Title:
RECTIFICATION CIRCUIT AND RADIO COMMUNICATION DEVICE USING THE SAME
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2007/148401
Kind Code:
A1
Abstract:
When a demodulation circuit is connected in parallel to the input of a radio tag multi-stage
rectification circuit, the rectification circuit is affected by the impedance
of the demodulation circuit to increase the minimum input power for generating
a predetermined power voltage and the communication distance between a radio
tag and a reader/writer device is shortened. In order to solve this problem, the
demodulation circuit is connected at an intermediate stage of the multi-stage
rectification circuit so as to reduce the affect of the impedance of the demodulation
circuit and enable generation of a predetermined power supply voltage even if
the communication distance between the radio tag and the reader/writer device
is large and the input power to the radio tag is small.
Inventors:
OGAWA, Takashi (LTD. Central Research Laboratory 280 Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 1858601, JP)
小川 貴史 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地株式会社 日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 1858601, JP)
TAKIKAWA, Kumiko (LTD. Central Research Laboratory 280 Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 1858601, JP)
瀧川 久美子 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地株式会社 日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 1858601, JP)
TANAKA, Satoshi (LTD. Central Research Laboratory 280 Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 1858601, JP)
小川 貴史 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地株式会社 日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 1858601, JP)
TAKIKAWA, Kumiko (LTD. Central Research Laboratory 280 Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 1858601, JP)
瀧川 久美子 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地株式会社 日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 1858601, JP)
TANAKA, Satoshi (LTD. Central Research Laboratory 280 Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 1858601, JP)
Application Number:
JP2006/312530
Publication Date:
December 27, 2007
Filing Date:
June 22, 2006
Export Citation:
Assignee:
HITACHI, LTD. (6-6 Marunouchi, 1-chome Chiyoda-k, Tokyo 80, 1008280, JP)
株式会社日立製作所 (〒80 東京都千代田区丸の内一丁目6番6号 Tokyo, 1008280, JP)
OGAWA, Takashi (LTD. Central Research Laboratory 280 Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 1858601, JP)
小川 貴史 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地株式会社 日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 1858601, JP)
TAKIKAWA, Kumiko (LTD. Central Research Laboratory 280 Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 1858601, JP)
瀧川 久美子 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地株式会社 日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 1858601, JP)
株式会社日立製作所 (〒80 東京都千代田区丸の内一丁目6番6号 Tokyo, 1008280, JP)
OGAWA, Takashi (LTD. Central Research Laboratory 280 Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 1858601, JP)
小川 貴史 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地株式会社 日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 1858601, JP)
TAKIKAWA, Kumiko (LTD. Central Research Laboratory 280 Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 1858601, JP)
瀧川 久美子 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地株式会社 日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 1858601, JP)
International Classes:
H02J17/00; G06K19/07; H02M7/10; H04B1/18; H04B1/59
Attorney, Agent or Firm:
NITTO INTERNATIONAL PATENT OFFICE P.P.C. (No.17 Arai Building, 3-3 Shinkawa 1-chome,Chuo-k, Tokyo 33, 1040033, JP)
Previous Patent: RESIN-SEALED MODULE, OPTICAL MODULE AND METHOD OF RESIN SEALING
Next Patent: APPARATUS FOR TREATING WASTE POLYMER
Next Patent: APPARATUS FOR TREATING WASTE POLYMER
