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Patent Searching and Data


Title:
RETARDATION PLATE, SEMI-TRANSMISSIVE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCING RETARDATION PLATE
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2009/122625
Kind Code:
A1
Abstract:
Disclosed is a retardation plate comprising a substrate (210) and an optically anisotropic solidified liquid crystal layer (230) which is supported by the substrate and formed as a continuous film made of a same material. The retardation plate is characterized in that the solidified liquid crystal layer includes first to third regions, and the first to third regions are respectively composed of two sub-regions, namely a sub-region A and a sub-region B. The retardation plate is also characterized in that the in-plane birefringence index of the first sub-region A is larger than that of the second sub-region A; the in-plane birefringence index of the third sub-region A is smaller than that of the second sub-region A; and the in-plane birefringence index of the first sub-region B is equal to that of the third sub-region B, while being smaller than that of the first sub-region A and larger than that of the third sub-region A.

Inventors:
AKAO SOSUKE (JP)
OSATO KAZUHIRO (JP)
SUDA HIRONOBU (JP)
KUBO YUJI (JP)
FUKUNAGA GODAI (JP)
YASU YUKI (JP)
TAGUCHI TAKAO (JP)
Application Number:
PCT/JP2008/073463
Publication Date:
October 08, 2009
Filing Date:
December 24, 2008
Export Citation:
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Assignee:
TOPPAN PRINTING CO LTD (JP)
AKAO SOSUKE (JP)
OSATO KAZUHIRO (JP)
SUDA HIRONOBU (JP)
KUBO YUJI (JP)
FUKUNAGA GODAI (JP)
YASU YUKI (JP)
TAGUCHI TAKAO (JP)
International Classes:
G02F1/1335; G02F1/13363; G02F1/1343
Foreign References:
JP2007047833A2007-02-22
JP2007047832A2007-02-22
JP2006338055A2006-12-14
JP2004004494A2004-01-08
JP2005024919A2005-01-27
Other References:
See also references of EP 2259129A4
Attorney, Agent or Firm:
SUZUYE, Takehiko et al. (JP)
Takehiko Suzue (JP)
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Claims:
 基板と、
 前記基板に支持され、同一材料よりなる連続膜として形成された、光学異方性を有する固体化液晶層とを具備し、
 前記固体化液晶層は第1乃至第3領域を含み、前記第1乃至第3領域はそれぞれ副領域A及び副領域Bの2つの副領域により構成され、
 前記第1A副領域の面内複屈折率は前記第2A副領域より大きく、前記第3A副領域の面内複屈折率は前記第2A副領域より小さく、
 前記第1B副領域の面内複屈折率は、第3B副領域と同一であって前記第1A副領域より小さく、前記第3A副領域より大きいことを特徴とする位相差基板。
 前記第1B副領域、第2B副領域、及び第3B副領域の面内複屈折率は、同一であることを特徴とする請求項1に記載の位相差基板。
 前記第1B副領域、第2B副領域、及び第3B副領域の面内複屈折率は、前記第2A副領域の面内複屈折率と同一であることを特徴とする請求項2に記載の位相差基板。
 前記第1B副領域の面内複屈折率は、前記第3B副領域と同一であって前記第2B副領域とは異なり、前記第2B副領域の面内複屈折率は前記第2A副領域と同一であることを特徴とする請求項1に記載の位相差基板。
 前記固体化液晶層の厚さは、全面にわたって均一であることを特徴とする請求項1に記載の位相差基板。
 前記固体化液晶層は、サーモトロピック液晶化合物又は組成物を重合及び/又は架橋させてなることを特徴とする請求項1に記載の位相差基板。
 前記基板と前記固体化液晶層との間に介在するか又は前記固体化液晶層を間に挟んで前記基板と向き合ったカラーフィルタ層をさらに具備し、
 前記カラーフィルタ層は、透過光の波長が異なる第1乃至第3着色画素を有し、前記第1乃至第3着色画素はそれぞれ反射表示用領域と透過表示用領域とから構成され、
 前記第1乃至第3着色画素の前記反射表示用領域は、それぞれ前記固体化液晶層の前記第1乃至第3領域と向き合っていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の位相差基板。
 前記第2着色画素と比較して、前記第1着色画素は主としてより波長の長い光を透過し、前記第3着色画素は主としてより波長の短い光を透過することを特徴とする請求項7に記載の位相差基板。
 前記カラーフィルタ層の前記第1乃至第3着色画素の前記反射表示用領域は、それぞれ着色部と非着色部とから構成され、
 前記第1乃至第3着色画素の前記反射表示用領域においては、
  前記着色部はそれぞれ前記固体化液晶層の前記第1A乃至第3A副領域と向き合い、
  前記非着色部はそれぞれ固体化液晶層の前記第1B乃至第3B副領域と向き合っていることを特徴とする請求項7に記載の位相差基板。
 前記第1乃至第3着色画素の前記反射表示用領域における前記着色部の分光透過率は、それぞれ前記第1乃至第3着色画素の前記透過表示用領域の分光透過率と同一であることを特徴とする請求項9に記載の位相差基板。
 前記カラーフィルタ層の前記第1及び第3着色画素の前記反射表示用領域は、それぞれ着色部と非着色部とからなり、前記第2着色画素の前記反射表示用領域は着色部のみからなり、
 前記第1乃至第3着色画素の前記反射表示用領域においては、
  前記着色部はそれぞれ前記固体化液晶層の前記第1A副領域及び第3A副領域と向き合い、
  前記非着色部はそれぞれ前記固体化液晶層の前記第1B副領域及び第3B副領域と向き合い、
 前記第2着色画素の前記反射表示用領域は、前記固体化液晶層の前記第2領域と向き合っていることを特徴とする請求項7に記載の位相差基板。
 前記第1及び第3着色画素の前記反射表示用領域における前記着色部の分光透過率は、それぞれ前記第1乃至第3着色画素の前記透過表示用領域と同一であり、前記第2着色画素の前記反射表示用領域における前記着色部は、前記第2着色画素の前記透過表示用領域よりも光の透過率が高いことを特徴とする請求項11に記載の位相差基板。
 請求項1に記載の位相差基板を具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置。
 基板上に固体化液晶層を形成することを含み、前記固体化液晶層の形成は、
 前記基板上に、光重合性又は光架橋性のサーモトロピック液晶化合物を含み、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが配向構造を形成している液晶材料層を形成する成膜工程と、
 前記液晶材料層の少なくとも2つの領域を異なる露光量で露光して、前記液晶材料層中に、前記サーモトロピック液晶化合物の重合又は架橋生成物を含んだ第1A副領域と、前記重合又は架橋生成物と未反応化合物としての前記サーモトロピック液晶化合物とを含み、前記重合又は架橋生成物の含有率が前記第1A副領域と比較してより低い第2A副領域と、前記未反応化合物を含み、前記重合又は架橋生成物の含有率が前記第2領域と比較してより低い第3A副領域と、前記未反応化合物を含み、前記重合又は架橋生成物の含有率が前記第1A副領域よりは低く前記第3A副領域よりは高い第1B乃至第3B領域を形成する露光工程と、
 その後、前記液晶材料層を前記サーモトロピック液晶化合物が液晶相から等方相へと変化する相転移温度と等しい温度以上に加熱して、少なくとも前記第2A、第3A及び第1B乃至第3B領域において前記メソゲンの配向の程度を低下させる現像工程と、
 前記配向の程度を低下させたまま前記未反応化合物を重合及び/又は架橋させる定着工程と
を具備することを特徴とする位相差基板の製造方法。
 前記露光工程は、前記第1B乃至第3B副領域における前記重合又は架橋生成物の含有率が同一となるように行なわれることを特徴とする請求項14に記載の製造方法。
 前記露光工程は、前記第1B乃至第3B副領域における前記重合又は架橋生成物の含有率が前記第2A副領域と同一となるように行なわれることを特徴とする請求項15に記載の製造方法。
 前記露光工程は、前記第1B副領域における前記重合又は架橋生成物の含有率が第3B副領域と同一であって前記第2B副領域とは異なるとともに、前記第2B副領域における前記重合又は架橋生成物の含有率が前記第2A副領域と同一になるように行なわれることを特徴とする請求項14に記載の製造方法。
 前記成膜工程において、前記液晶材料層を均一な厚さの連続膜として形成することを特徴とする請求項14に記載の製造方法。
 前記定着工程において、前記重合及び/又は架橋の反応は光照射によって誘起されることを特徴とする請求項14に記載の製造方法。
 前記定着工程における前記光照射は、前記液晶材料層の全体を露光することによって行なわれることを特徴とする請求項19に記載の製造方法。
 前記サーモトロピック液晶化合物は、前記相転移温度よりも高い重合及び/又は架橋温度に加熱することによって重合及び/また架橋する材料であり、前記現像工程において、メソゲン基の配向の状態は前記液晶材料層を前記重合及び/又は架橋温度未満の温度に加熱することにより変化させ、前記定着工程において、前記未重合及び未架橋のサーモトロピック液晶化合物は前記液晶材料層を前記重合及び/又は架橋温度以上の温度に加熱することによって重合及び/又は架橋させることを特徴とする請求項14に記載の製造方法。
 前記固体化液晶層を形成する前に前記基板上にカラーフィルタ層を形成する工程をさらに含み、前記固体化液晶層は前記カラーフィルタ層上に、直接あるいは他の層を隔てて形成することを特徴とする請求項14に記載の製造方法。
 前記固体化液晶層を形成した後に前記基板上にカラーフィルタ層を形成する工程をさらに含み、前記固体化液晶層は前記カラーフィルタ層上に、直接あるいは他の層を隔てて形成することを特徴とする請求項14に記載の製造方法。
Description:
位相差基板、半透過型液晶表示 置、および位相差基板の製造方法

 本発明は、半透過型液晶表示装置に適用 能な光学技術に関する。

 液晶表示装置は、薄型、軽量及び低消費 力などの特徴を有している。そのため、近 、携帯機器及びテレビジョン受像機などの 定機器での利用が急速に増加している。

 液晶表示装置の一部、例えば、携帯機器 搭載される液晶表示装置には、屋内照明環 及び暗所で高い視認性を達成するだけでな 、太陽などの高輝度光源のもとでも高い視 性を達成することが望まれる。半透過型液 表示装置は、そのような要望に応える表示 置であって、多くの携帯機器に搭載されて る。

 半透過型液晶表示装置は、各画素が透過 示部と反射表示部とを含んでいる。透過表 部では、透明導電層を背面電極として使用 ており、反射表示部では、金属又は合金層 背面電極の一部として使用している。また 透過表示部ではカラーフィルタの着色層を1 回透過した光を表示に利用するのに対し、反 射表示部ではカラーフィルタの着色層を2回 過した光を表示に利用する。そのため、反 表示部には、透過表示部と比較して、透過 がより高い着色層を設置している。半透過 液晶表示装置は、このような構成を採用し いるため、透過型及び反射型の双方の方式 多色画像を表示することが可能である。

 半透過型液晶表示装置では、四分の一波 板などの波長板を使用している。例えば、 晶セルと前面側の偏光板との間に四分の一 長板としての位相差フィルムを設置すると に、液晶セルと背面側の偏光板との間に四 の一波長板としての位相差フィルムを更に 置することがある。しかしながら、2つの四 分の一波長板を使用した場合、それらの不可 避的な特性のばらつきが、透過表示により達 成されるコントラスト比を低下させることが ある。

 このような問題に関し、特開2004-4494号公 には、液晶セルに位相差フィルムを貼り付 る代わりに、液晶セルの内部にパターニン された位相差層を設置することが記載され いる。具体的には、液晶セルの内部であっ 、反射表示部のみに、高分子液晶からなる 相差層と任意の有機絶縁層とを設けて、反 表示部におけるセルギャップを透過表示部 おけるセルギャップと比較してより小さく る。これにより、透過表示部には四分の一 長板が存在しない構成となるため透過表示 高いコントラスト比を達成する。

 しかしながら、特開2004-4494号公報の液晶 示装置においても、反射表示には課題が残 。赤、緑及び青の画素は、表示色の波長域 異なっている。それにも拘らず、反射部の 相差層は各色で同一の特性であるため、表 色が異なる画素の全てに最適な設計を採用 ることは難しいという点である。

 具体的には、緑の波長域の中心波長、例 ば約550nmで四分の一波長(λ/4)の位相差が得 れる四分の一波長板を用いる場合、仮に、 の四分の一波長板の屈折率異方性、即ち複 折率δnが可視光域内の全ての波長について ぼ等しいとしても、中心波長が例えば約450nm の青の波長域では、λ/4よりも大きな位相差 得られる。そして、中心波長が例えば約630nm の赤の波長域では、λ/4よりも小さな位相差 得られる。実際には、多くの光学材料にお て、複屈折率は可視光領域の短波長側、即 青の波長域で大きく、長波長側、即ち赤の 長域で小さくなるため、この問題はしばし より深刻になる。

 また、特開2005-024919号公報には、液晶セ に位相差フィルムを貼り付ける代わりに、 晶セルの内部に位相差層を設置することが 載されている。当該位相差層の膜厚を赤色 緑色・青色パターンごとに変えることで、 色パターンに適した位相差量が得られる。 の手段は、位相差層の下地となるカラーフ ルタ層を赤色・緑色・青色パターン層ごと 異なる膜厚で形成しておき、続いて塗工す 位相差層の膜厚が結果的に各色によって異 るようにするというものである。これによ 、各色によって要求の異なる位相差値に対 てそれぞれ最適化された位相差層を得るこ ができる。

 しかしながら特開2005-024919号公報に記載 方法では、カラーフィルタ層の膜厚をパタ ン層の色ごとに変える必要があるのに加え カラーフィルタの設計に制約が生じる。そ は、上記したように、半透過型液晶表示装 の各画素では、反射表示部の着色層は透過 示部の着色層と比較してより高い透過率が められることに起因する。以下にその理由 、反射表示部と透過表示部のカラーフィル の構成を挙げながら説明する。

 このような透過率の相違は、例えば、透 表示部の着色層と反射表示部の着色層とに なる材料を使用することにより生じさせる とができる。この場合には、例えば、透過 示部用の赤、緑及び青色着色層と、反射表 部用の赤、緑及び青色着色層とを形成しな ればならない。即ち、この方法を採用した 合、カラーフィルタ層の形成工程が複雑に る。しかも、カラーフィルタ層の形成には より多数の材料が必要とされる。

 あるいは、各画素の透過表示部の着色層 反射表示部の着色層とに同一の材料を使用 、透過表示部の着色層を反射表示部の着色 と比較してより厚くすることによって、上 したような透過率の相違を生じさせること 可能である。しかしながら、透過表示部に ける着色層の厚さと反射表示部における着 層の厚さとの双方を厳密に制御することは 均一な厚さを有している着色層の厚さを厳 に制御することと比較して遥かに困難であ 。

 また、上述したような透過率の相違は、 画素において、反射表示部の着色層に貫通 を設けること以外は透過表示部の着色層と 様の構成を採用することによっても生じさ ることができる。この方法によれば、カラ フィルタ層をより容易に形成することがで る。

 しかしながら特開2005-024919号公報に記載 方法を用いようとすると、反射表示部の着 層に貫通孔を設ける構成を採用することが きない。反射表示部においては、位相差層 、各色ごとに透過光の波長が異なることを 提としており、それに合わせて位相差値が 定されている。着色層が存在しない貫通孔 分では、白色光がそのまま通過してしまう め、各色に合わせて位相差値が調整されて るがゆえに、反射表示でのコントラストが えって低下してしまう。

 本発明の目的は、簡略化された方法で製 可能であり、優れた表示性能を有する半透 型液晶表示装置を実現することにある。

 本発明の第1側面によると、基板と、前記 基板に支持され、同一材料よりなる連続膜と して形成された、光学異方性を有する固体化 液晶層とを具備し、前記固体化液晶層は第1 至第3領域を含み、前記第1乃至第3領域はそ ぞれ副領域A及び副領域Bの2つの副領域によ 構成され、前記第1A副領域の面内複屈折率は 前記第2A副領域より大きく、前記第3A副領域 面内複屈折率は前記第2A副領域より小さく、 前記第1B副領域の面内複屈折率は、第3B副領 と同一であって前記第1A副領域より小さく、 前記第3A副領域より大きいことを特徴とする 相差基板が提供される。

 本発明の第2側面によると、前述の相差基 板を具備することを特徴とする半透過型液晶 表示装置が提供される。

 本発明の第3側面によると、基板上に固体 化液晶層を形成することを含み、前記固体化 液晶層の形成は、前記基板上に、光重合性又 は光架橋性のサーモトロピック液晶化合物を 含み、前記サーモトロピック液晶化合物のメ ソゲンが配向構造を形成している液晶材料層 を形成する成膜工程と、前記液晶材料層の少 なくとも2つの領域を異なる露光量で露光し 、前記液晶材料層中に、前記サーモトロピ ク液晶化合物の重合又は架橋生成物を含ん 第1A副領域と、前記重合又は架橋生成物と未 反応化合物としての前記サーモトロピック液 晶化合物とを含み、前記重合又は架橋生成物 の含有率が前記第1A副領域と比較してより低 第2A副領域と、前記未反応化合物を含み、 記重合又は架橋生成物の含有率が前記第2領 と比較してより低い第3A副領域と、前記未 応化合物を含み、前記重合又は架橋生成物 含有率が前記第1A副領域よりは低く前記第3A 領域よりは高い第1B乃至第3B領域を形成する 露光工程と、その後、前記液晶材料層を前記 サーモトロピック液晶化合物が液晶相から等 方相へと変化する相転移温度と等しい温度以 上に加熱して、少なくとも前記第2A、第3A及 第1B乃至第3B領域において前記メソゲンの配 の程度を低下させる現像工程と、前記配向 程度を低下させたまま前記未反応化合物を 合及び/又は架橋させる定着工程とを具備す ることを特徴とする位相差基板の製造方法が 提供される。

本発明の一態様に係る液晶表示装置を 略的に示す平面図。 図1に示す液晶表示装置のII-II線に沿っ 断面図。 図1に示す液晶表示装置のIII-III線に沿 た断面図。 図1に示す液晶表示装置のIV-IV線に沿っ 断面図。 図1に示す液晶表示装置のV-V線に沿った 断面図。 図1乃至図5に示す液晶表示装置が含ん いるカラーフィルタ層を概略的に示す平面 。 図1乃至図5に示す液晶表示装置が含ん いる固体化液晶層を概略的に示す平面図。 一変形例に係る液晶表示装置を概略的 示す断面図。 光学計算に用いた偏光板の分光透過率 示すグラフ図。 光学計算に用いた偏光板の分光透過率 を示すグラフ図。 光学計算に用いた偏光板の分光透過率 を示すグラフ図。 光学計算に用いたカラーフィルタの分 光透過率を示すグラフ図。 光学計算に用いたカラーフィルタの分 光透過率を示すグラフ図。 光学計算に用いたカラーフィルタの分 光透過率を示すグラフ図。 光学計算に用いたカラーフィルタの分 光透過率を示すグラフ図。 光学計算に用いたリターデイション層 の平均屈折率を示すグラフ図。 光学計算に用いたリターデイション層 の複屈折率を示すグラフ図。 シミュレーションNo.1における反射率 示すグラフ図。 シミュレーションNo.2における反射率 示すグラフ図。 シミュレーションNo.3における反射率 示すグラフ図。 シミュレーションNo.4における反射率 示すグラフ図。 シミュレーションNo.5における反射率 示すグラフ図。 シミュレーションNo.6における反射率 示すグラフ図。 シミュレーションNo.7における反射率 示すグラフ図。 シミュレーションNo.8における反射率 示すグラフ図。 シミュレーションNo.9における反射率 示すグラフ図。 シミュレーションNo.10における反射率 示すグラフ図。 シミュレーションNo.11における反射率 示すグラフ図。

 以下、本発明の態様について、図面を参 しながら詳細に説明する。なお、同様又は 似した機能を発揮する構成要素には全ての 面を通じて同一の参照符号を付し、重複す 説明は省略する。

 図1は、本発明の一態様に係る液晶表示装 置を概略的に示す平面図である。図2は、図1 示す液晶表示装置のII-II線に沿った断面図 ある。図3は、図1に示す液晶表示装置のIII-II I線に沿った断面図である。図4は、図1に示す 液晶表示装置のIV-IV線に沿った断面図である 図5は、図1に示す液晶表示装置のV-V線に沿 た断面図である。図6は、図1乃至図5に示す 晶表示装置が含んでいるカラーフィルタ層 概略的に示す平面図である。図7は、図1乃至 図5に示す液晶表示装置が含んでいる固体化 晶層を概略的に示す平面図である。

 図1乃至図5に示す液晶表示装置は、アク ィブマトリクス駆動方式を採用した半透過 液晶表示装置である。この液晶表示装置は アレイ基板10と対向基板20と液晶層30と一対 偏光板(図示せず)とバックライト(図示せず) を含んでいる。

 アレイ基板10は、基板110を含んでいる。 板110は、ガラス板又は樹脂板などの光透過 基板である。

 基板110の一方の主面上には、画素回路(図 示せず)と走査線(図示せず)と信号線(図示せ )と画素電極とが形成されている。

 画素回路は、各々が薄膜トランジスタな のスイッチング素子を含んでいる。画素回 は、基板110上でマトリクス状に配列してい 。

 走査線は、画素回路の行に対応して配列 ている。各画素回路の動作は、走査線から 給される走査信号によって制御される。

 信号線は、画素回路の列に対応して配列 ている。各画素電極は、画素回路を介して 号線に接続されている。

 各画素電極は、互いに電気的に接続され 透明電極150Tと反射電極150Rとを含んでいる 透明電極150Tは、反射電極150Rと向き合ってい ない非重複部を含んでいる。各画素のうち、 この非重複部に対応した部分が透過表示部で あり、反射電極150Rに対応した部分が反射表 部である。

 透明電極150Tは、透明導電体からなる。透 明導電体としては、例えば、インジウム錫酸 化物及び錫酸化物などの透明導電性酸化物を 使用することができる。

 反射電極150Rは、金属又は合金からなる。 金属又は合金としては、例えば、アルミニウ ム、銀又はそれらの合金を使用することがで きる。

 反射電極150Rは、透明電極150T上に形成さ ている。これにより、反射電極150Rと透明電 150Tとを電気的に接続している。その代わり に、反射電極150R上に透明電極150Tを形成して よい。或いは、他の導電体を介して、反射 極150Rと透明電極150Tとを電気的に接続して よい。

 画素電極は、配向膜160で被覆されている 配向膜160は、例えば垂直配向膜である。配 膜160の材料としては、例えば、ポリイミド どの透明樹脂層を使用することができる。

 対向基板20は、基板210を含んでいる。基 210は、配向膜160と向き合っている。基板210 、ガラス板又は樹脂板などの光透過性基板 ある。

 基板210の配向膜160との対向面には、固体 液晶層230とカラーフィルタ層220と対向電極2 50と配向膜260とがこの順に形成されている。

 カラーフィルタ層220は、基板210の一方の 面上で配列した複数の単位領域を含んでい 。各単位領域は、先の主面上で配列した第1 乃至第3着色画素を含んでいる。カラーフィ タ層220には、複数の貫通孔THが設けられてい る。

 第1着色画素は、一部の透明電極150Tと向 合っている。第1着色画素は、Y方向に各々が 延び、X方向に配列した複数の帯状パターン 形成している。なお、X方向及びY方向は、基 板210の上記主面に平行であり且つ互いに交差 する方向である。また、Z方向は、X方向及びY 方向と直交する方向である。

 第1着色画素は、第1着色部220aと、貫通孔T Hの一部としての第1非着色部とを含んでいる

 第1着色部220aは、第1着色画素が向き合っ いる透明電極150Tのうち反射電極150Rから露 している部分と、第1着色画素が向き合って る反射電極150Rの一部とに対応した位置に設 けられている。第1非着色部は、第1着色画素 向き合っている反射電極150Rの残りの部分に 対応した位置に設けられている。

 第2着色画素は、他の一部の透明電極150T 向き合っている。第2着色画素は、Y方向に各 々が延び、X方向に配列した複数の帯状パタ ンを形成している。

 第2着色画素は、第2着色部220bと、貫通孔T Hの他の一部としての第2非着色部とを含んで る。第2着色部220bは、第2着色画素が向き合 ている透明電極150Tのうち反射電極150Rから 出している部分と、第2着色画素が向き合っ いる反射電極150Rの一部とに対応した位置に 設けられている。第2非着色部は、第2着色画 が向き合っている反射電極150Rの残りの部分 に対応した位置に設けられている。

 あるいは、第2着色画素が向き合っている 反射電極150Rに対応した部分全体を、第4着色 220dとしてもよい。この場合、第2着色部220b 、第2の着色画素が向き合っている透明電極 150Tのうち反射電極150Rから露出している部分 みに設けられることになる。

 着色部220b及び220dの各々が主として透過 せる光の波長は、白色光を照射したときに 色部220aと比較してより短く、且つ着色部220c と比較してより長い。そして、着色部220dは 着色部220bと比較して透過率がより大きい。 えば、白色光を照射したときに着色部220b及 び220dの各々が主として透過させる光の波長 、白色光を照射したときに着色部220a及び220c が主として透過させる光の波長と比較して550 nmにより近い。ここでは、一例として、第1着 色部220aは赤色着色層であり、着色部220b及び2 20dの各々は緑色着色層であるとする。

 第3着色画素は、更に他の一部の透明電極 150Tと向き合っている。第3着色画素は、Y方向 に各々が延び、X方向に配列した複数の帯状 ターンを形成している。

 第3着色画素は、第3着色部220cと、貫通孔T Hの他の一部としての第3非着色部とを含んで る。

 第3着色部220cが主として透過させる光は 白色光を照射したときに第2着色部220bと比較 して、波長がより短い。ここでは、第3着色 220cは青色着色層であるとする。

 第3着色部220cは、第3着色画素が向き合っ いる透明電極150Tのうち反射電極150Rから露 している部分と、第3着色画素が向き合って る反射電極150Rの一部とに対応した位置に設 けられている。第3非着色部は、第3着色画素 向き合っている反射電極150Rの残りの部分に 対応した位置に設けられている。

 なお、ここでは、1つの貫通孔THの一部を 1非着色部とし、その貫通孔THの他の部分を 2非着色部及び第3非着色部としているが、 れに限定されない。それぞれ異なる貫通孔 形成して、第1非着色部、第2非着色部、及び 第3非着色部としてもよい。或いは、第1乃至 3非着色部の少なくとも一つを、複数の貫通 孔で構成してもよい。

 また、貫通孔THは、透明材料で埋め込ん もよい。例えば、カラーフィルタ層220の全 を透明材料からなる平坦化層で被覆し、こ により、貫通孔THを透明材料で埋め込んでも よい。この透明材料としては、例えば、光学 的に等方性の透明樹脂を使用する。

 第1着色画素が形成している帯状パターン と、第2着色画素が形成している帯状パター と、第3着色画素が形成している帯状パター とは、X方向に隣り合っている。即ち、第1 至第3着色画素は、ストライプ配列を形成し いる。第1乃至第3着色画素は、他の配列を 成していてもよい。例えば、第1乃至第3着色 画素は、正方配列又はデルタ配列を形成して いてもよい。

 固体化液晶層230は、リターデイション層 ある。固体化液晶層230は、基板210とカラー ィルタ層220との間に介在している。固体化 晶層230は、典型的には、連続膜である。固 化液晶層230は、サーモトロピック液晶化合 又は組成物を重合及び/又は架橋させてなる 。固体化液晶層230は、典型的には厚さがほぼ 等しい連続膜である。

 固体化液晶層230と基板210との間には、配 膜が介在していてもよい。この配向膜とし は、例えば、全面にラビング処理及び光配 処理などの配向処理を一様に施した樹脂層 使用することができる。この樹脂層として 、例えばポリイミド層を使用することがで る。

 固体化液晶層230は、領域230Ta乃至230Tc及び 230Ra乃至230Rcを含んでいる。領域230Ta乃至230Tc び230Ra乃至230Rcの各々は、固体化液晶層230の 一方の主面から他方の主面に及ぶ領域である 。領域230Ta乃至230Tc及び230Ra乃至230Rcは、Z方向 に垂直な方向に隣り合っている。

 領域230Taは、固体化液晶層230のうち、着 部220aの一部に対応した領域である。領域230R aは、固体化液晶層230のうち、着色部220aの他 一部に対応した反射表示用領域である。具 的には、領域230Taは、着色部220aのうち反射 極150Rと向き合っていない部分に対応した透 過表示用領域である。そして、領域230Raは、 色部220aのうち反射電極150Rと向き合った部 に対応した反射表示用領域である。領域230Ta 及び230Raの各々において、メソゲンの配向の 度は略均一である。

 ここで、或る領域の「メソゲンの配向の 度」は、その領域におけるメソゲンの配向 を意味する。メソゲンの配向度は、その領 の全体に亘って一定であってもよく、Z方向 に沿って変化していてもよい。例えば、或る 領域においては、下面付近で配向度がより高 く、上面付近で配向度がより低くてもよい。 この場合、「メソゲンの配向の程度」は、メ ソゲンの配向度の厚さ方向についての平均を 示す。或る領域が他の領域と比較して配向の 程度がより大きいことは、それら領域の屈折 率異方性を比較することにより確認すること ができる。

 領域230Tbは、固体化液晶層230のうち、着 部220bの一部に対応した領域である。領域230R bは、固体化液晶層230のうち、着色部220bの他 一部と、第2非着色部、即ち貫通孔THとに対 した領域である。あるいは、領域230Rbは、 色部220dに対応した領域である。具体的には 領域230Tbは、着色部220bのうち反射電極150Rと 向き合っていない部分に対応した透過表示用 領域である。そして、領域230Rbは反射表示用 域であり、着色部220bのうち反射電極150Rと き合った部分と貫通孔THとに対応する。ある いは、着色部220dに対応する。領域230Tb及び230 Rbの各々において、メソゲンの配向の程度は 均一である。

 領域230Tcは、固体化液晶層230のうち、着 部220cの一部に対応した領域である。領域230R cは、固体化液晶層230のうち、着色部220cの他 一部に対応した反射表示用領域である。具 的には、領域230Tcは、着色部220cのうち反射 極150Rと向き合っていない部分に対応した透 過表示用領域である。そして、領域230Rcは、 色部220cのうち反射電極150Rと向き合った部 に対応した反射表示用領域である。領域230Tc 及び230Rcの各々において、メソゲンの配向の 度は略均一である。

 領域230Ta乃至230Tcの各々では、例えば、メ ソゲンは配向していないか、又は、領域230Ra 至230Rcと比較してメソゲンの配向の程度が り小さい。領域230Ta乃至230Tcは、メソゲンの 向の程度が互いに等しくてもよく、互いに なっていてもよい。ここでは、一例として 領域230Ta乃至230Tcの各々において、メソゲン は配向していないとする。即ち、領域230Ta乃 230Tcの各々は、光学的に等方性であるとす 。

 領域230Ra乃至230Rcの各々は、領域230Ta乃至2 30Tcと比較して、メソゲンの配向の程度がよ 大きい。そして、領域230Ra乃至230Rcは、メソ ンの配向の程度が互いに異なっている。例 ば、領域230Raは、領域230Rbと比較してメソゲ ンの配向の程度がより高く、領域230Rbは、領 230Rcと比較してメソゲンの配向の程度がよ 高い。この場合、領域230Raは、領域230Rbと比 して屈折率異方性がより大きく、領域230Rb 、領域230Rcと比較して屈折率異方性がより大 きい。

 上述したように、固体化液晶層230は、第1 領域230Ra、第2領域230Rb、及び第3領域230Rcを含 、第1乃至第3領域は反射表示用領域である こうした第1乃至第3領域230Ra、230Rb,及び230Rc 、それぞれ2つの副領域から構成される。例 ば、第1領域230aにおける領域230Raにおいては 、第1着色部220aに向き合う領域は第1A副領域 あり、第1非着色部(貫通孔TH)と向き合う領域 は第1B副領域である。第1A副領域及び第1B副領 域を、それぞれ副領域230RaA及び副領域230RaBと 称する。

 同様に、第2の領域230bにおける領域230Rbの うち、第2着色部220bと向き合う領域は第2A副 域(副領域230RbA)であり、第2非着色部(貫通孔T H)と向き合う領域は第2B副領域(副領域230RbB)で ある。第3の領域230cにおける領域230Rcのうち 第3着色部220cと向き合う領域は第3A副領域(副 領域230RcA)であり、第3非着色部(貫通孔TH)と向 き合う領域は第3B副領域(第3B副領域230RcB)であ る。

 反射表示用領域には、第1A及び第1B、第2A び第2B、第3A及び第3B副領域の6つが存在し、 こうした6つの副領域の面内複屈折率は次の 係を満たす。即ち、第1A副領域230RaAの面内複 屈折率は、第2A副領域230RbAより大きく、第3A 領域230RcAの面内複屈折率は第2A副領域230RbAよ り小さい。また、第1B副領域230RaBの面内複屈 率は、第3B副領域230RcBと略同一であって第1A 副領域230RaAより小さく、第3A副領域230RcAより きい。

 第1B副領域230RaB、第2B副領域230RbB、及び第 3B副領域230RcBの面内複屈折率は、略同一とす ことができる。

 第1B副領域230RaB、第2B副領域230RbB、及び第 3B副領域230RcBの面内複屈折率は、第2A副領域23 0RbAの面内複屈折率と略同一とすることがで る。この場合には、位置ずれに起因した不 合が低減される点で有利である。

 第1B副領域230RaBの面内複屈折率は、第3B副 領域230RcBと略同一であって第2B副領域230RbBと 異なり、第2B副領域230RbBの面内複屈折率は 2A副領域230RbAと略同一とすることができる。 この場合には、4色カラーフィルタに対応可 な固体化液晶層が得られる。

 ここでは、一例として、領域230Ra乃至230Rc は一軸性であり、それらの遅相軸はX方向に 行であるとする。加えて、ここでは、領域23 0Raのリターデイションは着色部220aが透過さ る光の中心波長の1/4であり、領域230Rbのリタ ーデイションは着色部220b又は220dが透過させ 光の中心波長の1/4であり、領域230Rcのリタ デイションは着色部220cが透過させる光の中 波長の1/4であるとする。なお、或る光の「 心波長」は、その光のスペクトルが最大強 を示す波長である。

 対向電極250は、カラーフィルタ層220上に 成されている。対向電極250は、表示領域の 体に亘って広がった連続膜である。対向電 250は、例えば、上述した透明導電体からな 。

 配向膜260は、対向電極250を被覆している 配向膜260は、例えば垂直配向膜である。配 膜260の材料としては、例えば、ポリイミド どの透明樹脂層を使用することができる。

 なお、基板210とカラーフィルタ層220と固 化液晶層230とは、カラーフィルタ基板を構 している。カラーフィルタ基板は、他の構 要素を更に含んでいてもよい。例えば、カ ーフィルタ基板は、対向電極250を更に含ん いてもよい。或いは、カラーフィルタ基板 、ブラックマトリクスを更に含んでいても い。

 アレイ基板10と対向基板20とは、枠形状の 接着剤層(図示せず)を介して貼り合わされて る。アレイ基板10と対向基板20と接着剤層と は、中空構造を形成している。

 液晶層30は、液晶化合物又は液晶組成物 らなる。この液晶化合物又は液晶組成物は 流動性を有しており、アレイ基板10と対向基 板20と接着剤層とに囲まれた空間を満たして る。アレイ基板10と対向基板20と接着剤層と 液晶層30とは、液晶セルを形成している。

 ここでは、一例として、液晶層30が含ん いる液晶化合物は、棒状のメソゲンを含ん 誘電率異方性が負の液晶分子であり、電圧 印加時に液晶分子のメソゲンがZ方向にほぼ 行に配向しているとする。また、電圧印加 には、液晶分子のメソゲンは、Z方向に対し てX方向又はY方向へ向けて傾くか又はX方向又 はY方向にほぼ平行に配向し、このときの液 層30のリターデイションは、第3着色部220cが 過させる光の中心波長λの1/4であるとする

 偏光板は、液晶セルの両主面に貼り付け れている。ここでは、一例として、これら 光板は、直線偏光板であり、それらの透過 が直交し且つX方向に対して45°の角度を為 ように配置されているとする。

 バックライトは、偏光板を間に挟んでア イ基板10と向き合っている。バックライト 、例えば、液晶セルに向けて白色光を照射 る。

 この液晶表示装置では、領域230Ra乃至230Rc の各々のリターデイションを任意に設定可能 である。従って、主としてより波長の短い光 を透過する色の画素には、それに対応したよ り低いリターデイションとし、主としてより 波長の長い光を透過する色の画素には、それ に対応したより高いリターデイションとする 。例えば、領域230Raに、白色光を照射したと に着色部220aが主として透過させる光と波長 がほぼ等しい光に対する四分の一波長板とし ての役割を担わせることができる。そして、 領域230Rbに、白色光を照射したときに着色部2 20b及び/又は着色部220dが主として透過させる と波長がほぼ等しい光に対する四分の一波 板としての役割を担わせることができる。 えて、領域230Rcに、白色光を照射したとき 着色部220cが主として透過させる光と波長が ぼ等しい光に対する四分の一波長板として 役割を担わせることができる。それゆえ、 えば、全ての反射表示部において、最適な 学補償を達成することができる。

 また、この液晶表示装置では、領域230Ta 至230Tcを、例えば光学的に等方性とすること ができる。それゆえ、固体化液晶層230を設け ることに起因して、透過表示により達成され るコントラスト比が低下することはない。

 更に、この液晶表示装置では、貫通孔TH 設けることにより、第1着色画素・第2着色画 素・第3着色画素とともに、それぞれ反射表 用領域における平均的な透過率を透過表示 領域の透過率より高くしている。このよう 構成を採用した場合、全ての画素において 過表示用領域の着色部と反射表示用領域の 色部とに異なる材料を使用した場合と比較 て、より少数の材料で及びより簡略化され 工程でカラーフィルタ層を形成することが きる。

 また、第2着色画素は透過する光の波長が 可視光の中央付近に位置し、視感度が高い。 このため、反射表示用領域に透過表示用領域 と異なる材料を用いて高透過率の設計とした 場合に比べ、反射表示用領域に透過表示用領 域と同一の材料を使用すると、着色部の明る さが大きく低下してしまう。そこで、反射表 示用領域を透過表示用領域と同一の材料とす る場合、明るさを確保しようとすると、第2 色画素においては第1着色画素や第3着色画素 と比較して、より大きな貫通孔を設ける必要 がある。

 この液晶表示装置では、第2着色画素が向 き合っている反射電極150Rに対応した部分全 を、第4着色部220dとしてもよい。第2着色部22 0bは、第2の着色画素が向き合っている透明電 極150Tのうち反射電極150Rから露出している部 のみに設けられることになる。この場合に 、第2着色画素に貫通孔を設けた場合と比較 して、より高い画質を達成できる。

 加えて、この液晶表示装置は、カラーフ ルタ層220に貫通孔THを設けたことに起因し コントラスト比の低下が小さい。例えば、 色画像を表示する際に、貫通孔THの位置で光 漏れを生じるのは避けられない。貫通孔THの 置から漏れる光の視感度が高い場合、この 漏れがコントラスト比を無視できない程度 低下させる可能性がある。

 この液晶表示装置では、固体化液晶層230 貫通孔THに対応した領域における光学的特 を、固体化液晶層230の着色部220dに対応した 域における光学的特性と等しくしている。 色画像を表示する際に貫通孔THの位置から れる光は、主に赤色光及び青色光である。 色光及び青色光は、緑色光と比較して視感 が遥かに低い。従って、この液晶表示装置 、カラーフィルタ層220に貫通孔THを設けたこ とに起因したコントラスト比の低下が小さい 。

 このように、上述した半透過型液晶表示 置は、簡略化された方法で製造可能であり 優れた表示性能を達成する。

 この液晶表示装置には、様々な変形が可 である。

 図8は、一変形例に係る液晶表示装置を概 略的に示す断面図である。

 この液晶表示装置は、カラーフィルタ層2 20が基板210と固体化液晶層230との間に介在し いること以外は、図1乃至図7を参照しなが 説明した液晶表示装置と同様である。

 なお、この構造を採用した場合、固体化 晶層230は、カラーフィルタ層220上に形成す こととなる。カラーフィルタ層220には、上 の通り、貫通孔THが設けられている。その め、固体化液晶層230をほぼ均一な厚さに形 することが難しいことがある。

 このような場合、貫通孔THを透明材料で め込み、これにより得られる平坦面上に固 化液晶層230を形成してもよい。例えば、カ ーフィルタ層220の全面を透明材料からなる 坦化層で被覆し、この平坦化層上に固体化 晶層230を形成してもよい。この透明材料と ては、例えば、光学的に等方性の透明樹脂 使用する。

 次に、図1乃至図7を参照しながら説明し 液晶表示装置が含んでいるカラーフィルタ 板の製造方法について説明する。なお、図8 参照しながら説明した液晶表示装置が含ん いるカラーフィルタ基板は、固体化液晶層2 30とカラーフィルタ層220との積層順を逆にす こと以外は以下の方法とほぼ同様の方法に り製造することができる。

 まず、光透過性基板210を準備する。光透 性基板210は、例えば、ガラス板又は樹脂板 ある。基板210は、硬質であってもよく、可 性を有していてもよい。

 基板210は、単層構造を有していてもよく 多層構造を有していてもよい。例えば、基 210として、表面に酸化珪素層及び/又は窒化 珪素層が形成されたガラス板を使用してもよ い。

 次に、光透過性基板210上に、例えば以下 方法により固体化液晶層230を形成する。

 まず、基板210上に、光重合性又は光架橋 のサーモトロピック液晶材料を含んだ液晶 料層を形成する。例えば、メソゲンが基板2 10の主面に平行な1方向に配向した液晶材料層 を形成する。そして、この液晶材料層をパタ ーン露光と熱処理とに供することによって、 固体化液晶層230を得る。

 液晶材料層は、例えば、基板210上に、サ モトロピック液晶化合物を含んだコーティ グ液を塗布し、必要に応じて塗膜を乾燥さ ることにより得られる。液晶材料層では、 ーモトロピック液晶化合物のメソゲンが配 構造を形成している。

 コーティング液は、サーモトロピック液 化合物に加え、例えば、溶剤、キラル剤、 重合開始剤、熱重合開始剤、増感剤、連鎖 動剤、多官能モノマー及び/又はオリゴマー 、樹脂、界面活性剤、重合禁止剤、貯蔵安定 剤及び密着向上剤などの成分を、この液晶化 合物を含んだ組成物が液晶性を失わない範囲 で加えることができる。

 サーモトロピック液晶化合物としては、 えば、アルキルシアノビフェニル、アルコ シビフェニル、アルキルターフェニル、フ ニルシクロヘキサン、ビフェニルシクロヘ サン、フェニルビシクロヘキサン、ピリミ ン、シクロヘキサンカルボン酸エステル、 ロゲン化シアノフェノールエステル、アル ル安息香酸エステル、アルキルシアノトラ 、ジアルコキシトラン、アルキルアルコキ トラン、アルキルシクロヘキシルトラン、 ルキルビシクロヘキサン、シクロヘキシル ェニルエチレン、アルキルシクロヘキシル クロヘキセン、アルキルベンズアルデヒド ジン、アルケニルベンズアルデヒドアジン フェニルナフタレン、フェニルテトラヒド ナフタレン、フェニルデカヒドロナフタレ 、これらの誘導体、又はそれら化合物のア リレートを使用することができる。

 溶剤としては、例えば、シクロヘキサノ 、エチルセロソルブアセテート、ブチルセ ソルブアセテート、1-メトキシ-2-プロピル セテート、ジエチレングリコールジメチル ーテル、エチルベンゼン、エチレングリコ ルジエチルエーテル、キシレン、エチルセ ソルブ、メチル-nアミルケトン、プロピレン グリコールモノメチルエーテル、トルエン、 メチルエチルケトン、酢酸エチル、メタノー ル、エタノール、イソプロピルアルコール、 ブタノール、イソブチルケトン、石油系溶剤 、又はそれらの2種以上を含んだ混合物を使 することができる。

 光重合開始剤としては、例えば、4-フェ キシジクロロアセトフェノン、4-t-ブチル-ジ クロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフ ェノン、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロ キシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシ クロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1[4- (メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパ ン-1-オン及び2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-( 4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オンなど アセトフェノン系光重合開始剤;ベンゾイン ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー ル及びベンジルジメチルケタールなどのベ ゾイン系光重合開始剤;ベンゾフェノン、ベ ンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチ ル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシ ンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン び4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサル ァイドなどのベンゾフェノン系光重合開始 ;チオキサントン、2-クロロチオキサントン 2-メチルチオキサントン、イソプロピルチオ キサントン及び2,4-ジイソプロピルチオキサ トンなどのチオキサントン系光重合開始剤;2 ,4,6-トリクロロ-s-トリアジン、2-フェニル-4,6- ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p- トキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル) -s-トリアジン、2-(p-トリル)-4,6-ビス(トリクロ ロメチル)-s-トリアジン、2-ピペロニル-4,6-ビ (トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-ビス( トリクロロメチル)-6-スチリル-s-トリアジン 2-(ナフト-1-イル)-4,6-ビス(トリクロロメチル) -s-トリアジン、2-(4-メトキシ-ナフト-1-イル)-4 ,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4- トリクロロメチル-(ピペロニル)-6-トリアジン 及び2,4-トリクロロメチル(4’-メトキシスチ ル)-6-トリアジンなどのトリアジン系光重合 始剤;ボレート系光重合開始剤;カルバゾー 系光重合開始剤;イミダゾール系光重合開始 ;又はそれらの2種以上を含んだ混合物を使 することができる。

 増感剤は、例えば、光重合開始剤と共に 用することができる。増感剤としては、α- シロキシエステル、アシルフォスフィンオ サイド、メチルフェニルグリオキシレート ベンジル、9,10-フェナンスレンキノン、カ ファーキノン、エチルアンスラキノン、4,4 -ジエチルイソフタロフェノン、3,3’,4,4’- トラ(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾ ェノン及び4,4’-ジエチルアミノベンゾフェ ノンなどの化合物を使用することができる。

 連鎖移動剤としては、例えば多官能チオ ルを使用することができる。多官能チオー は、チオール基を2個以上有する化合物であ る。多官能チオールとしては、例えば、ヘキ サンジチオール 、デカンジチオール 、1,4- タンジオールビスチオプロピオネート、1,4- ブタンジオールビスチオグリコレート、エチ レングリコールビスチオグリコレート、エチ レングリコールビスチオプロピオネート、ト リメチロールプロパントリスチオグリコレー ト、トリメチロールプロパントリスチオプロ ピオネート、トリメチロールプロパントリス (3-メルカプトブチレート)、ペンタエリスリ ールテトラキスチオグリコレート、ペンタ リスリトールテトラキスチオプロピオネー 、トリメルカプトプロピオン酸トリス(2-ヒ ロキシエチル)イソシアヌレート、1,4-ジメチ ルメルカプトベンゼン、2、4、6-トリメルカ ト-s-トリアジン、2-(N,N-ジブチルアミノ)-4,6- メルカプト-s-トリアジン、又はそれらの2種 以上を含んだ混合物を使用することができる 。

 多官能モノマー及び/又はオリゴマーとし ては、例えば、2-ヒドロキシエチルアクリレ ト、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2- ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロ シプロピルメタクリレート、シクロヘキシ アクリレート、シクロヘキシルメタクリレ ト、ポリエチレングリコールジアクリレー 、ポリエチレングリコールジメタクリレー 、ペンタエリスリトールトリアクリレート ペンタエリスリトールトリメタクリレート トリメチロールプロパントリアクリレート トリメチロールプロパントリメタクリレー 、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタク レート、トリシクロデカニルアクリレート トリシクロデカニルメタクリレート、メラ ンアクリレート、メラミンメタクリレート エポキシアクリレート及びエポキシメタク レートなどのアクリル酸エステル及びメタ リル酸エステル;アクリル酸、メタクリル酸 、スチレン、酢酸ビニル、アクリルアミド、 メタクリルアミド、N-ヒドロキシメチルアク ルアミド、N-ヒドロキシメチルメタクリル ミド、アクリロニトリル、又はそれらの2種 上を含んだ混合物を使用することができる

 樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、 硬化性樹脂又は感光性樹脂を使用すること できる。

 熱可塑性樹脂としては、例えば、ブチラ ル樹脂、スチレンーマレイン酸共重合体、 素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン ポリ塩化ビニル、塩化ビニル-酢酸ビニル共 重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹 脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、ア ルキッド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミ ド樹脂、ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、セル ロース類、ポリブタジエン、ポリエチレン、 ポリプロピレン又はポリイミド樹脂を使用す ることができる。

 熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキ 樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ロジン変性 レイン酸樹脂、ロジン変性フマル酸樹脂、 ラミン樹脂、尿素樹脂又はフェノール樹脂 使用することができる。

 感光性樹脂としては、例えば、水酸基、 ルボキシル基及びアミノ基などの反応性の 換基を有する線状高分子に、イソシアネー 基、アルデヒド基及びエポキシ基などの反 性置換基を有するアクリル化合物、メタク ル化合物又は桂皮酸を反応させて、アクリ イル基、メタクリロイル基及びスチリル基 ど光架橋性基を線状高分子に導入した樹脂 使用することができる。また、スチレン-無 水マレイン酸共重合物及びα-オレフィン-無 マレイン酸共重合物などの酸無水物を含む 状高分子を、ヒドロキシアルキルアクリレ ト及びヒドロキシアルキルメタクリレート どの水酸基を有するアクリル化合物又はメ クリル化合物によりハーフエステル化した 脂も使用することができる。

 界面活性剤としては、例えば、ポリオキ エチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシ ベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン- アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキル ナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキル ジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム 、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウ リル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫 酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノー ルアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリ ル硫酸ナトリウム、スチレン-アクリル酸共 合体のモノエタノールアミン及びポリオキ エチレンアルキルエーテルリン酸エステル どのアニオン性界面活性剤;ポリオキシエチ ンオレイルエーテル、ポリオキシエチレン ウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニ フェニルエーテル、ポリオキシエチレンア キルエーテルリン酸エステル、ポリオキシ チレンソルビタンモノステアレート及びポ エチレングリコールモノラウレートなどの ニオン性界面活性剤;アルキル4級アンモニ ム塩及びそれらのエチレンオキサイド付加 などのカオチン性界面活性剤;アルキルジメ ルアミノ酢酸ベタインなどのアルキルベタ ン及びアルキルイミダゾリンなどの両性界 活性剤;又はそれらの2種以上を含んだ混合 を使用することができる。

 重合禁止剤としては、例えば、2,6-ジ-t-ブ チル-p-クレゾール、3-t-ブチル-4-ヒドロキシ ニソール、2-t-ブチル-4-ヒドロキシアニソー 、2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフ ノール)、2,2’-メチレンビス(4-エチル-6-t-ブ チルフェノール)、4,4’-ブチリデンビス(3-メ ル-6-t-ブチルフェノール)、4,4’-チオビス(3- メチル-6-t-ブチルフェノール)、スチレン化フ ェノール、スチレン化p-クレゾール、1,1,3-ト ス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニ )ブタン、テトラキス〔メチレン-3-(3’,5’- -1-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオ ート〕メタン、オクタデシル 3-(3,5-ジ-t-ブ ル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート)、 1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4- ヒドロキシベンジル)ベンゼン、2,2’-ジヒド キシ-3,3’-ジ(α-メチルシクロヘキシル)-5,5 -ジメチルジフェニルメタン、4,4’-メチレン ビス(2,6-ジ-t-ブチルフェノール)、トリス(3,5- -t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)イソシアヌ レート、1,3,5-トリス(3’,5’-ジ-t-ブチル-4-ヒ ロキシベンゾイル)イソシアヌレート、ビス 〔2-メチル-4-(3-n-アルキルチオプロピオニル キシ)-5-t-ブチルフェニル〕スルフィド、1-オ キシ-3-メチル-イソプロピルベンゼン、2,5-ジ- t-ブチルハイドロキノン、2,2’-メチレンビス (4-メチル-6-ノニルフェノール)、アルキル化 スフェノール、2,5-ジ-t-アミルハイドロキノ 、ポリブチル化ビスフェノールA、ビスフェ ノールA、2,6-ジ-t-ブチル-p-エチルフェノール 2,6-ビス(2’-ヒドロキシ-3-t-ブチル-5’-メチ -ベンジル)-4-メチルフェノール、1,3,5-トリ (4-t-ブチル-3-ヒドロキシ-2,6-ジメチルベンジ )イソシアヌレート、テレフタロイルージ(2, 6-ジメチル-4-t-ブチル-3-ヒドロキシベンジル ルフィド)、2,6-ジ-t-ブチルフェノール、2,6- -t-ブチル-α-ジメチルアミノ-p-クレゾール、2 ,2’-メチレン-ビス(4-メチル-6-シクロヘキシ フェノール)、トルエチレングリコール-ビス 〔3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニ )プロピオネート〕、ヘキサメチレングリコ ル-ビス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニ )プロピオネート、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロ シトルエン、6-(4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチル ニリン)-2,4-ビス(オクチルチオ)-1,3,5-トリア ン、N,N’-ヘキサメチレンビス(3,5-ジ-t-ブチ -4-ヒドロキシ-ヒドロシナミド)、3,5-ジ-t-ブ ル-4-ヒドロキシベンジル-リン酸ジエチルエ ステル、2,4-ジメチル-6-t-ブチルフェノール、 4,4’-メチレンビス(2,6-ジ-t-ブチルフェノール )、4,4’-チオビス(2-メチル-6-t-ブチルフェノ ル)、トリス〔β-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキ フェニル)プロピオニル-オキシエチル〕イソ シアヌレート、2,4,6-トリブチルフェノール、 ビス〔3,3-ビス(4’-ヒドロキシ-3’-t-ブチルフ ェニル)-ブチリックアシッド〕グリコールエ テル、4-ヒドロキシメチル-2,6-ジ-t-ブチルフ ェノール及びビス(3-メチル-4-ヒドロキシ-5-t- チルベンジル)サルファイドなどのフェノー ル系禁止剤;N-フェニル-N’-イソプロピル-p-フ ェニレンジアミン、N-フェニル-N’-(1,3-ジメ ルブチル)-p-フェニレンジアミン、N,N’-ジフ ェニル-p-フェニレンジアミン、2,2,4-トリメチ ル-1,2-ジヒドロキノリン重合物及びジアリー -p-フェニレンジアミンなどのアミン系禁止 ;ジラウリル・チオジプロピオネート、ジス テアリル・チオジプロピオネート及び2-メル プトベンズイミダノールなどの硫黄系禁止 ;ジステアリルペンタエリスリトールジホス ファイトなどのリン系禁止剤;又はそれらの2 以上を含んだ混合物を使用することができ 。

 貯蔵安定剤としては、例えば、ベンジル リメチルクロライド;ジエチルヒドロキシア ミンなどの4級アンモニウムクロライド、乳 及びシュウ酸などの有機酸;そのメチルエー ル;t-ブチルピロカテコール;テトラエチルホ スフィン及びテトラフェニルフォスフィンな どの有機ホスフィン;亜リン酸塩;又はそれら 2種以上を含んだ混合物を使用することがで きる。

 密着向上剤としては、例えば、シランカ プリング剤を使用することができる。シラ カップリング剤としては、例えば、ビニル リス(β-メトキシエトキシ)シラン、ビニル トキシシラン及びビニルトリメトキシシラ などのビニルシラン類;γ-メタクリロキシプ ピルトリメトキシシランなどのアクリルシ ン類及びメタクリルシラン類;β-(3,4-エポキ シクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン 、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)メチルトリ メトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキ ル)エチルトリエトキシシラン、β-(3,4-エポ シシクロヘキシル)メチルトリエトキシシラ ン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシ ラン及びγ-グリシドキシプロピルトリエトキ シシランなどのエポキシシラン類;N-β(アミノ エチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラ 、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリ トキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノ ロピルメチルジエトキシシシラン、γ-アミ プロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプ ピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-ア ノプロピルトリメトキシシラン及びN-フェニ ル-γ-アミノプロピルトリエトキシシランな のアミノシラン類;γ-メルカプトプロピルト メトキシシラン;γ-メルカプトプロピルトリ エトキシシラン;又はそれらの2種以上を含ん 混合物を使用することができる。

 コーティング液の塗布には、例えば、ス ンコート法;スリットコート法;凸版印刷、 クリーン印刷、平版印刷、反転印刷及びグ ビア印刷などの印刷法;これらの印刷法にオ セット方式を組み合わせた方法;インキジェ ット法;又はバーコート法を利用することが きる。

 液晶材料層は、例えば、均一な厚さを有 ている連続膜として形成する。上述した方 によれば、塗布面が十分に平坦である限り 液晶材料層を均一な厚さを有している連続 として形成することができる。

 コーティング液の塗布に先立って、基板2 10の表面に、配向処理を施してもよい。或い 、コーティング液の塗布に先立って、基板2 10上に、液晶化合物の配向を規制する配向膜 形成してもよい。この配向膜は、例えば、 板210上にポリイミドなどの透明樹脂層を形 し、この透明樹脂層にラビングなどの配向 理を施すことにより得られる。この配向膜 、光配向技術を利用して形成してもよい。

 次に、第1露光プロセスを行う。即ち、液 晶材料層の複数の領域に、異なる露光量で光 を照射する。例えば、液晶材料層のうち領域 230Raに対応した領域には、最大の露光量で光 照射する。液晶材料層のうち領域230Rbに対 した領域には、液晶材料層のうち領域230Raに 対応した領域と比較してより小さな露光量で 光Lを照射する。液晶材料層のうち領域230Rcに 対応した領域には、液晶材料層のうち領域230 Rbに対応した領域と比較してより小さな露光 で光Lを照射する。そして、例えば、液晶材 料層のうち領域230Ta乃至Tcに対応した領域に 光を照射しない。これにより、液晶材料層 光を照射した部分で、メソゲンが形成して る配向構造を維持させたまま、サーモトロ ック液晶化合物の重合又は架橋を生じさせ 。

 サーモトロピック液晶化合物の重合又は 橋生成物では、そのメソゲン基は固定化さ ている。露光量が最大の領域では、サーモ ロピック液晶化合物の重合又は架橋生成物 含有率が最も高く、未重合及び未架橋のサ モトロピック液晶化合物の含有率が最も小 い。そして、露光量が小さくなるほど、重 又は架橋生成物の含有率はより低くなり、 重合及び未架橋のサーモトロピック液晶化 物の含有率はより高くなる。

 従って、露光量がより大きな領域では、 ソゲン基はより高い割合で固定化され、露 量がより小さな領域では、メソゲン基はよ 低い割合で固定化される。そして、露光量 ゼロの領域では、メソゲン基は固定化され い。

 第1露光プロセスに使用する光は、紫外線 、可視光線及び赤外線などの電磁波である。 電磁波の代わりに、電子線を使用してもよい 。それらの1つのみを使用してもよく、それ の2つ以上を使用してもよい。

 第1露光プロセスは、上述した不均一な重 合又は架橋を生じさせることができれば、ど のような方法で行ってもよい。例えば、この 露光プロセスでは、フォトマスクを用いた露 光を複数回行ってもよい。或いは、この露光 プロセスでは、ハーフトーンマスク、グレイ トーンマスク又は波長制限マスクを用いた露 光を行ってもよい。或いは、フォトマスクを 使用する代わりに、電子ビームなどの放射線 又は光束を液晶材料層上で走査させてもよい 。或いは、これらを組み合わせてもよい。

 第1露光プロセスを終了した後、第1熱処 プロセスを行う。即ち、液晶材料層を、サ モトロピック液晶化合物が液晶相から等方 へと変化する相転移温度と等しい温度以上 加熱する。未反応化合物であるサーモトロ ック液晶化合物のメソゲンは固定化されて ない。それゆえ、液晶材料層を相転移温度 上に加熱すると、未反応化合物のメソゲン 配向の程度が低下する。例えば、未反応化 物のメソゲンは、液晶相から等方相へと変 する。他方、サーモトロピック液晶化合物 重合又は架橋生成物では、メソゲンは固定 されている。

 従って、第1露光プロセスにおける露光量 がより小さな領域では、第1露光プロセスに ける露光量がより大きな領域と比較してメ ゲンの配向の程度がより低くなる。そして 第1露光プロセスにおいて露光しなかった領 では、この熱処理によってメソゲンの配向 造が消失する。

 その後、未反応化合物のメソゲンについ 配向の程度を低下させたまま、未反応化合 を重合及び/又は架橋させる。

 例えば、以下に説明する第2露光プロセス を行う。即ち、サーモトロピック液晶化合物 が等方相から液晶相へと変化する相転移温度 よりも高い温度に液晶材料層を維持したまま 、液晶材料層の全体に光を照射する。液晶材 料層には、未反応化合物のほぼ全てが重合及 び/又は架橋反応を生じるのに十分な露光量 光を照射する。これにより、未反応化合物 重合又は架橋を生じさせ、配向の程度を低 させたメソゲンを固定化する。以上のよう して、固体化液晶層230を得る。

 なお、或る液晶化合物は、等方相から液 相へと変化する第1相転移温度が、液晶相か ら等方相へと変化する第2相転移温度と比較 てより低い。それゆえ、特定の場合には、 2露光プロセスにおける液晶材料層の温度は 第1熱処理プロセスの加熱温度と比較してよ り低くてもよい。但し、通常は、簡便性の観 点で、第2露光プロセスにおける液晶材料層 温度は、第1相転移温度以上とする。

 第2露光プロセスには、第1露光プロセス 使用可能な光として例示したのと同様の光 使用することができる。第2露光プロセスに 用する光と第1露光プロセスに使用する光と は、同一であってもよく、異なっていてもよ い。

 第2露光プロセスでは、液晶材料層の全体 に亘って露光量が等しくてもよい。この場合 、微細なパターンが設けられたフォトマスク を使用する必要がない。従って、この場合、 プロセスを簡略化することができる。

 或いは、第2露光プロセスは、第1露光プ セスにおける露光量と第2露光プロセスにお る露光量との和である合計露光量が全ての 域で互いに等しくなるように行ってもよい 例えば、或る領域の合計露光量が他の領域 合計露光量と比較して著しく大きい場合、 者の合計露光量を十分に大きな値とすると 前者が不所望なダメージを受けるか、又は この領域の近傍でカラーフィルタ層220が不 望なダメージを受ける可能性がある。合計 光量を全ての領域で等しくすると、そのよ なダメージを防止できる。

 未反応化合物の重合及び/又は架橋は、他 の方法で行ってもよい。

 例えば、未反応化合物、即ちサーモトロ ック液晶化合物が第1相転移温度よりも高い 重合及び/又は架橋温度に加熱することによ て重合及び/又は架橋する材料である場合、 2露光プロセスの代わりに、第2熱処理プロ スを行ってもよい。具体的には、第2露光プ セスの代わりに、液晶材料層を重合及び/又 は架橋温度以上に加熱して、未反応化合物を 重合及び/又は架橋させる。これにより、固 化液晶層230を得る。なお、第1熱処理におけ 加熱温度は、例えば、第1相転移温度以上で あり且つ重合及び/又は架橋温度未満とする

 或いは、第1熱処理プロセスの後に、第2 処理プロセスと第2露光プロセスとを順次行 てもよい。或いは、第1熱処理プロセスの後 に、第2露光プロセスと第2熱処理プロセスと 順次行ってもよい。或いは、第1熱処理プロ セスの後に、第2熱処理プロセスと第2露光プ セスと第2熱処理プロセスとを順次行っても よい。このように第2露光プロセスと第2熱処 プロセスとを組み合わせると、未反応化合 の重合及び/又は架橋をより確実に進行させ ることができる。それゆえ、より強固な固体 化液晶層230を得ることができる。

 未反応化合物が或る温度に加熱すること よって重合及び/又は架橋する材料である場 合、第1熱処理における加熱温度は、それが 合及び/又は架橋する温度以上であってもよ 。但し、この場合、配向の程度の低下と重 及び/又は架橋とが同時に進行する。そのた め、製造条件が固体化液晶層230の光学特性に 及ぼす影響が比較的大きい。

 ところで、第1露光プロセス後に現像プロ セスを行った場合、屈折率異方性が互いに等 しく且つ厚さが互いに異なる複数の領域を含 んだ固体化液晶層が得られる。これら領域は 、厚さが互いに異なっているので、リターデ イションが互いに異なっている。

 しかしながら、ウェットプロセス、特に 現像の条件を厳密に管理することは難しく それら条件が最終製品の光学的特性に与え 影響は極めて大きい。それゆえ、ウェット ロセスを含んだ方法によると、光学的特性 目標値からのずれを生じ易い。

 これに対し、上述した方法によると、第1 露光プロセス及びそれよりも後にウェットプ ロセスは行わない。それゆえ、この方法によ ると、ウェットプロセスに起因して屈折率異 方性が目標値からずれるのを防止できる。

 なお、屈折率異方性と第1露光プロセスに おける露光量とは、必ずしも比例関係にある 訳ではない。但し、材料及び露光量が一定の 条件のもとでは、屈折率異方性の再現性は高 い。それゆえ、或る屈折率異方性を達成する のに必要な条件、例えば露光量を見出すのは 容易であり、また、安定した製造を行なうこ とも容易である。

 以上のようにして固体化液晶層230を形成 、その後、この固体化液晶層230上に、カラ フィルタ層220の着色部220a乃至220dを形成す 。

 着色部220a乃至220dの各々は、透明樹脂と れに分散させた顔料とを含んでいる。着色 220a乃至220dの各々は、例えば、顔料担体とこ れに分散させた顔料とを含んだ着色組成物の 薄膜パターンを形成し、この薄膜パターンを 硬化させることにより得られる。この薄膜パ ターンは、例えば、印刷法、フォトリソグラ フィ法、インキジェット法、電着法又は転写 法を利用して形成することができる。

 この顔料としては、有機顔料及び/又は無 機顔料を使用することができる。着色部220a 至220dの各々は、1種の有機又は無機顔料を含 んでいてもよく、複数種の有機顔料及び/又 無機顔料を含んでいてもよい。

 透明樹脂は、アクリル樹脂及びメタクリ 樹脂のように、可視光の全波長範囲、例え 400乃至700nmの全波長領域に亘って高い透過 を有している樹脂である。透明樹脂の材料 しては、例えば、感光性樹脂を使用するこ ができる。

 この方法では、カラーフィルタ層220が、 体化液晶層230を形成するための露光プロセ 及び熱処理プロセスに晒されることはない それゆえ、上記の露光プロセス及び熱処理 ロセスに起因したカラーフィルタ層220の劣 は生じない。

 また、この方法では、典型的にはほぼ平 な表面を有している固体化液晶層230上にカ ーフィルタ層220を形成することができる。 って、凹凸構造が設けられた表面上にカラ フィルタ層220を形成する場合と比較して、 計通りの性能を有するカラーフィルタ層220 より容易に得ることができる。

 カラーフィルタ層220上に固体化液晶層230 形成した場合には、固体化液晶層230に、カ ーフィルタ層220から液晶層30中への不純物 混入を抑制する役割を担わせることができ 。

 以下、シミュレーションによる学計算結果 例を挙げて本発明の効果について記載する 、本発明の望ましい構成はこれらに限られ ものではない。 
 計算にあたっては、次に挙げる条件を共通 設定した。 
 偏光板の透過率を下記表1にまとめる。

 屈折率は波長によらず1.51、厚みは180μmとし た。偏光板の分光透過率について図9~11に示 。 
 ガラス基板は、波長によらず屈折率を1.5、 過率を100%であると仮定した。厚みは0.7mmと た。 
 カラーフィルタ層の色特性を下記表2にまと め、分光透過率を図12~15に示す。屈折率はい れも波長によらず1.7、厚みは1.8μmと仮定し 。

 後述するシミュレーションのうちNo.7につ いてのみ、緑色画素の条件を変更した。

 液晶は、長軸方向の屈折率を波長によら 1.60、短軸方向の屈折率を波長によらず1.50 弾性定数を13.2pN(広がり)・6.5pN(ねじれ)・18.3p N(曲がり)、長軸方向の誘電率を3.1、短軸方向 の誘電率を8.3と仮定した。プレチルト角は89 とした。

 リターデイション層は、面内に位相差を有 る1軸性の光学異方性素子とした。膜厚は1.6 μmとし、透過率を波長によらず100%であると 定した。波長535nmでの複屈折率を1としたと の複屈折率の比を、各波長における平均屈 率とともに下記表3にまとめる。

 図16に平均屈折率を示し、図17に複屈折率 比を示す。

 本計算においては、反射領域のみについ 取り扱った。層構成は、視認側から偏光板/ ガラス基板/カラーフィルタ層/リターデイシ ン層/液晶層/鏡面反射板とし、液晶層の厚 は1.5μmとした。偏光板は吸収軸を90°とし、 晶層のプレツイスト角度及びリターデイシ ン層の遅相軸を45°とした。

 液晶層に印加する電圧が0Vのときを黒表 、5Vのときを白表示として、それぞれの正面 方向の分光透過率を求め、光源をC光源とし コントラストを算出した。なお、鏡面反射 以外の界面における反射は考慮していない

 上述した共通条件のもとで、次のように ミュレーションを行なった。

 (No.1)
 下記表4に示す設定特性のリターデイション 層について、光学計算を行なった。複屈折率 は、波長550nmにおける値である。コントラス 比は50であった。

 白表示及び黒表示の反射率を図18に示す

 (No.2)
 下記表5に示す設定特性のリターデイション 層について、光学計算を行なった。複屈折率 は、波長550nmにおける値である。コントラス 比は51であった。

 白表示及び黒表示の反射率を図19に示す

 (No.3)
 下記表6に示す設定特性のリターデイション 層について、光学計算を行なった。複屈折率 は、波長550nmにおける値である。コントラス 比は52であった。

 白表示及び黒表示の反射率を図20に示す

 (No.4)
 下記表7に示す設定特性のリターデイション 層について、光学計算を行なった。複屈折率 は、波長550nmにおける値である。コントラス 比は43であった。

 白表示及び黒表示の反射率を図21に示す

 (No.5)
 下記表8に示す設定特性のリターデイション 層について、光学計算を行なった。複屈折率 は、波長550nmにおける値である。コントラス 比は44であった。

 白表示及び黒表示の反射率を図22に示す

 (No.6)
 下記表9に示す設定特性のリターデイション 層について、光学計算を行なった。複屈折率 は、波長550nmにおける値である。コントラス 比は46であった。

 白表示及び黒表示の反射率を図23に示す

 (No.7)
 下記表10に示す設定特性のリターデイショ 層について、光学計算を行なった。ここで リターデイション層においては、緑色画素 非着色部が存在しない。複屈折率は、波長55 0nmにおける値である。コントラスト比は61で った。

 白表示及び黒表示の反射率を図24に示す

 (No.8)
 下記表11に示す設定特性のリターデイショ 層について、光学計算を行なった。複屈折 は、波長550nmにおける値である。コントラス ト比は29であった。

 白表示及び黒表示の反射率を図25に示す

 (No.9)
 下記表12に示す設定特性のリターデイショ 層について、光学計算を行なった。複屈折 は、波長550nmにおける値である。コントラス ト比は32であった。

 白表示及び黒表示の反射率を図26に示す

 (No.10)
 下記表13に示す設定特性のリターデイショ 層について、光学計算を行なった。複屈折 は、波長550nmにおける値である。コントラス ト比は24であった。

 白表示及び黒表示の反射率を図27に示す

 (No.11)
 下記表14に示す設定特性のリターデイショ 層について、光学計算を行なった。複屈折 は、波長550nmにおける値である。コントラス ト比は32であった。

 白表示及び黒表示の反射率を図28に示す

 各リターデイション層についてのコントラ ト比を、画素比率及び複屈折率とともに下 表15にまとめる。

 No.1~7においては、非着色部に対応するリ ーデイション層の領域の複屈折率が着色部 は異なった値に設定されているので、実施 に該当する。例えば、No.1及び4では、非着 部に対応するリターデイション層の領域の 屈折率は、緑色画素の着色部に対応する領 と同じ複屈折率値に設定されている。No.2,3,5 ,及び6では、非着色部に対応するリターデイ ョン層の領域の複屈折率は、赤色画素の着 部に対応する領域より低く青色画素の着色 に対応する領域より高くなる適切な値に設 されている。その結果、反射表示において4 3以上という高いコントラスト比が得られた

 No.7では、緑色画素のみ、反射表示用領域 のカラーフィルタ層の透過率を上げることに より非着色部を設けない構成である。この場 合には、反射表示におけるコントラスト比は 61まで高められる。

 一方、No.8~11においては、非着色部に対応 するリターデイション層の領域の複屈折率は 着色部とは同等の値に設定されている。その ため、反射表示におけるコントラスト比は、 たかだか32にとどまっている。