星野 京延 (〒12 東京都練馬区豊玉北4丁目11番10号 株式会社ベルデックス内 Tokyo, 1760012, JP)
MITO, Masanori (11-10 Toyotamakita 4-chome, Nerima-k, Tokyo 12, 1760012, JP)
三戸 雅徳 (〒12 東京都練馬区豊玉北4丁目11番10号 株式会社ベルデックス内 Tokyo, 1760012, JP)
HANYU, Akio (11-10 Toyotamakita 4-chome, Nerima-k, Tokyo 12, 1760012, JP)
THK株式会社 (〒03 東京都品川区西五反田3丁目11番6号 Tokyo, 1418503, JP)
BELDEX CORPORATION (11-10, Toyotamakita 4-chome Nerima-k, Tokyo 12, 1760012, JP)
株式会社ベルデックス (〒12 東京都練馬区豊玉北4丁目11番10号 Tokyo, 1760012, JP)
HOSHINO, Takanobu (11-10 Toyotamakita 4-chome, Nerima-k, Tokyo 12, 1760012, JP)
星野 京延 (〒12 東京都練馬区豊玉北4丁目11番10号 株式会社ベルデックス内 Tokyo, 1760012, JP)
MITO, Masanori (11-10 Toyotamakita 4-chome, Nerima-k, Tokyo 12, 1760012, JP)
| ワークに当接するカッタと、 前記カッタを前記ワークの表面に沿って相対的に移動させる相対移動部と、 前記カッタが前記ワークに切り込む深さを調節する切込み深さ調節部と、 前記カッタが前記ワークにスクライブ線を形成する最中に、前記カッタの進行方向の前方の前記ワークの測定点の高さを測定する高さ測定部と、 前記カッタが前記ワークの前記測定点を通過するとき、前記高さ測定部が測定した前記ワークの前記測定点の高さに基づいて、前記切込み深さ調節部を制御する制御部と、を備えるスクライブ装置。 |
| 前記スクライブ装置はさらに、 前記カッタから前記ワークに付与される荷重に関連する指標を測定する荷重測定部と、 前記荷重測定部が測定した測定値を表示する表示部と、を備えることを特徴とする請求項1に記載のスクライブ装置。 |
| 前記切込み深さ調節部は、 前記ワークの表面と直交するZ軸方向に昇降するヘッドベースと、 前記ヘッドベースに前記Z軸方向にスライド可能に支持され、前記カッタが設けられるスクライブヘッドと、 前記ヘッドベースに取り付けられ、前記スクライブヘッドを前記ワークに押圧する荷重付加機構と、を有し、 前記荷重測定部は、前記荷重付加機構と前記スクライブヘッドとの間に設けられて、前記荷重付加機構から前記スクライブヘッドに付与される荷重を測定することを特徴とする請求項2に記載のスクライブ装置。 |
| 前記切込み深さ調節部はさらに、 前記ヘッドベースと前記スクライブヘッドとの間に架け渡され、前記スクライブヘッドの自重を支持する弾性部材を有することを特徴とする請求項3に記載のスクライブ装置。 |
| 前記相対移動部は、 前記カッタを前記ワークに対して前記ワークの表面内のX軸方向に相対的に移動させるためのX軸ステージを前記X軸方向に移動させるX軸移動機構と、 前記X軸ステージを前記ワークの表面内のY軸方向に相対的に微動させるY軸補正機構と、を有し、 前記制御部は、前記ワークに前記X軸方向にスクライブ線を形成するとき、あらかじめ測定された、前記X軸ステージを前記X軸方向に移動させたときの前記X軸ステージのY軸変位量に基づいて、スクライブ線が真直になるように前記X軸移動機構及び前記Y軸補正機構を制御することを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載のスクライブ装置。 |
| ワークに当接するカッタと、 前記カッタを前記ワークに対して前記ワークの表面内のX軸方向に相対的に移動させるためのX軸ステージを前記X軸方向に移動させるX軸移動機構と、 前記X軸ステージを前記ワークの表面内のY軸方向に相対的に微動させるY軸補正機構と、 前記ワークに前記X軸方向にスクライブ線を形成するとき、あらかじめ測定された、前記X軸ステージを前記X軸方向に移動させたときの前記X軸ステージのY軸変位量に基づいて、スクライブ線が真直になるように前記X軸移動機構及び前記Y軸補正機構を制御する制御部と、を備えるスクライブ装置。 |
| カッタをワークの表面に沿って相対的に移動させることによって、前記ワークの表面にスクライブ線を形成するスクライブ方法において、 前記カッタが前記ワークにスクライブ線を形成する最中に、前記カッタの進行方向の前方の前記ワークの測定点の高さを測定する工程と、 前記カッタが前記ワークの前記測定点を通過するとき、前記ワークの前記測定点の高さに基づいて、前記カッタが前記ワークを切り込む深さを調節する工程と、を備えるスクライブ方法。 |
| カッタをワークの表面に沿って相対的に移動させることによって、ワークの表面にスクライブ線を形成するスクライブ方法において、 カッタをワークに対して前記ワークの表面内のX軸方向に相対的に移動させるためのX軸ステージを前記X軸方向に移動させ、前記ワークの表面内のY軸方向における前記X軸ステージのY軸変位量をあらかじめ測定する工程と、 前記ワークに前記X軸方向にスクライブ線を形成するとき、測定された前記X軸ステージの前記Y軸変位量に基づいて、スクライブ線が真直になるように前記X軸ステージのY軸方向における位置を補正する工程と、を備えるスクライブ方法。 |
本発明は、ガラス、半導体などの脆性材 からなるワークにスクライブ線を刻み付け スクライブ装置及びスクライブ方法に関す 。
脆性材料からなる薄板状のワークを分断 る際には、ワークの表面にはあらかじめス ライブ線が刻み付けられる。スクライブ線 形成後、スクライブ線に沿ってワークを曲 ると、スクライブ線のクラックがワークの 面まで到達し、ワークが分断される。スク イブ線によって、ワークの表面に深い垂直 ラックを形成できれば、スクライブ工程の でワークを分断することもできる。
ワークにスクライブ線を刻み付けるスク イブ方法としては、スクライブヘッドに算 玉状の回転可能なカッターホイールを設け カッターホイールをワークに押し付けた状 で、カッターホイールがワークの表面上を がるようにスクライブヘッドを移動させる 法や、カッターホイールの替わりにポイン ダイヤと呼ばれる先端が尖った工具をワー に押し付けてスクライブ線を刻み付ける方 がある。深い垂直クラックを形成するため 、カッターホイールやポイントダイヤなど カッタに振動を付与することもある。
昨今のFPD(Flat Panel Display)は大画面化、薄 型化が進んでおり、マザーガラスを所望の寸 法に分断するスクライブ工程においても、種 々の問題が発生している。例えば、ワーク( ラス板)自体が大型化することによって、反 やうねりによるワークの凸凹が顕在化する また、ワークが吸着されるステージを完全 平面に形成するのは困難であるから、ワー が薄型化することによって、ワークが吸着 れるステージの凸凹がワークの凸凹に影響 るという問題も発生する。
もし、カッタがワークの凸凹に倣って受 的に上下するだけならば、カッタの上下動 よって荷重変動が発生し、スクライブ線の さの変動が発生する。これが原因で、ワー に局部的にダメージが発生することがある ワークのダメージの発生を防止するために 、腫物に触わるようにワークの凸部でのカ タースピードを調整する必要があった。
この問題を解決するために、特許文献1に は、板ガラスの加工中にカッタの押圧力をセ ンサで検出し、センサの検出信号に基づいて 、押圧力が一定になるようにカッタを上下動 させるスクライブ線の形成方法が記載されて いる。
特許文献2には、スクライブ線を形成する以
前に予定されるスクライブ線に沿ったワーク
の高さを測定し、測定したワークの高さをカ
ッタの走行位置と関連付けて記憶し、スクラ
イブ線を形成するとき、記憶値に基づいてカ
ッタの切込み深さがスクライブ線の全長に渡
って一定になるようにカッタを昇降させるス
クライブ線の形成方法が記載されている。
しかし、特許文献1に記載の発明にあって は、センサがカッタの押圧力を測定してから 加圧手段が動作するまでに多少とも応答時間 が必要になる。この応答時間が原因で、カッ タをワークの凸凹に正確に追従させることが できない。
また、特許文献2に記載の発明にあっては 、スクライブ線を形成する以前にワークの高 さを測定する工程が必要になるので、ワーク にスクライブ線を形成するまでに時間がかか るという問題がある。
そこで本発明は、カッタをワークの凸凹 正確に追従させることができるスクライブ 置及びスクライブ方法を提供することを目 とする。
ところで、ワークサイズが大型化すれば スクライブヘッドを移動させるステージの トロークも長くする必要があり、ステージ ストロークを案内するリニアガイドも長く る必要がある。長いストロークの全長に渡 てステージの真直性を確保するのは、非常 困難であり、時間、コストがかかるので、 テージの真直性も損なわれかねない。こう ると、スクライブヘッドが真直に移動する とができなくなり、スクライブヘッドが形 するスクライブ線も湾曲してしまう。スク イブ線が湾曲すると、スクライブ方向に対 て左右方向に力が発生し、局部的にスクラ ブ屑を引き起こす。
そこで本発明の他の目的は、高い真直性 持ったスクライブ線を形成することができ スクライブ装置及び方法を提供することに る。
上記課題を解決するために、請求項1に記 載の発明は、ワークに当接するカッタと、前 記カッタを前記ワークの表面に沿って相対的 に移動させる相対移動部と、前記カッタが前 記ワークに切り込む深さを調節する切込み深 さ調節部と、前記カッタが前記ワークにスク ライブ線を形成する最中に、前記カッタの進 行方向の前方の前記ワークの測定点の高さを 測定する高さ測定部と、前記カッタが前記ワ ークの前記測定点を通過するとき、前記高さ 測定部が測定した前記ワークの前記測定点の 高さに基づいて、前記切込み深さ調節部を制 御する制御部と、を備えるスクライブ装置で ある。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載 スクライブ装置において、前記スクライブ 置はさらに、前記カッタから前記ワークに 与される荷重に関連する指標を測定する荷 測定部と、前記荷重測定部が測定した測定 を表示する表示部と、を備えることを特徴 する。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載 スクライブ装置において、前記切込み深さ 節部は、前記ワークの表面と直交するZ軸方 に昇降するヘッドベースと、前記ヘッドベ スに前記Z軸方向にスライド可能に支持され 、前記カッタが設けられるスクライブヘッド と、前記ヘッドベースに取り付けられ、前記 スクライブヘッドを前記ワークに押圧する荷 重付加機構と、を有し、前記荷重測定部は、 前記荷重付加機構と前記スクライブヘッドと の間に設けられて、前記荷重付加機構から前 記スクライブヘッドに付与される荷重を測定 することを特徴とする。
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載 スクライブ装置において、前記切込み深さ 節部はさらに、前記ヘッドベースと前記ス ライブヘッドとの間に架け渡され、前記ス ライブヘッドの自重を支持する弾性部材を することを特徴とする。
請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4 いずれかに記載のスクライブ装置において 前記相対移動部は、前記カッタを前記ワー に対して前記ワークの表面内のX軸方向に相 対的に移動させるためのX軸ステージを前記X 方向に移動させるX軸移動機構と、前記X軸 テージを前記ワークの表面内のY軸方向に相 的に微動させるY軸補正機構と、を有し、前 記制御部は、前記ワークに前記X軸方向にス ライブ線を形成するとき、あらかじめ測定 れた、前記X軸ステージを前記X軸方向に移動 させたときの前記X軸ステージのY軸変位量に づいて、スクライブ線が真直になるように 記X軸移動機構及び前記Y軸補正機構を制御 ることを特徴とする。
請求項6に記載の発明は、ワークに当接す るカッタと、前記カッタを前記ワークに対し て前記ワークの表面内のX軸方向に相対的に 動させるためのX軸ステージを前記X軸方向に 移動させるX軸移動機構と、前記X軸ステージ 前記ワークの表面内のY軸方向に相対的に微 動させるY軸補正機構と、前記ワークに前記X 方向にスクライブ線を形成するとき、あら じめ測定された、前記X軸ステージを前記X 方向に移動させたときの前記X軸ステージのY 軸変位量に基づいて、スクライブ線が真直に なるように前記X軸移動機構及び前記Y軸補正 構を制御する制御部と、を備えるスクライ 装置である。
請求項7に記載の発明は、カッタをワーク の表面に沿って相対的に移動させることによ って、前記ワークの表面にスクライブ線を形 成するスクライブ方法において、前記カッタ が前記ワークにスクライブ線を形成する最中 に、前記カッタの進行方向の前方の前記ワー クの測定点の高さを測定する工程と、前記カ ッタが前記ワークの前記測定点を通過すると き、前記ワークの前記測定点の高さに基づい て、前記カッタが前記ワークを切り込む深さ を調節する工程と、を備えるスクライブ方法 である。
請求項8に記載の発明は、カッタをワーク の表面に沿って相対的に移動させることによ って、ワークの表面にスクライブ線を形成す るスクライブ方法において、カッタをワーク に対して前記ワークの表面内のX軸方向に相 的に移動させるためのX軸ステージを前記X軸 方向に移動させ、前記ワークの表面内のY軸 向における前記X軸ステージのY軸変位量をあ らかじめ測定する工程と、前記ワークに前記 X軸方向にスクライブ線を形成するとき、測 された前記X軸ステージの前記Y軸変位量に基 づいて、スクライブ線が真直になるように前 記X軸ステージのY軸方向における位置を補正 る工程と、を備えるスクライブ方法である
請求項1に記載の発明によれば、ワークの 平面度が不均一でもカッタがワークの凸凹に 能動的に追従する。このため、カッタが過剰 にワークに押し付けられることを避け、カッ タがワークの凸凹を通過する際に発生しがち な微細なスクライブ屑の発生を抑えることが できる。また、高さ測定部はカッタの前方に 配置され、その測定値はカッタが測定点を通 過するときに反映される(測定値が直ちに反 される訳ではない)ので、カッタをワークの 凹に正確に追従させることができる。
請求項2に記載の発明によれば、スクライ ブ線を形成する最中にカッタからワークに付 与される荷重をモニタリングできるので、高 さ制御の効果を確認したり、最適な設定を実 現することが可能になる。
請求項3に記載の発明によれば、荷重付加 機構によってカッタからワークに一定の荷重 を付与させながら、カッタの切込み深さを調 節することができる。
ワークがカッタから受ける実際の荷重は 荷重付加機構による負荷とスクライブヘッ の自重との和になる。請求項4に記載の発明 によれば、弾性部材によってスクライブヘッ ドの自重の影響を小さくすることができるの で、薄型化したワークに適するようにカッタ からワークに付加される荷重を小さくするこ とができる。
請求項5に記載の発明によれば、ワークの 平面内においてスクライブ方向(X軸方向)に直 交するY軸方向にカッタを微動させるY軸補正 構を設けることにより、高い真直性を持っ スクライブ線を形成することが可能になる
請求項6に記載の発明によれば、ワークの 平面内においてスクライブ方向(X軸方向)に直 交するY軸方向にカッタを微動させるY軸補正 構を設けることにより、高い真直性を持っ スクライブ線を形成することが可能になる
請求項7に記載の発明によれば、ワークの 平面度が不均一でもカッタがワークの凸凹に 能動的に追従する。このため、カッタが過剰 にワークに押し付けられることを避け、カッ タがワークの凸凹を通過する際に発生しがち な微細なスクライブ屑の発生を抑えることが できる。また、カッタの進行方向の前方のワ ークの測定点の高さが測定され、その測定値 はカッタが測定点を通過するときに反映され る(測定値が直ちに反映される訳ではない)の 、カッタをワークの凸凹に正確に追従させ ことができる。
請求項8に記載の発明によれば、ワークの 平面内においてスクライブ方向(X軸方向)に直 交するY軸方向にカッタを微動させるY軸補正 程を設けることにより、高い真直性を持っ スクライブ線を形成することが可能になる
1…テーブル
2…X軸ステージ
6…カッタ
8…スクライブヘッド
11…ヘッドベース
18…高さ測定部
20…X軸移動機構(相対移動部)
31…Z軸(切込み深さ調節部)
32…Y軸補正機構(相対移動部)
47…荷重付加機構
48…コイルばね(弾性部材)
50…ロードセル(荷重測定部)
51…表示部
W…ワーク
以下添付図面に基づいて、本発明の一実 形態におけるスクライブ装置を説明する。 1はスクライブ装置の概念的な斜視図を示す 。スクライブ装置は、ワークWの表面に沿っ カッタ6をスクライブ方向であるX軸方向に相 対的に移動させて、ワークWの表面にX軸方向 スクライブ線Sを形成する。ワークWはスク イブ装置のテーブル1上に載置される。テー ル1にはワークWを真空吸着する複数の吸着 が開けられる。スクライブ装置のベース10( 2参照)上には、ヘッド移動方向(X軸方向)に伸 びるコラム5が設けられる。コラム5には、ス ライブヘッド8をX軸方向に移動させるX軸移 機構20が設けられる。スクライブヘッド8の 端にはワークWに当接するカッタ6が設けら る。X軸移動機構20がカッタ6をX軸方向へ移動 させることによってワークWにスクライブ線S 形成される。
図1に示されるように、スクライブ装置に は、ワークWの凸凹に正確に追従するために クライブ方向(X軸方向)に対して上下方向(Z軸 方向)のZ軸31が設けられる。このZ軸31は、カ タ6がワークWに切り込む深さを調節する切込 み深さ調節部として機能し、スクライブ線の 全長に渡ってカッタ6の切込み深さが一定に るようにカッタ6の切込み深さを調節する。
また、スクライブ装置には、ワークWの表 面に真直なスクライブ線を形成するためにス クライブ方向(X軸方向)に対して左右方向(Y軸 向)のY軸32が設けられる。このY軸32は、カッ タ6をワークWに対してY軸方向に相対的に微動 させるY軸補正機構として機能し、X軸移動機 20がカッタ6をX軸方向へ移動させるとき、ワ ークWにX軸方向の真直なスクライブ線Sを形成 できるようにワークWをY軸方向に微動させる
図2はX軸方向からみたスクライブ装置の 軸の構成図を示す。スクライブ装置のベー 10上には、テーブル1をY軸方向に移動させるY 軸32が設けられる。Y軸32は、Y軸テーブル41がY 軸方向に直線運動するのを案内するリニアガ イド42と、Y軸テーブル41をY軸方向に駆動させ るボールねじ、リニアモータ等の駆動手段43 から構成される。Y軸32は、ワークWにX軸方 に伸びる複数本の平行なスクライブ線を形 できるように、ワークWが載置されるテーブ 1をY軸方向に所定ピッチずつ移動させる。Y 32上には、カッタ6に対してワークWを位置決 めするためのθ軸25が設けられる。θ軸25はテ ブル1を水平面内で旋回させる。
コラム5には、カッタ6をX軸方向に移動さ るX軸移動機構20が設けられる。X軸移動機構 20は、ワークWの表面内のX軸方向にX軸ステー 2を移動させる。X軸移動機構20は、X軸ステ ジ2がX軸方向に直線運動するのを案内するリ ニアガイド3と、X軸ステージ2をX軸方向に駆 させるボールねじ、リニアモータ等の駆動 段44とから構成される。このX軸ステージ2に 、カッタ6の切込み深さを調節するZ軸31が取 り付けられる。
図3は、Y軸方向からみたZ軸31の正面図を す。X軸ステージ2の垂直面内の取り付け面2a は、ワークWの表面と直交するZ軸方向に昇 可能にヘッドベース11が取り付けられる。ヘ ッドベース11とX軸ステージ2との間には、ヘ ドベース11がZ軸方向にスライドするのを案 するリニアガイド14が設けられる。リニアガ イド14は、細長く伸びる軌道レール15と、軌 レール15に沿ってスライド可能な移動ブロッ クと、で構成される。リニアガイド14の軌道 ール15がステージ2に取り付けられ、リニア イド14のブロックがヘッドベース11の背面に 取り付けられる。
ヘッドベース11は、ボールねじ機構等の 動手段によってZ軸方向に昇降される。ボー ねじ機構は、ヘッドベース11に固定される ールねじナット12と、X軸ステージ2に回転可 に支持されるねじ軸16と、ねじ軸16を回転駆 動させるモータ13と、から構成される。モー 13にはサーボモータやパルスモータを用い ことができる。モータ13がねじ軸16を回転駆 すると、ボールねじ機構によってヘッドベ ス11がZ軸方向に昇降する。ボールねじ機構 ワークWの切込み深さを調節するために用い られるので、ボールねじ機構がヘッドベース 11を上下させるストロークは小さい。このた 、ボールねじ機構の替わりに、圧電素子、 歪素子、コイルと磁石を組み合わせたリニ モータを用いてもよい。
ヘッドベース11にはスクライブヘッド8が り付けられる。この図3に示されるスクライ ブヘッド8においては、スクライブヘッド8に 重付加機構である荷重付加シリンダ7が組み 込まれる。荷重付加シリンダ7は、カッタ6を ークWに押圧し、カッタ6からワークWに荷重 付加する。荷重付加シリンダ7のロッドの先 には、カッタ6をZ軸方向に振動させる振動子9 が固定される。カッタ6には、算盤玉状の回 可能なカッターホイールを用いてもよいし ダイヤモンドが埋め込まれるポイントダイ を用いてもよい。
これらのカッタ6を有するスクライブヘッ ド8、Z軸方向に昇降可能なヘッドベース11、 ッドベース11をZ軸方向に昇降させるボール じ機構が切込み深さ調節部を構成する。
X軸ステージ2には、ワークWの高さを測定 る高さ測定部18が取り付けられる。高さ測 部18は、スクライブヘッド8の進行方向の前 に配置され、カッタ6がワークWにスクライブ 線を形成する最中に、カッタ6の進行方向の 方のワークWの測定点W1の高さを測定する。 さ測定部18は、レーザー変位計や、超音波変 位計からなる。
ボールねじ機構のモータ13は制御部によ て制御される。制御部は、カッタ6がワークW の測定点W1を通過するとき、高さ測定部18が 定したワークWの測定点W1の高さに基づいて ワークWの切込み深さが一定になるように(言 い換えれば、ヘッドベース11からワークWの表 面までの距離が一定になるように)、カッタ6 上下動させる。
ここで、高さ測定部18がカッタ6と同じX軸 方向位置に配置され、カッタ6の位置のワー Wの高さを測定したのでは、いくら制御部を 速応答させても、カッタ6が上下動するまで に多少の時間が必要になってしまい、カッタ 6をワークWの凸凹に正確に追従させることが きない。このため、高さ測定部18はカッタ6 上下動に時間的な遅れが生じないようにカ タ6の進行方向の前方の測定点W1の高さを測 する。そして、制御部はカッタ6が前方のワ ークWの測定点W1に到達するまでの時間及び制 御部の応答時間を加味した上で、カッタ6が ークWの測定点W1を通過するとき、高さ測定 18が測定した測定点W1の高さに基づいてカッ 6の切込み深さが一定になるようにカッタ6 上下動させる。カッタ6が前方のワークWの測 定点W1に到達するまでの時間は、カッタ6から 高さ測定部の測定点W1までのX軸方向距離とカ ッタ6の移動速度とから算出される。
荷重付加シリンダ7だけではワークWの凸 にカッタ6が受動的にしか追従することがで ないが、本実施形態のようにカッタ6を上下 動させることで、ワークWの凸凹にカッタ6を 動的に追従させることができる。ワークWの 平面度が不均一でもワークWに付与する荷重 一定にすることができるので、カッタ6が過 にワークWに押し付けられることを避け、カ ッタ6がワークWの凸凹を通過する際に発生し ちな微細なスクライブ屑の発生を抑えるこ ができる。
ところで、X軸ステージ2のX方向の真直精 は、リニアガイド3のコラム5への取り付け 法、及び温度などの動作環境によって左右 れる。図4は、スクライブ線が形成されたワ クWの平面図を示す。X軸ステージ2の真直精 が良好でないと、スクライブ線Sが湾曲し、 理想とする真直なスクライブ線(図中二点鎖 で示す)に対してY方向(図中左右方向)に位置 れを起こす。スクライブ線Sが湾曲すると、 カッタ6からワークWに左右方向に力が発生し 局部的にダメージが発生する。これを防止 るために、本実施形態ではカッタ6の位置を Y軸方向に補正するY軸補正機構32(Y軸32,図1及 図2参照)を設けている。Y軸補正機構32のスト ロークは小さいので、ボールねじ機構での微 動動作を、圧電素子や磁歪素子を替わりに用 いて行うこともできる。
X軸ステージ2をX軸方向に移動させると、X 軸ステージ2は微小ながらY軸方向にも変位す 。この変位量をY軸方向に補正しながらX軸 テージ2をX軸方向に移動させることにより真 直性の高いスクライブ線を形成する。具体的 には、まず、X軸ステージ2をX軸方向に移動さ せたときのX軸ステージ2の真直性、すなわちX 軸ステージ2のY軸方向の変位量をレーザー測 器等により測定する。例えば、X軸ステージ 2をX軸方向に移動させ、X軸ステージ2のY軸方 の変位量を連続的に測定するか、又はX軸ス テージ2をX軸方向に所定ピッチ毎に移動させ X軸ステージ2を移動させる毎にX軸ステージ2 のY軸方向の変位量を測定する。測定されたX ステージ2のY軸方向の変位量は、X軸ステー 2の移動量に関連付けて制御部に記憶される 。そして、制御部は、ワークWにX軸方向にス ライブ線を形成するとき、この記憶値に基 いてスクライブ線が真直になるように、X軸 移動機構20及びY軸補正機構を制御する。すな わち、制御部は、X軸移動機構20によってX軸 テージ2をX軸方向に移動させる間、X軸ステ ジ2のY軸方向への変位量がゼロになるように 、Y軸補正機構を微動させる。X軸ステージ2を X軸方向へ所定のピッチ毎に移動させてY軸変 量を測定する場合、X軸ステージ2のX軸方向 の移動量及びX軸ステージ2のY軸方向への変 量を直線補間する。
なお、ワークWの表面にスクライブ線Sを 成した後、スクライブ線SのY軸方向への変位 量を測定してもよい。ただし、椅子のキャス タのような首振り式のカッタを用いた場合、 カッタが首を振ることでスクライブ線Sが真 に近づいている可能性があることに留意す 必要がある。
図5は、切込み深さ調節部であるZ軸31の他 の例を示す。図中(a)はX軸方向からみたZ軸31 側面図を示し、(b)はY軸方向からみたZ軸31の 面図を示す。この例のZ軸31もワークWの表面 と直交するZ軸方向に昇降するヘッドベース11 を有する。ヘッドベース11には、スクライブ ッド8がヘッドベース11に対してZ軸方向にス ライド可能に支持される。ヘッドベース11と クライブヘッド8との間には、スクライブヘ ッド8がZ軸方向にスライドするのを案内する ニアガイド46が設けられる。スクライブヘ ド8の下端にはワークWの表面を転がり運動で きるようにホイール状のカッタ6が回転可能 設けられる。スクライブヘッド8内には、カ タ6をZ軸方向に振動させる振動子9が収容さ る。
ヘッドベース11には、スクライブヘッド8 ワークWに押圧する荷重付加機構47が取り付 られる。荷重付加機構47は、エアシリンダ はサーボモータからなる。エアシリンダに 給される空気圧力やサーボモータのトルク 制御することでスクライブヘッド8に付与さ る荷重を調節することができる。ヘッドベ ス11とスクライブヘッド8との間には、弾性 材としてコイルばね48が掛け渡される。コ ルばね48は、スクライブヘッド8の自重を支 し、スクライブヘッド8の自重がワークWにか かるのを防止する。
荷重付加機構47とスクライブヘッド8との には、荷重測定部として例えばロードセル5 0が設けられる。このロードセル50は、荷重付 加機構47からスクライブヘッド8に付与される 荷重を測定する。ロードセル50が測定した測 値は、目視確認できる液晶表示装置等の表 部51に表示される。ロードセル50の出力信号 を外部制御系に出力してもよい。
薄型化したFPD用基板のスクライブ工程に ける付加荷重は、より低荷重で安定した負 状態を維持する必要性が生じている。荷重 加機構47とスクライブヘッド8との間にロー セル50を配置することで、カッタ6をワークW に対して押し付けている荷重やスクライブ動 作中の荷重変動をモニタリングすることがで きる。このため、Z軸の高さ制御の効果を確 し、最適な設定を実現することが可能にな 。
また、スクライブ中の荷重データを蓄積 、荷重の履歴管理を行うことで、ツール交 等のメンテナンスの目安とすることができ スクライブ不良を未然に防ぐことができる さらに、あらかじめ取得したスクライブ時 荷重データをベースとして、大きな荷重変 が突発的に起こった場合は、スクライブ異 として動作を停止させることも可能になり 製品歩留まりの低下を防ぐことができる。 らに、荷重変動状況をリアルタイムで制御 へフィードバックさせて、Z軸の高さ制御を 行うことも可能である。
ワークWがカッタ6から実際に受ける荷重 、荷重付加機構47による負荷とスクライブヘ ッド8の自重との和になる。コイルばね48によ ってスクライブヘッド8の自重の影響を小さ することで、カッタ6からワークWに付加され る荷重もより低荷重にすることができる。
本実施形態のスクライブ装置は、ガラス 板の表面にスクライブ線を刻み付ける他に ガラス基板21に張られた保護シート23を切断 するのに用いることもできる。図6に示され ように、ガラス基板21の上には糊22が塗布さ 、糊22の上に保護シート23が張られる。ガラ ス基板21に疵をつけることなく、保護シート2 3のみを切断する場合、カッタ6を糊の厚みの 囲内で走行させる必要がある。保護シート2 3の表面の高さを測定し、測定値に基づいて ッタ6の高さを制御することで、ガラス基板2 1に疵を付けることなく、保護シート23のみを 切断することが可能になる。
なお本発明は、上記実施形態に限られる となく、その要旨を変更しないで種々の実 形態に具現化できる。例えば、振動子を設 ずに荷重付加シリンダのロッドにホイール のカッタを直接取り付けてもよい。またス ライブヘッドには荷重付加機構を設けなく もよい。
さらに上記実施形態においては、スクラ ブ装置にZ軸及びY軸補正機構の両方が設け れているが、どちらか一方のみであっても い。ワークに対するカッタのX軸方向への移 は相対的なものであるからワーク側が移動 てもよい。
さらに、高さ測定部がカッタの位置のワ クの高さを測定することができれば、高さ 定部をスクライブヘッドと一緒に上下させ もよい。そして、高さ測定部が測定するワ クの高さが一定になるように、制御部が切 み深さ調節部をフィードバック制御しても い。
本明細書は、2007年3月30日出願の特願2007-0 95048に基づく。この内容はすべてここに含め おく。
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