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Title:
RESIN COMPOSITION FOR PRODUCTION OF CLAD LAYER, RESIN FILM FOR PRODUCTION OF CLAD LAYER UTILIZING THE RESIN COMPOSITION, AND OPTICAL WAVEGUIDE AND OPTICAL MODULE EACH UTILIZING THE RESIN COMPOSITION OR THE RESIN FILM
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2009/093679
Kind Code:
A1
Abstract:
Disclosed are: a resin composition for the production of a clad layer having excellent bending durability and twisting durability; a resin film for the production of a clad layer; and an optical waveguide and an optical module each produced by using the resin composition or the resin film. Specifically disclosed are: a resin composition for the production of a clad layer for an optical waveguide, which comprises (A) a (meth)acrylic polymer having a weight average molecular weight of more than 100,000, (B) urethane (meth)acrylate and (D) a radical polymerization initiator; a resin film for the production of a clad layer; and an optical waveguide and an optical module each produced by using the resin composition or the resin film.

Inventors:
OCHIAI, Masami (48, Wadai, Tsukuba-sh, Ibaraki 47, 3004247, JP)
落合 雅美 (〒47 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 3004247, JP)
MAKINO, Tatsuya (48, Wadai, Tsukuba-sh, Ibaraki 47, 3004247, JP)
牧野 竜也 (〒47 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 3004247, JP)
Application Number:
JP2009/051050
Publication Date:
July 30, 2009
Filing Date:
January 23, 2009
Export Citation:
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Assignee:
HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. (1-1 Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku Tokyo, 49, 1630449, JP)
日立化成工業株式会社 (〒49 東京都新宿区西新宿二丁目1番1号 Tokyo, 1630449, JP)
OCHIAI, Masami (48, Wadai, Tsukuba-sh, Ibaraki 47, 3004247, JP)
落合 雅美 (〒47 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式会社内 Ibaraki, 3004247, JP)
MAKINO, Tatsuya (48, Wadai, Tsukuba-sh, Ibaraki 47, 3004247, JP)
International Classes:
G02B6/12; C08F290/06
Attorney, Agent or Firm:
OHTANI, Tamotsu (OHTANI PATENT OFFICE, Bridgestone Toranomon Bldg.6F. 25-2, Toranomon 3-chome, Minato-k, Tokyo 01, 1050001, JP)
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Claims:
 (A)重量平均分子量が10万超である(メタ)アクリルポリマー、(B)ウレタン(メタ)アクリレート、及び(D)ラジカル重合開始剤を含有する光導波路のクラッド層形成用樹脂組成物。
 (C)分子中にウレタン結合を有しない(メタ)アクリレートをさらに含有する、請求項1に記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 (C)(メタ)アクリレートが、分子中にカルボキシル基を含有する(メタ)アクリレートを含む、請求項2に記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 (E)硬化促進剤を含有する、請求項3に記載の光導波路のクラッド層形成用樹脂組成物。
 (A)重量平均分子量が10万超である(メタ)アクリルポリマーが、反応性官能基を有することを特徴とする請求項1~4に記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 (A)重量平均分子量が10万超である(メタ)アクリルポリマーが、エポキシ基含有繰り返し単位を0.5~20質量%含有するエポキシ基含有(メタ)アクリルポリマーである請求項1~5のいずれかに記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 (A)重量平均分子量が10万超である(メタ)アクリルポリマーが、(メタ)アクリロイル基含有繰り返し単位を0.5~20質量%含有するアクリロイル基含有(メタ)アクリルポリマーである請求項1~6のいずれかに記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 (B)ウレタン(メタ)アクリレートが、水酸基含有(メタ)アクリレートとポリイソシアネートとの反応により得られてなるものである、請求項1~7のいずれかに記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 前記(A)重量平均分子量が10万超である(メタ)アクリルポリマー100質量部に対して、(B)成分及び(C)成分の配合量の総量が10~200質量部であり、(B)成分と(C)成分の配合量が、(B)100質量部に対して、(C)0~500質量部であり、(D)ラジカル重合開始剤の配合量が(A)成分、(B)成分及び(C)成分の総量100質量部に対して、0.1~10質量部である、請求項1~8に記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 (E)硬化促進剤の配合量が、(A)成分、(B)成分及び(C)成分の総量100質量部に対して、0.1~10質量部である、請求項4に記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 前記クラッド層形成用樹脂組成物を硬化してなる硬化フィルムの、25℃での引張り弾性率が1~2000MPaである請求項1~10のいずれかに記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 前記クラッド層形成用樹脂組成物を硬化してなる硬化フィルムの、25℃での引張り破断伸び率が10~600%である請求項1~11のいずれかに記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 前記クラッド層形成用樹脂組成物を硬化してなる硬化フィルムの、ヘイズ(雲価)が30%以下である請求項1~12のいずれかに記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 前記クラッド層形成用樹脂組成物を硬化してなる硬化フィルムの、曲げ半径2mmの折り曲げ式屈曲耐久試験を10万回実施後、破断のない請求項1~13のいずれかに記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 前記クラッド層形成用樹脂組成物を硬化してなる硬化フィルムの、捻回耐久試験を10万回実施後、破断のない請求項1~14のいずれかに記載のクラッド層形成用樹脂組成物。
 前記クラッド層形成用樹脂組成物を硬化してなる硬化フィルムの、曲げ半径1.5又は2mmのスライド式屈曲耐久試験を10万回実施後、破断のない請求項1~15のいずれかに記載のクラッド層形成用樹脂組成物
 請求項1~16のいずれかに記載のクラッド層形成用樹脂組成物を用いたクラッド層形成用樹脂フィルム。
 請求項1~17のいずれかに記載のクラッド層形成用樹脂組成物により、下部クラッド層と上部クラッド層のうち少なくとも一方の層が形成された光導波路。
 請求項17に記載のクラッド層形成用樹脂フィルムにより、下部クラッド層と上部クラッド層のうち少なくとも一方の層が形成された光導波路。
 前記光導波路の下部クラッド層と上部クラッド層の間に、両クラッド層よりも屈折率の高い感光性樹脂組成物によりコア部が形成され、コア部とクラッド層との比屈折率差が1~10%である請求項18又は19に記載の光導波路。
 請求項18~20のいずれかに記載の光導波路を用いた光モジュール。
Description:
クラッド層形成用樹脂組成物お びこれを用いたクラッド層形成用樹脂フィ ム、これらを用いた光導波路ならびに光モ ュール

 本発明は、クラッド層形成用樹脂組成物 よびクラッド層形成用樹脂フィルムそれら 用いた光導波路ならびに光モジュールに関 る。

 電子素子間や配線基板間の高速・高密度信 伝送において、従来の電気配線による伝送 は、信号の相互干渉や減衰が障壁となり、 速・高密度化の限界が見え始めている。こ を打ち破るため電子素子間や配線基板間を で接続する技術、いわゆる光インタコネク ョンが検討されている。
 機器内部や機器間などの短距離で光信号を 送するためには、フレキシブルなフィルム 導波路が望まれている。特に、携帯用小型 器の内部に光導波路を配線する場合には、 スペース化のために部品表面を這わせるよ にして配線する場合も多く、小さな曲率半 で屈曲可能な、ポリマーフィルム光導波路 求められている。
 フレキシブル光導波路の屈曲性、あるいは 状復元する際の界面における追従性を向上 せるために、低弾性率材料を用いた光導波 の開発がなされている。例えば、特許文献1 では、硬化後の曲げ弾性率が1000MPa以下のエ ストマーを光導波路のクラッド層に用いる とにより屈曲性が向上することが記載され いる。また、特許文献2では、曲げ弾性率が1 000MPa以下で前駆体の官能基に水素結合基を含 む樹脂を介して、クラッド層どうしが接合さ れたフィルム光導波路により屈曲あるいは形 状復元する際の界面における追従性が向上す ること、特に曲げ弾性率200MPaのエラストマー を上クラッド層及び下クラッド層の材料とし て用い、これらクラッド層どうしを曲げ弾性 率が1000MPa以下で前駆体の官能基に水素結合 を含む樹脂を介して接合したフィルム光導 路を携帯電話のヒンジ部に用いた場合、曲 半径1mmまで屈曲させることができ、20万回繰 り返し屈曲させても界面の剥離が起こらない ことが記載されている。しかしながら、特許 文献1及び2では、スタンパを用いて光導波路 作製していることから、設計の自由度が低 、設計の変更がし難しいこという欠点があ 、屈曲耐久性に関しても十分な検討がなさ ていない。
 また、特許文献3においては、(メタ)アクリ ポリマーとウレタン(メタ)アクリレート化 物を含む感光性樹脂組成物を用い、伝搬損 が0.5dB/cm以下で屈曲抵抗性に優れるフィルム 型光導波路が提案されている。特許文献3で 、(メタ)アクリルポリマーに関しては、「重 量平均分子量が100,000を超えると組成物の粘 が大きくなり、溶工性が悪くなる等の欠点 ある」と記載され、実施例では重量平均分 量が18,000~35,500のものを用いており、屈曲抵 性に関しては、半径2mmの金属棒に巻きつけ 時の光導波路のクラックまたは破断の有無 評価しており、屈曲耐久性に関しての検討 なされていない。携帯電話のヒンジ部に用 る場合には、屈曲耐久性に加えて捻回耐久 が要求される場合もあるが、従来、捻回耐 性に関しての検討はなされてはおらず、屈 耐久性及び捻回耐久性の要求を満たすもの なかった。

特許第3906870号明細書

特許第3870976号明細書

特開2007-122023号公報

 本発明は、上記した従来技術の問題に鑑 、屈曲耐久性、捻回耐久性に優れるクラッ 層形成用樹脂組成物、およびクラッド層形 用樹脂フィルム、これらを用いて作製した 導波路ならびに光モジュールを提供するこ を目的とする。

 本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、(A)重 平均分子量が10万超である(メタ)アクリルポ リマー、(B)ウレタン(メタ)アクリレート、及 (D)ラジカル重合開始剤を含有するクラッド 形成用樹脂組成物を用いて光導波路を製造 ることにより、上記問題を解決することが きることを見出した。
 すなわち、本発明は、(A)重量平均分子量が1 0万超である(メタ)アクリルポリマー、(B)ウレ タン(メタ)アクリレート、及び(D)ラジカル重 開始剤を含有する光導波路のクラッド層形 用樹脂組成物、該クラッド層形成用樹脂組 物を用いたクラッド層形成用樹脂フィルム 下部クラッド層と上部クラッド層のうち、 なくとも1つを該クラッド層形成用樹脂組成 物、又は該クラッド層形成用樹脂フィルムを 用いて形成した光導波路、ならびに該光導波 路を用いた光モジュールを提供するものであ る。

 本発明によれば、屈曲耐久性、捻回耐久 に優れるクラッド層形成用樹脂組成物、お びクラッド層形成用樹脂フィルム、これら 用いて作製した光導波路ならびに光モジュ ルを提供することができる。

本発明の光導波路の形態を説明する断 図である。 スライド式屈曲耐久試験実施時におけ 、本発明のクラッド層形成用樹脂組成物の 化フィルム又は本発明の光導波路の形態を 明する断面図である。

符号の説明

1.光導波路
2.コア部
3.上部クラッド層(第2のクラッド層)
4.下部クラッド層(第1のクラッド層)
5.基材
6.クラッド層形成用樹脂組成物の硬化フィル
7.屈曲軸(仮想軸)

 以下において、本発明をさらに詳しく説明 る。
 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物とし は、(A)重量平均分子量が10万超である(メタ) アクリルポリマー、(B)ウレタン(メタ)アクリ ート、及び(D)ラジカル重合開始剤を含有し なるものである。以下、(A)成分を(A)(メタ) クリルポリマーと略記することがある。
 以下、各成分についてより具体的に説明す 。

 本発明の(A)成分における(メタ)アクリル リマーとは、アクリル酸、アクリル酸エス ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル 及びこれらの誘導体を単量体とし、これを 合してなるポリマーをいう。該(メタ)アクリ ルポリマーは、上記単量体の単独重合体であ ってもよいし、また、これらのモノマーの2 以上を重合させた共重合体であってもよい さらには、本発明の効果を阻害しない範囲 、上記のモノマーと、上記以外のモノマー を含む共重合体であってもよい。また、複 の(メタ)アクリルポリマーの混合物であって もよい。

 (A)(メタ)アクリルポリマーの重量平均分 量は、10万超であるが、10万超かつ300万以下 あることが好ましく、10万超かつ200万以下 あることがさらに好ましく、10万超かつ150万 以下であることが特に好ましい。重量平均分 子量が10万超であれば、シート状、フィルム での強度や可とう性が充分に得られ、タッ 性が増大することがない。一方、300万以下 あれば、ウレタン(メタ)アクリレート等と 相溶性が良好であり、さらにフロー性が十 でコア埋め込み性が低下することがない。 お、本発明において、重量平均分子量とは ゲルパーミュエーションクロマトグラフィ で測定し、標準ポリスチレン検量線を用い 換算した値を示す。

 (A)重量平均分子量が10万超である(メタ)ア クリルポリマーとしては、反応性官能基を有 することが好ましい。反応性官能基としては 、例えば、エポキシ基、カルボキシル基、水 酸基、エピスルフィド基、アルデヒド基、エ ポキシ基、アミド基、ビニル基、アミノ基、 イソシアネ-ト基、(メタ)アクリロイル基又は アリル基などの官能基が好ましく挙げられる 。中でも架橋性の点でエポキシ基又は(メタ) クリロイル基が好ましい。具体的には、原 モノマーとしてエチレン性不飽和エポキシ を含有し、かつ重量平均分子量が10万超で るエポキシ基含有(メタ)アクリルポリマー、 又は前記ポリマーのエポキシ基に(メタ)アク ル酸を反応させて得られる、重量平均分子 が10万超である(メタ)アクリル基含有(メタ) クリルポリマーを挙げることができる。

 このような(メタ)アクリルポリマーとして 、例えば、(メタ)アクリルエステル共重合体 、アクリルゴムなどを使用することができ、 アクリルゴムがより好ましい。アクリルゴム は、アクリル酸エステルを主成分とし、主と して、ブチルアクリレートとアクリロニトリ ルなどの共重合体や、エチルアクリレートと アクリロニトリルなどの共重合体などからな るゴムである。
 共重合体モノマーとしては、例えば、ブチ (メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリ レート、エチル(メタ)アクリレート、メチル( メタ)アクリレート、アクリロニトリル等を げることができる。

 反応性官能基としてエポキシ基を選択する 合、共重合体モノマー成分としてエチレン 不飽和エポキシドを使用することが好まし 。
 エチレン性不飽和エポキシドとしては、特 制限はなく、例えば、グリシジル(メタ)ア リレート、α-エチルグリシジル(メタ)アクリ レート、α-プロピルグリシジル(メタ)アクリ ート、α-ブチルグリシジル(メタ)アクリレ ト、2-メチルグリシジル(メタ)アクリレート 2-エチルグリシジル(メタ)アクリレート、2- ロピルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4- ポキシブチル(メタ)アクリレート、3,4-エポ シヘプチル(メタ)アクリレート、α-エチル-6 ,7-エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、o- ニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニル ベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベン ルグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロ ヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3,4-エポ キシシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレー 、3,4-エポキシシクロヘキシルプロピル(メ )アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシル ブチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる この中で、透明性及び耐熱性の観点から、 リシジル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシ チル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシク ヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3,4-エ キシシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレ トが好ましい。
 このようなエポキシ基含有(メタ)アクリル リマーは、上記モノマーから適宜モノマー 選択して製造することもできるし、市販品( えばナガセケムテックス株式会社製HTR-860P-3 、HTR-860P-5等)もある。

 (A)重量平均分子量が10万超である(メタ)ア クリルポリマーにおいて、反応性官能基の数 は架橋密度に影響するため、用いる樹脂によ っても異なるが、(メタ)アクリルポリマーを 数のモノマーの共重合体として得る場合は 原料として使用する反応性官能基含有モノ ーの量としては、共重合体の0.5~20質量%含ま れることが好ましい。

 (A)成分としてエポキシ基含有(メタ)アク ルポリマーを使用する場合、原料として使 するエチレン性不飽和エポキシドの量は、 重合体の0.5~20質量%が好ましく、0.5~18質量%が より好ましく、0.8~15質量%が特に好ましい。 ポキシ基含有繰り返し単位の量がこの範囲 あると、エポキシ基の緩やかな架橋が起こ ため、折り曲げ式屈曲耐久試験、捻回耐久 験及びスライド式屈曲耐久試験などに耐え れる適度な弾性率の硬化フィルムを得るこ ができる。

 エチレン性不飽和エポキシドに他の官能基 組み込んでモノマーとすることもできる。
その場合の混合比率は、エポキシ基含有(メ )アクリルポリマーのガラス転移温度(以下「 Tg」という)を考慮して決定し、Tgは-30℃以上 あることが好ましい。Tgが-30℃以上である 、クラッド層形成用樹脂フィルムのタック が適当であり、取り扱い性に問題を生じな からである。

 (A)重量平均分子量が10万超である(メタ)ア クリルポリマーとして、上記モノマーを重合 させて、エポキシ基含有(メタ)アクリルポリ ーを使用する場合、その重合方法としては に制限はなく、例えば、パール重合、溶液 合などの方法を使用することができる。

 (A)成分として(メタ)アクリロイル基含有(メ )アクリルポリマーの製造方法としては、例 えば上記エポキシ基含有(メタ)アクリルポリ ーの側鎖のエポキシ基に対して、エチレン 不飽和カルボン酸を付加させる方法が挙げ れる。
 エチレン性不飽和カルボン酸としては、例 ば(メタ)アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮 、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、 サコン酸、イタコン酸、モノ(2-(メタ)アクリ ロイルオキシエチル)スクシネート、モノ(2-( タ)アクリロイルオキシエチル)フタレート モノ(2-(メタ)アクリロイルオキシエチル)イ フタレート、モノ(2-(メタ)アクリロイルオキ シエチル)テレフタレート、モノ(2-(メタ)アク リロイルオキシエチル)テトラヒドロフタレ ト、モノ(2-(メタ)アクリロイルオキシエチル )ヘキサヒドロフタレート、モノ(2-(メタ)アク リロイルオキシエチル)ヘキサヒドロイソフ レート、モノ(2-(メタ)アクリロイルオキシエ チル)ヘキサヒドロテレフタレート、ω-カル キシ-ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリ ート、o-ビニル安息香酸、m-ビニル安息香酸 p-ビニル安息香酸などのエチレン性不飽和 ルボン酸が挙げられる。この中で、合成の 易性、架橋性の観点から、(メタ)アクリル酸 が好ましい。
 (A)成分中の(メタ)アクリル基の含有率は、0. 5~20質量%が好ましく、0.5~18質量%がより好まし く、0.8~15質量%が特に好ましい。(メタ)アクリ ロイル基含有繰り返し単位の量がこの範囲に あると、エポキシ基の緩やかな架橋が起こる ため、折り曲げ式屈曲耐久試験、捻回耐久試 験及びスライド式屈曲耐久試験などに耐えら れる適度な弾性率の硬化フィルムを得ること ができる。

 本発明において、(B)ウレタン(メタ)アクリ ートとしては、特に制限はなく、例えば水 基含有(メタ)アクリレートとポリイソシアネ ートとの反応もしくは水酸基含有(メタ)アク レート、ポリイソシアネートおよびポリオ ルの反応により得られる公知のウレタン(メ タ)アクリレートを用いることができる。(メ )アクリルポリマーとの相溶性の観点から、 水酸基含有(メタ)アクリレートとポリイソシ ネートとの反応により得られるウレタン(メ タ)アクリレートが好ましい。
 なお、ここで(メタ)アクリレートとは、ア リレート又はメタクリレートを示す。アク レートとはアクリロイル基を有する化合物 意味し、メタクリレートとはメタクリロイ 基を有する化合物を意味する。

 水酸基含有(メタ)アクリレートとポリイ シアネートとの反応で得られるウレタン(メ )アクリレートとしては、例えばヒドロキシ エチル(メタ)アクリレートと2,5-または2,6-ビ (イソシアネートメチル)-ビシクロ[2.2.1]ヘプ ンの反応生成物、ヒドロキシエチル(メタ) クリレートと2,4-トリレンジイソシアネート 反応生成物、ヒドロキシエチル(メタ)アク レートとイソフォロンジイソシアネートの 応生成物、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリ レートと2,4-トリレンジイソシアネートの反 生成物、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ ートとイソフォロンジイソシアネートの反応 生成物、フェニルグリシジルエーテル(メタ) クリレートとヘキサメチレンジイソシアネ トの反応生成物、フェニルグリシジルエー ルとトルエンジイソシアネートの反応生成 、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ ートとヘキサメチレンジイソシアネートの 応生成物、ペンタエリスリトールトリ(メタ) アクリレートとトルエンジイソシアネートの 反応生成物、ペンタエリスリトールトリ(メ )アクリレートとイソホロンジシソシアネー の反応生成物、ジペンタエリスリトールペ タ(メタ)アクリレートとヘキサメチレンジ ソシアネートの反応生成物等が挙げられる

 水酸基含有(メタ)アクリレートとポリイソ アネートとポリオールとの反応により得ら るウレタン(メタ)アクリレートを製造する際 に用いられるポリオールとしては、ポリエー テルジオール、ポリエステルジオール、ポリ カーボネートジオール、ポリカプロラクトン ジオールなどが挙げられる。
 ポリエーテルジオールには、脂肪族、脂環 、芳香族の種類がある。
 これらのポリオールは、単独でまたは二種 上を併用して用いることもできる。
 ポリオールとしてはジオール類とポリイソ アネートとの反応によって合成される2価以 上のポリオールも用いることができる。
 これらのポリオールにおける各構造単位の 合様式は特に制限されず、ランダム重合、 ロック重合、グラフト重合のいずれであっ もよい。

 脂肪族ポリエーテルジオールとしては、例 ばポリエチレングリコール、ポリプロピレ グリコール、ポリテトラメチレングリコー 、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘ タメチレングリコール、ポリデカメチレン リコールおよび二種以上のイオン重合性環 化合物を開環共重合させて得られるポリエ テルジオールなどが挙げられる。
 上記イオン重合性環状化合物としては、例 ばエチレンオキシド、プロピレンオキシド ブテン-1-オキシド、イソブテンオキシド、3 ,3-ビスクロロメチルオキセタン、テトラヒド ロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、3- チルテトラヒドロフラン、ジオキサン、ト オキサン、テトラオキサン、シクロヘキセ オキシド、スチレンオキシド、エピクロル ドリン、グリシジルメタクリレート、アリ グリシジルエーテル、アリルグリシジルカ ボネート、ブタジエンモノオキシド、イソ レンモノオキシド、ビニルオキセタン、ビ ルテトラヒドロフラン、ビニルシクロヘキ ンオキシド、フェニルグリシジルエーテル ブチルグリシジルエーテル、安息香酸グリ ジルエステルなどの環状エーテル類が挙げ れる。

 二種以上の上記イオン重合性環状化合物を 環共重合させて得られるポリエーテルジオ ルの具体例としては、例えばテトラヒドロ ランとプロピレンオキシド、テトラヒドロ ランと2-メチルテトラヒドロフラン、テト ヒドロフランと3-メチルテトラヒドロフラン 、テトラヒドロフランとエチレンオキシド、 プロピレンオキシドとエチレンオキシド、ブ テン-1-オキシドとエチレンオキシドなどの組 み合わせより得られる二元共重合体;テトラ ドロフラン、ブテン-1-オキシドおよびエチ ンオキシドの組み合わせより得られる三元 合体などを挙げることができる。
 また、上記イオン重合性環状化合物と、エ レンイミンなどの環状イミン類;β-プロピオ ラクトン、グリコール酸ラクチドなどの環状 ラクトン酸;あるいはジメチルシクロポリシ キサン類とを開環共重合させたポリエーテ ジオールを使用することもできる。
 脂環族ポリエーテルジオールとしては、例 ば水添ビスフェノールAのアルキレンオキシ ド付加ジオール、水添ビスフェノールFのア キレンオキシド付加ジオール、1,4-シクロヘ サンジオールのアルキレンオキシド付加ジ ールなどが挙げられる。

 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物にお て、必要に応じて、(C)分子中にウレタン結 を有しない(メタ)アクリレートを用いるこ ができる。以下、(C)成分を、(C)(メタ)アクリ レートと略記することがある。
 (C)(メタ)アクリレートとしては、特に制限 なく、例えば、単官能のもの、2官能のもの は3官能以上の多官能のものいずれも用いる ことができる。

 単官能(メタ)アクリレートとしては、特に 限はなく、例えば、メチル(メタ)アクリレー ト、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メ タ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリ レート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブ ル(メタ)アクリレート、sec-ブチル(メタ)ア リレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、 トキシエチル(メタ)アクリレート、ペンチ (メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリ ート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート 、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチルヘ チル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アク リレート、デシル(メタ)アクリレート、ウン シル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)ア クリレート、トリデシル(メタ)アクリレート テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタ シル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メ )アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレ ト、ベヘニル(メタ)アクリレート、2-ヒドロ シエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ プロピル(メタ)アクリレート、3-クロロ-2-ヒ ロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒド キシブチル(メタ)アクリレートなどの脂肪 (メタ)アクリレート;シクロペンチル(メタ)ア クリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレ ト、シクロペンチル(メタ)アクリレート、 シクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシ クロペンテニル(メタ)アクリレート、イソボ ニル(メタ)アクリレートなどの脂環式(メタ) アクリレート;フェニル(メタ)アクリレート、 ノニルフェニル(メタ)アクリレート、p-クミ フェニル(メタ)アクリレート、o-ビフェニル( メタ)アクリレート、1-ナフチル(メタ)アクリ ート、2-ナフチル(メタ)アクリレート、ベン ジル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フ ノキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒド キシ-3-(o-フェニルフェノキシ)プロピル(メ )アクリレート、2-ヒドロキシ-3-(1-ナフトキ )プロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ -3-(2-ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレート 、フェノキシエチル(メタ)アクリレートなど 芳香族(メタ)アクリレート;2-テトラヒドロ ルフリル(メタ)アクリレート、N-(メタ)アク ロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイ ド、2-(メタ)アクリロイルオキシエチル-N-カ バゾールなどの複素環式(メタ)アクリレー ;これらのエトキシ化体;これらのプロポキシ 化体;これらのエトキシ化プロポキシ化体;こ らのカプロラクトン変性体などが挙げられ 。さらにカルボン酸含有(メタ)アクリレー として、2-アクリロイロキシエチルコハク酸 、2-アクリロイロキシエチルフタル酸が挙げ れる。
 ここで、上記のエトキシ化体、プロポキシ 体、エトキシ化プロポキシ化体とは、それ れ、アルコール又はフェノール類の水酸基 エチレンオキシドを付加したアルコールを 料に用いて得られる(メタ)アクリレート、 ルコール又はフェノール類の水酸基にプロ レンオキシドを付加したアルコールを原料 用いて得られる(メタ)アクリレート、アルコ ール又はフェノール類の水酸基にエチレンオ キシド及びプロピレンオキシドを付加したア ルコールを原料に用いて得られる(メタ)アク レートを示す。例えば、フェノキシエチル( メタ)アクリレートのエトキシ化体とは、フ ノキシエチルアルコールにエチレンオキシ を付加したアルコールと、アクリル酸又は タクリル酸とを反応させて得られる(メタ)ア クリレートを意味する。

 2官能(メタ)アクリレートとしては、特に 限はなく、例えば、エチレングリコールジ( メタ)アクリレート、ジエチレングリコール (メタ)アクリレート、トリエチレングリコー ルジ(メタ)アクリレート、テトラエチレング コールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレ グリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレ ングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロ レングリコールジ(メタ)アクリレート、ト プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート 、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アク レート、ポリプロピレングリコールジ(メタ )アクリレート、1,3-ブタンジオールジ(メタ) クリレート、2-メチル-1,3-プロパンジオール (メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ( メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコー ジ(メタ)アクリレート、3-メチル-1,5-ペンタ ジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサ ジオールジ(メタ)アクリレート、2-ブチル-2- チル-1,3-プロパンジオールジ(メタ)アクリレ ート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレー ト、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレー 、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリシ クロデカンジメタノール(メタ)アクリレート どの脂肪族(メタ)アクリレート;シクロヘキ ンジメタノール(メタ)アクリレート、エト シ化シクロヘキサンジメタノール(メタ)アク リレート、トリシクロデカンジメタノール( タ)アクリレート、水添ビスフェノールAジ( タ)アクリレート、水添ビスフェノールFジ( タ)アクリレートなどの脂環式(メタ)アクリ ート;ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ビ フェノールAFジ(メタ)アクリレート、フルオ レン型ジ(メタ)アクリレートなどの芳香族(メ タ)アクリレート;イソシアヌル酸ジ(メタ)ア リレートなどの複素環式(メタ)アクリレート ;これらのエトキシ化体;これらのプロポキシ 体;これらのエトキシ化プロポキシ化体;こ らのカプロラクトン変性体;ネオペンチルグ コール型エポキシ(メタ)アクリレートなど 脂肪族エポキシ(メタ)アクリレート;シクロ キサンジメタノール型エポキシ(メタ)アクリ レート、水添ビスフェノールA型エポキシ(メ )アクリレート、水添ビスフェノールF型エ キシ(メタ)アクリレートなどの脂環式エポキ シ(メタ)アクリレート;レゾルシノール型エポ キシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型 エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノー F型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェ ールAF型エポキシ(メタ)アクリレート、フル オレン型エポキシ(メタ)アクリレートなどの 香族エポキシ(メタ)アクリレートなどが挙 られる。

 3官能以上の多官能(メタ)アクリレートと ては、特に制限はなく、例えば、トリメチ ールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペ タエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、 ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリ ート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メ タ)アクリレート、ペンタエリスリトールテ ラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト ールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエ スリトールヘキサ(メタ)アクリレートなど 脂肪族(メタ)アクリレート;イソシアヌル酸 リ(メタ)アクリレートなどの複素環式(メタ) クリレート;これらのエトキシ化体;これら プロポキシ化体;これらのエトキシ化プロポ シ化体;これらのカプロラクトン変性体;フ ノールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレ ート、クレゾールノボラック型エポキシ(メ )アクリレートなどの芳香族エポキシ(メタ) クリレートが挙げられる。また、カルボン 含有(メタ)アクリレートとして2,2,2-トリスア クリロイロキシメチルエチルコハク酸がある 。

 現像時の膨潤の抑制、透明性、(メタ)アク ルポリマーとの相溶性の観点から、1分子中 (メタ)アクリロイル基を3つ以上有する樹脂 たはモノマーを配合することが好ましい。 体的には共栄社化学株式会社製のライトア リレートDPE-6Aや、新中村化学株式会社製のN KエステルA-9300等が挙げられる。また、カル キシル基含有(メタ)アクリレートを用いるこ とにより、(A)(メタ)アクリルポリマーが側鎖 エポキシ基を含有する場合、そのエポキシ と、(B)及び(C)の(メタ)アクリロイル基の両 と反応させることができ、硬化物の相溶性 硬化性、透明性、及び屈曲性の観点からよ 好ましい。カルボキシル基含有(メタ)アクリ レートの具体例としては、具体的には新中村 化学工業株式会社製のNKエステルCBX-0等が挙 られる。
 以上の化合物は、単独又は2種類以上組み合 わせて用いることができる。

 本発明の(A)(メタ)アクリルポリマー、(B)ウ タン(メタ)アクリレート及び(C)(メタ)アクリ ートの配合量は、(A)(メタ)アクリルポリマ 100質量部に対して、(B)及び(C)成分の総量と て10~200質量部が好ましい。(B)及び(C)を加え ことで、十分に硬化反応が進行するため耐 剤性が向上するとともに、支持基材からの 離性が向上する傾向がある。前記(B)及び(C) 分の配合量が200質量部以下であれば、(メタ) アクリルポリマーの低弾性が機能し、フィル ムが脆くなることなく屈曲耐久性及び捻回耐 久性が向上し、好適である。以上の観点から 、(B)及び(C)成分の配合量は(A)成分100質量部に 対して、(B)及び(C)成分の総量として20~150質量 部がより好ましく、40~100質量部が特に好まし い。
 (B)及び(C)成分の配合量としては、(B)成分100 量部に対して、(C)成分0~500質量部が好まし 。(C)成分を適量加えることで、耐溶剤性が 上し、(A)成分との相溶性が高くなり透明性 向上する傾向がある。以上の観点から、(B) 分100質量部に対して、(C)成分10~400質量部が り好ましく、20~300質量部が特に好ましい。

 本発明における(D)ラジカル重合開始剤とし 、特に制限はなく、熱ラジカル重合開始剤 光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。
 熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限 なく、例えば、メチルエチルケトンパーオ シド、シクロヘキサノンパーオキシド、メ ルシクロヘキサノンパーオキシドなどのケ ンパーオキシド;1,1-ビス(t-ブチルパーオキ )シクロヘキサン、1,1-ビス(t-ブチルパーオキ シ)-2-メチルシクロヘキサン、1,1-ビス(t-ブチ パーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサ 、1,1-ビス(t-ヘキシルパーオキシ)シクロヘキ サン、1,1-ビス(t-ヘキシルパーオキシ)-3,3,5-ト リメチルシクロヘキサンなどのパーオキシケ タール;p-メンタンヒドロパーオキシドなどの ヒドロパーオキシド;α、α’-ビス(t-ブチルパ ーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミ パーオキシド、t-ブチルクミルパーオキシド 、ジ-t-ブチルパーオキシドなどのジアルキル パーオキシド;オクタノイルパーオキシド、 ウロイルパーオキシド、ステアリルパーオ シド、ベンゾイルパーオキシドなどのジア ルパーオキシド;ビス(4-t-ブチルシクロヘキ ル)パーオキシジカーボネート、ジ-2-エトキ エチルパーオキシジカーボネート、ジ-2-エ ルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ- 3-メトキシブチルパーオキシカーボネートな のパーオキシカーボネート;t-ブチルパーオ シピバレート、t-ヘキシルパーオキシピバ ート、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ -2-エチルヘキサノエート、2,5-ジメチル-2,5-ビ ス(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサ 、t-ヘキシルパーオキシ-2-エチルヘキサノエ ート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノ ート、t-ブチルパーオキシイソブチレート t-ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカー ボネート、t-ブチルパーオキシ-3,5,5-トリメチ ルヘキサノエート、t-ブチルパーオキシラウ レート、t-ブチルパーオキシイソプロピル ノカーボネート、t-ブチルパーオキシ-2-エチ ルヘキシルモノカーボネート、t-ブチルパー キシベンゾエート、t-ヘキシルパーオキシ ンゾエート、2,5-ジメチル-2,5-ビス(ベンゾイ パーオキシ)ヘキサン、t-ブチルパーオキシ セテートなどのパーオキシエステル;2,2’- ゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス( 2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス (4-メトキシ-2’-ジメチルバレロニトリル)な のアゾ化合物が挙げられる。
 これらの中で、硬化性及び透明性の観点か 、ジアシルパーオキシド、パーオキシエス ル、及びアゾ化合物であることが好ましい

 光ラジカル重合開始剤として、特に制限は く、例えば、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニル タン-1-オンなどのベンゾインケタール;1-ヒ ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2- ドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オ 、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒ ロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒド キシ-1-{4[4-(2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオニ ル)ベンジル]フェニル}-2-メチルプロパン-1-オ ンなどのα-ヒドロキシケトン;フェニルグリ キシル酸メチル、フェニルグリオキシル酸 チル、オキシフェニル酢酸2-(2-ヒドロキシエ トキシ)エチル、オキシフェニル酢酸2-(2-オキ ソ-2-フェニルアセトキシエトキシ)エチルな のグリオキシエステル;2-ベンジル-2-ジメチ アミノ-1-(4-モルホリン-4-イルフェニル)-ブタ ン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベン ル)-1-(4-モルホリン-4-イルフェニル)-ブタン- 1-オン、1,2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル] -(4-モルホリン)-2-イルプロパン-1-オンなどの -アミノケトン;1,2-オクタンジオン,1-[4-(フェ ルチオ),2-(O-ベンゾイルオキシム)]、エタノ ,1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カル ゾール-3-イル],1-(O-アセチルオキシム)などの オキシムエステル;ビス(2,4,6-トリメチルベン イル)フェニルホスフィンオキシド、ビス(2, 6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチルペ チルホスフィンオキシド、2,4,6-トリメチル ンゾイルジフェニルホスフィンオキシドな のホスフィンオキシド;2-(o-クロロフェニル)- 4,5-ジフェニルイミダゾール二量体、2-(o-クロ ロフェニル)-4,5-ジ(メトキシフェニル)イミダ ール二量体、2-(o-フルオロフェニル)-4,5-ジ ェニルイミダゾール二量体、2-(o-メトキシフ ェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体、 2-(p-メトキシフェニル)-4,5-ジフェニルイミダ ール二量体などの2,4,5-トリアリールイミダ ール二量体;ベンゾフェノン、N,N’-テトラ チル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、N,N’- トラエチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、 4-メトキシ-4’-ジメチルアミノベンゾフェノ などのベンゾフェノン化合物;2-エチルアン ラキノン、フェナントレンキノン、2-tert-ブ チルアントラキノン、オクタメチルアントラ キノン、1,2-ベンズアントラキノン、2,3-ベン アントラキノン、2-フェニルアントラキノ 、2,3-ジフェニルアントラキノン、1-クロロ ントラキノン、2-メチルアントラキノン、1,4 -ナフトキノン、9,10-フェナントラキノン、2- チル-1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルアント キノンなどのキノン化合物;ベンゾインメチ ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ ンゾインフェニルエーテルなどのベンゾイン エーテル;ベンゾイン、メチルベンゾイン、 チルベンゾインなどのベンゾイン化合物;ベ ジルジメチルケタールなどのベンジル化合 ;9-フェニルアクリジン、1,7-ビス(9、9’-ア リジニルヘプタン)などのアクリジン化合物: N-フェニルグリシン、クマリンなどが挙げら る。
 また、前記2,4,5-トリアリールイミダゾール 量体において、2つのトリアリールイミダゾ ール部位のアリール基の置換基は、同一で対 称な化合物を与えてもよく、相違して非対称 な化合物を与えてもよい。
 これらの中で、硬化性及び透明性の観点か 、上記α-ヒドロキシケトン;上記グリオキシ エステル;上記オキシムエステル;上記ホスフ ンオキシドであることが好ましい。
 以上の熱及び光ラジカル重合開始剤は、単 で又は2種類以上組み合わせて用いることが できる。さらに、適切な増感剤と組み合わせ て用いることもできる。

 (D)成分のラジカル重合開始剤の配合量は (A)成分、(B)成分、及び(C)成分の総量100質量 に対して、0.1~10質量部であることが好まし 。前記の(D)成分の配合量が0.1質量部以上で れば、硬化が十分であり、10質量部以下で れば十分な光透過性が得られる。以上の観 から、(D)成分のラジカル重合開始剤の配合 は、(A)成分、(B)成分、及び(C)成分の総量100 量部に対して、0.5~7質量部であることがさら に好ましく、0.8~5質量部であることが特に好 しい。

 (E)硬化促進剤は、(A)(メタ)アクリルポリマ のエポキシ基と、(C)(メタ)アクリレートのカ ルボキシル基を反応させるために用いること ができる。
 (E)硬化促進剤としては、各種イミダゾール を使用することが好ましい。イミダゾール しては、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4 チルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェ ルイミダゾール等が挙げられ、具体的には2E 4MZ、2PZ、2PZ-CN、2PZ-CNS(四国化成工業株式会社 )等がある。

 (E)成分の硬化促進剤の配合量は、(A)成分 (B)成分、及び(C)成分の総量100質量部に対し 、0.1~10質量部であることが好ましい。前記 (E)成分の配合量が0.1質量部以上であれば、 化が十分であり、10質量部以下であれば十 な光透過性が得られる。以上の観点から、(E )成分の硬化促進剤の配合量は、(A)成分、(B) 分、及び(C)成分の総量100質量部に対して、0. 2~7質量部であることがさらに好ましく、0.5~5 量部であることが特に好ましい。

 また、必要に応じて本発明のクラッド層 成用樹脂組成物中には、酸化防止剤、黄変 止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色 、可塑剤、安定剤、充填剤などのいわゆる 加剤を本発明の効果に悪影響を与えない割 で添加してもよい。

 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物は 光導波路の下部クラッド、上部クラッドの なくとも1つに用いることが好ましい。

 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物は、 適な有機溶剤を用いて希釈し、クラッド層 成用樹脂ワニスとして使用してもよい。前 ワニス化の溶剤としては、本発明のクラッ 層形成用樹脂組成物を溶解しえるものであ ば特に制限はなく、例えば、トルエン、キ レン、メシチレン、クメン、p-シメンなど 芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、tert-ブ ルメチルエーテル、シクロペンチルメチル ーテル、ジブチルエーテルなどの鎖状エー ル;テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサンなど の環状エーテル;メタノール、エタノール、 ソプロパノール、ブタノール、エチレング コール、プロピレングリコールなどのアル ール;アセトン、メチルエチルケトン、メチ イソブチルケトン、シクロヘキサノン、4- ドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンなどのケト ;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳 メチル、乳酸エチル、γ-ブチロラクトンな のエステル;エチレンカーボネート、プロピ レンカーボネートなどの炭酸エステル;エチ ングリコールモノメチルエーテル、エチレ グリコールモノエチルエーテル、エチレン リコールモノブチルエーテル、エチレング コールジメチルエーテル、エチレングリコ ルジエチルエーテル、プロピレングリコー モノメチルエーテル、プロピレングリコー モノエチルエーテル、プロピレングリコー ジメチルエーテル、プロピレングリコール エチルエーテル、ジエチレングリコールモ メチルエーテル、ジエチレングリコールモ エチルエーテル、ジエチレングリコールモ ブチルエーテル、ジエチレングリコールジ チルエーテル、ジエチレングリコールジエ ルエーテルなどの多価アルコールアルキル ーテル;エチレングリコールモノメチルエー ルアセテート、エチレングリコールモノエ ルエーテルアセテート、エチレングリコー モノブチルエーテルアセテート、プロピレ グリコールモノメチルエーテルアセテート プロピレングリコールモノエチルエーテル セテート、ジエチレングリコールモノメチ エーテルアセテート、ジエチレングリコー モノエチルエーテルアセテートなどの多価 ルコールアルキルエーテルアセテート;N,N- メチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトア ド、N-メチルピロリドンなどのアミドなど 挙げられる。
 これらの有機溶剤は、単独で又は2種類以上 を組み合わせて用いることができる。また、 樹脂ワニス中の固形分濃度は、通常10~80質量% であることが好ましい。

 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物を調 する際は、撹拌により混合することが好ま い。撹拌方法には特に制限はないが、撹拌 率の観点からプロペラを用いた撹拌が好ま い。撹拌する際のプロペラの回転速度には に制限はないが、10~1,000rpmであることが好 しい。プロペラの回転速度が10rpm以上であれ ば、各成分が十分に混合され、1,000rpm以下で ればプロペラの回転による気泡の巻き込み 少なくなる。以上の観点から、プロペラの 転速度は50~800rpmであることがさらに好まし 、100~500rpmであることが特に好ましい。
 撹拌時間には特に制限はないが、1~24時間で あることが好ましい。攪拌時間が1時間以上 あれば、各成分が十分に混合され、24時間以 下であれば、ワニス調合時間を短縮すること ができ、生産性を向上させることができる。

 また、調合したクラッド層形成用樹脂組 物又は樹脂ワニスは、減圧下で脱泡するこ が好ましい。脱泡方法には特に制限はない 、例えば、真空ポンプとベルジャー、真空 置付き脱泡装置を用いる方法が挙げられる 減圧時の圧力には特に制限はないが、樹脂 成物に含まれる低沸点成分が沸騰しない圧 が好ましい。減圧脱泡時間には特に制限は いが、3~60分であることが好ましい。減圧脱 泡時間が3分以上であれば、樹脂組成物内に 解した気泡を取り除くことができ、60分以下 であれば、樹脂組成物に含まれる有機溶剤が 揮発することがなく、かつ脱泡時間を短縮す ることができ、生産性を向上させることがで きる。

 以下、本発明のクラッド層形成用樹脂組成 を硬化してなる硬化フィルムについて説明 る。
 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物を硬 してなる硬化フィルムの25℃での引張り弾 率は、1~2000MPaであることが好ましく、10~1500M Paがより好ましく、20~1000MPaがさらに好ましい 。硬化フィルムの25℃での引張り弾性率が2000 MPa以下であると、フィルムを厚み方向に曲げ た場合、小さな曲率半径で曲げることができ る。一方、1MPa以上であれば、折り曲げ式屈 耐久試験、捻回耐久試験及びスライド式屈 耐久試験を行ったときに、硬化フィルムが びきることなく、もとの形状に戻るため、 適である。このクラッド層形成用樹脂硬化 ィルムを用いたフィルム光導波路は機械的 引張り力が加わっても上下クラッド層で吸 されるため、コアの変形を小さくすること でき、フィルム導波路の伝送特性の劣化を 制することができる。

 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物を硬 してなる硬化フィルムの25℃での引張り試 における引っ張り破断伸び率は、10~600%が好 しく、さらに好ましくは15~400%がより好まし く、20~200%がさらに好ましい。引っ張り破断 び率が、10%以上であると、脆くなり屈曲時 破断するといったことがなく、好適である 600%以下であれば、折り曲げ式屈曲耐久試験 捻回耐久試験、スライド式屈曲耐久試験に り硬化フィルムが容易に伸びて、もとの形 に戻らないということがなく、好適である なお、引っ張り破断伸び率とは、フィルム 張り試験においてフィルムが破断した時点 の伸び率のことを意味するものである。
 このクラッド層形成用樹脂硬化フィルムを 導波路に用いれば、機械的な引張り力が加 っても、上下クラッド層で吸収されるため コアの変形を小さくすることができ、フィ ム光導波路の伝送特性の劣化を抑制するこ ができる。

 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物を硬 してなる硬化フィルムの繰り返し曲げ試験( 折り曲げ式屈曲耐久試験)において、1~5mm、例 えば2mmの曲率半径で10万回曲げ試験を実施後 クラッド層形成用樹脂硬化フィルムに破断 発生しないことが好ましい。さらに好まし は、100万回曲げ試験を実施後、破断が発生 ないことである。
 硬化フィルムに破断が発生しない場合、こ フィルムをクラッド層に用いた光導波路は 期間安定した光伝送を行うことができ、例 ば携帯電話のヒンジ部など、常に可動する 分に適用することができる。機器の小型化 ためには、より小さい曲率半径においても 導波路に破断が発生しないことが求められ この観点から、曲率半径0.5mmで破断が発生 ないことがより好ましい。破断は、拡大鏡 、顕微鏡下、又は目視での観察で確認する とができる。

 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物を硬 してなる硬化フィルムの繰り返し捻り試験( 捻回耐久試験)において、10万回捻り試験を実 施後、クラッド層形成用樹脂硬化フィルムに 破断が発生しないことが好ましい。さらに好 ましくは、100万回捻り試験を実施後、破断が 発生しないことである。
 硬化フィルムに破断が発生しないと、この ィルムをクラッド層に用いた光導波路は長 間安定した光伝送を行うことができ、例え 携帯電話のヒンジ部など、常に可動する部 に適用することができる。破断は、拡大鏡 、顕微鏡下、又は目視での観察で確認する とができる。

 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物を 化してなる硬化フィルムのスライド式屈曲 久試験において、1~5mm、例えば1.5mm又は2mmの 曲率半径で10万回スライド式屈曲耐久試験を 施後、クラッド層形成用樹脂硬化フィルム 破断が発生しないことが好ましい。さらに ましくは、100万回スライド式屈曲耐久試験 実施後、破断が発生しないことである。硬 フィルムに破断が発生しない場合、このフ ルムをクラッド層に用いた光導波路は長期 安定した光伝送を行うことができ、例えば 帯電話のスライド部などの可動部に適用す ことができる。機器の小型化のためには、 り小さい曲率半径においても光導波路に破 が発生しないことが求められ、この観点か 、曲率半径1.0mmで破断が発生しないことが り好ましい。破断は、拡大鏡下、顕微鏡下 又は目視での観察で確認することができる

 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物を 化してなる、厚み110μmの硬化フィルムの全 線透過率は70%以上であることが好ましい。 透過率が70%以上であれば、光導波路におい コア部の視認性が良好であり、例えば光導 路をダイシングソーにより外形加工する際 、加工の位置決めがしやすくなる。以上の 点から、該透過率は80%以上であることがさ に好ましく、90%以上であることが特に好ま い。なお、全光線透過率の上限については に制限されない。

 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物を 化してなる、厚み110μmの硬化フィルムのヘ ズ(曇価)は30%以下であることが好ましい。 イズが30%以下であれば、光導波路において ア部の視認性が良好であり、例えば光導波 をダイシングソーにより外形加工する際に 加工の位置決めがしやすくなる。以上の観 から、ヘイズは20%以下であることがさらに ましく、10%以下であることが特に好ましい

 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物を 合、硬化してなる硬化フィルムの温度25℃ おける波長830nmでの屈折率が、1.400~1.700であ ことが好ましい。前記の屈折率が1.400~1.700 あれば、通常の光学樹脂との屈折率が大き 異ならないため、光学材料としての汎用性 損なわれることがない。以上の観点から、 硬化フィルムの屈折率は1.425~1.675であること がさらに好ましく、1.450~1.650であることが特 好ましい。

 以下、本発明のクラッド層形成用樹脂フィ ムについて説明する。
 本発明のクラッド層形成用樹脂フィルムは 前記クラッド層形成用樹脂組成物を用いて り、前記(A)、(B)及び(D)成分並びに必要に応 て(C)成分を含有するクラッド層形成用樹脂 成物を好適な支持フィルムに塗布すること より容易に製造することができる。また、 記クラッド層形成用樹脂組成物が前記有機 剤で希釈されている場合、樹脂組成物を支 フィルムに塗布し、有機溶剤を除去するこ により製造することができる。

 支持フィルムとして、特に制限はなく、例 ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ レンテレフタレート、ポリエチレンナフタ ートなどのポリエステル;ポリエチレン、ポ リプロピレンなどのポリオレフィン;ポリカ ボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリ ミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエ テルスルフィド、ポリエーテルスルホン、 リエーテルケトン、ポリフェニレンエーテ 、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレ ト、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙 られる。これらの中で、柔軟性及び強靭性 観点から、ポリエチレンテレフタレート、 リブチレンテレフタレート、ポリエチレン フタレート、ポリプロピレン、ポリカーボ ート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミ イミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフ ニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリ ルホンであることが好ましい。
 なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、 リコーン系化合物、含フッ素化合物などに り離型処理が施されたフィルムを必要に応 て用いてもよい。

 支持フィルムの厚みは、目的とする柔軟 により適宜変えてよいが、3~250μmであるこ が好ましい。支持フィルムの厚みが3μm以上 あるとフィルム強度が十分であり、250μm以 であると十分な柔軟性が得られる。以上の 点から、支持フィルムの厚みは5~200μmであ ことがさらに好ましく、7~150μmであることが 特に好ましい。

 支持フィルム上にクラッド層形成用樹脂 成物を塗布して製造したクラッド層形成用 脂フィルムは、必要に応じて保護フィルム 樹脂層上に貼り付け、支持フィルム、樹脂 、及び保護フィルムからなる3層構造として もよい。

 保護フィルムとしては、特に制限はない 、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチ ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタ ート、ポリエチレンナフタレートなどのポ エステル;ポリエチレン、ポリプロピレンな どのポリオレフィンなどが好適に用いられる 。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、 シリコーン系化合物、含フッ素化合物などに より離型処理が施されたフィルムを必要に応 じて用いてもよい。

 保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟 により適宜変えてよいが、10~250μmであるこ が好ましい。保護フィルムの厚みが10μm以 であるとフィルム強度が十分であり、250μm 下であると十分な柔軟性が得られる。以上 観点から、保護フィルムの厚みは15~200μmで ることがさらに好ましく、20~150μmであるこ が特に好ましい。

 本発明のクラッド層形成用樹脂フィルム 樹脂層の厚みについては、特に限定されな が、乾燥後の厚みで、通常は5~500μmである とが好ましい。クラッド層形成用樹脂フィ ムの樹脂層の乾燥後の厚みが5μm以上である 、厚みが十分であるため樹脂フィルム又は 脂フィルムの硬化物の強度が十分であり、5 00μm以下であると、乾燥が十分に行えるため 脂フィルム中の残留溶剤量が増えることな 、樹脂フィルムの硬化物を加熱したときに 泡することがない。

 このようにして得られたクラッド層形成 樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取 ことによって容易に保存することができる また、ロール状のフィルムを好適なサイズ 切り出して、シート状にして保存すること できる。

 以下、本発明のクラッド層形成用樹脂フィ ムを光導波路に用いた場合の適用例につい 説明する。
 本発明のクラッド層形成用樹脂フィルムは 光導波路の下部クラッド、上部クラッドの なくとも1つに用いることが好ましい。
 次に、本発明の光導波路に使用するコア部 成用樹脂組成物は、コア部がクラッド層よ 高屈折率であるように設計され、活性光線 よりコアパターンを形成し得る樹脂組成物 用いることができ、感光性樹脂組成物が好 である。
 コア部形成用樹脂フィルムは、クラッド層 成用樹脂フィルムと同様の方法によって、 ア部形成用樹脂組成物を用いて製造するこ ができる。なお、コア部形成用樹脂フィル の製造過程で用いる支持フィルムとしては コアパターン形成に用いる露光用活性光線 透過するものであれば特に制限はなく、例 ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ レンテレフタレート、ポリエチレンナフタ ートなどのポリエステル;ポリエチレン、ポ リプロピレンなどのポリオレフィン;ポリカ ボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリ ミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエ テルスルフィド、ポリエーテルスルホン、 リエーテルケトン、ポリフェニレンエーテ 、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレ ト、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙 られる。
 これらの中で、露光用活性光線の透過率、 軟性、及び強靭性の観点から、上記ポリエ テル及び上記ポリオレフィンであることが ましい。さらに、露光用活性光線の透過率 上及びコアパターンの側壁荒れ低減の観点 ら、高透明タイプな支持フィルムを用いる とがさらに好ましい。このような高透明タ プの支持フィルムとして、東洋紡績株式会 製コスモシャインA1517、コスモシャインA4100 が挙げられる。
 なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、 リコーン系化合物、含フッ素化合物などに り離型処理が施されたフィルムを必要に応 て用いてもよい。

 コア部形成用樹脂フィルムの支持フィル の厚みは、5~80μmであることが好ましい。上 記支持フィルムの厚みが5μm以上であれば、 持体としての強度が十分であり、80μm以下で あれば、コアパターン形成時にフォトマスク とコア部形成用樹脂層のギャップが大きくな らず、パターン解像度が良好である。以上の 観点から、上記支持フィルムの厚みは10~75μm あることがさらに好ましく、15~70μmである とが特に好ましい。

 上記支持フィルム上にコア部形成用樹脂 成物を塗布して製造したコア部形成用樹脂 ィルムは、必要に応じて前記保護フィルム 樹脂層上に貼り付け、支持フィルム、樹脂 、及び保護フィルムからなる3層構造として もよい。

 このようにして得られたコア部形成用樹 フィルムは、例えばロール状に巻き取るこ によって容易に保存することができる。ま 、ロール状のフィルムを好適なサイズに切 出して、シート状にして保存することもで る。

 以下、本発明の光導波路について説明する
 図1の(a)に光導波路の断面図を示す。光導波 路1は基材5上に形成され、高屈折率であるコ 部形成用樹脂組成物からなるコア部2、並び に低屈折率であるクラッド層形成用樹脂組成 物からなる下部クラッド層4及び上部クラッ 層3で構成されている。
 本発明のクラッド層形成用樹脂組成物及び ラッド層形成用樹脂フィルムは、光導波路1 の下部クラッド層4、及び上部クラッド層3の ち、少なくとも1つに用いることが好ましい 。

 クラッド層形成用樹脂フィルム及びコア 形成用樹脂フィルムを用いることによって 各層の平坦性、クラッドとコアの層間密着 、及び光導波路コアパターン形成時の解像 (細線又は狭線間対応性)をより向上させる とができ、平坦性に優れ、線幅や線間の小 い微細パターンの形成が可能となる。

 光導波路1において、基材5の材質として 、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキ 樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、 リコン基板、プラスチック基板、金属基板 樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラス ックフィルム、樹脂層付きプラスチックフ ルム、金属層付きプラスチックフィルムな が挙げられる。

 光導波路1は、基材5として柔軟性及び強靭 のある基材、例えばクラッド層形成用樹脂 ィルムの支持フィルムを基材として用い、 レキシブル光導波路とすることができる。 た、このとき基材5を光導波路1の保護フィル ムとして機能させてもよい。基材5として支 フィルム基材を用いることにより、柔軟性 び強靭性を光導波路1に付与することが可能 なる。このとき、クラッド層形成用樹脂は 着処理を施した支持フィルム上に製膜され いることが好ましい。さらに、基材5を保護 フィルムとして機能させることにより、光導 波路1が汚れや傷を受けなくなるため、取り いやすさが向上する。
 以上の観点から、図1の(b)のように上部クラ ッド層3の外側に保護フィルムとしての機能 有する基材5が配置されていたり、図1の(c)の ように下部クラッド層4及び上部クラッド層3 両方の外側に保護フィルムとしての機能を する基材5が配置されていたりしてもよい。
 なお、光導波路1に柔軟性や強靭性が十分に 備わっているならば、図1の(d)のように、保 フィルムとしての機能を有する基材5が配置 れていなくてもよい。

 下部クラッド層4の厚みは、特に制限はない が、2~200μmであることが好ましい。下部クラ ド層4の厚みが2μm以上であると、伝搬光を ア内部に閉じ込めるのが容易となり、200μm 下であると、光導波路1全体の厚みが大きす ることがない。なお、下部クラッド層4の厚 みとは、コア部2と下部クラッド層4との境界 ら下部クラッド層4の下面までの値である。
 下部クラッド層形成用樹脂フィルムの厚み ついては特に制限はないが、硬化後の下部 ラッド層4の厚みが上記の範囲となるように 厚みが調整される。

 コア部2の高さについては、特に制限はな いが、10~150μmであることが好ましい。コア部 の高さが10μm以上であると、光導波路形成後 受発光素子又は光ファイバとの結合におい 位置合わせトレランスが小さくなることが く、150μm以下であると、光導波路形成後の 発光素子又は光ファイバとの結合において 結合効率が小さくなることがない。以上の 点から、コア部の高さは、15~130μmであるこ がさらに好ましく、20~120μmであることが特 好ましい。なお、コア部形成用樹脂フィル の厚みについては特に制限はないが、硬化 のコア部の高さが上記の範囲となるように みが調整される。

 上部クラッド層3の厚みは、コア部2を埋 込むことができる範囲であれば、特に制限 ないが、乾燥後の厚みで、12~500μmであるこ が好ましい。上部クラッド層3の厚みは、最 に形成される下部クラッド層4の厚みと同一 であっても異なってもよいが、コア部2を埋 込むという観点から、下部クラッド層4の厚 よりも厚くすることが好ましい。なお、上 クラッド層3の厚みとは、コア部2と下部ク ッド層4との境界から上部クラッド層3の上面 までの値である。

 本発明のフレキシブル光導波路の繰り返 曲げ試験において、1~5mm、例えば2mmの曲率 径で10万回曲げ試験を実施後、フレキシブル 光導波路に破断が発生しないことが好ましい 。さらに好ましくは、100万回曲げ試験を実施 後、破断が発生しないことである。光導波路 に破断が発生しないと、長期間安定した光伝 送を行うことができ、例えば携帯電話のヒン ジ部など、常に可動する部分に適用すること ができる。機器の小型化のためには、より小 さい曲率半径においても光導波路に破断が発 生しないことが求められ、この観点から、曲 率半径0.5mmで破断が発生しないことがより好 しい。破断は、拡大鏡下、顕微鏡下、又は 視での観察で確認することができる。

 本発明のフィルム光導波路は、好ましく 1~2000MPa以下という小さな引張り弾性率のク ッド層を有しているので、フィルム光導波 が屈曲し、あるいは形状復元する際の界面 おける追従性を向上させることができる。

 本発明の光導波路は、コア部とクラッド の比屈折率差が、1~10%であることが好まし 。1%以上であると、屈曲時にコア部を伝搬す る光がクラッド層に漏れ出すことがない。10% 以下であると、光導波路と光ファイバなどの 接続部において、伝搬光が広がりすぎること がなく、結合損失が大きくならない。以上の 観点から、1.5~7.5%であることがより好ましく 2~5%であることが特に好ましい。

 本発明の光導波路において、光伝搬損失 0.3dB/cm以下であることが好ましい。0.3dB/cm以 下であれば、光の損失が小さくなり、伝送信 号の強度が十分である。以上の観点から0.2dB/ cm以下であることがより好ましく、0.1dB/cm以 であることがさらに好ましい。

 本発明の光導波路は、屈曲耐久性、捻回耐 性、透明性、信頼性、及び耐熱性に優れて り、光モジュールの光伝送路として用いる ともできる。光モジュールの形態としては 例えば、光導波路の両端に光ファイバを接 した光ファイバ付き光導波路、光導波路の 端にコネクタを接続したコネクタ付き光導 路、光導波路とプリント配線板とを複合化 た光電気複合基板、光導波路と光信号と電 信号を相互に変換する光/電気変換素子を組 み合わせた光電気変換モジュール、光導波路 と波長分割フィルタを組み合わせた波長合分 波器などが挙げられる。
 なお、光電気複合基板において、複合化す プリント配線板として、特に制限はなく、 えば、ガラスエポキシ基板、セラミック基 などのリジッド基板、ポリイミド基板、ポ エチレンテレフタレート基板などのフレキ ブル基板などが挙げられる。

 以下、本発明のクラッド層形成用樹脂組成 及び/又はクラッド層形成用樹脂フィルムを 用いて光導波路1を形成するための製造方法 ついて説明する。なお、以下の説明におい 、クラッド層形成用樹脂及びコア部形成用 脂を総称して、「光導波路形成用樹脂」と う。
 本発明の光導波路1を製造する方法として、 特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹 脂組成物又は光導波路形成用樹脂フィルムを 用いて、基材上に光導波路形成用樹脂層を形 成して製造する方法などが挙げられる。

 本発明に用いられる基材としては、特に 限はないが、ガラスエポキシ樹脂基板、セ ミック基板、ガラス基板、シリコン基板、 ラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基 、金属層付き基板、プラスチックフィルム 樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層 きプラスチックフィルムなどが挙げられる

 光導波路形成用樹脂層を形成する方法とし は、特に制限はなく、例えば、光導波路形 用樹脂組成物を用いて、スピンコート法、 ィップコート法、スプレー法、バーコート 、ロールコート法、カーテンコート法、グ ビアコート法、スクリーンコート法、イン ジェットコート法などにより塗布する方法 どが挙げられる。
 光導波路形成用樹脂組成物が、好適な有機 剤で希釈されている場合、必要に応じて樹 層を形成後に、乾燥する工程を入れてもよ 。乾燥方法としては、加熱乾燥、減圧乾燥 どが挙げられる。また、必要に応じてこれ を併用してもよい。

 光導波路形成用樹脂層を形成するその他の 法として、光導波路形成用樹脂組成物を用 た光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、 層法により形成する方法が挙げられる。
 これらの中で、平坦性に優れ、線幅や線間 小さい微細パターンを有する光導波路が形 可能という観点から、光導波路形成用樹脂 ィルムを用いて積層法により製造する方法 好ましい。

 以下、光導波路形成用樹脂フィルムを下部 ラッド層、コア部、及び上部クラッド層に いて光導波路1を形成するための製造方法に ついて説明するが、本発明はこれに制限され るものではない。
 まず、第1の工程として下部クラッド層形成 用樹脂フィルムを基材5上に積層する。第1の 程における積層方法としては、特に制限は く、例えば、ロールラミネータ又は平板型 ミネータを用いて加熱しながら圧着するこ により積層する方法などが挙げられる。な 、本発明における平板型ラミネータとは、 層材料を一対の平板の間に挟み、平板を加 することにより圧着させるラミネータのこ を指し、例えば、真空加圧式ラミネータを 適に用いることができる。ここでの加熱温 は、20~130℃であることが好ましく、圧着圧 は、0.1~1.0MPaであることが好ましいが、これ らの条件には特に制限はない。下部クラッド 層形成用樹脂フィルムに保護フィルムが存在 する場合、保護フィルムを除去した後に積層 する。

 真空加圧式ラミネータを用いて積層する 合、ロールラミネータを用いて、あらかじ 下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材5 上に仮貼りしておいてもよい。ここで、密着 性及び追従性向上の観点から、圧着しながら 仮貼りすることが好ましく、圧着する際、ヒ ートロールを有するラミネータを用いて加熱 しながら行ってもよい。ラミネート温度は、 20~130℃であることが好ましい。20℃以上であ と、下部クラッド層形成用樹脂フィルムと 材5との密着性が向上し、130℃以下であると 、樹脂層がロールラミネート時に流動しすぎ ることがなく、必要とする膜厚が得られる。 以上の観点から、ラミネート温度は40~100℃で あることがさらに好ましい。また、ラミネー ト時の圧力は0.2~0.9MPaであることが好ましく ラミネート速度は0.1~3m/minであることが好ま いが、これらの条件には特に制限はない。

 基材5上に積層された下部クラッド層形成用 樹脂層を光及び/又は熱により硬化し、下部 ラッド層4を形成する。なお、下部クラッド 形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去 、硬化前及び硬化後のどちらで行ってもよ 。
 下部クラッド層形成用樹脂層を光により硬 する際の活性光線の照射量は、0.1~5J/cm 2 とすることが好ましいが、この条件には特に 制限はない。また、活性光線が基材を透過す る場合、効率的に硬化させるために、両面か ら同時に活性光線を照射可能な両面露光機を 使用することができる。また、加熱をしなが ら活性光線を照射してもよい。なお、光硬化 前後の処理として、必要に応じて50~200℃の加 熱処理を行ってもよい。
 下部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬 する際の加熱温度は、50~200℃とすることが ましいが、この条件には特に制限はない。

 下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持 ィルムを、光導波路1の保護フィルム5とし 機能させる場合、下部クラッド層形成用樹 フィルムを積層することなく、光及び/又は により前記と同様な条件で硬化し、下部ク ッド層4を形成してもよい。
 なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルム 保護フィルムは、硬化前に除去しても、硬 後に除去してもよい。

 第2の工程として、第1の工程と同様な方 で、下部クラッド層4上にコア部形成用樹脂 ィルムを積層する。ここで、コア部形成用 脂層は下部クラッド層形成用樹脂層より高 折率であるように設計され、活性光線によ コアパターンを形成し得る感光性樹脂組成 からなることが好ましい。

 第3の工程として、コア部2(コアパターン)を 露光する。コア部2を露光する方法として、 に制限はないが、例えば、アートワークと ばれるネガマスクパターンを通して活性光 を画像状に照射する方法、レーザ直接描画 用いてフォトマスクを通さずに直接活性光 を画像上に照射する方法などが挙げられる
 活性光線の光源として、例えば、超高圧水 ランプ、高圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク ンプ、メタルハライドランプ、キセノンラ プ、カーボンアークランプなどの紫外線を 効に放射する光源が挙げられる。また、他 も写真用フラッド電球、太陽ランプなどの 視光線を有効に放射する光源が挙げられる

 コア部2を露光する際の活性光線の照射量は 、0.01~10J/cm 2 であることが好ましい。0.01J/cm 2 以上であると、硬化反応が十分に進行し、現 像によりコア部2が流失することがなく、10J/c m 2 以下であると、露光量過多によりコア部2が ることがなく、微細なパターンが形成でき 適である。以上の観点から、活性光線の照 量は0.03~5J/cm 2 であることがさらに好ましく、0.05~3J/cm 2 であることが特に好ましい。
 コア部2の露光は、コア部形成用樹脂フィル ムの支持フィルムを介して行ってもよいし、 また支持フィルムを除去してから行ってもよ い。

 また、露光後に、コア部2の解像度及び密 着性向上の観点から、必要に応じて露光後加 熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後加 熱までの時間は、10分以内であることが好ま いが、この条件には特に制限はない。露光 加熱温度は40~160℃であることが好ましく、 間は30秒~10分であることが好ましいが、こ らの条件には特に制限はない。

 第4の工程として、コア部形成用樹脂フィル ムの支持フィルムを介して露光した場合、こ れを除去し、コア部形成用樹脂層の組成に適 した現像液を用いて現像する。
 現像方法としては、特に制限はないが、例 ば、スプレー法、ディップ法、パドル法、 ピン法、ブラッシング法、スクラッピング などが挙げられる。また、必要に応じてこ らの現像方法を併用してもよい。
 現像液としては、特に制限はなく、有機溶 又は有機溶剤と水からなる準水系現像液な の有機溶剤系現像液;アルカリ性水溶液、ア ルカリ性水溶液と1種類以上の有機溶剤から るアルカリ性準水系現像液などのアルカリ 現像液などが挙げられる。また、現像温度 、コア部形成用樹脂層の現像性に合わせて 節される。

 有機溶剤としては、特に制限はなく、例え 、トルエン、キシレン、メシチレン、クメ 、p-シメンなどの芳香族炭化水素;ジエチル ーテル、tert-ブチルメチルエーテル、シク ペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテ などの鎖状エーテル;テトラヒドロフラン、1 ,4-ジオキサンなどの環状エーテル;メタノー 、エタノール、イソプロパノール、ブタノ ル、エチレングリコール、プロピレングリ ールなどのアルコール;アセトン、メチルエ ルケトン、メチルイソブチルケトン、シク ヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペン ノンなどのケトン;酢酸メチル、酢酸エチル 酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ- チロラクトンなどのエステル;エチレンカー ボネート、プロピレンカーボネートなどの炭 酸エステル;エチレングリコールモノメチル ーテル、エチレングリコールモノエチルエ テル、エチレングリコールモノブチルエー ル、エチレングリコールジメチルエーテル エチレングリコールジエチルエーテル、プ ピレングリコールモノメチルエーテル、プ ピレングリコールモノエチルエーテル、プ ピレングリコールジメチルエーテル、プロ レングリコールジエチルエーテル、ジエチ ングリコールモノメチルエーテル、ジエチ ングリコールモノエチルエーテル、ジエチ ングリコールモノブチルエーテル、ジエチ ングリコールジメチルエーテル、ジエチレ グリコールジエチルエーテルなどの多価ア コールアルキルエーテル;エチレングリコー モノメチルエーテルアセテート、エチレン リコールモノエチルエーテルアセテート、 チレングリコールモノブチルエーテルアセ ート、プロピレングリコールモノメチルエ テルアセテート、プロピレングリコールモ エチルエーテルアセテート、ジエチレング コールモノメチルエーテルアセテート、ジ チレングリコールモノエチルエーテルアセ ートなどの多価アルコールアルキルエーテ アセテート;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N- メチルアセトアミド、N-メチルピロリドン どのアミドなどが挙げられる。
 これらの有機溶剤は、単独で又は2種類以上 を組み合わせて使用することができる。また 、有機溶剤中には、表面活性剤、消泡剤など を混入させてもよい。

 準水系現像液として、1種類以上の有機溶剤 と水からなるものであれば特に制限はない。
 有機溶剤の濃度は、通常、2~90質量%である とが好ましい。また、準水系現像液中には 界面活性剤、消泡剤などを少量混入させて よい。

 アルカリ性水溶液の塩基としては、特に制 はないが、例えば、水酸化リチウム、水酸 ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカ 金属水酸化物;炭酸リチウム、炭酸ナトリウ ム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩 ;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、 酸水素カリウムなどのアルカリ金属重炭酸 ;リン酸カリウム、リン酸ナトリウムなどの ルカリ金属リン酸塩;ピロリン酸ナトリウム 、ピロリン酸カリウムなどのアルカリ金属ピ ロリン酸塩;四ホウ酸ナトリウム、メタケイ ナトリウムなどのナトリウム塩;炭酸アンモ ウム、炭酸水素アンモニウムなどのアンモ ウム塩;水酸化テトラメチルアンモニウム、 トリエタノールアミン、エチレンジアミン、 ジエチレントリアミン、2-アミノ-2-ヒドロキ メチル-1,3-プロパンジオール、1,3-ジアミノ ロパノール-2-モルホリンなどの有機塩基な が挙げられる。
 これらの塩基は、単独で又は2種類以上を組 み合わせて使用することができる。
 現像に用いるアルカリ性水溶液のpHは9~14で ることが好ましい。また、アルカリ性水溶 中には、表面活性剤、消泡剤などを混入さ てもよい。

 アルカリ性準水系現像液として、アルカリ 水溶液と1種類以上の前記有機溶剤からなる ものであれば特に制限はない。アルカリ性準 水系現像液のpHは、現像が十分にできる範囲 できるだけ小さくすることが好ましく、pH8~ 13であることが好ましく、pH9~12であることが らに好ましい。
 有機溶剤の濃度は、通常、2~90質量%である とが好ましい。また、アルカリ性準水系現 液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量 入させてもよい。

 現像後の処理として、必要に応じて前記有 溶剤、前記有機溶剤と水からなる準水系洗 液、又は水を用いて洗浄してもよい。
 洗浄方法として、特に制限はないが、例え 、スプレー法、ディップ法、パドル法、ス ン法、ブラッシング法、スクラッピング法 どが挙げられる。また、必要に応じてこれ の洗浄方法を併用してもよい。
 前記有機溶剤は、単独で又は2種類以上を組 み合わせて用いることができる。準水系洗浄 液において、有機溶剤の濃度は通常、2~90質 %とすることが好ましい。また、洗浄温度は ア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節 れる。

 現像又は洗浄後の処理として、コア部2の硬 化性及び密着性向上の観点から、必要に応じ て露光及び/又は加熱を行ってもよい。加熱 度は40~200℃であることが好ましく、活性光 の照射量は、0.01~10J/cm 2 であることが好ましいが、これらの条件には 特に制限はない。

 第5の工程として、第1及び第2の工程と同 の方法で、下部クラッド層4及びコア部2上 上部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層 る。ここで、上部クラッド層形成用樹脂層 、コア部形成用樹脂層よりも低屈折率にな ように設計されている。また、上部クラッ 形成用樹脂層の厚みは、コア部2の高さより きくすることが好ましい。

 次いで、第1の工程と同様な方法で上部クラ ッド層形成用樹脂層を光及び/又は熱により 化し、上部クラッド層3を形成する。
 上部クラッド層形成用樹脂層を光により硬 する際の活性光線の照射量は、0.1~30J/cm 2 とすることが好ましいが、この条件には特に 制限はない。また、活性光線が基材を透過す る場合、効率的に硬化させるために、両面か ら同時に活性光線を照射可能な両面露光機を 使用することができる。また、必要に応じて 加熱をしながら活性光線を照射してもよく、 光硬化前後の処理として加熱処理を行っても よい。活性光線照射中及び/又は照射後の加 温度は50~200℃であることが好ましいが、こ らの条件には特に制限はない。
 上部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬 する際の加熱温度は、50~200℃とすることが ましいが、この条件には特に制限はない。
 なお、上部クラッド層形成用樹脂フィルム 支持フィルムの除去が必要な場合、硬化前 除去しても、硬化後に除去してもよい。
 以上の工程で、光導波路1を作製することが できる。

 以下の本発明の実施例をさらに具体的に説 するが、本発明はこれらの実施例になんら 定されるものではない。
実施例1
 [クラッド層形成用樹脂ワニスCLV-1の調合]
 (A)(メタ)アクリルポリマーとして、エポキ 基含有アクリルゴムのシクロヘキサノン溶 (ナガセケムテックス株式会社製HTR-860P-3、重 量平均分子量80万、固形分12質量%)500質量部( 形分60質量部)、(B)ウレタン(メタ)アクリレー トとして、フェニルグリシジルエーテルアク リレートトルエンジイソシアネートウレタン プレポリマー(共栄社化学株式会社製AT-600)20 量部、(C)(メタ)アクリレートとして、トリメ チロールプロパントリアクリレート(共栄社 学株式会社製TMP-A)20質量部、(D)光ラジカル重 合開始剤として、ビス(2,4,6-トリメチルベン イル)フェニルフォスフィンオキサイド(チバ ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製イ ルガキュア819)1質量部、1-[4-(2-ヒドロキシエ キシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロ パン-1-オン(チバ・スペシャリティ・ケミカ ズ株式会社製イルガキュア2959)1質量部を攪 混合した後に、減圧脱泡し、クラッド層形 用樹脂ワニスCLV-1を得た。

 [クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-1の作製]
 クラッド層形成用樹脂ワニスCLV-1を、表面 型処理PETフィルム(帝人デュポンフィルム株 会社製A53、厚み25μm)の離型処理面上に塗工 (株式会社ヒラノテクシード製マルチコータ ーTM-MC)を用いて塗布し、100℃で20分乾燥し、 いで保護フィルムとして表面離型処理PETフ ルム(帝人デュポンフィルム株式会社製A31、 厚み25μm)を貼付け、クラッド層形成用樹脂フ ィルムCLF-1を得た。このとき樹脂層の厚みは 塗工機のギャップを調節することで任意に 整可能であるが、本実施例では硬化後の膜 が、下部クラッド層形成用樹脂フィルムで 20μm、上部クラッド層形成用樹脂フィルム は90μm、及び屈折率測定用硬化フィルムでは 55μmとなるように調節した。

 [引張り試験、折り曲げ式屈曲耐久試験、ス ライド式屈曲耐久試験、屈折率測定、及び捻 回耐久試験用、並びに全光線透過率及びヘイ ズ測定用硬化フィルムの作製]
 ロールラミネータ(日立化成テクノプラント 株式会社製HLM-1500)を用い、保護フィルム(A31) 除去した下部クラッド層形成用樹脂フィル CLF-1を、保護フィルム(A31)を除去した上部ク ラッド層形成用樹脂フィルムCLF-1上に、圧力0 .4MPa、温度80℃、速度0.4m/minの条件で積層した 。次いで、紫外線露光機(大日本スクリーン 式会社製MAP-1200-L)を用い、紫外線(波長365nm) 4000mJ/cm 2 照射した。160℃で1時間硬化させた後、支持 ィルム(A53)を除去して厚み110μmの硬化フィル ムを得た。

[引張り試験]
 得られた硬化フィルム(幅10mm、長さ70mm)の引 張り試験(つかみ具間距離50mm)を、引張り試験 機(株式会社オリエンテック製 RTM-100)を用い 、温度25℃、引張り速度50mm/min、で、JIS K 7 127に準拠して行った。
(1)引張り弾性率
 引張り弾性率は、引張り応力-ひずみ曲線の 初めの直線部分を用いて、以下に示す式によ り算出した。
 引張り弾性率(MPa)=直線上の2点間の応力の差 (N)í硬化フィルムの元の平均断面積(mm 2 )í同じ2点間のひずみの差
(2)引張り破断伸び率
 引張り破断伸び率は、以下に示す式により 出した。
 引張り破断伸び率(%)=(破断時のつかみ具間 離(mm)-初期のつかみ具間距離(mm))í初期のつ み具間距離(mm)×100

 [折り曲げ式屈曲耐久試験]
 得られた硬化フィルム(幅5mm、長さ10mm)の屈 耐久試験を、屈曲耐久試験機(株式会社大昌 電子製)を用い、曲げ角度0~180°、曲げ半径1.5m m、曲げ速度2回/秒の条件で屈曲耐久試験を行 い、硬化フィルムの破断の有無を観察した。 評価については、1万回毎に破断の有無を観 して破断しない最大回数を求めた。なお、 X回後に破断なし」という表記は、最大行っ 試験回数X回後に破断していなかったことを 表し、それ以降は試験を行っていない。

 [捻回耐久試験]
 得られた硬化フィルム(幅2mm、長さ40mm)の捻 耐久試験を、屈曲耐久試験機(株式会社大昌 電子製)を用い、捻り角度±180°、つかみ具間 離20mm、捻り速度0.5回/秒の条件で捻回耐久 験を行い、硬化フィルムの破断の有無を観 した。評価については、1万回毎に破断の有 を観察して破断しない最大回数を求めた。 お、「X回後に破断なし」という表記は、最 大行った試験回数X回後に破断していなかっ ことを表し、それ以降は試験を行っていな 。

[スライド式屈曲耐久試験]
 得られた硬化フィルム6(幅2mm、長さ50mm)につ いて、図2に示すようなスライド式の屈曲耐 試験機(株式会社大昌電子製)を用いて、スラ イド式屈曲耐久試験を行った。試験は硬化フ ィルム(幅2mm、長さ50mm)を、屈曲軸(仮想軸)7に 沿うように配置して行った。また、曲げ半径 (R)については、1.5mmの条件で行い、スライド 度80mm/秒、X 1 ~X 2 間の距離20mmの条件で試験を行った。評価に いては、1万回毎に破断の有無を観察して破 しない最大回数を求めた。なお、「X回後に 破断なし」という表記は、最大行った試験回 数X回後に破断していなかったことを表し、 れ以降は試験を行っていない。

 [全光線透過率及びヘイズの測定]
[透過率の測定]
 得られた硬化フィルムの全光線透過率及び イズを分色度・濁度測定器(日本電色工業株 式会社製COH 400)を用いて測定した。以下の基 準で評価した。
(1)全光線透過率
◎:90%以上
○:70%以上、90%未満
△:50%以上、70%未満
×:50%未満
(2)ヘイズ
◎:10%以下
○:10%より大きく、20%以下
△:20%より大きく、30%以下
×:30%より大きい

[屈折率の測定]
 得られた硬化フィルムの温度25℃における 長830nmでの屈折率をプリズムカプラ(SAIRON TEC HNOLOGY社製、SPA-4000)を用いて測定した。

 [コア部形成用樹脂ワニスCOV-1の調合]
 バインダポリマーとして、フェノキシ樹脂 プロピレングリコールモノメチルエーテル セテート溶液(東都化成株式会社製YP-70、固 分40質量%)63質量部(固形分25質量部)、重合性 化合物として、エトキシ化フルオレン型ジア クリレートのプロピレングリコールモノメチ ルエーテルアセテート溶液(新中村化学工業 式会社A-BPEF/PGMAC70、固形分70質量%)54質量部( 形分38質量部)、ビスフェノールA型エポキシ クリレート(新中村化学工業株式会社EA-1020)3 8質量部、光ラジカル重合開始剤として、1-[4- (2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒドロキ -2-メチル-1-プロパン-1-オン(チバ・スペシャ ルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア 2959)1質量部、及びビス(2,4,6-トリメチルベン イル)フェニルホスフィンオキシド(チバ・ス ペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガ キュア819)1質量部を秤量し、攪拌混合した後 、減圧脱泡し、コア部形成用樹脂ワニスCOV- 1を得た。

 [コア部形成用樹脂フィルムCOF-1の作製]
 コア部形成用樹脂ワニスCOV-1を、PETフィル (東洋紡績株式会社製A1517、厚み16μm)の非処 面上に、クラッド層形成用樹脂フィルムと 様な方法で塗布乾燥し、次いで保護フィル として表面離型処理PETフィルム(帝人デュポ フィルム株式会社製、A31、厚み25μm)を貼付 、コア部形成用樹脂フィルムCOF-1を得た。 のとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップ 調節することで任意に調整可能であるが、 実施例では硬化後の膜厚が、70μmとなるよう に調節した。

[屈折率測定用硬化フィルムの作製]
 コア部形成用樹脂フィルムCOF-1に、紫外線 光機(大日本スクリーン株式会社製MAP-1200-L) 用い、紫外線(波長365nm)を2000mJ/cm 2 照射した。保護フィルム(A31)を除去し、160℃ 1時間加熱処理後、支持フィルム(A1517)を除 して厚み50μmの硬化フィルム(温度25℃におけ る波長830nmでの屈折率1.586)を得た。なお、屈 率は上記と同様の方法で測定した。

 [光導波路の作製]
 前記紫外線露光機を用い、下部クラッド層 成用樹脂フィルムCLF-1に紫外線(波長365nm)を4 000mJ/cm 2 照射した。保護フィルム(A31)を除去して、下 クラッド層を形成した。

 続いて、前記ロールラミネータを用い、保 フィルム(A31)を除去したコア部形成用樹脂 ィルムCOF-1を、下部クラッド層上に、圧力0.4 MPa、温度80℃、速度0.4m/minの条件で積層した さらに、真空加圧式ラミネータ(株式会社名 製作所製MVLP-500/600)を用い、圧力0.4MPa、温度 80℃及び加圧時間30秒の条件で圧着した。
 次いで、幅50μmのネガ型フォトマスクを介 、上記紫外線露光機で紫外線(波長365nm)を500m J/cm 2 照射し、次いで80℃で5分間露光後加熱を行っ た。支持フィルム(A1517)を除去し、現像液(プ ピレングリコールモノメチルエーテルアセ ート/N,N-ジメチルアセトアミド=70/30質量比) 用い、コア部を現像した後、プロピレング コールモノメチルエーテル、次いでイソプ パノールを用いて洗浄し、100℃で10分加熱 燥した。

 次に、前記真空加圧式ラミネータを用い、 護フィルム(A31)を除去した上部クラッド層 成用樹脂フィルムCLF-1を、コア部及び下部ク ラッド層上に、圧力0.4MPa、温度120℃及び加圧 時間30秒の条件で積層した。紫外線(波長365nm) を4000mJ/cm 2 照射した後、160℃で1時間硬化させて、上部 ラッド層を形成した。
 続いて、上部及び下部クラッド層形成用樹 フィルムCLF-1の支持フィルム(A4100)を除去し 光導波路を得た。その後、ダイシングソー( 株式会社ディスコ製DAD-341)を用いて導波路長1 0cmの光導波路を切り出した。

実施例2~8
 表1に示す配合比に従ってクラッド層形成用 樹脂ワニスCLV-2~8を調合し、実施例1と同様な 法で、クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-2~8 を作製した。硬化フィルムの引張り試験、折 り曲げ式屈曲耐久試験、スライド式屈曲耐久 試験、屈折率、及び捻回耐久試験、並びに全 光線透過率及びヘイズ測定を実施した結果を 表1に示す。
 続いて、これらのクラッド層形成用樹脂フ ルムCLF-2~8を用いて、実施例1と同様な方法 、光導波路を作製した。

*1:エポキシ基含有アクリルゴムのシクロヘキ サノン溶液(ナガセケムテックス株式会社製 重量平均分子量80万、エポキシ基含有量5質 %)
*2:フェニルグリシジルエーテルアクリレート トルエンジイソシアネートウレタンプレポリ マー(共栄社化学株式会社製、AT-600)
*3:ペンタエリスリトールトリアクリレートヘ キサメチレンジイソシアネートウレタンプレ ポリマー(共栄社化学株式会社製、UA-306H)
*4:ペンタエリスリトールトリアクリレートイ ソホロンジイソシアネートウレタンプレポリ マー(共栄社化学株式会社製、UA-306I)
*5:ジペンタエリスリトールペンタアクリレー トヘキサメチレンジイソシアネートウレタン プレポリマー(共栄社化学株式会社製、UA-510H)
*6:新中村化学株式会社製、NKオリゴ U-412A
*7:新中村化学株式会社製、NKオリゴ UA-6100
*8:新中村化学株式会社製、NKオリゴ UA-160TM
*9:新中村化学株式会社製、NKオリゴ UF-8001
*10:トリメチロールプロパントリアクリレー (共栄社化学株式会社製、ライトアクリレー TMP-A)
*11:ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニル フォスフィンオキサイド(チバ・スペシャリ ィ・ケミカルズ株式会社製)、
*12:1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒ ロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン(チバ・ス ペシャリティ・ケミカルズ株式会社製)
*13:◎:90%以上 ○:70%以上、90%未満 △:50%以上 70%未満、    ×:50%未満、フィルム厚み110μ mの条件で測定
*14:◎:10%以下、○:10%より大きく、20%以下、△ :20%より大きく、30%以下、×:30%より大きい、 ィルム厚み110μmの条件で測定

合成例1
[ウレタンアクリレートAの合成]
 攪拌器、温度計、冷却管および空気ガス導 管を2Lの三口フラスコに取り付け、空気ガ を導入した後、ポリテトラメチレングリコ ル(保土ヶ谷化学株式会社製 商品名PTG850SN)52 0.8g、ジエチレングリコール1.06g、不飽和脂肪 酸ヒドロキシアルキルエステル修飾ε-カプロ ラクトン(ダイセル化学工業株式会社製 商品 名FA2D)275.2g、重合禁止剤としてp-メトキシキ ン0.5g、触媒としてジブチルチ錫ジラウレー (東京ファインケミカル株式会社製、商品名 L101)0.3gをいれ、70℃に昇温後、70~75℃で攪拌 つつイソホロンジイソシアネート(スミカバ エルウレタン株式会社製、商品名デスモジ ールI)222gを2時間かけて均一滴下し、反応を 行った。滴下終了後、約5時間反応させたと ろで反応を終了した。得られた生成物の重 平均分子量(標準ポリスチレン換算)を、GPC( ソー株式会社製SD-8022/DP-8020/RI-8020)を用いて 定した結果、重量平均分子量10,000のウレタ アクリレートAを得た。

実施例9
[クラッド層形成用樹脂ワニスCLV-9の調合]
 (A)(メタ)アクリルポリマーとして、エポキ 基含有アクリルゴムのシクロヘキサノン溶 (ナガセケムテックス株式会社製HTR-860P-3、重 量平均分子量80万、固形分12質量%)500質量部( 形分60質量部)、(B)ウレタン(メタ)アクリレー トとして、合成例1で得られたウレタンアク レートA 20質量部、(C)(メタ)アクリレートと て、トリメチロールプロパントリアクリレ ト(共栄社化学株式会社製TMP-A)20質量部、(D) ラジカル重合開始剤として、ビス(2,4,6-トリ メチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオ サイド(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ 式会社製イルガキュア819)1質量部、1-[4-(2-ヒ ドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2- チル-1-プロパン-1-オン(チバ・スペシャリテ ィ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア2959)1 質量部を攪拌混合した後に、減圧脱泡し、ク ラッド層形成用樹脂ワニスCLV-9を得た。

 [クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-9の作製]
 クラッド層形成用樹脂ワニスCLV-9を、表面 型処理PETフィルム(東洋紡績株式会社製A4100 厚み50μm)の非処理面上に塗工機(株式会社ヒ ノテクシード製マルチコーターTM-MC)を用い 塗布し、100℃で20分乾燥し、次いで保護フ ルムとして表面離型処理PETフィルム(帝人デ ポンフィルム株式会社製A31、厚み25μm)を貼 け、クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-9を た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギ ップを調節することで任意に調整可能であ が、本実施例では硬化後の膜厚が、下部ク ッド層形成用樹脂フィルムでは20μm、上部ク ラッド層形成用樹脂フィルムでは90μm、及び 折率測定用硬化フィルムでは50μmとなるよ に調節した。

 [引張り試験、折り曲げ式屈曲耐久試験、ス ライド式屈曲耐久試験、屈折率測定、及び捻 回耐久試験用、並びに全光線透過率及びヘイ ズ測定用硬化フィルムの作製]
 ロールラミネータ(日立化成テクノプラント 株式会社製HLM-1500)を用い、保護フィルム(A31) 除去した下部クラッド層形成用樹脂フィル CLF-9(厚み20μm)を、保護フィルム(A31)を除去 た上部クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-9上 (厚み90μm)に、圧力0.2MPa、温度50℃、速度0.4m/m inの条件で積層した。次いで、紫外線露光機( 大日本スクリーン株式会社製MAP-1200-L)を用い 紫外線(波長365nm)を4000mJ/cm 2 照射した。160℃で1時間硬化させた後、支持 ィルム(A4100)を除去して厚み110μmの硬化フィ ムを得た。

[コア部形成用樹脂ワニスCOV-2の調合]
 バインダポリマーとして、フェノキシ樹脂 プロピレングリコールモノメチルエーテル セテート溶液(東都化成株式会社製YP-70、固 分40質量%)75質量部(固形分30質量部)、重合性 化合物として、エトキシ化フルオレン型ジア クリレートのプロピレングリコールモノメチ ルエーテルアセテート溶液(新中村化学工業 式会社A-BPEF/PGMAC70、固形分70質量%)29質量部( 形分20質量部)、ビスフェノールA型エポキシ クリレート(新中村化学工業株式会社EA-1020)2 0質量部、エチレンオキシド(EO)鎖含有ビスフ ノールA型アクリレート(日立化成工業株式 社FA-321A) 30質量部、光ラジカル重合開始剤 して、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]- 2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン(チバ ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イ ルガキュア2959)1質量部、及びビス(2,4,6-トリ チルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシ (チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会 社製イルガキュア819)1質量部を秤量し、攪拌 合した後に、減圧脱泡し、コア部形成用樹 ワニスCOV-2を得た。

 [コア部形成用樹脂フィルムCOF-2の作製]
 コア部形成用樹脂ワニスCOV-1に代えて、コ 部形成用樹脂ワニスCOV-2を用いて、コア部形 成用樹脂フィルムCOF-1と同様な方法でコア部 成用樹脂フィルムCOF-2を作成した。

[屈折率測定用硬化フィルムの作製]
 コア部形成用樹脂フィルムCOF-2に、紫外線 光機(大日本スクリーン株式会社製MAP-1200-L) 用い、紫外線(波長365nm)を2000mJ/cm 2 照射した。保護フィルム(A31)を除去し、160℃ 1時間加熱処理後、支持フィルム(A1517)を除 して厚み50μmの硬化フィルム(温度25℃におけ る波長830nmでの屈折率1.570)を得た。なお、屈 率は上記と同様の方法で測定した。

 [光導波路の作製]
 前記紫外線露光機を用い、下部クラッド層 成用樹脂フィルムCLF-9に紫外線(波長365nm)を4 000mJ/cm 2 照射した。保護フィルム(A31)を除去して、下 クラッド層を形成した。

 続いて、前記ロールラミネータを用い、保 フィルム(A31)を除去したコア部形成用樹脂 ィルムCOF-2を、下部クラッド層上に、圧力0.4 MPa、温度80℃、速度0.4m/minの条件で積層した さらに、真空加圧式ラミネータ(株式会社名 製作所製MVLP-500/600)を用い、圧力0.4MPa、温度 80℃及び加圧時間30秒の条件で圧着した。
 次いで、幅70μmのネガ型フォトマスクを介 、上記紫外線露光機で紫外線(波長365nm)を500m J/cm 2 照射し、次いで80℃で5分間露光後加熱を行っ た。支持フィルム(A1517)を除去し、現像液(プ ピレングリコールモノメチルエーテルアセ ート/N,N-ジメチルアセトアミド=70/30質量比) 用い、コア部を現像した後、プロピレング コールモノメチルエーテル、次いでイソプ パノールを用いて洗浄し、100℃で10分加熱 燥した。

 次に、前記真空加圧式ラミネータを用い、 護フィルム(A31)を除去した上部クラッド層 成用樹脂フィルムCLF-9を、コア部及び下部ク ラッド層上に、圧力0.4MPa、温度120℃及び加圧 時間30秒の条件で積層した。紫外線(波長365nm) を4000mJ/cm 2 照射した後、160℃で1時間硬化させて、上部 ラッド層を形成した。
 続いて、上部及び下部クラッド層形成用樹 フィルムCLF-9の支持フィルム(A4100)を除去し 光導波路を得た。その後、ダイシングソー( 株式会社ディスコ製DAD-341)を用いて導波路長1 0cmの光導波路を切り出した。

合成例2
[アクリル変性アクリルゴムの合成]
 メカニカルスターラー、冷却管、温度計の いた4つ口フラスコに、アクリルゴム(ナガ ケムテック株式会社製HTR-860P-3-T10、シクロヘ キサン溶液、NV14.9%、グリシジルメタクリレ ト共重合比率10質量%)100g、トルエン100g、メ キシヒドロキノン44mg、アクリル酸6.96gを投 し、空気バブリングしながら80℃で攪拌する 。トリフェニルホスフィン134mgを投入し、110 に昇温して6時間攪拌後、得られた溶液を500 gのメタノール中に滴下し、沈殿物をメタノ ルで洗浄した。沈殿物を真空オーブン中30℃ で12時間乾燥し、黄色ゴム状物のアクリル変 アクリルゴムを13g得た。アクリル変性アク ルゴムをシクロヘキサノンに溶解してワニ (固形分(NV)15質量%)とした。

実施例10~21
 表2に示す配合比に従ってクラッド層形成用 樹脂ワニスCLV-10~21を調合し、実施例9と同様 方法で、クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-1 0~21を作製した。硬化フィルムの引張り試験 折り曲げ式屈曲耐久試験、スライド式屈曲 久試験、屈折率、及び捻回耐久試験、並び 全光線透過率及びヘイズ測定を実施した結 を表2に示す。
 続いて、これらのクラッド層形成用樹脂フ ルムCLF-10~21を用いて、実施例9と同様な方法 で、光導波路を作製した。

*1:エポキシ基含有アクリルゴムのシクロヘキ サノン溶液(ナガセケムテックス株式会社製 重量平均分子量80万、エポキシ基含有量5質 %)
*8:新中村化学株式会社製、NKオリゴ UA-160TM
*10:トリメチロールプロパントリアクリレー (共栄社化学株式会社製、ライトアクリレー TMP-A)
*11:ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニル フォスフィンオキサイド(チバ・スペシャリ ィ・ケミカルズ株式会社製)
*12:1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒ ロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン(チバ・ス ペシャリティ・ケミカルズ株式会社製)
*13:◎:90%以上 ○:70%以上、90%未満 △:50%以上 70%未満、    ×:50%未満、フィルム厚み110μ mの条件で測定
*14:◎:10%以下、○:10%より大きく、20%以下、△ :20%より大きく、30%以下、×:30%より大きい、 ィルム厚み110μmの条件で測定
*15:エポキシ基含有アクリルゴム(HTR-860P-3)の 分子量品(ナガセケムテックス株式会社製、 量平均分子量24.3万、エポキシ基含有量5質 %)
*16:エポキシ基含有アクリルゴム(HTR-860P-3)の 分子量品(ナガセケムテックス株式会社製、 量平均分子量11万、エポキシ基含有量5質量% )
*17:合成例1で得られたウレタンアクリレートA
*18:NKオリゴA-9300、新中村化学株式会社製
*19:NKオリゴA-9300-3CL、新中村化学株式会社製
*20:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ ト(DPE-6A)共栄社化学株式会社製
*21:合成例2で得られたアクリル変性アクリル ムのシクロヘキサン溶液(重量平均分子量70 、エポキシ基含有量7質量%、アクリロイル 含有量3質量%)

実施例22
[クラッド層形成用樹脂ワニスCLV-22の調合]
 (A)(メタ)アクリルポリマーとして、エポキ 基含有アクリルゴムのシクロヘキサノン溶 (ナガセケムテックス株式会社製HTR-860P-3、重 量平均分子量80万、固形分12質量%)500質量部( 形分60質量部)、(B)ウレタン(メタ)アクリレー トとして、合成例1で得られたウレタンアク レートA 20質量部、(C)(メタ)アクリレートと て、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ ート(共栄社化学株式会社製DPE-6A)15質量部、 及び2,2,2-トリアクリロイロキシメチルエチル コハク酸(新中村化学工業株式会社製NKエステ ルCBX-0)5質量部、(D)光ラジカル重合開始剤と て、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニ ルフォスフィンオキサイド(チバ・スペシャ ティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア81 9)1質量部、及び1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フ ェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1- ン(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式 社製イルガキュア2959)1質量部、(E)硬化促進 として1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾ ル(四国化成工業株式会社製2PZ-CN)0.3質量部を 攪拌混合した後に、減圧脱泡し、クラッド層 形成用樹脂ワニスCLV-22を得た。

 [クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-22の作製 ]
 クラッド層形成用樹脂ワニスCLV-22を、表面 型処理PETフィルム(東洋紡績株式会社製A4100 厚み50μm)の非処理面上に塗工機(株式会社ヒ ラノテクシード製マルチコーターTM-MC)を用い て塗布し、100℃で20分乾燥し、次いで保護フ ルムとして表面離型処理PETフィルム(帝人デ ュポンフィルム株式会社製A31、厚み25μm)を貼 付け、クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-22を 得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギ ャップを調節することで任意に調整可能であ るが、本実施例では硬化後の膜厚が、下部ク ラッド層形成用樹脂フィルムでは20μm、上部 ラッド層形成用樹脂フィルムでは90μm、及 屈折率測定用硬化フィルムでは50μmとなるよ うに調節した。

 [引張り試験、折り曲げ式屈曲耐久試験、ス ライド式屈曲耐久試験、屈折率、及び捻回耐 久試験用、並びに全光線透過率及びヘイズ測 定用硬化フィルムの作製]
 ロールラミネータ(日立化成テクノプラント 株式会社製HLM-1500)を用い、保護フィルム(A31) 除去した下部クラッド層形成用樹脂フィル CLF-22(厚み20μm)を、保護フィルム(A31)を除去 た上部クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-22( 厚み90μm)上に、圧力0.2MPa、温度50℃、速度0.4m /minの条件で積層した。次いで、140℃で1時間 化させた後、紫外線露光機(大日本スクリー ン株式会社製MAP-1200-L)を用い、紫外線(波長365 nm)を4000mJ/cm 2 照射した。その後、160℃で1時間硬化させ、 持フィルム(A4100)を除去して厚み110μmの硬化 ィルムを得た。

 [光導波路の作製]
 前記紫外線露光機を用い、下部クラッド層 成用樹脂フィルムCLF-22を140℃で1時間加熱硬 化した後、紫外線(波長365nm)を4000mJ/cm 2 照射した。保護フィルム(A31)を除去して、下 クラッド層を形成した。

 続いて、前記ロールラミネータを用い、保 フィルム(A31)を除去したコア部形成用樹脂 ィルムCOF-2を、下部クラッド層上に、圧力0.4 MPa、温度80℃、速度0.4m/minの条件で積層した さらに、真空加圧式ラミネータ(株式会社名 製作所製MVLP-500/600)を用い、圧力0.4MPa、温度 80℃及び加圧時間30秒の条件で圧着した。
 次いで、幅70μmのネガ型フォトマスクを介 、上記紫外線露光機で紫外線(波長365nm)を500m J/cm 2 照射し、次いで80℃で5分間露光後加熱を行っ た。支持フィルム(A1517)を除去し、現像液(プ ピレングリコールモノメチルエーテルアセ ート/N,N-ジメチルアセトアミド=70/30質量比) 用い、コア部を現像した後、プロピレング コールモノメチルエーテル、次いでイソプ パノールを用いて洗浄し、100℃で10分加熱 燥した。

 次に、前記真空加圧式ラミネータを用い、 護フィルム(A31)を除去した上部クラッド層 成用樹脂フィルムCLF-22を、コア部及び下部 ラッド層上に、圧力0.4MPa、温度120℃及び加 時間30秒の条件で積層した。140℃で1時間加 硬化した後、紫外線(波長365nm)を4000mJ/cm 2 照射し、その後160℃で1時間硬化させて、上 クラッド層を形成した。
 続いて、上部及び下部クラッド層形成用樹 フィルムCLF-22の支持フィルム(A4100)を除去し 、光導波路を得た。その後、ダイシングソー (株式会社ディスコ製DAD-341)を用いて導波路長 10cmの光導波路を切り出した。

実施例23~25
 表3に示す配合比に従ってクラッド層形成用 樹脂ワニスCLV-23~25を調合し、実施例22と同様 方法で、クラッド層形成用樹脂フィルムCLF- 23~25を作製した。硬化フィルムの引張り試験 折り曲げ式屈曲耐久試験、スライド式屈曲 久試験、屈折率、及び捻回耐久試験、並び 全光線透過率及びヘイズ測定を実施した結 を表3に示す。
 続いて、これらのクラッド層形成用樹脂フ ルムCLF-23~25を用いて、実施例22と同様な方 で、光導波路を作製した。

*1:エポキシ基含有アクリルゴムのシクロヘキ サノン溶液(ナガセケムテックス株式会社製 重量平均分子量80万、エポキシ基含有量5質 %)
*11:ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニル フォスフィンオキサイド(チバ・スペシャリ ィ・ケミカルズ株式会社製)、
*12:1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒ ロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン(チバ・ス ペシャリティ・ケミカルズ株式会社製)
*13:◎:90%以上 ○:70%以上、90%未満 △:50%以上 70%未満、    ×:50%未満、フィルム厚み110μ mの条件で測定
*14:◎:10%以下、○:10%より大きく、20%以下、△ :20%より大きく、   30%以下、×:30%より大き 、フィルム厚み110μmの条件で測定
*17:合成例1で得られたウレタンアクリレートA
*20:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ ト(DPE-6A)共栄社化学株式会社製
*22:エポキシ基含有アクリルゴム(ナガセケム ックス株式会社製、重量平均分子量70万、 ポキシ基含有量10質量%)
*23:2-アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフ タル酸(HOA-HH)共栄社化学株式会社製
*24:2,2,2-トリアクリロイロキシメチルエチル ハク酸(NKエステルCBX-0)新中村化学工業株式 社
*25:1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール(2P Z-CN)四国化成工業株式会社製

合成例3
[(メタ)アクリルポリマーAの作製]
 撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと び温度計を備えたフラスコに、プロピレン リコールモノメチルエーテルアセテート51 量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹 を始めた。液温を65℃に上昇させ、ジシクロ ペンタニルアクリレート25質量部、メチルメ クリレート40質量部、ブチルアクリレート15 質量部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート2 0質量部、2,2'-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニ リル)2質量部、及びプロピレングリコール ノメチルエーテルアセテート51質量部の混合 物を3時間かけて滴下後、65℃で3時間撹拌し さらに95℃で1時間撹拌を続けて、室温まで 却した。
 続いて、ジブチルスズジラウリレート0.09質 量部、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール0.1 量部、及びプロピレングリコールモノメチ エーテルアセテート23質量部を加え、空気を 導入しながら撹拌を始めた。液温を50℃に上 させた後、2-メタクリロイルオキシエチル ソシアネート23質量部を30分かけて滴下後、5 0℃で3時間撹拌を続けて、(メタ)アクリルポ マーA溶液(固形分50質量%)を得た。
 (メタ)アクリルポリマーAの重量平均分子量( 標準ポリスチレン換算)をGPC(東ソー株式会社 SD-8022/DP-8020/RI-8020)を使用して測定した結果 40,500であった。なお、カラムは日立化成工 株式会社製Gelpack GL-A150-S/GL-A160-Sを使用した 。

合成例4
 [(メタ)アクリルポリマーBの作製]
 撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと び温度計を備えたフラスコに、プロピレン リコールモノメチルエーテルアセテート50 量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹 を始めた。液温を65℃に上昇させ、ジシクロ ペンタニルアクリレート25質量部、メチルメ クリレート40質量部、ブチルアクリレート15 質量部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート2 0質量部、2,2'-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニ リル)1質量部、及びプロピレングリコール ノメチルエーテルアセテート50質量部の混合 物を3時間かけて滴下後、65℃で3時間撹拌し さらに95℃で1時間撹拌を続けて、室温まで 却した。
 続いて、ジブチルスズジラウリレート0.09質 量部、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール0.1 量部、及びプロピレングリコールモノメチ エーテルアセテート23質量部を加え、空気を 導入しながら撹拌を始めた。液温を50℃に上 させた後、2-メタクリロイルオキシエチル ソシアネート23質量部を30分かけて滴下後、5 0℃で3時間撹拌を続けて、(メタ)アクリルポ マーB溶液(固形分50質量%)を得た。
 合成例3と同様な方法で、(メタ)アクリルポ マーBの重量平均分子量を測定した結果、82, 500であった。

比較例1
 [クラッド層形成用樹脂ワニスCLV-26の調合]
 (メタ)アクリルポリマーとして合成例3で得 れた(メタ)アクリルポリマーA120質量部(固形 分60質量部)、(B)ウレタン(メタ)アクリレート して、ウレタンアクリレートA 20質量部、(C )(メタ)アクリレートとして、ジペンタエリス リトールヘキサアクリレート(共栄社化学株 会社製DPE-6A)20質量部、(D)光重合開始剤とし 、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニル フォスフィンオキサイド(チバ・スペシャリ ィ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア819)1 質量部、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル ]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン(チ ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製 ルガキュア2959)1質量部を攪拌混合した後に 減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスC LV-26を得た。

 [クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-26の作製 ]
 クラッド層形成用樹脂ワニスCLV-26を、表面 型処理PETフィルム(東洋紡績株式会社製A4100 厚み50μm)の非処理面上に塗工機(株式会社ヒ ラノテクシード製マルチコーターTM-MC)を用い て塗布し、100℃で20分乾燥し、次いで保護フ ルムとして表面離型処理PETフィルム(帝人デ ュポンフィルム株式会社製A31、厚み25μm)を貼 付け、クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-26を 得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギ ャップを調節することで任意に調整可能であ るが、本実施例では硬化後の膜厚が、下部ク ラッド層形成用樹脂フィルムでは20μm、上部 ラッド層形成用樹脂フィルムでは90μm、及 屈折率測定用硬化フィルムでは60μmとなるよ うに調節した。

 [引張り試験、折り曲げ式屈曲耐久試験、ス ライド式屈曲耐久試験、屈折率、及び捻回耐 久試験用、並びに全光線透過率及びヘイズ測 定用硬化フィルムの作製]
 ロールラミネータ(日立化成テクノプラント 株式会社製HLM-1500)を用い、保護フィルム(A31) 除去した下部クラッド層形成用樹脂フィル CLF-26(厚み20μm)を、保護フィルム(A31)を除去 た上部クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-26( 厚み90μm)上に、圧力0.2MPa、温度50℃、速度0.4m /minの条件で積層した。次いで紫外線露光機( 日本スクリーン株式会社製MAP-1200-L)を用い 紫外線(波長365nm)を4000mJ/cm 2 照射した。その後、160℃で1時間硬化させ、 持フィルム(A4100)を除去して厚み110μmの硬化 ィルムを得た。

 [光導波路の作製]
 前記紫外線露光機を用い、下部クラッド層 成用樹脂フィルムCLF-26に紫外線(波長365nm)を 4000mJ/cm 2 照射した。保護フィルム(A31)を除去して、下 クラッド層を形成した。

 続いて、前記ロールラミネータを用い、保 フィルム(A31)を除去したコア部形成用樹脂 ィルムCOF-2を、下部クラッド層上に、圧力0.4 MPa、温度80℃、速度0.4m/minの条件で積層した さらに、真空加圧式ラミネータ(株式会社名 製作所製MVLP-500/600)を用い、圧力0.4MPa、温度 80℃及び加圧時間30秒の条件で圧着した。
 次いで、幅70μmのネガ型フォトマスクを介 、上記紫外線露光機で紫外線(波長365nm)を500m J/cm 2 照射し、次いで80℃で5分間露光後加熱を行っ た。支持フィルム(A1517)を除去し、現像液(プ ピレングリコールモノメチルエーテルアセ ート/N,N-ジメチルアセトアミド=70/30質量比) 用い、コア部を現像した後、プロピレング コールモノメチルエーテル、次いでイソプ パノールを用いて洗浄し、100℃で10分加熱 燥した。

 次に、前記真空加圧式ラミネータを用い、 護フィルム(A31)を除去した上部クラッド層 成用樹脂フィルムCLF-26を、コア部及び下部 ラッド層上に、圧力0.4MPa、温度120℃及び加 時間30秒の条件で積層した。紫外線(波長365nm )を4000mJ/cm 2 照射した後、160℃で1時間硬化させて、上部 ラッド層を形成した。
 続いて、上部及び下部クラッド層形成用樹 フィルムCLF-26の支持フィルム(A4100)を除去し 、光導波路を得た。その後、ダイシングソー (株式会社ディスコ製DAD-341)を用いて導波路長 10cmの光導波路を切り出した。

比較例2及び3
 表4に示す配合比に従ってクラッド層形成用 樹脂ワニスCLV-27~28を調合し、比較例1と同様 方法で、クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-2 7~28を作製した。硬化フィルムの引張り試験 折り曲げ式屈曲耐久試験、スライド式屈曲 久試験、屈折率、及び捻回耐久試験、並び 全光線透過率及びヘイズ測定を実施した結 を表4に示す。
 続いて、これらのクラッド層形成用樹脂フ ルムCLF-27~28を用いて、比較例1と同様な方法 で、光導波路を作製した。

*1:エポキシ基含有アクリルゴムのシクロヘキ サノン溶液(ナガセケムテックス株式会社製 重量平均分子量80万)
*11:ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニル フォスフィンオキサイド(チバ・スペシャリ ィ・ケミカルズ株式会社製)、
*12:1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒ ロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン(チバ・ス ペシャリティ・ケミカルズ株式会社製)
*13:◎:90%以上 ○:70%以上、90%未満 △:50%以上 70%未満、    ×:50%未満、フィルム厚み110μ mの条件で測定
*14:◎:10%以下、○:10%より大きく、20%以下、△ :20%より大きく、   30%以下、×:30%より大き 、フィルム厚み110μmの条件で測定
*17:合成例1で得られたウレタンアクリレートA
*20:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ ト(DPE-6A)共栄社化学株式会社製
*26:合成例3で得られたアクリルポリマーA溶液
*27:合成例4で得られたアクリルポリマーB溶液

 [光伝搬損失の測定]
 実施例1~25、比較例1~3で得られた光導波路( 波路長10cm)の光伝搬損失を、光源に波長850nm 光を中心波長とするVCSEL(EXFO社製FLS-300-01-VCL) 、受光センサ(株式会社アドバンテスト製Q8221 4)、入射ファイバ(GI-50/125マルチモードファイ バ、NA=0.20)及び出射ファイバ(SI-114/125、NA=0.22) を用いて、カットバック法(測定導波路長10、 5、3、2cm)により測定した。
◎:0.1dB/cm以下、○:0.1dB/cmより大きく、0.2dB/cm 下、△:0.2dB/cmより大きく、0.3dB/cm以下、×:0. 3dB/cmより大きい

 また、得られた光導波路(幅5mm、長さ10mm) スライド式屈曲耐久試験、折り曲げ式屈曲 久試験及び捻回耐久試験を前記と同様な条 で実施した。評価については、1万回後に破 断の有無を観察して破断しない最大回数を求 めた。

[スライド式屈曲耐久試験]
 各実施例及び比較例で製造された光導波路1 (幅2mm、長さ50mm)について、図2に示すような ライド式の屈曲耐久試験機(株式会社大昌電 製)を用いて、スライド式屈曲耐久試験を行 った。試験は各実施例及び比較例で得られた 光導波路(幅2mm、長さ50mm)を、屈曲軸(仮想軸)7 に対して下部クラッド層を内側に配置して行 った。また、曲げ半径(R)については、実施例 1~8は2.0mm、実施例9~25及び比較例1~3は1.5mmの条 で行い、スライド速度80mm/秒、X 1 ~X 2 間の距離20mmの条件で試験を行った。評価に いては、1万回毎に破断の有無を観察して破 しない最大回数を求めた。
 以上の結果を表5-1から表5-4に示す。

*1:◎:0.1dB/cm以下、○:0.1dB/cmより大きく、0.2 dB/cm以下、△:0.2dB/cmより大きく、0.3dB/cm以下 ×:0.3dB/cmより大きい

 実施例1~25の光導波路は折り曲げ式屈曲耐久 試験、捻回耐久試験、スライド式屈曲耐久試 験を10万回以上行ってもクラックや破断のな 、屈曲耐久性、捻回耐久性に優れるもので った。
これに対して、比較例1、2の光導波路は、ク ッドの(メタ)アクリルポリマーとして分子 10万以下の(メタ)アクリルポリマーを用いて るため、屈曲耐久性、捻回耐久性に劣るも であった。比較例3の光導波路は、クラッド 組成物中に(B)ウレタンアクリレートを含まな いため、光導波路の伸びが小さくなり、可と う性が低く破断しやすいものであった。

 表1~4から、本発明のクラッド層形成用樹 組成物の硬化フィルムは、屈曲耐久性及び 回耐久性に優れており、これらを用いて製 した光導波路も屈曲耐久性及び捻回耐久性 優れていることがわかる。

 本発明のクラッド層形成用樹脂硬化フィ ム、及びこれを用いた光導波路は、上記構 により優れた屈曲耐久性及び捻回耐久性を するものである。このため、光インタコネ ション等の幅広い分野に適用できる。