Title:
PROCESS FOR SYNTHESIS OF ACROLEIN
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2011/099112
Kind Code:
A1
Abstract:
Provided is a technique for a process for the synthesis of acrolein by reacting glycerol with supercritical water and an acid. In a case where a reaction fluid having a high glycerol concentration is employed to improve the energy efficiency, the technique makes it possible to protect pipes and devices from clogging and wear, which are caused by the generation of by-products, and thus enables the synthesis to proceed stably with high yield. In an embodiment of the technique, the reaction fluid is adjusted to a glycerol concentration of 30wt% or less. Further, the embodiment comprises: cooling the reaction fluid to a temperature that can stop the reaction and that can keep the tar contained in the reaction fluid at a sufficiently low viscosity, namely, a temperature of 100 to 300°C; separating and removing carbon particles from the reaction fluid thus cooled; cooling the resulting reaction fluid to a temperature which is not higher than the boiling point of water and at which the tar contained in the reaction fluid does not stick to devices; and then evacuating the resulting system.
Inventors:
KONDO Takeyuki (Hitachi Ltd., 2-1, Omikacho 7-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 21, 〒3191221, JP)
近藤健之 (〒21 茨城県日立市大みか町七丁目２番１号 株式会社日立製作所 エネルギー・環境システム研究所内 Ibaraki, 〒3191221, JP)
ITO Hiroyuki (Ltd. 5-2 Higashi-Ikebukuro 4-chome, Toshima-k, Tokyo 66, 〒1708466, JP)
伊藤博之 (〒66 東京都豊島区東池袋四丁目５番２号 株式会社日立プラントテクノロジー内 Tokyo, 〒1708466, JP)
SASE Yasunari (Ltd. 5-2 Higashi-Ikebukuro 4-chome, Toshima-k, Tokyo 66, 〒1708466, JP)
佐世康成 (〒66 東京都豊島区東池袋四丁目５番２号 株式会社日立プラントテクノロジー内 Tokyo, 〒1708466, JP)
MATSUO Toshiaki (Hitachi Ltd., 2-1, Omikacho 7-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 21, 〒3191221, JP)
近藤健之 (〒21 茨城県日立市大みか町七丁目２番１号 株式会社日立製作所 エネルギー・環境システム研究所内 Ibaraki, 〒3191221, JP)
ITO Hiroyuki (Ltd. 5-2 Higashi-Ikebukuro 4-chome, Toshima-k, Tokyo 66, 〒1708466, JP)
伊藤博之 (〒66 東京都豊島区東池袋四丁目５番２号 株式会社日立プラントテクノロジー内 Tokyo, 〒1708466, JP)
SASE Yasunari (Ltd. 5-2 Higashi-Ikebukuro 4-chome, Toshima-k, Tokyo 66, 〒1708466, JP)
佐世康成 (〒66 東京都豊島区東池袋四丁目５番２号 株式会社日立プラントテクノロジー内 Tokyo, 〒1708466, JP)
MATSUO Toshiaki (Hitachi Ltd., 2-1, Omikacho 7-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 21, 〒3191221, JP)
Application Number:
JP2010/051846
Publication Date:
August 18, 2011
Filing Date:
February 09, 2010
Export Citation:
Assignee:
HITACHI PLANT TECHNOLOGIES, LTD. (5-2 Higashi-Ikebukuro 4-chome, Toshima-ku Tokyo, 66, 〒1708466, JP)
株式会社日立プラントテクノロジー (〒66 東京都豊島区東池袋四丁目５番２号 Tokyo, 〒1708466, JP)
KONDO Takeyuki (Hitachi Ltd., 2-1, Omikacho 7-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 21, 〒3191221, JP)
近藤健之 (〒21 茨城県日立市大みか町七丁目２番１号 株式会社日立製作所 エネルギー・環境システム研究所内 Ibaraki, 〒3191221, JP)
ITO Hiroyuki (Ltd. 5-2 Higashi-Ikebukuro 4-chome, Toshima-k, Tokyo 66, 〒1708466, JP)
伊藤博之 (〒66 東京都豊島区東池袋四丁目５番２号 株式会社日立プラントテクノロジー内 Tokyo, 〒1708466, JP)
SASE Yasunari (Ltd. 5-2 Higashi-Ikebukuro 4-chome, Toshima-k, Tokyo 66, 〒1708466, JP)
佐世康成 (〒66 東京都豊島区東池袋四丁目５番２号 株式会社日立プラントテクノロジー内 Tokyo, 〒1708466, JP)
株式会社日立プラントテクノロジー (〒66 東京都豊島区東池袋四丁目５番２号 Tokyo, 〒1708466, JP)
KONDO Takeyuki (Hitachi Ltd., 2-1, Omikacho 7-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 21, 〒3191221, JP)
近藤健之 (〒21 茨城県日立市大みか町七丁目２番１号 株式会社日立製作所 エネルギー・環境システム研究所内 Ibaraki, 〒3191221, JP)
ITO Hiroyuki (Ltd. 5-2 Higashi-Ikebukuro 4-chome, Toshima-k, Tokyo 66, 〒1708466, JP)
伊藤博之 (〒66 東京都豊島区東池袋四丁目５番２号 株式会社日立プラントテクノロジー内 Tokyo, 〒1708466, JP)
SASE Yasunari (Ltd. 5-2 Higashi-Ikebukuro 4-chome, Toshima-k, Tokyo 66, 〒1708466, JP)
佐世康成 (〒66 東京都豊島区東池袋四丁目５番２号 株式会社日立プラントテクノロジー内 Tokyo, 〒1708466, JP)
International Classes:
C07C45/52; B01J3/00; C07C45/81; C07C47/22; C07C61/00
Attorney, Agent or Firm:
HIRAKI Yusuke (Kamiya-cho MT Bldg. 19F, 3-20 Toranomon 4-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1050001, JP)
Claims:
Previous Patent: LENS DRIVER DEVICE, PROJECTION TYPE DISPLAY DEVICE, AND METHOD OF DRIVING LENS
Next Patent: DIFFERENTIAL AMPLIFIER CIRCUIT
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