Title:
SAMPLE ANALYSIS DEVICE AND SAMPLE ANALYSIS METHOD
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2011/155489
Kind Code:
A1
Abstract:
Disclosed are an analysis device and an analysis method which prevent non-uniformities in the adhesion of magnetic particles (10) and which detect with greater accuracy and precision. The disclosed sample analysis device is provided with a flow channel (15) through which a sample containing magnetic particles (10) flows, and a magnetic field generating means (12) which generates a magnetic field for capturing the aforementioned magnetic particles (10) in a magnetic particle capturing region in said flow channel (15). The disclosed sample analysis device is configured such that the cross-section area of the downstream end of the flow channel in the aforementioned magnetic particle capture region is greater than that of the upstream end thereof, and/or is configured such that the magnitude of the magnetic field generated by the aforementioned magnetic field generating means (12) is greater downstream than upstream of the aforementioned magnetic particle capture region.
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Inventors:
INABA Toru (HITACHI LTD., 1-1, Ohmikacho 7-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 92, 〒3191292, JP)
稲葉 亨 (〒92 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株式会社日立製作所 日立研究所内 Ibaraki, 〒3191292, JP)
MATSUOKA Shinya (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
松岡 晋弥 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
SAKAZUME Taku (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
坂詰 卓 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
YAMASHITA Yoshihiro (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
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Application Number:
JP2011/063046
Publication Date:
December 15, 2011
Filing Date:
June 07, 2011
Export Citation:
Assignee:
HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION (24-14, Nishi Shimbashi 1-chome Minato-k, Tokyo 17, 〒1058717, JP)
株式会社日立ハイテクノロジーズ (〒17 東京都港区西新橋一丁目24番14号 Tokyo, 〒1058717, JP)
INABA Toru (HITACHI LTD., 1-1, Ohmikacho 7-chome, Hitachi-sh, Ibaraki 92, 〒3191292, JP)
稲葉 亨 (〒92 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株式会社日立製作所 日立研究所内 Ibaraki, 〒3191292, JP)
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株式会社日立ハイテクノロジーズ (〒17 東京都港区西新橋一丁目24番14号 Tokyo, 〒1058717, JP)
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International Classes:
G01N35/00; B03C1/00; G01N33/543; G01N35/08
Attorney, Agent or Firm:
KASUGA Yuzuru (Torii-nihonbashi Bldg, 4-1 Nihonbashi-honcho 3-chome, Chuo-k, Tokyo 23, 〒1030023, JP)
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