以下本発明を実施するための最良の形態� ��ついて詳細に説明するが、本発明はこれら� ��限定されるものではない。

 本発明の位相差フィルムは、A層とB層を� �層した位相差フィルムであって、A層は、カ� ��バゾール構造単位を含むポリマーと、ビニ� ��系モノマーの架橋物とを含有する層であり� ��B層は熱可塑性樹脂からなる層であることを 特徴とする。

 本発明者らは上記問題点に鑑み鋭意検討し� ��結果、下記の知見を得、本発明を成すに至� ��た次第である。
(1)カルバゾール構造単位を含むポリマーとビ ニル系ポリマー同士をブレンドするのではな く、ビニル系モノマーをカルバゾール構造単 位を含むポリマーにブレンドし、次いで架橋 させてカルバゾール構造含有ポリマー層とす ることで、ポリマー同士の相溶性が上がり均 一にブレンドされた状態で硬化されるため、 形成された膜の透明性が上がり、コントラス トが上がる。
(2)ビニルカルバゾールポリマーと相溶してい るビニル系モノマーの一部が基材に浸透した 状態で、架橋するとアンカー効果が得られる 為、層間の密着性が向上し、更に液晶セルに 接する位相差層の剥がれがない為リワーク適 性が向上する。
(3)ビニル系モノマーを用いることで、層が適 度な架橋密度となり、可撓性をもち、脆くな く、かつ適度な温度で延伸可能な層になる。

 従って本発明の位相差層の製造方法の特� ��は、少なくともカルバゾール構造単位を含� ��ポリマーとビニル系モノマーとを含む組成� ��をB層上に塗工した後、熱あるいは活性エネ ルギー線を照射して架橋させてA層を形成す� �ことに特徴がある。

 以下本発明を詳細に説明する。

 〈ビニル系モノマー〉
 本発明に係るビニル系モノマーは、一般的� ��ラジカル重合性のモノマー類、紫外線硬化� ��脂に一般的に用いられる分子内に付加重合� ��能なエチレン性二重結合を複数有する多官� ��モノマー類や、多官能オリゴマー類を用い� ��ことができる。該化合物に限定は無いが、� ��体的には、例えば、2-エチルヘキシルアク� �レート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート 、グリセロールアクリレート、テトラヒドロ フルフリルアクリレート、フェノキシエチル アクリレート、ノニルフェノキシエチルアク リレート、テトラヒドロフルフリルオキシエ チルアクリレート、テトラヒドロフルフリル オキシヘキサノリドアクリレート、1,3-ジオ� �サンアルコールのε-カプロラクトン付加物� �アクリレート、1,3-ジオキソランアクリレー� ��等の単官能アクリル酸エステル類、或いは� ��れらのアクリレートをメタクリレート、イ� ��コネート、クロトネート、マレエートに代� ��たメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸� ��マレイン酸エステル、例えば、エチレング� ��コールジアクリレート、トリエチレングル� ��ールジアクリレート、ペンタエリスリトー� ��ジアクリレート、ハイドロキノンジアクリ� ��ート、レゾルシンジアクリレート、ヘキサ� ��ジオールジアクリレート、ネオペンチルグ� ��コールジアクリレート、トリプロピレング� ��コールジアクリレート、ヒドロキシピバリ� ��酸ネオペンチルグリコールのジアクリレー� ��、ネオペンチルグリコールアジペートのジ� ��クリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペ� ��チルグリコールのε-カプロラクトン付加物� ��ジアクリレート、2-(2-ヒドロキシ-1,1-ジメチ ルエチル)-5-ヒドロキシメチル-5-エチル-1,3-ジ オキサンジアクリレート、トリシクロデカン ジメチロールアクリレート、トリシクロデカ ンジメチロールアクリレートのε-カプロラク トン付加物、1,6-ヘキサンジオールのジグリ� �ジルエーテルのジアクリレート等の2官能ア� ��リル酸エステル類、或いはこれらのアクリ� ��ートをメタクリレート、イタコネート、ク� ��トネート、マレエートに代えたメタクリル� ��、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エ� ��テル、例えばトリメチロールプロパントリ� ��クリレート、ジトリメチロールプロパンテ� ��ラアクリレート、トリメチロールエタント� ��アクリレート、ペンタエリスリトールトリ� ��クリレート、ペンタエリスリトールテトラ� ��クリレート、ジペンタエリスリトールテト� ��アクリレート、ジペンタエリスリトールペ� ��タアクリレート、ジペンタエリスリトール� ��キサアクリレート、ジペンタエリスリトー� ��ヘキサアクリレートのε-カプロラクトン付� ��物、ピロガロールトリアクリレート、プロ� ��オン酸・ジペンタエリスリトールトリアク� ��レート、プロピオン酸・ジペンタエリスリ� ��ールテトラアクリレート、ヒドロキシピバ� ��ルアルデヒド変性ジメチロールプロパント� ��アクリレート等の多官能アクリル酸エステ� ��酸、或いはこれらのアクリレートをメタク� ��レート、イタコネート、クロトネート、マ� ��エートに代えたメタクリル酸、イタコン酸� ��クロトン酸、マレイン酸エステル等を挙げ� ��ことができる。

 中でも、好ましくは、前記一般式(1)、一般� ��(2)で表される化合物が用いられる。式中、R ₁₁ 、R ₁₂ 、R ₁₃ 、R ₁₄ 、R ₂₁ 、R ₂₂ 、R ₂₃ 、R ₂₄ 、R ₃₁ 、R ₃₂ 、R ₃₃ は、水素原子、それぞれ独立して置換基を有 していてもよい脂肪族基、置換基を有してい てもよい芳香族基、及び置換基を有していて もよい複素環基を表す。R ₁₁ 、R ₁₂ 、R ₁₃ 、R ₁₄ 、R ₂₁ 、R ₂₂ 、R ₂₃ 、R ₂₄ 、R ₃₁ 、R ₃₂ 、R ₃₃ で表される脂肪族基、芳香族基、及び複素環 基としては、特に制限はないが、例えば、ア ルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ� �ピル基、イソプロピル基、t-ブチル基、ペン チル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル 基、トリフルオロメチル基等)、シクロアル� �ル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘ� ��シル基等)、アリール基(例えば、フェニル� �、ナフチル基等)、アシルアミノ基(例えば、 アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等)� �アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エ� ��ルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フ� �ニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルケニ� ��基(例えば、ビニル基、2-プロペニル基、3-� �テニル基、1-メチル-3-プロペニル基、3-ペン� ��ニル基、1-メチル-3-ブテニル基、4-ヘキセニ ル基、シクロヘキセニル基等)、ハロゲン原� �(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子� ��沃素原子等)、アルキニル基(例えば、プロ� �ルギル基等)、複素環基(例えば、ピリジル基 、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾ リル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、� ��チルスルホニル基、エチルスルホニル基等) 、アリールスルホニル基(例えば、フェニル� �ルホニル基、ナフチルスルホニル基等)、ア� ��キルスルフィニル基(例えば、メチルスルフ ィニル基等)、アリールスルフィニル基(例え� ��、フェニルスルフィニル基等)、ホスホノ基 、アシル基(例えば、アセチル基、ピバロイ� �基、ベンゾイル基等)、カルバモイル基(例え ば、アミノカルボニル基、メチルアミノカル ボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブ チルアミノカルボニル基、シクロヘキシルア ミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニ ル基、2-ピリジルアミノカルボニル基等)、ス ルファモイル基(例えば、アミノスルホニル� �、メチルアミノスルホニル基、ジメチルア� �ノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル� �、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘ� �シルアミノスルホニル基、オクチルアミノ� �ルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基� �フェニルアミノスルホニル基、ナフチルア� �ノスルホニル基、2-ピリジルアミノスルホニ ル基等)、スルホンアミド基(例えば、メタン� ��ルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド� ��等)、シアノ基、アルコキシ基(例えば、メ� �キシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)、ア� ��ールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフ チルオキシ基等)、複素環オキシ基、シロキ� �基、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキ� ��基、ベンゾイルオキシ基等)、スルホン酸基 、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ 基、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルア� �ノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基� �シクロペンチルアミノ基、2-エチルヘキシル アミノ基、ドデシルアミノ基等)、アニリノ� �(例えば、フェニルアミノ基、クロロフェニ� ��アミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、� ��フチルアミノ基、2-ピリジルアミノ基等)、� ��ミド基、ウレイド基(例えば、メチルウレイ ド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド 基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウ レイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウ レイド基、ナフチルウレイド基、2-ピリジル� ��ミノウレイド基等)、アルコキシカルボニル アミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミ� �基、フェノキシカルボニルアミノ基等)、ア� ��コキシカルボニル基(例えば、メトキシカル ボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキ シカルボニル等)、アリールオキシカルボニ� �基(例えば、フェノキシカルボニル基等)、複 素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル 基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メル カプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。 これらの各基は置換基を有していても良く、 該置換基としては上記に説明したR ₁₁ 、R ₁₂ 、R ₁₃ 、R ₁₄ 、R ₂₁ 、R ₂₂ 、R ₂₃ 、R ₂₄ 、R ₃₁ 、R ₃₂ 、R ₃₃ で表される基と同様の基が挙げられる。

 一般式(1)、一般式(2)の具体例としては以� ��に挙げるものであるが、これに限定される� ��のではない。

 (メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル 酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ )アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシ ル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アク� �ル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸シ� ��ロヘキシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(� ��タ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル� ��フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メ� ��)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)ア� �リル酸テトラヒドロフルフリル、(メタ)アク リル酸γ-ブチロラクトン などの(メタ)アク� �ル系モノマーが好ましく、更に好ましくは(� ��タ)アクリル酸テトラヒドロフルフリルが用 いられる。

 また、アクリルアミド、メタクリルアミ� ��、ジアセトンアクリルアミド、N-メチルア� �リルアミド、N-メチルメタクリルアミド、N,N -ジメチルアクリルアミド、N,N-ジメチルメタ� ��リルアミド、N-エチルアクリルアミド、N-エ チルメタクリルアミド、N,N-ジエチルアクリ� �アミド、N,N-ジエチルメタクリルアミド、N-� �ロピルアクリルアミド、N-アクリロイルピロ リジン、N-アクリロイルピペリジン、N-アク� �ロイルモルホリン、N,N-ジ-n-プロピルアクリ� ��アミド、N-n-ブチルアクリルアミド、N-n-ヘ� �シルアクリルアミド、N-n-ヘキシルメタクリ� ��アミド、N-n-オクチルアクリルアミド、N-n-� �クチルメタクリルアミド、N-tert-オクチルア� ��リルアミド、N-ドデシルアクリルアミド、N- n-ドデシルメタクリルアミド、N,N-ジグリシジ ルアクリルアミド、N,N-ジグリシジルメタク� �ルアミド、N-(4-グリシドキシブチル)アクリ� �アミド、N-(4-グリシドキシブチル)メタクリ� �アミド、N-(5-グリシドキシペンチル)アクリ� �アミド、N-(6-グリシドキシヘキシル)アクリ� �アミド、メチレンビスアクリルアミド、N,N� �-エチレンビスアクリルアミド、N,N″-ヘキサ メチレンビスアクリルアミド、N-メチロール� ��クリルアミドなどのアミド系モノマーも好� ��しく用いられる。また、下記構造の化合物� ��好ましい。

 特に好ましいものはN,N-ジメチルアクリル アミド、N-アクリロイルモルホリンである。

 また、下記のようなビニル系モノマーも� ��いられる。

 好ましくは、N-ビニルピロリドン、N-ビニ ルピペリドンが挙げられる。

 また、本発明においては、R ₁₁ 、R ₁₂ 、及びR ₁₃ が互いに結合して環状構造を形成していても 、R ₁₂ とX ₁ が直接結合して環状構造を形成していてもよ い。具体例としては、ラクトン環、無水環マ レイン酸環などが挙げられ、これらの環は更 に、R ₁₁ 、R ₁₂ 、R ₁₃ 、R ₁₄ 、R ₂₁ 、R ₂₂ 、R ₂₃ 、R ₂₄ 、R ₃₁ 、R ₃₂ 、R ₃₃ で表される基が有してもよい置換基によって さらに置換されていてもよい。

 また、これらのビニル系モノマーは単独� ��も混合物でもよい。また、所望の性能を達� ��するうえで上記モノマー以外の単官能ある� ��は多官能の硬化性モノマーをブレンドして� ��よい。

 〈カルバゾール構造単位を含むポリマー〉
 カルバゾール構造単位を含むポリマーとし� ��は、下記一般式(3)、一般式(4)で表されるカ� ��バゾール誘導体を重合してなるポリマーが� ��げられ、単独重合体でも、他の共重合可能� ��モノマーとの共重合体でもよい。共重合体� ��場合は、ブロックポリマーでもグラフトポ� ��マーでもランダムポリマーでも良い。ここ� ��いうポリマーとは、少なくとも分子内に下� ��カルバゾール構造単位を10量体以上含むこ� �を示す。

(式中、Y ₁ 、Y ₂ 、Y ₃ 、Y ₄ 、Y ₅ 、R ₄₁ 、R ₄₂ 、R ₄₃ 、R ₄₄ 、R ₄₅ 、R ₄₆ 、R ₄₇ はそれぞれ置換基を有していても良く、置換 基としては上記に説明したR ₁₁ 、R ₁₂ 、R ₁₃ 、R ₁₄ 、R ₂₁ 、R ₂₂ 、R ₂₃ 、R ₂₄ 、R ₃₁ 、R ₃₂ 、R ₃₃ で表される基と同様の基が挙げられる。また 、Y ₁ 、Y ₂ 、Y ₃ 、Y ₄ 、Y ₅ のうちのどれかひとつのみが一般式(4)で表さ れる置換基である。)
 好ましくは、N-ビニルカルバゾール誘導体� �あるいは2-ビニルカルバゾール誘導体を重合 したポリマーであり、さらに好ましくは、N-� ��ニルカルバゾール、2-ビニルカルバゾール� �ある。

 カルバゾール誘導体と共重合可能なモノ� ��ーとしては特に限定はされないが、例えば� ��例えばメタクリル酸及びそのエステル誘導� ��(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル 、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチ ル、メタクリル酸i-ブチル、メタクリル酸t-� �チル、メタクリル酸オクチル、メタクリル� �シクロヘキシル、メタクリル酸2-ヒドロキシ エチル、メタクリル酸2-ヒドロキシプロピル� ��メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、メ� ��クリル酸ベンジル、メタクリル酸ジメチル� ��ミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノ� ��チル等)、アクリル酸及びそのエステル誘導 体(アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、� �クリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、ア� �リル酸i-ブチル、アクリル酸t-ブチル、アク� ��ル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシル� ��アクリル酸2-ヒドロキシエチル、アクリル� �2-ヒドロキシプロピル、アクリル酸テトラヒ ドロフルフリル、アクリル酸2-エトキシエチ� ��、アクリル酸ジエチレングリコールエトキ� ��レート、アクリル酸3-メトキシブチル、ア� �リル酸ベンジル、アクリル酸ジメチルアミ� �エチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル� �)、アルキルビニルエーテル(メチルビニルエ ーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニ ルエーテル等)、アルキルビニルエステル(ギ� ��ビニル、酢酸ビニル、酪酸ビニル、カプロ� ��酸ビニル、ステアリン酸ビニル等)、スチレ ン誘導体(例えば、スチレン、α-メチルスチ� �ン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p -メチルスチレン、ビニルナフタレンなど)、� ��ロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコ� ��酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリ� ��、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリル� ��ミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、メタク リルアミドなどの不飽和化合物等を挙げるこ とが出来る。これらは1種単独で、または2種� ��上混合して、前記一般式(3)(4)で表されるモ� ��マー単位と共重合させることができる。ま� ��、前記ビニル系モノマーとして挙げた化合� ��をカルバゾール誘導体と共重合したポリマ� ��を用いても良い。これらモノマーのうち、� ��ましくは(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)ア クリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸テトラヒ� ��ロフルフリル、N-ビニルピロリドン、N-アク リロイルモルホリン、N-ビニルピペリドン、N -ビニルカプロラクタム、N,N-ジメチルアクリ� ��アミドである。

 本発明における上記ポリマーを重合する� ��法は特に問わないが、従来公知の方法を広� ��採用することが出来、例えばラジカル重合� ��アニオン重合、カチオン重合などが挙げら� ��る。ラジカル重合法の開始剤としては、例� ��ば、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられ、� ��ゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、アゾビス� ��ソブチル酸ジエステル誘導体、過酸化ベン� ��イル、過酸化ラウロイルなどが挙げられる� ��重合溶媒は特に問わないが、例えば、トル� ��ン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系� ��媒、ジクロロエタン、クロロホルムなどの� ��ロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフ� ��ン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメ� ��ルホルムアミド等のアミド系溶媒、メタノ� ��ル等のアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢� ��エチル等のエステル系溶媒、アセトン、シ� ��ロヘキサノン、メチルエチルケトンなどの� ��トン系溶媒、水溶媒等が挙げられる。溶媒� ��選択により、均一系で重合する溶液重合、� ��成したポリマーが沈澱する沈澱重合、ミセ� ��状態で重合する乳化重合、懸濁状態で重合� ��る懸濁重合、或いは場合によっては塊状重� ��を行うこともできる。

 前記ポリマーは、カルバゾール構造単位� ��20~70質量%含有することが好ましい。カルバ� ��ール構造単位が20質量%よりも少ないと、位� ��差発現性が低くなり位相差層として成立し� ��くく、70質量%よりも多いと樹脂層が硬くな� ��すぎて延伸しづらくなる。

 前記ポリマーの重量平均分子量(Mw)は10000~ 2000000の範囲内であることが好ましい。より� �ましくは100000~1000000の範囲内である。また前 記共重合体の重量平均分子量Mw/数平均分子量 Mn比は1.5~10.0のものが好ましく用いられる。

 なお、Mw及びMw/Mnは下記の要領で、ゲルパ ーミエーションクロマトグラフィーにより算 出した。

 測定条件は以下の通りである。
溶媒:テトヒドロフラン
装置:HLC-8220(東ソー(株)製)
カラム:TSKgel SuperHM-M(東ソー(株)製)
カラム温度:40℃
試料濃度:0.1質量%
注入量:10μl
流量:0.6ml/min
校正曲線:標準ポリスチレン:PS-1(Polymer Laborato ries社製)Mw=2,560,000~580迄の9サンプルによる校� �曲線を使用した。

 (A層の塗工)
 本発明は、カルバゾール構造単位を含むポ� ��マーとビニル系モノマーの架橋物とを含有� ��るA層と、後述する熱可塑性樹脂からなるB� �を積層する位相差フィルムの製造方法であ� �て、少なくともカルバゾール構造単位を含� �ポリマーとビニル系モノマーとを含む組成� �をB層上に塗工した後、熱あるいは活性エネ� ��ギー線を照射して架橋させてA層を形成する ことを特徴とする。

 塗工方法については特に限定はされない� ��、例えば具体的にはディップコート法、エ� ��ーナイフコート法、カーテンコート法、ロ� ��ラーコート法、コンマコート法、ワイヤー� ��ーコート法、グラビアコート法やエクスト� ��ージョンコート法(ダイコート法)(米国特許2 681294号、特開2003-200097号、特開2003-211052号明� �書参照)、スライドコート法、マイクログラ� ��アコート法等の公知の方法が用いられ、そ� ��中でもマイクログラビアコート法、ダイコ� ��ト法、コンマコート法が好ましい。これら� ��方法は、溶液粘度と膜厚から適宜選択され� ��。

 塗工に際し溶媒としては一般の公知の有� ��溶媒が用いられる、例えばメタノール、エ� ��ノール、プロパノール、ブタノール等のア� ��コール類、アセトン、メチルエチルケトン� ��メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ� ��等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシ� ��ン等の芳香族炭化水素類、エチレングリコ� ��ル、プロピレングリコール、ヘキシレング� ��コール等のグリコール類、エチルセロソル� ��、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール� ��ブチルカルビトール、ジエチルセロソルブ� ��ジエチルカルビトール等のグリコールエー� ��ル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステ� ��類、N-メチルピロリドン、ジメチルホルム� �ミド、ジクロロメタン、クロロホルム、テ� �ラヒドロフラン等の有機溶媒、或いは水が� �いられる。これらは、単独、若しくは2種以� ��を混合して用いることができる。

 また、ビニル系モノマーにポリマーが溶� ��する場合は溶媒がなくても良い。硬化促進� ��ために、重合開始剤、架橋開始剤をポリマ� ��成分に対して5~30質量%含有することが好ま� �い。光重合開始剤としては、特に制限は無� �各種公知のものを使用することが出来る。� �重合開始剤としては、例えばイルガキュア18 4、イルガキュア651、イルガキュア754、イル� �キュア2959、イルガキュア819(チバ・ジャパン (株)製)、ダロキュア-1173(メルク社製)等の光� �始剤を用いることが出来る。更に、ベンゾ� �ェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、p-ジメ チル安息香酸エステル、チオキトサン等の光 増感剤を併用してもよい。

 塗工液中には、カルバゾール構造単位を� ��むポリマーを15~75質量%、ビニル系モノマー� ��85~25質量%含有することが好ましい。カルバ� ��ール構造単位を含むポリマーが15質量%以下� ��なると、位相差発現性が不足して位相差フ� ��ルムとして機能しづらくなり、75質量%より� ��多いと塗膜を硬化してもB層との密着性改善 効果があまり期待できない。

 塗工液の作成方法については、特に制限� ��ないが、あらかじめカルバゾール構造単位� ��含むポリマーを溶媒に完全に溶解したのち� ��ビニル系モノマーを添加することで、短時� ��で均一な塗工液を作成することができ好ま� ��い。

 本発明のA層は、水及び有機溶剤の乾燥の 後に、熱または活性エネルギー線により塗膜 を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化 することが好ましい。

 加熱方法としては、特に制限はないが、� ��ートプレート、ヒートロール、サーマルヘ� ��ド、熱風を吹き付けるなどの方法を使用す� ��のが好ましい。加熱温度としては、使用す� ��ポリマーの種類により一概には規定できな� ��が、基材への熱変形等の影響を与えない温� ��範囲であることが好ましく、30~200℃が好ま� ��く、更に30~120℃が好ましく、特に好ましく� ��50~100℃である。

 活性エネルギー線は、特に制限されるも� ��ではなく、皮膜を形成する硬化性組成物の� ��類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、� ��視光、近赤外線、赤外線、X線などから適宜 選択することができるが、紫外線、電子線が 好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギ ーが容易に得られるという点で紫外線が好ま しい。

 紫外線反応性化合物を光重合させる紫外� ��の光源としては、紫外線を発生する光源で� ��れば何れも使用できる。例えば、低圧水銀� ��、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯� ��カーボンアーク灯、メタルハライドランプ� ��キセノンランプ等を用いることができる。� ��た、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ� ��エキシマランプ又はシンクロトロン放射光� ��も用いることができる。このうち、超高圧� ��銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボン� ��ーク、キセノンアーク、メタルハライドラ� ��プを好ましく利用できる。

 電子線としては、コックロフトワルトン� ��、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア� ��圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周� ��型等の各種電子線加速器から放出される50~1 000keV、好ましくは100~300keVのエネルギーを有� �る電子線を挙げることができる。

 A層の厚みは特に限定されないが、2~50μm� �好ましい。特に膜厚は3~40μmであることがよ� ��好ましく、更に好ましくは5~30μmである。

 前記したように本発明の構成であればA層 とB層の密着性は高いが、更に高めたい場合� �、A層、B層間に易接着層を設けても良い。易 接着層の材料としては特に限定はなく、公知 の材料を適宜用いることができる。易接着層 の膜厚は、1μm以下が好ましく、更に好まし� �は0.5μm以下である。

 A層の位相差は、Ro=80~200nm、Rt=-70~-150nmであ ることが好ましい。A層、B層が面内遅相軸を� ��する場合は、互いの面内遅相軸が直交する� ��うに積層されていることが視野角拡大効果� ��向上させる点で好ましい。

 尚、リターデーション値は下記により求� ��ることができる。

  Ro=(nx-ny)×d
  Rt=((nx+ny)/2-nz)×d
(式中、nxは樹脂層の面内の遅相軸方向の屈折 率を、nyは面内で遅相軸に直交する方向の屈� ��率を、nzは厚み方向の屈折率を、dは樹脂層� ��厚み(nm)をそれぞれ表す。)
 上記3次元屈折率は、例えばKOBRA-21ADH(王子計 測機器(株))を用いて、23℃、55%RHの環境下で� �波長が590nmで求めることができる。

 上記リターデーション値Ro、Rtは、B層上� �A層を積層した後に延伸操作を行うことで得� ��れる。例えばフィルムの長手方向(塗工方向 )及びそれとフィルム面内で直交する方向、� �ち幅手方向に対して、逐次または同時に2軸� ��伸もしくは1軸延伸することができる。互い に直交する2軸方向の延伸倍率は、それぞれ� �終的には塗工方向に1.01~2.5倍、幅方向に0.5~1. 5倍の範囲とすることが好ましく、塗工方向� �1.05~1.5倍、幅方向に0.5~1.2倍の範囲で行うこ� �が好ましい。

 該延伸操作は加熱しながら行うことが好� ��しく、例えばテンターを用いる場合では、� ��ンター内延伸部の温度を50~200℃、好ましく� ��80~200℃、より好ましくは120~200℃、特に好ま しくは140~200℃の範囲に設定する。またはB層� ��構成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度(Tg) -50℃~Tg+50℃、好ましくはTg-40℃~Tg+40℃の温度� ��囲で行われる。

 〈B層〉
 本発明のB層は、延伸時に延伸方向と平行方 向に遅相軸を有するポリマーを含有すること が好ましく、透明性が高く熱可塑性のあるも のが好ましい。但し、複数の材料を含んだ混 合物でもよい。具体的には、熱可塑性樹脂と して、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)� ��セルロースアセテートプロピオネート(CAP)� �のセルロースエステル系樹脂、ポリノルボ� �ネン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポ� �エステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエ� �テルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂� �ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポ� �オレフィン系樹脂、ポリアリレート系樹脂� �ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビ� �ル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂や、� �れらの混合物等が挙げられる。特に本発明� �係るB層は、セルロースエステル系樹脂、ポ� ��カーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、シ� ��ロオレフィン系樹脂、オレフィン系樹脂、� ��びポリエステル系樹脂から選ばれる少なく� ��も1種の樹脂からなることが好ましい。

 〈セルロースエステル系樹脂〉
 セルロースエステル系樹脂(以下、セルロー スエステルともいう)としては、特に限定は� �れず、例えば芳香族カルボン酸エステル等� �用いられるが、光学特性等の得られるフィ� �ムの特性を鑑みると、セルロースの低級脂� �酸エステルを使用するのが好ましい。

 本発明においてセルロースの低級脂肪酸� ��ステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数� ��5以下の脂肪酸を意味し、例えばセルロース アセテート、セルロースプロピオネート、セ ルロースブチレート、セルロースピバレート 等がセルロースの低級脂肪酸エステルの好ま しいものとして挙げられる。

 炭素原子数が6以上の脂肪酸で置換された セルロースエステルでは、製膜性は良好であ るものの、得られる光学フィルムの力学特性 が低く、実質的に光学フィルムとして用いる ことが難しいためである。

 また、力学特性と溶融製膜性の双方を両� ��させるために、例えば、特開平10-45804号、� �8-231761号、米国特許第2,319,052号等に記載され ているセルロースアセテートプロピオネート 、セルロースアセテートブチレート等の混合 脂肪酸エステル等を用いてもよい。

 上記セルロースエステルの中でも、セル� ��ースアセテートプロピオネート、セルロー� ��アセテートブチレートが好ましく用いられ� ��。

 次に、本発明に好ましく用いられるセル� ��ースエステルのアシル基の置換度について� ��明する。

 セルロースには、1グルコース単位の2位� �3位、6位に1個ずつ、計3個の水酸基があり、� ��置換度とは、平均して1グルコース単位にい くつのアシル基が結合しているかを示す数値 である。

 従って、最大の置換度は3.0である。これ� ��アシル基は、グルコース単位の2位、3位、6� ��に平均的に置換していてもよいし、分布を� ��って置換していてもよい。

 混合脂肪酸エステルの置換度として、さ� ��に好ましいセルロースアセテートプロピオ� ��ートやセルロースアセテートブチレートの� ��級脂肪酸エステルは炭素原子数2~4のアシル� ��を置換基として有し、アセチル基の置換度� ��Xとし、プロピオニル基またはブチリル基の 置換度をYとした時、下記式(i)、(ii)を満たす� ��ルロースエステルであることが好ましい。

 式(i) 2.3≦X+Y≦3.0
 式(ii) 0≦X≦2.5
 この内特にセルロースアセテートプロピオ� ��ートが好ましく用いられ、中でも1.9≦X≦2.5 、0.1≦Y≦0.9であることが好ましい。アシル� �で置換されていない部分は通常水酸基とし� �存在しているのものである。これらは公知� �方法で合成することができる。アシル基の� �換度の測定方法はASTM-D817-96に準じて測定す� �ことができる。

 さらに、本発明で用いられるセルロース� ��ステルは、重量平均分子量Mw/数平均分子量M n比が1.5~5.5のものが好ましく用いられ、特に� ��ましくは2.0~4.0である。

 本発明で用いられるセルロースエステル� ��、50000~150000の数平均分子量(Mn)を有すること が好ましく、55000~120000の数平均分子量を有す ることが更に好ましく、60000~100000の数平均分 子量を有することが最も好ましい。

 なお、Mn及びMw/Mnは下記の要領で、ゲルパ ーミエーションクロマトグラフィーにより算 出した。

 測定条件は以下の通りである。
溶媒:テトヒドロフラン
装置:HLC-8220(東ソー(株)製)
カラム:TSKgel SuperHM-M(東ソー(株)製)
カラム温度:40℃
試料濃度:0.1質量%
注入量:10μl
流量:0.6ml/min
校正曲線:標準ポリスチレン:PS-1(Polymer Laborato ries社製)Mw=2,560,000~580迄の9サンプルによる校� �曲線を使用した。

 本発明で用いられるセルロースエステル� ��原料セルロースは、木材パルプでも綿花リ� ��ターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広� ��樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい� ��製膜の際の剥離性の点からは綿花リンター� ��好ましく用いられる。これらから作られた� ��ルロースエステルは適宜混合して、或いは� ��独で使用することが出来る。

 例えば、綿花リンター由来セルロースエ� ��テル:木材パルプ(針葉樹)由来セルロースエ� ��テル:木材パルプ(広葉樹)由来セルロースエ� ��テルの比率が100:0:0、90:10:0、85:15:0、50:50:0、 20:80:0、10:90:0、0:100:0、0:0:100、80:10:10、85:0:15� �40:30:30で用いることが出来る。

 セルロースエステルは、例えば、原料セ� ��ロースの水酸基を無水酢酸、無水プロピオ� ��酸及び/または無水酪酸を用いて常法により アセチル基、プロピオニル基及び/またはブ� �ル基を上記の範囲内に置換することで得ら� �る。このようなセルロースエステルの合成� �法は、特に限定はないが、例えば、特開平10 -45804号或いは特表平6-501040号に記載の方法を� ��考にして合成することができる。

 本発明に用いられるセルロースエステル� ��アルカリ土類金属含有量は、1~50ppmの範囲で あることが好ましい。50ppmを超えるとリップ� ��着汚れが増加或いは熱延伸時や熱延伸後で� ��スリッティング部で破断しやすくなる。1ppm 未満でも破断しやすくなるがその理由はよく 分かっていない。1ppm未満にするには洗浄工� �の負担が大きくなり過ぎるためその点でも� �ましくない。更に1~30ppmの範囲が好ましい。� ��こでいうアルカリ土類金属とはCa、Mgの総含 有量のことであり、X線光電子分光分析装置(X PS)を用いて測定することが出来る。

 本発明に用いられるセルロースエステル� ��の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で0.1~45p pmの範囲であることが好ましい。これらは塩� ��形で含有していると考えられる。0.1ppm未満� ��するにはセルロースエステルの洗浄工程の� ��担が大きくなり過ぎる為、1~30ppmの範囲が好 ましい。残留硫酸含有量は、ASTM-D817-96に規定 の方法に準じて測定することが出来る。

 本発明に用いられるセルロースエステル� ��の遊離酸含有量は、1~500ppmであることが好� �しい。洗浄で1ppm未満にすることは困難であ� ��為、1~100ppmの範囲であることが好ましい。� �離酸含有量はASTM-D817-96に規定の方法に準じ� �測定することが出来る。

 B層の厚みは特に限定されないが、10~200μm が用いられる。特に膜厚は10~100μmであること が特に好ましい。更に好ましくは20~60μmであ� ��。

 前記B層中には、必要に応じて可塑剤を含 有することができる。

 可塑剤は単に可塑化効果のみならず、B層 の複屈折発現性(延伸後の位相差)、波長分散� ��適切に調整する機能を有しても良い。また� ��光弾性係数の絶対値を低下させる材料も好� ��しい。可塑剤は特に限定されないが、好ま� ��くは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、� ��リコレート系可塑剤、フタル酸エステル系� ��塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価ア� ��コールエステル系可塑剤、ポリエステル系� ��塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される� ��更にB層の位相差をコントロールするために 、位相差を正の複屈折性を発現する材料や、 波長分散を調整する材料、光弾性係数をゼロ に近づける材料などを含んでいてもよい。

 本発明はB層に、セルロースエステル以外 に、(メタ)アクリル系重合体と、フラノース� ��造もしくはピラノース構造を1個有する化合 物(A)中のOH基のすべてもしくは一部をエステ� ��化したエステル化化合物、或いは、フラノ� ��ス構造もしくはピラノース構造の少なくと� ��1種を2個以上、12個以下結合した化合物(B)中 のOH基のすべてもしくは一部をエステル化し� ��エステル化化合物を含有することも好まし� ��。

 〈(メタ)アクリル系重合体〉
 本発明に用いられる(メタ)アクリル系重合� �としては、位相差フィルムに含有させた場� �、機能として延伸方向に対して負の複屈折� �を示すことが好ましく、特に構造が限定さ� �るものではないが、エチレン性不飽和モノ� �ーを重合して得られた重量平均分子量が500� �上30000以下である重合体であることが好まし い。

 本発明に用いられる重量平均分子量が500� ��上30000以下である(メタ)アクリル系重合体は 、芳香環を側鎖に有する(メタ)アクリル系重� ��体またはシクロヘキシル基を側鎖に有する( メタ)アクリル系重合体であってもよい。

 該重合体の重量平均分子量が500以上30000� �下のもので該重合体の組成を制御すること� �より、例えばB層層にセルロースエステルを� ��有する場合、該セルロースエステルと該重� ��体との相溶性を良好にすることができる。

 芳香環を側鎖に有する(メタ)アクリル系� �合体またはシクロヘキシル基を側鎖に有す� �(メタ)アクリル系重合体について、好ましく は重量平均分子量が500以上10000以下のもので� ��れば、上記に加え、製膜後のB層の透明性が 優れ、透湿度も極めて低く、例えば偏光板用 保護フィルムに適用しても優れた性能を示す 。

 該重合体は、重量平均分子量が500以上3000 0以下であるから、オリゴマーから低分子量� �合体の間にあると考えられるものである。� �のような重合体を合成するには、通常の重� �では分子量のコントロールが難しく、分子� �を余り大きくしない方法でできるだけ分子� �を揃えることのできる方法を用いることが� �ましい。

 特に、本発明のB層に用いられる(メタ)ア� ��リル系重合体としては、分子内に芳香環と� ��酸基を有しないエチレン性不飽和モノマーX aと、分子内に芳香環を有せず、水酸基を有� �るエチレン性不飽和モノマーXbとXa、Xbを除� �共重合可能なエチレン性不飽和モノマーと� �共重合して得られた重量平均分子量2000以上3 0000以下の重合体X、または芳香環を有さない� ��チレン性不飽和モノマーYaと、Yaと共重合可 能なエチレン性不飽和モノマーとを重合して 得られた重量平均分子量500以上3000以下の重� �体Yであることが好ましい。

 [重合体X、重合体Y]
 本発明に係るB層のRo及びRtを調整する方法� �しては、分子内に芳香環と水酸基を有しな� �エチレン性不飽和モノマーXaと、分子内に芳 香環を有せず、水酸基を有するエチレン性不 飽和モノマーXbとXa、Xbを除く共重合可能なエ チレン性不飽和モノマーとを共重合して得ら れた重量平均分子量2000以上30000以下の高分子 量の重合体X、そして、より好ましくは、芳� �環を有さないエチレン性不飽和モノマーYaと 、Yaと共重合可能なエチレン性不飽和モノマ� ��とを重合して得られた重量平均分子量500以� ��3000以下の低分子量の重合体Yを含有するこ� �が好ましい。

 本発明に用いられる重合体Xは、分子内に 芳香環と水酸基を有しないエチレン性不飽和 モノマーXaと分子内に芳香環を有せず、水酸� ��を有するエチレン性不飽和モノマーXbとXa、 Xbを除く共重合可能なエチレン性不飽和モノ� ��ーとを共重合して得られた重量平均分子量2 000以上、30000以下の重合体である。

 好ましくは、Xaは分子内に芳香環と水酸� �を有しないアクリルまたはメタクリルモノ� �ー、Xbは分子内に芳香環を有せず水酸基を有 するアクリルまたはメタクリルモノマーであ る。

 本発明に用いられる重合体Xは、下記一般 式(X)で表される。

 一般式(X)
   -[Xa]m-[Xb]n-[Xc]p-
 上記一般式(X)において、Xaは分子内に芳香� �と水酸基とを有しないエチレン性不飽和モ� �マーを表し、Xbは分子内に芳香環を有せず、 水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーを 表し、XcはXa、Xbを除く共重合可能なエチレン 性不飽和モノマーを表す。m、n及びpは、各々 モル組成比を表す。ただし、m≠0、m+n+p=100で� ��る。

 更に、重合体Xとして好ましくは、下記一 般式(X-1)で表される重合体である。

 一般式(X-1)
   -[CH ₂ -C(-R1)(-CO ₂ R2)]m-[CH ₂ -C(-R3)(-CO ₂ R4-OH)-]n-[Xc]p-
 上記一般式(X-1)において、R1、R3は、それぞ� ��水素原子またはメチル基を表す。R2は炭素� �1~12のアルキル基またはシクロアルキル基を� ��す。R4は-CH ₂ -、-C ₂ H ₄ -または-C ₃ H ₆ -を表す。Xcは、[CH ₂ -C(-R1)(-CO ₂ R2)]または[CH ₂ -C(-R3)(-CO ₂ R4-OH)-]に重合可能なモノマー単位を表す。m、 n及びpは、モル組成比を表す。ただしm≠0、m+ n+p=100である。

 本発明に用いられる重合体Xを構成するモ ノマー単位としてのモノマーを下記に挙げる が、これに限定されない。

 Xにおいて、水酸基とは、水酸基のみなら ずエチレンオキシド連鎖を有する基をいう。

 分子内に芳香環と水酸基を有しないエチ� ��ン性不飽和モノマーXaは、例えば、アクリ� �酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸� �ロピル(i-、n-)、アクリル酸ブチル(n-、i-、s-� ��t-)、アクリル酸ペンチル(n-、i-、s-)、アク� �ル酸ヘキシル(n-、i-)、アクリル酸ヘプチル(n -、i-)、アクリル酸オクチル(n-、i-)、アクリ� �酸ノニル(n-、i-)、アクリル酸ミリスチル(n-� �i-)、アクリル酸(2-エチルヘキシル)、アクリ� ��酸(ε-カプロラクトン)、等、または上記ア� �リル酸エステルをメタクリル酸エステルに� �えたものを挙げることができる。中でも、� �クリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタ� �リル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ� �リル酸プロピル(i-、n-)であることが好まし� �。

 分子内に芳香環を有せず、水酸基を有す� ��エチレン性不飽和モノマーXbは、水酸基を� �するモノマー単位として、アクリル酸また� �メタクリル酸エステルが好ましく、例えば� �アクリル酸(2-ヒドロキシエチル)、アクリル� ��(2-ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3-ヒド ロキシプロピル)、アクリル酸(4-ヒドロキシ� �チル)、アクリル酸(2-ヒドロキシブチル)、ま たはこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き 換えたものを挙げることができ、好ましくは 、アクリル酸(2-ヒドロキシエチル)及びメタ� �リル酸(2-ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2-� ��ドロキシプロピル)、アクリル酸(3-ヒドロキ シプロピル)である。

 Xcとしては、Xa、Xb以外のモノマーで、か� ��共重合可能なエチレン性不飽和モノマーで� ��れば、特に制限はないが、芳香環を有して� ��ないものが好ましい。

 Xa及びXbのモル組成比m:nは99:1~65:35の範囲� �好ましく、更に好ましくは95:5~75:25の範囲で� ��る。Xcのpは0~10である。Xcは複数のモノマー� ��位であってもよい。

 Xaのモル組成比が多いと、セルロースエ� �テルとの相溶性が良化するがフィルム厚み� �向のリターデーション値Rtが大きくなる。Xb� ��モル組成比が多いと上記相溶性が悪くなる� ��、Rtを低減させる効果が高い。

 また、Xbのモル組成比が上記範囲を超え� �と製膜時にヘイズが出る傾向があり、これ� �の最適化を図りXa、Xbのモル組成比を決める� ��とが好ましい。

 高分子量の重合体Xの分子量は、重量平均 分子量が5000以上30000以下であることがより好 ましく、更に好ましくは8000以上25000以下であ る。

 重量平均分子量を5000以上とすることによ り、B層の高温高湿下における寸法変化が少� �い、偏光板保護フィルムとしてカールが少� �い等の利点が得られ好ましい。

 重量平均分子量が30000以下とした場合は� �セルロースエステルとの相溶性がより向上� �、高温高湿下においてのブリードアウト、� �に製膜直後でのヘイズの発生が抑制される� �

 本発明に用いられる重合体Xの重量平均分 子量は、公知の分子量調節方法で調整するこ とができる。そのような分子量調節方法とし ては、例えば、四塩化炭素、ラウリルメルカ プタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖 移動剤を添加する方法等が挙げられる。

 また、重合温度は、通常、室温から130℃� ��好ましくは50℃から100℃で行われるが、こ� �温度または重合反応時間を調整することで� �能である。

 重量平均分子量の測定方法は、下記の方� ��により求めることができる。

 (平均分子量測定方法)
 重量平均分子量Mw、数平均分子量Mnは、ゲル パーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を� ��いて測定した。

 測定条件は以下の通りである。

 溶媒:   メチレンクロライド
 カラム:  Shodex K806、K805、K803G(昭和電工(株 )製を3本接続して使用した)
 カラム温度:25℃
 試料濃度: 0.1質量%
 検出器:  RI Model 504(GLサイエンス社製)
 ポンプ:  L6000(日立製作所(株)製)
 流量:   1.0ml/min
 校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポ� ��スチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000~500の13サン� �ルによる校正曲線を使用した。13サンプルは 、ほぼ等間隔に用いる。

 本発明に用いられる低分子量の重合体Yは 、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマ ーYaを重合して得られた重量平均分子量500以� ��3000以下の重合体である。重量平均分子量500 以上であれば重合体の残存モノマーが減少し 好ましい。

 また、3000以下とすることは、リターデー ション値Rt低下性能を維持するために好まし� ��。Yaは、好ましくは芳香環を有さないアク� �ルまたはメタクリルモノマーである。

 本発明に用いられる重合体Yは、下記一般 式(Y)で表される。

 一般式(Y)
  -[Ya]k-[Yb]q-
 上記一般式(Y)において、Yaは芳香環を有し� �いエチレン性不飽和モノマーを表し、YbはYa� ��共重合可能なエチレン性不飽和モノマーを� ��す。k及びqは、各々モル組成比を表す。た� �し、k≠0、k+q=100である。

 本発明に係る重合体Yにおいて、更に好ま しくは下記一般式(Y-1)で表される重合体であ� ��。

 一般式(Y-1)
   -[CH ₂ -C(-R5)(-CO ₂ R6)]k-[Yb]q-
 上記一般式(Y-1)において、R5は、それぞれ水 素原子またはメチル基を表す。R6は炭素数1~12 のアルキル基またはシクロアルキル基を表す 。Ybは、[CH ₂ -C(-R5)(-CO ₂ R6)]と共重合可能なモノマー単位を表す。k及� ��qは、それぞれモル組成比を表す。ただしk� �0、k+q=100である。

 Ybは、Yaである[CH ₂ -C(-R5)(-CO ₂ R6)]と共重合可能なエチレン性不飽和モノマ� �であれば特に制限はない。Ybは複数であって もよい。k+q=100、qは好ましくは1~30である。

 芳香環を有さないエチレン性不飽和モノ� ��ーを重合して得られる重合体Yを構成するエ チレン性不飽和モノマーYaは、アクリル酸エ� ��テルとして、例えば、アクリル酸メチル、� ��クリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i-、n -)、アクリル酸ブチル(n-、i-、s-、t-)、アクリ ル酸ペンチル(n-、i-、s-)、アクリル酸ヘキシ� ��(n-、i-)、アクリル酸ヘプチル(n-、i-)、アク� ��ル酸オクチル(n-、i-)、アクリル酸ノニル(n-� ��i-)、アクリル酸ミリスチル(n-、i-)、アクリ� ��酸シクロヘキシル、アクリル酸(2-エチルヘ� ��シル)、アクリル酸(ε-カプロラクトン)、ア� ��リル酸(2-ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2- ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3-ヒドロ� �シプロピル)、アクリル酸(4-ヒドロキシブチ� ��)、アクリル酸(2-ヒドロキシブチル)、メタ� �リル酸エステルとして、上記アクリル酸エ� �テルをメタクリル酸エステルに変えたもの;� ��飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタ� ��リル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イ� ��コン酸等を挙げることができる。

 Ybは、Yaと共重合可能なエチレン性不飽和 モノマーであれば特に制限はないが、ビニル エステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロ ピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル 、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カ プリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリス チン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステア リン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビ ニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニ ル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、 桂皮酸ビニル等が好ましい。Ybは複数であっ� ��もよい。

 重合体X、Yを合成するには、通常の重合� �は分子量のコントロールが難しく、分子量� �余り大きくしない方法で、かつ出来るだけ� �子量を揃えることのできる方法を用いるこ� �が望ましい。

 かかる重合方法としては、クメンペルオ� ��シドやt-ブチルヒドロペルオキシドのよう� �過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合� �始剤を通常の重合より多量に使用する方法� �重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩� �炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合� �始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼ� �のような重合停止剤を使用する方法、更に� �開2000-128911号または同2000-344823号公報にある� ��うな一つのチオール基と2級の水酸基とを有 する化合物、或いは、該化合物と有機金属化 合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合す る方法等を挙げることができ、何れも本発明 において好ましく用いられる。

 特に、重合体Yは、分子中にチオール基と 2級の水酸基とを有する化合物を連鎖移動剤� �して使用する重合方法が好ましい。この場� �、重合体Yの末端には、重合触媒及び連鎖移� ��剤に起因する水酸基、チオエーテルを有す� ��こととなる。この末端残基により、Yとセル ロースエステルとの相溶性を調整することが できる。

 重合体X及びYの水酸基価は、30~150[mgKOH/g]� �あることが好ましい。

 (水酸基価の測定方法)
 水酸基価の測定は、JIS K 0070(1992)に準ずる� ��この水酸基価は、試料1gをアセチル化させ� �とき、水酸基と結合した酢酸を中和するの� �必要とする水酸化カリウムのmg数と定義され る。

 具体的には試料Xg(約1g)をフラスコに精秤� ��、これにアセチル化試薬(無水酢酸20mlにピ� �ジンを加えて400mlにしたもの)20mlを正確に加� ��る。フラスコの口に空気冷却管を装着し、9 5~100℃のグリセリン浴にて加熱する。1時間30� ��後、冷却し、空気冷却管から精製水1mlを加� ��、無水酢酸を酢酸に分解する。

 次に電位差滴定装置を用いて0.5mol/L水酸� �カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得� �れた滴定曲線の変曲点を終点とする。

 更に空試験として、試料を入れないで滴� ��し、滴定曲線の変曲点を求める。水酸基価� ��、次の式によって算出する。

   水酸基価={(B-C)×f×28.05/X}+D
 式中、Bは空試験に用いた0.5mol/Lの水酸化カ� ��ウムエタノール溶液の量(ml)、Cは滴定に用� �た0.5mol/Lの水酸化カリウムエタノール溶液の 量(ml)、fは0.5mol/L水酸化カリウムエタノール� �液のファクター、Dは酸価、また、28.05は水� �化カリウムの1mol量56.11の1/2を表す。

 上述の重合体X、重合体Yは何れもセルロ� �スエステルとの相溶性に優れ、蒸発や揮発� �なく生産性に優れ、偏光板用保護フィルム� �しての保留性がよく、透湿度が小さく、寸� �安定性に優れている。

 重合体Xと重合体YのB層中での含有量は、下� ��式(i)、式(ii)を満足する範囲であることが好 ましい。重合体Xの含有量をXg(質量%=(重合体X� ��質量/セルロースエステルの質量)×100)、重� �体Yの含有量をYg(質量%)とすると、
 式(i) 5≦Xg+Yg≦35(質量%)
 式(ii) 0.05≦Yg/(Xg+Yg)≦0.4
 式(i)の(Xg+Yg)の好ましい範囲は、10~35質量%で ある。重合体Xと重合体Yは、セルロースエス� ��ル全質量に対し、総量として5質量%以上で� �れば、リターデーション値Rtの調整に十分な 作用をする。また、総量として35質量%以下で あれば、偏光子PVAとの接着性が良好である。

 重合体Xと重合体Yは、後述するドープ液� �構成する素材として直接添加、溶解するか� �もしくはセルロースエステルを溶解する有� �溶媒に予め溶解した後ドープ液に添加する� �とができる。

 〈フラノース構造もしくはピラノース構造� ��有する化合物〉
 本発明のB層は、(メタ)アクリル系重合体と� ��に、フラノース構造もしくはピラノース構� ��を1個有す化合物(A)中のOH基のすべてもしく� ��一部をエステル化したエステル化化合物、� ��いは、フラノース構造もしくはピラノース� ��造の少なくとも1種を2個以上、12個以下結合 した化合物(B)中のOH基のすべてもしくは一部� ��エステル化したエステル化化合物を含むこ� ��が好ましい。

 本発明においては、上記化合物(A)のエス� ��ル化化合物及び上記化合物(B)のエステル化� ��合物を総称して、糖エステル化合物とも称� ��。

 また、前記エステル化化合物が単糖類(α-グ ルコース、βフルクトース)の安息香酸エステ ル、もしくは前記一般式(A)で表される、単糖 類の-OR ₁₂ 、-OR ₁₅ 、-OR ₂₂ 、-OR ₂₅ の任意の2箇所以上が脱水縮合して生成したm+ n=2~12の多糖類の安息香酸エステルであること が好ましい。

 上記一般式中の安息香酸は更に置換基を� ��していてもよく、例えばアルキル基、アル� ��ニル基、アルコキシル基、フェニル基が挙� ��られ、更にこれらのアルキル基、アルケニ� ��基、フェニル基は置換基を有していてもよ� ��。

 好ましい化合物(A)及び化合物(B)の例とし� ��は、例えば以下のようなものを挙げること� ��できるが、本発明はこれらに限定されるも� ��ではない。

 化合物(A)の例としては、グルコース、ガ� ��クトース、マンノース、フルクトース、キ� ��ロース、或いはアラビノースが挙げられる� ��

 化合物(B)の例としては、ラクトース、ス� ��ロース、ニストース、1F-フラクトシルニス� ��ース、スタキオース、マルチトール、ラク� ��トール、ラクチュロース、セロビオース、� ��ルトース、セロトリオース、マルトトリオ� ��ス、ラフィノース或いはケストース挙げら� ��る。

 このほか、ゲンチオビオース、ゲンチオ� ��リオース、ゲンチオテトラオース、キシロ� ��リオース、ガラクトシルスクロースなども� ��げられる。

 これらの化合物(A)及び化合物(B)の中で、� ��にフラノース構造とピラノース構造を両方� ��する化合物が好ましい。例としてはスクロ� ��ス、ケストース、ニストース、1F-フラクト� ��ルニストース、スタキオースなどが好まし� ��、更に好ましくは、スクロースである。

 また、化合物(B)において、フラノース構� ��もしくはピラノース構造の少なくとも1種を 2個以上、3個以下結合した化合物であること� ��、好ましい態様の1つである。

 本発明に係る化合物(A)及び化合物(B)中のO H基のすべてもしくは一部をエステル化する� �に用いられるモノカルボン酸としては、特� �制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸� �脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボ� �酸等を用いることができる。用いられるカ� �ボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合で あってもよい。

 好ましい脂肪族モノカルボン酸としては� ��酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉� ��酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸� ��ペラルゴン酸、カプリン酸、2-エチル-ヘキ� ��ンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸� ��トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシ� ��酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステ� ��リン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘ� ��酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタ� ��サン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセ� ��酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレ� ��ン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン� ��、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂� ��酸等を挙げることができる。

 好ましい脂環族モノカルボン酸の例とし� ��は、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘ� ��サンカルボン酸、シクロオクタンカルボン� ��、またはそれらの誘導体を挙げることがで� ��る。

 好ましい芳香族モノカルボン酸の例とし� ��は、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸の� ��ンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導� ��した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベ� ��ジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリ� ��カルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベ� ��ゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン 酸、またはそれらの誘導体を挙げることがで き、より、具体的には、キシリル酸、ヘメリ ト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ-イ ソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α-イ ソジュリル酸、クミン酸、α-トルイル酸、ヒ ドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮 酸、サリチル酸、o-アニス酸、m-アニス酸、p- アニス酸、クレオソート酸、o-ホモサリチル� ��、m-ホモサリチル酸、p-ホモサリチル酸、o-� ��ロカテク酸、β-レソルシル酸、バニリン酸� ��イソバニリン酸、ベラトルム酸、o-ベラト� �ム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸� �ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラ� �ルム酸、o-ホモベラトルム酸、フタロン酸、 p-クマル酸を挙げることができるが、特に安� ��香酸が好ましい。

 上記化合物(A)及び化合物(B)をエステル化� ��たエステル化化合物の中では、エステル化� ��よりアセチル基が導入されたアセチル化化� ��物が好ましい。

 これらアセチル化化合物の製造方法は、� ��えば、特開平8-245678号公報に記載されてい� �。

 上記化合物(A)及び化合物(B)のエステル化� ��合物に加えて、オリゴ糖のエステル化化合� ��を、本発明に係るフラノース構造もしくは� ��ラノース構造の少なくとも1種を3~12個結合� �た化合物として適用できる。

 オリゴ糖は、澱粉、ショ糖等にアミラー� ��等の酵素を作用させて製造されるもので、� ��発明に適用できるオリゴ糖としては、例え� ��、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、� ��ラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシ� ��オリゴ糖が挙げられる。

 オリゴ糖も上記化合物(A)及び化合物(B)と� ��様な方法でアセチル化できる。

 次に、エステル化化合物の製造例の一例� ��記載する。

 グルコース(29.8g、166mmol)にピリジン(100ml)� ��加えた溶液に無水酢酸(200ml)を滴下し、24時� ��反応させた。その後、エバポレートで溶液� ��濃縮し氷水へ投入した。

 1時間放置した後、ガラスフィルターにて ろ過し、固体と水を分離し、ガラスフィルタ ー上の固体をクロロホルムに溶かし、これが 中性になるまで冷水で分液した。

 有機層を分離後、無水硫酸ナトリュウム� ��より乾燥した。無水硫酸ナトリュウムをろ� ��により除去した後、クロロホルムをエバポ� ��ートにより除き、更に減圧乾燥することに� ��りグリコースペンタアセテート(58.8g、150mmol 、90.9%)を得た。尚、上記無水酢酸の替わりに 、上述のモノカルボン酸を使用することがで きる。

 以下に、本発明に用いられるエステル化� ��合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに� ��定されるものではない。

 本発明のB層は、エステル化化合物を1~30� �量%含むことが好ましく、特には、5~30質量%� �むことが好ましい。この範囲内であれば、� �発明の優れた効果を呈すると共に、ブリー� �アウトなどもなく好ましい。

 また、(メタ)アクリル系重合体とフラノ� �ス構造もしくはピラノース構造を1個有す化� ��物(A)中の、或いは、フラノース構造もしく� ��ピラノース構造の少なくとも1種を2~12個結� �した化合物(B)中のOH基のすべてもしくは一部 をエステル化したエステル化化合物と前述の 他の可塑剤を併用することができる。

 また、これらのB層には必要に応じて微粒 子を添加することもできる。微粒子としては 、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸 化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニ ウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タ ルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カ ルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸ア ルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸 カルシウムを挙げることができる。

 微粒子の一次粒子の平均粒径は5~400nmが好 ましく、更に好ましいのは10~300nmである。こ� ��らは主に粒径0.05~0.3μmの2次凝集体として含� ��されていてもよく、平均粒径100~400nmの粒子� ��あれば凝集せずに一次粒子として含まれて� ��ることも好ましい。偏光板保護フィルム中� ��これらの微粒子の含有量は0.01~1質量%である ことが好ましく、特に0.05~0.5質量%が好ましい 。

 二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロ� ��ルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、 OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品� �で市販されており、使用することができる� �

 酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、� ��エロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株 )製)の商品名で市販されており、使用するこ� ��ができる。

 また、ポリマー型微粒子を添加しても良� ��。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、� ��ッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが� ��きる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三� ��元の網状構造を有するものが好ましく、例� ��ば、トスパール103、同105、同108、同120、同1 45、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製 )の商品名で市販されており、使用すること� �できる。

 無機、有機いずれの微粒子においても、� ��発明における微粒子は、B層の平均屈折率に 近いことがヘイズを低下する上で好ましい。

 更に、紫外線吸収剤を含んでも良い。紫� ��線吸収剤としては、着色がなく、透明性に� ��れるなどの、光学フィルムに適性のある材� ��が好ましい。例えばオキシベンゾフェノン� ��化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サ� ��チル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン� ��化合物、シアノアクリレート系化合物、ニ� ��ケル錯塩系化合物などが挙げられる。又、� ��開2002-169020号、特開2006-113175号等に記載の高 分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。

 その他の成分として、酸化防止剤、帯電� ��止剤、滑材、離型材、着色剤、着色防止剤� ��難燃剤などを含んでも良い。特に、溶融流� ��製膜によって作製する場合には、酸化防止� ��を導入することが好ましく、特にフィルム� ��透明性を最大限に引き上げる方法として、� ��記微粒子の代わりとして、滑材、離型材も� ��ましく用いられる。

 また、B層のいずれかの面に、帯電防止層 、滑性層、易接着層を設けても良い。

 (B層の製造方法)
 次いで、本発明のB層の好ましい一実施形態 であるセルロースエステルフィルムの製造方 法について説明する。

 本発明に係るセルロースエステルフィル� ��は溶液流延法で製造されたフィルムであっ� ��も溶融流延法で製造されたフィルムであっ� ��も好ましく用いることができる。

 溶液流延法によるセルロースエステルフ� ��ルムの製造は、セルロースエステル及び前� ��添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製す� ��工程、ドープを無限に移行する無端の金属� ��持体上に流延する工程、流延したドープを� ��ェブとして乾燥する工程、金属支持体から� ��離する工程、延伸または幅保持する工程、� ��に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻� ��る工程により行われる。

 ドープを調製する工程について述べる。� ��ープ中のセルロースエステルの濃度は、濃� ��方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が� ��減できて好ましいが、セルロースエステル� ��濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、� ��過精度が悪くなる。これらを両立する濃度� ��しては、10~35質量%が好ましく、更に好まし� ��は、15~25質量%である。

 ドープで用いられる溶剤は、単独で用い� ��も2種以上を併用してもよいが、セルロース エステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用す ることが生産効率の点で好ましく、良溶剤が 多い方がセルロースエステルの溶解性の点で 好ましい。

 良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範� ��は、良溶剤が70~98質量%であり、貧溶剤が2~30 質量%である。良溶剤、貧溶剤とは、使用す� �セルロースエステルを単独で溶解するもの� �良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しな� �ものを貧溶剤と定義している。

 そのため、セルロースエステルの平均酢� ��度(アセチル基置換度)によっては、良溶剤� �貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤と� �て用いる時には、セルロースエステルの酢� �エステル(アセチル基置換度2.4)、セルロース アセテートプロピオネートでは良溶剤になり 、セルロースの酢酸エステル(アセチル基置� �度2.8)では貧溶剤となる。

 良溶剤は特に限定されないが、メチレン� ��ロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキ� ��ラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢� ��メチル等が挙げられる。特に好ましくはメ� ��レンクロライドまたは酢酸メチルが挙げら� ��る。

 また、貧溶剤は特に限定されないが、例� ��ば、メタノール、エタノール、n-ブタノー� �、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が� �ましく用いられる。

 また、セルロースエステルの溶解に用い� ��れる溶媒は、フィルム製膜工程で乾燥によ� ��フィルムから除去された溶媒を回収し、こ� ��を再利用して用いられる。回収溶剤中に、� ��ルロースエステルに添加されている添加剤� ��例えば可塑剤、紫外線吸収剤、ポリマー、� ��ノマー成分などが微量含有されていること� ��あるが、これらが含まれていても好ましく� ��利用することができるし、必要であれば精� ��して再利用することもできる。

 上記記載のドープを調製する時の、セル� ��ースエステルの溶解方法としては、一般的� ��方法を用いることができる。加熱と加圧を� ��み合わせると常圧における沸点以上に加熱� ��きる。

 溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で� ��剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら� ��拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊� ��未溶解物の発生を防止するため好ましい。� ��た、セルロースエステルを貧溶剤と混合し� ��湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添� ��して溶解する方法も好ましく用いられる。

 加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入す� ��方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇� ��せる方法によって行ってもよい。加熱は外� ��から行うことが好ましく、例えばジャケッ� ��タイプのものは温度コントロールが容易で� ��ましい。

 溶剤を添加しての加熱温度は、高い方が� ��ルロースエステルの溶解性の観点から好ま� ��いが、加熱温度が高過ぎると必要とされる� ��力が大きくなり生産性が悪くなる。好まし� ��加熱温度は45~120℃であり、60~110℃がより好� ��しく、70℃~105℃が更に好ましい。また、圧� ��は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整� ��れる。

 もしくは冷却溶解法も好ましく用いられ� ��これによって酢酸メチルなどの溶媒にセル� ��ースエステルを溶解させることができる。

 次に、このセルロースエステル溶液を濾� ��等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過� ��としては、不溶物等を除去するために絶対� ��過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過� ��度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生� ��易いという問題がある。

 このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が 好ましく、0.001~0.008mmの濾材がより好ましく� �0.003~0.006mmの濾材が更に好ましい。

 濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾� ��を使用することができるが、ポリプロピレ� ��、テフロン(登録商標)等のプラスチック製� �濾材や、ステンレススティール等の金属製� �濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過� �より、原料のセルロースエステルに含まれ� �いた不純物、特に輝点異物を除去、低減す� �ことが好ましい。

 輝点異物とは、2枚の偏光板をクロスニコル 状態にして配置し、その間に光学フィルム等 を置き、一方の偏光板の側から光を当てて、 他方の偏光板の側から観察した時に反対側か らの光が漏れて見える点(異物)のことであり� ��径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm ² 以下であることが好ましい。より好ましくは 100個/cm ² 以下であり、更に好ましくは50個/m ² 以下であり、更に好ましくは0~10個/cm ² 以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない 方が好ましい。

 ドープの濾過は通常の方法で行うことが� ��きるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ� ��圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱� ��ながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の� ��(差圧という)の上昇が小さく、好ましい。� �ましい温度は45~120℃であり、45~70℃がより好 ましく、45~55℃であることが更に好ましい。

 濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa� ��下であることが好ましく、1.2MPa以下である� ��とがより好ましく、1.0MPa以下であることが� ��に好ましい。

 ここで、ドープの流延について説明する� ��

 流延(キャスト)工程における金属支持体� �、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、� �属支持体としては、ステンレススティール� �ルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げし� �ドラムが好ましく用いられる。キャストの� �は1~4mとすることができる。

 流延工程の金属支持体の表面温度は-50℃~ 溶剤の沸点未満の温度で、温度が高い方がウ ェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが 、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面 性が劣化する場合がある。

 好ましい支持体温度は0~40℃であり、5~30� �が更に好ましい。或いは、冷却することに� �ってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く� �んだ状態でドラムから剥離することも好ま� �い方法である。

 金属支持体の温度を制御する方法は特に� ��限されないが、温風または冷風を吹きかけ� ��方法や、温水を金属支持体の裏側に接触さ� ��る方法がある。温水を用いる方が熱の伝達� ��効率的に行われるため、金属支持体の温度� ��一定になるまでの時間が短く好ましい。温� ��を用いる場合は目的の温度よりも高い温度� ��風を使う場合がある。

 セルロースエステルフィルムが良好な平� ��性を示すためには、金属支持体からウェブ� ��剥離する際の残留溶媒量は10~150質量%が好ま しく、更に好ましくは20~40質量%または60~130質 量%であり、特に好ましくは、20~30質量%また� �70~120質量%である。

 本発明においては、残留溶媒量は下記式� ��定義される。

 残留溶媒量(質量%)={(M-N)/N}×100
 尚、Mはウェブまたはフィルムを製造中また は製造後の任意の時点で採取した試料の質量 で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である 。

 また、セルロースエステルフィルムの乾� ��工程においては、ウェブを金属支持体より� ��離し、更に乾燥し、残留溶媒量を1質量%以� �にすることが好ましく、更に好ましくは0.1� �量%以下であり、特に好ましくは0~0.01質量%以 下である。

 フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥� ��式(上下に配置した多数のロールにウェブを 交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式� �ウェブを搬送させながら乾燥する方式が採� �れる。

 本発明に係るセルロースエステルフィル� ��を作製するためには、ウェブの両端をクリ� ��プ等で把持するテンター方式で幅方向(横方 向)に延伸を行うことが特に好ましい。剥離� �力は300N/m以下で剥離することが好ましい。

 ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく� ��一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイ� ��ロ波等で行うことができるが、簡便さの点� ��熱風で行うことが好ましい。

 ウェブの乾燥工程における乾燥温度は40~2 00℃で段階的に高くしていくことが好ましい� ��

 セルロースエステルフィルムの膜厚は、� ��に限定はされないが10~200μmが用いられる。� ��に膜厚は10~100μmであることが特に好ましい� ��更に好ましくは20~60μmである。

 セルロースエステルフィルムは、幅1~4mの ものが用いられる。特に幅1.4~4mのものが好ま しく用いられ、特に好ましくは1.6~3mである。 4mを超えると搬送が困難となる。

 (延伸操作、屈折率制御)
 本発明のB層は、リターデーション値Ro、Rt� �Ro=0~50nm、Rt=80~150nmであることが好ましい。

 前記(メタ)アクリル系重合体とフラノー� �構造もしくはピラノース構造を有する化合� �を組み合わせ、適宜含有させることにより� �所望のリターデーションだけでなく、波長� �散性も調整することが可能となる。

 延伸操作は、無延伸のB層上にA層を積層� �た後に一度にまとめて行うこともできるが� �あらかじめB層のみを延伸しておき、さらにA 層を積層した後に再び延伸することで所望の リターデーションを調整することができる。

 上記リターデーション値Ro、Rtを得るには 、B層であるセルロースエステルフィルムが� �発明の構成をとり、更に延伸操作により屈� �率制御を行うことが好ましい。

 例えばフィルムの長手方向(製膜方向)及� �それとフィルム面内で直交する方向、即ち� �手方向に対して、逐次または同時に2軸延伸� ��しくは1軸延伸することができる。

 互いに直交する2軸方向の延伸倍率は、そ れぞれ最終的には流延方向に0.8~2.0倍、幅方� �に1.1~2.5倍の範囲とすることが好ましく、流� ��方向に0.8~1.5倍、幅方向に1.2~2.0倍の範囲で� �うことが好ましい。

 延伸温度は120℃~200℃が好ましく、さらに 好ましくは160℃~200℃以下で延伸するのが好� �しい。

 ウェブを延伸する方法には特に限定はな� ��。例えば、複数のロールに周速差をつけ、� ��の間でロール周速差を利用して縦方向に延� ��する方法、ウェブの両端をクリップやピン� ��固定し、クリップやピンの間隔を進行方向� ��広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方� ��に広げて横方向に延伸する方法、或いは縦� ��同時に広げて縦横両方向に延伸する方法な� ��が挙げられる。

 もちろんこれ等の方法は、組み合わせて� ��いてもよい。また、所謂テンター法の場合� ��リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動� ��ると滑らかな延伸を行うことができ、破断� ��の危険性が減少できるので好ましい。

 製膜工程のこれらの幅保持或いは横方向� ��延伸はテンターによって行うことが好まし� ��、ピンテンターでもクリップテンターでも� ��い。

 〈B層に用いられる他の樹脂〉
 B層は、セルロースエステル系樹脂以外に、 ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、 オレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂 、及びポリエステル系樹脂から選ばれる少な くとも1種の樹脂を用いることも好ましい。

 下記樹脂を用いた本発明に係るB層は、セ ルロースエステルフィルムと同様に溶液流延 法で製造されたフィルムであっても溶融流延 法で製造されたフィルムでもよい。

 (オレフィン系樹脂)
 オレフィン系樹脂は、特に、ポリプロピレ� ��やポリエチレン樹脂が好適に用いられるが� ��これらに限定されるものではない。また、� ��れらの樹脂には、相溶性のある2種類以上の 樹脂が用いられてもよい。具体例として、特 開2007-316603号公報等に記載の化合物を挙げる� ��とができる。

 (シクロオレフィン系樹脂)
 シクロオレフィン系樹脂について説明する� ��本発明に用いられるシクロオレフィン系樹� ��は脂環式構造を含有する重合体樹脂からな� ��ものである。好ましいシクロオレフィン樹� ��は、環状オレフィンを重合又は共重合した� ��脂である。環状オレフィンとしては、ノル� ��ルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシ� ��ロドデセン、エチルテトラシクロドデセン� ��エチリデンテトラシクロドデセン、テトラ� ��クロ〔7.4.0.110,13.02,7〕トリデカ-2,4,6,11-テト� ��エンなどの多環構造の不飽和炭化水素及び� ��の誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、 シクロヘキセン、3,4-ジメチルシクロペンテ� �、3-メチルシクロヘキセン、2-(2-メチルブチ� ��)-1-シクロヘキセン、シクロオクテン、3a,5,6 ,7a-テトラヒドロ-4,7-メタノ-1H-インデン、シ� �ロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロ� �キサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水� �及びその誘導体等が挙げられる。これら環� �オレフィンには置換基として極性基を有し� �いてもよい。極性基としては、ヒドロキシ� �基、カルボキシル基、アルコキシル基、エ� �キシ基、グリシジル基、オキシカルボニル� �、カルボニル基、アミノ基、エステル基、� �ルボン酸無水物基などが挙げられ、特に、� �ステル基、カルボキシル基又はカルボン酸� �水物基が好適である。

 好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状� ��レフィン以外の単量体を付加共重合したも� ��であってもよい。付加共重合可能な単量体� ��しては、エチレン、プロピレン、1-ブテン� �1-ペンテンなどのエチレン又はα-オレフィン ;1,4-ヘキサジエン、4-メチル-1,4-ヘキサジエン 、5-メチル-1,4-ヘキサジエン、1,7-オクタジエ� ��などのジエン等が挙げられる。

 環状オレフィンは、付加重合反応或いはメ� ��セシス開環重合反応によって得られる。重� ��は触媒の存在下で行われる。付加重合用触� ��として、例えば、バナジウム化合物と有機� ��ルミニウム化合物とからなる重合触媒など� ��挙げられる。開環重合用触媒として、ルテ� ��ウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム� ��イリジウム、白金などの金属のハロゲン化� ��、硝酸塩又はアセチルアセトン化合物と、� ��元剤とからなる重合触媒;或いは、チタン、 バナジウム、ジルコニウム、タングステン、 モリブデンなどの金属のハロゲン化物又はア セチルアセトン化合物と、有機アルミニウム 化合物とからなる重合触媒などが挙げられる 。重合温度、圧力等は特に限定されないが、 通常-50℃~100℃の重合温度、0~490N/cm ² の重合圧力で重合させる。

 シクロオレフィン系樹脂は、環状オレフ� ��ンを重合又は共重合させた後、水素添加反� ��させて、分子中の不飽和結合を飽和結合に� ��えたものであることが好ましい。水素添加� ��応は、公知の水素化触媒の存在下で、水素� ��吹き込んで行う。水素化触媒としては、酢� ��コバルト/トリエチルアルミニウム、ニッケ ルアセチルアセトナート/トリイソブチルア� �ミニウム、チタノセンジクロリド/n-ブチル� �チウム、ジルコノセンジクロリド/sec-ブチル リチウム、テトラブトキシチタネート/ジメ� �ルマグネシウムの如き遷移金属化合物/アル� ��ル金属化合物の組み合わせからなる均一系� ��媒;ニッケル、パラジウム、白金などの不均 一系金属触媒;ニッケル/シリカ、ニッケル/け い藻土、ニッケル/アルミナ、パラジウム/カ� ��ボン、パラジウム/シリカ、パラジウム/け� �藻土、パラジウム/アルミナの如き金属触媒� ��担体に担持してなる不均一系固体担持触媒� ��どが挙げられる。

 或いは、シクロオレフィン系樹脂として� ��下記のノルボルネン系樹脂も挙げられる。� ��ルボルネン系樹脂は、ノルボルネン骨格を� ��り返し単位として有していることが好まし� ��、その具体例としては、例えば特開昭62-2524 06号公報、特開昭62-252407号公報、特開平2-13341 3号公報、特開昭63-145324号公報、特開昭63-26462 6号公報、特開平1-240517号公報、特公昭57-8815� �公報、特開平5-2108号公報、特開平5-39403号公� ��、特開平5-43663号公報、特開平5-43834号公報� �特開平5-70655号公報、特開平5-279554号公報、� �開平6-206985号公報、特開平7-62028号公報、特� �平8-176411号公報、特開平9-241484号公報、特開2 001-277430号公報、特開2003-139950号公報、特開200 3-14901号公報、特開2003-161832号公報、特開2003-1 95268号公報、特開2003-211588号公報、特開2003-211 589号公報、特開2003-268187号公報、特開2004-13320 9号公報、特開2004-309979号公報、特開2005-121813� ��公報、特開2005-164632号公報、特開2006-72309号� ��報、特開2006-178191号公報、特開2006-215333号公 報、特開2006-268065号公報、特開2006-299199号公� �等に記載されたものが挙げられるが、これ� �に限定されるものではない。又、これらは� �1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用 してもよい。具体的には、日本ゼオン(株)製� ��オネックス、ゼオノア、JSR(株)製アートン� �三井化学(株)製アペル(APL8008T、APL6509T、APL6013 T、APL5014DP、APL6015T)などが好ましく用いられ� �。

 シクロオレフィン系樹脂の分子量は、使� ��目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘ� ��サン溶液(重合体樹脂が溶解しない場合はト ルエン溶液)のゲル・パーミエーション・ク� �マトグラフ法で測定したポリイソプレン又� �ポリスチレン換算の重量平均分子量で、通� �、5000~500000、好ましくは8000~200000、より好ま� ��くは10000~100000の範囲である時に、成形体の� ��械的強度、及び成形加工性とが高度にバラ� ��スされて好適である。

 (ポリカーボネート系樹脂)
 ポリカーボネート系樹脂に付き説明する。� ��リカーボネート系樹脂としては種々があり� ��化学的性質及び物性の点から芳香族ポリカ� ��ボネートが好ましく、特にビスフェノールA 系ポリカーボネートが好ましい。その中でも 更に好ましくはビスフェノールAにベンゼン� �、シクロヘキサン環、叉は脂肪族炭化水素� �などを導入したビスフェノールA誘導体を用� ��たものが挙げられるが、特に中央炭素に対� ��て非対称にこれらの基が導入された誘導体� ��用いて得られた、単位分子内の異方性を減� ��させた構造のポリカーボネートが好ましい� ��例えばビスフェノールAの中央炭素の2個の� �チル基をベンゼン環に置き換えたもの、ビ� �フェノールAのそれぞれのベンゼン環の一の� ��素をメチル基やフェニル基などで中央炭素� ��対し非対称に置換したものを用いて得られ� ��ポリカーボネート樹脂が好ましい。具体的� ��は、4,4″-ジヒドロキシジフェニルアルカン 又はこれらのハロゲン置換体からホスゲン法 又はエステル交換法によって得られるもので あり、例えば4,4″-ジヒドロキシジフェニル� �タン、4,4″-ジヒドロキシジフェニルエタン� ��4,4″-ジヒドロキシジフェニルブタン等を挙 げることが出来る。又、この他にも例えば、 特開2006-215465号公報、特開2006-91836号公報、特 開2005-121813号公報、特開2003-167121号公報等に� �載されているポリカーボネート系樹脂が挙� �られる。

 (アクリル系樹脂)
 アクリル系樹脂としては、アクリル酸エス� ��ル(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸 エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸n-� ��チル、アクリル酸i-ブチル、アクリル酸t-ブ チル、アクリル酸ペンチル、アクリル酸n-ヘ� ��シル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アク� �ル酸n-オクチル、アクリル酸ドデシル、アク リル酸オクタデシル、アクリル酸ブトキシエ チル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベン ジル、アクリル酸ナフチル、アクリル酸グリ シジル、アクリル酸2-ヒドロキシエチル等の� ��クリル酸エステル類、メタクリル酸エチル� ��メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n-ブ� �ル、メタクリル酸i-ブチル、メタクリル酸t-� ��チル、メタクリル酸ペンチル、メタクリル� ��n-ヘキシル、メタクリル酸2-エチルヘキシル 、メタクリル酸n-オクチル、メタクリル酸ド� ��シル、メタクリル酸オクタデシル、メタク� ��ル酸ブトキシエチル、メタクリル酸フェニ� ��、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸ナ� ��チル、メタクリル酸グリシジル、メタクリ� ��酸2-ヒドロキシエチル、メタクリル酸イソ� �ルニル、メタクリル酸ノルボルニル、メタ� �リル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸� �リシクロ[5.2.1.02.6]デカ-8-イル及びメタクリ� �酸トリシクロ[5.2.1.02.6]デカ-4-メチル等のメ� �クリル酸エステル類)、マレイミド類、マレ� ��ン酸類のアクリル系モノマーを重合または� ��数を共重合した樹脂を好ましく挙げること� ��できる。

 その他のモノマーとしては、酢酸ビニル� ��、スチレン類、インデン類等共重合可能な� ��ノマーを使用することができる。

 フィルムが形成可能であればブロック樹� ��、グラフト樹脂であっても好ましく使用す� ��ことができる。

 アクリル系樹脂にあっては、アクリル系� ��ノマーが50モル%以上であることが好ましい� ��

 アクリル系樹脂は、前述のアクリル系モ� ��マーを公知の方法で重合することによって� ��脂とすることができる。例えば、国際公開� ��許WO/4601号記載の方法を使用することができ る。

 分子量としては、重量平均分子量Mwが3000~ 1000000であり、好ましくは10000~500000である。� �膜してフィルムが形成でき、光学用フィル� �としての強度が保てる分子量であることが� �要である。

 アクリル系樹脂は、市販のものを使用す� ��ことができる。

 例えば、デルペット560F、60N、80N、80NA、80 NB、80NL、80NR-S、808N、806K、LP-1、70HD、720V、980N 、981J、982J、SR8500、SR8400、SR8350、SR8200、SR8175� ��SR8100、SR6500、SR6350、SR6200、SR6175、SRB235、SRB2 15、AS樹脂767、T8701、769、789、783、709、T8707、S EAS、XT753(旭化成ケイカルズ(株)製)、ダイヤナ ールBR50、BR52、BR53、BR60、BR64、BR73、BR75、BR77� ��BR79、BR80、BR82、BR83、BR85、BR87、BR88、BR90、BR 93、BR95、BR100、BR101、BR102、BR105、BR106、BR107、 BR108、BR112、BR113、BR115、BR116、BR117、BR118、ア� ��リペットVH、MD、MF、V、VH5、IR H70、IR H50、I RH30、IRD70、IR D50、IR D30、IR G504、IR G304、IR� �K304、IR S404、VR L40(三菱レーヨン(株)製)、ス ミペックスLG35、LG21、LG2、LG、MGSS、MG5、EX、MH 、MHF、MM、HT20Y、HT50Y、HT03Y、HT25X、HT55X、HT01X� ��HT013E(住友化学(株)製)、TXポリマーTX-100S、TX- 320XL、TX-400S、TX-800LF(電気化学工業(株)製)、レ ゼダGP-310S、GP-301(東亞合成(株)製)等を挙げる� ��とができる。

 (ポリエステル系樹脂)
 ポリエステル系樹脂に使用されるモノマー� ��しては、一般的なジカルボン酸又はその誘� ��体とジアルコールが用いられるが、特にそ� ��らのモノマー末端のカルボン酸基やスルホ� ��酸基の含有量が少ない方が、荷電性が高く� ��好なトナーを製造することができる。

 ジカルボン酸及びその誘導体の具体例と� ��ては、芳香族ジカルボン酸として、フタル� ��、テレフタル酸、イソフタル酸、無水フタ� ��酸、テレフタル酸ジクロライド、テレフタ� ��酸ジブロマイド、テレフタル酸ジエチル、� ��レフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジプロ� ��ル、テレフタル酸ジブチル、イソフタル酸� ��クロライド、イソフタル酸ジブロマイド、� ��ソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジメチ� ��、イソフタル酸ジプロピル、イソフタル酸� ��ブチル、ナフタレンジカルボン酸、ナフタ� ��酸無水物、ナフタレンジカルボン酸ジクロ� ��イド、ナフタレンジカルボン酸ジブロマイ� ��、ナフタレンジカルボン酸ジメチル、ナフ� ��レンジカルボン酸ジエチル、ナフタレンジ� ��ルボン酸ジプロピル、ナフタレンジカルボ� ��酸ジブチル、ジフェニルジカルボン酸、ジ� ��ェン酸無水物、ジフェニルジカルボン酸ジ� ��ロライド、ジフェニルジカルボン酸ジブロ� ��イド、ジフェニルジカルボン酸ジメチル、� ��フェニルジカルボン酸ジエチル、ジフェニ� ��ジカルボン酸ジプロピル、ジフェニルジカ� ��ボン酸ジブチル等、脂肪族ジカルボン酸と� ��て、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸� ��セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、フマ� ��酸、マレイン酸、イタコン酸、メサコン酸� ��シトラコン酸、シクロヘキサンジカルボン� ��、シクロヘキセンジカルボン酸、ダイマー� ��等が挙げられるがこれらに特に限定されな� ��。

 ジアルコールの具体例としては、脂肪族� ��アルコールとして、エチレングリコール、� ��エチレングリコール、トリエチレングリコ� ��ル、プロピレングリコール、ジプロピレン� ��リコール、ブタンジオール、ペンタンジオ� ��ル、ヘキサンジオール、メチルペンタンジ� ��ール、ノナンジオール、エチルブチルプロ� ��ンジオール、ジメチルプロパンジオール、� ��クロヘキサンジオール、シクロヘキサンジ� ��タノール、トリシクロデカンジメタノール� ��ネオペンチルグリコール、ブチルエチルヘ� ��サンジオール、ビス(4-ヒドロキシシクロヘ� ��シル)プロパン、ジメチロールヘプタン、ヒ ドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコール エステル等、芳香族ジアルコールとして、キ シレングリコール、フェニレングリコール、 フェニレングリコールのエチレンオキサイド 付加物、ビスフェノールA、ビスフェノールA� ��エチレンオキサイド付加物、ビスフェノー� ��Aのプロピレンオキサイド付加物、ビスフェ ノールAP、ビスフェノールC、ビスフェノール E、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビス フェノールZ及びそれらのエチレンオキサイ� �、プロピレンオキサイド付加物等が挙げら� �るがこれらに限定されない。

 これらのモノマーの他に多価カルボン酸� ��多価アルコールを添加して用いてもよい。

 多価カルボン酸としてはコハク酸、アジ� ��ン酸、セバシン酸、アゼライン酸、オクチ� ��コハク酸、ベンゼントリカルボン酸、シク� ��ヘキサントリカルボン酸、トリメリット酸� ��ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカ� ��ボン酸、トリメシン酸及びこれらの酸無水� ��、ハロゲン化物、低級アルキルエステル等� ��挙げられる。

 多価アルコールとしてはポリエチレング� ��コール、グリセリン、トリメチロールエタ� ��、トリメチロールプロパン、ペンタエリス� ��トール、ポリプロピレングリコール、ポリ� ��トラメチレングリコール等が挙げられるが� ��れらに限定されない。

 又、本発明で使用されるポリエステル系� ��脂は、ポリエステルポリオールとして両末� ��を水酸基とし、有機ジイソシアネート化合� ��と反応させることによりウレタン変性させ� ��せたものも用いることができる。

 使用される有機ジイソシアネート化合物� ��しては、ヘキサメチレンジイソシアネート� ��テトラメチレンジイソシアネート、ジメト� ��シビフェニレンジイソシアネート、キシリ� ��ンジイソシアネート、ジイソシアネートメ� ��ルシクロヘキサン、ジイソシアネートジシ� ��ロヘキサン、ジイソシアネートシクロヘキ� ��ルメタン、イソホロンジイソシアネート、� ��リレンジイソシアネート、フェニレンジイ� ��シアネート、ジフェニルメタンジイソシア� ��ート、フェニレンジイソシアネート、ナフ� ��レンジイソシアネート、ジメチルビフェニ� ��ンジイソシアネート、ジイソシアネートジ� ��ェニルエーテル等が挙げられるがこれらに� ��定されない。

 ポリエステルポリオールとしては、ポリ� ��ルボン酸とポリオールとして前述の化合物� ��使用し、ポリオールとポリカルボン酸の比� ��は水酸基(OH)とカルボキシル基(COOH)の当量比 (OH)/(COOH)として、通常2/1~1/1が好ましく、1.5/1~ 1/1がより好ましく、1.2/1~1.02/1が更に好ましい 。

 本発明で使用されるポリエステル系樹脂� ��合成法は特に限定されるものではなく、例� ��ば常法に従いポリエステル縮重合反応によ� ��て得ることができる。

 ポリエステル系樹脂の重量平均分子量は、� ��熱保管性及び粉体流動特性、溶融粘性の観� ��からゲルパーミッションクロマトグラフィ� ��によるポリスチレン換算値として、2×10 ² ~3×10 ⁴ の範囲に極大値を有し、好ましい分子量の極 大値は3×10 ³ ~3×10 ⁴ である。

 (A層、B層が積層された位相差フィルム)
 本発明のA層、B層が積層された位相差フィ� �ムのヘイズは1%未満であることが好ましく0~0 .5%であることが特に好ましい。

 本発明の位相差フィルムの可視光透過率� ��90%以上であることが好ましく、93%以上であ� ��ことが更に好ましい。

 本発明の位相差フィルムは、液晶表示装� ��の視野角拡大フィルムとして偏光板に好適� ��用いることができる。その際、偏光子の少� ��くとも一方の面に直接貼合し、偏光板保護� ��ィルムとしての機能も兼ねることができる� ��この場合、B層側を偏光子に貼合することが 好ましい。

 〈偏光板、液晶表示装置〉
 偏光板は一般的な方法で作製することが出� ��る。本発明のA層、B層が積層された位相差� �ィルムのB層側をアルカリ鹸化処理する。ポ� ��ビニルアルコールフィルムをヨウ素溶液中� ��浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも� ��方の面に、該鹸化処理した位相差フィルム� ��、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液� ��用いて貼り合わせることが好ましい。もう� ��方の面にも本発明の位相差フィルムを用い� ��も、別の偏光子保護フィルムを用いてもよ� ��。A層側を偏光子に貼り合わせる場合は、公 知の接着剤を用いることができるが、水系接 着剤が好ましい。

 裏面側に用いられる偏光子保護フィルム� ��しては、任意の適切な材料が採用され得る� ��このような材料としては、例えば、透明性� ��機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方� ��などに優れるプラスチックフィルムが挙げ� ��れる。プラスチックフィルムを構成する樹� ��の具体例としては、トリアセチルセルロー� ��(TAC)等のアシレート樹脂、ポリエステル樹� �、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホ� �樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド� �脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂� �アクリル樹脂、ポリノルボルネン樹脂、セ� �ロース樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリス� �レン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポ� �アクリル樹脂、およびこれらの混合物が挙� �られる。また、アクリル系、ウレタン系、� �クリルウレタン系、エポキシ系、シリコー� �系等の熱硬化性樹脂または紫外線硬化型樹� �も用いられ得る。偏光特性および耐久性の� �点から、表面をアルカリ等でケン化処理し� �TACフィルムが好ましい。また、市販のセル� �ースアシレートフィルムとして、KC8UX、KC4UX� ��KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC12 UR、KC4UE、KC8UE、KC8UY-HA、KC8UX-RHA、KC8UXW-RHA-C、K C8UXW-RHA-NC、KC4UXW-RHA-NC(以上、コニカミノルタ� ��プト(株)製)等が好ましく用いられる。

 本発明のA層、B層が積層された位相差フ� �ルムは工業的には長尺のフィルムとして作� �され、同じく長尺のフィルムとして作製さ� �る偏光子と張り合わせて偏光板を構成する� �様が最も有用である。また、偏光板に更に� �り合わせるなど、偏光子保護フィルムとし� �の機能を持たない単なる位相差フィルムと� �て使用することも出来る。

 偏光板の主たる構成要素である偏光子と� ��、一定方向の偏波面の光だけを通す素子で� ��り、現在知られている代表的な偏光子は、� ��リビニルアルコール系偏光フィルムで、こ� ��はポリビニルアルコール系フィルムにヨウ� ��を染色させたものと二色性染料を染色させ� ��ものがあるがこれのみに限定されるもので� ��ない。偏光子は、ポリビニルアルコール水� ��液を製膜し、これを一軸延伸させて染色す� ��か、染色した後一軸延伸してから、好まし� ��はホウ素化合物で耐久性処理を行ったもの� ��用いられている。偏光子の膜厚は5~30μmの偏 光子が好ましく用いられる。

 本発明の位相差フィルムは、STN、TN、OCB� �HAN、VA(MVA、PVA)、IPS、FFS、OCBなどの各種駆動� ��式の液晶表示装置に用いることができる。� ��ましくはIPS、FFS、VA(MVA,PVA)型液晶表示装置� �ある。STN、OCB、TN型液晶表示装置に用いる場 合には、偏光子の吸収軸方向と、各々の延伸 軸が必ずしも平行または直交している必要は なく、ずれている形態も好ましく用いられる 。これらの液晶表示装置に用いることにより 、視野角が広く、正面コントラストの高い視 認性に優れた液晶表示装置を得ることができ る。

 本発明の位相差フィルムをIPS、FFS型液晶� ��示装置に用いる場合の構成例について説明� ��る。黒表示時の液晶の遅相軸方向に対して� ��交する方向に吸収軸を持つように配置され� ��偏光子と、ガラス基板との間に本発明の積� ��位相差フィルムを配置する。A層を偏光子側 に配置する場合は、A層の遅相軸と偏光子の� �収軸は平行になるように、A層をガラス基板� ��に配置する場合は、A層の遅相軸と偏光子の 吸収軸は直交になるように配置することで優 れた視野角を得ることができる。

 この場合、B層のリターデーションRo>0nm の場合は、B層の遅相軸とA層の遅相軸を直交� ��た位相差フィルムが好ましく用いられる。� ��の時、黒表示時の液晶の遅相軸方向に対し� ��平行方向に吸収軸を持つように配置される� ��光子、つまり液晶セルを挟んで反対側に位� ��する偏光子と、ガラス基板との間に配置す� ��位相差フィルムは、面内リターデーションR oがほぼゼロであることが好ましい。さらに� �ましくは、厚み方向のリターデーションRtが |Rt|≦45nmであり、より好ましくは|Rt|≦5nmであ る。このような位相差フィルムは偏光板保護 フィルムを兼ねることもできる。