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Title:
PROCESS FOR PRODUCTION OF SPHERICAL METAL OXIDE POWDER
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2008/136139
Kind Code:
A1
Abstract:
A process for the production of spherical metal oxide powder which comprises the step of injecting one or more raw material powders selected from the group consisting of metal powders, metal oxide powders and metal hydroxide powders into flame to form a spherical powder and recovering the spherical powder with a collector, characterized by comprising the step of passing a powder to be treated which contains at least either of the raw material powder and the recovered spherical powder through a foreign matter removal unit to reduce the quantity of foreign matter contained in the powder to be treated to 450 pieces/50g or below.

Inventors:
ISHIMARU, Toshiaki (1 Shinkai-machi, Omuta-sh, Fukuoka 10, 8368510, JP)
石丸 登志昭 (〒10 福岡県大牟田市新開町1番地 電気化学工業株式会社 大牟田工場内 Fukuoka, 8368510, JP)
SUEHIRO, Wataru (1 Shinkai-machi, Omuta-sh, Fukuoka 10, 8368510, JP)
Application Number:
JP2007/065937
Publication Date:
November 13, 2008
Filing Date:
August 16, 2007
Export Citation:
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Assignee:
DENKI KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA (1-1 Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo38, Tokyo1038338, JP)
電気化学工業株式会社 (〒38 東京都中央区日本橋室町二丁目1番1号 Tokyo, Tokyo1038338, JP)
ISHIMARU, Toshiaki (1 Shinkai-machi, Omuta-sh, Fukuoka 10, 8368510, JP)
石丸 登志昭 (〒10 福岡県大牟田市新開町1番地 電気化学工業株式会社 大牟田工場内 Fukuoka, 8368510, JP)
International Classes:
C01B33/18; B03C1/02; B03C1/26; C01B13/32; C01B33/00; B03C1/02; C01B13/32
Attorney, Agent or Firm:
KUMAKURA, Yoshio et al. (NAKAMURA & PARTNERS, Shin-Tokyo Bldg.3-1, Marunouchi 3-chome,Chiyoda-ku, Tokyo 55, 1008355, JP)
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Claims:
 金属粉末、金属酸化物粉末及び金属水酸化物粉末からなる群からなる群から選ばれる1種又は2種以上の原料粉末を火炎中に噴射して球状化し、それを捕集装置で回収する工程を含む球状金属酸化物粉末の製造方法において、上記原料粉末及び捕集装置で回収された球状粉末の少なくとも一方の粉末を含む被処理粉末を、異物除去装置を通過させ、被処理粉末中の異物を450個/50g以下に低減する工程を含むことを特徴とする球状金属酸化物粉末の製造方法。
 原料粉末中の異物を低減する方法が、原料粉末をキャリアガスに同伴させ、磁束密度4,000ガウス以上の磁石が組み込まれた磁選機に、50~800kg/hrの割合で通過させ、原料粉末中の粒径45μm以上の着磁性異物を低減させることを特徴とする請求項1記載の製造方法。
 捕集装置で回収された球状粉末の異物を低減する方法が、球状粉末をキャリアガスに同伴させ、磁束密度4,000ガウス以上の磁石が組み込まれた磁選機に、50~800kg/hrの割合で通過させ、球状粉末中の粒径45μm以上の着磁性異物を低減させることを特徴とする請求項1又は2に記載の製造方法。
 原料粉末中の粒径45μm以上の着磁性異物を80~200個/50gに調整することを特徴とする請求項1、2又は3記載の製造方法。
 球状粉末中の粒径45μm以上の着磁性異物を5~40個/50gに調整することを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の製造方法。
 捕集装置で回収された球状粉末が、平均粒径の異なる複数の粉体に分級して捕集された少なくとも一種の球状粉末であることを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の製造方法。
 分級して捕集された少なくとも一種の球状粉末の平均粒径が、30μm超、5~30μm及び5μm未満から選ばれた少なくとも一方であることを特徴とする請求項6記載の製造方法。
 異物の低減された球状粉末の少なくとも一方を用いてスラリーを調製し、それを異物除去装置に通過させて非着磁性異物、粒径45μm以上の着磁性異物又はその両方を更に低減させることを特徴とする請求項7記載の製造方法。
 媒体が水、アルコール又はこれらの混合物であり、固形分濃度が5~50質量%、比重が1.05~1.42であるスラリーを調製することを特徴とする請求項8記載の製造方法。
 異物除去装置が、磁束密度が4,000ガウス以上の磁石が装填された磁選機であり、そこへスラリーを磁選面流量160~330L/H・m 2 にして通過させることを特徴とする請求項8又は9記載の製造方法。
 球状金属酸化物粉末が球状シリカ粉末であり、その平均球形度が0.75以上、平均粒径が5~30μm、粒径45μm以上の着磁性異物の量が10個/50g以下であることを特徴とする請求項8、9又は10記載の製造方法。
 金属酸化物粉末及び金属水酸化物粉末の少なくとも一方からなる原料粉末を火炎中に噴射して球状化し、それを捕集系で回収する工程を含む球状金属酸化物粉末の製造方法において、上記原料粉末中の粒径45μm以上の異物を、異物除去装置を通過させることにより450個/50g以下に減ずる工程を含むことを特徴とする球状金属酸化物粉末の製造方法。
Description:
球状金属酸化物粉末の製造方法

 本発明は、異物の量を低減した球状金属 化物粉末の製造方法に関する。詳しくは、 導体封止材の充填材、基板、電子材料等に する、導電性金属粒子等の異物の混入量が めて低い球状金属酸化物粉末を製造する際 、原料粉末を球状化処理するのに先立ち原 粉末から着磁性及び非着磁性の異物を低減 る工程、及び製造された球状金属酸化物粉 を製造ラインから取り出す際に、又は取り した後に、球状金属酸化物粉末から着磁性 び非着磁性の異物を低減する工程、のいず かの工程を含む、球状金属酸化物粉末の製 方法に関する。

 球状金属酸化物粉末は、天然に産出され 珪石を粉砕したものや、半導体用シリコン エハ製造工程において発生するシリカ屑や 地殻中に多く存在するアルミナ等の金属酸 物を粉砕して粉状にしたものなどを原料と 、それを粉末状態のまま(例えば特許文献1) 又は水、アルコール等の媒体中に分散させ スラリーとし(例えば特許文献2~4)、火炎中 噴射して球状化することにより製造されて る。

 球状金属酸化物粉末は、例えば半導体封 材の分野においては、半導体デバイスのワ ヤーの狭ピッチ化に伴い、電気的なショー を発生させないよう異物の量をできるだけ 減したものが望まれている。そこで、原料 末の火炎噴射からその処理物を捕集装置で 収するまでの間に、適宜数の異物除去装置 設け、異物を除去(低減することも含む。以 下同じ。)することが行われている。しかし がら、現在求められているレベルを考慮し も、近い将来求められるレベルを考慮して 十分に満足いく程度に除去されていない。 た、捕集装置で回収された球状粉末に含ま る異物を、更に磁石、篩等を用いて除去す ことが考えられるが、回収品に含まれる異 の量などによって除去効率が異なり、これ また現在の要求を十分に満たしえないか、 はそのためには多大な設備、処理時間等が 要であった。

 異物が粒子形態である場合、仮に、平均 径を0.3~20μmとしても、20μm以上の異物が全 含まれていないことを意味するものではな 。そのような平均粒径に対して大きい異物 、全体に対する質量から見ると極わずかで るとしても、個数単位でみると無視できな なっている。異物の内、着磁性異物は、磁 によって製造工程で除去されるが、それで 十分除去しきれないで異物として混入して まう。着磁性異物は、ステンレス摩耗粉や 鉄等の磁性を有する物質である。ステンレ は、本来磁性がないと考えられるが、摩耗 により生成する摩耗物は弱磁性体であり、 のような着磁性物質は、スクリーン通過性 改良や、磁石の利用により、除去されてき いる。

 市場から入手される球状シリカ粉末には、 径45μm以上の着磁性異物が100個/50g、又はそ 以上に含まれているものもある。製造工程 徹底的な異物除去操作を行っても数十個/50g の着磁性異物を含む。そこで、これを更に除 去するため、球状シリカ粉末を表面張力が65 10 -3 N/m以下である液体に分散させてスクリーン処 理するか、又は表面張力が75×10 -3 N/m以下である液体に分散させてマグネットで 処理することが提案されている(特許文献5)。 特許文献5によれば、粒径10μm以上の着磁性異 物の含有量が10個/g以下にまで除去できたと れている。しかし、この程度ではまだ十分 はなく改善の余地があった。また、特許文 5の方法では、被処理粉体が微粉になるほど 一のスラリー濃度においてスラリー粘度が くなるので、異物除去効率が悪化した。

特開2004-175825号公報

特開2002-179409号公報

特開2004-51409号公報

特開2006-182594号公報

特開2005-187302号公報

 本発明の目的は、原料粉末を火炎中に噴射 て球状化し、捕集装置で回収された球状粉 において、その球状粉末に含まれる異物、 に着磁性異物を効率良く低減させた球状金 酸化物粉末を製造する方法を提供すること ある。
 本発明の他の目的は、最終製品の粒径45μm 上の着磁性異物の量を低減させた球状金属 化物粉末を製造する方法を提供することで る。

 本発明は、金属粉末、金属酸化物粉末及び 属水酸化物粉末の群からなる群から選ばれ 1種又は2種以上の原料粉末を火炎中に噴射 て球状化し、それを捕集装置で回収する工 を含む球状金属酸化物粉末の製造方法にお て、上記原料粉末及び捕集装置で回収され 球状粉末の少なくとも一方の粉末を含む被 理粉末を、異物除去装置を通過させ、被処 粉末中の異物を450個/50g以下に低減する工程 含むことを特徴とする球状金属酸化物粉末 製造方法である。
 本発明はまた、金属酸化物粉末及び金属水 化物粉末の少なくとも一方からなる原料粉 を火炎中に噴射して球状化し、それを捕集 で回収する工程を含む球状金属酸化物粉末 製造方法において、上記原料粉末中の粒径4 5μm以上の異物を、異物除去装置を通過させ ことにより450個/50g以下に減ずる工程を含む とを特徴とする球状金属酸化物粉末の製造 法を提供する。

 本発明においては、以下の(1)~(10)の実施態 から選ばれた少なくとも一つを有すること 好ましい。
 (1)原料粉末中の異物を低減する方法が、原 粉末をキャリアガスに同伴させ、磁束密度4 ,000ガウス以上の磁石が組み込まれた磁選機 、50~800kg/hrの割合で通過させ、原料粉末中の 粒径45μm以上の着磁性異物を低減させること
 (2)捕集装置で回収された球状粉末の異物を 減する方法が、球状粉末をキャリアガスに 伴させ、磁束密度4,000ガウス以上の磁石が み込まれた磁選機に、50~800kg/hrの割合で通過 させ、球状粉末中の粒径45μm以上の着磁性異 を低減させること。
 (3)原料粉末中の粒径45μm以上の着磁性異物 80~200個/50gに調整すること。
 (4)球状粉末中の粒径45μm以上の着磁性異物 5~40個/50gに調整すること。
 (5)捕集装置で回収された球状粉末が、平均 径の異なる複数の粉体に分級して捕集され 少なくとも一種の球状粉末であること。
 (6)分級して捕集された少なくとも一種の球 粉末の平均粒径が、30μm超、5~30μm及び5μm未 満から選ばれた少なくとも一方であること。
 (7)異物の低減された球状粉末の少なくとも 方を用いてスラリーを調製し、それを異物 去装置に通過させて非着磁性異物、粒径45μ m以上の着磁性異物又はその両方を更に低減 せること。
 (8)媒体が水、アルコール又はこれらの混合 であり、固形分濃度が5~50質量%、比重が1.05~ 1.42であるスラリーを調製すること。
 (9)異物除去装置が、磁束密度が4,000ガウス 上の磁石が装填された磁選機であり、そこ スラリーを磁選面流量160~330L/H・m 2 にして通過させること。
 (10)球状金属酸化物粉末が球状シリカ粉末で あり、その平均球形度が0.75以上、平均粒径 5~30μm、粒径45μm以上の着磁性異物の量が10個 /50g以下であること。

 本発明による効果は以下のとおりである。
(a)捕集装置で回収された球状粉末に含まれる 粒径45μm以上の異物の量を容易に550個/50g以下 にすることができる。特に、粒径45μm以上の 磁性異物の量を容易に450個/50g以下にするこ とができる。
(b)特に、原料粉末の種類が同じでも、それど ころか同じロット原料でも、同じ質量の原料 粉末に含まれる異物の個数にばらつきがある ため、捕集装置で回収された球状粉末の品質 が安定しない恐れがあるところ、本発明によ れば、原料粉末中の粒径45μm以上の着磁性異 の量を450個/50g以下、特に80~200個/50gに調整 ておくことによって、捕集装置で回収され 球状粉末に含まれる着磁性異物の量を100~250 /50gの狭範囲内に制御することができる。こ の結果、捕集装置で回収された球状粉末は均 質なものとなる。しかも、この球状粉末から 更に異物除去をし、着磁性異物の量を100個/50 g未満にしたいときに、その除去操作が容易 なる。
(c)最終製品に含有される粒径45μm以上の着磁 異物の量が少なくなる。たとえば、粒径45μ m以上の着磁性異物の量を10個/50g以下しか含 ない球状シリカ粉末をも製造することがで る。

 本発明で用いる被処理粉末は、原料粉末 は捕集装置で回収された球状粉末である。 料粉末は、金属粉末、金属酸化物粉末及び 属水酸化物粉末の少なくとも一方からなる それを例示すると、金属粉末については、 リコン粉末、アルミニウム粉末など、金属 化物粉末については、シリカ粉末、アルミ 粉末、ムライト粉末、コージェライト粉末 どである。シリカ粉末としては、天然珪石 粉砕物や、例えばゾルゲル法等による合成 などがある。金属水酸化物粉末については 水酸化アルミニウムなどがある。アルミナ 末の市販品としては、商品名LS-13で株式会 日軽金から販売されているものなどがある

 以下、原料粉末として原料シリカ粉末を い、球状金属酸化物粉末として球状シリカ 末を製造する場合を例にとって本発明を説 する。本発明の製造方法においては化学変 を伴うことがまずないので、原料粉末の種 が相違していても、シリカの場合と同様に て本発明の製造方法を行うことができる。

 原料シリカ粉末の種類や、天然物か合成 かの違い等により異なるが、原料シリカ粉 には非酸化鉄系、チタニア、SUS(例えばマル テンサイト系SUS)等の着磁性異物と、アルミ ウム、ウラン等の非着磁性異物とが含まれ 。異物は粉状又は塊状等の形態となって原 シリカ粉末と別個独立に存在するか、又は 料シリカ粉末中に埋没した状態で存在する 、本発明によれば、いずれの状態で存在す 異物も除去することができる。ここで、異 とは、金属(シリコン)酸化物以外の着磁性又 は非着磁性の物質にして、粒径45μm以上の粒 である、と定義される。

 原料シリカ粉末は、異物除去及び球状化 容易さの観点から、平均粒径が3~70μmである のが好ましく、5~50μmであるのがより好まし 。これには市販品があるのでそれを用いる とができる。それを例示すれば、商品名F2075 で株式会社ニッチツから販売されているもの (平均粒径20μm)、商品名F3575で株式会社ニッチ ツから販売されているもの(平均粒径30μm)な があげられる。市販の原料シリカ粉末には 500~1000個/50gの異物が含まれているが、捕集 置で回収された球状粉末(以下、「回収球状 リカ粉末」ともいう。)に含まれる異物の量 は、球状化工程から捕集工程の間において揮 散する異物もあるが、部材磨耗によって混入 する異物もあるので原料シリカ粉末に含まれ る異物よりも多くなる。回収球状シリカ粉末 は、異物を除去しなくても使用できる用途も あるが、制約があった。また、回収球状シリ カ粉末から更に異物を除去するにしても、異 物の量が多いことに加えて、混入量も原料シ リカ粉末によってかなりばらつき、制御され た範囲内にすることが困難であり、その後の 除去操作が容易ではなかった。

 本発明においては、原料シリカ粉末から 物、特に着磁性異物を450個/50g以下、好まし くは300個/50g以下に除去する。これによって 部材磨耗によって異物が混入してしまって 、回収球状シリカ粉末中の異物の量は、550 /50g以下、特に350個/50g以下にすることができ る。異物の除去手段には特に限定はなく、例 えば磁石、篩、空気分級、比重差分離等によ ることができる。これらは二種以上を組み合 わせることもできる。

 原料シリカ粉末はそのままの状態で処理 ることもできるし(以下、「乾式」と称する こともある。)、水、例えばメタノール、エ ノール等のアルコール、例えば灯油等の液 燃料などの媒体に分散させてスラリーとし 状態で処理することもできる(以下、「湿式 と称することもある。)。これらのうち、操 作の容易性の観点から磁石による方法が好ま しく、中でも原料シリカ粉末をキャリアガス に同伴させ、磁束密度4,000ガウス以上の磁石 組み込まれた異物除去装置に、50~800kg/hrの 合で通過させる方法が特に好ましい。

 一方、被処理粉末が回収球状シリカ粉末 あるときの市販品を例示すると、株式会社 イクロン製商品名「HS-304」、「HS-107」など 株式会社龍森製商品名「MSR-25」、「MSK-35」 ど、電気化学工業株式会社製「FB-570」、「F B-950」などがある。異物の除去効率及び用途 観点から、回収球状シリカ粉末の平均粒径 3~70μmが好ましく、5~30μmが特に好ましい。 均球形度は0.75以上が好ましく、0.8~1.0が特に 好ましい。回収球状シリカ粉末は、金属粉末 (シリコン粉末)及び金属酸化物粉末(シリカ粉 末)から選ばれた少なくとも一方の原料粉末 火炎処理した後捕集することによって製造 ることができる。

 本発明においては、上記原料シリカ粉末 は上記回収球状シリカ粉末からなる被処理 末を異物除去装置に通過させて、被処理粉 中の異物を450個/50g以下に低減することがで きる。原料シリカ粉末が市販品の場合には、 異物を除去する前のシリカ粉末に含まれる異 物の個数が450個/50gより少ない場合が多いが この場合においても異物の個数を処理前よ さらに低減することができる。異物除去装 としては、特に制限はなく、磁選機、篩い 分離器などを用いることができる。

 異物除去装置が磁選機である場合、粒径4 5μm以上の着磁性異物を低減させることがで る。磁選機を構成する磁石としては、電磁 、永久磁石、超伝導磁石等を用いることが きる。原料シリカ粉末が天然珪石の粉砕物 ある場合、粉砕時にマルテンサイト系SUSが く混入する傾向にあるので、特に磁束密度 4,000ガウス以上、より好ましくは10,000ガウス 以上の磁石が組み込まれた磁選機に原料シリ カ粉末を通過させることが好ましい。この条 件は、回収球状シリカ粉末からなる被処理粉 末にも適用することが好ましい。

 このような磁選機は、例えば棒状磁石を 体に挿通するか、又は磁石の表面を、樹脂 例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポ エステル等で被覆してから、枠体に一定間 で、例えば10~50mm、好ましくは10~30mmの磁石 隙で、平行又は格子状にして枠体に配列し ものや、更にそれらを数段重ねたもの(例え 特開平11-47633号公報)が使用される。市販品 は、例えば日本エリーズマグネチックス株 会社、永久磁石式格子型除鉄装置がある。

 被処理粉末を磁選機に通過させるには、 れをキャリアガスに同伴させ、水平方向又 垂直方向(上方向及び下方向)に、一方の口 ら他方の口に送給すればよい。キャリアガ としては、火炎を形成させるのに用いた、 料ガス及び助燃ガスの少なくとも一方であ ことが好ましい。供給量は50~800kg/hrが好まし く、特に300~600kg/hrが好ましい。これによって 、被処理粉末が磁石と接触することなく通過 することから回避させることができる。また 、この除去操作を繰り返し行って所定個数の 異物の量に制御することもできる。なお、異 物除去が行われる場は、コンタミネーション コントロールが行われた清浄な場であるのが 好ましいことは言うもでもない。

 上記方法の他に、被処理粉末を磁石に接 させるには、キャリアガスに同伴させるこ なく被処理粉末を磁選機に自然落下させる 法や、容器に被処理粉末を入れ磁石を挿し み適宜動かす方法をも採用することができ 。

 異物除去装置が篩である場合、被処理粉 中の特に非着磁性異物を除去することがで る。篩のメッシュサイズは、被処理粉末の 均粒径により異なるが、例えば、平均粒径 10μm程度の場合、篩い網目開き25μm程度のも のを用いるのが好適である。篩の材質として は、被処理粉末と篩とが接触して発生する摩 耗物による汚染を防止する観点から、ポリエ ステル、ナイロン、ポリイミド、フッ素系樹 脂等が好適である。

 異物除去装置が空気分級機又は比重差を いた分級機等の分離器である場合、被処理 末から特に着磁性異物及び非着磁性異物を 去することができる。空気分級の原理は粉 に作用させる力によって分けられ、重力、 性力、遠心力を利用する。これには、慣性 重力を巧みに組み合わせた慣性式分級機や 粗粉に対して遠心力を大きくし、微粉に対 ては遠心力を小さくして、限界粒子径を境 粗粉と微粉とを分ける遠心分級機がある。 物等の比重差を利用する分級機は、液体の 重と、被処理粉末と、異物の比重差を利用 るものである。

 原料シリカ粉末中の着磁性異物の量を450 /50g以下に調整しておくと、部材磨耗によっ て異物が混入したとしても、回収球状シリカ 粉末中の異物の量を550個/50g以下にすること できる。しかも、原料シリカ粉末中の着磁 異物の量を80~200個/50gに調整しておくことに って、回収球状シリカ粉末中の異物の量を1 00~250個/50gの狭範囲内にすることもできる。 れは、球状化工程から捕集工程の間におい 、揮散する異物、逆に部材磨耗によって混 する異物を考慮すると、全く驚くべき効果 ある。これによって、比較的均質な回収球 シリカ粉末を容易に製造することができる さらには、この回収球状シリカ粉末から更 異物を除去する場合においても、異物の含 率が所定範囲に制御されているので効率良 行うことができる。たとえば、上記被処理 末の除去で説明したキャリアガスを用いる 法によって回収球状シリカ粉末を更に磁選 に通過させると、容易に着磁性異物の量を10 0個/50g未満までに除去することができる。

 本発明においては、被処理粉末が回収球状 リカ粉末である場合、生産性を向上させる 点から、市販品を使用するよりも、シリコ 粉末、シリカ粉末又はその両方を、火炎中 噴射して球状化した後分級し、平均粒径の なる複数の粉体に分級して捕集された少な とも一種の球状粉末であることが好ましい
 本発明の方法を図1に基づいて以下に説明す る。

 原料タンク1の下部に異物除去装置9が接 されており、異物除去装置9には炉体2が接続 されている。炉体2は、その頂部に二流体ノ ルが組み込まれたバーナーを備えている。 壁保護のため、炉内壁に沿わせて、又は炉 壁を旋回させて冷却ガス(例えば空気)を流通 することは好ましい。炉体2は縦型でも横型 あってもよい。炉体2の下部には分級機3と回 収装置10とが接続されている。原料シリカ粉 を炉体2の火炎中で球状化しながらブロワー で吸引することにより比較的質量の小さい粉 末、換言すれば比較的平均粒径の小さい粉末 を分級機3に導き、比較的質量の大きい粉末 換言すれば比較的平均粒径の大きい粉末を 然落下させ、回収装置10で回収する。分級機 3としては、例えばサイクロン、強制渦流分 機等を使用することができる。分級機の市 品の一例に、日清エンジニアリング株式会 製、ターボクラシファイアがある。分級機3 は捕集機4が接続されている。捕集機4とし は、例えばバグフィルター等を使用するこ ができる。分級機3は所望する回収球状シリ 粉末の平均粒径に応じ、適宜数設置される 回収装置10、分級機3及び捕集機4の下部にそ れぞれ異物除去装置11、異物除去装置12及び 物除去装置13が接続されている。炉体2下部 らの捕集粉は、回収装置10と異物除去装置11 を経由して、捕集タンク5に捕集される。回 収装置10は外気に対する気密性を向上させる めに、多段式のダンパーを配し、上部から 部へ順次開閉動作を繰り返して、捕集粉が き出される。分級機3下部からの捕集粉は、 異物除去装置12を経由して捕集タンク5に捕集 される。捕集機4下部からの捕集粉は、異物 去装置13を経由して捕集タンク5に捕集され 。異物除去装置11,12,13としては、例えば磁選 機、多層フィルター、篩等を使用することが できる。これらの異物除去装置を複数設置す ることもできる。例えば、異物除去装置11と て、磁選機を2つ連結させてもよいし、磁選 機と多層フィルターとを連結させてもよい。 図1に示されるものは、炉体下部からの捕集 も含め、平均粒径の異なる三種の回収球状 リカ粉末が捕集タンク5に捕集されることを している。図1において、捕集装置で回収す る工程とは、分級機3、捕集機4、捕集タンク5 、回収装置10、又は異物除去装置11,12又は13か らシリカ粉末を回収することをいう。捕集タ ンク5は磁選機6に接続されている。磁選機6と しては、所定磁力の棒磁石を数段重ねてなる ボックス型磁選機や、市販品として日本エリ ーズマグネティックス株式会社製「永久磁石 式格子型除鉄装置」を使用することができる 。磁選機6はスラリー調製槽7に接続されてお 、スラリー調製槽7には異物除去装置8が接 されている。異物除去装置8としては、異物 去装置11,12,13について述べたのと同じもの 、市販品として日本マグネティックス株式 社製商品名「CSC-250X」を使用することができ る。磁選機6及び異物除去装置8もまた複数設 することができる。特開平11-57451号公報に 示されるように、分級機はなくてもよい。 の場合には、平均粒径の異なる二種の回収 状シリカ粉末が捕集されることになる。

 原料シリカ粉末は、粉末のままの状態(乾 式)か、又は水、例えばメタノール、エタノ ル、イソプロパノール等のアルコール、例 ば灯油等の液体燃料などの媒体に分散させ スラリーとした状態(湿式)で原料タンク1に 蔵されている。スラリーとした場合には、 炎への噴射性と噴射量の観点から、スラリ の固形分濃度は10~50質量%が好ましく、特に15 ~45質量%が好ましい。原料シリカ粉末を火炎 に噴射する前に、異物除去装置9を通過させ 異物を除去しておく。原料シリカ粉末の噴 は、取扱い性及び量産性の観点から、乾式 湿式のいずれの場合であっても、上記バー ーの中心部に設けられた二流体ノズルによ ことが好ましい。その場合のキャリアガス しては、通常、助燃ガス又は燃料ガスが用 られるが、炉内温度を調節するなどのため 炭酸ガス、窒素ガス等の不燃性ガスを用い こともできる。二流体ノズルからの原料シ カ粉末の噴射速度は20m/秒以上とすることが 好ましく、特に25~50m/秒とするのがより好ま い。

 火炎は、燃焼バーナーから、燃料ガスと助 ガスを噴射することによって形成される。 料ガスには水素、天然ガス、アセチレンガ 、プロパンガス、ブタン等が、また助燃ガ には空気、酸素等を用いることができる。 炎温度は1730~2000℃が好ましく、特に1750~1900 であることが好ましい。このような火炎処 によって、原料シリカ粉末に含まれている ーボンのような焼失性の非着磁性異物を焼 させることができる。しかも、原料シリカ 末の粒子に埋没した状態で存在し、物理的 段によっては除去しにくい着磁性異物の一 が酸化物に変換されるので、実質的に導電 又は着磁性を緩和させることができる。た えば、Feの一部が非導電性のFe 2 O 3 等になる。原料粉末としては、原料シリカ粉 末の他にもシリコン粉末を用いることができ る。両者は併用することもできる。

 捕集タンク5から捕集される複数の回収球 状シリカ粉末のうち、少なくとも一種の粉末 の平均粒径が、30μm超、5~30μm又は5μm未満で ることが好ましい。これによって、今日の 要に対応した粒度を有する球状シリカ粉末( 終製品)を極めて容易に調整することができ る。しかも、着磁性異物の除去効率に優れる 粒子径が粗い粉末を選択して異物を除去する こともできるので、異物除去操作が容易とな り除去効率が高まる利点もある。30μm超、5~30 μm又は5μm未満の平均粒径を有する回収球状 リカ粉末は、それぞれ更に平均粒径の異な 粉末に分割することもできる。

 捕集タンク5で捕集された平均粒径の異な る複数の回収球状シリカ粉末のうち、少なく とも一方をキャリアガスに同伴させて、好ま しくは、平均粒径が30μm超の回収球状シリカ 末、平均粒径が5~30μmの回収球状シリカ粉末 、又はその両方をキャリアガスに同伴させて 、磁束密度が4,000ガウス以上の磁石が装填さ た磁選機6に通過させる前処理を行い、粒径 45μm以上の着磁性異物を除去する(以下、この 操作で得られた球状粉末を「一次処理された 回収粉末」ともいう。)。この前処理を経由 せておくことによって、次工程における一 処理された回収粉末のスラリー化が容易と り、しかもそのスラリーから更なる着磁性 物を除去することも容易となる。すなわち 前処理を経由させないで、直接スラリー化 て異物除去を行った場合、一次処理された 収粉末が微粉であるほど、同一スラリー濃 の場合にスラリー粘度が高くなるのでスラ ー調製と取扱いが悪化し、また着磁性異物 除去効率も悪くなる。前処理によって、着 性異物の量を150個/50g以下に減じておくこと 好ましく、特に5~40個/50gに調整しておくこ が好ましい。球状粉末の磁選機への通過速 は50~600kg/hrが好ましい。

 回収球状シリカ粉末を磁選機に通過させ には、それをキャリアガスに同伴させ、水 方向又は垂直方向(上方向及び下方向)に送 すればよい。キャリアガスとしては、窒素 の非酸化性ガスを用いることもできるが、 気等で十分であり、特別なガス種である必 はない。この通過操作は、必要に応じて複 回繰り返して行うか、磁石の磁力密度や通 速度を変えるなどして異物数を低減させる 好ましくは5~40個/50gに調整する。磁選機6と ては、上記したものを用いることができる

 一次処理された回収粉末は、次いでスラ ー調製槽7でスラリー化され、更なる異物除 去が行われる(以下、この球状粉体をこの粉 を「二次処理された回収粉末」ともいう。) すなわち、二次処理された回収粉末とは、 次処理された回収粉末のうち、少なくとも 方をスラリー化し、異物除去装置8を通過さ せて、非着磁性異物、粒径45μm以上の着磁性 物又はその両方を更に除去させてなる粉体 ある、と定義される。この二次処理によっ 、一次処理された回収粉末に対応した、1又 は2以上の二次処理された回収粉末を製造す ことができる。

 スラリー調製に用いる一次処理された回 粉末は、その平均粒径が30μm超、5~30μm又は の両方であることが好ましい。これらの平 粒径を有する一次処理された回収粉末は、 れぞれ更に複数の平均粒径を有する一次処 された回収粉末に分けてからスラリーを調 することもできる。このように、平均粒径 異なる粉体に分けてスラリーを調製するこ の利点は、同一スラリー濃度である場合、 い粉体によるスラリーの流動性は細かい粉 によるスラリーの流動性よりも大きいので 高濃度のスラリーを調製して異物除去を行 ことができるので生産性が向上することで る。しかも、スラリーの調製と取扱いも容 となる。

 媒体には水又は有機液体を用いる。有機 体としては、炭素数1~6の低級アルコール、 セトン、メチルエチルケトン等のケトン化 物などを用いることができる。なかでも、 、低級アルコール又はこれらの混合物が好 しい。低級アルコールとしては、特にメタ ール及びエタノールが好ましい。とりわけ タノール含量が2~15体積%のエタノール水溶 が好ましい。スラリーの固形分濃度が5~50質 %、比重が1.05~1.42であることが好ましい。ス ラリーの濃度と比重をこのような範囲にする と、異物除去装置8への流通性がよくなるの 異物除去効果が高まる。

 異物除去装置8とは、例えば磁選機、篩、 多層フィルター等の異物除去装置のことであ る。着磁性異物の場合、その除去効率の観点 から、磁石が装填された磁選機が好ましい。 非着磁性異物の除去には例えば、篩、多層フ ィルター等の異物除去装置を用いることが好 ましい。これらの異物除去装置は二種以上を 組み合わせることもできるし、また同種の装 置を数回繰り返して使用することもできる。 磁選機としては上記した磁選機6を用いるこ ができる。この場合において、一次処理さ た回収粉末が、珪石等の天然物の原料を火 処理して製造された回収球状シリカ粉末を いている場合、マルテンサイト系SUSが多く 入する傾向にあるので、磁束密度が好まし は7,000ガウス以上、より好ましくは10,000ガウ ス以上の磁石を用いるのが好ましい。

 異物除去装置8が磁選機である場合、そこに スラリーを通過させるには、その下方からス ラリーを供給し上部から垂直方向に排出させ る連続式が好ましい。スラリーの流量は、磁 束密度が4,000ガウス以上の磁石が装填された 選機からの排出量(以下、「磁選面流量」と もいう。)として、160~330L/H・m 2 とすることが好ましい。とくに、磁力磁束密 度が10,000ガウス以上の磁石から構成される磁 選機に、磁選面流量を160~250L/H・m 2 とすることが好ましい。スラリー調製槽7及 スラリー受け槽14と接続されている異物除去 装置8の概略説明図を図2に示した。なお、磁 機のかわりに、適当な容器にスラリーを入 、磁石を挿し込み、スラリー中で磁石を適 動かすことによって着磁性異物を除去する ともできる。

 異物除去装置8が篩である場合、そのメッ シュサイズは一次処理された回収粉末の平均 粒径により異なる。たとえば、一次処理され た回収粉末の平均粒径が10μmである場合、目 き25μmの篩を用いるのが好適である。篩の 質としては、スラリーと篩とが接触して発 する摩耗物による汚染を防止する観点から ポリエステル、ナイロン、ポリイミド、フ 素系樹脂等が好適である。

 異物除去装置8が多層フィルターである場 合、スラリーを輸送する管の直径に対して5 程度の大きさの直径を有するものを使用す ことが好ましい。これにより、スラリーの れが乱流となり、線状異物であっても容易 除去することができる。フィルターの材質 しては、ポリエステル、ナイロン、ポリイ ド等が好適である。フィルターは異物の捕 の観点から、複数個重ねて使用することが ましいが、あまりにも多くすると通過速度 遅くなるので、3~10個重ねることが好ましい

 異物が更に除去されたスラリーをスラリ 受け槽14で受ける。得られたスラリーをそ まま用いる用途もあるが、通常は乾燥され から用途に供される。媒体の種類により乾 手段は異なるが、例えば、水やエタノール 溶液等の水性媒体を使用してスラリーを調 した場合、低温減圧乾燥機を用い、温度110~1 40℃、真空度300~10Torrで60~150分乾燥される。さ らには、スラリーを乾燥させて製造された粉 体は、上記した回収球状シリカ粉末、一次処 理された回収粉末、及び上記以外の二次処理 された回収粉末から選ばれた少なくとも一種 の粉末と混合してから用途に供することもで きる。

 本発明によって製造される球状金属酸化 粉末は球状シリカ粉末であり、その平均球 度が0.75以上、平均粒子径が5~30μm、粒径45μm 以上の着磁性異物の量が10個/50g以下であるこ とが好ましい。このような球状シリカ粉末は 半導体封止材用フィラーとして特に好適であ る。

〔実施例1〕
 原料シリカ粉末(株式会社ニッチツ製、F2075 平均粒径20μm、異物の量607個/50g(表1中、「 鉄前原料粉末」として示す))を、磁束密度が 12000ガウスの磁石が組み込まれた異物除去装 に、空気をキャリアガスとして600kg/hrの割 で通過させた。その結果、異物の量は表1に すとおりとなった(表1中、「除鉄後原料シ カ粉末」として示す。

 異物除去装置は、ステンレス製の枠体(150 mm×225mm)の内部に、図3に示される永久磁石(直 径25mm、長さ150mm、10本)を格子状に5段重ねた のである(合計の磁石数50本)。

 異物の除去された原料シリカ粉末を、LPG 酸素の燃焼によって火炎の形成された炉に 二流体ノズルを用い、0.3MPaの酸素ガスをキ リアガスとして噴射して球状化した。噴射 は400kg/hr、火炎温度は1850℃とした。

 得られた球状化処理物(球状シリカ粉末) 捕集装置(サイクロン)にブロワーで吸引して 導き、その全量を回収し、粒径45μm以上の着 性異物の量(表1中、「回収球状シリカ粉末 として示す。)、平均粒径及び平均球形度を 定した。それらの結果を表1に示す。

〔比較例1〕
 原料シリカ粉末から異物の除去を行わない 火炎中に噴射したこと以外は、実施例1と同 様にして回収球状シリカ粉末を製造した。な お、用いた原料シリカ粉末(株式会社ニッチ 製、F2075)の異物の量は表1に示すとおりであ 。

〔実施例2〕
 原料シリカ粉末を異物除去装置に400kg/hrの 合で通過させたこと以外は、実施例1と同様 して回収球状シリカ粉末を製造した。なお 用いた原料シリカ粉末(株式会社ニッチツ製 、F2075)の異物の量は表1に示すとおりである

〔実施例3〕
 異物除去装置として磁束密度が8000ガウスの 磁石を格子状に3段重ねたものを用いたこと 外は、実施例1と同様にして回収球状シリカ 末を製造した。なお、用いた原料シリカ粉 (株式会社ニッチツ製、F2075)の異物の量は表 1に示すとおりである。

〔実施例4〕
 原料シリカ粉末を異物除去装置に400kg/hrの 合で2回通過させたこと以外は、実施例1と同 様にして回収球状シリカ粉末を製造した。な お、用いた原料シリカ粉末(株式会社ニッチ 製、F2075)の異物の量は表1に示すとおりであ 。

〔実施例5〕
 異物除去装置として磁束密度が12000ガウス 磁石を1段用いたこと以外は、実施例1と同様 にして回収球状シリカ粉末を製造した。なお 、用いた原料シリカ粉末(株式会社ニッチツ 、F2075)の異物の量は表1に示すとおりである

 実施例1~5及び比較例1で製造された回収球 状シリカ粉末から更に異物を除去した。除去 方法は、上記原料シリカ粉末をこれらの回収 球状シリカ粉末に変えたこと以外は実施例1 同一条件で行った。それに含まれる異物の を測定した。その結果を「更なる異物除去 」として表1に示す。また、平均粒径及び平 球形度も測定した。その結果も表1に併記す る。

 回収球状シリカ粉末中に含まれる異物の量( 表1中「球状シリカ粉末」)と更なる異物除去 に含まれる異物の量(表1中「更なる異物除 品」)とから、除去効率を求めた。結果を表1 に併記する。
 除去効率(%)=(「回収球状シリカ粉末」-「更 る異物除去品」)×100/
           「回収球状シリカ粉末」

〔実施例6〕
 図1に示す装置を用い、球状シリカ粉末を製 造した。原料タンク1の下部に異物除去装置9 接続されており、異物除去装置9には炉体2 接続されている。炉体2(縦型燃焼炉)の頂部 二流体ノズルが組み込まれたバーナーを設 し、炉体2の下部に分級機3(サイクロン)が接 されており、該分級機3に捕集機4(バグフィ ター)が接続されており、炉体2の下部には た回収装置10が接続されている。分級機3及 捕集機4の下部にもそれぞれ異物除去装置11 び異物除去装置12が接続されている。異物除 去装置9、11、12、13としては、12,000ガウスの 磁石を1段目が3列(3本)、2段目が4列(4本)、3段 目が3列(3本)、4段目が4列(4本)、5段目が3列(3 )の5段構造(合計の磁石本数は17本)のボック 型磁選機を用いた。

<平均粒径の異なる回収球状シリカ粉末の 造>
 原料シリカ粉末(株式会社ニッチツ製、F2075 平均粒径:20μm)を原料タンク1に貯蔵した。 料シリカ粉末50g中に含まれる粒径100μm以上 着磁性異物(以下、「+100μm」ともいう。)及 粒径45μm以上の着磁性異物(以下、「+45μm」 もいう。)の個数は表3に示すとおりであった 。

 LPGと酸素を燃焼バーナーから噴射するこ によって形成された火炎中に、原料シリカ 末を粉状のまま、酸素ガスをキャリアガス して二流体ノズルから噴射した。供給速度 350kg/hrである。火炎温度は1850℃、原料シリ 粉末が炉内を通過する時間は2秒程度である 。原料シリカ粉末を火炎中で球状化しながら ブロワーで吸引し、分級機3で分級し、平均 径の異なる2種の粉末を得、そのうち平均粒 の小さな粉末を捕集機4へ導いた。他方、ブ ロワーで吸引されずに自然落下した粉末を回 収装置10で回収した。このようにして得られ 平均粒径の異なる3種の回収球状シリカ粉末 、すなわち炉体下部からの捕集品(以下、「 体下部捕集品」ともいう。)と、サイクロン らの捕集品(以下、「サイクロン捕集品」と もいう。)と、バグフィルターからの捕集品( 下、「バグ捕集品」ともいう。)とを、捕集 タンク5にそれぞれ捕集した。これらの回収 状シリカ粉末について、平均粒径、平均球 度、+100μmの数及び+45μmの数を測定した。そ らの結果を表4に示す。

<一次処理された回収粉末の製造>
 得られた回収粉末のうち、サイクロン捕集 を磁選機6の上方から供給し下方に排出して 異物の除去を行い、一次処理された回収粉末 を製造した。なお、キャリアガスとして空気 を用い、サイクロン捕集品の供給量を270kg/hr した。一次処理された回収粉末の平均粒径 平均球形度、+100μmの数及び+45μmの数を表5 示す。

<スラリー調製>
 得られた一次処理された回収粉末及び5質量 %エタノール水溶液をステンレス製スラリー 製槽7に所定量入れ、スクリュー式攪拌混合 にかけて混合し、固形分濃度が35質量%、比 1.24のスラリーを調製した。

<二次処理された回収粉末の製造>
 得られたスラリーを異物除去装置8で処理し 、二次処理された回収粉末を製造し、スラリ ー受け槽14で受けた。異物除去装置8としては 、磁選機(日本マグネティックス株式会社製 品名「CSC-250X」)を用いた。なお、磁選面流 をフィード量162L/H・m 2 にし、下方から上方に垂直方向にスラリーを 通過させた(図2参照)。その後、低温減圧乾燥 機(中央化工機株式会社製商品名「振動乾燥 VH-25型」)で、温度120℃、真空度150Torr、120分 の乾燥を行った。平均粒径、平均球形度、+ 100μmの数及び+45μmの数を表5に示す。

〔実施例7~9〕
 異物除去装置8へのスラリーの磁選面流量を 表6に示すように種々変更した以外は、実施 6と同様にして二次処理された回収粉末を製 した。それらの結果を表6に示す。実施例6~9 により、磁選面流量を160~330L/H・m 2 にすると、粒径45μm以上の異物の個数をより なくすることができることがわかった。

〔実施例10〕
 スラリーを異物除去装置8に通過させてから 、更に多層フィルターを通過させた後、乾燥 したこと以外は実施例6と同様にした。多層 ィルターとしては、直径200mmの円筒缶に目開 き69μmのフィルター8枚を重ねた多層フィルタ ーものを用いた。その結果を表7に示す。実 例10では、着磁性異物以外に、非着磁性金属 線(SUS製、長さ1mm)を2本除去することができた 。

〔実施例11〕
 スラリーを異物除去装置8に通さずに多層フ ィルターに通過させたこと以外は、実施例10 同様にした。その結果を表8に示す。多層フ ィルターは実施例10で用いたのと同様である 実施例6と実施例11の対比から、一次処理さ た回収粉末をスラリーにして磁選機を通す とにより、45μm以上の異物の個数をより少 くすることができることがわかった。

〔実施例12〕
 スラリー調製用溶媒として5質量%エタノー 水溶液の代わりに純水を用いたこと以外は 施例6と同様にした。その結果を表9に示す。 実施例6と実施例12の対比から、スラリーに純 水を用いても、異物除去効果が同等であるこ とがわかった。但し、水スラリーの場合、二 次処理された回収粉末の乾燥時間が10分長く った。

〔実施例13、14〕
 サイクロン捕集品の代わりに、炉体下部捕 品(実施例13)又はバグ捕集品(実施例14)を用 たこと以外は、実施例6と同様にして一次処 し、スラリーを調整し、二次処理した。そ らの結果を表10に示す。実施例6、13、14の結 果から、平均粒径が大きい粒子を用いた方が 、平均粒径が小さい粒子を用いた場合に比べ て、粒径45μm以上の異物の個数をより少なく ることができることがわかった。

〔実施例15〕
実施例15-1
 実施例6で製造された二次処理された回収粉 末100質量部と、実施例6の捕集タンクで捕集 れたバグ捕集品10質量部とを混合した。
実施例15-2
 一方、実施例6の捕集タンクで捕集されたサ イクロン捕集品100質量部とバグ捕集品10質量 との混合粉体を用いて、実施例6と同様にし て二次処理された回収粉末を製造した。
 平均粒径、平均球形度、+100μmの数及び+45μm の数を、それぞれ測定した。結果を表11に示 。

 両者の対比から、平均粒径の大きい粉体( サイクロン捕集品)のみ二次処理した回収粉 を製造しておき、これに微粉(バグ捕集品)を 混合した粉体(実施例15-1)は、平均粒径の大き い粉体(サイクロン捕集品)と微粉(バグ捕集品 )とを混合して得られた粉体を一次処理し、 いでスラリーにして二次処理を行って製造 た粉体(実施例15-2)よりも、粒径45μm以上の異 物の個数が少なくなることがわかった。

〔実施例16〕
 サイクロン捕集品を磁選機6に供給すること なく、スラリー調整槽7でスラリーを調製し こと以外は、実施例6と同様にして球状シリ 粉末を製造した。その結果を表12に示す。 施例6と実施例16との対比から、スラリー調 後の磁選機による異物除去により、45μm以上 の異物の個数をより少なくすることができる ことがわかった。

<粒径100μm以上の着磁性異物の量の測定>
スケール付きマイクロスコープ(Hirox製KH-3000 デル)を用いて、フィルターの全領域にマイ ロスコープを倍率100倍で移動させて、フィ ター上の粒径45μm~100μmと100μm以上の着磁性 物の数を測定した。
<粒径45μm以上の着磁性異物の量の測定>
 球状シリカ粉末中に含まれる粒径45μm以上 着磁性異物の量を、以下の方法により測定 た。
(a)磁石
 磁石として、図4に示す構造の磁石を準備し た。この磁石は、直径25mm、長さ150mmの円筒状 カバー31の内部に、図示されるような配置で 長さ20mmの円柱状磁石片32が、厚み1mmのスペ サ33を介して固定されている。円筒状カバ は、SUS316製であった。磁石の磁束密度は、10 000ガウスであった。

(b)磁性体の準備
 次に、袋状のゴム製被膜(ラテックス(天然 ム)、長さ180mm、直径25mm)を磁石に密着して被 覆した。この際、まず、袋状のゴム製被膜の 内部に脱イオン水を8割ほど注入し、ゴム製 膜を円筒状に膨らませて安定化し、その中 磁石を先端から110mm挿入した。内部の脱イオ ン水を除去した後、ゴム製被膜を被着した状 態で、マイクロスコープ(Hirox製KH-3000モデル) 磁石に被着したゴム製被膜の厚みを測定し 。被着時のゴム製被膜の厚みは、0.02mmであ た。このようにゴム製被膜を被着した磁石 、以降、単に被着磁石という。

(c)操作
 被着磁石をスラリー中に挿入し、撹拌装置 より、回転数550rpmで1分間スラリーを攪拌し た。攪拌は、5秒毎に回転方向が逆になるよ にして行った。操作は25℃で行った。

 着磁性粒子の付着した被着磁石をスラリ から取り出し、空のビーカーの上方に移動 、脱イオン水でゴム製被膜を洗浄して該ビ カー内に着磁性粒子を落とし入れた。その 、被着磁石を別の空のビーカー内に入れ、 ム製被膜と磁性体との間に脱イオン水を注 し、被着磁石からゴム製被膜を脱着した。 の容器内で、脱イオン水の入ったゴム製被 の表面を脱イオン水で洗浄して、ゴム製被 から着磁性粒子を脱離させた。容器からゴ 製被膜を取り出した後、脱イオン水を該容 に注入し、全体として500mLの分散液とした また残ったスラリーを保管した。

 得られた分散液を、直径25mmのナイロンフ ィルター(目開き35μm)を装着した吸引ろ過装 によりろ過し、そのナイロンフィルター上 着磁性粒子を収集した。得られたナイロン ィルターを、マイクロスコープ(Hirox製KH-3000 デル)にセットし、100倍の倍率にてフィルタ ー全領域を移動させながら、ナイロンフィル ター上に収集された着磁性粒子の粒径別個数 を計測した。結果を表1から4に示す。

(d)着磁性異物の回収確認
 残ったスラリーを、再度上記操作(c)に従っ 洗浄及びろ過したところ、回収された着磁 子の個数は0個であった。更に同じ操作を3 繰り返して、残存している着磁物の回収を みたが、回収された着磁物はいずれも0個で った。これにより、スラリー中に含まれる 磁性粒子は全て回収し、計測に供したこと 確認した。

<非着磁性異物の量の測定>
フィルター上の非着磁性異物の大きさと数を 目視により確認した。
<平均粒径及び平均球形度の測定>
 平均粒径はレーザー回折式粒度分布測定器( シーラス社製、シーラス・グラニュロメータ ー/モデル920)により測定した。試料0.35gを秤 り、イオン交換水100mLの入った100mLビーカー 投入する。分散効果向上のためエタノール1 滴を加えて、超音波を180秒照射することによ り試料を分散させて、試料の粒度分布を測定 した。

 平均球形度は、フロー式粒子像分析装置(SYS MEX社製FPIA3000)で対象粒子の投影面積及び投影 周囲長を測定し、以下の式を用いて計算する ことにより求めた。試料10gを200mLビーカーに 取り、イオン交換水150mLを加えた。超音波 3分間照射することにより試料を分散させ、J IS篩45μmで篩い分け篩い上の試料を測定サン ルとした。篩い上より0.02~0.03gの測定サンプ を分取して20mLガラス容器に投入し、25質量% プロピレングリコール水溶液5mLを加えて、フ ロー式粒子像分析装置で対象粒子の投影面積 及び投影周囲長を測定した。

 平均球形度={(対象粒子の投影面積)*4π)} 2 /(対象粒子の投影周囲長) 2

 本発明の方法で製造された球状金属酸化 粉末は、半導体封止材の充填材、基板、電 材料等として使用することができる。さら は、更なる異物を除去した球状金属酸化物 末を製造するための原料として使用するこ ができる。

本発明の球状金属酸化物粉末の製造方 の概略説明図 スラリー調製槽7と接続されている異物 除去装置8の概略説明図 実施例で使用した多段式永久磁石の概 を示す。 実施例で使用した棒磁石の断面図(a)及 斜視図(b)を示す。

符号の説明

1 原料タンク
2 炉体
3 分級機
4 捕集機
5 捕集タンク
6 磁選機
7 スラリー調製槽
8 異物除去装置
9、11、12、13 異物除去装置
10 回収装置
14 スラリー受け槽
20 外筒
21 永久磁石
22 磁石抜き出し部
31 円筒状カバー
32 円柱状磁石片
33 スペーサ