可撓性を有するシート状 部材であればよいため、材料の選択の自由 が高く、様々な用途に合った皺寄せプレー を製造することができる。しかも、中間層40 は、再利用することができるため、皺寄せプ レートをより低コストで製造することができ る。

 かかる製造方法により得られる皺寄せプ ート1hは、表面に隆起による不規則な皺が 続的に多数形成され、多数の隆起による皺 隣接する間隔が、当該皺の膨大部より当該 の底部が大となるように形成される。この うな構造とすることにより、電波吸収性能 音波吸収性能に優れた皺寄せプレートを提 することができる。

 なお、シート状の可撓部材41は、その表 に凹凸形状を有するものであってもよい。 かる場合、シート状の可撓部材は、合成樹 フィルム、金属箔、紙の他に、炭素・金属 ガラス繊維等で織った布等を用いることも きる。ここで、合成樹脂フィルム、金属箔 紙のように、本来表面に凹凸形状を有さな ものについては、所定の凹凸形状が形成さ た送りローラ等により表面に当該所定の凹 形状を押圧形成する。

 このように、表面に凹凸形状を有するシ ト状の可撓部材を用いることにより、ゴム ート4の収縮による皺が形成されるとともに 、各皺の表面には、支持基盤に予め形成され た凹凸による凹凸形状が多数形成された皺寄 せプレートを得ることができる。したがって 、予め所望の形状の凹凸が施された可撓部材 を用いることにより、所望の形状の凹凸を有 する皺寄せプレートを得ることができる。ま た、可撓部材を収縮させる際に、当該可撓部 材の下面に載置された中間層も同様に収縮さ れるため、可撓部材の表面に多数の皺を互い が当接することなく形成することができ、皺 寄せプレートを電波吸収体として有用な形状 とすることができる。

 (実施形態6について)
 上記実施形態1~3或いは実施形態5、6では、 ムシート4を一気に収縮させているため、粘 5の上面には、比較的うねりの大きな皺とこ の皺の表面に形成される織布6或いは型押し 10による細かい皺とが形成されることとなる が、これに代えて、ゴムシート4の収縮を多 階で行うことで、粘土5の表面により多くの を形成することとしてもよい。

 すなわち、本実施形態では、先ず、図12(a )に示す様に、伸長させた状態のゴムシート4 上面に、粘土5を載置し、さらに、この粘土 5の上面に織布6を張着する。

 次いで、図12(b)に示す様に、上記ゴムシ ト4を途中まで(未だ収縮可能な余地を十分に 残して)収縮させることにより、この粘土5の 面及び織布6に皺を形成する。この状態で寄 る皺は、この粘土5が未だ十分に軟らかい(粘 が低い)為、うねりが小さい(ピッチが細か )皺となる。この小さなうねりの皺が第1の皺 18となる。

 このようにして、上記粘土5の上面にうね りが小さい第1の皺18を形成したならば、上記 ゴムシート4をそのままの(途中迄収縮させた) 状態でしばらく放置して、上記粘土5を少し け乾燥させ、この粘土5を少しだけ硬くする( 粘度を高くする)。この粘土5が少しだけ硬く ったならば、図12(c)に示すように、上記ゴ シート4を、更に少しだけ(未だ収縮可能な余 地を十分に残して)収縮させる。この結果、 記粘土5には、上記図12(b)の状態から更に、 方向に亙って圧縮方向の力が加わる。この 態では、上記粘土5の粘度は少し高くなって るので、この圧縮方向の力に基づいてこの 土5の上面に寄る皺のうねりは、上記第1の 18よりも大きく(ピッチが粗く)なる。この様 、大きなうねりの皺が第2の皺19となる。第1 の皺18は、上記粘土5の表面にそのまま残るの で、この粘土5の表面には、上記第2の皺19の 面に上記第1の皺18が存在する、複合皺寄せ 状となり、この表面部分の断面形状はフラ タル曲線状になる。そして、この粘土5を焼 して硬化させることにより、図12(d)に示す うに、皺寄せシート1dが得られる。

 以上のようにして得られた皺寄せシート1 dの表面には、起伏の大きな第2の皺19の表面 、当該第2の皺19よりも細かい第1の皺18が形 され、さらに、第1の皺18の表面には、織布6 凹凸による皺が形成されることとなる。す わち、かかる構成とすることにより、プレ ト表面に形成される皺の形状を制御しつつ 、より複雑な形状の皺を当該プレート表面 に形成することが可能となる。

 (実施形態7について)
 また、上記各実施形態において、硬化後の 持基盤あるいは可撓部材の表面を、各種被 材で被覆することとしてもよい。

 すなわち、上記各実施形態にかかる製造 法によって皺寄せプレート1fを形成した後 図13に示すように、当該皺寄せプレート1f表 の皺26や凹凸27、及び皺26と皺26との間の空 28を被覆材25により被覆する。かかる構成と ることにより、皺寄せプレート1f表面の形 を、当該プレート1fに形成された皺26等に影 されない形状とすることができ、しかも、 度を高めることができる。したがって、例 ば、皺寄せプレート1fの上面を、被覆材と て電波透過材で被覆して皺寄せプレート1fの 表面を略平滑面とすることとすれば、汚れの 付着を防ぐことができるため、かかる皺寄せ プレート1fを、医療器具が電波の影響により 作動するのを防止する電波吸収遮蔽壁など 有効に適用することが可能となる。

 ここで、電波透過材としては、FRP(Fiber Re inforced Plastic)樹脂、GFRP(Glass Fiber Reinforced Pl astic)樹脂等を用いるとよい。

 また、皺寄せプレート1fの上面を、被覆 として、発泡スチロールや発泡ウレタン等 発泡樹脂材料で被覆することとすれば、一 家屋の応接室やオーディオルームの防音壁 しても有効に用いることができる。

 (実施形態8について)
 また、上記各実施形態において、未硬化状 の支持基盤の表面に、微粒子を付着させた 、伸縮機能材の収縮により、当該支持基盤 表面に皺を寄せることとしてもよい。

 すなわち、例えば、伸長した状態のゴム ート4に未硬化状態の粘土5を載置し、当該 硬化状態の粘土5の上面に織布6を張着すると ともに微粒子を付着させる。ここで、微粒子 としては、樹脂製或いは金属製の微粒子であ り、焼成する際に消滅することのない材料を 用いることが望ましい。そして、ゴムシート 4を収縮させることにより、粘土5の上面及び 布6に皺を寄せ、その後、焼成することによ り、図14に示すような皺寄せプレート1gが形 される。このように形成することにより、 該皺寄せプレート1gの表面には、ゴムシート 4の収縮による皺31と、織布6による細かい凹 32と、微粒子による更に細かい凹凸33とが形 されることとなる。

 かかる構成とすることにより、表面形状 より複雑化し、入射した電波を乱反射する め、電波吸収性能のより高い皺寄せプレー を得ることができる。

 なお、上記のように、未硬化状態の支持 盤の表面に、微粒子を付着させるのではな 、未硬化状態の支持基盤中に当該微粒子を め混入させておいてもよい。かかる構成と ることにより、上記と同様の効果を得るこ ができるばかりでなく、未硬化状態の支持 盤の上面に微粒子を付着させる作業を行う 間を省くことができるため、生産効率を高 ることができる。また、未硬化状態の支持 盤中に粒径の比較的大きな粒子と粒径の比 的小さな粒子とを混入させておくことによ 、硬化後の支持基盤上面にこれら粒子によ 更に微細な凹凸を形成することができ、皺 せプレートの電波吸収性能をより一層向上 せることができる。

 以上、本発明の実施の形態のうちのいく かを図面に基づいて詳細に説明したが、こ らは例示であり、当業者の知識に基づいて 々の変形、改良を施した他の形態で本発明 実施することが可能である。

 例えば、上記各実施形態では、伸縮機能 としてゴムシートを用いたが、伸縮性を有 る機能を有しておればよく、例えば、熱収 フィルムや形状記憶合金、形状記憶樹脂、 を用いてもよい。

 また、伸縮機能材としては、上記のよう 素材の持つ物性によって伸縮するもの以外 、例えば、カメラ用の絞り装置のように、 円形に形成された基盤の周縁に沿って設け れた複数の絞り羽根を、当該基盤の中心に かって摺動させることで収縮を行うもの等 機械的に伸縮するものであってもよい。こ ように、伸縮機能材として、機械的に伸縮 るものを用いることにより、生産効率を高 ることができるとともに、個体差の少ない 寄せプレートを製造することができる。