佐藤 彰 (〒11 東京都日野市さくら町1番地コニカミノルタテクノロジーセンター株式会社内 Tokyo, 1918511, JP)
NISHIDA, Naoki (Inc. 1 Sakura-machi, Hino-sh, Tokyo 11, 1918511, JP)
西田 直樹 (〒11 東京都日野市さくら町1番地コニカミノルタテクノロジーセンター株式会社内 Tokyo, 1918511, JP)
TAKEDA, Akihiko (Inc. 1 Sakura-machi, Hino-sh, Tokyo 11, 1918511, JP)
コニカミノルタホールディングス株式会社 (〒05 東京都千代田区丸の内一丁目6番1号 Tokyo, 1000005, JP)
SATO, Akira (Inc. 1 Sakura-machi, Hino-sh, Tokyo 11, 1918511, JP)
佐藤 彰 (〒11 東京都日野市さくら町1番地コニカミノルタテクノロジーセンター株式会社内 Tokyo, 1918511, JP)
NISHIDA, Naoki (Inc. 1 Sakura-machi, Hino-sh, Tokyo 11, 1918511, JP)
西田 直樹 (〒11 東京都日野市さくら町1番地コニカミノルタテクノロジーセンター株式会社内 Tokyo, 1918511, JP)
| フィルム状の基材に凹凸構造を有する光学フィルムの製造方法において、 前記凹凸構造の反転凹凸構造を有する型に樹脂材料を溶質とした樹脂溶液を塗布する工程と、 前記型に塗布した前記樹脂溶液を乾燥し、固化して樹脂層を形成する工程と、 前記樹脂層の表面に前記樹脂層及び前記基材を溶解し、蒸発後は成分が残留しない溶媒を塗布する工程と、 前記樹脂層の表面に塗布した前記溶媒が前記基材に対して溶解作用を有している状態で、前記溶媒を塗布した前記樹脂層の表面と前記基材を重ね合せる工程と、 前記樹脂層の表面に塗布した前記溶媒を蒸発させる工程と、 前記基材と前記型とを分離する工程と、を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。 |
| フィルム状の基材に凹凸構造を有する光学フィルムの製造方法において、 前記凹凸構造の反転凹凸構造を有する型に樹脂材料を溶質とした樹脂溶液を塗布する工程と、 前記型に塗布した前記樹脂溶液を乾燥し、固化して樹脂層を形成する工程と、 前記基材の表面に前記樹脂層及び前記基材を溶解し、蒸発後は成分が残留しない溶媒を塗布する工程と、 前記基材の表面に塗布した前記溶媒が前記樹脂層に対して溶解作用を有している状態で、前記溶媒を塗布した前記基材の表面と前記樹脂層の表面を重ね合せる工程と、 前記基材の表面に塗布した前記溶媒を蒸発させる工程と、 前記基材と前記型とを分離する工程と、を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。 |
| 前記基材は、複数の層を有し、 前記複数の層の内、前記樹脂層の表面と重ね合せる面を有する層は、他の層より添加物が少ない材料からなることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項に記載の光学フィルムの製造方法。 |
| 前記樹脂層を形成する工程における乾燥は、前記基材と前記型とを分離する工程において、前記樹脂層を形成する工程で前記型に塗布した前記樹脂溶液が樹脂層として前記型から剥がすことができる状態になるように残留溶媒量を低下させることを特徴とする請求の範囲第1項乃至第3項の何れか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 |
| 前記基材と前記型とを分離する工程の後、前記樹脂層を備える前記基材を溶媒が残留しないように十分に乾燥させる再乾燥工程を有することを特徴とする請求の範囲第1項乃至第4項の何れか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 |
| 請求の範囲第1項乃至第5項の何れか一項に記載の光学フィルムの製造方法で製造されたことを特徴とする光学フィルム。 |
本発明は、光学フィルムの製造方法及び 学フィルムに関する。
ディスプレイなどの分野では凹凸構造が けられた光学フィルムが望まれている。凹 構造が設けられた光学フィルムは、例えば 長よりも短いピッチの凹凸構造を備えるこ で、構造性複屈折を利用した位相差フィル 、偏光子や液晶の配向膜、反射防止構造な にも利用できる。
このような光学フィルムの製造方法とし 、凹凸構造を有する型に、樹脂等を溶媒で 解した成形可能な樹脂溶液を塗布し、その 乾燥・固化して形成する樹脂層に型が有す 凹凸構造を転写する方法が知られている(ナ ノキャストともいう)。この方法は、凹凸構 を有する大面積の光学フィルムを比較的容 に作製することが出来る。
特許文献1では、凹凸構造を有する支持体 (型)面にトリアセチルセルロースを溶解した ープ(溶液)を流延し、溶媒が蒸発して固化 た後に得られたフィルムを支持体(型)から剥 離する手法が提案されている。
特許文献2では、凹凸構造を有する走行ベ ルトにポリマー溶液を塗布し、塗布膜を乾燥 ・固化して凹凸構造を形成した後に、塗布膜 を剥離するパターンシート(光学フィルム)の 造方法が提案されている。また、塗布膜を2 層構造とし、型に塗布して1層目となる溶液 粘度より2層目に塗布する溶液の粘度を高く る手法や、塗布膜が乾燥・固化した後に、 シートに接着させながら走行ベルトから塗 膜を剥離する手法も提案されている。
また、非特許文献1では、微細な凹凸構造が
形成された型に、有機溶剤に可溶な有機材料
を溶かした液状組成物や液状の有機材料から
なる液状組成物を塗布して微細な凹部に液状
組成物を充填し、液状組成物を乾燥・固化し
て凹凸構造体を形成する。この後、UV硬化樹
などで基板を凹凸構造体に貼りつけて型か
基板を分離することにより、微細な凹凸構
が表面に形成された有機材料の層を有する
板(光学フィルム)を形成する手法が開示さ
ている。
しかしながら、特許文献1に記載してある 製造方法では、凹凸構造を有するロールもし くはベルト上で剥離可能な状態まで乾燥・固 化した後に離型し、その後更に乾燥させてト リアセチルセルロースフィルムを得ている。 凹凸構造を良好にフィルムに転写するために は、トリアセチルセルロースを溶解した溶液 の粘度を低くする必要があるため溶液におけ る溶媒が多くなる。また、乾燥後、型から転 写された凹凸構造を維持した状態でフィルム を剥離するためには、このフィルムはある程 度の厚みを必要とする。このため、転写性の 良いフィルムを破損すること無く良好に製造 する場合、フィルムは、ロールもしくはベル ト上で、長い乾燥時間を必要とする。
特許文献2に記載してある製造方法では、 上記と同様に、凹凸構造を有するベルト上で 剥離可能な状態まで十分に乾燥・固化した後 に離型するため、少なくとも1分以上の長い 燥時間を必要としている。この長い乾燥時 のため2m~3m以上の非常に長いエンドレスベル トを必要としている。また、同じ厚みのシー トを塗布膜の2層構造とする場合、粘度が高 溶液を用いることで乾燥時間を1層構造より 縮はできるものの塗布装置、塗布工程が2つ 必要となる等で、高価な装置を必要とし、ま た製造工程が複雑となる。さらに、別シート に接着させながらベルトから剥離する場合、 シートに別途接着層を設ける必要があり、製 造工程が煩雑になる。
非特許文献1では、凹凸構造の型に塗布し た有機材料を有する液状組成物を乾燥固化し た後に、支持体である基板を貼り付けるため に、別途UV硬化樹脂等の接着剤を塗布する必 がある。このため、光学フィルムは、塗布 る接着剤分だけ厚くなり、またその製造に いては、接着剤塗布工程やUV照射等の硬化 程が必要となり製造工程が複雑になるとい 問題がある。
本発明は、上記の課題を鑑みてなされた のであって、その目的とするところは、光 性能が良好で薄くて製造効率の良い光学フ ルムの製造方法及びこの製造方法で製造さ た光学フィルムを提供することである。
上記の課題は、以下の構成により解決さ る。
1. フィルム状の基材に凹凸構造を有する光
学フィルムの製造方法において、
前記凹凸構造の反転凹凸構造を有する型に樹
脂材料を溶質とした樹脂溶液を塗布する工程
と、
前記型に塗布した前記樹脂溶液を乾燥し、固
化して樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層の表面に前記樹脂層及び前記基材
を溶解し、蒸発後は成分が残留しない溶媒を
塗布する工程と、
前記樹脂層の表面に塗布した前記溶媒が前記
基材に対して溶解作用を有している状態で、
前記溶媒を塗布した前記樹脂層の表面と前記
基材を重ね合せる工程と、
前記樹脂層の表面に塗布した前記溶媒を蒸発
させる工程と、
前記基材と前記型とを分離する工程と、を有
することを特徴とする光学フィルムの製造方
法。
2. フィルム状の基材に凹凸構造を有する光
学フィルムの製造方法において、
前記凹凸構造の反転凹凸構造を有する型に樹
脂材料を溶質とした樹脂溶液を塗布する工程
と、
前記型に塗布した前記樹脂溶液を乾燥し、固
化して樹脂層を形成する工程と、
前記基材の表面に前記樹脂層及び前記基材を
溶解し、蒸発後は成分が残留しない溶媒を塗
布する工程と、
前記基材の表面に塗布した前記溶媒が前記樹
脂層に対して溶解作用を有している状態で、
前記溶媒を塗布した前記基材の表面と前記樹
脂層の表面を重ね合せる工程と、
前記基材の表面に塗布した前記溶媒を蒸発さ
せる工程と、
前記基材と前記型とを分離する工程と、を有
することを特徴とする光学フィルムの製造方
法。
3. 前記基材は、複数の層を有し、
前記複数の層の内、前記樹脂層の表面と重ね
合せる面を有する層は、他の層より添加物が
少ない材料からなることを特徴とする1又は2
記載の光学フィルムの製造方法。
4.前記樹脂層を形成する工程における乾 は、前記基材と前記型とを分離する工程に いて、前記樹脂層を形成する工程で前記型 塗布した前記樹脂溶液が樹脂層として前記 から剥がすことができる状態になるように 留溶媒量を低下させることを特徴とする1乃 3の何れか一項に記載の光学フィルムの製造 方法。
5. 前記基材と前記型とを分離する工程の 後、前記樹脂層を備える前記基材を溶媒が残 留しないように十分に乾燥させる再乾燥工程 を有することを特徴とする1乃至4の何れか一 に記載の光学フィルムの製造方法。
6. 1乃至5の何れか一つに記載の光学フィ ムの製造方法で製造されたことを特徴とす 光学フィルム。
本発明の光学フィルムの製造方法によれ 、型の上に塗布して乾燥させて、型の反転 凸構造を転写した凹凸構造を有する樹脂層 フィルム状の基材とを、両者を溶解して接 して蒸発する溶媒を介して重ね合わせて貼 合すことで光学フィルムを得ることができ 。
よって、樹脂層と基材の貼り合せに接着 を有しないため、製造効率が良く薄い光学 ィルムを得ることができる。また、基材が 脂層の支持体となるため、凹凸構造を形成 る樹脂層を薄くすることができるため転写 のよい粘度の低い樹脂溶液を使用しても、 燥・固化が容易となり製造時間を短くする とができる。
従って、光学性能が良好で薄くて製造効 のよい光学フィルムの製造方法及びこの製 方法で製造された光学フィルムを提供する とができる。
10 型
12 樹脂溶液
12a 樹脂層
14、14-1、14-2 基材
15 溶媒
31、32、41、42、43 層
100、200、300 光学フィルム
A 凹凸構造
本発明を図示の実施の形態に基づいて説 するが、本発明は該実施の形態に限らない 本発明に係わる光学フィルムは、支持体で るフィルム状基材(以降、基材と称する。) 凹凸構造が形成された樹脂層とから構成さ 、基材と樹脂層は接着層を介さないで両者 溶媒で溶解させて貼り合せてある。樹脂層 、凹凸構造を有する型に、基材を形成して る樹脂材料を溶質とした溶液(樹脂溶液と称 る。)を塗布し、乾燥・固化させて得ている 。
光学フィルムは、接着層を有しないため 造効率が良く薄くすることができる。また 基材が樹脂層の支持体として作用するため 凹凸構造を形成する樹脂層を薄くすること できることから、転写性のよい粘度の低い 脂溶液を使用しても、乾燥・固化が容易と り製造時間を短くすることができる。以下 上記の光学フィルムに関して図を用いて詳 く説明する。
(第1の実施の形態)
図1に光学フィルムの製造工程を示し、以下
、これに沿って説明する。
(凹凸構造を備えた型の作製)
後述する樹脂層に凹凸構造を転写するため
凹凸構造Aを有する型10を作製する(図1(a))。
10が有する凹凸構造Aは、本来、樹脂層が有
る凹凸構造の反転形状を有する凹凸構造で
るが、本発明の説明では特に断らない限り
反転形状」を省略し凹凸構造と記する。
型10の作製方法としては、例えば、レジ トに光描画(マスク露光、縮小投影露光、干 露光など)、電子線描画、X線描画などの手 で潜像を形成し、現像する公知の方法で凹 構造Aを形成することができる。特に大面積 凹凸構造を生産性よく作成する手法として 、2光束干渉露光などの光描画手法が優れて いる。出来たレジストの凹凸構造から電鋳技 術で型を作製してもよいし、レジストをマス クとしてエッチングすることによりシリコン 、石英ガラス、金属などに凹凸構造を転写し 、そのままロールやベルト状に加工して型と することが出来る。
また、いずれかの手法で作製された型か 後述の溶媒に溶けにくい樹脂シートに凹凸 造を転写してそのままロールやベルト状の としたり、樹脂シートから電鋳(Ni等)により 転写してロールやベルト状の型とすることが 出来る。また、型の表面に離型処理剤を塗布 したものを用いてもよい。離型処理剤として は、オプツール(商標、ダイキン工業(株)製) Novec(商標、3M社製)などに代表されるフッ素 の離型処理剤が好ましく用いられる。サブ クロンサイズの微細な凹凸構造の型への離 処理としては、単分子型の離型処理剤が望 しい。
(樹脂溶液)
型10に塗布する樹脂溶液12を準備する。樹脂
溶液12の溶質は、樹脂溶液12を型10に塗布した
後、乾燥させて、その溶媒を蒸発除去するこ
とで型10の凹凸構造が転写された樹脂層12a(後
述)を形成することができる樹脂材料である
樹脂材料の例としては、後述の基材14の材料
が挙げられるがこれに限定されない。樹脂溶
液12の溶媒(以降、樹脂溶液用溶媒と称する。
)としては、例えば後述の基材14の材料に対応
するテトラヒドロフラン(THF)、メチレンクロ
イド等があるが、凹凸構造を転写して形成
る樹脂材料を溶解する作用を持つものであ
ばこれらに限定されない。また、樹脂溶液1
2の粘度の調整のため等にエタノール、メタ
ールなどの貧溶媒と上記の溶媒と混合した
のを用いても良い。
(基材)
樹脂層12a(後述)と貼り合せる基材14の材料は
、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセル
ース(TAC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)な
どが挙げられるが、後述の塗布する溶媒15が
解することができる材料であれば、上記の
料に限定されない。基材14の厚みは、特に
定されないが、0.04mmから0.2mm程度が好ましく
、厚みが上記の値より小さすぎる(薄すぎる)
、製造工程の途中で基材14に皺が発生しや
く、また、大きすぎる(厚すぎる)と乾燥に長
時間必要となる。
また、基材14の材料は、基材14のUV耐性を げたりすべりを良くしたりするために、さ ざまな添加剤が用いられることがある。こ ような添加剤を含む材料を用いた場合、基 14が溶媒に溶け出して再度乾燥・固化した 、添加剤の分布の偏りが原因と推測される イズなどの不都合が発生する場合がある。 加剤が少ない基材14を用いれば、このような 不都合を回避できるが、UV耐性やすべり特性 どの要求品質を満足しなくなってしまう。
添加剤が溶媒に融け出すことに起因する 述のヘイズ等の発生による不具合に対応す ため、基材14は複数の層で構成され、この 数の層の内、樹脂層12aと貼り合せる面を有 る層は、他の層より添加物が少ない材料と るのが好ましい。このようにすることで、 材14の材料に含まれる添加剤が樹脂層12aと貼 り合せるために塗布した溶媒中に溶け出し難 くすることができる。このような複数の層で 構成される基材14は、例えば2層であれば、ダ ブルキャストで第1層と第2層を異なる材質で 成する方法や、共押し出しして形成する方 等がある。
図3(a)に2層構造、図4(a)に3層構造の本発明 に係わる好ましい基材14-1、14-2を例として示 。図3(a)の基材14-1は、層31が、層32より添加 が少ない材料で形成してある2層構造を示し ている。図3(b)に示すように、この基材14-1の 31の表面と後述する凹凸構造を有する樹脂 12aとを貼り合せた光学フィルム200は、ヘイ 等の不都合が生じ難い。図4(a)の基材14-2は、 層41及び層43が、層42より添加剤が少ない材料 で形成してある3層構造の基材14を示している 。図4(b)に示すように、この基材14-2の層41及 層43の表面と後述する凹凸構造を有する樹脂 層12aとを貼り合せた光学フィルム300は、ヘイ ズ等の不都合が生じ難い。
上記で説明した添加剤の例としては、可 剤、酸化防止剤、酸捕捉剤、光安定剤、過 化物分解剤、ラジカル捕捉剤、金属不活性 剤、マット剤、染料、顔料、蛍光体、紫外 吸収剤、赤外線吸収剤、二色性色素、屈折 調整剤、リターデーション制御剤、ガス透 抑制剤、抗菌剤、導電性付与剤、生分解性 与剤、ゲル化防止剤、粘度調整剤、粘度低 剤等の各種の機能を有する添加剤などが挙 られる。
(樹脂溶液の塗布)
型10の上に樹脂溶液12を塗布する(図1(b))。樹
脂溶液12を型10に塗布する手法としては、ス
ンコート、グラビアコーター、ディップコ
ター、リバースコーター、ワイヤーバーコ
ター、押出しコーター、インクジェット法
公知の方法で塗布することが出来る。
樹脂溶液12の粘度は型10の微細構造に液状 組成物である樹脂溶液12を十分に充填して転 性を良好とする観点から低粘度のほうが好 しい。一方で、低粘度としすぎると乾燥時 が長くなってしまい効率が低下してしまう よって、上記の観点や製造効率等を勘案し 適宜決めればよい。具体的には0.1cPa・sから 50Pa・sの範囲が好ましく、0.25cPa・sから0.1Pa・ sの範囲がより好ましい。樹脂溶液12の粘度を 低減する手段としては、上記した溶媒の組成 の他、固形分濃度などを選択することにより 調整することが可能である。
型10の上に塗布する樹脂溶液12の厚みは、 後述の樹脂溶液12を乾燥・固化してなる樹脂 12aが型10が有する凹凸構造を転写すること できる厚みであればよい。樹脂層12aは、基 14に貼り付けられて型10から分離するため、 脂層12aの厚みのみで、転写された凹凸構造 維持するに十分な機械的強度を必要としな 。このため型10に塗布する樹脂溶液12の厚み は、基材14が無い場合と比較して十分に薄く ることができ、乾燥・固化を短時間でする とができる。
(乾燥)
型10に塗布した樹脂溶液12を乾燥、固化させ
て樹脂層12aを形成する(図1(c))。形成した樹脂
層12aは、この段階では溶媒を完全に蒸発させ
た乾燥状態とする必要はない。樹脂層12aの乾
燥状態は、仮に型10から樹脂層12aを分離する
合に、樹脂層12aを一体状態で型10から剥が
ことができる状態であればよく、この状態
なるように乾燥させて残留溶媒量を低下さ
て固化させる。乾燥させる温度は、溶媒の
点以下とし、使用する溶媒の沸点が比較的
い例えばテトラヒドロフラン(THF、沸点66℃)
メチレンクロライド(沸点40℃)であれば、製
造時の熱効率の観点から作業環境温度より大
きく異ならない、常温(20℃±15℃)から40℃程
が望ましい。
(溶媒塗布と基材貼り合わせ)
凹凸構造Aが形成された型10の上に、樹脂溶
12を塗布し乾燥・固化させて形成した樹脂
12aの上に溶媒15を塗布する(図1(d))。
溶媒15は、樹脂層12a及び基材14を溶解し、 樹脂溶液用溶媒と混じることで問題が生じず 、蒸発後は成分が残留しないものであればよ く、樹脂溶液用溶媒と同じであってもよいの は勿論である。塗布方法は、インクジェット 法、スリットコーター等があるが、特にこれ らに限定されない。
溶媒15を樹脂層12aの表面に塗布した後、 布した溶媒15が基材14に対して溶解作用を有 ている状態で基材14を樹脂層12aに重ね合せ (図1(e)、図中、矢印で示す。)、貼り合せる( 1(f))。樹脂層12aに塗布した溶媒15は、基材14 樹脂層12aに重ね合さることで、樹脂層12aと 材14の両者の表面部を溶解して貼り合せる とができる。
塗布した溶媒15が基材14に対して溶解作用 を有している状態は、塗布した溶媒15が樹脂 12aを溶解し、その後溶媒が蒸発して乾燥す ことにより、塗布した溶媒表面に溶解した 脂の膜が形成されるに至っていない状態と 測する。実際の貼り合せにおいては、樹脂 12aの材料やその乾燥度合い、塗布する溶媒 種類やその量、基材14の材料等を考慮し、 験等により、塗布した溶媒15が基材14に対し 溶解作用を有している状態とする条件を決 ることができる。
(乾燥と分離)
上記で説明した樹脂層12aと基材14の両者は
の表面部が溶解して接合が進むと同時に、
媒15は、樹脂層12aが含む溶媒も含めて、大気
中に蒸発し、樹脂層12aと基材14は次第に乾燥
ていく。型10から基材14を分離しても樹脂層
12aに転写されて形成された凹凸構造が保持で
きる残留溶媒量以下に達するまで乾燥させた
後、型10から基材14を分離(離型)する(図1(g))。
貼り合せから分離までの乾燥時間は、使用す
る樹脂溶液12、樹脂溶液12から形成した樹脂
12aの厚み、貼り合わせ時に塗布した溶媒の
、基材14の溶媒透過性、基材14の厚み、雰囲
温度等を考慮し実験等より決めることがで
る。乾燥させる温度は、溶媒の沸点以下と
、使用する溶媒の沸点が比較的低い例えば
トラヒドロフラン(THF、沸点66℃)、メチレン
クロライド(沸点40℃)であれば、製造時の熱
率の観点から作業環境温度より大きく異な
ない、常温(20℃±15℃)から40℃程度が望まし
。
分離した基材14は、樹脂層12aが貼り付け れた状態となっており、またその樹脂層12a 型10との分離面には型10の凹凸構造Aが転写さ れている。
(本乾燥)
型10から分離して得た、凹凸構造を有する
脂層12aを備えた基材14を、十分に乾燥(再乾
)させて、光学フィルム100が完成する(図1(h))
十分に乾燥させる方法は、例えばオーブン
で樹脂層12aや基材14が変形しない範囲で加
した温度環境下で行えば効率良く行うこと
できるが、これに限定されない。
(第2の実施の形態)
第2の実施形態では、溶媒15を基材14の表面
塗布した後、塗布した溶媒15が樹脂層12aに対
して溶解作用を有している状態で、樹脂層12a
を基材14に重ね合せて貼り合せる。この点が
第1の実施の形態の(溶媒塗布と基材貼り合
せ)で説明した内容と異なるので、以下に説
する。
光学フィルム100の製造工程を図2に示す。 図2において、(溶媒塗布と基材貼り合わせ)に 係わる図2(d)、(e)以外の、図2(a)から(c)は図1(a) から(c)と同じであり、図2(f)、(g)(h)は、基材14 と型10の位置関係が異なるが図1(f)、(g)(h)と同 じある。よって、(溶媒塗布と基材貼り合わ )に関して、図2(d)、(e)を参照しながら以下に 説明し、他は省略する。
(溶媒塗布と基材貼り合わせ)
図2(d)において、基材14に溶媒15を塗布する
溶媒15は、樹脂層12a及び基材14を溶解し、樹
溶液用溶媒と混じることで問題が生じず、
発後は成分が残留しないものであればよい
勿論、樹脂溶液用溶媒と同じであってもよ
。塗布方法は、インクジェット法、スリッ
コーター等があるが、特にこれらに限定さ
ない。
溶媒15を基材14に塗布した後、塗布した溶 媒15が樹脂層12aに対して溶解作用を有してい 状態で型10を伴った樹脂層12aを基材14に重ね 合せて(図2(e)、図中、矢印で示す。)、貼り合 せる(図2(f))。基材14に塗布した溶媒15は、樹 層12aが基材14に重ね合さることで、樹脂層12a と基材14の両者のその表面部を溶解して貼り せることができる。
塗布した溶媒15が樹脂層12aに対して溶解 用を有している状態は、塗布した溶媒15が基 材14を溶解し、その後溶媒が蒸発して乾燥す ことにより、塗布した溶媒表面に溶解した 材14の膜が形成されるに至っていない状態 推測する。実際の貼り合せにおいては、樹 層12aの材料やその乾燥度合い、塗布する溶 の種類やその量、基材14の材料等を考慮して 、実験等により、溶媒15が樹脂層12aに対して 解作用を有している状態とする条件を決め ことができる。
図2(f)以降、図2(g)(h)は、第1の実施の形態 説明した内容と同じく、型10から分離して た、凹凸構造を有する樹脂層12aを備えた基 14を、十分に乾燥させて、光学フィルム100が 完成する。
(実施例1)
図1に沿って説明する。60mm×60mmのSi基板に熱
酸化膜(SiO 2
)を設け、これにレジストを塗布した後、マ
ク露光、現像、エッチング処理を行い型10と
した。具体的には、Si基板表面に厚み200nmのSi
O 2
層を設け、SiO 2
層にピッチ360nm、直径180nm、深さ200nmのホール
列を規則正しく形成し、これを凹凸構造の型
10とした(図1(a))。
次にポリカーボネート(PC)10gを溶質とし、 テトラヒドロフラン(THF)90gを溶媒とする樹脂 液12を用意した。この樹脂溶液12をワイヤー バーコーターを使用して、上記の型10に塗布 た(図1(b))。塗布した樹脂溶液12の膜厚は40μm とした。
次に樹脂溶液12を塗布した型10を30℃の環 下に35秒間置いて、溶媒を蒸発させて樹脂 液12を乾燥・固化させて、型の上に膜厚が約 4μmのポリカーボネート(PC)の樹脂層12aを形成 た(図1(c))。
次に、上記で得た樹脂層12aに溶媒15であ テトラヒドロフラン(THF)をスポイトによる滴 下により塗布した(図1(d))。溶媒15の塗布量は 樹脂層12aの上に滴下したテトラヒドロフラ (THF)が、樹脂層12aと基材14の重ね合せ時に、 基材14に対して溶解作用を有している状態と るように調整した。溶媒15の塗布後、厚み80 μmのポリカーボネート(PC)の基材14を樹脂層12a の上に重ね合わせ(図1(e)、(f))、この状態(図1( f))を30℃の環境下で約30秒間維持した。
次に基材14と共に樹脂層12aを型10から分離(
型)し(図1(g))、この後、樹脂層12aを備えた基
14を120℃のオーブンに約20分間入れて十分に
乾燥させて光学フィルム100を完成させた(図1(
h))。顕微鏡を用いて、この光学フィルム100の
凹凸構造を形成した樹脂層12aの表面を観察し
たところ、ピッチ約360nm、直径約180nm、高さ
200nmの円柱列の欠け等が無く良好に転写され
形成されていることが確認できた。
(実施例2)
図2に沿って説明する。60mm×60mmのSi基板に熱
酸化膜(SiO 2
)を設け、これにレジストを塗布した後、マ
ク露光、現像、エッチング処理を行い型10と
した。具体的には、Si基板表面に厚み200nmのSi
O 2
層を設け、SiO 2
層にピッチ360nm、直径180nm、深さ200nmのホール
列を規則正しく形成し、これを凹凸構造の型
とした(図2(a))。
次にポリカーボネート(PC)10gを溶質とし、 テトラヒドロフラン(THF)90gを溶媒とする樹脂 液12を用意した。この樹脂溶液12をワイヤー バーコーターを使用して、上記の型に塗布し た(図2(b))。塗布した膜厚は40μmとした。
次に樹脂溶液12を塗布した型10を30℃の環 下に35秒間置いて、溶媒を蒸発させて樹脂 液12を乾燥・固化させて、型の上に膜厚が約 4μmのポリカーボネート(PC)の樹脂層12aを形成 た(図2(c))。
次に、厚み80μmのポリカーボネート(PC)の 材14に溶媒15であるテトラヒドロフラン(THF) スポイトによる滴下により塗布した(図2(d)) 溶媒15の塗布量は、基材14の上に滴下したテ トラヒドロフラン(THF)が、樹脂層12aと基材14 重ね合せ時に、樹脂層12aに対して溶解作用 有している状態となるように調整した。溶 15の塗布後、型を伴ったままの状態で樹脂層 12aを基材14に重ね合わせ(図2(e)、(f))、この状 (図2(f))を30℃の環境下で約30秒間維持した。
次に基材14と共に樹脂層12aを型10から分離 (離型)し(図2(g))、この後樹脂層12aを備えた基 14を120℃のオーブンに約20分間入れて十分に 乾燥させて光学フィルム100を完成させた(図2( h))。顕微鏡を用いて、この光学フィルムの凹 凸構造を形成した樹脂層12aの表面を観察した ところ、ピッチ約360nm、直径約180nm、高さ約20 0nmの円柱列の欠け等が無く良好に転写され形 成されていることが確認できた。
