Title:
PROCESS FOR PRODUCTION OF OPTICAL VANADIUM DIOXIDE THIN FILM
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2011/118700
Kind Code:
A1
Abstract:
Disclosed is a process for producing a thin film which contains vanadium dioxide as the main component and of which infrared ray transmissibility can be adjusted automatically in accordance with temperatures, in a simple manner even in the atmosphere at room temperature. The process is characterized in that a thin film comprising a precursor containing vanadium atoms is formed on a glass substrate and the thin film is irradiated with light such as a laser beam having a wavelength of 400 nm or less, thereby producing a thin film which contains vanadium dioxide as the main component and of which the infrared ray transmissibility can be adjusted automatically in accordance with temperatures without requiring the control of the gas atmosphere.
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Inventors:
TSUCHIYA Tetsuo (1-1Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
土屋 哲男 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
NISHIKAWA Masami (1-1Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
西川 雅美 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
NAKAJIMA Tomohiko (1-1Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
土屋 哲男 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
NISHIKAWA Masami (1-1Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
西川 雅美 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
NAKAJIMA Tomohiko (1-1Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
Application Number:
JP2011/057158
Publication Date:
September 29, 2011
Filing Date:
March 24, 2011
Export Citation:
Assignee:
NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY (3-1Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo, 21, 〒1008921, JP)
独立行政法人産業技術総合研究所 (〒21 東京都千代田区霞が関１丁目３番１号 Tokyo, 〒1008921, JP)
TSUCHIYA Tetsuo (1-1Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
土屋 哲男 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
NISHIKAWA Masami (1-1Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
西川 雅美 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
独立行政法人産業技術総合研究所 (〒21 東京都千代田区霞が関１丁目３番１号 Tokyo, 〒1008921, JP)
TSUCHIYA Tetsuo (1-1Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
土屋 哲男 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
NISHIKAWA Masami (1-1Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
西川 雅美 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
International Classes:
C23C18/14; C03C17/34; G01J1/02
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Claims: